JP2008266504A - 中空粒子の製造方法 - Google Patents

中空粒子の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2008266504A
JP2008266504A JP2007113917A JP2007113917A JP2008266504A JP 2008266504 A JP2008266504 A JP 2008266504A JP 2007113917 A JP2007113917 A JP 2007113917A JP 2007113917 A JP2007113917 A JP 2007113917A JP 2008266504 A JP2008266504 A JP 2008266504A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
particles
mass
hollow particles
monomer
hydrophobic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007113917A
Other languages
English (en)
Inventor
Aya Shirai
亜弥 白井
Tatsuya Nagase
達也 長瀬
Mitsutoshi Nakamura
光俊 中村
Motoi Nishimura
基 西村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Business Technologies Inc
Original Assignee
Konica Minolta Business Technologies Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Business Technologies Inc filed Critical Konica Minolta Business Technologies Inc
Priority to JP2007113917A priority Critical patent/JP2008266504A/ja
Priority to US12/043,305 priority patent/US7956147B2/en
Publication of JP2008266504A publication Critical patent/JP2008266504A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/12Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/14Methyl esters, e.g. methyl (meth)acrylate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/12Polymerisation in non-solvents
    • C08F2/16Aqueous medium
    • C08F2/18Suspension polymerisation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/12Polymerisation in non-solvents
    • C08F2/16Aqueous medium
    • C08F2/22Emulsion polymerisation
    • C08F2/24Emulsion polymerisation with the aid of emulsifying agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F257/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of aromatic monomers as defined in group C08F12/00
    • C08F257/02Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of aromatic monomers as defined in group C08F12/00 on to polymers of styrene or alkyl-substituted styrenes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/04Acids; Metal salts or ammonium salts thereof
    • C08F220/06Acrylic acid; Methacrylic acid; Metal salts or ammonium salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/10Esters
    • C08F222/1006Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols
    • C08F222/102Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols of dialcohols, e.g. ethylene glycol di(meth)acrylate or 1,4-butanediol dimethacrylate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/10Esters
    • C08F222/1006Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols
    • C08F222/103Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols of trialcohols, e.g. trimethylolpropane tri(meth)acrylate

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing Of Micro-Capsules (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

【課題】重合法により作製される中空粒子について、環境の変動で水分量が変動することなく、且つ、残留溶剤による臭気やブリードアウトがなく、製造面における環境負荷の影響の少ない中空粒子の製造方法の提供。
【解決手段】少なくとも1種の疎水性モノマーを重合し、数平均分子量が20,000〜500,000の樹脂粒子を作製し、該樹脂粒子を水系媒体中に分散させ、そこに樹脂粒子の1質量部に対して0.1〜50質量部の少なくとも1種の疎水性架橋モノマーを添加して、該分散液中の疎水性架橋モノマーを重合することを特徴とする中空粒子の製造方法。
【選択図】なし

Description

本発明は、中空粒子の製造方法に関する。
粒子内部に空隙を有する構造をもつ「中空粒子」と呼ばれる樹脂粒子がある。そして、中空粒子はその空隙の活用により様々な分野で機能性材料として利用されている。例えば、空隙内に各種の物質を内包させてマイクロカプセルとして利用するケースや、空隙内での光の乱反射を利用した光散乱材料として用紙等に添加するケース等が挙げられる。又、空隙のもつ断熱効果を利用した断熱部材としての用途もある。
このような中空粒子は、初期の頃は高分子粒子にガスや熱等による物理的な作用を加えることにより作製するケースが多かった。例えば、高分子粒子中に発泡剤やブタン等の揮発性物質を予め含有させておき、これらを発泡、ガス化させて空隙を形成する方法が採られていた。或いは、アルカリ膨潤性物質を含有させた高分子粒子に液体を浸透させて含有物を膨潤させて空隙を作製する方法等もあった(例えば、特許文献1参照)。
これらの高分子粒子に物理的作用を加えて空隙を形成する方法は、製造工程が複雑になりがちであり、又、空隙の形状や大きさを揃えるのに手間がかかる問題を有していた。その後、重合性単量体を重合させて中空粒子を作製する方法が見出される様になり、重合法で作製した中空粒子は、空隙の形状や大きさにばらつきがなく品質の揃ったものを大量に作製する上で有効な手段になった。
例えば、水性分散体中で重合を行って樹脂粒子を形成するとともに、形成された粒子内部で相分離と重合収縮を行って空隙を形成する方法がある(例えば、特許文献2参照)。又、カルボキシル基を含有する単量体の添加量を段階的に少なくさせて重合を行い、3層構造の中空粒子を形成する技術もある(例えば、特許文献3参照)。
更に、水系媒体中に架橋性モノマーと重合開始剤及び有機溶剤からなる混合物を分散させておき、懸濁重合を行って有機溶剤を内蔵する単層構造の樹脂粒子を形成する。その後、自然蒸発や減圧処理を行って有機溶剤を粒子中より除去することで中空粒子を作製する方法もある(例えば、特許文献4参照)。
このように、近年では重合法による中空粒子の作製に期待が寄せられている。
特開昭56−32513号公報 特開昭62−127336号公報 特開平6−248012号公報 特開2002−80503号公報
ところが、重合法により作製される中空粒子は、マイクロカプセルや光散乱材料として使用する場合に支障を来すと見られる問題を有することが最近明らかになってきた。1つは親水性モノマーを用いて作製した中空粒子では水分量が変動しやすい性質を有しており、特に高温高湿環境下で使用する場合、水分量を無視することはできなかった。
又、疎水性で臭気を伴う溶剤を用いて作製した中空粒子では、このような残留溶剤の影響により、臭気の問題や中空粒子表面に残留溶剤が析出するブリードアウトの問題が有り、臭気や揮発性物質を嫌う用途には不向きであった。
さらに、これらの溶剤を完全に除去するためには過大な乾燥設備や乾燥時間が必要となり、生産効率やコストに影響を与えることになった。
このように、従来の製造方法では、親水性モノマーを使用したり、疎水性で臭気を伴う溶剤を使用していたため、品質の安定した中空粒子を提供することが困難であったのである。又、生産効率やコストの面からも十分な製造方法が提供されているわけではなかった。
本発明は、重合法により作製される中空粒子について、環境の影響で水分量に変動を来すことが無く、且つ、残留溶剤の影響による臭気やブリードアウトの問題が発生することのない中空粒子、中空粒子の製造方法を提供することを目的とするものである。
本発明は、下記構成を採ることにより達成できる。
1.少なくとも1種の疎水性モノマーを重合し、数平均分子量が20,000〜500,000の樹脂粒子を作製し、
該樹脂粒子を水系媒体中に分散させ、そこに樹脂粒子の1質量部に対して0.1〜50質量部の少なくとも1種の疎水性架橋モノマーを添加して、
該分散液中の疎水性架橋モノマーを重合することを特徴とする中空粒子の製造方法。
2.前記分散液の作製時に、樹脂粒子の1質量部に対して0.1〜50質量部の少なくとも1種の疎水性架橋モノマーと、重合開始剤と、分散安定剤と、更に水に不溶の有機溶剤を全樹脂成分に対して1質量%以下添加して、分散液を作製することを特徴とする前記1に記載の中空粒子の製造方法。
3.前記分散液の作製時に、疎水性架橋モノマーと共重合が可能な疎水性モノマーを添加することを特徴とする前記1に記載の中空粒子の製造方法。
本発明の中空粒子の製造方法によれば、環境の湿度によって水分量が変動するのを抑制することができ、且つ、残留溶媒による臭気やブリードアウトの問題の無い中空粒子を提供することが可能になった。
又、本発明では有機溶剤を必ずしも使用しなくても中空粒子を作製できるようになったので、従来技術のような溶剤除去用の乾燥設備や乾燥時間の必要が無くなり、中空粒子に有機溶剤が残存することがなくなった。さらに、製造工程が環境に与える負荷を低減できるようになった。
その結果、安定した品質を有し、高信頼性のマイクロカプセルや光散乱部材、さらには断熱部材等に用いることができる中空粒子を提供できるようになった。特に水分量の変動や臭気、揮発性物質の存在を嫌う用途向けの中空粒子の提供を可能にした。
本発明者等は、環境の変動で水分量が変動することなく、且つ、残留溶剤による臭気やブリードアウトがなく、製造面における環境負荷の影響の少ない中空粒子の製造方法について検討を行った。
そして、本発明者は、疎水性モノマーを重合させて数平均分子量が20,000〜500,000の樹脂粒子を形成し、この樹脂粒子の存在下に疎水性架橋モノマーを添加し、重合させて作製した中空粒子により、上記課題が解消されることを見出したのである。
このように、本発明では疎水性モノマーや疎水性架橋モノマーを用いて粒子形成を行うことにより、環境の影響で水分量が変動することのない中空粒子の形成が行えるようになった。
又、疎水性架橋モノマーの添加量を上記のようにすることにより、空隙の形成が効率よく行えるようになった。さらに本発明では、粒子の製造工程で有機溶媒の使用を抑えることができるようになったので、作製された中空粒子は粒子中に有機溶剤が残留することがなくなり、臭気の問題やブリードアウトの問題を解消させることができるようになった。又、製造時における環境への負荷を低減させることもできるようになった。
本発明でいう中空粒子とは、透過型電子顕微鏡で断面観察したときに、粒子中に気体または液体を内包することが可能な空間、即ち空隙を有することが確認される樹脂製の粒子のことをいう。
透過型電子顕微鏡(TEM)を用いた空隙の観察は、例えば、以下の手順で行う。先ず、中空粒子を光硬化樹脂に包埋後、ウルトラミクロトームにより設定厚100nmの超薄切片を作製し、その切片を用いて透過型電子顕微鏡「2000FX」(日本電子製)にて写真撮影を行う。当該写真を観察することにより、中空粒子の空隙の有無を確認することができる。
又、写真画像より、中空粒子中の空隙率を定量することもできる。即ち、前述の透過型電子顕微鏡により撮影された画像情報を画像処理装置「ルーゼックスF(ニコレ社製)」で演算処理することにより、中空粒子の樹脂領域の面積と空隙の面積が算出され、これらの値を下記の式に代入することにより空隙率が求められる。
空隙率(%)=空隙部の面積/(樹脂部の面積+空隙部の面積)×100
上記画像処理装置では、予め内蔵される画像解析プログラムにより中空粒子の形状像を樹脂領域と空隙に分ける処理を行い、これらの面積を算出するものである。尚、測定に使用する中空粒子の数は、50個以上が好ましい。
上記画像処理装置によれば、本発明により作製された中空粒子では、その空隙率が、10〜70%であった。尚、中空粒子の粒径及び空隙率は、用いる用途により異なるので、用途に合った値の中空粒子を作製することが好ましい。
本発明の中空粒子の製造方法により作製された中空粒子は、その粒子径が体積基準におけるメディアン径(D50)で0.06〜100μm、軽量で、隠蔽性が有り、臭気が無く、環境の湿度によって水分量が変動するのを抑制することができる。
具体的には、液晶のスペーサー、白色粒子、隠蔽性付与部材(塗料、紙塗工用)、低比重微粒子という特徴を活かした塗装紙用コート剤、内部の空隙の屈折率差を利用した光散乱粒子、各種の物質を空隙に内包させることによりマイクロカプセルとして用いることができる。
図1は、中空粒子の模式図である。
図1において、10は中空粒子、20は中空粒子の被膜を構成する樹脂部、30は空隙部を示す。
本発明の中空粒子10は、図1に示すように、中空粒子の被膜を構成する樹脂部20と粒子内部に形成された空隙部30からなる。
以下、本発明について詳細に説明する。
最初に、中空粒子の製造方法の一例を挙げて説明する。
《中空粒子製造方法の最良の形態》
中空粒子は、以下の(1)〜(3)の工程によって製造することが好ましい。必要に応じて(4)、(5)の工程を設けてもよい。
(1) 少なくとも1種の疎水性モノマーを重合し、数平均分子量が20,000〜500,000の樹脂粒子を作製する工程。ここで、疎水性モノマーの重合は、水系媒体中か当該疎水性モノマーに可溶だが形成された樹脂を溶解させない有機溶剤(以下、有機溶剤Xともいう)中で行う。
(2) 樹脂粒子を分散した液中に、樹脂粒子の1質量部に対して0.1〜50質量部の少なくとも1種のエチレン性不飽和二重結合を2つ以上持つ疎水性架橋モノマーと重合開始剤と、分散安定剤と、更に水に不溶の有機溶剤(以下、有機溶剤Yともいう)を全樹脂成分に対して1質量%以下、好ましくは0.01質量%以下添加する工程
(3) (2)の液中の疎水性架橋モノマーを重合し、中空粒子を作製する工程、
(4) (3)で作製した中空粒子を洗浄する工程
(5) (4)で洗浄した中空粒子を乾燥する工程
尚、上記(2)の工程において樹脂粒子と疎水性架橋モノマーを添加するときに、更に疎水性モノマーを添加し、疎水性架橋モノマーと共重合を行うこともできる。
樹脂粒子中に空隙が形成される工程(中空粒子を作製する工程)は、以下のように進行すると考えられる。
先ず、水系媒体中に分散する数平均分子量20,000〜500,000の樹脂粒子に、疎水性架橋モノマーと重合開始剤を添加すると、疎水性架橋モノマーが樹脂粒子中に取り込まれる。
取り込まれた疎水性架橋モノマーが重合開始剤により重合を開始する。
重合の進行に伴って、樹脂粒子表面近傍の疎水性架橋モノマーが重合し、樹脂粒子表面に疎水性架橋モノマーの重合体が被膜状に形成され、更に、重合を進行させていくと、疎水性架橋モノマーより構成される重合体の被膜が分離しはじめ、被膜の分離の進行により、被膜と樹脂粒子表面の間に空隙が形成されていく。
以上のようにして樹脂粒子の空隙に水系媒体が入り込み水系媒体中に分散する中空粒子が得られると推察される。
本発明では、樹脂粒子表面で疎水性架橋モノマーを重合させることにより、架橋モノマーを用いて形成された重合体と最初に形成された樹脂粒子表面の間には架橋構造を介してところどころに強固な分子結合が形成されるので、粒子表面に形成された被膜が粒子からとれてしまうようなことはおこらないものと推測される。
一方、架橋性モノマーを用いて形成される重合体は最初に形成された樹脂とは相溶性を有さないものにすることで、最初に形成した樹脂とは相分離構造をとることのできる被膜を形成することができる。
このように、本発明では、最初に形成した樹脂粒子表面との間に架橋構造を形成することができるとともに、形成した重合体は樹脂と非相溶の性質をもつような架橋性モノマーを用いて被膜形成を行うことにより、中空粒子を作製することができるものと推測される。
樹脂粒子の数平均分子量は、20,000〜500,000、好ましくは40,000〜100,000である。
樹脂粒子の数平均分子量をこの範囲とすることで、架橋性モノマーの重合初期には疎水性架橋モノマーが最初に形成した樹脂粒子に吸収されて架橋モノマーと樹脂粒子の間で架橋構造を形成させていき、重合の進行にともない、前述したように最初に形成した樹脂表面から疎水性架橋モノマーを用いて形成した重合体が分離しやすくするようにして効果的に内部の空隙を形成することができる。
尚、樹脂粒子の数平均分子量は下記の測定方法により求めた値である。
(数平均分子量の測定)
樹脂粒子の数平均分子量は、テトラハイドロフラン(THF)をカラム溶剤として用いたゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法により測定する。
具体的には、測定試料を1mgに対してTHFを1ml加え、室温下にてマグネチックスターラーを用いて撹拌を行い、充分に溶解させる。次いで、ポアサイズ0.45〜0.50μmのメンブランフィルターで処理した後に、GPCへ注入する。GPCの測定条件は、40℃にてカラムを安定化させ、THFを毎分1mlの流速で流し、1mg/mlの濃度の試料を約100μl注入して測定する。カラムとしては、市販のポリスチレンジェルカラムを組合わせて使用することが好ましい。例えば、昭和電工社製のShodex GPC KF−801、802、803、804、805、806、807の組合わせや、東ソー社製のTSKgelG1000H、G2000H、G3000H、G4000H、G5000H、G6000H、G7000H、TSK guard columnの組合わせなどを挙げることができる。
検出器としては、屈折率検出器(IR検出器)が好ましく用いられる。試料の分子量測定では、試料の有する分子量分布を単分散のポリスチレン標準粒子を用いて作成した検量線を用いて算出する。検量線作成用のポリスチレンとしては10点程度用いることが好ましい。
(中空粒子の製造設備)
中空粒子は、下記のような製造設備を用いて作製することができる。
図2は、中空粒子の製造に用いる反応装置の一例を示す模式図である。
図2において、1は熱交換用ジャケット、2は撹拌槽、3は回転軸、4a、4bは撹拌翼、7は上部材料投入口、8は下部材料投入口、αは交差角を示す。
図2に示す反応装置は、上段の撹拌翼が下段の撹拌翼に対して回転方向に先行した交差角αを持って配設された、多段の構成とされた撹拌翼を備え、撹拌槽内には乱流を形成させるような邪魔板などの障害物を設けない特徴を有する。
図2に示す反応装置においては、熱交換用のジャケット1を外周部に装着した縦型円筒状の撹拌槽2内の中心部に回転軸3が垂設され、この回転軸3に、撹拌槽2の底面に近接された下段に位置する撹拌翼4bと、より上段に位置する撹拌翼4aとが設けられている。上段の撹拌翼4aは、下段に位置する撹拌翼4bに対して回転方向に先行した交差角αを持った状態とされている。尚、図2中、矢印は回転方向を示す。
本発明の中空粒子の製造方法においては、撹拌翼4a、4bの交差角αは90°未満であることが好ましい。この交差角αの下限は特に限定されるものではないが、5°以上90°未満であることが好ましく、更に好ましくは10°以上90°未満である。
撹拌翼の形状については、乱流を形成させないものであれば特に限定されないが、図2に示した方形板状のものなど、貫通孔などを有さない連続した面を有するものより形成されるものが好ましく、曲面を有していてもよい。
撹拌翼が乱流を形成させないものであることによって、重合工程においては樹脂粒子同士の合一が発生せず、更に、粒子の破壊による再分散も発生しない。
又、疎水性架橋モノマーと単官能の疎水性モノマーを重合して中空粒子を作製する工程においては過度な粒子同士の衝突を抑制することができ、粒径分布の均一性を高めることができ、更に、均一な粒径分布の中空粒子を得ることができる。又、粒子の過度な合一を抑制することができるため、均一な形状の中空粒子を得ることができる。
(中空粒子の洗浄)
中空粒子の洗浄工程では、室温程度まで冷却された中空粒子の分散液から当該中空粒子を固液分離する固液分離処理と、固液分離されたケーキ(ウエット状態にある中空粒子を凝集させた集合物)から分散安定剤などの付着物を除去する洗浄処理とが施される。ここに、濾過処理方法としては、遠心分離法、ヌッチェ等を使用して行う減圧濾過法、フィルタープレス等を使用して行う濾過法など特に限定されるものではない。
(中空粒子乾燥)
中空粒子乾燥工程は、洗浄処理されたケーキを乾燥処理し、乾燥された中空粒子を得る工程である。この工程で使用される乾燥機としては、スプレードライヤー、真空凍結乾燥機、減圧乾燥機などを挙げることができ、静置棚乾燥機、移動式棚乾燥機、流動層乾燥機、回転式乾燥機、撹拌式乾燥機などを使用することが好ましい。乾燥された中空粒子の水分は、5質量%以下であることが好ましく、更に好ましくは2質量%以下とされる。尚、乾燥処理された中空粒子同士が、弱い粒子間引力で凝集している場合には、当該凝集体を解砕処理してもよい。ここに、解砕処理装置としては、ジェットミル、ヘンシェルミキサー、コーヒーミル、フードプロセッサー等の機械式の解砕装置を使用することができる。
《中空粒子の作製に用いる材料》
次に、中空粒子の作製に用いる材料について説明する。
(疎水性モノマー)
本発明でいう疎水性モノマーとは、水と混合すると相分離する性質を有する重合性単量体のことである。つまり、構造中に極性を示す官能基を構造中に有していないか、或いは、そのような官能基を有していても樹脂にしたときに極性を発現しないようにすることができる重合性単量体のことである。
例えば、構造中にエチレン不飽和二重結合を有し、且つ炭素数が5以上の炭化水素基からなるラジカル重合性単量体などは、その代表的なものである。ここで炭化水素基とはアリール基やアルキル基、アルケニル基のような炭素原子と水素原子から構成されるものをいう。本発明では、このような疎水性モノマーを用いて重合を行うことにより数平均分子量が20,000〜500,000の樹脂粒子を形成する。
疎水性モノマーの具体例として、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、スチレンスルホン酸ナトリウム、ラウリルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブタジエン、イソプレン等が挙げられる。これらの中では、スチレンが好ましい。
(疎水性架橋モノマー)
本発明でいう疎水性架橋モノマーとは、水と混合すると相分離する性質を有し、前述した疎水性モノマーを重合して形成された樹脂粒子の近くで重合したときに、樹脂粒子表面との間に架橋構造を形成しながら重合体を形成できる単量体のことである。
例えば、構造中にエチレン性不飽和二重結合を2つ以上有するような炭化水素基から構成されるラジカル重合性単量体等はその代表的なものである。
又、本発明では、当該架橋性モノマーを用いて形成される重合体が、最初に形成した樹脂と非相溶性の関係を有するものであることが好ましく、非相溶性の重合体を形成することにより、樹脂粒子表面での被膜形成と、被膜及び樹脂表面間での空隙形成が効率よく行えるようになる。
尚疎水性架橋モノマーの具体例として、ジビニルベンゼン、ジビニルナフタレン、トリビニルベンゼン等が挙げられる。これらの中では、ジビニルベンゼンが好ましい。
尚、疎水性架橋モノマーは樹脂粒子の1質量部に対して0.1〜50質量部添加して用いられる。
又、疎水性架橋モノマーを添加する際、単官能の疎水性モノマーを併せて添加して共重合させることもできる。
ここで用いることのできる単官能の疎水性モノマーは疎水性架橋モノマーと共重合できるもので、上記疎水性モノマーと同様のものであればよい。具体例として、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、スチレンスルホン酸ナトリウム、ラウリルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブタジエン、イソプレン等が挙げられる。これらの中では、スチレンが好ましい。
(油溶性重合開始剤)
本発明に係る油溶性重合開始剤の含有量(油溶性重合開始剤の総量)は、疎水性架橋モノマーと単官能の疎水性モノマーの総質量に対して、0.1〜20質量%が好ましく、0.5〜15質量%がより好ましい。
上記油溶性重合開始剤は、樹脂粒子内部に吸収された疎水性架橋モノマー及び単官能の疎水性モノマー等の重合を開始させるものである。したがって、この重合性開始剤は、油溶性のものでなければならない。
このような油溶性重合開始剤としては、例えば、ラジカル重合開始剤である、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物や、クメンヒドロペルオキシド、t−ブチルヒドロペルオキシド、ジクミルペルオキシド、ジ−t−ブチルペルオキシド、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル等の過酸化物等の単量体に可溶なものが挙げられる。
本発明に係る油溶性重合開始剤の含有量(油溶性重合開始剤の総量)は、疎水性架橋モノマーと単官能の疎水性モノマーの総質量に対して、0.1〜20質量%が好ましく、0.5〜15質量%がより好ましい。
(分散安定剤)
分散安定剤は、疎水性架橋モノマー及び単官能の疎水性モノマーによって膨潤した樹脂粒子の分散性を向上させる目的で配合されるものである。このような分散安定剤としては、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、エチルセルロース、ポリアクリル酸、ポリアクリルイミド、ポリエチレンオキシド、ポリ(ハイドロオキシステアリン酸−g−メタクリル酸メチル−co−メタクリル酸)共重合体等の高分子分散安定剤や、ノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、両性界面活性剤等が挙げられる。この中でも、ポリビニルアルコール等の高分子分散安定剤が好ましい。この高分子分散安定剤を用いることにより、有機溶剤−親水性溶剤との組合わせで良好な結果が得られる。
本発明では、前述した疎水性モノマーの重合時や疎水性の架橋性モノマーの重合反応時に有機溶剤を用いてもよい。
(水系媒体)
本発明でいう水系媒体とは、水50〜100質量%と、水溶性の有機溶剤0〜50質量%とからなる媒体をいう。
水溶性の有機溶剤としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、アセトン、メチルエチルケトンを例示することができる。
(有機溶剤(X))
最初の疎水性モノマーを用いた重合で使用可能な有機溶剤(以下、有機溶剤(X)ともいう)は当該疎水性モノマーを溶解するが、形成された樹脂を溶解させないものである。このような有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール等の低級アルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール等の多価アルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、ヘキサンなどの炭化水素類、等が挙げられる。このような有機溶剤は、上記疎水性モノマー及び上記樹脂粒子の種類に応じて適宜決定される。
上記有機溶剤の中でも、上記疎水性架橋モノマーの溶解性に優れ、且つ水と任意の割合で配合できるという理由から、エタノール等の低級アルコールを使用することが好ましい。
又、有機溶剤(X)は、これ単独で用いることができるが、前述のように水と組合わせて用いてもよい。本発明では、疎水性モノマーの溶解性を阻害しない限り、水を用いることが好ましい。
(有機溶剤(Y))
又、本発明では、架橋性モノマーを用いた重合時に有機溶剤を用いても良い。
ここで使用可能な有機溶剤(以下、有機溶剤(Y)ともいう)は、25℃で水への溶解度が水100質量部に対し0.20質量部以下の水に難溶または不溶な溶剤である。
この有機溶剤は、上記の疎水性モノマーから形成される樹脂粒子及び疎水性架橋モノマー、単官能の疎水性モノマーを溶解ないしこれらを膨潤させるので、粒子内部の空隙形成に寄与する側面も有する。
即ち、疎水性の粒子内部に水不溶性の有機溶剤を含有させ、洗浄・乾燥時にこれを除去することにより粒子内部での空隙形成を促進させる働きがある。しかしながら、有機溶剤が残存すると、臭気やブリードアウトの原因となるので、架橋モノマーを用いた重合時に使用する場合には有機溶剤の添加量は全樹脂成分に対して1質量%以下とすることが好ましく、0.1質量%以下とすることがより好ましい。
上記有機溶剤(Y)としては、トルエン、キシレン、ベンゼン等の芳香族系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶剤を挙げることができる。この中では、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤が好ましい。
(中空粒子の外径)
本発明に係る中空粒子の外径は、体積基準におけるメディアン径(D50)で0.06〜100μmのものが好ましい。
中空粒子の外径は、下記の方法で測定して得られた体積基準におけるメディアン径(D50)の値である。
体積基準におけるメディアン径(D50)は、コールターマルチサイザ3(コールター社製)に、データ処理用のコンピューターシステム(コールター社製)を接続した装置を用いて測定、算出する。
測定手順としては、中空粒子0.02gを、界面活性剤溶液20ml(中空粒子の分散を目的として、例えば界面活性剤成分を含む中性洗剤を純水で10倍希釈した界面活性剤溶液)で馴染ませた後、超音波分散を1分間行い、中空粒子分散液を作製する。この中空粒子分散液を、サンプルスタンド内のISOTONII(コールター社製)の入ったビーカーに、測定器表示濃度が5%〜10%になるまでピペットにて注入する。この濃度範囲にすることにより、再現性のある測定値が得られる。測定機において、測定粒子カウント数を25000個、アパチャー径を50μmにし、測定範囲である1〜30μmの範囲を256分割しての頻度値を算出する。体積積算分率が大きい方から50%の粒子径を体積基準メディアン径(D50)とする。
以下に本発明の実施例について述べるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
〈樹脂粒子の作製〉
以下のようにして樹脂粒子を作製した。
(樹脂粒子(1)の作製)
疎水性モノマーをスチレンとして下記「組成1」の混合溶液を調製し、図2の反応装置を用い、窒素ガス流入下100rpmで撹拌しながら、70℃で8時間反応させて「樹脂粒子(1)」を作製した。樹脂粒子(1)の数平均分子量は54,000であった。
「組成1」の混合溶液
スチレン 100質量部
エタノール 1000質量部
アゾビスイソブチロニトリル 2質量部
ポリビニルピロリドン 10質量部
n−オクチルメルカプタン 0.7質量部
(樹脂粒子(2)の作製)
樹脂粒子(1)の作製において、n−オクチルメルカプタンの添加量を0.7質量部から1.6質量部に変更した以外は同様にして「樹脂粒子(2)」を作製した。樹脂粒子(2)の数平均分子量は23,000であった。
(樹脂粒子(3)の作製)
樹脂粒子(1)の作製において、n−オクチルメルカプタンの添加量を0.7質量部から0.05質量部に変更した以外は同様にして樹脂粒子(3)を作製した。樹脂粒子(3)の数平均分子量は190,000であった。
(樹脂粒子(4)の作製)
図2の反応装置に、ドデシル硫酸ナトリウム8質量部とイオン交換水3000質量部を仕込み、窒素気流下230rpmの撹拌速度で撹拌しながら、内温を80℃に昇温した。昇温後、過硫酸カリウム10質量部をイオン交換水200質量部に溶解させたものを添加し、再度液温80℃とし、下記「組成4」の混合溶液を1時間かけて滴下後、80℃にて2時間加熱、撹拌することにより重合を行い、「樹脂粒子(4)」を作製した。樹脂粒子(4)の数平均分子量は32,000であった。
「組成4」の混合溶液
スチレン 480質量部
ブタジエン 250質量部
n−オクチルメルカプタン 1.1質量部
(樹脂粒子(5)の作製)
上記樹脂粒子(1)の作製において、n−オクチルメルカプタンの添加量を0.7質量部から6.1質量部に変更した以外は同様にして「樹脂粒子(5)」を作製した。樹脂粒子(5)の数平均分子量は7,500であった。
(樹脂粒子(6)の作製)
上記樹脂粒子(4)の作製において、「組成4」の混合溶液にブタジエン及びn−オクチルメルカプタンを添加しなかった以外は同様にして「樹脂粒子(6)」を作製した。樹脂粒子(6)の数平均分子量は520,000であった。
(樹脂粒子(7)の作製)
上記樹脂粒子(1)の作製において、「組成1」の混合溶液のスチレンをメチルメタクリレートに変更し、且つ、n−オクチルメルカプタンの添加量を0.7質量部から0.4質量部に変更した以外は同様にして「樹脂粒子(7)」を作製した。樹脂粒子(7)の数平均分子量は69,000であった。
表1に、樹脂粒子の作製で用いた疎水性モノマーの化合物とその添加量、得られた樹脂粒子の数平均分子量を示す。
Figure 2008266504
尚、数平均分子量は上記の方法で測定して求めた値である。
《中空粒子の作製》
以下のようにして中空粒子を作製した。
〈中空粒子1の作製〉(実施例1)
樹脂粒子(1)と、疎水性架橋モノマーとしてジビニルベンゼンを用いて下記の「分散液1」を調製した。
「分散液1」
樹脂粒子(1) 1質量部
脱イオン水 100質量部
ジビニルベンゼン 5質量部
アゾビスイソブチロニトリル 0.5質量部
ラウリル硫酸ナトリウム 0.02質量部
ポリビニルアルコール 0.15質量部
この「分散液1」を図2の反応装置に入れ、室温下100rpmで2時間撹拌することにより樹脂粒子(1)に疎水性架橋モノマーとしてジビニルベンゼンを吸収させた後70℃まで昇温し、8時間反応させた。上記反応より得られた重合物を遠心分離後乾燥させて、「中空粒子1」を作製した。得られた中空粒子の体積基準におけるメディアン径(D50)は7.5μmであった。
〈中空粒子2〜7、10、11、13〜15の作製〉(実施例2〜7、比較例1、2、4〜6)
中空粒子1の作製で用いた樹脂粒子、疎水性架橋モノマーの化合部とその添加量を、表2の様に変更した以外は中空粒子1と同様にして「中空粒子2〜7、10、11、13〜15」を作製した。
ただし、中空粒子15は、ジビニルベンゼンの量が多かったため樹脂粒子に吸収しきれないジビニルベンゼンが多量に存在したため、重合中に凝集物が発生し、中空粒子は作製できなかった。
〈中空粒子8の作製〉(実施例8)
中空粒子1の作製で用いた樹脂粒子、疎水性架橋モノマーの化合部とその添加量を、表2の様に変更し、更に、単官能の疎水性モノマーとしてスチレンを1質量部を添加した以外は中空粒子1と同様にして「中空粒子8」を作製した。
〈中空粒子9の作製〉(実施例9)
中空粒子1の作製で用いた樹脂粒子、疎水性架橋モノマーの化合部とその添加量を、表2の様に変更し、更に、有機溶剤(Y)としてキシレンを5×10-3質量部添加した以外は中空粒子1と同様にして「中空粒子9」を作製した。
表2に、中空粒子の作製で用いた樹脂粒子、疎水性架橋モノマーの化合部とその添加量、得られた中空粒子の粒径として体積基準におけるメディアン径(D50)を示す。
Figure 2008266504
尚、体積基準におけるメディアン径(D50)は上記の方法で測定して求めた値である。
〈中空粒子12の作製〉(比較例3)
中空粒子1の作製で用いた樹脂粒子、疎水性架橋モノマーの化合部とその添加量を、表2の様に変更し、更に、有機溶剤(Y)としてキシレンを5×10-3質量部添加した以外は中空粒子1と同様にして「中空粒子12」を作製した。
〈中空粒子16の作製〉(比較例7)
中空粒子1の作製で用いた樹脂粒子、疎水性架橋モノマーの化合部とその添加量を、表2の様に変更し、更に、有機溶剤(Y)としてキシレンを0.6質量部添加した以外は中空粒子1と同様にして「中空粒子12」を作製した。
〈中空粒子17の作製〉(比較例8)
図2の反応装置中に下記溶液を作製し、78℃まで昇温した。
脱イオン水 2900質量部
スルホン酸ドデシルベンゼンナトリウム 2.0質量部
続いて以下の組成でモノマーエマルションを作製した。
脱イオン水 266質量部
スルホン酸ドデシルベンゼンナトリウム 0.4質量部
アクリル酸ブチル 416質量部
メタクリル酸メチル 374質量部
メタクリル酸 10.4質量部
上記エマルション50質量部を反応容器に添加し、次いで水10質量部に溶解した過硫酸アンモニウム3質量部を添加した。15分後、残りのモノマーエマルションを16g/minの速度で開始し、温度を85℃に上昇させた。モノマー添加終了15分後、反応混合物を冷却し、55℃でt−ブチルパーオキシド(70質量%)1質量部、及び20質量部の水に溶解したスルホキシル酸ホルムアルデヒドナトリウム20質量部を添加した。更に25℃で28%アンモニア水を添加し、生成物を濾過して樹脂分散液を得た。ここで得られた樹脂は固形分19.5質量%であった。
続いて、シード重合を行った。撹拌機、温度計、窒素入り口及び還流管を備えた図2の反応装置に脱イオン水2115質量部を84℃に加熱し、そこに水25質量部に溶解した過硫酸ナトリウム4.2質量部を添加し、引き続き上記樹脂分散液62質量部を添加し分散した。更に以下の組成のモノマーエマルションを3時間かけて85℃の状態で添加し、その後30分後に25℃まで冷却し、濾過により凝固物を除去して樹脂分散液を得た。
脱イオン水 235質量部
スルホン酸ドデシルベンゼンナトリウム 0.8質量部
ジアクリル酸エチレングリコール 3.5質量部
メタクリル酸メチル 490質量部
メタクリル酸 210質量部
続いて、85℃に加熱した脱イオン水800質量部に過硫酸ナトリウム0.7質量部を加え、次いで上記樹脂分散液45質量部を添加した。更にメタクリル酸メチル180質量部を1時間かけて添加し、3時間85℃を保持した後冷却し、樹脂分散液を得た。
更にこの樹脂分散液に対し、アルカリ処理を行った。上記樹脂分散液を当量の水酸化アンモニウムで中和し、95℃に加熱して1時間保持したのち室温まで冷却後、遠心分離により洗浄し乾燥させて「中空粒子17」を作製した。得られた中空粒子の体積基準におけるメディアン径(D50)は、上記と同じ測定方法で測定した結果1.2μmであった。
〈中空粒子18の作製〉(比較例9)
樹脂粒子(5)の10質量部を、メチルメタクリレート90質量部、ジビニルベンゼン10質量部及びベンゾイルパーオキシド3質量部の混合溶液中に投入し分散した。この溶液をポリビニルアルコール10質量部を水800質量部に溶解した水溶液に添加して、150rpmで撹拌しながら80℃で4時間重合を行った。得られた重合体を遠心分離により洗浄し乾燥させて「中空粒子18」を作製した。得られた中空粒子の体積基準におけるメディアン径(D50)は、上記と同じ測定方法で測定した結果4.8μmであった。
〈中空粒子19の作製〉(比較例10)
ポリビニルアルコール(重合度1700、ケン化度88%)0.05質量部を水に溶解させて得た水溶液15質量部に、ジビニルベンゼン0.25質量部、過酸化ベンゾイル0.005質量部、ヘキサデカン0.25質量部を均一混合してなる溶液を懸濁させた。
懸濁の方法は、装置としてホモジナイザーを用い、撹拌速度1000rpm、室温下の条件下で行った。
次いで、懸濁液を窒素ガス雰囲気下で、撹拌しながら70℃で加熱し、24時間懸濁重合させた。
上記で得られた分散液を濾紙を用いて濾過し、中空粒子を単離し、温度約70℃、圧力約100000Pa(大気圧下)の条件下で乾燥することにより、「中空粒子19」を作製した。得られた中空粒子の体積基準におけるメディアン径(D50)は、上記と同じ測定方法で測定した結果10μmであった。
《評価》
上記のようにして作製した「中空粒子1〜19」(実施例1〜9、及び比較例1〜10)の各粒子に対して、以下の特性を評価した。
〈中空粒子の空隙〉
中空粒子の空隙の評価方法は、中空粒子を光硬化樹脂に包埋後、ウルトラミクロトームにより設定厚100nmの超薄切片を作製し、その切片を用いて透過型電子顕微鏡「2000FX」(日本電子製)にてランダムに選んだ50個の中空粒子の観察を行い、空隙を有する粒子の数により評価した。尚、◎、○を合格、×を不合格とした。
評価基準
◎:評価した50個中、48個以上の粒子が少なくとも1個の空隙を有する
○:評価した50個中、45個〜47個の粒子が少なくとも1個の空隙を有する
×:評価した50個中、6個以上の粒子に空隙が存在しない。
〈高湿環境での吸湿率〉
高湿環境での吸湿率は、高温高湿(30℃、80%RH)環境下に中空粒子を24時間放置した時、中空粒子が吸湿する水分量を下記の方法で測定し、その水分量で評価した。尚、評価は◎、○を合格、×を不合格とした。
水分量測定
カールフィッシャー電量滴定法にて実施するものである。具体的には、自動熱気化水分測定システム「AQS−724」(平沼産業社製)を用い、30℃、80%RH環境に24時間放置した中空粒子の約0.5gをガラス製20mlのサンプル管に精密に秤量して入れ、次いでフッ素樹脂コートのシリコーンゴムパッキングを用いて密栓する。密栓した環境中に存在する水分を補正するため、空のサンプルを同時に2本測定する。測定は加熱温度=110℃/キャリアガス(窒素)流量=150ml/分の条件で1分間測定する。試薬としてハイドラナールアクアライトRS(リーデル・デ・ヘーエン社製)及びアクアライトC(関東化学社製)を用いた。
中空粒子の吸湿率は下式で算出される。
中空粒子の吸湿率(%)=検出された水分量(g)/秤量した中空粒子の質量(g)×100
評価基準
◎:中空粒子の吸湿率が、0.6質量%未満
○:中空粒子の吸湿率が、0.6質量%以上、1.2質量%未満
×:中空粒子の吸湿率が、1.2質量以上。
〈臭気〉
臭気の評価は、1gの中空粒子をアルミホイル上に置き、その上から50mlのビーカーを被せて100℃のホットプレートで30分間加熱してからビーカーを外し、ビーカー中の臭気を嗅いだ。臭気の評価は下記基準で行った。尚、ランク1、2を合格、ランク3を不合格とする。
評価基準
ランク1:ほとんど臭気なし
ランク2:臭気はあるが弱い
ランク3:臭気がはっきりと認識できる
表3に、本実施例1〜9、比較例1〜10の評価結果を記す。
Figure 2008266504
表3の結果より、本発明の実施例1〜9の「中空粒子1〜9」は、中空粒子の空隙、高湿環境での吸湿率、臭気の何れの評価項目でも良好な結果となったのに対し、比較例1〜10の「中空粒子10〜19」は評価項目の何れかで問題が見られ、本発明が発現されないことが確認された。
中空粒子の模式図である。 中空粒子の製造に用いる反応装置の一例を示す模式図である。
符号の説明
10 中空粒子
20 中空粒子の被膜を構成する樹脂部
30 空隙部

Claims (3)

  1. 少なくとも1種の疎水性モノマーを重合し、数平均分子量が20,000〜500,000の樹脂粒子を作製し、
    該樹脂粒子を水系媒体中に分散させ、そこに樹脂粒子の1質量部に対して0.1〜50質量部の少なくとも1種の疎水性架橋モノマーを添加して、
    該分散液中の疎水性架橋モノマーを重合することを特徴とする中空粒子の製造方法。
  2. 前記分散液の作製時に、樹脂粒子の1質量部に対して0.1〜50質量部の少なくとも1種の疎水性架橋モノマーと、重合開始剤と、分散安定剤と、更に水に不溶の有機溶剤を全樹脂成分に対して1質量%以下添加して、分散液を作製することを特徴とする請求項1に記載の中空粒子の製造方法。
  3. 前記分散液の作製時に、疎水性架橋モノマーと共重合が可能な疎水性モノマーを添加することを特徴とする請求項1に記載の中空粒子の製造方法。
JP2007113917A 2007-04-24 2007-04-24 中空粒子の製造方法 Pending JP2008266504A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007113917A JP2008266504A (ja) 2007-04-24 2007-04-24 中空粒子の製造方法
US12/043,305 US7956147B2 (en) 2007-04-24 2008-03-06 Preparation method of hollow particle

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007113917A JP2008266504A (ja) 2007-04-24 2007-04-24 中空粒子の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008266504A true JP2008266504A (ja) 2008-11-06

Family

ID=39887761

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007113917A Pending JP2008266504A (ja) 2007-04-24 2007-04-24 中空粒子の製造方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US7956147B2 (ja)
JP (1) JP2008266504A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102010037987A1 (de) 2009-10-08 2011-04-28 Fujitsu Ten Ltd., Kobe-shi Radar und Vorrichtung zur Signalverarbeitung
JP2015229731A (ja) * 2014-06-05 2015-12-21 コニカミノルタ株式会社 中空粒子およびその製造方法
WO2022163600A1 (ja) * 2021-01-29 2022-08-04 日本ゼオン株式会社 中空粒子
CN116194495A (zh) * 2020-09-30 2023-05-30 日本瑞翁株式会社 中空颗粒

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5785261B2 (ja) 2011-08-31 2015-09-24 積水化成品工業株式会社 樹脂粒子集合体、その製造方法、およびその用途
US9222254B2 (en) 2012-03-13 2015-12-29 Schabel Polymer Technology, Llc Structural assembly insulation
CN116715888A (zh) * 2018-03-30 2023-09-08 日本瑞翁株式会社 片材
US20220033628A1 (en) * 2018-09-28 2022-02-03 Zeon Corporation Resin composition and molded product thereof
US20220033652A1 (en) * 2018-09-28 2022-02-03 Zeon Corporation Resin composition and molded product thereof
CA3176359A1 (en) * 2020-04-24 2021-10-28 Andre Vieira Gomes Hollow core granules, products incorporating the granules, and methods of preparing the granules

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS64134A (en) * 1987-03-16 1989-01-05 Nitto Denko Corp Porous hollow particle and its production
JP2000191818A (ja) * 1998-12-25 2000-07-11 Sekisui Chem Co Ltd 多孔質微粒子の製造方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005200613A (ja) * 2004-01-19 2005-07-28 Sekisui Chem Co Ltd 被覆粒子、液晶表示素子用スペーサ及び液晶表示素子

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS64134A (en) * 1987-03-16 1989-01-05 Nitto Denko Corp Porous hollow particle and its production
JP2000191818A (ja) * 1998-12-25 2000-07-11 Sekisui Chem Co Ltd 多孔質微粒子の製造方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102010037987A1 (de) 2009-10-08 2011-04-28 Fujitsu Ten Ltd., Kobe-shi Radar und Vorrichtung zur Signalverarbeitung
JP2015229731A (ja) * 2014-06-05 2015-12-21 コニカミノルタ株式会社 中空粒子およびその製造方法
CN116194495A (zh) * 2020-09-30 2023-05-30 日本瑞翁株式会社 中空颗粒
WO2022163600A1 (ja) * 2021-01-29 2022-08-04 日本ゼオン株式会社 中空粒子

Also Published As

Publication number Publication date
US7956147B2 (en) 2011-06-07
US20080269447A1 (en) 2008-10-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2008266504A (ja) 中空粒子の製造方法
JP4788943B2 (ja) 多孔性単分散粒子およびその製造方法
CN104736580A (zh) 水系分散液用聚乙烯醇缩醛微粒
TWI427086B (zh) 表面具有多數凹孔之樹脂粒子
JPH0737485B2 (ja) 乳化剤不含で且つ保護コロイド不含の乳化重合体の製造方法
JPS59218459A (ja) 静電荷像現像用トナ−
JP2012136590A (ja) コアシェル粒子
Sütterlin Structure/properties of emulsion copolymers
JP2006249389A (ja) 水酸基含有ポリマーの製造方法
Nuisin et al. Dependence of morphological changes of polymer particles on hydrophobic/hydrophilic additives
JP2007217616A (ja) 異形高分子微粒子及びその製造方法
JP6641724B2 (ja) 中空樹脂粒子およびその製造方法
JP6308033B2 (ja) 中空粒子およびその製造方法
Brito et al. Film formation of structured latexes with hydroplasticizable domains
JP2001163985A (ja) 微粒子、トナー用外添剤及びトナー
JP2009242632A (ja) 親水性樹脂粒子の製造方法
JP2010207813A (ja) 粒子及びそれを製造する方法
Nuisin et al. Synthesis and property behavior of dioctyl phthalate plasticized styrene–acrylate particles by Shirasu porous glass emulsification and subsequent suspension copolymerization
Park et al. Chloromethyl-functionalized polymer particles through seeded polymerization
JP2021195521A (ja) 成形体及び成形体の製造方法
JP2005232426A (ja) 開口微粒子及びその製造方法
JP3101022B2 (ja) 重合体微粒子の製造方法
JP6348312B2 (ja) コアシェル粒子の製造方法
JPS58136647A (ja) ヒドロゾルの製造方法
Hsu et al. Polymer latex containing carboxylic acid functional groups. I. Synthesis of polymer latex from MMA and AA

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100201

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20110801

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120814

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120816

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20121218