JP2008243338A - チルト制御方法と光ディスク装置 - Google Patents

Abstract

【課題】記録中または再生中の光ディスクの反りに追従させたチルト制御ができるチルト制御方法を提供することを目的とする。
【解決手段】記録開始前に第１，第２層（Ｌ０，Ｌ１）のチルト量（ｔＬ０，ｔＬ１）を測定（Ｓ１）し、第１層（Ｌ０）の記録を開始（Ｓ２）し、第１層（Ｌ０）の記録中にチルト量（ｔＬ０２）を測定（Ｓ３）し、記録開始前に行った第１層（Ｌ０）のチルト量測定結果（ｔＬ０）から第１層（Ｌ０）を記録中に行ったチルト量測定結果（ｔＬ０２）を減算して第１層（Ｌ０）を記録中に光ディスクが反った量（Δｔ１）を求め（Ｓ４）、記録開始前に行った第２層（Ｌ１）のチルト量測定結果（ｔＬ１）に第１層（Ｌ０）を記録中に光ディスクが反った量（Δｔ１）を加算してチルト調整値（ｔＬ１２）を計算（Ｓ５）し、チルト調整値（ｔＬ１２）を第２層（Ｌ１）のチルト量として第２層（Ｌ１）の記録動作を実行（Ｓ６）する。
【選択図】図１

Description

本発明は、光ビームを利用して光ディスクにデータを記録し、または、記録媒体に記録されたデータを再生する光ディスク装置に関する。記録媒体のデータ面に対する光ビームの入射角度を制御する機構を備えた光ディスク装置に関する。

一般的に、ディスク担体内に形成された記録又は再生層に対して情報の記録又は再生を行う光ディスク装置では、光ディスクの反りやクランピング誤差などがあると、レーザ光の光軸に対する光ディスクの傾き（チルト量）により、集光した光スポットにコマ収差が発生して、情報の記録又は再生動作においてその性能が劣化する。

そのため、記録又は再生性能の劣化を低減するためには、前記チルト量を検出して補正するチルト制御を行う必要がある。
近年では、記録容量の大容量化に伴って、ＤＶＤ−Ｒ ＤＬ、ＤＶＤ＋Ｒ ＤＬ（Dual Layer）のような、その光ディスク構造が片面２層構造の記録層（即ち、ディスク担体内に複数の記録層を持つ）ものが市場に登場している。そして、かかる場合においても、上記と同様に、これら複数の層の各々に対して、最適にチルト量を補正・制御することが必要となる。

チルト量を補正・制御する方法としては、特許文献１、特許文献２などのように、記録動作を開始する前に、フォーカス駆動値からチルト量を算出する方法、ジッタが最小値になるチルトを算出する方法が挙げられる。
特開２００３−２８１７６１公報 特開２００５−２３５２６５公報

しかしながら、従来のチルト制御方法では、記録動作開始前に光ディスクのすべての層においてチルト量の測定を行い補正するのみであるため、記録中にドライブ内の温度上昇等により光ディスクが反っていく場合、特に２層目以降においては最適な状態からチルトがずれていくという課題を有している。

本発明は、前記従来の課題を解決するもので、記録中または再生中の光ディスクの反りに対するチルト量に追従させることができるチルト制御方法を提供することを目的とする。

本発明の請求項１記載のチルト制御方法は、第１層と第２層の２層の記録層を持つ光ディスクに対して記録中にチルト制御するに際し、第１，第２層の各記録層において光ディスクの全面にわたり半径方向に間隔を開けて２つ以上の測定ポイントでチルト量を測定するステップと、記録動作を開始するステップと、１層の記録中において光ディスクの半径方向に複数点でチルト量を測定するステップと、記録開始前に行った第１層のチルト量測定結果から第１層を記録中に行ったチルト量測定結果を減算して第１層を記録中に光ディスクが反った量を求めるステップと、記録開始前に行った第２層のチルト量測定結果に、前記第１層を記録中に光ディスクが反った量を加算してチルト調整値を計算するステップと、前記チルト調整値を第２層のチルト量として第２層の記録動作を実行するステップとを備えたことを特徴とする。

本発明の請求項２記載のチルト制御方法は、第１層、第２層、・・・・、第Ｎ層の３層以上の記録層を持つ光ディスクに対して記録中にチルト制御するに際し、第１層、第２層、・・・・、第Ｎ層の各記録層において光ディスクの全面にわたり半径方向に間隔を開けて２つ以上の測定ポイントでチルト量を測定するステップと、記録動作を開始するステップと、第１層の記録中において光ディスクの半径方向に複数点でチルト量を測定するステップと、記録開始前に行った第１層のチルト量測定結果から第１層を記録中に行ったチルト量測定結果を減算して第１層を記録中に光ディスクが反った量を求めるステップと、記録開始前に行った第２層のチルト量測定結果に前記第１層を記録中に光ディスクが反った量を加算して第２層チルト調整値を計算するステップと、前記チルト調整値を第２層のチルト量として第２層の記録動作を実行するステップを実行し、第３層から第Ｎ層までの特定層の記録中には、直前の第（Ｍ−１）層の記録中において光ディスクの半径方向に複数点でチルト量を測定して求めたチルト量測定結果を記録開始前に行った第Ｍ層のチルト量測定結果から減算して第（Ｍ−１）層を記録中に光ディスクが反った量を求めるステップと、記録開始前に行った第Ｍ層のチルト量測定結果に、直前の第（Ｍ−１）層を記録中に光ディスクが反った量を加算して第Ｍ層チルト調整値を計算するステップと、前記チルト調整値をチルト量として第Ｍ層の記録動作を実行するステップを繰り返し実行することを特徴とする。

本発明の請求項３記載のチルト制御方法は、第１層と第２層の２層の記録層または再生層を持つ光ディスクの再生中にチルト制御するに際し、第１，第２層の各記録層または再生層において光ディスクの全面にわたり半径方向に間隔を開けて２つ以上の測定ポイントでチルト量を測定するステップと、再生動作を開始するステップと、第１層の再生中において光ディスクの半径方向に複数点でチルト量を測定するステップと、再生開始前に行った第１層のチルト量測定結果から第１層を再生中に行ったチルト量測定結果を減算して第１層を再生中に光ディスクが反った量を求めるステップと、再生開始前に行った第２層のチルト量測定結果に、前記第１層を再生中に光ディスクが反った量を加算してチルト調整値を計算するステップと、前記チルト調整値を第２層のチルト量として第２層の再生動作を実行するステップとを備えたことを特徴とする。

本発明の請求項４記載のチルト制御方法は、第１層、第２層、・・・・、第Ｎ層の３層以上の記録層または再生層を持つ光ディスクの再生中にチルト制御するに際し、第１層、第２層、・・・・、第Ｎ層の各記録層または再生層において光ディスクの全面にわたり半径方向に間隔を開けて２つ以上の測定ポイントでチルト量を測定するステップと、再生動作を開始するステップと、第１層の再生中において光ディスクの半径方向に複数点でチルト量を測定するステップと、再生開始前に行った第１層のチルト量測定結果から第１層を再生中に行ったチルト量測定結果を減算して第１層を再生中に光ディスクが反った量を求めるステップと、再生開始前に行った第２層のチルト量測定結果に前記第１層を再生中に光ディスクが反った量を加算して第２層チルト調整値を計算するステップと、前記チルト調整値を第２層のチルト量として第２層の再生動作を実行するステップを実行し、第３層から第Ｎ層までの特定層の再生中には、直前の第（Ｍ−１）層の再生中において光ディスクの半径方向に複数点でチルト量を測定して求めたチルト量測定結果を、再生開始前に行った第Ｍ層のチルト量測定結果から減算して第（Ｍ−１）層を再生中に光ディスクが反った量を求めるステップと、再生開始前に行った第Ｍ層のチルト量測定結果に、直前の第（Ｍ−１）層を再生中に光ディスクが反った量を加算して第Ｍ層チルト調整値を計算するステップと、前記チルト調整値をチルト量として第Ｍ層の再生動作を実行するステップを繰り返し実行することを特徴とする。

本発明の請求項５記載のチルト制御方法は、請求項１〜請求項４の何れかにおいて、チルト量測定は、光ディスクの半径方向の異なる２点において、それぞれチルト量を測定し、それらの傾きを求めることで光ディスクの反りを検出することを特徴とする。

本発明の請求項６記載のチルト制御方法は、請求項１〜請求項４の何れかにおいて、光ディスクの半径方向の複数点においてそれぞれチルト量を測定し、それらの傾きを求めることで光ディスクの反りを検出するチルト量測定は、半径方向に分散して８箇所以上においてチルト量を測定することを特徴とする。

本発明の請求項７記載の光ディスク装置は、請求項１〜請求項６の何れかのチルト制御方法を実施するように構成された処理装置を備えたことを特徴とする。

この構成によると、記録中または再生中にチルト量を測定した結果と、記録動作前または再生動作前に測定したチルト量との差を計算することで、記録動作中または再生動作中に光ディスクが反った量を求めることができ、温度変化等による光ディスクの反りに対するチルト量を追従させた正確な記録または再生が可能である。

以下、本発明のチルト制御方法を具体的な各実施の形態に基づいて説明する。
（実施の形態１）
図１は本発明のチルト制御方法を実行する光ディスク装置におけるチルト制御に関わる処理装置のフローチャートを示す。なお、この実施の形態１では、光ディスクが、第１層Ｌ０と第２層Ｌ１との２層の記録層を持つものが光ディスク装置にセットされている。第１層Ｌ０は第２層Ｌ１よりも光ピックアップに近い距離に位置している記録層である。

光ディスク装置の処理装置が記録の開始を検出すると、処理装置はステップＳ１〜ステップＳ６を実行して、記録中に光ディスクに対して適正なチルト制御を行う。
ステップＳ１では、間隔を開けて２つ以上の測定ポイントでチルト量を測定する。ここでは、２つの記録層の第１層Ｌ０と第２層Ｌ１の各層について全面にわたって、記録開始前に回転駆動中の光ディスクのチルト量を測定する。図２（ａ）は第１層Ｌ０についてチルト量を測定している様子を示している。この例では、光ディスク装置の光ピックアップを回転駆動中の光ディスクの内周側ＩＮから外周側ＯＵＴに向かって移動させ、等間隔の各位置Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅに光ピックアップが到着した時点で、再生用パワーのレーザー光ＬＢＲを照射してビームスポットが第１層Ｌ０で合焦するように光ピックアップのフォーカス制御を実施して、位置Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅでの光ディスクのチルト量ｔＬ０を学習する。

さらに、光ピックアップが外周側ＯＵＴに到着すると、今度は図２（ｂ）に示すように、光ディスクの外周側ＯＵＴから内周側ＩＮに向かって光ピックアップを移動させ、位置Ｅ，Ｄ，Ｃ，Ｂ，Ａに光ピックアップが到着した時点で、再生用パワーのレーザー光ＬＢＲを照射してビームスポットが第２層Ｌ１で合焦するように光ピックアップのフォーカス制御を実施して、位置Ｅ，Ｄ，Ｃ，Ｂ，Ａでの光ディスクのチルト量ｔＬ１を学習する。

ステップＳ２では、記録動作を開始する。つまり、図２（ｃ）に示すように光ピックアップを光ディスクの内周側ＩＮから外周側ＯＵＴに向かって移動させて、記録用パワーのレーザー光ＬＢＷを照射して第１層Ｌ０に対して記録する動作と、光ディスクの外周側ＯＵＴから内周側ＩＮに向かって光ピックアップを移動させて、記録用パワーのレーザー光ＬＢＷを照射して第２層Ｌ１に対して記録する動作との、一連の記録動作を始める。

なお、図２（ｃ）において波線で示す第１層Ｌ０と第２層Ｌ１は、記録開始前の光ディスクの状態を示している。実線で示す第１層Ｌ０と第２層Ｌ１は、光ディスクに反りが発生した状態を示している。

ステップＳ３では、第１層Ｌ０を記録中において光ディスクの半径方向に複数点でそれぞれチルト量ｔＬ０２を測定する。ここでは記録中における特定の測定点を前記の位置Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅとする。

ステップＳ４では、第１層Ｌ０を記録中に光ディスクが反った量Δｔ１を求める。つまり、ステップＳ１において記録開始前に行った第１層Ｌ０の位置Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅにおける各チルト量測定結果ｔＬ０から、ステップＳ３において第１層Ｌ０を記録中に行ったチルト量測定結果ｔＬ０２を減算して、第１層Ｌ０を記録中に光ディスクが反った量Δｔ１を求める。

Δｔ１ ＝ ｔＬ０ − ｔＬ０２
ステップＳ５では、ステップＳ１において記録開始前に行った第２層Ｌ１のチルト量測定結果ｔＬ１に、第１層Ｌ０を記録中に測定して求めた第１層Ｌ０記録中に光ディスクが反った量Δｔ１を加算してチルト調整値ｔＬ１２を計算する。
ｔＬ１２ ＝ ｔＬ１ ＋ Δｔ１
ステップＳ６では、図２（ｄ）に示すように第２層Ｌ１の記録の際に、ステップＳ１において記録開始前に求めた第２層Ｌ０の各位置Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，ＥでのｔＬ１だけでチルト補正して記録するのではなく、第１層Ｌ０を記録中の光ディスクへの入熱に伴う反りや、第１層Ｌ０を記録中の光ディスク装置の内部温度の上昇に伴う光ディスクの反りを考慮して、ステップＳ５で計算した各位置Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅでの各チルト調整値ｔＬ１２を第２層Ｌ１のチルト量として第２層Ｌ１の記録動作を実行する。

このように、記録中にチルト量を測定した結果と記録動作前に測定したチルト量との差を計算することで記録動作中に光ディスクが反った量を求め、記録動作開始前に測定した次層のチルト補正量に加算することで温度変化等による光ディスクの反りに対するチルト量を追従させて、記録性能の向上を実現できる。

（実施の形態２）
実施の形態１では光ディスクが２層の記録層の場合を例に挙げて説明したが、３層以上の記録層を有する光ディスクへの記録を行う場合も、同様に実施できる。

図３は、第１層（Ｌ０），第２層（Ｌ１），・・・・，第Ｎ層（Ｌ（Ｎ−１））のＮ層の記録層を有する光ディスクの場合で、ここではＮ＝３である。
ステップＳ１１では、間隔を開けて２つ以上の測定ポイントでチルト量を測定する。ここでは、３つの記録層の第１層Ｌ０と第２層Ｌ１と第３層Ｌ２の各層について全面にわたって、記録開始前にチルト量を測定する。図４（ａ）は第１層Ｌ０についてチルト量を測定している様子を示している。測定方法はステップＳ１と同じである。このステップＳ１１においては、第１層Ｌ０の各位置Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅについてチルト量ｔＬ０、第２層Ｌ１の各位置Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅについてチルト量ｔＬ１、第３層Ｌ２の各位置Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅについてチルト量ｔＬ２を学習する。

ステップＳ１２では、記録動作を開始する。図４（ｂ）に示すように光ピックアップを光ディスクの内周側ＩＮから外周側ＯＵＴに向かって移動させて、記録用パワーのレーザー光ＬＢＷを照射して第１層Ｌ０に対して記録する動作と、光ディスクの外周側ＯＵＴから内周側ＩＮに向かって光ピックアップを移動させて、記録用パワーのレーザー光ＬＢＷを照射して第２層Ｌ１に対して記録する動作と、光ピックアップを光ディスクの内周側ＩＮから外周側ＯＵＴに向かって移動させて、記録用パワーのレーザー光ＬＢＷを照射して第３層Ｌ２に対して記録する動作との、一連の記録動作を始める。

なお、図４（ｂ）において波線で示す第１層Ｌ０と第２層Ｌ１と第３層Ｌ２は、記録開始前の光ディスクの状態を示している。実線で示す第１層Ｌ０と第２層Ｌ１と第３層Ｌ２は、光ディスクに反りが発生した状態を示している。

ステップＳ１３では、第１層Ｌ０を記録中において光ディスクの半径方向に複数点でそれぞれチルト量ｔＬ０２を測定する。ここでは記録中における特定の測定点を前記の位置Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅとする。

ステップＳ１４では、第１層Ｌ０を記録中に光ディスクが反った量Δｔ１を求める。つまり、ステップＳ１１において記録開始前に行った第１層Ｌ０の位置Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅにおける各チルト量測定結果ｔＬ０から、ステップＳ１３において第１層Ｌ０を記録中に行ったチルト量測定結果ｔＬ０２を減算して、第１層Ｌ０を記録中に光ディスクが反った量Δｔ１を求める。

Δｔ１ ＝ ｔＬ０ − ｔＬ０２
ステップＳ１５では、ステップＳ１１において記録開始前に行った第２層Ｌ１のチルト量測定結果ｔＬ１に、第１層Ｌ０を記録中に測定して求めた第１層Ｌ０記録中に光ディスクが反った量Δｔ１を加算してチルト調整値ｔＬ１２を計算する。
ｔＬ１２ ＝ ｔＬ１ ＋ Δｔ１
ステップＳ１６では、図４（ｃ）に示すように第２層Ｌ１の記録の際に、ステップＳ１１において記録開始前に求めた第２層Ｌ０の各位置Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，ＥでのｔＬ１だけでチルト補正して記録するのではなく、第１層Ｌ０を記録中の光ディスクへの入熱に伴う反りや、第１層Ｌ０を記録中の光ディスク装置の内部温度の上昇に伴う光ディスクの反りを考慮して、ステップＳ１５で計算した各位置Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅでの各チルト調整値ｔＬ１２をチルト補正量として第２層Ｌ１の記録動作を実行する。

ステップＳ１６に次いでステップＳ２３では、第２層Ｌ１を記録中において光ディスクの半径方向に複数点でそれぞれチルト量ｔＬ０２を測定する。ここでは記録中における特定の測定点を前記の位置Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅとする。

ステップＳ２４では、第２層Ｌ１を記録中に光ディスクが反った量Δｔ１を求める。つまり、ステップＳ１１において記録開始前に行った第２層Ｌ１の位置Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅにおける各チルト量測定結果ｔＬ１から、ステップＳ２３において第２層Ｌ１を記録中に行ったチルト量測定結果ｔＬ１２を減算して、第２層Ｌ１を記録中に光ディスクが反った量Δｔ２を求める。

Δｔ２ ＝ ｔＬ１ − ｔＬ１２
ステップＳ２５では、ステップＳ１１において記録開始前に行った第３層Ｌ２のチルト量測定結果ｔＬ２に、第２層Ｌ１を記録中に測定して求めた第２層Ｌ１の記録中に光ディスクが反った量Δｔ２を加算してチルト調整値ｔＬ２２を計算する。
ｔＬ２２ ＝ ｔＬ２ ＋ Δｔ２
ステップＳ２６では、図４（ｄ）に示すように第３層Ｌ２の記録の際に、ステップＳ１１において記録開始前に求めた第３層Ｌ２の各位置Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，ＥでのｔＬ２だけでチルト補正して記録するのではなく、第２層Ｌ１を記録中の光ディスクへの入熱に伴う反りや、第２層Ｌ１を記録中の光ディスク装置の内部温度の上昇に伴う光ディスクの反りを考慮して、ステップＳ２５で計算した各位置Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅでの各チルト調整値ｔＬ２２をチルト補正量として第３層Ｌ２の記録動作を実行する。

上記の例は３層の記録層を有する光ディスクの場合であったが、Ｎが３を越える光ディスクの場合にも実施することができ、多層の光ディスクの記録性能の向上を達成できる。
（実施の形態３）
実施の形態１では光ディスクが２層の記録層の記録中のチルト制御について説明したが、再生中のチルト制御も同様に実施できる。図５が再生中のチルト制御方法を示している。

図１と図５は記録中のチルト制御と再生中のチルト制御とが異なるが、基本的な構成は同様であって、図５のステップＳ１０１〜ステップＳ１０６は、図１のステップＳ１〜ステップＳ６と対応づけて記載されている。

ステップＳ１０１では、ステップＳ１と同様に第１層Ｌ０と第２層Ｌ１のチルト量ｔＬ０，ｔＬ１が学習する。
ステップＳ１０２では、ステップＳ２での記録ではなくて、第１層Ｌ０に再生パワーのレーザー光ＬＢＲを照射して再生動作を開始する。

ステップＳ１０３では、第１層Ｌ０を再生中において光ディスクの半径方向に複数点でそれぞれチルト量ｔＬ０２を測定する。ここでは再生中における特定の測定点をステップＳ３と同じ位置Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅとする。

ステップＳ１０４では、第１層Ｌ０を再生中に光ディスクが反った量Δｔ１を求める。
Δｔ１ ＝ ｔＬ０ − ｔＬ０２
ステップＳ１０５では、ステップＳ１０１において再生開始前に行った第２層Ｌ１のチルト量測定結果ｔＬ１に、第１層Ｌ０を再生中に測定して求めた第１層Ｌ０再生中に光ディスクが反った量Δｔ１を加算してチルト調整値ｔＬ１２を計算する。
ｔＬ１２ ＝ ｔＬ１ ＋ Δｔ１
ステップＳ１０６では、第２層Ｌ１の再生の際に、ステップＳ１０１において再生開始前に求めた第２層Ｌ０の各位置Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，ＥでのｔＬ１だけでチルト補正して再生するのではなく、第１層Ｌ０を再生中の光ディスクへの入熱に伴う反りや、第１層Ｌ０を再生中の光ディスク装置の内部温度の上昇に伴う光ディスクの反りを考慮して、ステップＳ１０５で計算した各位置Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅでの各チルト調整値ｔＬ１２を第２層Ｌ１のチルト量として第２層Ｌ１の再生動作を実行する。

このように、再生中にチルト量を測定した結果と再生動作前に測定したチルト量との差を計算することで再生動作中に光ディスクが反った量を求め、再生動作開始前に測定した次層のチルト補正量に加算することで温度変化等による光ディスクの反りに対するチルト量を追従させて、再生性能の向上を実現できる。

上記の例は２層の記録層を有する光ディスクの場合であったが、Ｎが３を越える光ディスクの場合にも実施することができ、多層の光ディスクの再生性能の向上を達成できる。
（実施の形態４）
実施の形態２では光ディスクがＮ層の記録層の記録中のチルト制御について説明したが、再生中のチルト制御も同様に実施できる。図６が再生中のチルト制御方法を示している。

図３と図６は記録中のチルト制御と再生中のチルト制御とが異なるが、基本的な構成は同様であって、図６のステップＳ１１１〜ステップＳ１１６，ステップＳ１２３〜ステップＳ１２６は、図３のステップＳ１１〜ステップＳ１６，ステップＳ２３〜ステップＳ２６と対応づけて記載されている。

図６は、第１層（Ｌ０），第２層（Ｌ１），・・・・，第Ｎ層（Ｌ（Ｎ−１））のＮ層の記録層を有する光ディスクの再生の場合で、ここではＮ＝３である。
ステップＳ１１１では、間隔を開けて２つ以上の測定ポイントでチルト量を測定する。ここでは、３つの記録層の第１層Ｌ０と第２層Ｌ１と第３層Ｌ２の各層について全面にわたって、再生開始前にチルト量を測定する。このステップＳ１１１においては、第１層Ｌ０の各位置Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅについてチルト量ｔＬ０、第２層Ｌ１の各位置Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅについてチルト量ｔＬ１、第３層Ｌ２の各位置Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅについてチルト量ｔＬ２を学習する。

ステップＳ１１２では、再生動作を開始する。光ピックアップを光ディスクの内周側ＩＮから外周側ＯＵＴに向かって移動させて、再生用パワーのレーザー光ＬＢＲを照射して第１層Ｌ０に対して再生する動作と、光ディスクの外周側ＯＵＴから内周側ＩＮに向かって光ピックアップを移動させて、再生用パワーのレーザー光ＬＢＲを照射して第２層Ｌ１に対して再生する動作と、光ピックアップを光ディスクの内周側ＩＮから外周側ＯＵＴに向かって移動させて、再生用パワーのレーザー光ＬＢＲを照射して第３層Ｌ２を再生する動作との、一連の再生動作を始める。

ステップＳ１１３では、第１層Ｌ０を再生中において光ディスクの半径方向に複数点でそれぞれチルト量ｔＬ０２を測定する。ここでは再生中における特定の測定点を前記の位置Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅとする。

ステップＳ１１４では、第１層Ｌ０を再生中に光ディスクが反った量Δｔ１を求める。つまり、ステップＳ１１において再生開始前に行った第１層Ｌ０の位置Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅにおける各チルト量測定結果ｔＬ０から、ステップＳ１３において第１層Ｌ０を再生中に行ったチルト量測定結果ｔＬ０２を減算して、第１層Ｌ０の再生中に光ディスクが反った量Δｔ１を求める。

Δｔ１ ＝ ｔＬ０ − ｔＬ０２
ステップＳ１１５では、ステップＳ１１において再生開始前に行った第２層Ｌ１のチルト量測定結果ｔＬ１に、第１層Ｌ０を再生中に測定して求めた第１層Ｌ０の再生中に光ディスクが反った量Δｔ１を加算してチルト調整値ｔＬ１２を計算する。
ｔＬ１２ ＝ ｔＬ１ ＋ Δｔ１
ステップＳ１１６では、第２層Ｌ１の再生の際に、ステップＳ１１１において再生開始前に求めた第２層Ｌ０の各位置Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，ＥでのｔＬ１だけでチルト補正して再生するのではなく、第１層Ｌ０を再生中の光ディスクへの入熱に伴う反りや、第１層Ｌ０を再生中の光ディスク装置の内部温度の上昇に伴う光ディスクの反りを考慮して、ステップＳ１５で計算した各位置Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅでの各チルト調整値ｔＬ１２を第２層Ｌ１のチルト量として第２層Ｌ１の記録動作を実行する。

ステップＳ１１６に次いでステップＳ１２３では、第２層Ｌ１を再生中において光ディスクの半径方向に複数点でそれぞれチルト量ｔＬ０２を測定する。ここでは再生中における特定の測定点を前記の位置Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅとする。

ステップＳ１２４では、第２層Ｌ１を再生中に光ディスクが反った量Δｔ１を求める。つまり、ステップＳ１１において再生開始前に行った第２層Ｌ１の位置Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅにおける各チルト量測定結果ｔＬ１から、ステップＳ２３において第２層Ｌ１の再生中に行ったチルト量測定結果ｔＬ１２を減算して、第２層Ｌ１の再生中に光ディスクが反った量Δｔ２を求める。

Δｔ２ ＝ ｔＬ１ − ｔＬ１２
ステップＳ１２５では、ステップＳ１１において再生開始前に行った第３層Ｌ２のチルト量測定結果ｔＬ２に、第２層Ｌ１を再生中に測定して求めた第２層Ｌ１の再生中に光ディスクが反った量Δｔ２を加算してチルト調整値ｔＬ２２を計算する。
ｔＬ２２ ＝ ｔＬ２ ＋ Δｔ２
ステップＳ１２６では、図４（ｄ）に示すように第３層Ｌ２の再生の際に、ステップＳ１１において再生開始前に求めた第３層Ｌ２の各位置Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，ＥでのｔＬ２だけでチルト補正して再生するのではなく、第２層Ｌ１を再生中の光ディスクへの入熱に伴う反りや、第２層Ｌ１を再生中の光ディスク装置の内部温度の上昇に伴う光ディスクの反りを考慮して、ステップＳ１２５で計算した各位置Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅでの各チルト調整値ｔＬ２２をチルト補正量として第３層Ｌ２の再生動作を実行する。

上記の例は３層の記録層を有する光ディスクの場合であったが、Ｎが３を越える光ディスクの場合にも実施することができ、多層の光ディスクの再生性能の向上を達成できる。
なお、実施の形態１におけるステップＳ１におけるチルトの測定点の数は、５点の場合を例に挙げて説明したが、図７に示したように光ディスクの反りが一方向の場合には、最低は測定点Ａ１とＡ２の２点だけで近似処理できる。これは、図３のステップＳ１１，ステップＳ１３，ステップＳ２３、図５のステップＳ１０１，ステップＳ１０３、図６のステップＳ１１１，ステップＳ１１３，ステップＳ１２３なども同様である。

なお、実施の形態１におけるステップＳ１におけるチルトの測定点の数は、５点の場合を例に挙げて説明したが、図８に示したように内周側から外周側に掛けてＳ字状の反りの場合には、内周側から外周側にかけて区間を５分割して最低でも測定点Ａ１〜Ａ８のように光ディスクの半径方向の全域に分散した８点だけでも近似処理できる。これは、図３のステップＳ１１，ステップＳ１３，ステップＳ２３、図５のステップＳ１０１，ステップＳ１０３、図６のステップＳ１１１，ステップＳ１１３，ステップＳ１２３なども同様である。

上記の各実施の形態のうちの再生中のチルト制御では、光ディスクが書き込み可能なものであるとして説明したが、２層ＲＯＭ光ディスクなどのように再生専用光ディスクの場合も同様であって、実施の形態３のステップＳ１０１では、第１，第２層Ｌ０，Ｌ１の各記録層または再生層において光ディスクの全面にわたり半径方向に間隔を開けて２つ以上の測定ポイントでチルト量ｔＬ０，ｔＬ１を測定する。同様に、実施の形態４のステップＳ１１１では、第１層Ｌ０、第２層Ｌ１、・・・・、第Ｎ層Ｌ（Ｎ−１）の各記録層または再生層において光ディスクの全面にわたり半径方向に間隔を開けて２つ以上の測定ポイントでチルト量ｔＬ０，ｔＬ１，・・・・，ｔＬ（Ｎ−１）を測定する。

上記の各実施の形態において、光ディスクの半径方向に間隔を開けた測定ポイントでチルト量を測定したが、その間隔は、等間隔であっても等間隔でなくてもよい。ここで、等間隔でない場合とは、例えば、第１測定ポイントとその次の第２測定ポイントとの間隔と、第２測定ポイントと第２測定ポイントの次の第３測定ポイントとの間隔が同じではない予め決められた任意の間隔である場合などである。

本発明は多層の光ディスクにデータを記録し、または、記録媒体に記録されたデータを再生する光ディスク装置の信頼性の向上に寄与できる。

本発明の実施の形態１の光ディスク装置におけるチルト制御に関わる処理装置のフローチャート 同実施の形態の記録動作の説明図 本発明の実施の形態２の光ディスク装置におけるチルト制御に関わる処理装置のフローチャート 同実施の形態の記録動作の説明図 本発明の実施の形態３の光ディスク装置におけるチルト制御に関わる処理装置のフローチャート 本発明の実施の形態４の光ディスク装置におけるチルト制御に関わる処理装置のフローチャート 上記各実施の形態において光ディスクの反りが一方向の場合の測定点の説明図 上記各実施の形態において光ディスクの反りがＳ字の場合の測定点の説明図

符号の説明

Ｌ０ 光ディスクの記録層の第１層
Ｌ１ 光ディスクの記録層の第２層
ＩＮ 光ディスクの内周側
ＯＵＴ 光ディスクの外周側
Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅ 測定点
ｔＬ０ 記録開始前の第１層のチルト量
ｔＬ１ 記録開始前の第２層のチルト量
ｔＬ０２ 第１層記録中に測定した第１層のチルト量
Δｔ１ 第１層の記録中に光ディスクが反った量
ｔＬ１２ 第２層の記録動作に使用するチルト調整値

Claims (7)

1. 第１層と第２層の２層の記録層を持つ光ディスクに対して記録中にチルト制御するに際し、
   第１，第２層の各記録層において光ディスクの全面にわたり半径方向に間隔を開けて２つ以上の測定ポイントでチルト量を測定するステップと、
   記録動作を開始するステップと、
   第１層の記録中において光ディスクの半径方向に複数点でチルト量を測定するステップと、
   記録開始前に行った第１層のチルト量測定結果から第１層を記録中に行ったチルト量測定結果を減算して第１層を記録中に光ディスクが反った量を求めるステップと、
   記録開始前に行った第２層のチルト量測定結果に、前記第１層を記録中に光ディスクが反った量を加算してチルト調整値を計算するステップと、
   前記チルト調整値を第２層のチルト量として第２層の記録動作を実行するステップと
   を備えたことを特徴とするチルト制御方法。
2. 第１層、第２層、・・・・、第Ｎ層の３層以上の記録層を持つ光ディスクに対して記録中にチルト制御するに際し、
   第１層、第２層、・・・・、第Ｎ層の各記録層において光ディスクの全面にわたり半径方向に間隔を開けて２つ以上の測定ポイントでチルト量を測定するステップと、
   記録動作を開始するステップと、
   第１層の記録中において光ディスクの半径方向に複数点でチルト量を測定するステップと、
   記録開始前に行った第１層のチルト量測定結果から第１層を記録中に行ったチルト量測定結果を減算して第１層を記録中に光ディスクが反った量を求めるステップと、
   記録開始前に行った第２層のチルト量測定結果に前記第１層を記録中に光ディスクが反った量を加算して第２層チルト調整値を計算するステップと、
   前記チルト調整値を第２層のチルト量として第２層の記録動作を実行するステップを実行し、
   第３層から第Ｎ層までの特定層の記録中には、
   直前の第（Ｍ−１）層の記録中において光ディスクの半径方向に複数点でチルト量を測定して求めたチルト量測定結果を記録開始前に行った第Ｍ層のチルト量測定結果から減算して第（Ｍ−１）層を記録中に光ディスクが反った量を求めるステップと、
   記録開始前に行った第Ｍ層のチルト量測定結果に、直前の第（Ｍ−１）層を記録中に光ディスクが反った量を加算して第Ｍ層チルト調整値を計算するステップと、
   前記チルト調整値をチルト量として第Ｍ層の記録動作を実行するステップを繰り返し実行するチルト制御方法。
3. 第１層と第２層の２層の記録層または再生層を持つ光ディスクの再生中にチルト制御するに際し、
   第１，第２層の各記録層または再生層において光ディスクの全面にわたり半径方向に間隔を開けて２つ以上の測定ポイントでチルト量を測定するステップと、
   再生動作を開始するステップと、
   第１層の再生中において光ディスクの半径方向に複数点でチルト量を測定するステップと、
   再生開始前に行った第１層のチルト量測定結果から第１層を再生中に行ったチルト量測定結果を減算して第１層を再生中に光ディスクが反った量を求めるステップと、
   再生開始前に行った第２層のチルト量測定結果に、前記第１層を再生中に光ディスクが反った量を加算してチルト調整値を計算するステップと、
   前記チルト調整値を第２層のチルト量として第２層の再生動作を実行するステップと
   を備えたことを特徴とするチルト制御方法。
4. 第１層、第２層、・・・・、第Ｎ層の３層以上の記録層または再生層を持つ光ディスクの再生中にチルト制御するに際し、
   第１層、第２層、・・・・、第Ｎ層の各記録層または再生層において光ディスクの全面にわたり半径方向に間隔を開けて２つ以上の測定ポイントでチルト量を測定するステップと、
   再生動作を開始するステップと、
   第１層の再生中において光ディスクの半径方向に複数点でチルト量を測定するステップと、
   再生開始前に行った第１層のチルト量測定結果から第１層を再生中に行ったチルト量測定結果を減算して第１層を再生中に光ディスクが反った量を求めるステップと、
   再生開始前に行った第２層のチルト量測定結果に前記第１層を再生中に光ディスクが反った量を加算して第２層チルト調整値を計算するステップと、
   前記チルト調整値を第２層のチルト量として第２層の再生動作を実行するステップを実行し、
   第３層から第Ｎ層までの特定層の再生中には、
   直前の第（Ｍ−１）層の再生中において光ディスクの半径方向に複数点でチルト量を測定して求めたチルト量測定結果を、再生開始前に行った第Ｍ層のチルト量測定結果から減算して第（Ｍ−１）層を再生中に光ディスクが反った量を求めるステップと、
   再生開始前に行った第Ｍ層のチルト量測定結果に、直前の第（Ｍ−１）層を再生中に光ディスクが反った量を加算して第Ｍ層チルト調整値を計算するステップと、
   前記チルト調整値をチルト量として第Ｍ層の再生動作を実行するステップを
   繰り返し実行するチルト制御方法。
5. チルト量測定は、光ディスクの半径方向の異なる２点において、それぞれチルト量を測定し、それらの傾きを求めることで光ディスクの反りを検出する
   請求項１〜請求項４の何れかに記載のチルト制御方法。
6. 光ディスクの半径方向の複数点においてそれぞれチルト量を測定し、それらの傾きを求めることで光ディスクの反りを検出するチルト量測定は、半径方向に分散して８箇所以上においてチルト量を測定する請求項１〜請求項４の何れかに記載のチルト制御方法。
7. 上記請求項１〜請求項６の何れかのチルト制御方法を実施するように構成された処理装置を備えた光ディスク装置。

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