JP2008246639A - 研磨パッドの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】透明樹脂部材を一次加熱処理した後に、切断して光透過領域10を作製する工程、前記光透過領域10を二次加熱処理する工程、気泡分散ウレタン組成物11を調製する工程、面材8を送り出しつつ又はベルトコンベア9を移動させつつ、該面材8上又はベルトコンベア9上の所定位置に光透過領域10を温度調整して配置する工程、光透過領域10を配置していない前記面材8上又はベルトコンベア9上に気泡分散ウレタン組成物11を連続的に吐出する工程、吐出したウレタン組成物11上に別の面材又はベルトコンベアを積層する工程、厚さを均一に調整しつつウレタン組成物11を硬化させることによりポリウレタン発泡体からなる研磨領域を形成して研磨シートを作製する工程、及びシートを裁断する工程を含む研磨パッドの製造方法。
【選択図】図2
Description
1)イソシアネート末端プレポリマーの気泡分散液を作製する発泡工程
イソシアネート末端プレポリマー(第1成分)にシリコン系界面活性剤を添加し、非反応性気体の存在下で撹拌し、非反応性気体を微細気泡として分散させて気泡分散液とする。前記プレポリマーが常温で固体の場合には適宜の温度に予熱し、溶融して使用する。
2)硬化剤(鎖延長剤)混合工程
上記の気泡分散液に鎖延長剤(第2成分)を添加、混合、撹拌して気泡分散ウレタン組成物を調製する。
JIS B0601−1994に準拠して、透明樹脂部材を切断して得られる光透過領域の切断面の算術平均粗さ(一次加熱処理後のRa)、二次加熱処理した光透過領域の切断面の算術平均粗さを測定した。
作製した長尺研磨パッドの研磨領域と光透過領域との界面におけるボイド数を目視にて数えた。直径0.5mm以上の孔をボイドとした。
研磨装置としてSPP600S(岡本工作機械社製)を用い、作製した長尺研磨パッドを用いて、水漏れ評価を行った。8インチのダミーウエハを60分間連続研磨し、その後、長尺研磨パッド裏面側の光透過領域のはめこみ部分を目視にて観察し、下記基準で水漏れ評価をした。研磨時間が合計600分になるまで上記操作を繰り返し行い、同様の方法で水漏れ評価をした。評価結果を表1に示す。研磨条件としては、アルカリ性スラリーとしてシリカスラリー(SS12、キャボット マイクロエレクトロニクス社製)を研磨中に流量150ml/minにて添加し、研磨荷重350g/cm2、研磨定盤回転数35rpm、及びウエハ回転数30rpmとした。また、ウエハの研磨は、♯100ドレッサーを用いて長尺研磨パッド表面のドレッシングを行いながら実施した。ドレッシング条件は、ドレス荷重80g/cm2、ドレッサー回転数35rpmとした。
○:はめこみ部分でのスラリー漏れは全く認められない。
×:はめこみ部分でのスラリー漏れが認められる。
ガラス転移温度(Tg)は粘弾性測定法により下記条件にて測定した。
サンプルサイズ:24×3×2t
前処理:温度23℃、湿度50%、168時間
測定装置:METTLER TOLEDO STARE SYSTEM DMA/SDTA861E
測定モード:引張り
測定温度範囲:−60〜70℃
昇温速度:2.5℃/min
測定周波数:10Hz
制御:3N荷重制御(3Nの荷重になるまでサンプルを引張る)
(気泡分散ウレタン組成物の調製)
トルエンジイソシアネート(2,4−体/2,6−体=80/20の混合物)32重量部、4,4’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート8重量部、ポリテトラメチレングリコール(数平均分子量:1006)54重量部、及びジエチレングリコール6重量部を混合し、80℃で120分間加熱撹拌してイソシアネート末端プレポリマー(イソシアネート当量:2.1meq/g)を作製した。該イソシアネート末端プレポリマー100重量部、シリコン系界面活性剤(東レ・ダウシリコーン社製、SH−192)3重量部を混合して80℃に温度調節した混合物Aを調製した。該混合物A80重量部、及び120℃で溶融した4,4’−メチレンビス(o−クロロアニリン)(イハラケミカル社製、イハラキュアミンMT)20重量部を混合チャンバー内で混合し、同時に空気を混合物中に機械的に撹拌することにより分散させて気泡分散ウレタン組成物を調製した。
容器に1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート770重量部、及び1,3−ブタンジオール230重量部を入れ、80℃で120分間加熱撹拌してイソシアネート末端プレポリマーを作製した。また、数平均分子量650のポリテトラメチレングリコール29重量部、トリメチロールプロパン13重量部、及び触媒(花王製、Kao No.25)0.43重量部を80℃にて混合撹拌して混合液を得た。その後、80℃に温度調節した混合液に前記イソシアネート末端プレポリマー100重量部を加え、ハイブリッドミキサー(キーエンス社製)で十分に撹拌し、その後脱泡した。この反応液を離型処理したモールド上に滴下し、その上に離型処理したPETフィルムを被せ、ニップロールにて厚みを調整した。その後、該モールドを100℃のオーブンに入れ、16時間ポストキュアを行ってポリウレタン樹脂シート(幅150mm、厚さ1.4mm、長さ8m)を作製した。該ポリウレタン樹脂シートのガラス転移温度は30℃であった。
作製したポリウレタン樹脂シートを40℃で40分間一次加熱処理し、その後、40℃に維持した状態で切削刃を用いて該ポリウレタン樹脂シートを幅10mmで切断して長尺光透過領域を作製した。該長尺光透過領域の切断面の算術平均粗さは5.3μmであった。その後、作製した長尺光透過領域を50℃で40分間二次加熱処理した。二次加熱処理後の長尺光透過領域の切断面の算術平均粗さは4.5μmであった。
作製したポリウレタン樹脂シートを70℃で15分間一次加熱処理し、その後、70℃に維持した状態で切削刃を用いて該ポリウレタン樹脂シートを幅10mmで切断して長尺光透過領域を作製した。該長尺光透過領域の切断面の算術平均粗さは8.9μmであった。その後、作製した長尺光透過領域を100℃で15分間二次加熱処理した。二次加熱処理後の長尺光透過領域の切断面の算術平均粗さは6.1μmであった。
作製したポリウレタン樹脂シートを40℃で40分間一次加熱処理し、その後、40℃に維持した状態で切削刃を用いて該ポリウレタン樹脂シートを幅10mmで切断して長尺光透過領域を作製した。該長尺光透過領域の切断面の算術平均粗さは4.9μmであった。その後、作製した長尺光透過領域を100℃で15分間二次加熱処理した。二次加熱処理後の長尺光透過領域の切断面の算術平均粗さは4.4μmであった。
作製したポリウレタン樹脂シートを70℃で15分間一次加熱処理し、その後、70℃に維持した状態で切削刃を用いて該ポリウレタン樹脂シートを幅10mmで切断して長尺光透過領域を作製した。該長尺光透過領域の切断面の算術平均粗さは8.8μmであった。その後、作製した長尺光透過領域を50℃で40分間二次加熱処理した。二次加熱処理後の長尺光透過領域の切断面の算術平均粗さは6.4μmであった。
作製したポリウレタン樹脂シートを100℃で15分間一次加熱処理し、その後、100℃に維持した状態で切削刃を用いて該ポリウレタン樹脂シートを幅10mmで切断して長尺光透過領域を作製した。該長尺光透過領域の切断面の算術平均粗さは15.7μmであった。その後、作製した長尺光透過領域を50℃で40分間二次加熱処理した。二次加熱処理後の長尺光透過領域の切断面の算術平均粗さは13.2μmであった。
作製したポリウレタン樹脂シートを10℃で15分間一次処理し、その後、10℃に維持した状態で切削刃を用いて該ポリウレタン樹脂シートを幅10mmで切断して長尺光透過領域を作製した。該長尺光透過領域の切断面の算術平均粗さは22.3μmであった。その後、作製した長尺光透過領域を100℃で15分間二次加熱処理した。二次加熱処理後の長尺光透過領域の切断面の算術平均粗さは20.1μmであった。
作製したポリウレタン樹脂シートを70℃で15分間一次加熱処理し、その後、70℃に維持した状態で切削刃を用いて該ポリウレタン樹脂シートを幅10mmで切断して長尺光透過領域を作製した。該長尺光透過領域の切断面の算術平均粗さは9.2μmであった。その後、作製した長尺光透過領域を20℃で40分間二次処理した。二次処理後の長尺光透過領域の切断面の算術平均粗さは9.1μmであった。
2:研磨定盤
3:研磨剤(スラリー)
4:被研磨材(半導体ウエハ)
5:支持台(ポリシングヘッド)
6、7:回転軸
8、13:面材
9:ベルトコンベア
10:光透過領域
11:気泡分散ウレタン組成物
12:ミキシングヘッド
14:ロール
15:モールド
16:長尺研磨パッド
17a:供給ロール
17b:回収ロール
18:ロール
Claims (3)
- 透明樹脂部材をガラス転移温度−10℃〜ガラス転移温度+50℃で10〜60分間一次加熱処理した後に、前記処理温度の範囲内で該透明樹脂部材を切断して光透過領域を作製する工程、前記光透過領域をガラス転移温度+10℃〜150℃で10〜60分間二次加熱処理する工程、機械発泡法により気泡分散ウレタン組成物を調製する工程、面材を送り出しつつ又はベルトコンベアを移動させつつ、該面材上又はベルトコンベア上の所定位置に前記二次加熱処理した光透過領域を前記処理温度の範囲内に温度調整して配置する工程、光透過領域を配置していない前記面材上又はベルトコンベア上に前記気泡分散ウレタン組成物を連続的に吐出する工程、吐出した前記気泡分散ウレタン組成物上に別の面材又はベルトコンベアを積層する工程、厚さを均一に調整しつつ前記気泡分散ウレタン組成物を硬化させることによりポリウレタン発泡体からなる研磨領域を形成して研磨シートを作製する工程、及び前記研磨シートを裁断する工程を含む研磨パッドの製造方法。
- 透明樹脂部材をガラス転移温度−10℃〜ガラス転移温度+50℃で10〜60分間一次加熱処理した後に、前記処理温度の範囲内で該透明樹脂部材を切断して光透過領域を作製する工程、前記光透過領域をガラス転移温度+10℃〜150℃で10〜60分間二次加熱処理する工程、機械発泡法により気泡分散ウレタン組成物を調製する工程、モールド内の所定位置に前記二次加熱処理した光透過領域を前記処理温度の範囲内に温度調整して配置する工程、光透過領域を配置していないモールド内に前記気泡分散ウレタン組成物を注入する工程、及び前記気泡分散ウレタン組成物を硬化させることによりポリウレタン発泡体からなる研磨領域を形成して研磨シートを作製する工程を含む研磨パッドの製造方法。
- 透明樹脂部材を切断して得られる光透過領域の切断面の算術平均粗さ(Ra)が10μm以下である請求項1又は2記載の研磨パッドの製造方法。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010062661A2 (en) * | 2008-11-03 | 2010-06-03 | Applied Materials, Inc. | Monolithic linear polishing sheet |
WO2010124217A2 (en) * | 2009-04-23 | 2010-10-28 | Applied Materials, Inc. | Treatment of polishing pad window |
CN102804344A (zh) * | 2009-06-15 | 2012-11-28 | Lg化学株式会社 | 晶片加工用基材 |
JP2015059199A (ja) * | 2013-09-20 | 2015-03-30 | Dic株式会社 | ウレタン組成物及び研磨材 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02116538A (ja) * | 1988-10-26 | 1990-05-01 | Takiron Co Ltd | 積層シートの製造方法 |
JP2003019658A (ja) * | 2001-07-03 | 2003-01-21 | Rodel Nitta Co | 研磨パッド |
US20040094855A1 (en) * | 2002-11-19 | 2004-05-20 | Wen-Chang Shih | Method of fabricating polishing pad having detection window thereon |
JP2004260156A (ja) * | 2003-02-06 | 2004-09-16 | Toyobo Co Ltd | 研磨パッド及び半導体デバイスの製造方法 |
JP2005354077A (ja) * | 2004-06-10 | 2005-12-22 | Rohm & Haas Electronic Materials Cmp Holdings Inc | 応力が軽減した窓を有する研磨パッド |
JP2007061929A (ja) * | 2005-08-30 | 2007-03-15 | Toyo Tire & Rubber Co Ltd | 積層研磨パッドの製造方法 |
-
2007
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02116538A (ja) * | 1988-10-26 | 1990-05-01 | Takiron Co Ltd | 積層シートの製造方法 |
JP2003019658A (ja) * | 2001-07-03 | 2003-01-21 | Rodel Nitta Co | 研磨パッド |
US20040094855A1 (en) * | 2002-11-19 | 2004-05-20 | Wen-Chang Shih | Method of fabricating polishing pad having detection window thereon |
JP2004260156A (ja) * | 2003-02-06 | 2004-09-16 | Toyobo Co Ltd | 研磨パッド及び半導体デバイスの製造方法 |
JP2005354077A (ja) * | 2004-06-10 | 2005-12-22 | Rohm & Haas Electronic Materials Cmp Holdings Inc | 応力が軽減した窓を有する研磨パッド |
JP2007061929A (ja) * | 2005-08-30 | 2007-03-15 | Toyo Tire & Rubber Co Ltd | 積層研磨パッドの製造方法 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010062661A2 (en) * | 2008-11-03 | 2010-06-03 | Applied Materials, Inc. | Monolithic linear polishing sheet |
WO2010062661A3 (en) * | 2008-11-03 | 2010-07-29 | Applied Materials, Inc. | Monolithic linear polishing sheet |
JP2012507409A (ja) * | 2008-11-03 | 2012-03-29 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | モノリシック直線研磨シート |
WO2010124217A2 (en) * | 2009-04-23 | 2010-10-28 | Applied Materials, Inc. | Treatment of polishing pad window |
WO2010124217A3 (en) * | 2009-04-23 | 2011-02-24 | Applied Materials, Inc. | Treatment of polishing pad window |
KR20120026506A (ko) * | 2009-04-23 | 2012-03-19 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 연마 패드 윈도우의 처리 방법 |
US8585790B2 (en) | 2009-04-23 | 2013-11-19 | Applied Materials, Inc. | Treatment of polishing pad window |
KR101587821B1 (ko) | 2009-04-23 | 2016-01-22 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 연마 패드 윈도우의 처리 방법 |
CN102804344A (zh) * | 2009-06-15 | 2012-11-28 | Lg化学株式会社 | 晶片加工用基材 |
JP2015059199A (ja) * | 2013-09-20 | 2015-03-30 | Dic株式会社 | ウレタン組成物及び研磨材 |
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