JP2008260969A5 - - Google Patents
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- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 17
- 239000013077 target material Substances 0.000 claims description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 9
- 229910017061 Fe Co Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910002546 FeCo Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 claims description 8
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 claims description 6
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 2
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 claims 2
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000001513 hot isostatic pressing Methods 0.000 claims 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007102362A JP4919162B2 (ja) | 2007-04-10 | 2007-04-10 | Ｆｅ−Ｃｏ系合金スパッタリングターゲット材およびＦｅ−Ｃｏ系合金スパッタリングターゲット材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007102362A JP4919162B2 (ja) | 2007-04-10 | 2007-04-10 | Ｆｅ−Ｃｏ系合金スパッタリングターゲット材およびＦｅ−Ｃｏ系合金スパッタリングターゲット材の製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008260969A JP2008260969A (ja) | 2008-10-30 |
| JP2008260969A5 true JP2008260969A5 (https=) | 2011-05-19 |
| JP4919162B2 JP4919162B2 (ja) | 2012-04-18 |
Family
ID=39983666
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007102362A Active JP4919162B2 (ja) | 2007-04-10 | 2007-04-10 | Ｆｅ−Ｃｏ系合金スパッタリングターゲット材およびＦｅ−Ｃｏ系合金スパッタリングターゲット材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4919162B2 (https=) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5397755B2 (ja) * | 2008-06-17 | 2014-01-22 | 日立金属株式会社 | 軟磁性膜形成用Ｆｅ−Ｃｏ系合金スパッタリングターゲット材 |
| JP5418897B2 (ja) * | 2008-08-04 | 2014-02-19 | 日立金属株式会社 | Ｃｏ−Ｆｅ系合金スパッタリングターゲット材の製造方法 |
| CN102485948A (zh) * | 2010-12-06 | 2012-06-06 | 北京有色金属研究总院 | 一种FeCoTaZr系合金溅射靶材及其制造方法 |
| JP5778052B2 (ja) * | 2012-02-03 | 2015-09-16 | 山陽特殊製鋼株式会社 | 磁気記録媒体に用いる低飽和磁束密度を有する軟磁性膜層用合金およびスパッタリングターゲット材 |
| WO2014017381A1 (ja) * | 2012-07-24 | 2014-01-30 | 日立金属株式会社 | ターゲット材およびその製造方法 |
| WO2016157922A1 (ja) * | 2015-03-27 | 2016-10-06 | 日立金属株式会社 | 軟磁性膜および軟磁性膜形成用スパッタリングターゲット |
| WO2021039712A1 (ja) * | 2019-08-26 | 2021-03-04 | 日立金属株式会社 | Ｆｅ－Ｓｉ－Ｂ－Ｎｂ系ターゲット |
| TWI798579B (zh) * | 2019-08-26 | 2023-04-11 | 日商日立金屬股份有限公司 | Fe-Si-B-Nb系靶材 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100210525B1 (ko) * | 1993-12-14 | 1999-07-15 | 니시무로 타이죠 | 배선형성용 몰리브덴-텅스텐재, 배선형성용 몰리브덴-텅스텐 타깃과 그 제조방법 및 몰리브덴-텅스텐 배선박막 |
| JP4016399B2 (ja) * | 2003-04-30 | 2007-12-05 | 日立金属株式会社 | Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ合金ターゲット材の製造方法 |
| JP4380577B2 (ja) * | 2005-04-07 | 2009-12-09 | 富士電機デバイステクノロジー株式会社 | 垂直磁気記録媒体 |
-
2007
- 2007-04-10 JP JP2007102362A patent/JP4919162B2/ja active Active
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