JP2008246956A - 液滴吐出ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
液滴吐出ヘッド及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008246956A JP2008246956A JP2007093383A JP2007093383A JP2008246956A JP 2008246956 A JP2008246956 A JP 2008246956A JP 2007093383 A JP2007093383 A JP 2007093383A JP 2007093383 A JP2007093383 A JP 2007093383A JP 2008246956 A JP2008246956 A JP 2008246956A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pressure chamber
- nozzle
- pressure
- nozzle hole
- droplet discharge
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Landscapes
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
【課題】吐出能力を確保しつつ、安定した吐出特性を得ることができ、また、ヘッドの高密度化及びクロストークの低減を図ることが可能な液滴吐出ヘッド及びその製造方法を提供する。
【解決手段】液滴を吐出するための複数のノズル孔11と、各ノズル孔11に連通して設けられ液滴に圧力を加えるための圧力室21と、圧力室21に液滴を供給する液滴供給路と、液滴を吐出するための吐出圧力を圧力室21に発生させる圧力発生手段とを有する液滴吐出ヘッドにおいて、複数のノズル孔11を1列のノズル列構成とし、圧力室21を、ノズル列におけるノズル孔11の一個おきにノズル列に対して左右に分けて配置し、且つ、圧力室21の幅の中心線上に、その圧力室21に対応するノズル孔11の中心が位置するように配置した。
【選択図】図1
【解決手段】液滴を吐出するための複数のノズル孔11と、各ノズル孔11に連通して設けられ液滴に圧力を加えるための圧力室21と、圧力室21に液滴を供給する液滴供給路と、液滴を吐出するための吐出圧力を圧力室21に発生させる圧力発生手段とを有する液滴吐出ヘッドにおいて、複数のノズル孔11を1列のノズル列構成とし、圧力室21を、ノズル列におけるノズル孔11の一個おきにノズル列に対して左右に分けて配置し、且つ、圧力室21の幅の中心線上に、その圧力室21に対応するノズル孔11の中心が位置するように配置した。
【選択図】図1
Description
本発明は、液滴を吐出するための液滴吐出ヘッド及びその製造方法に関する。
液滴を吐出するための液滴吐出ヘッドとして、例えばインクジェット記録装置に搭載されるインクジェットヘッドが知られている。従来の一般的なインクジェットヘッドは、インク滴を吐出するための複数のノズル孔が形成されたノズルプレートと、このノズルプレートに接合されノズルプレートとの間で上記ノズル孔に連通する圧力室、リザーバ等のインク流路が形成されたキャビティプレートとを備え、駆動部により圧力室に圧力を加えることによりインク滴を選択されたノズル孔より吐出するように構成されている(例えば、特許文献1参照)。駆動手段としては、静電気力を利用する方式や、圧電素子による圧電方式、発熱素子を利用する方式等がある。
近年、インクジェットヘッドに対して、印字、画質等の高品位化の要求が一段と強まり、そのためノズル密度の高密度化並びに吐出性能(インクスピードと、インク重量)の向上が強く要求されている。ノズル密度が高密度化されると、ノズル孔毎に設けられた圧力室の隔壁が薄くなり、隔壁の剛性が低くなるため、1つの圧力室のインクが吐出されたときに隣接する圧力室が影響を受けるという、いわゆるクロストークの問題があった。また、圧力室の幅も狭くなり、所望のインク滴吐出量を達成できないという問題があった。
そこで、1列のノズル列構成において、圧力室をノズル孔の一個おきにノズル列に対して左右に分けて配置し、圧力室間に余裕を持たせることで、ノズル密度を低下させずに所望のインク液滴吐出量を吐出可能な圧力室の幅を確保することが可能と考えられる。このような構造については、既に特許文献2に提案されている。
特開2005−161706号公報(図1)
特開2000−289205号公報(図2)
しかしながら、特許文献2の構造では、ノズル孔中心が圧力室の幅の中心線から偏心した構造となっており、このため、ノズル孔からのインク液滴の飛翔が曲がる可能性がある。また、圧力室の形状が複雑な形状をしているため、インクの流れがスムーズでなく、不安定吐出に繋がる可能性もあるという問題があった。
本発明はこのような点に鑑みなされたもので、吐出能力を確保しつつ、安定した吐出特性を得ることができ、また、ヘッドの高密度化及びクロストークの低減を図ることが可能な液滴吐出ヘッド及びその製造方法を提供することを目的とする。
本発明に係る液滴吐出ヘッドは、液滴を吐出するための複数のノズル孔と、各ノズル孔に連通して設けられ液滴に圧力を加えるための圧力室と、圧力室に液滴を供給する液滴供給路と、液滴を吐出するための吐出圧力を圧力室に発生させる圧力発生手段とを有する液滴吐出ヘッドにおいて、複数のノズル孔を1列のノズル列構成とし、圧力室を、ノズル列におけるノズル孔の一個おきにノズル列に対して左右に分けて配置し、且つ、圧力室の幅の中心線上に、その圧力室に対応するノズル孔の中心が位置するように配置したものである。
これにより、全ての圧力室をノズル列に対して同一側に並設するようにした構造に比べて、隔壁の厚みを確保することができ、クロストークを防止することが可能となる。また、圧力室の幅を広くすることが可能となり、アクチュエータの吐出能力を落とすことなく、安定吐出が可能となる。また、圧力室の幅の中心線上にノズル孔の中心が位置する配置構造としたので、ノズル孔からのインク液滴の飛翔曲がりを防止して、安定した吐出が可能となる。
これにより、全ての圧力室をノズル列に対して同一側に並設するようにした構造に比べて、隔壁の厚みを確保することができ、クロストークを防止することが可能となる。また、圧力室の幅を広くすることが可能となり、アクチュエータの吐出能力を落とすことなく、安定吐出が可能となる。また、圧力室の幅の中心線上にノズル孔の中心が位置する配置構造としたので、ノズル孔からのインク液滴の飛翔曲がりを防止して、安定した吐出が可能となる。
また、本発明に係る液滴吐出ヘッドは、圧力室のノズル孔側の平面形状が舳先状であるものである。
また、本発明に係る液滴吐出ヘッドは、圧力室のノズル孔側の断面形状が擂鉢状又はテーパーであるものである。
このような形状に圧力室のノズル孔側の形状を設定することにより、液滴の流れがスムーズとなり、流体ロスを軽減し、高速・安定吐出が可能となる。
また、本発明に係る液滴吐出ヘッドは、圧力室のノズル孔側の断面形状が擂鉢状又はテーパーであるものである。
このような形状に圧力室のノズル孔側の形状を設定することにより、液滴の流れがスムーズとなり、流体ロスを軽減し、高速・安定吐出が可能となる。
また、本発明に係る液滴吐出ヘッドの製造方法は、上記の何れかの液滴吐出ヘッドの製造方法であって、圧力室を、誘導結合プラズマエッチングにより形成するものである。
これにより、短時間で高精度に形成することができる。
これにより、短時間で高精度に形成することができる。
また、本発明に係る液滴吐出ヘッドの製造方法は、圧力室のノズル孔側部分以外の部分を隔壁保護膜形成工程とエッチング工程とを繰り返すエッチング方法にて形成するものである。
これにより、垂直エッチングが可能となり、矩形な流路を形成することができる。
これにより、垂直エッチングが可能となり、矩形な流路を形成することができる。
また、本発明に係る液滴吐出ヘッドの製造方法は、圧力室のノズル孔側部分を隔壁保護膜形成工程を除きエッチング工程のみでエッチングする方法にて形成するものである。
これにより、ノズル孔側を擂鉢状に形成し、液滴の流れがスムーズとなり、流体ロスを軽減し、高速・安定吐出が可能となる。
これにより、ノズル孔側を擂鉢状に形成し、液滴の流れがスムーズとなり、流体ロスを軽減し、高速・安定吐出が可能となる。
以下、本発明のノズルプレートを備えた液滴吐出ヘッドの実施の形態を図面に基づいて説明する。ここでは、液滴吐出ヘッドの一例として、静電駆動方式のインクジェットヘッドについて図1及び図2を参照して説明する。なお、アクチュエータ(圧力発生手段)は静電駆動方式で示してあるが、その他の駆動方式であってもよい。
図1は、本発明の一実施の形態に係るインクジェットヘッドの概略構成を分解して示す分解斜視図であり、一部を断面で表してある。図2は、図1の右半分の概略構成を示すインクジェットヘッドの断面図である。なお、図1および図2では、通常使用される状態とは上下逆に示されている。
本実施の形態のインクジェットヘッド(液滴吐出ヘッドの一例)10は、図1および図2に示すように、複数のノズル孔11が所定のピッチで設けられたノズルプレート1と、各ノズル孔11に対して独立にインク供給路が設けられたキャビティプレート2と、キャビティプレート2の振動板24に対峙して個別電極31が配設された電極基板3とを貼り合わせることにより構成されている。
ノズルプレート1は、例えば厚さ約180μmのシリコン基板で構成され、キャビティプレート2と接合されている。また、ノズルプレート1には、インク滴を吐出する複数のノズル孔11が所定のピッチで設けられており、1列のノズル列を形成している。各ノズル孔11は、吐出方向の先端側の円筒状の第1のノズル孔11aと、第1のノズル孔11aよりも径の大きい円筒状の第2のノズル孔11bとから構成され、第1のノズル孔11aと第2のノズル孔11bとは同軸上に設けられている。かかる構成により、インク滴の吐出方向をノズル孔11の中心軸方向に揃えることができ、安定したインク吐出特性を発揮させることができるようになっている。すなわち、インク滴の飛翔方向のばらつきがなくなり、またインク滴の飛び散りがなく、インク滴の吐出量のばらつきを抑制することが可能となっている。
また、ノズルプレート1において下面(キャビティプレート2との接合側の面)にはインク流路の一部を形成するオリフィス(細溝)12が設けられている。また、キャビティプレート2の後述のリザーバ22に対応する位置には、凹部により薄肉化されたダイヤフラム部13が設けられている。ダイヤフラム部13はリザーバ22内の圧力変動を抑制するために設けられている。
キャビティプレート2は、例えば厚さ約50μmのシリコン単結晶基板(この基板も以下、単にシリコン基板とも称する)から作製されている。キャビティプレート2には、各ノズル孔11のそれぞれに独立して連通して設けられ、インクに圧力を加えるための圧力室21と、各圧力室21に連通する共通のリザーバ22とが形成されている。
キャビティプレート2の下面(電極基板3との接合側の面)には、例えばシリコンなどの金属で構成された薄膜23が成膜されており、圧力室21及びリザーバ22は、キャビティプレート2に形成された貫通孔と、その貫通孔を覆う薄膜23とによりインクを収容する凹部状に構成されている。そして、圧力室21の底面を構成する薄膜部分が振動板24となっている。また、リザーバ22の底部にはインク供給孔25が設けられている。
圧力室21は、ノズル孔側の部分の平面形状が舳先状に形成され、また、断面形状が擂鉢状又はテーパーに形成されている。図2には、断面形状が擂鉢状に形成された例を示している。なお、圧力室21のノズル孔側部分以外の部分は、直方体状に形成されている。そして、圧力室21とノズル孔11とは、次の図3に示すような位置関係に設定されている。
図3は、圧力室とノズル孔との位置関係を示す概念平面図である。
各圧力室21は、ノズル列におけるノズル孔11の一個おきにノズル列に対して左右に分かれて配置されており、ノズル孔11の中心が圧力室21の幅の中心線L1上に位置するように位置関係が設定されている。このように構成することで、全ての圧力室21をノズル列に対して同一側に並設した構造のものに比べて、隣接する圧力室21間の隔壁の厚みを確保することができ、クロストークを防止することが可能となる。
各圧力室21は、ノズル列におけるノズル孔11の一個おきにノズル列に対して左右に分かれて配置されており、ノズル孔11の中心が圧力室21の幅の中心線L1上に位置するように位置関係が設定されている。このように構成することで、全ての圧力室21をノズル列に対して同一側に並設した構造のものに比べて、隣接する圧力室21間の隔壁の厚みを確保することができ、クロストークを防止することが可能となる。
また、圧力室21のノズル孔側の平面形状を舳先状とし、断面形状を擂鉢状又はテーパーとしたことによって、圧力室21からノズル孔11へ向かうインクの流れがスムーズとなり、流体ロスを軽減し、高速・安定吐出が可能となる。
電極基板3は、例えば厚さ約1mmのガラス基板から作製される。中でも、キャビティプレート2のシリコン基板と熱膨張係数の近い硼珪酸系の耐熱硬質ガラスを用いるのが適している。これは、電極基板3とキャビティプレート2を陽極接合する際、両基板の熱膨張係数が近いため、電極基板3とキャビティプレート2との間に生じる応力を低減することができ、その結果剥離等の問題を生じることなく電極基板3とキャビティプレート2を強固に接合することができるからである。
電極基板3には、キャビティプレート2の各振動板24に対向する面の位置にそれぞれ凹部32が設けられている。凹部32は、エッチングにより深さ約0.3μmで形成されている。そして、各凹部32内には、一般に、ITO(Indium Tin Oxide:インジウム錫酸化物)からなる個別電極31が、例えば0.1μmの厚さでスパッタにより形成される。なお、個別電極31の材料はITOに限定するものではなく、クロム等の金属等を用いてもよいが、ITOは透明であるので放電したかどうかの確認が行いやすい等の理由から、一般にITOが用いられる。
個別電極31は、リード部31aと、フレキシブル配線基板(図示せず)に接続される端子部31bとを有する。これらの端子部31bは、図2に示すように、配線のためにキャビティプレート2の末端部が開口された電極取り出し部26内に露出している。
また、電極基板3には、外部のインクカートリッジ(図示せず)に接続されるインク供給孔33が設けられている。インク供給孔33は、キャビティプレート2に設けられたインク供給孔25に連通しており、インクカートリッジから供給されたインクはインク供給孔33及びインク供給孔25を介してリザーバ22に供給されるようになっている。
上述したように、ノズルプレート1、キャビティプレート2、および電極基板3は、一般に個別に作製され、これらを図2に示すように貼り合わせることによりインクジェットヘッド10の本体部が作製される。すなわち、キャビティプレート2と電極基板3は陽極接合により接合され、そのキャビティプレート2の上面(図2において上面)にノズルプレート1が接着等により接合される。さらに、振動板24と個別電極31との間に形成される電極間ギャップの開放端部はエポキシ等の樹脂による封止材27で封止される。これにより、湿気や塵埃等が電極間ギャップへ侵入するのを防止することができ、インクジェットヘッド10の信頼性を高く保持することができる。
そして最後に、図2に簡略化して示すように、ICドライバ等の駆動制御回路30が各個別電極31の端子部31bとキャビティプレート2上に設けられた共通電極28とに前記フレキシブル配線基板(図示せず)を介して接続される。
以上により、インクジェットヘッド10が完成する。
以上により、インクジェットヘッド10が完成する。
上記のように構成されたインクジェットヘッド10の動作を説明する。
駆動制御回路30は、個別電極31に電荷の供給及び停止を制御する発振回路である。この発振回路は例えば24kHzで発振し、個別電極31に例えば0Vと30Vのパルス電位を印加して電荷供給を行う。発振回路が駆動し、個別電極31に電荷を供給して正に帯電させると、振動板24は負に帯電し、個別電極31と振動板24間に静電気力(クーロン力)が発生する。したがって、この静電気力により振動板24は個別電極31に引き寄せられて撓む(変位する)。これによって圧力室21の容積が増大する。そして、個別電極31への電荷の供給を止めると振動板24はその弾性力により元に戻り、その際、圧力室21の容積が急激に減少するため、そのときの圧力により圧力室21内のインクの一部がインク滴としてノズル孔11より吐出する。振動板24が次に同様に変位すると、インクがリザーバ22からオリフィス12を通じて圧力室21内に補給される。
駆動制御回路30は、個別電極31に電荷の供給及び停止を制御する発振回路である。この発振回路は例えば24kHzで発振し、個別電極31に例えば0Vと30Vのパルス電位を印加して電荷供給を行う。発振回路が駆動し、個別電極31に電荷を供給して正に帯電させると、振動板24は負に帯電し、個別電極31と振動板24間に静電気力(クーロン力)が発生する。したがって、この静電気力により振動板24は個別電極31に引き寄せられて撓む(変位する)。これによって圧力室21の容積が増大する。そして、個別電極31への電荷の供給を止めると振動板24はその弾性力により元に戻り、その際、圧力室21の容積が急激に減少するため、そのときの圧力により圧力室21内のインクの一部がインク滴としてノズル孔11より吐出する。振動板24が次に同様に変位すると、インクがリザーバ22からオリフィス12を通じて圧力室21内に補給される。
ここで、本例のインクジェットヘッド10では、圧力室21のノズル孔11側の平面形状を舳先状とし、断面形状を擂鉢状(又はテーパー)としたので、インクの流れがスムーズとなり、流体ロスを軽減し、高速・安定吐出が行なわれる。
次に、本実施の形態のインクジェットヘッド10の製造方法について説明する。なお、ここでは、キャビティ基板の製造工程を説明し、ノズル基板及び電極基板については従来公知の方法を用いることができ、ここではその説明を省略する。
図4は、キャビティ基板の製造方法を示す製造工程の断面図である。なお、図4では、圧力室21の形成部分のみを示している。
(a)まず、Si基板200の片面に、SiO2 膜201を成膜した後、シリコンなどの金属膜202を成膜する。
(b)Si基板200の他方の面全体に、SiO2 膜203を成膜する。そして、その上にレジスト204を塗布し、圧力室21を形成するためのパターニングを施し、フッ酸水溶液でエッチングしてSiO2 膜203をパターニングする。
(c)レジスト204を除去し、SiO2 膜203をマスクとして隔壁保護膜形成工程とエッチング工程とを繰り返すエッチング方法による誘導結合プラズマエッチングを行う。具体的には、SF6ガスを用いたプラズマエッチング工程と、C4F8ガスを用いた保護膜形成工程とを交互に繰り返すことで、Si基板の高速異方性エッチングを可能としたプロセスである。このプロセスにより、垂直エッチングが可能となり、矩形な流路を形成することができる。そして、このエッチングプロセスをSiO2 膜201が露出するまで行う。
(d)SiO2 膜203をフッ酸により除去する。
(a)まず、Si基板200の片面に、SiO2 膜201を成膜した後、シリコンなどの金属膜202を成膜する。
(b)Si基板200の他方の面全体に、SiO2 膜203を成膜する。そして、その上にレジスト204を塗布し、圧力室21を形成するためのパターニングを施し、フッ酸水溶液でエッチングしてSiO2 膜203をパターニングする。
(c)レジスト204を除去し、SiO2 膜203をマスクとして隔壁保護膜形成工程とエッチング工程とを繰り返すエッチング方法による誘導結合プラズマエッチングを行う。具体的には、SF6ガスを用いたプラズマエッチング工程と、C4F8ガスを用いた保護膜形成工程とを交互に繰り返すことで、Si基板の高速異方性エッチングを可能としたプロセスである。このプロセスにより、垂直エッチングが可能となり、矩形な流路を形成することができる。そして、このエッチングプロセスをSiO2 膜201が露出するまで行う。
(d)SiO2 膜203をフッ酸により除去する。
(e)再度SiO2 膜205をCVD(Chemical Vapor Deposition)又は熱酸化により成膜する。
(f)スプレーレジストによりレジスト206を塗布し、圧力室21のノズル孔側の部分を形成するためのパターニングを施し、フッ酸水溶液でエッチングしてSiO2 膜205をパターニングする。
(g)レジスト206を除去し、Si基板200を隔壁保護膜形成工程を除きエッチング工程のみでエッチングを行う。これにより、圧力室21のノズル孔側部分の平面形状が舳先状を成し、且つ、断面形状が擂鉢状に形成される。
(h)SiO2 膜206をフッ酸により除去する。これにより、圧力室21と振動板24とが形成される。
(i)SiO2 からなるインク保護膜36と絶縁膜35をCVD又は熱酸化又はスパッタリングにより形成する。
以上によりキャビティプレート2が作製される。
(f)スプレーレジストによりレジスト206を塗布し、圧力室21のノズル孔側の部分を形成するためのパターニングを施し、フッ酸水溶液でエッチングしてSiO2 膜205をパターニングする。
(g)レジスト206を除去し、Si基板200を隔壁保護膜形成工程を除きエッチング工程のみでエッチングを行う。これにより、圧力室21のノズル孔側部分の平面形状が舳先状を成し、且つ、断面形状が擂鉢状に形成される。
(h)SiO2 膜206をフッ酸により除去する。これにより、圧力室21と振動板24とが形成される。
(i)SiO2 からなるインク保護膜36と絶縁膜35をCVD又は熱酸化又はスパッタリングにより形成する。
以上によりキャビティプレート2が作製される。
このように、本実施の形態では、圧力室21を、ノズル列におけるノズル孔11の一個おきにノズル列に対して左右に分けて配置するとともに、圧力室21の幅の中心線L1上にノズル孔11の中心が位置する配置構造としたので、特許文献2のように圧力室21の幅の中心線に対してノズル孔の中心が偏心した構造に比べて、ノズル孔11からのインク液滴の飛翔曲がりを防止して、安定した吐出が可能となる。
また、圧力室21のノズル孔11側の平面形状を舳先状とし、断面形状を擂鉢状としたので、インクの流れがスムーズとなり、流体ロスを軽減し、高速・安定吐出が可能となる。
また、本例の構造は、圧力室21を、ノズル列におけるノズル孔11の一個おきにノズル列に対して左右に分けて配置した構造であるため、全ての圧力室21をノズル列に対して同一側に並設するようにした構造に比べて、隔壁の厚みを確保することができ、クロストークを防止することが可能となる。また、圧力室21の幅を広くすることが可能となり、アクチュエータの吐出能力を落とすことなく、安定吐出が可能となる。また、圧力室21の幅の自由度が増すため、設計の幅が広がる効果がある。
また、本例の構造は、ノズル列に対して右側に配置された圧力室21に対応するノズル孔11のピッチが、左側に配置された圧力室21に対応するノズル孔11のピッチと半ピッチずれた構造となっている。この種の構造として、従来、特許文献1のように、右側に配置された圧力室に対応するノズル孔の列と、左側に配置された圧力室に対応するノズル孔の列とを離間させ、2列ノズル構成としたものがある。この構成の場合、ノズル列が離間しているため、各ノズルの制御タイミングを変える必要があり、ノズル列毎に駆動回路が必要となっていた。しかしながら、本例の構造では、ノズル列が1列であるため、各ノズルの制御タイミングを同一時間にすることができる。したがって、駆動制御回路の吐出タイミングを同じとすることができ、遅延回路が不要で、駆動制御回路が簡単にできて、小型で安価な制御部を形成することができる。
また、圧力室21を形成する際には、誘導結合プラズマエッチングを用いるようにしたので、短時間で高精度に形成することができる。
なお、本実施の形態のインクジェットヘッドは、吐出する液滴を種々変更することで、液晶ディスプレイのカラーフィルタの製造、有機EL表示装置の発光部分の形成、生体液体の吐出等にも適用することができる。
1 ノズルプレート、2 キャビティプレート、3 電極基板、10 インクジェットヘッド、21 圧力室、24 振動板、25 インク供給孔(液滴供給路)、33 インク供給孔(液滴供給路)。
Claims (6)
- 液滴を吐出するための複数のノズル孔と、該各ノズル孔に連通して設けられ液滴に圧力を加えるための圧力室と、該圧力室に液滴を供給する液滴供給路と、液滴を吐出するための吐出圧力を前記圧力室に発生させる圧力発生手段とを有する液滴吐出ヘッドにおいて、
前記複数のノズル孔を1列のノズル列構成とし、前記圧力室を、前記ノズル列における前記ノズル孔の一個おきに前記ノズル列に対して左右に分けて配置し、且つ、前記圧力室の幅の中心線上に、その圧力室に対応するノズル孔の中心が位置するように配置したことを特徴とする液滴吐出ヘッド。 - 前記圧力室の前記ノズル孔側の平面形状が舳先状であることを特徴とする請求項1記載の液滴吐出ヘッド。
- 前記圧力室の前記ノズル孔側の断面形状が擂鉢状又はテーパーであることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の液滴吐出ヘッド。
- 請求項1乃至請求項3の何れかに記載の液滴吐出ヘッドの製造方法であって、
前記圧力室を、誘導結合プラズマエッチングにより形成することを特徴とする液滴吐出ヘッドの製造方法。 - 前記圧力室の前記ノズル孔側部分以外の部分を隔壁保護膜形成工程とエッチング工程とを繰り返すエッチング方法にて形成することを特徴とする請求項4記載の液滴吐出ヘッドの製造方法。
- 前記圧力室の前記ノズル孔側部分を隔壁保護膜形成工程を除きエッチング工程のみでエッチングする方法にて形成することを特徴とする請求項4記載の液滴吐出ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007093383A JP2008246956A (ja) | 2007-03-30 | 2007-03-30 | 液滴吐出ヘッド及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007093383A JP2008246956A (ja) | 2007-03-30 | 2007-03-30 | 液滴吐出ヘッド及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008246956A true JP2008246956A (ja) | 2008-10-16 |
Family
ID=39972459
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007093383A Withdrawn JP2008246956A (ja) | 2007-03-30 | 2007-03-30 | 液滴吐出ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008246956A (ja) |
-
2007
- 2007-03-30 JP JP2007093383A patent/JP2008246956A/ja not_active Withdrawn
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2007152621A (ja) | 液滴吐出ヘッド及びその製造方法 | |
JP4894603B2 (ja) | 流路基板の製造方法、液滴吐出ヘッドの製造方法及び液滴吐出装置の製造方法 | |
JP4367499B2 (ja) | 液滴吐出ヘッド及びその製造方法並びに液滴吐出装置 | |
JP2007175992A (ja) | ノズルプレートの製造方法及びノズルプレート、液滴吐出ヘッドの製造方法及び液滴吐出ヘッド、並びに液滴吐出装置の製造方法及び液滴吐出装置 | |
JP4735281B2 (ja) | 液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置、液滴吐出ヘッドの製造方法及び液滴吐出装置の製造方法 | |
JP2007331167A (ja) | 液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置、液滴吐出ヘッドの製造方法及び液滴吐出装置の製造方法 | |
JP2019111738A (ja) | 圧電デバイス、液体吐出ヘッド、及び液体吐出装置 | |
JP2008207493A (ja) | 液滴吐出ヘッド、液滴吐出ヘッドの製造方法及び液滴吐出装置 | |
JP2007137015A (ja) | 液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置、液滴吐出ヘッドの製造方法、及び液滴吐出装置の製造方法 | |
KR100709135B1 (ko) | 액적 토출 헤드와 그 제조 방법 및 액적 토출 장치 | |
JP2008132733A (ja) | 液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置及び液滴吐出ヘッドの製造方法 | |
JP2008246956A (ja) | 液滴吐出ヘッド及びその製造方法 | |
JP2009073072A (ja) | 液滴吐出ヘッドの製造方法及び液滴吐出装置の製造方法 | |
JP2007276307A (ja) | 液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置、液滴吐出ヘッドの製造方法及び液滴吐出装置の製造方法 | |
JP2009006536A (ja) | 液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置及び液滴吐出ヘッドの製造方法 | |
JP2010172819A (ja) | ノズル基板、液滴吐出ヘッド、及び液滴吐出装置 | |
JP2008265013A (ja) | 液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置、液滴吐出ヘッドの製造方法及び液滴吐出装置の製造方法 | |
JP2005153248A (ja) | 液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置 | |
JP2010191034A (ja) | ノズル基板、ノズル基板の製造方法、液滴吐出ヘッド、液滴吐出ヘッドの製造方法、及び液滴吐出装置 | |
JP2009006617A (ja) | 静電アクチュエータ、液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置、静電アクチュエータの製造方法、液滴吐出ヘッドの製造方法及び液滴吐出装置の製造方法 | |
JP2009297953A (ja) | 静電アクチュエータの製造方法、静電アクチュエータ、液滴吐出ヘッドの製造方法、液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置の製造方法及び液滴吐出装置 | |
JP2007210241A (ja) | 静電アクチュエータ、液滴吐出ヘッド及びそれらの製造方法 | |
JP2013193399A (ja) | 液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置、およびプリンター | |
JP2010036466A (ja) | 液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置並びに液滴吐出ヘッドの製造方法 | |
JP2006281479A (ja) | 液体噴射ヘッドの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20100601 |