JP2008255065A - 塩酸サルポグレラートの工業的製造方法 - Google Patents
塩酸サルポグレラートの工業的製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008255065A JP2008255065A JP2007100895A JP2007100895A JP2008255065A JP 2008255065 A JP2008255065 A JP 2008255065A JP 2007100895 A JP2007100895 A JP 2007100895A JP 2007100895 A JP2007100895 A JP 2007100895A JP 2008255065 A JP2008255065 A JP 2008255065A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- crystal
- type
- crystals
- sarpogrelate hydrochloride
- mixed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
【解決手段】塩酸サルポグレラートの粗結晶の含水ケトン溶解液を、予め冷却しておいたケトン溶液中に滴下し、析出した結晶を濾取することを特徴とする上記の塩酸サルポグレラートのII型結晶及びI型結晶の混合晶の製造方法であり、得られたII型結晶:I型結晶の混合比が7:3〜9:1である塩酸サルポグレラートのII型結晶及びI型結晶の混合晶である。
【選択図】図1
Description
しかしながら、この特許文献1に記載の再結晶は、稀薄条件下における再結晶であり、工業的には非現実的な再結晶条件のみが記載されている。また、得られた塩酸サルポグレラートの結晶に、複数の結晶による結晶多形が存在することは一切記載がない。
なお本明細書においては、塩酸サルポグレラートのI型結晶及びII型結晶の定義は、特許文献2〜4におけるI型結晶及びII型結晶の定義に従う。
したがって、その医薬品添付文書にも結晶多形の存在は記載されておらず、その融点は155.2℃(分解)のものとされているが、このものがその結晶多形のうちのI型結晶であるか、又はII型結晶であるかは一切判明していない。
またその工業的に適用できる再結晶方法により得られた塩酸サルポグレラートは、驚くべきことに、結晶多形であるII型結晶及びI型結晶が分離不可能な状態で渾然一体として存在するII型結晶及びI型結晶の混合晶であることを新規に見出し、本発明を完成させるに至った。
したがって、本発明で提供するII型結晶及びI型結晶の混合晶は、塩酸サルポグレラートの粗結晶を再結晶して得た再結晶品であることから、公知の再結晶品であるが、このものがいわゆる結晶多形としてのII型結晶及びI型結晶の混合晶であった点を初めて明らかにしたものであり、例えば特許文献2〜4に開示される、結晶変換処理して得たI型結晶、或いはII型結晶、並びにその混合結晶とは異なるものである。
含水量が0.08倍容量未満であると塩酸サルポグレラートの粗結晶の溶解性が低くなり、また0.25倍容量を超える場合には、含水量が多くなることによる収率の低下をきたし、かえって好ましいものではない。
また、滴下先のケトン系溶媒の量は、塩酸サルポグレラートの粗結晶を溶解した溶液量の1.1〜3.6倍程度の量を使用するのがよい。
要するに、工業的な製造工程で得られた塩酸サルポグレラートの粗結晶が、そのままいわゆる当業者の技術常識にいう再結晶手段に供されればよい。
塩酸サルポグレラートの粗結晶を溶解させる含水ケトン系溶媒として、含水アセトン及び含水メチルエチルケトン(MEK)を選択し、これら溶媒における塩酸サルポグレラートの粗結晶を溶解させる場合の至適含水量の範囲を検討した。
その結果、下記表1中に記載の含水量の範囲であることが好ましいことが判明した。
なお、その各含水ケトン系溶媒を用いた塩酸サルポグレラートの粗結晶の再結晶時における結晶の晶出溶媒系の溶媒:水の比も併せて記載した。
上記試験例1の含水ケトン系溶媒を用い、塩酸サルポグレラートの粗結晶を溶解させ、その溶解液を滴下させるケトン系溶媒の溶媒量の至適範囲を検討した。
その結果、下記表2中に記載の溶媒量の範囲であることが好ましいことが判明した。
なお、その時の結晶の晶出溶媒系における溶媒:水の比も併せて記載した。
これらの点を踏まえ、実際の再結晶を行った実施例を比較例と共に以下に示した。
特許文献1に記載の方法に従って塩酸サルポグレラートの粗結晶を得た。この粗結晶20gを用いて、以下の手順により塩酸サルポグレラートの粗結晶の再結晶を行った。
メチルエチルケトン(MEK)を、一旦氷冷下(−10〜15℃)に冷却しておく。
一方、塩酸サルポグレラートの粗結晶20gを、MEK及び水からなる混合含水MEK溶液に溶解させた。
この溶解液を、予め冷却しておいた上記のMEK溶液中に、該溶液の温度が5℃以下となるように維持しながら滴下する。滴下終了後、1時間以上0〜5℃を維持し、析出した結晶を濾取して、MEK洗浄し、乾燥させることにより塩酸サルポグレラートの再結晶品を得た。
MEKに代え、アセトンを溶媒として使用し、同様の操作による再結晶を行い、目的とする塩酸サルポグレラートの再結晶品を得た。
各溶媒の含水量、溶媒の使用量等、検討した再結晶条件を下記表3にまとめて示した。
図1及び図2は、II型結晶:I型結晶が概略7:3の混合晶についての粉末X線回折スペクトル及びIRスペクトルである。
図3及び図4は、II型結晶:I型結晶が概略8:2の混合晶についての粉末X線回折スペクトル及びIRスペクトルである。
また、図5及び図6は、II型結晶:I型結晶が概略9:1の混合晶についての粉末X線回折スペクトル及びIRスペクトルである。
X線光源:Cu
モノクロメータ使用
管電圧:40kV
管電流:30mA
発散スリット:1/2deg
散乱スリット:1/2deg
受光スリット:0.15mm
走査範囲:3〜40°
走査軸:2θ
ステップ幅:0.02°
スキャンスピード:1.2°/秒
測定方法:KCl錠剤法
測定範囲:4000〜400cm−1
分解能:2.00cm−1
スキャン回数:4
これに対して比較例としての再結晶溶媒を特許文献1に記載のアセトンのみを用いた場合には、粗結晶2gを再結晶するのにアセトン800mLを必要とした。したがって、実施例と同様に粗結晶20gを使用して再結晶するには、8Lという非現実的な溶媒量を使用しなければならないものであり、本発明方法の特異性がよく理解される。
かかる方法により得られた塩酸サルポグレラートは、いわゆるII型結晶とI型結晶の混合晶であるが、II型結晶及びI型結晶が分離不可能な状態で渾然一体として存在するII型結晶及びI型結晶の混合晶としての臨床的に適用し得る塩酸サルポグレラートであり、かかる塩酸サルポグレラートを安価に提供できる点から、産業の利用可能性は多大なものである。
Claims (5)
- (±)2−(ジメチルアミノ)−{[O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ]メチル}エチル水素サクシネート・塩酸塩である塩酸サルポグレラートのII型結晶及びI型結晶の混合晶。
- II型結晶:I型結晶の混合比が7:3〜9:1である請求項1に記載の塩酸サルポグレラートのII型結晶及びI型結晶の混合晶。
- 塩酸サルポグレラートの粗結晶の含水メチルエチルケトン又は含水アセトン溶解液を、予め冷却しておいたメチルエチルケトン又はアセトン溶液中に滴下し、析出した結晶を濾取することを特徴とする請求項1又は2に記載の塩酸サルポグレラートのII型結晶及びI型結晶の混合晶の製造方法。
- 10℃以下のメチルエチルケトン又はアセトン溶液中に滴下することを特徴とする請求項3に記載の塩酸サルポグレラートのII型結晶及びI型結晶の混合晶の製造方法。
- 塩酸サルポグレラートの粗結晶を溶解させる含水メチルエチルケトン又は含水アセトン溶解液が、メチルエチルケトン又はアセトンに対して0.08〜0.25倍量の水を含有させたものである請求項3又は4に記載の塩酸サルポグレラートのII型結晶及びI型結晶の混合晶の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007100895A JP5090770B2 (ja) | 2007-04-06 | 2007-04-06 | 塩酸サルポグレラートの工業的製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007100895A JP5090770B2 (ja) | 2007-04-06 | 2007-04-06 | 塩酸サルポグレラートの工業的製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008255065A true JP2008255065A (ja) | 2008-10-23 |
JP5090770B2 JP5090770B2 (ja) | 2012-12-05 |
Family
ID=39979002
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007100895A Expired - Fee Related JP5090770B2 (ja) | 2007-04-06 | 2007-04-06 | 塩酸サルポグレラートの工業的製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5090770B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010126447A (ja) * | 2008-11-25 | 2010-06-10 | Dnp Fine Chemicals Fukushima Co Ltd | (±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩のI形結晶とII形結晶の混晶の製造法 |
CN101967104A (zh) * | 2008-11-10 | 2011-02-09 | 上海密江国际贸易有限公司 | Iv型结晶、制备该结晶的方法以及含有该结晶的药物组合物 |
CN103242179A (zh) * | 2013-05-08 | 2013-08-14 | 深圳万乐药业有限公司 | 一种高纯度盐酸沙格雷酯的制备方法 |
JP2013213032A (ja) * | 2012-04-01 | 2013-10-17 | Eshyasi Pharma Ltd | (2rs)−1−ジメチルアミノ−3−{2−[2−(3−メトキシフェニル)エチル]フェノキシ}プロパン−2−イルコハク酸水素塩酸塩の工業的製造方法 |
WO2015008973A1 (ko) * | 2013-07-18 | 2015-01-22 | 주식회사 대희화학 | 사포그릴레이트 염산염 결정형 ⅱ의 제조방법 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5832847A (ja) * | 1981-08-20 | 1983-02-25 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | (3−アミノプロポキシ)ビベンジル類 |
JP2006160766A (ja) * | 2005-02-22 | 2006-06-22 | Mitsubishi Pharma Corp | (±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩の結晶 |
JP2006160765A (ja) * | 2005-02-22 | 2006-06-22 | Mitsubishi Pharma Corp | (±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩の結晶 |
JP2006160764A (ja) * | 2005-02-22 | 2006-06-22 | Mitsubishi Pharma Corp | (±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩の結晶 |
-
2007
- 2007-04-06 JP JP2007100895A patent/JP5090770B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5832847A (ja) * | 1981-08-20 | 1983-02-25 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | (3−アミノプロポキシ)ビベンジル類 |
JP2006160766A (ja) * | 2005-02-22 | 2006-06-22 | Mitsubishi Pharma Corp | (±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩の結晶 |
JP2006160765A (ja) * | 2005-02-22 | 2006-06-22 | Mitsubishi Pharma Corp | (±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩の結晶 |
JP2006160764A (ja) * | 2005-02-22 | 2006-06-22 | Mitsubishi Pharma Corp | (±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩の結晶 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101967104A (zh) * | 2008-11-10 | 2011-02-09 | 上海密江国际贸易有限公司 | Iv型结晶、制备该结晶的方法以及含有该结晶的药物组合物 |
JP2010126447A (ja) * | 2008-11-25 | 2010-06-10 | Dnp Fine Chemicals Fukushima Co Ltd | (±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩のI形結晶とII形結晶の混晶の製造法 |
JP2013213032A (ja) * | 2012-04-01 | 2013-10-17 | Eshyasi Pharma Ltd | (2rs)−1−ジメチルアミノ−3−{2−[2−(3−メトキシフェニル)エチル]フェノキシ}プロパン−2−イルコハク酸水素塩酸塩の工業的製造方法 |
CN103242179A (zh) * | 2013-05-08 | 2013-08-14 | 深圳万乐药业有限公司 | 一种高纯度盐酸沙格雷酯的制备方法 |
CN103242179B (zh) * | 2013-05-08 | 2014-12-17 | 深圳万乐药业有限公司 | 一种高纯度盐酸沙格雷酯的制备方法 |
WO2015008973A1 (ko) * | 2013-07-18 | 2015-01-22 | 주식회사 대희화학 | 사포그릴레이트 염산염 결정형 ⅱ의 제조방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5090770B2 (ja) | 2012-12-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2008285445A (ja) | 塩酸サルポグレラートの工業的製造方法 | |
JP5090770B2 (ja) | 塩酸サルポグレラートの工業的製造方法 | |
EP3490973B1 (en) | Polymorphic forms of belinostat and processes for preparation thereof | |
JP6753396B2 (ja) | エンザルタミド結晶形の製造方法 | |
US8735596B2 (en) | Process for producing crystals of polymorphic 2-(3-cyano-4-isobutyloxyphenyl)-4-methyl-5-thiazolecaboxylic acid by poor-solvent addition method | |
WO2012077138A1 (en) | Methods of crystallizing (r) -1- (3 -hydroxypropyl) -5- [2- [2- [2- ( 2, 2, 2 - trifluoroethoxy) phenoxy] ethylamino] propyl] indoline-7 -carboxamide | |
WO2018008219A1 (ja) | アジルサルタン中間体、アジルサルタン、及びこれらの製造方法 | |
ES2538698T3 (es) | Un proceso para la preparación de tazaroteno | |
EP2819995B1 (en) | Process for preparing 3-methylsulfonylpropionitrile | |
JP2008266172A (ja) | 3−o−アルキル−5,6−o−(1−メチルエチリデン)−l−アスコルビン酸の製造方法および5,6−o−(1−メチルエチリデン)−l−アスコルビン酸の製造方法 | |
WO2017131218A1 (ja) | アジルサルタン及びその製造方法 | |
JP5280115B2 (ja) | p−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)の製造方法 | |
KR101027945B1 (ko) | 염산 사포그릴레이트의 재결정 방법 | |
JP6943770B2 (ja) | 6,6’−[[3,3’,5,5’−テトラキス(1,1−ジメチルエチル)−[1,1’−ビフェニル]−2,2’−ジイル]ビス(オキシ)]ビスジベンゾ[d,f][1,3,2]−ジオキサホスフェピンの結晶配位子 | |
JP5952748B2 (ja) | フタロイルアムロジピンの新規結晶形態およびそれを用いる高純度なアムロジピンベシル酸塩の製造方法 | |
JP2011105649A (ja) | アゼルニジピンの結晶 | |
JP5188475B2 (ja) | 2−(3−ニトロベンジリデン)アセト酢酸イソプロピルの製造方法 | |
KR102506813B1 (ko) | 간소화된 다루나비르 제조 절차 | |
JP2012020970A (ja) | {2−アミノ−1,4−ジヒドロ−6−メチル−4−(3−ニトロフェニル)−3,5−ピリジンジカルボン酸3−(1−ジフェニルメチルアゼチジン−3−イル)エステル5−イソプロピルエステル}の製造方法 | |
JP2021530550A (ja) | ブロモドメイン阻害剤の合成方法 | |
JP6676491B2 (ja) | アジルサルタンアルキルエステルの製造方法、及びアジルサルタンの製造方法 | |
CN104370734A (zh) | 改进的孟布酮的合成方法 | |
JP2018076258A (ja) | アジルサルタンアルキルエステル、アジルサルタンメチルエステルの製造方法、及びアジルサルタンの製造方法 | |
JP7361715B2 (ja) | 高純度コレステロールの製造方法 | |
JP5419570B2 (ja) | 2−アセチルアミノメチル−4−(4−フルオロベンジル)モルホリンの精製方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100119 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120613 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120806 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120905 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120913 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150921 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5090770 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |