JP7168425B2 - マスク検査方法及びマスク検査装置 - Google Patents
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Description
実施形態に係るマスク検査装置及びマスク検査方法を説明する。まず、マスク検査装置の構成を説明する。その後、マスク検査装置を用いたマスク検査方法を説明する。
本実施形態のマスク検査装置は、例えば、半導体製造工程で用いられるフォトマスクの検査装置である。図1は、実施形態に係るマスク検査装置1を例示した構成図である。
次に、マスク検査装置1を用いたマスク検査方法を説明する。図2は、実施形態に係るマスク検査方法を例示したフローチャート図である。
次に、実施形態の変形例を説明する。本変形例は、リファレンス画像を取得する検出光学系と、検査画像を取得する検出光学系が異なる場合である。
10 検出光学系
11 ビームスプリッタ
12 対物レンズ
13 投影レンズ
14 検出器
20 画像処理部
21 処理部
22 記憶部
30 マスク
31 パターンエッジ部分
32 吸収膜部分
33 パターン部分
41 ラインアンドスペース
42 コンタクト
Claims (5)
- 照明光がマスクで反射した反射光を検出することにより、前記マスクのリファレンス画像を取得するステップと、
前記リファレンス画像を取得した前記マスクに所定の処理を行うステップと、
前記照明光が、前記所定の処理を行った前記マスクで反射した前記反射光を検出することにより、前記マスクの検査画像を取得するステップと、
前記リファレンス画像から、第1特徴部の第1輝度、前記第1輝度よりも高輝度の第2特徴部の第2輝度、及び、前記第2輝度よりも高輝度の第3特徴部の第3輝度を抽出するステップと、
前記検査画像から、前記第1特徴部の第4輝度、前記第2特徴部の第5輝度、及び、前記第3特徴部の第6輝度を抽出するステップと、
前記第1輝度から前記第2輝度までの間の複数の輝度と、前記第4輝度から前記第5輝度までの間の複数の輝度とを対応させるとともに、前記第2輝度から前記第3輝度までの間の複数の輝度と、前記第5輝度から前記第6輝度までの間の複数の輝度とを対応させたテーブルを形成するステップと、
前記テーブルを参照して、前記リファレンス画像の輝度を補正するステップと、
前記検査画像と、補正された前記リファレンス画像と、を比較することにより前記マスクを検査するステップと、
を備えたマスク検査方法。 - 前記所定の処理を行うステップにおいて、
前記所定の処理は、前記マスクを洗浄する処理である、
請求項1に記載のマスク検査方法。 - 照明光がマスクで反射した反射光を検出する第1検出光学系を用いて、前記マスクのリファレンス画像を取得するステップと、
前記第1検出光学系と異なる第2検出光学系を用いて、前記照明光が、前記リファレンス画像を取得した前記マスクで反射した前記反射光を検出することにより、検査画像を取得するステップと、
前記リファレンス画像から、第1特徴部の第1輝度、前記第1輝度よりも高輝度の第2特徴部の第2輝度、及び、前記第2輝度よりも高輝度の第3特徴部の第3輝度を抽出するステップと、
前記検査画像から、前記第1特徴部の第4輝度、前記第2特徴部の第5輝度、及び、前記第3特徴部の第6輝度を抽出するステップと、
前記第1輝度から前記第2輝度までの間の複数の輝度と、前記第4輝度から前記第5輝度までの間の複数の輝度とを対応させるとともに、前記第2輝度から前記第3輝度までの間の複数の輝度と、前記第5輝度から前記第6輝度までの間の複数の輝度とを対応させたテーブルを作成するステップと、
前記テーブルを参照して、前記リファレンス画像の輝度を補正するステップと、
前記検査画像と、補正された前記リファレンス画像と、を比較することにより、前記マスクを検査するステップと、
を備えたマスク検査方法。 - マスクを照明光で照明するとともに、前記照明光が前記マスクで反射した反射光を検出する検出光学系と、
前記検出光学系で検出された前記反射光に基づいて、前記マスクのリファレンス画像を取得するとともに、前記リファレンス画像を取得した前記マスクに対して所定の処理を行った後の前記マスクの検査画像を取得する画像処理部と、
を備え、
前記画像処理部は、
前記リファレンス画像から、第1特徴部の第1輝度、前記第1輝度よりも高輝度の第2特徴部の第2輝度、及び、前記第2輝度よりも高輝度の第3特徴部の第3輝度を抽出し、
前記検査画像から、前記第1特徴部の第4輝度、前記第2特徴部の第5輝度、及び、前記第3特徴部の第6輝度を抽出し、
前記第1輝度から前記第2輝度までの間の複数の輝度と、前記第4輝度から前記第5輝度までの間の複数の輝度とを対応させるとともに、前記第2輝度から前記第3輝度までの間の複数の輝度と、前記第5輝度から前記第6輝度までの間の複数の輝度とを対応させたテーブルを作成し、
前記テーブルを参照して、前記リファレンス画像を補正し、
前記検査画像と、補正された前記リファレンス画像と、を比較することにより前記マスクを検査する、
マスク検査装置。 - 前記所定の処理は、前記マスクを洗浄する処理である、
請求項4に記載のマスク検査装置。
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---|---|---|---|---|
JP2007170914A (ja) | 2005-12-20 | 2007-07-05 | Fujitsu Ltd | フォトマスクの検査方法及び検査装置 |
JP2008276002A (ja) | 2007-05-01 | 2008-11-13 | Toshiba Corp | フォトマスク管理方法、フォトマスク洗浄可能回数生成方法、及びフォトマスク管理システム |
JP2012002675A (ja) | 2010-06-17 | 2012-01-05 | Nec Corp | パターン検査装置およびパターン検査方法 |
JP2013221766A (ja) | 2012-04-13 | 2013-10-28 | Panasonic Corp | 外観検査装置および外観検査方法 |
JP2015145922A (ja) | 2014-01-31 | 2015-08-13 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マスク検査装置及びマスク検査方法 |
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