JP2008288480A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】熱処理装置に形成されている複数のランプ4a〜4lに電流を供給することにより点灯して、半導体ウェハを加熱する。このとき、ランプ4iによって半導体ウェハの外周領域に熱が供給される。半導体ウェハの外周領域に熱を供給するランプ4iには電流センサ6が設けられており、ランプ4iに供給される電流が電流センサ6により測定される。電流センサ6により測定された電流値は、実効値変換部7により実効値に変換されて検知部8に入力する。検知部8では、電流値にハンチングがあるかを検知し、所定値以上のハンチングが存在する場合、半導体ウェハに温度異常があると判断して警告部9による警告を実施する。
【選択図】図2
Description
2 ステージ
3 半導体ウェハ
4 ランプ
4a〜4l ランプ
5a〜5f パイロメータ
6 電流センサ
7 実効値変換部
8 検知部
9 警告部
Claims (5)
- (a)ステージ上に配置された半導体ウェハにランプより熱を供給する熱処理装置であって前記ステージに設けられた温度センサにより前記半導体ウェハの温度を検知し、検知した温度に基づいて前記ランプより供給する熱を制御する前記熱処理装置を用いて、前記半導体ウェハに熱処理を施す工程を備える半導体装置の製造方法であって、
前記半導体ウェハに熱処理を施している間に、
(b)前記ランプに供給する電流の電流値を電流センサによって検知する工程と、
(c)前記電流センサによって検知した前記電流値に基づいて、前記半導体ウェハの温度異常を検知する工程とを実施することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - (a)ステージ上に配置された半導体ウェハにランプより熱を供給する熱処理装置であって前記ステージに設けられた温度センサにより前記半導体ウェハの温度を検知し、検知した温度に基づいて前記ランプより供給する熱を制御する前記熱処理装置を用いて、前記半導体ウェハに熱処理を施す工程を備える半導体装置の製造方法であって、
前記半導体ウェハに熱処理を施している間に、
(b)前記ランプに供給する電流の電流値を電流センサによって検知する工程と、
(c)前記電流センサによって検知した前記電流値に基づいて、前記半導体ウェハの温度異常を検知する工程とを実施し、
前記(b)工程は、第1測定時刻による第1電流値を測定し、前記第1測定時刻よりも遅い第2測定時刻による第2電流値を測定し、
前記(c)工程は、前記第2電流値と前記第1電流値の差分の絶対値が所定値以上である場合に、前記半導体ウェハの温度異常とすることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - (a)ステージ上に配置された半導体ウェハにランプより熱を供給する熱処理装置であって前記ステージに設けられた温度センサにより前記半導体ウェハの温度を検知し、検知した温度に基づいて前記ランプより供給する熱を制御する前記熱処理装置を用いて、前記半導体ウェハに熱処理を施す工程を備える半導体装置の製造方法であって、
前記半導体ウェハに熱処理を施している間に、
(b)前記ランプに供給する電流の電流値を電流センサによって検知する工程と、
(c)前記電流センサによって検知した前記電流値に基づいて、前記半導体ウェハの温度異常を検知する工程とを実施し、
前記(c)工程は、
(c1)前記電流の前記電流値を複数時刻で測定した結果に基づいて、前記電流値が極小値となる第1極小値から前記電流値が極大値となる第1極大値へ変化する状態を検知する工程と、
(c2)前記第1極大値と前記第1極小値の差分が所定値以上である場合に、前記半導体ウェハの温度異常とする工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - (a)ステージ上に配置された半導体ウェハにランプより熱を供給する熱処理装置であって前記ステージに設けられた温度センサにより前記半導体ウェハの温度を検知し、検知した温度に基づいて前記ランプより供給する熱を制御する前記熱処理装置を用いて、前記半導体ウェハに熱処理を施す工程を備える半導体装置の製造方法であって、
前記半導体ウェハに熱処理を施している間に、
(b)前記ランプに供給する電流の電流値を電流センサによって検知する工程と、
(c)前記電流センサによって検知した前記電流値に基づいて、前記半導体ウェハの温度異常を検知する工程とを実施し、
前記(c)工程は、
(c1)前記電流の前記電流値を複数時刻で測定した結果に基づいて、前記電流値が極小値となる第1極小値から前記電流値が極大値となる第1極大値へ変化する状態と前記電流値が前記第1極大値から第2極小値へ変化する状態を検知し、
(c2)前記第1極大値と前記第1極小値の第1差分と、前記第1極大値と前記第2極小値の第2差分とを比較し、前記第1差分と前記第2差分のうち小さな差分を取得する工程と、
(c3)前記第1差分と前記第2差分のうち小さな差分が所定値以上である場合に、前記半導体ウェハの温度異常とする工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - (a)ステージ上に配置された半導体ウェハに複数のランプより熱を供給する熱処理装置であって前記ステージに設けられた複数の温度センサにより前記半導体ウェハの温度を検知し、検知した温度に基づいて前記複数のランプより供給する熱を制御する前記熱処理装置であり、かつ、前記複数の温度センサが前記半導体ウェハの中心領域の温度を測定するものから前記半導体ウェハの外周領域の温度を測定するものを構成し、前記複数の温度センサのそれぞれに対応するように前記複数のランプが区分けされており、前記複数の温度センサのそれぞれにより検知した温度に基づいて、前記複数の温度センサに対応して区分けされている前記複数のランプより供給する熱を制御する前記熱処理装置を用いて、前記半導体ウェハに熱処理を施す工程を備える半導体装置の製造方法であって、
前記半導体ウェハに熱処理を施している間に、
(b)前記複数の温度センサのうち前記半導体ウェハの外周領域の温度を測定する外周領域用温度センサに対応づけて区分けされている前記複数のランプに供給する電流の電流値を電流センサで検知する工程と、
(c)前記電流センサによって検知した前記電流値に基づいて、前記半導体ウェハの温度異常を検知する工程とを実施することを特徴とする半導体装置の製造方法。
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