JP2008241882A - Coating agent and anti-reflection film - Google Patents

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Norikazu Kuno
憲和 久野
Masaaki Kumagai
正章 熊谷
Naohito Kawashiri
尚人 河尻
Takeshi Nishino
剛 西野
Maki Okamoto
真樹 岡本
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Aica Kogyo Co Ltd
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    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D4/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an anti-reflection film in which layers constituting it have a high adhesion property, high scratch resistance, and low minimum reflectance, and a coating agent. <P>SOLUTION: The anti-reflection film 19 includes a transparent substrate layer (a) 13, a hard coat layer (b) 15, and a low refractive index layer (c) 17, the anti-reflection film 19 is characterized in that a layer structure from (a) 13 to (c) 17 is (a) 13/(b) 15/(c) 17, and the (b) 15 comprises an acrylate and a bi- or tri-functional methacrylate as main components, and the compounding ratio of the bi- or tri-functional methacrylate with respect to 100 pts.wt. of the acrylate is in the range of 0.5-50 pts.wt. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、例えば、テレビ、PC、各種モバイル機器等における表示画面の表面に装着される反射防止フィルム、及びその製造に用いられるコート剤に関する。   The present invention relates to an antireflection film to be mounted on the surface of a display screen in televisions, PCs, various mobile devices, and the like, and a coating agent used in the production thereof.

近年、テレビやPCにおいては、従来のブラウン管に代わってプラズマディスプレイ(PDP)や液晶ディスプレイ(LCD)による大画面・薄型化が進んでいる。これらのディスプレイは高画質であるため、その画面部への光や物体の映りこみが画像の見栄えに与える影響が大きく、反射防止性能を付与することが必要となっている。   In recent years, in televisions and PCs, plasma displays (PDPs) and liquid crystal displays (LCDs) have been increasing in size and thickness in place of conventional cathode ray tubes. Since these displays have high image quality, the reflection of light and objects on the screen has a great influence on the appearance of the image, and it is necessary to provide antireflection performance.

また、液晶や有機EL等の表示方式が用いられる携帯電話、パーソナルデジタルアシスタント(PDA)、電子ペーパー等のモバイル機器の表示材においても、屋外で使用されることから光や物体の映りこみの画像に対する影響が大きく、反射防止性能を付与することが必要である。   In addition, because it is used outdoors in display materials for mobile devices such as mobile phones, personal digital assistants (PDAs), and electronic paper that use display methods such as liquid crystal and organic EL, images of light and objects are reflected. Therefore, it is necessary to provide antireflection performance.

反射防止の一つの方法として、表示画面の表面に反射防止フィルムを装着することが行われてきた。この反射防止フィルムとしては、透明基材の片面に、アクリル系樹脂等の硬度が高く、かつ屈折率の高いハードコート層と、シリコーン系樹脂又はフッ素系樹脂等の屈折率が低い低屈折率層とを順次積層したものが知られている。   As one method of preventing reflection, attaching an antireflection film to the surface of a display screen has been performed. As this antireflection film, on one side of a transparent substrate, a hard coat layer having a high hardness such as an acrylic resin and a high refractive index, and a low refractive index layer having a low refractive index such as a silicone resin or a fluorine resin Are sequentially laminated.

しかしながら、上記のような従来の反射防止フィルムにおいて、ハードコート層と低屈折率層との密着性は優れているとは言えず、長期に亘って使用した場合、層間剥離などの問題が発生し、結果的に反射防止性能が低下する場合がある。この問題を解決するために、特許文献1には、ハードコート層を紫外線照射によりハーフキュアした後に低屈折率層を塗布し、その後硬化させる方法が開示されている。この方法では、ハードコート層を2段階に分けて紫外線照射することで層間の密着性を上げている。
特開2003−311911号公報
However, in the conventional antireflection film as described above, the adhesion between the hard coat layer and the low refractive index layer cannot be said to be excellent, and problems such as delamination occur when used over a long period of time. As a result, the antireflection performance may deteriorate. In order to solve this problem, Patent Document 1 discloses a method in which a hard coat layer is half cured by ultraviolet irradiation, a low refractive index layer is applied, and then cured. In this method, the adhesion between the layers is increased by irradiating the hard coat layer with ultraviolet rays in two stages.
JP 2003-311911 A

しかしながら、特許文献1記載の方法では、反射防止フィルムの重要な性能の一つである最小反射率を引き上げてしまうという問題があった。また、従来の反射防止フィルムでは、耐擦傷性が不十分であるという問題があった。   However, the method described in Patent Document 1 has a problem of raising the minimum reflectance, which is one of important performances of the antireflection film. Further, the conventional antireflection film has a problem that the scratch resistance is insufficient.

本発明は以上の点に鑑みなされたものであり、反射防止フィルムを構成する層の密着性が高く、耐擦傷性が高く、最小反射率の低い反射防止フィルム及びコート剤を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above points, and an object thereof is to provide an antireflection film and a coating agent having high adhesion of layers constituting the antireflection film, high scratch resistance, and low minimum reflectance. And

(1)請求項1の発明は、
反射防止フィルムのハードコート層の形成に用いられるコート剤であって、アクリレート及び2〜3官能のメタクリレートを主成分として含み、前記アクリレート100重量部に対する前記2〜3官能のメタクリレートの配合比が、0.5〜50重量部の範囲にあることを特徴とするコート剤を要旨とする。
(1) The invention of claim 1
A coating agent used for forming a hard coat layer of an antireflection film, comprising an acrylate and a 2-3 trifunctional methacrylate as main components, and a blending ratio of the 2-3 trifunctional methacrylate with respect to 100 parts by weight of the acrylate, The gist of the coating agent is in the range of 0.5 to 50 parts by weight.

官能基数が2〜3(特に3)のメタクリレートをアクリレートに混合し硬化させると、メタクリレートはアクリレートの硬化遅延剤として働き、硬化膜の最表面を局所的に半硬化状態にすることができる。半硬化状態にすることで樹脂のリコート性が改善され、上塗りした樹脂との密着性に優れる。   When a methacrylate having 2 to 3 functional groups (particularly 3) is mixed with acrylate and cured, the methacrylate acts as a curing retarder for the acrylate, and the outermost surface of the cured film can be locally made semi-cured. By making it a semi-cured state, the recoatability of the resin is improved, and the adhesion with the overcoated resin is excellent.

アクリレート100重量部に対するメタクリレートの配合比は、0.5〜50重量部の範囲であり、より好ましくは5〜30重量部である。0.5重量部以上であることにより、十分な硬化遅延効果が得られ、また50重量部以下であることにより、硬化後にタックが残り、ロールトゥロールの生産ができなくなってしまうようなことがない。   The blending ratio of methacrylate to 100 parts by weight of acrylate is in the range of 0.5 to 50 parts by weight, more preferably 5 to 30 parts by weight. When it is 0.5 parts by weight or more, a sufficient curing delay effect can be obtained, and when it is 50 parts by weight or less, tack remains after curing and roll-to-roll production cannot be performed. Absent.

なお、「主成分」とは、(b)ハードコート層の全組成を100重量部としたとき、50重量部より多くを占めることを意味する。
コート剤には主にアクリレート、2〜3官能のメタクリレート、光重合開始剤、溶媒が含まれる。
The “main component” means that when the total composition of the (b) hard coat layer is 100 parts by weight, it occupies more than 50 parts by weight.
The coating agent mainly contains an acrylate, a bi- or trifunctional methacrylate, a photopolymerization initiator, and a solvent.

アクリレートとしては、例えば、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジシクロペンタニルジアクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジアクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジアクリレート、アリル化シクロヘキシルジアクリレート、イソシアヌレートジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、また市販されているウレタンアクリレートやメラミンアクリレートなどが挙げられ、官能基数の多いアクリレートほど表面硬度が高くなり、好ましい。これらは単独あるいは2種以上を混合して使用してもよい。   Examples of the acrylate include 1,4-butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, hydroxypivalate neopentyl glycol diacrylate, and dicyclopentanyl diacrylate. , Caprolactone-modified dicyclopentenyl diacrylate, ethylene oxide-modified phosphate diacrylate, allylated cyclohexyl diacrylate, isocyanurate diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, dipentaerythritol triacrylate, propionic acid-modified dipentaerythritol triacrylate, pentaerythritol Triacrylate, propylene oxide modified trimethylolpropane triacryl , Tris (acryloxyethyl) isocyanurate, dipentaerythritol pentaacrylate, propionic acid modified dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, caprolactone modified dipentaerythritol hexaacrylate, and commercially available urethane acrylate and melamine An acrylate etc. are mentioned, An acrylate with many functional groups has high surface hardness, and is preferable. You may use these individually or in mixture of 2 or more types.

2官能のメタクリレートとしては、例えば、エチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、1.4−ブタンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、1.6−ヘキサンジオールジメタクレート、1.9−ノナンジオールジメタクリレート、1.10−デカンジオールジメタクリレート、グリセリンジメタクリレート、ジメチロールートリシクロデカンジメタクリレート等がある。また、3官能のメタクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリメタクリレートやエトキシ化トリメチロールプロパントリメタクリレート等が挙げられ、これらは単独あるいは2種以上を混合して使用しても良い。   Examples of the bifunctional methacrylate include ethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, 1.4-butanediol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, 1.6-hexanediol dimethacrylate, 1.9-nonane. Examples include diol dimethacrylate, 1.10-decanediol dimethacrylate, glycerin dimethacrylate, dimethylol-tricyclodecane dimethacrylate, and the like. Examples of the trifunctional methacrylate include trimethylolpropane trimethacrylate and ethoxylated trimethylolpropane trimethacrylate, and these may be used alone or in combination of two or more.

光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン、2、2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、などのカルボニル化合物、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサントン、テトラメチルチウラムシジスルフィドなどの硫黄化合物などを用いることができ、市販品としてはIrgacure184、369、651、500、907、CGI1700、CGI1750、CGI1850、CG24−61、Darocure1116、1173(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)社製、商品名);LucirinLR8728(BASF社製、商品名);ユベクリルP36(UCB社製、商品名)などが挙げられる。また、必要に応じて光重合増感剤、光重合促進剤を添加してもよい。   Examples of the photopolymerization initiator include acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, and benzoin ethyl ether. , Carbonyl compounds such as benzoin isopropyl ether, sulfur compounds such as thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, tetramethylthiuram disulfide, etc., and commercially available products such as Irgacure 184, 369, 651, 500, 907, CGI 1700, CGI 1750, CGI 1850, CG 24-61, Darocur 1116, 1173 (above, Ciba Specialty Chemicals Ltd.) Co., Ltd., trade name); LucirinLR8728 (BASF Co., Ltd., trade name); Ubecryl P36 (UCB Co., Ltd., trade name), and the like. Moreover, you may add a photopolymerization sensitizer and a photopolymerization accelerator as needed.

溶媒としては、例えば、有機溶媒であるメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトン、シクロヘキサン等のケトン系溶剤、キシレン等の芳香族系、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、エチル−3−エトキシプロピオネート等のグリコールエーテルエステル系溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶剤、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等のアルコール系溶剤を用いることができる。   Examples of the solvent include organic solvents such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ketone solvents such as acetone and cyclohexane, aromatic solvents such as xylene, ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, propylene Glycol ether ester solvents such as glycol methyl ether acetate and ethyl-3-ethoxypropionate, ether solvents such as tetrahydrofuran and dioxane, amide solvents such as dimethylformamide and dimethylacetamide, methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, Alcohol solvents such as butyl alcohol can be used.

本発明のコート剤の粘度は、塗布性、レベリング性ならびに塗布のし易さなどの点から、1〜50000mPa・s/20℃の範囲が好適であり、前記の配合材料の選択ならびに配合比率のほか、適宜溶剤あるいは重合反応を阻害しない各種添加物を添加して、コート剤の粘度を調整することができる。   The viscosity of the coating agent of the present invention is preferably in the range of 1 to 50000 mPa · s / 20 ° C. from the viewpoints of coating properties, leveling properties and ease of coating. In addition, the viscosity of the coating agent can be adjusted by appropriately adding a solvent or various additives that do not inhibit the polymerization reaction.

また、要求される性能により、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、スチレン系樹脂、フェノール系樹脂、メラミン系樹脂、水酸化バリウム、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化チタン、三酸化アンチモン、五酸化アンチモン、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、塩基性炭酸亜鉛、塩基性炭酸鉛、珪砂、クレー、タルク、シリカ化合物、二酸化チタン等の無機充填剤の他、シラン系やチタネート系などのカップリング剤、殺菌剤、防腐剤、可塑剤、流動調整剤、増粘剤、pH調整剤、界面活性剤、レベリング調整剤、消泡剤、着色顔料、近赤外線吸収剤、防錆顔料等の配合材料を添加してもよい。また、耐光性向上を目的に酸化防止剤や紫外線吸収剤を添加してもよい。   Depending on the required performance, acrylic resin, urethane resin, styrene resin, phenol resin, melamine resin, barium hydroxide, magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, silicon oxide, titanium oxide, antimony trioxide, In addition to inorganic fillers such as antimony pentoxide, calcium sulfate, barium sulfate, calcium carbonate, basic zinc carbonate, basic lead carbonate, silica sand, clay, talc, silica compound, titanium dioxide, cups such as silanes and titanates Formulation of ring agents, bactericides, preservatives, plasticizers, flow regulators, thickeners, pH adjusters, surfactants, leveling regulators, antifoaming agents, colored pigments, near infrared absorbers, rust preventive pigments, etc. Materials may be added. Moreover, you may add antioxidant and a ultraviolet absorber for the purpose of light resistance improvement.

また、その他の配合材料として、例えば、帯電防止剤、イオン性液体、導電性高分子、導電性微粒子等を添加し、帯電防止機能を付与することができる。また、金属酸化物を屈折率調整剤としても利用することもできる。   In addition, as other compounding materials, for example, an antistatic agent, an ionic liquid, a conductive polymer, conductive fine particles, and the like can be added to impart an antistatic function. Moreover, a metal oxide can also be utilized as a refractive index adjusting agent.

前記帯電防止剤としては、例えば、ノニオン系のポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェノール、ポリオキシエチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレンアルキルアミド、脂肪酸ポリエチレングリコールエステル、脂肪酸ソルビタンエステル、ポリオキシエチレン脂肪酸ソルビタンエステル、脂肪酸グリセリンエステル、アルキルポリエチレンイミン等を挙げることができる。また、カチオン系の帯電防止剤として、アルキルアミン塩、アルキル第4級アンモニウム塩、アルキルイミダゾリン誘導体等を挙げることができる。また、エチレンオキサイドを骨格に持つアクリレート化合物やリチウムイオン等の金属イオンを混合するイオン伝導型の帯電防止剤も用いることができる。   Examples of the antistatic agent include nonionic polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkylphenol, polyoxyethylene alkylamine, polyoxyethylene alkylamide, fatty acid polyethylene glycol ester, fatty acid sorbitan ester, and polyoxyethylene fatty acid sorbitan ester. , Fatty acid glycerin ester, alkyl polyethyleneimine and the like. Examples of the cationic antistatic agent include alkylamine salts, alkyl quaternary ammonium salts, and alkyl imidazoline derivatives. Moreover, an acrylate compound having ethylene oxide as a skeleton or an ion conduction type antistatic agent in which metal ions such as lithium ions are mixed can also be used.

前記イオン性液体としては、例えば、カチオン成分側のイミダゾリウム塩系、ピリジウム塩系等の芳香族系、脂肪族四級アンモニウム塩系等と、アニオン成分側のBF4 -、PF6 -等の無機イオン系から、CF3SO2 -、(CF3SO22-等のフッ素含有有機陰イオン系の組み合わせから自由に選択できる。 Examples of the ionic liquid include aromatic compounds such as imidazolium salts and pyridium salts based on the cation component side, aliphatic quaternary ammonium salt systems, BF 4 , PF 6 − and the like on the anion component side. The inorganic ion system can be freely selected from combinations of fluorine-containing organic anion systems such as CF 3 SO 2 and (CF 3 SO 2 ) 2 N .

前記導電性高分子としては、例えば、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリ3、4−エチレンジオキシチオフェン及びこれらの誘導体を使用することができる。
上記導電性微粒子としては、例えば、アンチモンドープ型酸化錫(ATO)、錫ドープ型酸化インジウム(ITO)、アルミニウムドープ型酸化亜鉛、アンチモン副酸化物等を使用することができる。
Examples of the conductive polymer that can be used include polyaniline, polypyrrole, polythiophene, poly-3,4-ethylenedioxythiophene, and derivatives thereof.
Examples of the conductive fine particles include antimony-doped tin oxide (ATO), tin-doped indium oxide (ITO), aluminum-doped zinc oxide, and antimony suboxide.

前記金属酸化物としては、例えば、SiO2、TiO2、ZrO2、HfO2、ZnO、Sb25等が挙げられる。金属酸化物の微粉末粒子あるいはこれを分散させたスラリーを添加することにより、樹脂の屈折率を調整でき、かつ層間の密着性、耐擦傷性を一層増すことができる。添加量は反射防止フィルム用コート剤100重量部に対し、金属酸化物の配合量が0.01〜70重量部の範囲が好ましく、10〜50重量部の範囲が一層好ましい。
(2)請求項2の発明は、
(a)透明基材層と、(b)ハードコート層と、(c)低屈折率層と、を備え、前記(a)乃至(c)の層構造が(a)/(b)/(c)であるとともに、前記(b)は請求項1記載のコート剤を塗布・硬化することで形成されたものであることを特徴とする反射防止フィルムを要旨とする。
The metal oxide is, for example, SiO 2, TiO 2, ZrO 2, HfO 2, ZnO, Sb 2 O 5 and the like. By adding metal oxide fine powder particles or a slurry in which the metal oxide fine particles are dispersed, the refractive index of the resin can be adjusted, and adhesion between layers and scratch resistance can be further increased. The addition amount is preferably in the range of 0.01 to 70 parts by weight, more preferably in the range of 10 to 50 parts by weight, based on 100 parts by weight of the coating agent for antireflection film.
(2) The invention of claim 2
(A) a transparent substrate layer, (b) a hard coat layer, and (c) a low refractive index layer, wherein the layer structures (a) to (c) are (a) / (b) / ( In addition to c), the above (b) is formed by applying and curing the coating agent according to claim 1.

請求項1記載のコート剤には2官能もしくは3官能のメタクリレートが含有されており、そのコート剤を用いて形成した(b)ハードコート層と、それに隣接する層(例えば(c)低屈折率層)とは、密着性が高く、層間の剥離が生じ難い。   The coating agent according to claim 1 contains bifunctional or trifunctional methacrylate, and (b) a hard coat layer formed by using the coating agent and a layer adjacent thereto (for example, (c) low refractive index) The layer) has high adhesion and hardly peels between layers.

本発明において、請求項1記載のコート剤は、例えば、(a)透明基材層の上に塗布することができる。その場合、(a)透明基材層と(b)ハードコート層とは隣接する層となる。   In the present invention, the coating agent according to claim 1 can be applied onto (a) the transparent substrate layer, for example. In that case, (a) the transparent substrate layer and (b) the hard coat layer are adjacent layers.

本発明で使用する(a)透明基材層は、特に限定されるものではなく、例えば、全光線透過率90%以上で、厚み10μm〜5mmの公知の透明プラスチックフィルムの中から適宜選択して用いることができる。このような透明基材層としては、例えば、飽和ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル酸エステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリイミド系樹脂などの樹脂をフィルム状またはシート状に加工したものを用いることができる。更に具体的には、ポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ジアセチルセルロースフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、アセチルセルロースブチレートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリスルフォンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルフォンフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリイミドフィルム、フッソ樹脂フィルム、ナイロンフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。   The (a) transparent base material layer used in the present invention is not particularly limited, and is appropriately selected from known transparent plastic films having a total light transmittance of 90% or more and a thickness of 10 μm to 5 mm, for example. Can be used. Examples of such transparent base material layers include saturated polyester resins, polycarbonate resins, polyacrylate resins, polyolefin resins, polystyrene resins, polyvinyl chloride resins, polyvinyl acetate resins, and polyimide resins. What processed resin, such as resin, in the shape of a film or a sheet can be used. More specifically, polyester film, polyethylene film, polypropylene film, cellophane, diacetyl cellulose film, triacetyl cellulose film, acetyl cellulose butyrate film, polyvinyl chloride film, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene vinyl alcohol film , Polystyrene film, polycarbonate film, polymethylpentene film, polysulfone film, polyetheretherketone film, polyethersulfone film, polyetherimide film, polyimide film, fluorine resin film, nylon film, acrylic film, etc. .

(b)ハードコート層を形成する方法は、特に制限はなく、(b)ハードコート層となる成分を含む請求項1記載のコート剤を用いて、公知のスプレーコート、ロールコート、ダイコート、エアナイフコート、ブレードコート、スピンコート、リバースコート、グラビアコート、ワイヤーバーなどの塗工法またはグラビア印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷などの印刷法により形成できる。   (B) The method for forming the hard coat layer is not particularly limited, and (b) a known spray coat, roll coat, die coat, air knife using the coating agent according to claim 1 containing a component that becomes the hard coat layer. It can be formed by coating methods such as coating, blade coating, spin coating, reverse coating, gravure coating, and wire bar, or printing methods such as gravure printing, screen printing, offset printing, and ink jet printing.

また、(c)低屈折率層を形成する方法も、特に制限はなく、前述した各種の塗工法、印刷法により形成できる。
(b)ハードコート層の厚さは、1μm〜10μmの範囲が好ましい。(b)ハードコート層の膜厚が1μm以上であることにより、十分なハードコート性能が得られ、10μm以下であることにより、反りやクラックの問題が発生しにくくなる。また、(b)ハードコート層の屈折率は、1.50〜1.80の範囲が好ましい。屈折率が高いほど反射防止性能を引き上げることができるため、要求される性能に応じて材料を選定すればよい。
Further, (c) the method of forming the low refractive index layer is not particularly limited, and can be formed by the various coating methods and printing methods described above.
(B) The thickness of the hard coat layer is preferably in the range of 1 μm to 10 μm. (B) When the thickness of the hard coat layer is 1 μm or more, sufficient hard coat performance is obtained, and when it is 10 μm or less, problems of warpage and cracks are less likely to occur. The refractive index of the (b) hard coat layer is preferably in the range of 1.50 to 1.80. Since the antireflection performance can be increased as the refractive index is higher, the material may be selected according to the required performance.

本発明の反射防止フィルムを構成する各層を形成するコート剤は、紫外線、電子線などの活性エネルギー線の照射により硬化させることができ、紫外線照射装置としては、高圧水銀灯やメタルハライドランプ等既知の装置を使用できる。   The coating agent for forming each layer constituting the antireflection film of the present invention can be cured by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams, and as an ultraviolet irradiation device, a known device such as a high-pressure mercury lamp or a metal halide lamp is used. Can be used.

(c)低屈折率層の厚みは、反射防止フィルムに入射した可視光のうち、(c)低屈折率層の表面で反射した反射光の位相と、(b)ハードコート層と(c)低屈折率層との境界で反射した反射光の位相と、が反対となるように設定することが望ましい。それにより、(c)低屈折率層の表面で反射した反射光と、(b)ハードコート層と(c)低屈折率層との境界で反射した反射光とを相互に打ち消し合わせ、反射を効率良く防止することができる。(c)低屈折率層の具体的な厚みは、例えば、50〜150nmが望ましい。また、(c)低屈折率層の屈折率は、特に、1.35〜1.45の範囲が好ましい。屈折率が低いほど反射防止性能を高めることが出来るため、要求される性能に合わせて材料を選定すればよい。   (C) The thickness of the low refractive index layer is such that (c) the phase of the reflected light reflected by the surface of the low refractive index layer in the visible light incident on the antireflection film, (b) the hard coat layer, and (c) It is desirable to set the phase of the reflected light reflected at the boundary with the low refractive index layer to be opposite. Thereby, (c) the reflected light reflected on the surface of the low refractive index layer and (b) the reflected light reflected at the boundary between the hard coat layer and (c) the low refractive index layer cancel each other, and reflection is performed. It can prevent efficiently. (C) The specific thickness of the low refractive index layer is preferably 50 to 150 nm, for example. The refractive index of the (c) low refractive index layer is particularly preferably in the range of 1.35 to 1.45. Since the antireflection performance can be enhanced as the refractive index is lower, the material may be selected in accordance with the required performance.

尚、(c)低屈折率層を構成する樹脂が、酸素阻害を受けやすい樹脂である場合は、(c)低屈折率層を窒素雰囲気下にて硬化させても良い。また、必要に応じて(c)低屈折率層を硬化させた後に紫外線照射機を用いて(b)ハードコート層を完全硬化させても良い。   When the resin constituting the (c) low refractive index layer is a resin that is susceptible to oxygen inhibition, the (c) low refractive index layer may be cured in a nitrogen atmosphere. If necessary, (c) the low refractive index layer may be cured and then the (b) hard coat layer may be completely cured using an ultraviolet irradiator.

また、本発明の反射防止フィルムは、その裏面に、さらに粘着層を備えていてもよい。粘着層は、反射防止フィルムの透明性を維持しながら、反射防止フィルムとディスプレイ等の表面とを密着させることができる粘着剤又は接着剤から成るものであればよく、例えば、アクリル樹脂系、ポリウレタン樹脂系、エポキシ樹脂系、ポリエステル樹脂系等の粘着剤、熱可塑型、熱硬化型、UV硬化型などの接着剤から成るものを使用できる。特に、光学特性上、耐光性、耐候性、耐熱性、透明性から、アクリル樹脂系が好適である。アクリル樹脂系を構成するモノマーには、例えばアクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベンジル等のアクリル酸アルキルエステルや、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル等のメタクリル酸アルキルエステル、メタクリル酸エチル、またこれらに酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ビニルエーテル、スチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のビニル基含有化合物を共重合しても良い。更に、粘着層の密着耐久性能を良好にし、アウトガスの発生を抑制するためには、粘着剤の主剤がアクリル系樹脂で重量平均分子量が50万以上、かつ多分散度は5以下であることがよい。   Moreover, the antireflection film of the present invention may further include an adhesive layer on the back surface thereof. The pressure-sensitive adhesive layer only needs to be made of a pressure-sensitive adhesive or an adhesive capable of bringing the anti-reflection film and the surface of the display into close contact with each other while maintaining the transparency of the anti-reflection film. Resins, epoxy resins, polyester resin-based adhesives, thermoplastic, thermosetting, and UV-curable adhesives can be used. In particular, an acrylic resin system is preferable from the viewpoint of optical properties, from light resistance, weather resistance, heat resistance, and transparency. Examples of the monomer constituting the acrylic resin include ethyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, octyl acrylate, cyclohexyl acrylate, benzyl acrylate, alkyl acrylates, methacrylic acid, and the like. Contains methacrylic acid alkyl esters such as butyl, 2-ethylhexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, ethyl methacrylate, and vinyl groups such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl ether, styrene, acrylonitrile, methacrylonitrile, etc. A compound may be copolymerized. Furthermore, in order to improve the adhesion durability performance of the adhesive layer and suppress the generation of outgas, the main component of the adhesive is an acrylic resin, the weight average molecular weight is 500,000 or more, and the polydispersity is 5 or less. Good.

粘着層には、必要に応じて、架橋剤、触媒、酸化防止剤、着色顔料、ガラスビーズ、フィラー、難燃剤、抗菌剤、光安定剤、着色剤、流動性改良剤、滑剤、ブロッキング防止剤、帯電防止剤、架橋助剤等を配合することができる。これらは単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。架橋剤としては、要求特性に支障を来すものでなければ特に制限無く用いることができる。例えば、ポリイソシアネート、キレート樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、アマイド樹脂などが挙げられる。また、粘着層に、赤外吸収剤、UV吸収剤等を添加して人体に悪影響を及ぼすと思われる有害光をカットする仕組みを入れ込んでも良い。   For the adhesive layer, if necessary, crosslinking agent, catalyst, antioxidant, color pigment, glass beads, filler, flame retardant, antibacterial agent, light stabilizer, colorant, fluidity improver, lubricant, antiblocking agent Further, an antistatic agent, a crosslinking aid and the like can be blended. These may be used alone or in combination of two or more. Any crosslinking agent can be used without particular limitation as long as it does not interfere with the required properties. For example, polyisocyanate, chelate resin, epoxy resin, melamine resin, amide resin and the like can be mentioned. In addition, an infrared absorber, a UV absorber, or the like may be added to the adhesive layer to incorporate a mechanism for cutting off harmful light that is thought to adversely affect the human body.

粘着層を形成する方法は特に制限されないが、マイヤーバー、アプリケーター、刷毛、スプレー、ローラー、グラビアコーター、ダイコーター、リップコーター、コンマコーター、ナイフコーター、リバースコ−ター、スピンコート、ノズルコーター、ディップコート、バーコート、ブレードコートなどを用いる塗工方法が例示される。乾燥方法には特に制限はなく、熱風乾燥、赤外線や減圧法を利用したものが挙げられる。乾燥条件としては粘着層の硬化形態、膜厚や選択した溶剤にもよるが、60〜180℃程度でよい。粘着層の膜厚は特に限定されないが、0.1μm〜50μmが好ましく、10μm〜50μmが特に好ましい。   The method for forming the adhesive layer is not particularly limited, but may be Meyer bar, applicator, brush, spray, roller, gravure coater, die coater, lip coater, comma coater, knife coater, reverse coater, spin coater, nozzle coater, dip coater. Examples of the coating method include bar coating and blade coating. There is no restriction | limiting in particular in a drying method, The thing using hot air drying, infrared rays, and the pressure reduction method is mentioned. The drying condition may be about 60 to 180 ° C., although it depends on the cured form of the adhesive layer, the film thickness and the selected solvent. Although the film thickness of an adhesion layer is not specifically limited, 0.1 micrometers-50 micrometers are preferable, and 10 micrometers-50 micrometers are especially preferable.

粘着層の上には、さらに、粘着層を保護するための離型フィルムを貼り付けてもよい。離型フィルムは、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリメチルアクリレート、紙、布、ガラス、セラミック、金属板、アクリル板、オレフィン樹脂、PPS樹脂、TACフィルム、アクリル樹脂フィルム、またはこれらに離型処理を施したもの等が使用できる。離型フィルムの厚さは、特に限定されないが、500μm未満が好ましく、特に25μm〜75μmが好ましい。
(3)請求項3の発明は、
前記(c)低屈折率層は、フッ素変成シリコーン樹脂からなり、水に対する接触角が90度以上、オレイン酸に対する接触角が50度以上であることを特徴とする請求項2記載の反射防止フィルムを要旨とする。
A release film for protecting the adhesive layer may be further adhered on the adhesive layer. The release film can be polyethylene terephthalate, polyethylene, polyvinyl chloride, polycarbonate, polymethyl acrylate, paper, cloth, glass, ceramic, metal plate, acrylic plate, olefin resin, PPS resin, TAC film, acrylic resin film, or What gave mold release processing etc. can be used. The thickness of the release film is not particularly limited, but is preferably less than 500 μm, particularly preferably 25 μm to 75 μm.
(3) The invention of claim 3
3. The antireflection film according to claim 2, wherein the low refractive index layer (c) is made of a fluorine-modified silicone resin, and has a contact angle with water of 90 degrees or more and a contact angle with oleic acid of 50 degrees or more. Is the gist.

本発明の反射防止フィルムにおいて、(c)低屈折率層は、フッ素変性シリコーン樹脂からなり、水に対する接触角が90度以上、かつオレイン酸に対する接触角が50度以上であるので、反射防止フィルムをディスプレイパネルに貼り付けた際、指紋などの汚れが蓄積されず、優れた防汚性を奏することができる。   In the antireflection film of the present invention, (c) the low refractive index layer is made of a fluorine-modified silicone resin and has a contact angle with water of 90 ° or more and a contact angle with oleic acid of 50 ° or more. When it is attached to a display panel, dirt such as fingerprints is not accumulated, and excellent antifouling properties can be achieved.

前記フッ素変性シリコーン樹脂としては特に限定されないが、例えば、パーフルオロアルキルアルコキシシランを主とするものが挙げられる。具体的には、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシランなどが挙げられる。また、フッ素変性シリコーン樹脂にシリコーン樹脂(例えば、シロキサン系縮合物を主骨格とするシリコーン樹脂)、フッ素系樹脂、ポーラスシリカやフッ化マグネシウム等の無機粒子を添加しても良い。
(4)請求項4の発明は、
反射防止フィルムのハードコート層及び低屈折率層の形成に用いられるコート剤であって、前記ハードコート層を構成する樹脂100重量部(固形分)と、前記低屈折率層を構成する、フッ素系(メタ)アクリレートを主原料とする低屈折率微粒子1〜30重量部と、を含むコート剤を要旨とする。
Although it does not specifically limit as said fluorine-modified silicone resin, For example, what mainly has perfluoroalkyl alkoxysilane is mentioned. Specifically, trifluoropropyltrimethoxysilane, trifluoropropyltriethoxysilane, tridecafluorooctyltrimethoxysilane, tridecafluorooctyltriethoxysilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, heptadecafluorodecyltriethoxysilane Etc. In addition, a silicone resin (for example, a silicone resin having a siloxane-based condensate as a main skeleton), a fluorine-based resin, inorganic particles such as porous silica and magnesium fluoride may be added to the fluorine-modified silicone resin.
(4) The invention of claim 4
A coating agent used for forming a hard coat layer and a low refractive index layer of an antireflection film, wherein 100 parts by weight (solid content) of resin constituting the hard coat layer and fluorine constituting the low refractive index layer The gist is a coating agent containing 1 to 30 parts by weight of low refractive index fine particles mainly composed of a system (meth) acrylate.

本発明のコート剤において、低屈折率微粒子の添加量は、(b)ハードコート層の材料となる樹脂成分の固形分100重量部に対して1〜30重量部である。1重量部以上であることにより、十分な反射防止性能が得られ、また30重量部以下であることにより、低屈折率微粒子と樹脂との混和性が悪くなり、ヘイズが上昇してしまうようなことがない。   In the coating agent of the present invention, the addition amount of the low refractive index fine particles is 1 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the solid content of the resin component that is the material of the (b) hard coat layer. When it is 1 part by weight or more, sufficient antireflection performance is obtained, and when it is 30 parts by weight or less, the miscibility between the low refractive index fine particles and the resin is deteriorated, and the haze is increased. There is nothing.

前記低屈折率微粒子の主原料であるフッ素系(メタ)アクリレートとしては、例えば、2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、2,2,2、−トリフルオロエチルメタクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピルアクリレート、1H、1H、5H−オクタフルオロペンチルアクリレート、1H、1H、5H−オクタフルオロペンチルメタクリレート、パーフロロオクチルエチルメタクリレートなどがある。これらは単独あるいは2種以上を混合して重合時に使用してもよい。   Examples of the fluorine-based (meth) acrylate that is a main raw material of the low refractive index fine particles include 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, 2,2,2, -trifluoroethyl methacrylate, 2,2,3, Examples include 3-tetrafluoropropyl acrylate, 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl acrylate, 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl methacrylate, and perfluorooctylethyl methacrylate. These may be used alone or in admixture of two or more.

低屈折率微粒子の形状は、球状、数珠状が好ましいが、特にこれらに限定されない。尚、平均一次粒子径とは凝集を起こしていない単一の粒子の径であり、球状のものについてはその直径を、球状以外のものについては長軸径、短軸径の算術平均値を示し、電子顕微鏡により測定される値である。   The shape of the low refractive index fine particles is preferably spherical or beaded, but is not particularly limited thereto. The average primary particle diameter is the diameter of a single particle that has not been agglomerated. For spherical particles, the diameter is indicated, and for particles other than the spherical shape, the arithmetic average value of the major axis diameter and the minor axis diameter is indicated. The value measured by an electron microscope.

低屈折率微粒子の平均一次粒子径は、80〜500nmの範囲にあることが望ましい。80nm以上であることにより、十分な反射防止性能を付与することができ、500nm以下であることにより、ヘイズが上昇し、視認性が低下してしまうようなことが起こりにくい。   The average primary particle diameter of the low refractive index fine particles is desirably in the range of 80 to 500 nm. When it is 80 nm or more, sufficient antireflection performance can be imparted, and when it is 500 nm or less, it is difficult for haze to increase and visibility to decrease.

低屈折率微粒子の屈折率は1.40〜1.49の範囲が好適である。屈折率が1.40以上であれば、低屈折率微粒子の合成が容易であり、また、1.49以下であれば、十分な反射防止性能が得られる。   The refractive index of the low refractive index fine particles is preferably in the range of 1.40 to 1.49. When the refractive index is 1.40 or more, the synthesis of the low refractive index fine particles is easy, and when it is 1.49 or less, sufficient antireflection performance is obtained.

低屈折率微粒子は、例えば、乳化重合法により合成することができる。この場合、乳化重合法で使用するモノマー100重量部のうち、1重量部以上は、2官能以上の(メタ)アクリレートモノマーとすることが好ましい。乳化重合法を用いれば、合成された低屈折率微粒子の一次粒子径のバラツキを小さくすることができる。そのことにより、低屈折率微粒子から成る(c)低屈折率層を均一に配向させることができ、反射防止効果を、画面内でより一層均一化することができる。
(5)請求項5の発明は、
(a)透明基材層と、(b)ハードコート層と、(c)低屈折率層と、を備え、前記(a)乃至(c)の層構造が(a)/(b)/(c)であるとともに、前記(b)及び前記(c)は、請求項4記載のコート剤を塗布・硬化した後、相分離により形成されるものであることを特徴とする反射防止フィルムを要旨とする。
The low refractive index fine particles can be synthesized, for example, by an emulsion polymerization method. In this case, 1 part by weight or more of 100 parts by weight of the monomer used in the emulsion polymerization method is preferably a bifunctional or higher functional (meth) acrylate monomer. If the emulsion polymerization method is used, the variation in the primary particle diameter of the synthesized low refractive index fine particles can be reduced. As a result, the (c) low refractive index layer composed of the low refractive index fine particles can be uniformly oriented, and the antireflection effect can be made more uniform in the screen.
(5) The invention of claim 5
(A) a transparent substrate layer, (b) a hard coat layer, and (c) a low refractive index layer, wherein the layer structures (a) to (c) are (a) / (b) / ( (c) and (b) and (c) are formed by phase separation after the coating agent according to claim 4 is applied and cured. And

本発明の反射防止フィルムでは、(b)ハードコート層と(c)低屈折率層とを、同時に形成することができる。すなわち、図1に示すように、(b)ハードコート層の材料となる樹脂成分1(例えば、アクリレート、又はアクリレートとメタクリレート等)と、フッ素系(メタ)アクリレートを主原料とする低屈折率微粒子3とを含むコート剤5を(a)透明基材層7の上に塗布すると、図2に示すように、低屈折率微粒子3は表層に分離して(c)低屈折率層9を形成し、コート剤5のうち、低屈折率微粒子3を除く樹脂成分は、(b)ハードコート層11を形成する。このとき、低屈折率微粒子は、(b)ハードコート層の表面に均一配向することで(c)低屈折率層を形成する。さらに、(c)低屈折率層の形成に、フッ素系(メタ)アクリレートを主原料とする低屈折率微粒子を用いることにより、(c)低屈折率層の屈折率を下げることができるとともに、低屈折率微粒子と(b)ハードコート層の材料となる樹脂成分との相溶性を低くし、低屈折率微粒子と(b)ハードコート層との分離を促進することができる。   In the antireflection film of the present invention, (b) the hard coat layer and (c) the low refractive index layer can be formed simultaneously. That is, as shown in FIG. 1, (b) a low refractive index fine particle mainly composed of a resin component 1 (for example, acrylate or acrylate and methacrylate) as a material of the hard coat layer and a fluorine-based (meth) acrylate. When a coating agent 5 containing 3 is applied onto (a) the transparent substrate layer 7, as shown in FIG. 2, the low refractive index fine particles 3 are separated into surface layers, and (c) a low refractive index layer 9 is formed. In the coating agent 5, the resin component excluding the low refractive index fine particles 3 forms the (b) hard coat layer 11. At this time, the low refractive index fine particles are uniformly oriented on the surface of the (b) hard coat layer, thereby forming the (c) low refractive index layer. Furthermore, (c) the refractive index of the low refractive index layer can be lowered by using low refractive index fine particles mainly composed of fluorine-based (meth) acrylate for the formation of the low refractive index layer, The compatibility between the low refractive index fine particles and (b) the resin component as the material of the hard coat layer can be lowered, and the separation between the low refractive index fine particles and (b) the hard coat layer can be promoted.

本発明の反射防止フィルムは、上記のとおり、例えば、(a)透明基材層の上に、(b)ハードコート層及び(c)低屈折率層を一工程で形成することができるため、反射防止フィルムの生産性が大幅にアップするとともに、(b)ハードコート層と低屈折率微粒子からなる(c)低屈折率層との密着性向上により、表面硬度が著しく向上し、層間の剥離が生じ難くなる。
(6)請求項6の発明は、
さらに、(d)近赤外線吸収層を備え、前記(a)乃至(d)の層構造が、(d)/(a)/(b)/(c)であることを特徴とする請求項2、3、5のいずれかに記載の反射防止フィルムを要旨とする。
As described above, the antireflection film of the present invention can form, for example, (b) a hard coat layer and (c) a low refractive index layer in one step on (a) a transparent substrate layer. The productivity of the anti-reflection film is greatly improved, and (b) the adhesion between the hard coat layer and the low refractive index fine particles (c) the low refractive index layer improves the surface hardness, resulting in delamination between layers. Is less likely to occur.
(6) The invention of claim 6
Further, (d) a near-infrared absorbing layer is provided, and the layer structure of (a) to (d) is (d) / (a) / (b) / (c). The gist is the antireflection film according to any one of 3, 5 and 5.

反射防止フィルムを貼り付ける対象が、大型プラズマディスプレイ等である場合は、プラズマ放電を発生させた際に不必要な近赤外線が輻射され、テレビやエアコンなどのリモコンの誤動作を生じさせる問題があったが、本発明の反射防止フィルムは、(d)近赤外線吸収層を備えることにより、近赤外線を吸収し、テレビやエアコンなどのリモコンの誤動作を防止することができる。また、別途、近赤外線吸収フィルムをプラズマディスプレイパネル等の前面板に貼り付ける必要がないので、プラズマディスプレイパネル等の製造コストを低減できる。   When the target to which the anti-reflection film is applied is a large plasma display, unnecessary near infrared rays are radiated when plasma discharge is generated, causing a malfunction of remote controls such as TVs and air conditioners. However, the antireflection film of the present invention comprises (d) a near-infrared absorption layer, so that it can absorb near-infrared rays and prevent malfunctions of remote controls such as televisions and air conditioners. In addition, since it is not necessary to separately attach a near-infrared absorbing film to a front plate such as a plasma display panel, the manufacturing cost of the plasma display panel or the like can be reduced.

前記(d)近赤外線吸収層は、例えば、ポリエステル樹脂などの透明性樹脂に近赤外線吸収色素を添加攪拌したものを用いて、前述した各種の塗工法、印刷法により、(a)透明基材層の裏面に形成することができる。(d)近赤外線吸収層の厚みは5〜20μmが好ましい。
(7)請求項7の発明は、
前記(d)は、近赤外線吸収色素を含有し、前記反射防止フィルムは、850〜1100nmの波長域における透過率が20%以下であることを特徴とする請求項6記載の反射防止フィルムを要旨とする。
The (d) near-infrared absorbing layer is prepared by, for example, using the above-described various coating methods and printing methods using a transparent resin such as a polyester resin with a near-infrared absorbing dye added thereto and stirring. It can be formed on the back side of the layer. (D) As for the thickness of a near-infrared absorption layer, 5-20 micrometers is preferable.
(7) The invention of claim 7
7. The antireflection film according to claim 6, wherein (d) contains a near-infrared absorbing pigment, and the antireflection film has a transmittance of 20% or less in a wavelength region of 850 to 1100 nm. And

本発明の反射防止フィルムは、近赤外線吸収色素を含有することにより、不要な近赤外線の放出を防止し、リモコン等の誤動作を防止する効果が一層著しい。
また、反射防止フィルムの、850nm〜1100nmの波長全域における透過率が20%以下であることにより、不要な近赤外線の放出を防止し、リモコン等の誤動作を防止する効果が一層著しい。
Since the antireflection film of the present invention contains a near-infrared absorbing dye, the effect of preventing unnecessary near-infrared emission and preventing malfunction of a remote control or the like is further remarkable.
Further, since the transmittance of the antireflection film in the entire wavelength range from 850 nm to 1100 nm is 20% or less, the effect of preventing unnecessary near-infrared emission and preventing malfunction of the remote controller or the like is further remarkable.

前記近赤外線吸収色素は、近赤外線を吸収し、かつ透光性を有する材料であれば特に限定されない。このような色素としては、ジイモニウム系、フタロシアニン系、シアニン系、アミニウム系、アゾ系、アジン系、アントラキノン系、インジゴイド系、オキサジン系、キノフタロニン系、スクワリウム系、スチルベン系、トリフェニルメタン系、ナフトキノン系、ポリメチン系などを用いることができる。これらは材料に特有の吸収波長を有し、単独あるいは2種以上を混合して使用することで幅広い波長域において吸収性能を付与することもできる。
(8)請求項8の発明は、
前記(d)は、550〜650nmの波長域において最大吸収波長をもつネオンカット色素を含有し、前記反射防止フィルムは、最大吸収波長部おける透過率が50%以下であることを特徴とする請求項7記載の反射防止フィルムを要旨とする。
The near-infrared absorbing dye is not particularly limited as long as it is a material that absorbs near-infrared light and has translucency. Such dyes include diimonium, phthalocyanine, cyanine, aminium, azo, azine, anthraquinone, indigoid, oxazine, quinophthalonine, squalium, stilbene, triphenylmethane, naphthoquinone Polymethine series and the like can be used. These have absorption wavelengths peculiar to materials, and can also provide absorption performance in a wide wavelength range by using them alone or in combination of two or more.
(8) The invention of claim 8
The (d) contains a neon cut dye having a maximum absorption wavelength in a wavelength range of 550 to 650 nm, and the antireflection film has a transmittance of 50% or less at the maximum absorption wavelength portion. Item 7 is the antireflection film according to item 7.

本発明の反射防止フィルムは、(d)近赤外線吸収層に、550nm〜650nmの波長において最大吸収波長をもつネオンカット色素を含有することにより、プラズマディスプレイパネル等が生じさせるネオンガス特有のオレンジ色をカットし、赤色を鮮やかに発色させることができる。   The antireflection film of the present invention comprises (d) a near-infrared absorption layer containing a neon-cut dye having a maximum absorption wavelength at a wavelength of 550 nm to 650 nm, thereby producing an orange color peculiar to neon gas generated by a plasma display panel or the like. It can be cut and the red color can be vividly developed.

また、上記オレンジ色をカットするネオンカット機能を付与させた近赤外線吸収フィルムを、別途、プラズマディスプレイパネル等の前面板に貼り付ける必要がないので、プラズマディスプレイパネル等の製造コストを低減できる。   Moreover, since it is not necessary to affix the near-infrared absorption film which gave the neon cut function which cuts the said orange separately on front plates, such as a plasma display panel, the manufacturing cost of a plasma display panel etc. can be reduced.

前記550nm〜650nmの波長において最大吸収波長をもつネオンカット色素としては、例えば、シアニン系、アズレニウム系、スクワリウム系、ジフェニルメタン系、トリフェニルメタン系、オキサジン系、アジン系、チオピリウム系、ビオローゲン系、アゾ系、アゾ金属錯塩系、アザポルフィリン系、ビスアゾ系、アントラキノン系、フタロシアニン系がある。これらの色素は、単独で、あるいは2種以上を混合して使用することができる。   Examples of the neon-cut dye having the maximum absorption wavelength at the wavelength of 550 nm to 650 nm include, for example, cyanine, azulenium, squalium, diphenylmethane, triphenylmethane, oxazine, azine, thiopylium, viologen, azo Type, azo metal complex type, azaporphyrin type, bisazo type, anthraquinone type, phthalocyanine type. These dyes can be used alone or in admixture of two or more.

以下、実施例に基づいて説明する。 Hereinafter, description will be given based on examples.

(1)低屈折率層形成用フッ素変性シリコーン溶液の調製
フッ素変性シリコーン樹脂溶液は次の手順で作製した。密閉容器中にトリフルオロプロピルトリエトキシシラン(信越化学工業株式会社製 商品名KBM7103)12重量部、テトラエトキシシラン(信越化学工業株式会社製 商品名KBE04)3重量部を混合し、20℃に冷却し、次に0.25Nの酢酸2重量部を添加した後、20〜30℃で一晩熟成して加水分解を行った。この溶液にイソプロピルアルコール(IPA)35重量部、メチルエチルケトン(MEK)100重量部を添加し、固形分10%のフッ素変性シリコーン樹脂溶液を作製した。
(2)コート剤の調製
密閉容器中に6官能アクリレートのジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(新中村化学工業株式会社製 商品名A−DPH)100重量部、2官能メタクリレートであるエチレングリコールジメタクリレート(新中村化学工業株式会社製 商品名1G)20重量部、及びMEK165重量部を混合し攪拌した。さらに、開始剤として1-ヒドロキシーシクロヘキシルーフェニルーケトン(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製 商品名Irgacure184)を5重量部加え、コート剤を得た。
(3)反射防止フィルムの製造
次いで、図3に示すように、厚み100μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(以下PETフィルム)13(東レ株式会社製 商品名ルミラーU34)に、硬化後の膜厚が3μmとなるように、前記(2)で調製したコート剤を塗布し、紫外線照射機を用いて1500mW/cm2の照射強度で、仕事量が300mJ/cm2の紫外線処理を行い、ハードコート層15を得た。次に、前記(1)で調製した低屈折率層形成用シリコーン樹脂溶液を、硬化後の膜厚が0.1μmとなるように塗布し、100℃にて硬化させ、低屈折率層17を形成し、反射防止フィルム19を得た。
(1) Preparation of fluorine-modified silicone solution for forming low refractive index layer A fluorine-modified silicone resin solution was prepared by the following procedure. In a sealed container, 12 parts by weight of trifluoropropyltriethoxysilane (trade name KBM7103 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 3 parts by weight of tetraethoxysilane (trade name KBE04 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) are mixed and cooled to 20 ° C. Then, after adding 2 parts by weight of 0.25N acetic acid, it was hydrolyzed by aging at 20-30 ° C. overnight. To this solution, 35 parts by weight of isopropyl alcohol (IPA) and 100 parts by weight of methyl ethyl ketone (MEK) were added to prepare a fluorine-modified silicone resin solution having a solid content of 10%.
(2) Preparation of coating agent 100 parts by weight of hexafunctional acrylate dipentaerythritol hexaacrylate (trade name A-DPH manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) in a sealed container, ethylene glycol dimethacrylate (Shin-Nakamura) Chemical Industry Co., Ltd. product name 1G) 20 parts by weight and MEK 165 parts by weight were mixed and stirred. Furthermore, 5 parts by weight of 1-hydroxy-cyclohexyl luphenyl ketone (trade name Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) was added as an initiator to obtain a coating agent.
(3) Production of Antireflection Film Next, as shown in FIG. 3, the film thickness after curing is 3 μm on a polyethylene terephthalate film (hereinafter referred to as PET film) 13 having a thickness of 100 μm (trade name Lumirror U34 manufactured by Toray Industries, Inc.). As described above, the coating agent prepared in the above (2) was applied, and an ultraviolet treatment with an irradiation intensity of 1500 mW / cm 2 and an amount of work of 300 mJ / cm 2 was performed using an ultraviolet irradiator to obtain a hard coat layer 15. It was. Next, the low refractive index layer-forming silicone resin solution prepared in the above (1) is applied so that the film thickness after curing is 0.1 μm, cured at 100 ° C., and the low refractive index layer 17 is formed. The antireflection film 19 was obtained.

前記実施例1において、コート剤の調製のとき、エチレングリコールジメタクリレート20重量部の代わりに、3官能メタクリレートのトリメチロールプロパントリメタクリレート(新中村化学工業株式会社製 商品名TMPT)10重量部を用いたこと以外は同様にして、反射防止フィルムを得た。   In Example 1, 10 parts by weight of trifunctional methacrylate trimethylolpropane trimethacrylate (trade name TMPT, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) was used instead of 20 parts by weight of ethylene glycol dimethacrylate when preparing the coating agent. An antireflection film was obtained in the same manner except that it was.

前記実施例2において、コート剤の調製のとき、トリメチロールプロパントリメタクリレートの代わりに、3官能メタクリレートのエトキシ化トリメチロールプロパントリメタクリレート(新中村化学工業株式会社製 商品名TMPT−9EO)を用いたこと以外は同様にして、反射防止フィルムを得た。   In Example 2, when preparing the coating agent, trifunctional methacrylate ethoxylated trimethylolpropane trimethacrylate (trade name TMPT-9EO manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) was used instead of trimethylolpropane trimethacrylate. In the same manner as above, an antireflection film was obtained.

前記実施例2において、コート剤の調製のとき、A−DPH100重量部の代わりに、アクリルウレタンモノマー(根上工業株式会社製 商品名UN−3320HA)100重量部を用いたこと以外は同様にして、反射防止フィルムを得た。   In Example 2, when preparing the coating agent, instead of 100 parts by weight of A-DPH, 100 parts by weight of acrylic urethane monomer (trade name UN-3320HA manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.) was used in the same manner. An antireflection film was obtained.

前記実施例2において、コート剤の調製のとき、A−DPH100重量部の代わりに、アクリルメラミンモノマー(三井化学製 商品名オレスターXRA−1165)100重量部を用いたこと以外は同様にして、反射防止フィルムを得た。   In Example 2, when preparing the coating agent, instead of 100 parts by weight of A-DPH, 100 parts by weight of acrylic melamine monomer (trade name Oresta XRA-1165 manufactured by Mitsui Chemicals) was used in the same manner. An antireflection film was obtained.

前記実施例2において、コート剤の調製のとき、A−DPH100重量部の代わりに、3官能メタクリレートのペンタエリストールトリアクリレート(新中村化学工業株式会社製 商品名A−TMM−3)を用いたこと以外は同様にして、反射防止フィルムを得た。   In Example 2, when preparing the coating agent, pentaerythritol triacrylate of trifunctional methacrylate (trade name A-TMM-3, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) was used instead of 100 parts by weight of A-DPH. In the same manner as above, an antireflection film was obtained.

前記実施例2において、コート剤の調製のとき、さらにジルコニアスラリー(シーアイ化成株式会社製 固形分15%)を133重量部添加したこと以外は同様にして、反射防止フィルムを得た。   In Example 2, an antireflection film was obtained in the same manner except that 133 parts by weight of zirconia slurry (15% solid content manufactured by C-I Kasei Co., Ltd.) was further added during the preparation of the coating agent.

前記実施例2において、コート剤の調製のとき、さらにATOスラリー(石原産業株式会社製 商品名SNS−10M 固形分30%)を100重量部添加したこと以外は同様にして、反射防止フィルムを得た。   In Example 2, when preparing the coating agent, an antireflection film was obtained in the same manner except that 100 parts by weight of ATO slurry (trade name SNS-10M, solid content 30%, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) was further added. It was.

前記実施例3において、コート剤の調製のとき、さらにコロイダルシリカスラリー(日産化学株式会社製 商品名MEK−ST 固形分30%)を33重量部添加したこと以外は同様にして、反射防止フィルムを得た。   In Example 3, the anti-reflection film was prepared in the same manner except that 33 parts by weight of colloidal silica slurry (trade name MEK-ST, solid content 30%, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) was further added during the preparation of the coating agent. Obtained.

(1)近赤外線吸収層用コート剤の調製
ポリエステル樹脂(東洋紡績株式会社製 商品名バイロンRV200)100重量部に対し、近赤外線吸収色素(株式会社日本触媒製 商品名イーエクスカラーIR−14)7重量部、近赤外線吸収色素(株式会社日本触媒製 商品名イーエクスカラーIR−12)5重量部、近赤外線吸収色素(株式会社日本触媒製 商品名TX−EX−910B)3重量部、近赤外線吸収色素(株式会社林原生物化学研究所 商品名NK−3508)3重量部、ネオンカット色素(旭電化工業製 商品名アデカアークルズTY−102)3重量部、及びMEK100重量部を混合攪拌し、近赤外線吸収層形成用コート剤を得た。
(2)反射防止フィルムの製造
次いで、図3に示すように、厚さ100μmのPETフィルム13(ルミラーU34)に、硬化後の膜厚が3μmとなるように、前記実施例1の(2)で調製したコート剤を塗布し、紫外線照射機を用いて1500mW/cm2の照射強度で、仕事量が300mJ/cm2の紫外線処理を行い、ハードコート層15を得た。
(1) Preparation of coating agent for near-infrared absorbing layer For 100 parts by weight of a polyester resin (trade name Byron RV200, manufactured by Toyobo Co., Ltd.), a near-infrared absorbing dye (trade name: EEX Color IR-14, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) 7 parts by weight, 5 parts by weight of near-infrared absorbing dye (trade name EEX Color IR-12, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.), 3 parts by weight of near-infrared absorbing dye (trade name TX-EX-910B, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) 3 parts by weight of infrared absorbing dye (Hayashibara Biochemical Laboratories Co., Ltd., trade name NK-3508), 3 parts by weight of neon cut dye (trade name Adeka Arcles TY-102 manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) and 100 parts by weight of MEK Thus, a coating agent for forming a near-infrared absorbing layer was obtained.
(2) Manufacture of antireflection film Next, as shown in FIG. 3, the PET film 13 (Lumirror U34) having a thickness of 100 μm is subjected to (2) of Example 1 so that the film thickness after curing becomes 3 μm. The hard coating layer 15 was obtained by applying the coating agent prepared in (1) above and performing ultraviolet treatment with an irradiation intensity of 1500 mW / cm 2 and a work amount of 300 mJ / cm 2 using an ultraviolet irradiator.

次に、前記実施例1の(1)で調製した低屈折率層形成用シリコーン樹脂溶液を、硬化後の膜厚が0.1μmとなるように塗布し、100℃にて硬化させ、低屈折率層17を形成した。更に、本実施例10の(1)で調製した近赤外線吸収層形成用コート剤を、図4に示すように、PETフィルム13の裏面に、硬化後の膜厚が7μmとなるように塗布し、100℃にて硬化させて近赤外線吸収層21を形成し、反射防止フィルム19を得た。   Next, the low refractive index layer-forming silicone resin solution prepared in (1) of Example 1 was applied so that the film thickness after curing was 0.1 μm and cured at 100 ° C. The rate layer 17 was formed. Further, as shown in FIG. 4, the coating agent for forming a near infrared absorption layer prepared in (1) of Example 10 was applied to the back surface of the PET film 13 so that the film thickness after curing was 7 μm. The near-infrared absorption layer 21 was formed by curing at 100 ° C., and the antireflection film 19 was obtained.

前記実施例10において、ハードコート層15の形成用いるコート剤を、前記実施例2で調製したコート剤としたこと以外は同様にして、反射防止フィルムを得た。   An antireflection film was obtained in the same manner as in Example 10, except that the coating agent used to form the hard coat layer 15 was the coating agent prepared in Example 2.

前記実施例10において、ハードコート層15におけるエチレングリコールジメタクリレートの配合量を、5重量部としたこと以外は同様にして、反射防止フィルムを得た。   An antireflection film was obtained in the same manner as in Example 10 except that the blending amount of ethylene glycol dimethacrylate in the hard coat layer 15 was 5 parts by weight.

前記実施例10において、ハードコート層15におけるエチレングリコールジメタクリレートの配合量を、45重量部としたこと以外は同様にして、反射防止フィルムを得た。   An antireflection film was obtained in the same manner as in Example 10, except that the amount of ethylene glycol dimethacrylate in the hard coat layer 15 was 45 parts by weight.

前記実施例11において、ハードコート層15におけるTMPTの配合量を5重量部としたこと以外は同様にして、反射防止フィルムを得た。   An antireflection film was obtained in the same manner as in Example 11 except that the blending amount of TMPT in the hard coat layer 15 was 5 parts by weight.

前記実施例11において、ハードコート層15におけるTMPTの配合量を45重量部としたこと以外は同様にして、反射防止フィルムを得た。   An antireflection film was obtained in the same manner as in Example 11 except that the blending amount of TMPT in the hard coat layer 15 was 45 parts by weight.

(1)低屈折率微粒子スラリーの調製
(1―1)低屈折率微粒子スラリーA−3の調製
攪拌機、温度計、還流冷却器および窒素ガス導入口を備えた重合容器に、脱イオン水120重量部、ジアルキルスルホコハク酸エステルナトリウム0.3重量部およびpH緩衝剤としての重炭酸ナトリウム0.1重量部を仕込み攪拌しながら60℃に加熱した後、窒素置換した。この中にメチルメタクリレート2重量部を添加し、10分後に0.98重量部の脱イオン水に溶解した過硫酸ナトリウム0.1部を添加しシード重合を行った。発熱開始から60分後、4.9部の脱イオン水に溶解した過硫酸ナトリウム0.1重量部を添加し、さらに10分後、2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート70重量部、メチルメタクリレート25重量部、エチレングリコールジメタクリレート5.0重量部、脱イオン水60重量部、ジアルキルスルホコハク酸エステルナトリウム0.8重量部、及び重炭酸ナトリウム0.3部重量からなる乳化モノマー液を、攪拌下、温度を80℃に保ちながら3時間かけて滴下し、滴下終了後2時間85℃を維持し重合を終了させ、水系ラテックス(A−1)を得た。水系ラテックス(A−1)は、低屈折率微粒子を固形分で33.9%含み、低屈折率微粒子の平均粒子径は490nmであり、低屈折率微粒子固形物の屈折率は1.43であった。
(1) Preparation of Low Refractive Index Fine Particle Slurry (1-1) Preparation of Low Refractive Index Fine Particle Slurry A-3 In a polymerization vessel equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser and nitrogen gas inlet, 120 weight of deionized water Parts, 0.3 parts by weight of sodium dialkylsulfosuccinate and 0.1 parts by weight of sodium bicarbonate as a pH buffering agent were charged and heated to 60 ° C. with stirring, and then purged with nitrogen. To this, 2 parts by weight of methyl methacrylate was added, and after 10 minutes, 0.1 part of sodium persulfate dissolved in 0.98 parts by weight of deionized water was added to perform seed polymerization. 60 minutes after the start of heat generation, 0.1 part by weight of sodium persulfate dissolved in 4.9 parts of deionized water was added, and after another 10 minutes, 70 parts by weight of 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, methyl An emulsified monomer liquid consisting of 25 parts by weight of methacrylate, 5.0 parts by weight of ethylene glycol dimethacrylate, 60 parts by weight of deionized water, 0.8 parts by weight of sodium dialkylsulfosuccinate, and 0.3 parts by weight of sodium bicarbonate is stirred. The solution was added dropwise over 3 hours while maintaining the temperature at 80 ° C., and the polymerization was terminated by maintaining 85 ° C. for 2 hours after the completion of the addition to obtain an aqueous latex (A-1). The aqueous latex (A-1) contains 33.9% of low refractive index fine particles in solid content, the average particle diameter of the low refractive index fine particles is 490 nm, and the refractive index of the low refractive index fine particle solid is 1.43. there were.

上記で合成された水系ラテックス(A−1)に、有機溶剤への転相の妨げとなるイオン性不純物の除去を目的に、イオン交換樹脂(Rohm and Haas社製 商品名アンバーライトMB−2)15重量部を添加し攪拌した。24時間攪拌した後、濾過によりイオン交換樹脂を除去し、水系ラテックス(A−2)を得た。   An ion exchange resin (trade name Amberlite MB-2, manufactured by Rohm and Haas) for the purpose of removing ionic impurities that hinder phase inversion to an organic solvent to the aqueous latex (A-1) synthesized above. 15 parts by weight was added and stirred. After stirring for 24 hours, the ion exchange resin was removed by filtration to obtain an aqueous latex (A-2).

この精製された水系ラテックス(A−2)に、酢酸エチル570重量部を加え攪拌し、水系ラテックス中に存在する低屈折率微粒子の有機層への転相を行った。その後静置し、透明な水相と白濁した有機相とを分離し、非水系微粒子分散体である低屈折率微粒子スラリー(A−3)を得た。この低屈折率微粒子スラリー(A−3)の固形分は15.0%であった。
(1−2)低屈折率微粒子スラリーB−3の調製
攪拌機、温度計、還流冷却器および窒素ガス導入口を備えた重合容器に、脱イオン水120重量部、ジアルキルスルホコハク酸エステルナトリウム0.8重量部およびpH緩衝剤として重炭酸ナトリウム0.4重量部を仕込み攪拌しながら60℃に加熱した後、窒素置換した。この中にメチルメタクリレート2重量部を添加し、10分後に0.98重量部の脱イオン水に溶解した過硫酸ナトリウム0.1重量部を添加しシード重合を行った。発熱開始から60分後、4.9重量部の脱イオン水に溶解した過硫酸ナトリウム0.1重量部を添加し、さらに10分後、2,2,2―トリフルオロエチルメタクリレート70重量部、メチルメタクリレート25重量部、エチレングリコールジメタクリレート5重量部、脱イオン水60重量部、ジアルキルスルホコハク酸エステルナトリウム1.2重量部、及び重炭酸ナトリウム0.5重量部からなる乳化モノマー液を、攪拌下、温度を80℃に保ちながら3時間かけて滴下し、滴下終了後2時間85℃を維持し重合を終了させ水系ラテックス(B−1)を得た。水系ラテックス(B−1)は、低屈折率微粒子を固形分で34.1%含み、低屈折率微粒子の平均粒子径は100nmであり、低屈折率微粒子固形物の屈折率は1.43であった。
To this purified aqueous latex (A-2), 570 parts by weight of ethyl acetate was added and stirred, and phase inversion of the low refractive index fine particles present in the aqueous latex to the organic layer was performed. Thereafter, the mixture was allowed to stand to separate a transparent aqueous phase and a cloudy organic phase, thereby obtaining a low refractive index fine particle slurry (A-3) as a non-aqueous fine particle dispersion. The solid content of the low refractive index fine particle slurry (A-3) was 15.0%.
(1-2) Preparation of Low Refractive Index Fine Particle Slurry B-3 In a polymerization vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser and a nitrogen gas inlet, 120 parts by weight of deionized water and sodium dialkylsulfosuccinate 0.8 After adding 0.4 parts by weight of sodium bicarbonate as a part by weight and a pH buffering agent, the mixture was heated to 60 ° C. with stirring and then purged with nitrogen. To this, 2 parts by weight of methyl methacrylate was added, and after 10 minutes, 0.1 part by weight of sodium persulfate dissolved in 0.98 part by weight of deionized water was added to perform seed polymerization. 60 minutes after the start of exotherm, 0.1 part by weight of sodium persulfate dissolved in 4.9 parts by weight of deionized water was added, and after another 10 minutes, 70 parts by weight of 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, An emulsified monomer solution consisting of 25 parts by weight of methyl methacrylate, 5 parts by weight of ethylene glycol dimethacrylate, 60 parts by weight of deionized water, 1.2 parts by weight of sodium dialkylsulfosuccinate, and 0.5 parts by weight of sodium bicarbonate was stirred. While maintaining the temperature at 80 ° C., the solution was added dropwise over 3 hours, and after completion of the addition, the temperature was maintained at 85 ° C. for 2 hours to complete the polymerization to obtain an aqueous latex (B-1). The aqueous latex (B-1) contains 34.1% of low refractive index fine particles in solid content, the average particle diameter of the low refractive index fine particles is 100 nm, and the refractive index of the low refractive index fine particle solid is 1.43. there were.

上記で合成された水系ラテックス(B−1)に、有機溶剤への転相の妨げとなるイオン性不純物の除去を目的に、イオン交換樹脂MB−2を25重量部添加し攪拌した。24時間攪拌した後、濾過によりイオン交換樹脂を除去し、水系ラテックス(B−2)を得た。   To the aqueous latex (B-1) synthesized above, 25 parts by weight of ion exchange resin MB-2 was added and stirred for the purpose of removing ionic impurities that hindered phase inversion to an organic solvent. After stirring for 24 hours, the ion exchange resin was removed by filtration to obtain an aqueous latex (B-2).

この精製された水系ラテックス(B−2)に、酢酸エチル570重量部を加え攪拌し、水系ラテックス中に存在する低屈折率微粒子の有機層への転相を行った。その後静置し、透明な水相と白濁した有機相とを分離し、非水系微粒子分散体である低屈折率微粒子スラリー(B−3)を得た。低屈折率微粒子スラリー(B−3)の固形分は、15.0%であった。
(1−3)低屈折率微粒子スラリーC−3の調製
攪拌機、温度計、還流冷却器および窒素ガス導入口を備えた重合容器に、脱イオン水120重量部、ジアルキルスルホコハク酸エステルナトリウム0.8重量部およびpH緩衝剤として重炭酸ナトリウム0.4重量部を仕込み攪拌しながら60℃に加熱した後、窒素置換した。この中にメチルメタクリレート2重量部を添加し、10分後に0.98重量部の脱イオン水に溶解した過硫酸ナトリウム0.1重量部を添加し種重合を行った。発熱開始から60分後、4.9重量部の脱イオン水に溶解した過硫酸ナトリウム0.1重量部を添加し、さらに10分後、メチルメタクリレート95重量部、エチレングリコールジメタクリレート5重量部、脱イオン水60重量部、ジアルキルスルホコハク酸エステルナトリウム1.2重量部、及び重炭酸ナトリウム0.5重量部からなる乳化モノマー液を、攪拌下、温度を80℃に保ちながら3時間かけて滴下し、滴下終了後2時間85℃を維持し重合を終了させ水系ラテックス(C−1)を得た。水系ラテックス(C−1)は、低屈折率微粒子を固形分で34.1%含み、低屈折率微粒子の平均粒子径は100nmであり、低屈折率微粒子固形物の屈折率は1.49であった。
To the purified aqueous latex (B-2), 570 parts by weight of ethyl acetate was added and stirred, and the phase of the low refractive index fine particles present in the aqueous latex was changed to the organic layer. Thereafter, the mixture was allowed to stand, and the transparent aqueous phase and the cloudy organic phase were separated to obtain a low refractive index fine particle slurry (B-3) which is a non-aqueous fine particle dispersion. The solid content of the low refractive index fine particle slurry (B-3) was 15.0%.
(1-3) Preparation of Low Refractive Index Fine Particle Slurry C-3 In a polymerization vessel equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser and nitrogen gas inlet, 120 parts by weight of deionized water, sodium dialkylsulfosuccinate 0.8 After adding 0.4 parts by weight of sodium bicarbonate as a part by weight and a pH buffering agent, the mixture was heated to 60 ° C. with stirring and then purged with nitrogen. To this was added 2 parts by weight of methyl methacrylate, and 10 minutes later, 0.1 part by weight of sodium persulfate dissolved in 0.98 parts by weight of deionized water was added to perform seed polymerization. 60 minutes after the start of exotherm, 0.1 part by weight of sodium persulfate dissolved in 4.9 parts by weight of deionized water was added. After another 10 minutes, 95 parts by weight of methyl methacrylate, 5 parts by weight of ethylene glycol dimethacrylate, An emulsified monomer liquid consisting of 60 parts by weight of deionized water, 1.2 parts by weight of sodium dialkylsulfosuccinate and 0.5 parts by weight of sodium bicarbonate was added dropwise over 3 hours while maintaining the temperature at 80 ° C. with stirring. After completion of dropping, the temperature was maintained at 85 ° C. for 2 hours to complete the polymerization, thereby obtaining an aqueous latex (C-1). The aqueous latex (C-1) contains 34.1% of low refractive index fine particles in solid content, the average particle diameter of the low refractive index fine particles is 100 nm, and the refractive index of the low refractive index fine particle solid is 1.49. there were.

上記で合成された水系ラテックス(C−1)に、有機溶剤への転相の妨げとなるイオン性不純物の除去を目的に、イオン交換樹脂MB−2を25重量部添加し攪拌した。24時間攪拌した後、濾過によりイオン交換樹脂を除去し、水系ラテックス(C−2)を得た。   To the aqueous latex (C-1) synthesized above, 25 parts by weight of ion exchange resin MB-2 was added and stirred for the purpose of removing ionic impurities that hindered phase inversion to an organic solvent. After stirring for 24 hours, the ion exchange resin was removed by filtration to obtain an aqueous latex (C-2).

この精製された水系ラテックス(C−2)に、酢酸エチル570重量部を加え攪拌し、水系ラテックス中に存在する低屈折率微粒子の有機層への転相を行った。その後静置し、透明な水相と白濁した有機相とを分離し、非水系微粒子分散体である低屈折率微粒子スラリー(C−3)を得た。低屈折率微粒子スラリー(C−3)の固形分は、15.0%であった。
(2)コート剤の調製
A−DPH100重量部に対し、前記(1−3)で調製した低屈折率微粒子スラリーB−3(固形分15%)を33.3重量部、ジルコニアスラリー(シーアイ化成株式会社製 固形分15%)を66.7重量部、MEKを65.0重量部、開始剤としてIrgacure184を5重量部、レベリング剤としてSNレベラーS−906(サンノプコ株式会社製 固形分50%)を0.5重量部加え、コート剤aを得た。
(3)反射防止フィルムの製造
次に、コート剤aを厚さ100μmのPETフィルム(ルミラーU34)に硬化膜厚が3μmとなるようにバーコート法で塗工し、熱風乾燥機で100℃、2分の条件で乾燥した。その後、紫外線照射装置を用いて1500mW/cm2の照射強度で仕事量が300mJ/cm2の紫外線処理を行い硬化させ、反射防止フィルムを得た。
To this purified aqueous latex (C-2), 570 parts by weight of ethyl acetate was added and stirred, and phase inversion of the low refractive index fine particles present in the aqueous latex to the organic layer was performed. Thereafter, the mixture was allowed to stand, and the transparent aqueous phase and the cloudy organic phase were separated to obtain a low refractive index fine particle slurry (C-3) which is a non-aqueous fine particle dispersion. The solid content of the low refractive index fine particle slurry (C-3) was 15.0%.
(2) Preparation of coating agent 33.3 parts by weight of low refractive index fine particle slurry B-3 (solid content 15%) prepared in the above (1-3) and zirconia slurry (Ci Kasei) with respect to 100 parts by weight of A-DPH 156.7% solid content) 66.7 parts by weight, 65.0 parts by weight MEK, 5 parts by weight Irgacure 184 as an initiator, SN leveler S-906 as a leveling agent (50% solids by San Nopco) Was added in an amount of 0.5 parts by weight to obtain a coating agent a.
(3) Production of anti-reflection film Next, the coating agent a was applied to a PET film (Lumirror U34) having a thickness of 100 μm by a bar coating method so that the cured film thickness was 3 μm, and then heated at 100 ° C. with a hot air dryer. Dried for 2 minutes. Thereafter, an ultraviolet ray treatment with an irradiation intensity of 1500 mW / cm 2 and an amount of work of 300 mJ / cm 2 was performed and cured using an ultraviolet ray irradiation device to obtain an antireflection film.

A−DPH100重量部に対し、前記実施例16の(1−1)で調製した低屈折率微粒子スラリーA−3(固形分15%)を33.3重量部、ジルコニアスラリー(固形分15%)を333.3重量部、開始剤としてIrgacure184を5重量部、レベリング剤としてSNレベラーS−906を0.5重量部加えコート剤bを得た。   33.3 parts by weight of the low refractive index fine particle slurry A-3 (solid content 15%) prepared in (1-1) of Example 16 with respect to 100 parts by weight of A-DPH, zirconia slurry (solid content 15%) 33.3 parts by weight, 5 parts by weight of Irgacure 184 as an initiator, and 0.5 parts by weight of SN leveler S-906 as a leveling agent were added to obtain a coating agent b.

次に、コート剤b、を厚さ100μmのPETフィルム(ルミラーU34)に硬化膜厚が3μmとなるようにバーコート法で塗工し、熱風乾燥機で100℃、2分の条件で乾燥した。その後、紫外線照射装置を用いて1500mW/cm2の照射強度で仕事量が300mJ/cm2の紫外線処理を行い硬化させ反射防止フィルムを得た。 Next, the coating agent b was applied to a PET film (Lumirror U34) having a thickness of 100 μm by a bar coating method so as to have a cured film thickness of 3 μm, and dried with a hot air dryer at 100 ° C. for 2 minutes. . Thereafter, an ultraviolet ray treatment with an irradiation intensity of 1500 mW / cm 2 and a work amount of 300 mJ / cm 2 was performed by using an ultraviolet ray irradiation device and cured to obtain an antireflection film.

A−DPH100重量部に対し、前記実施例16の(1−2)で調製した低屈折率微粒子スラリーB−3(固形分15%)を6.7重量部、ジルコニアスラリー(固形分15%)を333.3重量部、開始剤としてIrgacure184を5重量部、レベリング剤としてSNレベラーS−906を0.5重量部加えコート剤cを得た。   6.7 parts by weight of the low refractive index fine particle slurry B-3 (solid content 15%) prepared in (1-2) of Example 16 with respect to 100 parts by weight of A-DPH, zirconia slurry (solid content 15%) Was 333.3 parts by weight, 5 parts by weight of Irgacure 184 was used as an initiator, and 0.5 part by weight of SN leveler S-906 was added as a leveling agent to obtain a coating agent c.

次に、コート剤cを、厚さ100μmのPETフィルム(ルミラーU34)に硬化膜厚が3μmとなるようにバーコート法で塗工し、熱風乾燥機で100℃、2分の条件で乾燥した。その後、紫外線照射装置を用いて1500mW/cm2の照射強度で仕事量が300mJ/cm2の紫外線処理を行い硬化させ反射防止フィルムを得た。 Next, the coating agent c was applied to a PET film (Lumirror U34) having a thickness of 100 μm by a bar coating method so that the cured film thickness was 3 μm, and dried with a hot air dryer at 100 ° C. for 2 minutes. . Thereafter, an ultraviolet ray treatment with an irradiation intensity of 1500 mW / cm 2 and a work amount of 300 mJ / cm 2 was performed by using an ultraviolet ray irradiation device and cured to obtain an antireflection film.

A−DPH100重量部に対し、前記実施例16の(1−2)で調製した低屈折率微粒子スラリーB−3(固形分15%)を166.7重量部、ジルコニアスラリー(固形分15%)を333.3重量部、開始剤としてIrgacure184を5重量部、レベリング剤としてSNレベラーS−906を0.5重量部加え、コート剤dを得た。   166.7 parts by weight of low refractive index fine particle slurry B-3 (solid content 15%) prepared in (1-2) of Example 16 with respect to 100 parts by weight of A-DPH, zirconia slurry (solid content 15%) 333.3 parts by weight, 5 parts by weight of Irgacure 184 as an initiator, and 0.5 parts by weight of SN leveler S-906 as a leveling agent were added to obtain a coating agent d.

次に、コート剤dを厚さ100μmのPETフィルム(ルミラーU34)に硬化膜厚が3μmとなるようにバーコート法で塗工し、熱風乾燥機で100℃、2分の条件で乾燥した。その後、紫外線照射装置を用いて1500mW/cm2の照射強度で仕事量が300mJ/cm2の紫外線処理を行い硬化させ反射防止フィルムを得た。 Next, the coating agent d was applied to a 100 μm thick PET film (Lumirror U34) by a bar coating method so as to have a cured film thickness of 3 μm, and dried with a hot air drier at 100 ° C. for 2 minutes. Thereafter, an ultraviolet ray treatment with an irradiation intensity of 1500 mW / cm 2 and a work amount of 300 mJ / cm 2 was performed by using an ultraviolet ray irradiation device and cured to obtain an antireflection film.

A−DPH100重量部に対し、前記実施例16の(1−2)で調製した低屈折率微粒子スラリーB−3(固形分15%)を33.3重量部、開始剤としてIrgacure184を5重量部、レベリング剤としてSNレベラーS−906を0.5重量部加えコート剤eを得た。   33.3 parts by weight of low refractive index fine particle slurry B-3 (solid content 15%) prepared in (1-2) of Example 16 and 5 parts by weight of Irgacure 184 as an initiator with respect to 100 parts by weight of A-DPH As a leveling agent, 0.5 part by weight of SN leveler S-906 was added to obtain a coating agent e.

次に、コート剤eを、厚さ100μmのPETフィルム(ルミラーU34)に硬化膜厚が3μmとなるようにバーコート法で塗工し、熱風乾燥機で100℃、2分の条件で乾燥した。その後、紫外線照射装置を用いて1500mW/cm2の照射強度で仕事量が300mJ/cm2の紫外線処理を行い硬化させ反射防止フィルムを得た。 Next, the coating agent e was coated on a 100 μm thick PET film (Lumirror U34) by a bar coating method so as to have a cured film thickness of 3 μm, and dried with a hot air dryer at 100 ° C. for 2 minutes. . Thereafter, an ultraviolet ray treatment with an irradiation intensity of 1500 mW / cm 2 and a work amount of 300 mJ / cm 2 was performed by using an ultraviolet ray irradiation device and cured to obtain an antireflection film.

まず、前記実施例16と同様に、PETフィルムの片面にコート剤aを塗布し、乾燥及び紫外線処理をした。その後、PETフィルムの反対側の面に、前記実施例10の(1)で調製した近赤外線吸収層形成用コート剤を、硬化後の膜厚が7μmとなるように塗布し、100℃にて硬化させて近赤外線吸収層を形成し、反射防止フィルムを得た。   First, in the same manner as in Example 16, the coating agent a was applied to one side of a PET film, dried and subjected to ultraviolet treatment. Thereafter, the near-infrared absorbing layer forming coating agent prepared in (1) of Example 10 was applied to the opposite surface of the PET film so that the film thickness after curing was 7 μm, and at 100 ° C. It was cured to form a near-infrared absorbing layer to obtain an antireflection film.

まず、前記実施例17と同様に、PETフィルムの片面にコート剤bを塗布し、乾燥及び紫外線処理をした。その後、PETフィルムの反対側の面に、前記実施例10の(1)で調製した近赤外線吸収層形成用コート剤を、硬化後の膜厚が7μmとなるように塗布し、100℃にて硬化させて近赤外線吸収層を形成し、反射防止フィルムを得た。
[比較例1]
前期実施例1において、コート剤の調製のとき、エチレングリコールジメタクリレート20重量部の代わりに、単官能メタクリレートであるメチルメタクリレート30重量部を用いたこと以外は同様にして、反射防止フィルムを得た。
[比較例2]
前記比較例1において、コート剤の調製のとき、メチルメタクリレートを添加しなかったこと以外は同様にして、反射防止フィルムを得た。
[比較例3]
前記実施例5において、コート剤の調製のとき、トリメチロールプロパントリメタクリレートを添加しなかったこと以外は同様にして、反射防止フィルムを得た。
[比較例4]
前記実施例7において、コート剤の調製のとき、トリメチロールプロパントリメタクリレートを添加しなかったこと以外は同様にして、反射防止フィルムを得た。
[比較例5]
前記実施例6において、コート剤の調製のとき、トリメチロールプロパントリメタクリレートを添加しなかったこと以外は同様にして、反射防止フィルムを得た。
[比較例6]
前記実施例1において、コート剤の調製のとき、メタクリレートを用いず、ポリエチレングリコールジアクリレートを20重量部用いたこと以外は同様にして、反射防止フィルムを得た。
[比較例7]
前記比較例2において、コート剤の硬化のとき、紫外線照射機を用いて1500mW/cm2の照射強度で仕事量が300mJ/cm2の紫外線処理を行う代わりに、紫外線照射機を用いて700mW/cm2の照射強度で仕事量が150mJ/cm2の紫外線処理を行ってハーフキュアさせたこと以外は同様にして、反射防止フィルムを得た。
[比較例8]
(1)前記実施例1において、低屈折率層の形成のとき、フッ素変性シリコーン樹脂溶液の代わりに以下の(2)に示す手順で作製したシリコーン樹脂溶液を用いたこと以外は同様にして、反射防止フィルムを得た。
(2)低屈折率層形成用シリコーン樹脂溶液の調整
密閉溶液中にてヒドロキシプロピルトリメトキシシラン(東レ・ダウコーニング株式会社製 50%メタノール溶液)4重量部、メチルトリエトキシシラン(東レ・ダウコーニング株式会社製)10重量部を混合し20℃に冷却した。次に、1Nの塩酸4重量部を1時間掛けて徐々に添加した後、20〜30℃で一晩熟成して加水分解を行った。この溶液に酢酸7重量部、イソプロピルアルコール(IPA)25重量部、及びメチルエチルケトン(MEK)70重量部を添加し、固形分10%の低屈折率層形成用シリコーン樹脂溶液を作製した。
[比較例9]
前記実施例10において、ハードコート層15における1G(2官能メタクリレートであるエチレングリコールジメタクリレート)の配合量を0.3重量部にしたこと以外は同様にして、反射防止フィルムを得た。
[比較例10]
前記実施例10において、ハードコート層15における1Gの配合量を55重量部にしたこと以外は同様にして、反射防止フィルムを得た。
[比較例11]
前記実施例10において、ハードコート層15の成分として、20重量部の1Gの代わりに、10重量部のメチルメタクリレートを用いたこと以外は同様にして、反射防止フィルムを得た。
[比較例12]
A−DPH100重量部に対し、前記実施例16の(1−3)で調製した低屈折率微粒子スラリーC−3(固形分15%)を33.3重量部、ジルコニアスラリーを66.7重量部、MEKを65.0重量部、開始剤としてIrgacure184を5重量部、レベリング剤としてのSNレベラーS−906を0.5重量部加え、コート剤fを得た。
First, in the same manner as in Example 17, the coating agent b was applied to one side of a PET film, followed by drying and ultraviolet treatment. Thereafter, the near-infrared absorbing layer forming coating agent prepared in (1) of Example 10 was applied to the opposite surface of the PET film so that the film thickness after curing was 7 μm, and at 100 ° C. It was cured to form a near-infrared absorbing layer to obtain an antireflection film.
[Comparative Example 1]
In the previous Example 1, when preparing the coating agent, an antireflection film was obtained in the same manner except that 30 parts by weight of methyl methacrylate, which is a monofunctional methacrylate, was used instead of 20 parts by weight of ethylene glycol dimethacrylate. .
[Comparative Example 2]
In Comparative Example 1, an antireflection film was obtained in the same manner except that methyl methacrylate was not added when the coating agent was prepared.
[Comparative Example 3]
In Example 5, an antireflection film was obtained in the same manner except that trimethylolpropane trimethacrylate was not added during the preparation of the coating agent.
[Comparative Example 4]
In Example 7, an antireflection film was obtained in the same manner except that trimethylolpropane trimethacrylate was not added during the preparation of the coating agent.
[Comparative Example 5]
In Example 6, an antireflection film was obtained in the same manner except that trimethylolpropane trimethacrylate was not added during the preparation of the coating agent.
[Comparative Example 6]
In Example 1, an antireflection film was obtained in the same manner except that 20 parts by weight of polyethylene glycol diacrylate was used instead of methacrylate when preparing the coating agent.
[Comparative Example 7]
In Comparative Example 2, when the coating agent was cured, instead of performing an ultraviolet treatment with an irradiation intensity of 1500 mW / cm 2 and a work amount of 300 mJ / cm 2 using an ultraviolet irradiator, 700 mW / An antireflection film was obtained in the same manner except that the ultraviolet ray treatment was performed with an irradiation intensity of cm 2 and a work amount of 150 mJ / cm 2 to perform half cure.
[Comparative Example 8]
(1) In the case of forming the low refractive index layer in Example 1, except that the silicone resin solution prepared by the procedure shown in the following (2) was used instead of the fluorine-modified silicone resin solution, An antireflection film was obtained.
(2) Preparation of silicone resin solution for forming low refractive index layer 4 parts by weight of hydroxypropyltrimethoxysilane (50% methanol solution manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), methyltriethoxysilane (Toray Dow Corning) in a sealed solution 10 parts by weight) were mixed and cooled to 20 ° C. Next, 4 parts by weight of 1N hydrochloric acid was gradually added over 1 hour, followed by aging at 20-30 ° C. overnight for hydrolysis. 7 parts by weight of acetic acid, 25 parts by weight of isopropyl alcohol (IPA), and 70 parts by weight of methyl ethyl ketone (MEK) were added to this solution to prepare a silicone resin solution for forming a low refractive index layer having a solid content of 10%.
[Comparative Example 9]
An antireflection film was obtained in the same manner as in Example 10, except that the amount of 1G (ethylene glycol dimethacrylate, which is a bifunctional methacrylate) in the hard coat layer 15 was 0.3 parts by weight.
[Comparative Example 10]
An antireflection film was obtained in the same manner as in Example 10, except that the amount of 1G in the hard coat layer 15 was 55 parts by weight.
[Comparative Example 11]
An antireflection film was obtained in the same manner as in Example 10 except that 10 parts by weight of methyl methacrylate was used as a component of the hard coat layer 15 instead of 20 parts by weight of 1G.
[Comparative Example 12]
33.3 parts by weight of the low refractive index fine particle slurry C-3 (solid content 15%) prepared in (1-3) of Example 16 and 66.7 parts by weight of zirconia slurry with respect to 100 parts by weight of A-DPH. Then, 65.0 parts by weight of MEK, 5 parts by weight of Irgacure 184 as an initiator, and 0.5 parts by weight of SN leveler S-906 as a leveling agent were added to obtain a coating agent f.

次に、コート剤fを、厚さ100μmのPETフィルム(ルミラーU34)に硬化膜厚が3μmとなるようにバーコート法で塗工し、熱風乾燥機で100℃、2分の条件で乾燥した。その後、紫外線照射装置を用いて1500mW/cm2の照射強度で、仕事量が300mJ/cm2の紫外線処理を行い、反射防止フィルムを得た。
[比較例13]
A−DPH100重量部に対し、前記実施例10の(1−2)で調製した低屈折率微粒子スラリーB−3(固形分15%)を0.7重量部、ジルコニアスラリーを333.3重量部、開始剤としてIrgacure184を5重量部、レベリング剤としてのSNレベラーS−906を0.5重量部加え、コート剤gを得た。
Next, the coating agent f was applied to a PET film (Lumirror U34) having a thickness of 100 μm by a bar coating method so as to have a cured film thickness of 3 μm, and dried with a hot air dryer at 100 ° C. for 2 minutes. . Thereafter, an ultraviolet ray treatment with an irradiation intensity of 1500 mW / cm 2 and an amount of work of 300 mJ / cm 2 was performed using an ultraviolet ray irradiation device to obtain an antireflection film.
[Comparative Example 13]
0.7 parts by weight of low refractive index fine particle slurry B-3 (solid content 15%) prepared in (1-2) of Example 10 and 333.3 parts by weight of zirconia slurry with respect to 100 parts by weight of A-DPH. Then, 5 parts by weight of Irgacure 184 as an initiator and 0.5 parts by weight of SN leveler S-906 as a leveling agent were added to obtain a coating agent g.

次に、コート剤gを、厚さ100μmのPETフィルム(ルミラーU34)に硬化膜厚が3μmとなるようにバーコート法で塗工し、熱風乾燥機で100℃、2分の条件で乾燥した。その後、紫外線照射装置を用いて1500mW/cm2の照射強度で、仕事量が300mJ/cm2の紫外線処理を行い、反射防止フィルムを得た。
[参考例1]
A−DPH100重量部に対し、前記実施例1の(1−2)で調製した低屈折率微粒子スラリーB−3(固形分15%)を200重量部、ジルコニアスラリー(固形分15%)を333.3重量部、開始剤としてIrgacure184を5重量部、レベリング剤としてSNレベラーS−906を0.5重量部加え、コート剤hを得た。
Next, the coating agent g was applied to a PET film (Lumirror U34) having a thickness of 100 μm by a bar coating method so as to have a cured film thickness of 3 μm, and dried by a hot air dryer at 100 ° C. for 2 minutes. . Thereafter, an ultraviolet ray treatment with an irradiation intensity of 1500 mW / cm 2 and an amount of work of 300 mJ / cm 2 was performed using an ultraviolet ray irradiation device to obtain an antireflection film.
[Reference Example 1]
200 parts by weight of low refractive index fine particle slurry B-3 (solid content 15%) prepared in (1-2) of Example 1 and 333 zirconia slurry (solid content 15%) with respect to 100 parts by weight of A-DPH. .3 parts by weight, 5 parts by weight of Irgacure 184 as an initiator, and 0.5 parts by weight of SN leveler S-906 as a leveling agent were added to obtain a coating agent h.

次に、コート剤h、を厚さ100μmのPETフィルム(ルミラーU34)に硬化膜厚が3μmとなるようにバーコート法で塗工し、熱風乾燥機で100℃、2分の条件で乾燥した。その後、紫外線照射装置を用いて1500mW/cm2の照射強度で、仕事量が300mJ/cm2の紫外線処理を行い、反射防止フィルムを得た。 Next, the coating agent h was applied to a PET film (Lumirror U34) having a thickness of 100 μm by a bar coating method so as to have a cured film thickness of 3 μm, and dried with a hot air dryer at 100 ° C. for 2 minutes. . Thereafter, an ultraviolet ray treatment with an irradiation intensity of 1500 mW / cm 2 and an amount of work of 300 mJ / cm 2 was performed using an ultraviolet ray irradiation device to obtain an antireflection film.

表1〜表4に、本実施例1〜15、比較例1〜11においてハードコート層を形成するために用いるコート剤の配合成分を示す。なお、実施例1〜15、比較例1〜11における添加量は、アクリレートの添加量を100重量部としたときの重量部(固形分)である。   Tables 1 to 4 show the blending components of the coating agent used for forming the hard coat layer in Examples 1 to 15 and Comparative Examples 1 to 11. In addition, the addition amount in Examples 1-15 and Comparative Examples 1-11 is a weight part (solid content) when the addition amount of an acrylate is 100 weight part.

また、表5および表6に本実施例16〜22、比較例12、13、及び参考例1において反射防止フィルムを形成するために用いるコート剤の配合成分を示す。ここで、「低屈折率微粒子の添加量」は、樹脂(固形分)100重量部に対する低屈折率微粒子の添加量(重量部)である。また、表5及び表6には、樹脂の硬化後における屈折率、低屈折率微粒子の硬化後における屈折率、及びコート剤塗布により形成されたドライ膜厚を示す。   Moreover, the compounding component of the coating agent used in order to form an anti-reflective film in the present Examples 16-22, the comparative examples 12 and 13, and the reference example 1 in Table 5 and Table 6 is shown. Here, the “addition amount of the low refractive index fine particles” is the addition amount (parts by weight) of the low refractive index fine particles with respect to 100 parts by weight of the resin (solid content). Tables 5 and 6 show the refractive index after curing of the resin, the refractive index after curing of the low refractive index fine particles, and the dry film thickness formed by applying the coating agent.

Figure 2008241882
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上記実施例1〜22及び比較例1〜13、及び参考例1で製造した反射防止フィルムについて、その効果を確かめるための試験を行った。
(a)試験・評価方法
(i)全光線透過率(Tt)の測定
JIS K 7361−1(2000年版)3.2の規定に基づいて行った。測定装置としては、株式会社東洋精機製作所製のヘイズガードIIを用いた。
(ii)ヘイズ値(Hz)の測定
JIS K 7136(2000年版)の規定に基づいて行った。具体的には、入射する平行光のうち、前方散乱によって、入射光から0.44rad(2.5°)以上それた透過光の百分率を測定した。測定装置としては、株式会社東洋精機製作所製のヘイズガードIIを用いた。
(iii)鉛筆硬度の測定
JIS K 5600−5−4(1999年版)の規定に基づいて行った。測定装置としては、株式会社東洋精機製作所製の鉛筆引掻塗膜硬さ試験機(形式P)を用いた
(iv)耐磨耗性の測定
反射防止フィルムの表面を、200gの荷重をかけた日本スチールウール株式会社製のスチールウール#0000にて摩擦して傷の度合いを目視により評価した。傷の本数が3本以下のものを◎、4本〜8本のものを○、9本〜15本のものを△、それ以上のものを×とした。
(v)最小反射率の測定
作製した反射防止フィルムの裏面をサンドペーパーで均一に研磨し、マーカーの黒色で塗りつぶしたサンプルを作製し、350〜780nmの5°、−5°分光反射スペクトルを日本分光株式会社製の紫外可視分光光度計(V−550)を用いて測定し、反射率スペクトルより最小反射率を読み取った。反射スペクトルに振幅がある場合はその中心を最小反射率とした。最小反射率が2.5%以下であれば反射防止性能を有し、良好とした。
(vi)近赤外線透過率の測定
上記分光光度計を用いて850nm〜1100nmの近赤外線領域における最大吸収波長部の透過率を記録した。
(viii)接触角の測定
反射防止フィルムの表面に、イオン交換水およびオレイン酸一級試薬を滴下し、接触角を測定する。測定装置は、協和界面科学株式会社製接触角計CA−X型を用いた。
(b)試験・評価結果
試験・評価結果を上記表1〜表6に示す。これらの表から明らかなように、実施例1〜22の反射防止フィルムは、紫外線照射による複数の硬化工程がなくても、密着性や耐摩耗性に優れ、しかも最小反射率が低く、水並びにオレイン酸に対する接触角が高かった。さらに、実施例10〜15、21〜22の反射防止フィルムでは近赤外線領域における最大吸収波長部の透過率が低かった。
The antireflection films manufactured in Examples 1 to 22 and Comparative Examples 1 to 13 and Reference Example 1 were tested for confirming their effects.
(A) Test / Evaluation Method (i) Measurement of Total Light Transmittance (Tt) Measured according to JIS K 7361-1 (2000 version) 3.2. As a measuring device, Hazeguard II manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd. was used.
(Ii) Measurement of haze value (Hz) The haze value (Hz) was measured according to JIS K 7136 (2000 version). Specifically, among the incident parallel light, the percentage of the transmitted light deviated by 0.44 rad (2.5 °) or more from the incident light by forward scattering was measured. As a measuring device, Hazeguard II manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd. was used.
(Iii) Measurement of pencil hardness It was performed based on the provisions of JIS K 5600-5-4 (1999 edition). (Iv) Measurement of abrasion resistance using a pencil scratch coating film hardness tester (Type P) manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd. as a measuring device. A 200 g load was applied to the surface of the antireflection film. The degree of scratches was visually evaluated by rubbing with steel wool # 0000 manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd. When the number of scratches was 3 or less, ◎, 4-8 were evaluated as ◯, 9-15 were evaluated as △, and more than ×.
(V) Measurement of minimum reflectance The back surface of the prepared antireflection film was uniformly polished with sandpaper, and a sample was painted with black marker, and the 5 °, -5 ° spectral reflection spectrum from 350 to 780 nm was measured in Japan. It measured using the ultraviolet visible spectrophotometer (V-550) by a spectrum company, and read the minimum reflectance from the reflectance spectrum. If there is an amplitude in the reflection spectrum, the center is defined as the minimum reflectance. If the minimum reflectance was 2.5% or less, it had antireflection performance and was considered good.
(Vi) Measurement of near-infrared transmittance Using the spectrophotometer, the transmittance of the maximum absorption wavelength portion in the near-infrared region of 850 nm to 1100 nm was recorded.
(Viii) Measurement of contact angle Ion exchange water and oleic acid primary reagent are dropped on the surface of the antireflection film, and the contact angle is measured. As a measuring device, a contact angle meter CA-X type manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. was used.
(B) Test / Evaluation Results The test / evaluation results are shown in Tables 1 to 6 above. As is clear from these tables, the antireflection films of Examples 1 to 22 are excellent in adhesion and wear resistance and have a low minimum reflectance even without a plurality of curing steps by ultraviolet irradiation. The contact angle for oleic acid was high. Furthermore, in the antireflection films of Examples 10 to 15 and 21 to 22, the transmittance of the maximum absorption wavelength portion in the near infrared region was low.

反射防止フィルムの製造方法を表す説明図である。It is explanatory drawing showing the manufacturing method of an antireflection film. 反射防止フィルムの構造を表す断面図である。It is sectional drawing showing the structure of an antireflection film. 反射防止フィルムの構造を表す断面図である。It is sectional drawing showing the structure of an antireflection film. 反射防止フィルムの構造を表す断面図である。It is sectional drawing showing the structure of an antireflection film.

符号の説明Explanation of symbols

1・・・樹脂成分
3・・・低屈折率微粒子
5・・・コート剤
7、13・・・透明基材層
9、17・・・低屈折率層
11、15・・・ハードコート層
19・・・反射防止フィルム
21・・・近赤外線吸収層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Resin component 3 ... Low-refractive-index fine particle 5 ... Coating agent 7, 13 ... Transparent base material layer 9, 17 ... Low-refractive-index layer 11, 15 ... Hard-coat layer 19 ... Antireflection film 21 ... Near-infrared absorbing layer

Claims (8)

反射防止フィルムのハードコート層の形成に用いられるコート剤であって、
アクリレート及び2〜3官能のメタクリレートを主成分として含み、前記アクリレート100重量部に対する前記2〜3官能のメタクリレートの配合比が、0.5〜50重量部の範囲にあることを特徴とするコート剤。
A coating agent used for forming a hard coat layer of an antireflection film,
A coating agent comprising an acrylate and a 2-3 functional methacrylate as main components, wherein the blending ratio of the 2-3 functional methacrylate with respect to 100 parts by weight of the acrylate is in the range of 0.5 to 50 parts by weight. .
(a)透明基材層と、
(b)ハードコート層と、
(c)低屈折率層と、を備え、
前記(a)乃至(c)の層構造が(a)/(b)/(c)であるとともに、
前記(b)は請求項1記載のコート剤を塗布・硬化することで形成されたものであることを特徴とする反射防止フィルム。
(A) a transparent substrate layer;
(B) a hard coat layer;
(C) a low refractive index layer,
The layer structures (a) to (c) are (a) / (b) / (c),
Said (b) is formed by apply | coating and hardening | curing the coating agent of Claim 1, The antireflection film characterized by the above-mentioned.
前記(c)は、フッ素変成シリコーン樹脂からなり、水に対する接触角が90度以上、オレイン酸に対する接触角が50度以上であることを特徴とする請求項2記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to claim 2, wherein (c) comprises a fluorine-modified silicone resin, and has a contact angle with water of 90 ° or more and a contact angle with oleic acid of 50 ° or more. 反射防止フィルムのハードコート層及び低屈折率層の形成に用いられるコート剤であって、
前記ハードコート層を構成する樹脂100重量部(固形分)と、
前記低屈折率層を構成する、フッ素系(メタ)アクリレートを主原料とする低屈折率微粒子1〜30重量部と、を含むコート剤。
A coating agent used for forming a hard coat layer and a low refractive index layer of an antireflection film,
100 parts by weight (solid content) of resin constituting the hard coat layer;
A coating agent comprising 1 to 30 parts by weight of low refractive index fine particles mainly comprising fluorine-based (meth) acrylate constituting the low refractive index layer.
(a)透明基材層と、
(b)ハードコート層と、
(c)低屈折率層と、を備え、
前記(a)乃至(c)の層構造が(a)/(b)/(c)であるとともに、
前記(b)及び前記(c)は、請求項4記載のコート剤を塗布・硬化した後、相分離により形成されるものであることを特徴とする反射防止フィルム。
(A) a transparent substrate layer;
(B) a hard coat layer;
(C) a low refractive index layer,
The layer structures (a) to (c) are (a) / (b) / (c),
Said (b) and said (c) are formed by phase separation after apply | coating and hardening | curing the coating agent of Claim 4, The antireflection film characterized by the above-mentioned.
さらに、(d)近赤外線吸収層を備え、
前記(a)乃至(d)の層構造が、(d)/(a)/(b)/(c)であることを特徴とする請求項2、3、5のいずれかに記載の反射防止フィルム。
And (d) a near-infrared absorbing layer.
6. The antireflection according to claim 2, wherein the layer structures (a) to (d) are (d) / (a) / (b) / (c). the film.
前記(d)は、近赤外線吸収色素を含有し、
前記反射防止フィルムは、850〜1100nmの波長域における透過率が20%以下であることを特徴とする請求項6記載の反射防止フィルム。
(D) contains a near-infrared absorbing dye,
The antireflection film according to claim 6, wherein the antireflection film has a transmittance of 20% or less in a wavelength region of 850 to 1100 nm.
前記(d)は、550〜650nmの波長域において最大吸収波長をもつネオンカット色素を含有し、
前記反射防止フィルムは、最大吸収波長部おける透過率が50%以下であることを特徴とする請求項7記載の反射防止フィルム。
(D) contains a neon cut dye having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 550 to 650 nm,
The antireflection film according to claim 7, wherein the antireflection film has a transmittance at a maximum absorption wavelength portion of 50% or less.
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