JP2008251969A - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】真空容器内に配置された処理室と処理室内部を排気して所定の圧力に減圧する真空排気装置と処理室内に供給される処理用のガスの流量を調節するガス流量制御器とを備え、処理室内に処理用のガスから形成したプラズマを用いて処理室内に配置された試料を処理するプラズマ処理装置であって、ガス流量制御器に連結されて処理室外に配置され、ガス流量制御器からのガスの流量を検定するガス流量測定器と該ガス流量測定器が配置された検定用のガス流路とを有し、真空排気装置による前記処理室内の排気とガス流量測定器による検定とを相互に間欠的に行う。
【選択図】図3
Description
図1は、本発明の第1の実施例に係るプラズマ処理装置の全体的構成の概略を示す図である。図1(a)は、プラズマ処理装置を上方から見て構成の概略を示す横断面図である。図1(b)は、プラズマ処理装置の斜視図である。
102 真空側ブロック
103 処理室
104 真空搬送容器
105 ロック室
106 筐体
107 カセット
108 真空搬送ロボット
109 大気搬送ロボット
201 蓋
202 ガス導入リング
203 壁部材
204 ガス拡散板
205 試料台
206 高真空用排気ポンプ
207 タンク
208 バルブ
209 コイル
210 ガス流量制御器
211 バルブ
212 バルブ
213 高周波電源
214 高周波バイアス電源
215 低真空用排気ポンプ
216 コントローラ
217 バッファ室
218 プラズマ処理室
219 ガス流量測定器
220 バルブ
221 ヒータ
222 圧力計
223 圧力計
301 ウエットクリーニング領域
302 高真空用排気ポンプ領域
303 ガス流量制御器の検定領域
Claims (7)
- 真空容器内に配置された処理室と、前記処理室内部を排気して所定の圧力に減圧する真空排気装置と、前記処理室内に供給される処理用のガスの流量を調節するガス流量制御器とを備え、前記処理室内に前記処理用のガスから形成したプラズマを用いて前記処理室内に配置された試料を処理するプラズマ処理装置であって、
前記ガス流量制御器に連結されて前記処理室外に配置され、前記ガス流量制御器からのガスの流量を検定するガス流量測定器と前記ガス流量測定器が配置された検定用のガス流路とを有し、前記真空排気装置による前記処理室内の排気と前記ガス流量測定器とよる検定とを相互に間欠的に行うことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1に記載のプラズマ処理装置において、前記真空排気装置の排気口に連結された排気経路と、前記排気経路からの前記処理室内の排気と前記検定用のガス流路のガスの通流とを切替える切替え手段とを備えていることを特徴とするプラズマ処理装置。
- 請求項1又は請求項2に記載のプラズマ処理装置において、前記真空排気装置に接続された前記排気経路に前記検定用のガス流路の下流端部が連結されていることを特徴とするプラズマ処理装置。
- 請求項3に記載のプラズマ処理装置において、前記排気経路上に配置された前記切替え手段と、前記真空排気装置と前記排気口との間の前記排気経路上に配置され前記検定用のガス流路内のガスの通流中の前記ガス流量測定器による検定中に閉塞された前記排気経路内の前記排気口から排気されたガスを滞留させる空間部とを備えていることを特徴とするプラズマ処理装置。
- 請求項4に記載のプラズマ処理装置において、前記空間部において前記排気経路の径が大きくされていることを特徴とするプラズマ処理装置。
- 請求項4に記載のプラズマ処理装置において、前記空間部が前記排気経路を構成する管路を複数箇所湾曲させて構成されていることを特徴とするプラズマ処理装置。
- 請求項3乃至請求項6の何れかに記載のプラズマ処理装置において、前記真空排気装置が前記真空容器の下部と連結されて配置され、前記プラズマ処理装置が設置された床面と前記真空容器との間に配置されて前記真空容器を前記床面上で支持する台の上方に配置されたものであり、前記台上に前記切替え手段が配置されていることを特徴とするプラズマ処理装置。
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-
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