JP2008276002A - フォトマスク管理方法、フォトマスク洗浄可能回数生成方法、及びフォトマスク管理システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】フォトマスク管理方法は、フォトマスクの洗浄工程(S1002)と、前記洗浄工程の後に前記フォトマスクの透過率、位相差、パターンの寸法、パターンの高さ、或いはパターンの側壁形状の少なくとも1つの物理量を測定する工程(S1003)と、前記洗浄工程の後にフォトマスクの予め定めた危険パターンの2次元形状を計測する工程(S1004,S1005)と、測定された前記物理量を用いて、計測された前記2次元形状についてのリソグラフィーシミュレーションを実行することによりリソグラフィー余裕度を求める工程(S1006)と、求められた前記リソグラフィー余裕度に基づいて、前記フォトマスクが使用可能かどうかを判断する工程(S1007)とを具備する。
【選択図】 図10
Description
本発明の第1の実施形態に係るフォトマスク管理方法を、図10に示したフローチャートを用いて以下に説明する。
本発明の第2の実施形態に係るフォトマスク洗浄可能回数生成方法を、図14に示した工程の流れを示す図を用いて以下に説明する。
本発明の第3の本実施形態に係るフォトマスク洗浄可能回数生成方法を、図19に示した工程の流れを示す図を用いて以下に説明する。
本発明の第4の実施形態に係るフォトマスク管理システムを、図20に示した工程の流れを示す図を用いて以下に説明する。
D1×P/0.7[ロット/回] (1)
なる式(1)に、Pとして図21の(2)の表の露光装置Bの1月の値を代入することにより成長性欠陥発生頻度が見積もれるのでそれを洗浄頻度とする。ここで、0.7で割っているのは、成長性欠陥発生頻度D1のデータを得た露光装置Aの1月の成長性欠陥発生度数で規格化するためである。ただし、図20及び以下の説明では簡単のため、Pは規格化後の値であるとしている。洗浄頻度の単位[ロット/回]は、一回洗浄するまでに何ロット露光しているかを示している。
ここで求められたフォトマスクの洗浄タイミングは、図20に示すマスク洗浄管理システムにおけるマスク洗浄管理データベース200に保持される。
ここで求められたトータル要洗浄回数も、マスク洗浄管理データベース200に保持される。
トータル要マスク枚数は、適切な生産計画を立てるために必要なデータであるので、これを求めるために式(4)で用いるフォトマスクの洗浄可能回数R[回]としてはフォトマスクが最初にマスク製造工程からデバイス製造リソグラフィー工程に送られるときの洗浄可能回数を用いる。即ちRは、当該フォトマスクを用いてデバイス製造リソグラフィー工程において露光が行われる前の洗浄可能回数である。
ここで、マスク寿命を求めるのは計画的にマスクを再作製するタイミングを決定することを目的としているので、式(5)で用いる洗浄可能回数Rとしては、式(4)で用いたフォトマスクが最初にマスク製造工程からデバイス製造リソグラフィー工程に送られるときの洗浄可能回数に限る必要はない。
このマスク再作成タイミングに従って、マスク洗浄管理システムからマスク製造工程にマスク発注指示が出される。即ち、図20において、一つのフォトマスクがマスク製造工程で作成されて、それがデバイス製造リソグラフィー工程で使用され、再びマスク製造工程で洗浄されて、再びデバイス製造リソグラフィー工程で使用されるという流れを繰り返すうちに、当該フォトマスクの洗浄可能回数は単調に減少して行き、式(5)で示されるマスク寿命は減って行く。そして、式(6)に従ってマスク寿命があとXヶ月或いは、多少マージンを持たせてその少し前になった時点、即ち式(6)が何らかの閾値判定をするなどして0に近くなったと判断された時点でマスク再発注をかける。
110、140、190…測定値データベース、141、191…プロセスデータベース、142、192…洗浄可能回数データベース、200…マスク洗浄管理データベース、
201…マスク汚染データベース、202…生産管理データベース。
Claims (5)
- フォトマスクの洗浄工程と、
前記洗浄工程の後に前記フォトマスクの透過率、位相差、パターンの寸法、パターンの高さ、或いはパターンの側壁形状の少なくとも1つの物理量を測定する工程と、
前記洗浄工程の後にフォトマスクの予め定めた危険パターンの2次元形状を計測する工程と、
測定された前記物理量を用いて、計測された前記2次元形状についてのリソグラフィーシミュレーションを実行することによりリソグラフィー余裕度を求める工程と、
求められた前記リソグラフィー余裕度に基づいて、前記フォトマスクが使用可能かどうかを判断する工程と
を具備することを特徴とするフォトマスク管理方法。 - 前記危険パターンは、予め求められたリソグラフィー余裕度が最も少なくなるパターン、或いは、管理パターンである
ことを特徴とする請求項1に記載のフォトマスク管理方法。 - フォトマスクの洗浄工程と、
前記洗浄工程の後に前記フォトマスクの透過率、位相差、パターンの寸法、パターンの高さ、或いはパターンの側壁形状の少なくとも1つの物理量を測定する工程と、
測定された前記物理量に基づいて、現在のリソグラフィー余裕度を求める工程と、
前記フォトマスクの洗浄回数と前記物理量との関係を予め求める工程と、
前記洗浄回数に依存した前記物理量に基づいたリソグラフィー余裕度を求めることにより、前記洗浄回数とリソグラフィー余裕度との関係を求める工程と、
前記現在のリソグラフィー余裕度と、予め定められた許容リソグラフィー余裕度と、前記洗浄回数とリソグラフィー余裕度との前記関係とから、前記フォトマスクの洗浄可能回数を生成する工程と
を具備することを特徴とするフォトマスク洗浄可能回数生成方法。 - フォトマスクの洗浄工程と、
前記洗浄工程の後に前記フォトマスクの透過率、位相差、パターンの寸法、パターンの高さ、或いはパターンの側壁形状の少なくとも1つの物理量を測定する工程と、
前記洗浄工程の後にフォトマスクの予め定めた危険パターンの2次元形状を計測する工程と、
測定された前記物理量を用いて、計測された前記2次元形状についてのリソグラフィーシミュレーションを実行することにより、現在のリソグラフィー余裕度を求める工程と、
前記フォトマスクの洗浄回数と前記物理量との関係を予め求める工程と、
前記洗浄回数に依存した前記物理量に対するリソグラフィー余裕度を求めることにより、前記洗浄回数とリソグラフィー余裕度との関係を求める工程と、
前記現在のリソグラフィー余裕度と、予め定められた許容リソグラフィー余裕度と、前記洗浄回数とリソグラフィー余裕度との前記関係とから、前記フォトマスクの洗浄可能回数を生成する工程と
を具備することを特徴とするフォトマスク洗浄可能回数生成方法。 - 請求項3又は4に記載のフォトマスク洗浄可能回数生成方法により生成したフォトマスクの洗浄可能回数を保持するデータベースと、
予め測定しておいた前記フォトマスクの欠陥発生頻度を保持するデータベースと、
予め定めた前記フォトマスクの露光頻度を保持するデータベースと
を具備し、
前記洗浄可能回数と前記欠陥発生頻度と前記露光頻度に基づいて前記フォトマスクの寿命を予測する
ことを特徴としたフォトマスク管理システム。
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