JP2014092770A - Molding material and method for manufacturing molding material - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a molding material capable of maintaining glossiness or transparency and practically required scratch resistance and obtaining both fingerprint resistance and antireflection, and a method for manufacturing the molding material.SOLUTION: The molding material has surface layers consisting of a second layer and a first layer having different refractive indexes in this order on at least one surface of a support base material and satisfies following conditions 1 to 4. A condition 1: the first layer surface has 40% or more of a 60-degree specular gloss defined by JIS Z8741 (1997). A condition 2: the first layer surface has 60° or more of a receding contact angle θof oleic acid. A condition 3: the first layer surface has an advancing contact angle θand the receding contact angle θof the oleic acid which satisfy a formula (1), (θ-θ)≤15° (1). A condition 4: The minimum reflectance of incident light in a wavelength of 380-780 nm is 2% or less.

Description

本発明は、耐指紋性、および反射防止性に優れた表面層を有する成形材料、および成形材料の製造方法に関する。   The present invention relates to a molding material having a surface layer excellent in fingerprint resistance and antireflection properties, and a method for producing the molding material.

物の表面に人の指が触れることによって指紋(指紋とは、指先の皮膚にある汗腺の開口部が隆起した線(隆線)により出来る紋様、及び前記文様が物体の表面に付着した跡をいう)が付着すると、指紋が認識されて見た目が汚れたような不快な印象を与えるという問題がある。例えば、携帯電話の筐体を掴むことで指紋が付着し、指紋が目立って清潔感が損なわれるというようなことである。特に最近では指で操作する電子機器が増加しており、例えば、スマートフォン・タブレットPC、キーボード、テレビ、エアコンのリモコン等である。   Fingers touching the surface of an object (a fingerprint is a pattern formed by a line (ridge) where the opening of a sweat gland in the skin of the fingertip is raised, and the pattern attached to the surface of the object. Is attached, there is a problem that an unpleasant impression that the fingerprint is recognized and the appearance is dirty is given. For example, a fingerprint is attached by gripping the casing of a mobile phone, and the fingerprint is conspicuous and the sense of cleanliness is impaired. In particular, electronic devices operated with fingers are increasing recently, such as smartphones / tablets PCs, keyboards, televisions, air conditioner remote controls, and the like.

更に、画像表示機器の画像表示部、警告灯などの信号表示部、レンズ・鏡の表面等に指紋が付着すると、表示画像、表示信号、反射像における不鮮明感や、指紋が付着している箇所と付着していない箇所の反射率の違いなどによって視認性が悪化するという問題がある。例えば、スマートフォン・テレビ・カーナビゲーション・パソコンの液晶画面、案内・警告・避難誘導のための信号表示灯、メガネ・サングラス・望遠鏡・カメラのレンズ、時計の文字盤の透明カバー、車のバックミラー・ルームミラー等である。これらの機器に一旦指紋が付着すると指紋によって対象物の視認性が低下する。   Furthermore, when fingerprints are attached to the image display unit of an image display device, a signal display unit such as a warning light, or the surface of a lens / mirror, the display image, display signal, reflection image is blurred, or the part where the fingerprint is attached There is a problem that visibility is deteriorated due to a difference in reflectance of a portion not attached. For example, LCD screens of smartphones, TVs, car navigation systems, personal computers, signal indicators for guidance, warning, and evacuation guidance, glasses, sunglasses, telescopes, camera lenses, transparent clock face covers, car rearview mirrors, Room mirror. Once a fingerprint is attached to these devices, the visibility of the object is reduced by the fingerprint.

また、スマートフォン、テレビ、パソコンのモニターなどの各種ディスプレイでは画像のコントラストを高く見せるため、表面に光沢感のある反射防止部材(アンチリフレクション)が用いられるが、このような反射防止部材は指で触ると指紋が視認されやすいという問題があり、指紋が視認されにくい、または拭き取りやすいことが求められている。(以降、物品表面への指紋が視認されにくい、または拭き取りやすい特性を「耐指紋性」と呼ぶ)。   In addition, in various displays such as smartphones, televisions, and personal computer monitors, an anti-reflective member (anti-reflection) having a glossy surface is used to make the contrast of the image high. Such an anti-reflective member is touched with a finger. There is a problem that fingerprints are easily visible, and fingerprints are difficult to be visually recognized or easily wiped off. (Hereafter, the characteristic that the fingerprint on the surface of the article is difficult to be visually recognized or easily wiped off is referred to as “fingerprint resistance”).

このような問題に対して、指紋の視認されにくい反射防止部材として特許文献1では「基材の一方の面上に、光の波長550nmでの屈折率が1.75未満である低屈折率層、または、光の波長550nmでの屈折率が1.75以上である高屈折率層、または、その両方、を少なくとも含む薄膜層を形成してなる光学薄膜フィルムであって、前記薄膜層の面上に、乾燥膜厚が20μmであるオレイン酸を塗布したときに、前記オレイン酸を塗布した前記光学薄膜フィルムと、前記オレイン酸を塗布していない前記光学薄膜フィルムと、のD65光源、5°入射、2°視野、正反射光におけるCIELAB(JIS Z 8729に準拠)の色差ΔE ab(={(ΔL+(Δa+(Δb1/2)が5以下であることを特徴とする光学薄膜フィルム。」が提案されている。 In order to solve such a problem, as a reflection preventing member in which fingerprints are hard to be visually recognized, Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-228707 discloses “a low refractive index layer having a refractive index of less than 1.75 on one surface of a substrate at a light wavelength of 550 nm. Or an optical thin film formed by forming a thin film layer containing at least a high refractive index layer having a refractive index of 1.75 or more at a wavelength of light of 550 nm, or both, and the surface of the thin film layer When the oleic acid having a dry film thickness of 20 μm is applied thereon, the optical thin film coated with the oleic acid and the optical thin film not coated with the oleic acid have a D65 light source of 5 ° The color difference ΔE * ab (= {(ΔL * ) 2 + (Δa * ) 2 + (Δb * ) 2 } 1/2 ) of CIELAB (according to JIS Z 8729) in incident, 2 ° field of view and specularly reflected light is 5 Must be Optical thin film is characterized. "Has been proposed.

また、防汚層と反射防止層を積層したタッチパネル用の反射防止フィルム部材として、特許文献2では「光透過性の基材と、該基材とは所定の間隔をもって対向配置される光透過性のフィルム基材とを有し、上記基材上及び上記フィルム基材の上記基材との対向面上に、光透過性の導電層が形成されて成るタッチパネルにあって、上記フィルム基材上に、少なくともハードコート層、密着層、反射防止層及び防汚層がこの順に積層されて成り、上記反射防止層は、所定の屈折率を有する屈折率層が少なくとも2層以上積層されて成ることを特徴とするタッチパネル。」が提案されており、また、特許文献3では「少なくとも片面に透明導電性膜を有する第一の透明基板と第二の透明基板とが、透明導電膜同士が対向するように配置されたタッチパネルであって、(a)該タッチパネルの最外層として、活性エネルギー線の照射により硬化する硬化性樹脂の硬化物からなるハードコート層及び屈折率の異なる2層以上の層からなる反射防止ハードコート層を有し、かつ(b)該反射防止ハードコート層の屈折率の異なる各層が、活性エネルギー線の照射により硬化する硬化性樹脂の硬化物を主体とする層または該硬化物と金属酸化物粒子とを主体とする層である、ことを特徴とするタッチパネル。」が提案されている。   Further, as an antireflection film member for a touch panel in which an antifouling layer and an antireflection layer are laminated, Patent Document 2 discloses that “a light transmissive substrate and the substrate are arranged so as to face each other with a predetermined interval therebetween”. A light-transmissive conductive layer is formed on the substrate and on the surface of the film substrate facing the substrate, and the film substrate Further, at least a hard coat layer, an adhesion layer, an antireflection layer, and an antifouling layer are laminated in this order, and the antireflection layer is formed by laminating at least two refractive index layers having a predetermined refractive index. In addition, in Patent Document 3, “a first transparent substrate having a transparent conductive film on at least one surface and a second transparent substrate are opposed to each other. Arranged so that A panel comprising: (a) a hard coat layer comprising a cured product of a curable resin that is cured by irradiation with active energy rays, and an antireflection hard coat comprising two or more layers having different refractive indexes as the outermost layer of the touch panel (B) each layer having a different refractive index of the antireflection hard coat layer is a layer mainly composed of a cured product of a curable resin that is cured by irradiation with active energy rays, or the cured product and a metal oxide. A touch panel characterized by being a layer mainly composed of particles has been proposed.

さらに、指紋を視認されにくくするために表面の形状に着目した技術として、特許文献4では「基板と、前記基板の表面にケイ素化合物と平均粒子径1〜100nmの親水性金属酸化物微粒子を含む耐指紋付着性コーティング被膜が形成された複合材であって、前記コーティング被膜の光沢度が8以下、色差が4.6未満であることを特徴とする耐指紋付着性コーティング被膜が形成された複合材。」が提案されている。   Furthermore, as a technology that focuses on the shape of the surface in order to make the fingerprints less visible, Patent Document 4 states that “a substrate, a silicon compound and hydrophilic metal oxide fine particles having an average particle diameter of 1 to 100 nm are included on the surface of the substrate. A composite material having a fingerprint-resistant coating film formed thereon, wherein the coating film has a glossiness of 8 or less and a color difference of less than 4.6. "Material" has been proposed.

特開2009−122416号公報JP 2009-122416 A 特開2004−21550号公報JP 2004-21550 A 特開2004−46728号公報JP 2004-46728 A 特開2010−259971号公報JP 2010-259971 A

本発明が解決しようとする課題は、光沢感または透明性と実用上必要な耐擦傷性を維持しつつ、耐指紋性と反射防止性を両立可能な表面層を有する成形材料、および成形材料の製造方法を提供することにある。上記課題に対し前述の公知技術は次の状況にある。   The problem to be solved by the present invention is to provide a molding material having a surface layer capable of achieving both fingerprint resistance and antireflection properties while maintaining glossiness or transparency and scratch resistance necessary for practical use, and a molding material It is to provide a manufacturing method. The above-mentioned known technique is in the following situation for the above-mentioned problem.

まず特許文献1から3では、反射防止性は優れるが、本発明者らが様々な条件にて指紋の視認性を確認したところ、特許文献1から3の構成、および特性では耐指紋性が不十分であった。   First, in Patent Documents 1 to 3, the antireflection property is excellent, but when the present inventors have confirmed the visibility of fingerprints under various conditions, the structures and characteristics of Patent Documents 1 to 3 have poor fingerprint resistance. It was enough.

特許文献4は、耐指紋性は良好だが、光沢感が大幅に低下し、また反射防止機能を得ることができない。また、表面の形状についても本発明において用いている微細な形状については着想に至っていない。   In Patent Document 4, the fingerprint resistance is good, but the glossiness is greatly lowered and the antireflection function cannot be obtained. In addition, the surface shape has not been conceived with respect to the fine shape used in the present invention.

上記課題を解決するために本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、以下の発明を完成させた。すなわち、本発明は以下の通りである。
1) 支持基材の少なくとも片面に、屈折率の異なる第2層及び第1層からなる表面層をこの順に有し、下記条件1から4を満たすことを特徴とする成形材料。
条件1.第1層表面のJIS Z8741(1997)で規定する60°鏡面光沢度が40%以上。
条件2.第1層表面のオレイン酸の後退接触角θが60°以上。
条件3.第1層表面のオレイン酸の前進接触角θと後退接触角θが式(1)を満たす。
(θ−θ)≦ 15° ・・・ 式(1)
条件4.入射光の波長380nmから780nmにおける最低反射率が2%以下。
2) 前記第1層が下記条件5および6を満たし、前記第2層が下記条件7を満たすことを特徴とする、1)に記載の成形材料。
条件5.入射光の波長580nmにおける屈折率が1.45以上1.50以下。
条件6.層厚みが80nm以上120nm以下。
条件7.入射光の波長580nmにおける屈折率が1.60以上1.75以下。
3) 前記第1層表面の原子間力顕微鏡(AFM)によって観察される2乗平均粗さ(RMS)を超える高さを有するピーク数が25μmあたり500個以上1500個以下であることを特徴とする、1)または2)のいずれかに記載の成形材料。
4) 前記第1層がフルオロアルキル基、フルオロオキシアルキル基、フルオロアルケニル基、フルオロアルカンジイル基およびフルオロオキシアルカンジイル基からなる群より選ばれる少なくとも1つを含む部位と反応性部位とを有するフッ素化合物Aと、バインダー成分Aと、数平均粒子径が5nm以上250nm以下の粒子aとを含むことを特徴とする、1)から3)のいずれかに記載の成形材料。
5) 前記粒子aが数珠状に連結したおよび/または分岐したシリカであることを特徴とする、4)に記載の成形材料。
6) 前記成形材料が、
(1)支持基材上に第2層を形成する工程
(2)(1)にて形成された第2層上に、フルオロアルキル基、フルオロオキシアルキル基、フルオロアルケニル基、フルオロアルカンジイル基およびフルオロオキシアルカンジイル基からなる群より選ばれる少なくとも1つを含む部位と反応性部位とを有するフッ素化合物A、バインダー原料A、および数平均粒子径が5nm以上250nm以下の粒子aを含む塗料組成物Aを塗布、乾燥、および硬化することにより前記第1層を形成する工程、からなる1)から5)のいずれかに記載の成形材料の製造方法。
7) 前記粒子aが、数珠状に連結したおよび/または分岐したシリカであることを特徴とする、6)に記載の成形材料の製造方法。
In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have intensively studied and as a result, completed the following invention. That is, the present invention is as follows.
1) A molding material having a surface layer composed of a second layer and a first layer having different refractive indexes in this order on at least one surface of a supporting substrate, and satisfying the following conditions 1 to 4.
Condition 1. The 60 ° specular glossiness specified by JIS Z8741 (1997) on the surface of the first layer is 40% or more.
Condition 2. Receding contact angle theta r oleic acid in the first layer surface than 60 °.
Condition 3. Advancing contact angle theta a and receding contact angle theta r oleic acid in the first layer surface satisfy the formula (1).
a −θ r ) ≦ 15 ° Formula (1)
Condition 4. The minimum reflectance of incident light at a wavelength of 380 nm to 780 nm is 2% or less.
2) The molding material according to 1), wherein the first layer satisfies the following conditions 5 and 6, and the second layer satisfies the following condition 7.
Condition 5. The refractive index of incident light at a wavelength of 580 nm is 1.45 or more and 1.50 or less.
Condition 6. The layer thickness is 80 nm or more and 120 nm or less.
Condition 7. The refractive index of incident light at a wavelength of 580 nm is 1.60 or more and 1.75 or less.
3) The number of peaks having a height exceeding the root mean square roughness (RMS) observed by an atomic force microscope (AFM) on the surface of the first layer is 500 or more and 1500 or less per 25 μm 2. The molding material according to either 1) or 2).
4) Fluorine in which the first layer has a reactive site and a site containing at least one selected from the group consisting of a fluoroalkyl group, a fluorooxyalkyl group, a fluoroalkenyl group, a fluoroalkanediyl group and a fluorooxyalkanediyl group The molding material according to any one of 1) to 3), comprising Compound A, binder component A, and particles a having a number average particle diameter of 5 nm to 250 nm.
5) The molding material according to 4), wherein the particles a are silica linked in a bead shape and / or branched.
6) The molding material is
(1) Step (2) of forming a second layer on a supporting substrate On the second layer formed in (1), a fluoroalkyl group, a fluorooxyalkyl group, a fluoroalkenyl group, a fluoroalkanediyl group, and Coating composition comprising fluorine compound A having at least one site selected from the group consisting of fluorooxyalkanediyl groups and a reactive site, binder raw material A, and particles a having a number average particle size of 5 nm to 250 nm The manufacturing method of the molding material in any one of 1) to 5) which consists of the process of forming said 1st layer by apply | coating, drying, and hardening A.
7) The method for producing a molding material according to 6), wherein the particles a are silica linked in a bead shape and / or branched.

本発明によれば、光沢感もしくは透明性と実用上必要な耐擦傷性を維持しつつ、耐指紋性と反射防止性を両立する成形材料、および成形材料の製造方法を得ることができる。   According to the present invention, it is possible to obtain a molding material that satisfies both fingerprint resistance and antireflection properties while maintaining glossiness or transparency and scratch resistance necessary for practical use, and a method for producing the molding material.

本発明を実施するための形態を説明する前に、従来技術の問題点について本発明者の視点で考察する。   Before describing the embodiment for carrying out the present invention, problems of the prior art will be considered from the viewpoint of the present inventor.

まず、観察者が指紋を認識するメカニズムは、指紋を構成する成分が付着した部分と、未付着部分の間で、光沢と色味の差が検知されたものと考えている。この光沢の差は付着部分と未付着部分間の光反射率の差と付着物の形態に起因し、光反射率の差は付着した成分の屈折率と表面層の屈折率の差に起因すると考えられる。   First, the mechanism by which an observer recognizes a fingerprint is that a difference in gloss and color is detected between a portion to which a component constituting the fingerprint is attached and a non-attached portion. This difference in gloss is attributed to the difference in the light reflectance between the adhering part and the non-adhered part and the form of the adhering material, and the difference in the light reflectance is attributed to the difference in the refractive index of the adhering component and the refractive index of the surface layer. Conceivable.

一方で一般的な反射防止部材は、可視光領域での光の干渉効果を用いて反射防止機能を発現するものであり、最も大気側、すなわち人の手が触れる層の屈折率をできるだけ大気の屈折率に近づけることが光学設計上有利になるため、通常この方法が用いられている。   On the other hand, a general antireflection member expresses an antireflection function using the interference effect of light in the visible light region, and the refractive index of the layer most touched by the atmosphere, that is, the layer touched by human hands, is as much as possible. Since it is advantageous in optical design to approach the refractive index, this method is usually used.

そして、従来の反射防止部材での指紋付着対策は、前述のようにフッ素系材料等の撥油材料を添加することにより、指紋の付着を防ぐ、または取れやすくするなどの方法を用いているが、この方法では、最表面との屈折率差が大きく、接触角が高い状態の付着物が1箇所に集まりやすいため、非常に目立ちやすくなり、結果として効果不十分であった。   In addition, as described above, countermeasures against adhesion of fingerprints with conventional antireflection members use methods such as preventing or facilitating adhesion of fingerprints by adding an oil repellent material such as a fluorine-based material as described above. In this method, the difference in refractive index from the outermost surface is large, and deposits with a high contact angle tend to gather in one place, so that they become very conspicuous, and as a result, the effect is insufficient.

以上の点から従来の反射防止部材において指紋が目立ちやすい理由は、反射防止部材表面の屈折率の低い層に相対的に屈折率の高い指紋の構成成分が付着するため、一般的な透明材料に比べて非常に目立ちやすいと考えられる。   From the above points, the reason why fingerprints are conspicuous in the conventional anti-reflective member is that the components having relatively high refractive index adhere to the low-refractive index layer on the surface of the anti-reflective member. It is thought that it is very conspicuous.

そこで本発明者らは耐指紋性と反射防止性の両立を次の3つの指針で達成した。すなわち、第1には指から表面への転移量の削減、および表面への付着物の拭き取り性向上による付着量の削減、第2には付着物の形態制御による光散乱の低減、第3には付着物と表面の屈折率を近づけることによる反射率差の低減、である。   Therefore, the present inventors have achieved both the fingerprint resistance and the antireflection property by the following three guidelines. That is, firstly, the amount of transfer from the finger to the surface is reduced, and the amount of adhesion is reduced by improving the wiping property of the deposit on the surface. Second, light scattering is reduced by controlling the form of the deposit, and thirdly Is a reduction in the difference in reflectance by bringing the refractive index of the deposit and the surface closer.

前記指針に基づいた本発明の形態として、前記課題を解決するためには、表面層の第1層表面のJIS Z8741(1997)で規定する60°鏡面光沢度、オレイン酸の後退接触角、オレイン酸の前進接触角θaと後退接触角θrの差、および反射率を規定することで、達成可能なことを見出した。   As a form of the present invention based on the above guidelines, in order to solve the above problems, 60 ° specular glossiness defined by JIS Z8741 (1997) of the surface layer, the receding contact angle of oleic acid, olein It has been found that this can be achieved by defining the difference between the advancing contact angle θa and the receding contact angle θr of the acid and the reflectance.

すなわち、第1層表面のJIS Z8741(1997)に規定される60°鏡面光沢度の測定値は、40%以上が好ましく、50%以上がより好ましく、60%以上が特に好ましく、値が大きいほど光沢感の点で良好であるものの、反射防止性との両立を可能とする現実的な上限値は100%程度と思われる。また、鏡面光沢度が40%未満では光沢感が不十分と感じられる場合がある。   That is, the measured value of 60 ° specular glossiness defined in JIS Z8741 (1997) on the surface of the first layer is preferably 40% or more, more preferably 50% or more, particularly preferably 60% or more, and the larger the value. Although it is good in terms of glossiness, a realistic upper limit value that enables compatibility with antireflection properties seems to be about 100%. Further, when the specular gloss is less than 40%, glossiness may be felt to be insufficient.

また、前述の第1層表面のオレイン酸の後退接触角θは、60°以上であることが好ましく、70°以上がより好ましい。後退接触角の測定方法と意味については後述する。後退接触角は高い分には問題なく、一方で60°よりも低くなると指紋成分が付着しやすくなり、耐指紋性が低下する場合がある。 Further, the receding contact angle θ r of oleic acid on the surface of the first layer is preferably 60 ° or more, and more preferably 70 ° or more. The measuring method and meaning of the receding contact angle will be described later. On the other hand, there is no problem with the receding contact angle. On the other hand, when the receding contact angle is lower than 60 °, the fingerprint component tends to adhere and the fingerprint resistance may be lowered.

さらに、前述の第1層表面のオレイン酸の前進角接触角θ、後退接触角θは下記の式(1)を満たすこと、すなわち15°以下であることが好ましく、12°以下がより好ましく、10°以下が特に好ましい。式(1)の値は0もしくは正の値であれば小さい分には好ましく、一方でこの値が15°よりも大きくなると、指紋の拭き取り性が不十分なため、耐指紋性が低下する場合がある。
(θ−θ)≦ 15° ・・・ 式(1)
ここで、前述の後退接触角と前進接触角について説明する。固体表面の液体の接触角は本来熱力学的な量であり、系が定まれば1つの値をとるはずである。しかし実際には液体が固体表面を動く場合には、進行方向の接触角と反対側(後退側)の接触角は同じ値を取らないことが多い。このときの進行方法の接触角を前進接触角、反対側の接触角を後退接触角と呼ぶ。
Furthermore, the advancing angle contact angle θ a and the receding contact angle θ r of oleic acid on the surface of the first layer satisfy the following formula (1), that is, 15 ° or less, more preferably 12 ° or less. Preferably, it is 10 ° or less. If the value of the formula (1) is 0 or a positive value, it is preferable for a small amount. On the other hand, if this value is larger than 15 °, the fingerprint wiping property is insufficient and the fingerprint resistance is lowered. There is.
a −θ r ) ≦ 15 ° Formula (1)
Here, the aforementioned backward contact angle and forward contact angle will be described. The contact angle of the liquid on the solid surface is essentially a thermodynamic quantity and should take a single value once the system is determined. However, in reality, when the liquid moves on the solid surface, the contact angle on the opposite side (retreat side) to the contact angle in the traveling direction often does not take the same value. The contact angle of the traveling method at this time is called a forward contact angle, and the contact angle on the opposite side is called a receding contact angle.

前進接触角、後退接触角の値には、いくつかの測定方法があるが、転落角法のように原理的に液滴質量の影響を受ける方法は、避けるべきである。ここでは、拡張−収縮法による測定を説明する。拡張−収縮法による前進接触角の値は、第1層表面上に液体(オレイン酸)を付与して液滴を拡張するとき、液滴の接触角を連続的に複数回測定し、接触角が一定になったところの平均値で表される。同様にして後退接触角の値は、第1層表面上に液体(オレイン酸)を付与して液体を徐々に吐出して液滴を拡張した後、その液滴を吸引し液滴が収縮する過程で、液滴の接触角を連続的に複数回測定し、接触角が一定になったところの平均値で表される。具体的に、例えば1〜50μLの間で液体を吐出−吸引(液滴を拡張収縮)させる場合において、前進接触角は液液吐出時の1μLから50μL、後退接触角は液滴吸引時の50μLから1μLまでの間、1μLの間隔で測定し、液体の拡張、もしくは収縮過程において液滴の接触角がほぼ一定になったところの値を求めることにより決定することができる。拡張収縮法における接触角の測定は、例えば、Drop Master(協和界面科学株式会社製)を用いて測定することができる。   There are several measurement methods for the advancing contact angle and the receding contact angle, but a method that is influenced by the drop mass in principle, such as the falling angle method, should be avoided. Here, measurement by the expansion-contraction method will be described. The value of the advancing contact angle by the expansion-contraction method is determined by continuously measuring the contact angle of the droplet several times when applying the liquid (oleic acid) on the surface of the first layer and expanding the droplet. It is expressed as an average value when becomes constant. Similarly, the receding contact angle is determined by applying a liquid (oleic acid) on the surface of the first layer and gradually discharging the liquid to expand the liquid droplet, and then the liquid droplet is sucked to contract the liquid droplet. In the process, the contact angle of the droplet is continuously measured a plurality of times, and is expressed as an average value when the contact angle becomes constant. Specifically, for example, in the case where liquid is discharged and sucked between 1 to 50 μL (droplet expansion and contraction), the advancing contact angle is 1 μL to 50 μL at the time of liquid discharge, and the receding contact angle is 50 μL at the time of droplet suction. 1 to 1 μL, and can be determined by obtaining a value at which the contact angle of the droplet becomes substantially constant during the expansion or contraction process of the liquid. The contact angle in the expansion contraction method can be measured using, for example, Drop Master (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.).

また、入射光の波長380nmから780nmにおける最低反射率が2%以下であることが好ましい。さらに好ましくは1.5%以下であり、値が小さいほど反射防止、視認性の点で良好であるものの、0%とすることは困難であり、現実的な下限値は0.01%程度と思われる。また、反射率が2%よりも大きい場合、フィルム表面での反射光量が大きくなるため、外光の写りこみなどが生じ、視認性が低下する場合がある。最低反射率の測定方法の詳細は、後述する。   Further, it is preferable that the minimum reflectance of incident light at a wavelength of 380 nm to 780 nm is 2% or less. More preferably, it is 1.5% or less, and the smaller the value, the better the antireflection and visibility, but it is difficult to make it 0%, and the practical lower limit is about 0.01%. Seem. In addition, when the reflectance is greater than 2%, the amount of light reflected on the film surface increases, so that external light may be reflected and visibility may be reduced. Details of the method of measuring the minimum reflectance will be described later.

次に、本発明の成形材料において、前述の特性を達成するためには、第1層の屈折率と層厚み、および第2層の屈折率を特定の範囲にすることが好ましい。すなわち本発明の第1層の入射光の波長580nmにおける屈折率は、1.45以上1.50以下が好ましく、より好ましくは1.46以上、1.48以下である。該屈折率が1.45未満または1.50より大きい場合、表面に付着した場合指紋が視認されやすくなることにより、耐指紋性が低下する場合がある。   Next, in the molding material of the present invention, in order to achieve the above-described characteristics, it is preferable that the refractive index and thickness of the first layer and the refractive index of the second layer be in a specific range. That is, the refractive index of the incident light of the first layer of the present invention at a wavelength of 580 nm is preferably 1.45 or more and 1.50 or less, more preferably 1.46 or more and 1.48 or less. When the refractive index is less than 1.45 or greater than 1.50, fingerprint resistance may be lowered due to the fact that fingerprints are easily visible when attached to the surface.

また、第1層の層厚みは80nm以上120nm以下が好ましく、85nm以上115nm以下がより好ましく、90nm以上110nm以下が特に好ましい。   The layer thickness of the first layer is preferably 80 nm to 120 nm, more preferably 85 nm to 115 nm, and particularly preferably 90 nm to 110 nm.

さらに、第2層の入射光の波長580nmにおける屈折率は1.60以上1.75以下が好ましく、1.60以上1.72以下がより好ましく、1.65以上1.70以下が特に好ましい。   Further, the refractive index of the incident light of the second layer at a wavelength of 580 nm is preferably 1.60 or more and 1.75 or less, more preferably 1.60 or more and 1.72 or less, and particularly preferably 1.65 or more and 1.70 or less.

第1層の層厚みが80nm未満や120nmより厚くなる場合、および第2層の屈折率が1.60未満、もしくは1.75よりも大きくなる場合には、視感度領域において光の干渉効果が得られず、外光の映り込みを強く感じるため反射防止機能が不十分となる場合がある。各層の屈折率、層厚みの測定方法は後述する。   When the layer thickness of the first layer is less than 80 nm or greater than 120 nm, and when the refractive index of the second layer is less than 1.60 or greater than 1.75, the light interference effect is in the visibility region. In some cases, the reflection preventing function is insufficient because the reflection of external light is strongly felt. A method for measuring the refractive index and layer thickness of each layer will be described later.

次に、本発明の成形材料において、前記特性を得るためには第1層表面に微細な凹凸を有する層があることが好ましく、特に特定範囲の凹凸が単位面積当たりに存在する個数には好ましい範囲がある。この理由は明確ではないが、特定の微細な凹凸構造を導入することにより付着した指紋の成分が作る油滴を微細化し、付着物により引き起こされる光散乱および吸収を低減することにより視認されにくくなるためと推定している。なおここで油滴とは、第1層表面に付着した指紋を構成する液体および固体の微視的な凝集物をいう。   Next, in the molding material of the present invention, in order to obtain the above characteristics, it is preferable that there is a layer having fine unevenness on the surface of the first layer, and particularly preferable for the number of unevenness in a specific range per unit area. There is a range. The reason for this is not clear, but by introducing a specific fine concavo-convex structure, the oil droplets created by the attached fingerprint components are made finer, and the light scattering and absorption caused by the attached matter are reduced, making it less visible. For the reason. In addition, an oil drop means here the microscopic aggregate of the liquid and solid which comprise the fingerprint adhering to the 1st layer surface.

具体的には第1層表面の原子間力顕微鏡(AFM)によって観察される2乗平均粗さ(RMS)を超える高さを有するピーク数が、25μmあたり500個以上1500個以下であることが好ましく、800個以上1200個以下であることがより好ましい。この範囲を外れると、前述の指紋を構成する油滴の大きさを微細化する効果が不十分になる場合がある。 Specifically, the number of peaks having a height exceeding the root mean square roughness (RMS) observed by the atomic force microscope (AFM) on the first layer surface is 500 or more and 1500 or less per 25 μm 2. Is preferable, and more preferably 800 or more and 1200 or less. If it is out of this range, the effect of reducing the size of the oil droplets constituting the aforementioned fingerprint may be insufficient.

ここで、前記2乗平均粗さ(RMS)とは、平均線から測定曲線までの偏差の2乗を平均した値の平方根で、粗さ曲線から求めるものを指し、ピークとは平均線を基準に測定曲線までの距離が前記2乗平均粗さを超えるものを指す。   Here, the root mean square roughness (RMS) is a square root of a value obtained by averaging the squares of deviations from the mean line to the measurement curve, and refers to what is obtained from the roughness curve, and the peak is based on the mean line. And the distance to the measurement curve is greater than the mean square roughness.

なお、一般的にはJIS R1683(2007)に基づく算術平均荒さ(Ra)が表面形状の指標として用いられるが、Raは表面全域の平均的な深さ情報を表す数値であり、本発明の成形材料が有するような局所的な凹凸構造の形状や数を評価する指標としては不向きである。   In general, arithmetic average roughness (Ra) based on JIS R1683 (2007) is used as an index of the surface shape. Ra is a numerical value representing average depth information over the entire surface, and the molding of the present invention. It is not suitable as an index for evaluating the shape and number of local uneven structures such as the material has.

次に本発明の成形材料の第1層はフッ素化合物Aとバインダー成分Aと数平均粒子径が5nm以上250nm以下の粒子aとを含むことが好ましい。前記フッ素化合物A、バインダー成分A、粒子aの詳細については後述するが、フッ素化合物Aは表面エネルギーを低下させることにより、指紋を構成する液体の接触角を上昇させて付着量を低減させると共に、屈折率を調整する機能を持つものであり、バインダー成分Aは粒子aを結着させ、実用上必要な耐擦傷性を付与する役目を有する。粒子aは前述の微細な凹凸構造を形成するために用いている。なお、フッ素化合物A、バインダー成分A、粒子aのそれぞれの好ましい比率についても後述する。ここで粒子aの数平均粒子径は、JIS Z8819−2(2001)記載の個数基準算術平均長さ径を意味し、前記成形材料の断面を透過電子顕微鏡(TEM)によって観察して得られる値であり、その具体的な測定方法は後述する。   Next, the first layer of the molding material of the present invention preferably contains a fluorine compound A, a binder component A, and particles a having a number average particle size of 5 nm to 250 nm. Although details of the fluorine compound A, the binder component A, and the particles a will be described later, the fluorine compound A reduces the surface energy, thereby increasing the contact angle of the liquid constituting the fingerprint and reducing the adhesion amount. It has a function of adjusting the refractive index, and the binder component A has a role of binding the particles a and imparting scratch resistance necessary for practical use. The particles a are used to form the fine uneven structure described above. In addition, the preferable ratio of each of the fluorine compound A, the binder component A, and the particles a will be described later. Here, the number average particle diameter of the particles a means the number-based arithmetic average length diameter described in JIS Z8819-2 (2001), and is a value obtained by observing a cross section of the molding material with a transmission electron microscope (TEM). The specific measurement method will be described later.

次に本発明の成形材料において、前述の粒子aの集合体には好ましい形態があり、具体的には数珠状に連結したおよび/または分岐した形態で存在することが好ましい。この粒子aの詳細については後述するが、粒子としてシリカを用いることにより、塗布−乾燥過程にて粒子aの表面状態に起因する粒子間相互作用と粒子間に存在する横毛管力によるいわゆる自己組織化が起こり、前記の好ましい凹凸構造を形成しやすい。   Next, in the molding material of the present invention, the aggregate of the particles a has a preferable form, and specifically, it is preferably present in a bead-like and / or branched form. Although details of the particles a will be described later, by using silica as the particles, so-called self-organization due to the interparticle interaction caused by the surface state of the particles a and the transverse capillary force existing between the particles in the coating-drying process. It is easy to form the preferable uneven structure.

次に本発明の成形材料において、前記フッ素化合物Aはフルオロアルキル基、フルオロオキシアルキル基、フルオロアルケニル基、フルオロアルカンジイル基およびフルオロオキシアルカンジイルからなる群より選ばれる少なくとも1つを含む部位と反応性部位とを有する化合物が好ましく、より好ましくは、一つは含フッ素デンドリマーであり、もう一つはフルオロポリエーテル部位を有する材料である。これらの材料を用いることにより、最表面に低表面エネルギーを示す分子を高密度に存在させることができる。前記、含フッ素デンドリマー、フルオロポリエーテル部位については後述する。以下、本発明を要素ごとに説明する。   Next, in the molding material of the present invention, the fluorine compound A reacts with a site containing at least one selected from the group consisting of a fluoroalkyl group, a fluorooxyalkyl group, a fluoroalkenyl group, a fluoroalkanediyl group and a fluorooxyalkanediyl. A compound having a functional moiety is preferred, more preferably one is a fluorine-containing dendrimer and the other is a material having a fluoropolyether moiety. By using these materials, molecules showing low surface energy can be present at a high density on the outermost surface. The fluorine-containing dendrimer and fluoropolyether moiety will be described later. Hereinafter, the present invention will be described element by element.

[成形材料、および表面層]
本発明の成形材料は本発明の特性、およびまたは材料を含む表面層をその表面に有していれば平面状(フィルム、シート、プレート)、3次元形状(成形体)のいずれであってもよい。ここで、本発明における「表面層」は、屈折率の異なる第2層および第1層からなり、支持基材の少なくとも片面に、第2層及び第1層がこの順に配置されている。表面層は、前記成形材料の表面から厚み方向に向かい、隣接する部位と元素組成、含有物(粒子等)の形状、物理特性が不連続な境界面を有することにより区別でき、有限の厚さを有する部位を指す。より具体的には、前記成形材料を表面から厚み方向に各種組成/元素分析装置(IR、XPS、XRF、EDAX、SIMS等)、電子顕微鏡(透過型、走査型)または光学顕微鏡にて断面観察した際、前記不連続な境界面により区別され、有限の厚さを有する部位を指す。
[Molding material and surface layer]
The molding material of the present invention may be any of a flat shape (film, sheet, plate) and three-dimensional shape (molded product) as long as it has a surface layer containing the characteristics of the present invention and / or the material. Good. Here, the “surface layer” in the present invention is composed of a second layer and a first layer having different refractive indexes, and the second layer and the first layer are arranged in this order on at least one surface of the support base material. The surface layer can be distinguished from the surface of the molding material in the thickness direction by having a boundary surface that is discontinuous in the adjacent part and element composition, the shape of inclusions (particles, etc.) and physical properties. Refers to a site having More specifically, cross-sectional observation of the molding material in the thickness direction from the surface with various composition / element analyzers (IR, XPS, XRF, EDAX, SIMS, etc.), electron microscope (transmission type, scanning type) or optical microscope In this case, the region is distinguished by the discontinuous boundary surface and indicates a portion having a finite thickness.

前記表面層は耐指紋性及び反射防止性に加えて、ハードコート、帯電防止、防汚性、導電性、熱線反射、近赤外線吸収、易接着等の他の機能を有してもよい。   In addition to fingerprint resistance and antireflection properties, the surface layer may have other functions such as hard coating, antistatic properties, antifouling properties, conductivity, heat ray reflection, near infrared absorption, and easy adhesion.

[塗料組成物A]
前記塗料組成物Aは、本発明の製造方法において、塗布、乾燥、および硬化からなる一般的な塗布プロセスにより、前記第1層を第2層上に形成可能な常温にて液状の組成物を指し、フッ素化合物Aとバインダー原料A、および数平均粒子径が5nm以上250nm以下の粒子aを含んでいることが好ましく、塗料組成物Aは、上記以外にこの他に溶媒や、光重合開始剤、硬化剤、触媒などの各種添加剤を含んでもよい。構成材料の詳細については後述する。
[Coating composition A]
The coating composition A is a liquid composition at room temperature that can form the first layer on the second layer by a general coating process including coating, drying, and curing in the manufacturing method of the present invention. In particular, it preferably contains a fluorine compound A, a binder raw material A, and particles a having a number average particle size of 5 nm to 250 nm, and the coating composition A includes a solvent and a photopolymerization initiator in addition to the above. Various additives such as a curing agent and a catalyst may be included. Details of the constituent materials will be described later.

[フッ素化合物A]
フッ素化合物Aとは、フルオロアルキル基、フルオロオキシアルキル基、フルオロアルケニル基、フルオロアルカンジイル基およびフルオロオキシアルカンジイル基からなる群より選ばれる少なくとも1つを含む部位と反応性部位とを有するフッ素化合物を指す。
[Fluorine compound A]
The fluorine compound A is a fluorine compound having at least one part selected from the group consisting of a fluoroalkyl group, a fluorooxyalkyl group, a fluoroalkenyl group, a fluoroalkanediyl group and a fluorooxyalkanediyl group and a reactive part Point to.

ここで、フルオロアルキル基、フルオロオキシアルキル基、フルオロアルケニル基、フルオロアルカンジイル基、フルオロオキシアルカンジイル基とはアルキル基、オキシアルキル基、アルケニル基、アルカンジイル基、オキシアルカンジイル基が持つ水素の一部、あるいは全てがフッ素に置き換わった置換基であり、いずれも主にフッ素原子と炭素原子から構成される置換基であり、構造中に分岐があってもよく、これらの部位が複数連結したダイマー、トリマー、オリゴマー、ポリマー構造を形成していてもよい。   Here, a fluoroalkyl group, a fluorooxyalkyl group, a fluoroalkenyl group, a fluoroalkanediyl group, and a fluorooxyalkanediyl group are alkyl groups, oxyalkyl groups, alkenyl groups, alkanediyl groups, and oxyalkanediyl groups. A part or all of the substituents are replaced by fluorine, all of which are mainly composed of fluorine atoms and carbon atoms, and there may be branches in the structure. A dimer, trimer, oligomer, or polymer structure may be formed.

また、反応性部位とは、熱または光などの外部エネルギーにより他の成分と反応する部位を指す。このような反応性部位として、反応性の観点からアルコキシシリル基及びアルコキシシリル基が加水分解されたシラノール基や、カルボキシル基、水酸基、エポキシ基、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などが挙げられる、反応性、ハンドリング性の観点から、アルコキシシリル基、シリルエーテル基あるいはシラノール基や、エポキシ基、アクリロイル(メタクリロイル)基が好ましく、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基がより好ましく、アクリロイル基、メタクリロイル基が特に好ましい。   Further, the reactive site refers to a site that reacts with other components by external energy such as heat or light. Examples of such reactive sites include alkoxysilyl groups and silanol groups in which alkoxysilyl groups are hydrolyzed from the viewpoint of reactivity, carboxyl groups, hydroxyl groups, epoxy groups, vinyl groups, allyl groups, acryloyl groups, methacryloyl groups, and the like. From the viewpoint of reactivity and handling properties, alkoxysilyl group, silyl ether group or silanol group, epoxy group, acryloyl (methacryloyl) group are preferable, vinyl group, allyl group, acryloyl group, methacryloyl group are more preferable, An acryloyl group and a methacryloyl group are particularly preferable.

フッ素化合物Aの一例は次の一般式(1)で表される化合物である。
f1−R−D ・・・一般式(1)
(Rf1はフルオロアルキル基、フルオロオキシアルキル基、フルオロアルケニル基、フルオロアルカンジイル基、フルオロオキシアルカンジイル基を含む部位を、Rはアルカンジイル基、アルカントリイル基、およびそれらから導出されるエステル構造、ウレタン構造、エーテル構造、トリアジン構造を、Dは反応性部位を示す)。
An example of the fluorine compound A is a compound represented by the following general formula (1).
R f1 -R 2 -D 1 ... General formula (1)
(R f1 is a fluoroalkyl group, fluorooxyalkyl group, fluoroalkenyl group, fluoro alkanediyl group, the site containing the fluoroxy alkanediyl group, R 2 is derived alkanediyl group, alkanetriyl groups, and from them An ester structure, a urethane structure, an ether structure, and a triazine structure, and D 1 represents a reactive site).

一般式(1)の例としては2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフロオロプロピルアクリレート、2−パーフルオロブチルエチルアクリレート、3−パーフルオロブチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロヘキシルエチルアクリレート、3−パーフルオロヘキシル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロオクチルエチルアクリレート、3−パーフルオロオクチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロデシルエチルアクリレート、2−パーフルオロ−3−メチルブチルエチルアクリレート、3−パーフルオロ−3−メトキシブチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロ−5−メチルヘキシルエチルアクリレート、3−パーフルオロ−5−メチルヘキシル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロ−7−メチルオクチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラフルオロプロピルアクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、ドデカフルオロヘプチルアクリレート、ヘキサデカフルオロノニルアクリレート、ヘキサフルオロブチルアクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルメタクリレート、2−パーフルオロブチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロブチル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロオクチル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロデシルエチルメタクリレート、2−パーフルオロ−3−メチルブチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロ−3−メチルブチル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロ−5−メチルヘキシルエチルメタクリレート、3−パーフルオロ−5−メチルヘキシル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロ−7−メチルオクチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロ−7−メチルオクチルエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、ドデカフルオロヘプチルメタクリレート、ヘキサデカフルオロノニルメタクリレート、1−トリフルオロメチルトリフルオロエチルメタクリレート、ヘキサフルオロブチルメタクリレート、トリアクリロイル−ヘプタデカフルオロノネニル−ペンタエリスリトールなどが挙げられる。これらフッ素化合物Aのハンセンの溶解度パラメーターは前述の反応性部位の特性に応じて特徴付けられる。   Examples of general formula (1) include 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl acrylate, 2-perfluorobutylethyl acrylate, 3-perfluorobutyl- 2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluorohexylethyl acrylate, 3-perfluorohexyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluorooctylethyl acrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluoro Decylethyl acrylate, 2-perfluoro-3-methylbutylethyl acrylate, 3-perfluoro-3-methoxybutyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluoro-5-methylhexylethyl acrylate, 3 Perfluoro-5-methylhexyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluoro-7-methyloctyl-2-hydroxypropyl acrylate, tetrafluoropropyl acrylate, octafluoropentyl acrylate, dodecafluoroheptyl acrylate, hexadecafluorononyl acrylate , Hexafluorobutyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl methacrylate, 2-perfluorobutylethyl methacrylate, 3-perfluorobutyl-2-hydroxypropyl Methacrylate, 2-perfluorooctylethyl methacrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluorodec Ethyl methacrylate, 2-perfluoro-3-methylbutylethyl methacrylate, 3-perfluoro-3-methylbutyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluoro-5-methylhexylethyl methacrylate, 3-perfluoro-5-methyl Hexyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluoro-7-methyloctylethyl methacrylate, 3-perfluoro-7-methyloctylethyl methacrylate, tetrafluoropropyl methacrylate, octafluoropentyl methacrylate, octafluoropentyl methacrylate, dodecafluoroheptyl Methacrylate, hexadecafluorononyl methacrylate, 1-trifluoromethyltrifluoroethyl methacrylate, hexafluorobut Examples include til methacrylate and triacryloyl-heptadecafluorononenyl-pentaerythritol. The Hansen solubility parameters of these fluorine compounds A are characterized according to the properties of the reactive sites described above.

また、フッ素化合物Aに好ましい材料のひとつは、フルオロポリエーテル部位を有する材料である前記フルオロポリエーテル部位とは、フルオロアルキル基、オキシフルオロアルキル基、オキシフルオロアルキルジイル基などからなる部位で、一般式(2)、(3)に代表される構造である。   Further, one of the preferred materials for the fluorine compound A is a material having a fluoropolyether moiety, and the fluoropolyether moiety is a moiety comprising a fluoroalkyl group, an oxyfluoroalkyl group, an oxyfluoroalkyldiyl group, etc. This is a structure represented by formulas (2) and (3).

CFn1(3−n1)−(CFn2(2−n2)O−
−(CFn3(2−n3)O−
・・・一般式(2)
−(CFn4(2−n4)O−(CFn5(2−n5)O−
・・・一般式(3)
ここで、n1は1〜3の整数を、n2〜n5は1または2の整数を、k、m、p、sは0以上の整数を指す。好ましくはn1は2以上、n2〜n5は1または2の整数であり、より好ましくはn1は3、n2とn4は2、n3とn5は1または2の整数である。
CF n1 H (3-n1) - (CF n2 H (2-n2)) k O-
- (CF n3 H (2- n3)) m O-
... General formula (2)
- (CF n4 H (2- n4)) p O- (CF n5 H (2-n5)) s O-
... General formula (3)
Here, n1 is an integer of 1 to 3, n2 to n5 are integers of 1 or 2, and k, m, p, and s are integers of 0 or more. Preferably, n1 is 2 or more, n2 to n5 are integers of 1 or 2, more preferably n1 is 3, n2 and n4 are 2, and n3 and n5 are integers of 1 or 2.

このフルオロポリエーテル部位の鎖長には好ましい範囲があり、炭素数が4以上12以下が好ましく、4以上10以下がより好ましく、6以上8以下がさらに好ましい。炭素数が、4未満では表面エネルギーが低下する場合があり、12超では溶媒への溶解性が低下する場合がある。   There is a preferred range for the chain length of this fluoropolyether moiety, the carbon number is preferably 4 or more and 12 or less, more preferably 4 or more and 10 or less, and further preferably 6 or more and 8 or less. If the number of carbon atoms is less than 4, the surface energy may decrease, and if it exceeds 12, the solubility in a solvent may decrease.

なお、フッ素化合物Aは1分子あたり複数のフルオロポリエーテル部位を有していてもよい。   The fluorine compound A may have a plurality of fluoropolyether moieties per molecule.

上記フッ素化合物Aの市販されている例としては含フッ素デンドリマーとしては、FA−200(日産化学株式会社)、炭素数4以上12以下のフルオロポリエーテル部位を有する材料としては、RS−75(DIC株式会社)、オプツールDSX、オプツールDAC(ダイキン工業株式会社)、C10GACRY、C8HGOL(油脂製品株式会社)などを挙げることができ、これらの製品を利用することができる。   Examples of commercially available fluorine compounds A include FA-200 (Nissan Chemical Co., Ltd.) as a fluorine-containing dendrimer, and RS-75 (DIC) as a material having a fluoropolyether moiety having 4 to 12 carbon atoms. Co., Ltd.), OPTOOL DSX, OPTOOL DAC (Daikin Industries Co., Ltd.), C10GACRY, C8HGOL (Oil Products Co., Ltd.), etc., and these products can be used.

[粒子]
本発明の成形材料の表面層、および成形材料の製造方法に用いられる塗料組成物は、粒子を含むことが好ましく、表面層を構成する第1層、第2層の一方が含んでもよいし、両方が含んでもよい。この粒子とは無機粒子、有機粒子のいずれでもよいが、耐久性の観点から無機粒子が好ましい。無機粒子の種類数としては1種類以上20種類以下が好ましい。無機粒子の種類数は1種類以上10種類以下がさらに好ましく、1種類以上3種類以下が特に好ましい。
[particle]
The surface layer of the molding material of the present invention and the coating composition used in the method for producing the molding material preferably include particles, and one of the first layer and the second layer constituting the surface layer may include, Both may include. The particles may be either inorganic particles or organic particles, but inorganic particles are preferable from the viewpoint of durability. The number of types of inorganic particles is preferably 1 or more and 20 or less. The number of types of inorganic particles is more preferably 1 or more and 10 or less, and particularly preferably 1 or more and 3 or less.

ここで、「無機粒子」とは表面処理を施したものも含む。この表面処理とは、粒子表面に化合物を化学結合(共有結合、水素結合、イオン結合、ファンデルワールス結合、疎水結合等を含む)や吸着(物理吸着、化学吸着を含む)によって導入することを指す。   Here, “inorganic particles” include those subjected to surface treatment. This surface treatment means introducing a compound onto the particle surface by chemical bonds (including covalent bonds, hydrogen bonds, ionic bonds, van der Waals bonds, hydrophobic bonds, etc.) and adsorption (including physical adsorption and chemical adsorption). Point to.

ここで無機粒子の種類とは、無機粒子を構成する元素の種類によって決まり、何らかの表面処理を行う場合には、表面処理される前の粒子を構成する元素の種類によって決まる。例えば、酸化チタン(TiO)と酸化チタンの酸素の一部をアニオンである窒素で置換した窒素ドープ酸化チタン(TiO2−x)とでは、無機粒子を構成する元素が異なるために、異なる種類の無機粒子である。また、同一の元素、例えばZn、Oのみからなる粒子(ZnO)であれば、その数平均粒子径が異なる粒子が複数存在しても、またZnとOとの組成比が異なっていても、これらは同一種類の粒子である。また酸化数の異なるZn粒子が複数存在しても、粒子を構成する元素が同一である限りは(この例ではZn以外の元素が全て同一である限りは)、これらは同一種類の粒子である。 Here, the kind of inorganic particles is determined by the kind of elements constituting the inorganic particles, and when some surface treatment is performed, the kind is determined by the kind of elements constituting the particles before the surface treatment. For example, since titanium oxide (TiO 2 ) and nitrogen-doped titanium oxide (TiO 2−x N x ) in which part of oxygen in titanium oxide is replaced with nitrogen as an anion, the elements constituting the inorganic particles are different, Different types of inorganic particles. Further, if particles (ZnO) consisting only of the same element, for example, Zn, O, even if there are a plurality of particles having different number average particle diameters, and the composition ratio of Zn and O is different, These are the same type of particles. Even if there are a plurality of Zn particles having different oxidation numbers, as long as the elements constituting the particles are the same (in this example, all elements other than Zn are the same), these are the same kind of particles. .

[粒子a]
粒子aは無機粒子、有機粒子のいずれでもよいが、耐久性の観点から無機粒子であることが好ましく、金属や半金属の酸化物、窒化物、ホウ素化物、塩化物、炭酸塩、硫酸塩であることが好ましく、2種類の金属、半金属を含む複合酸化物や、格子間に異元素が導入されたり、格子点が異種元素で置換されたり、格子欠陥が導入されていてもよい。
[Particle a]
The particles a may be either inorganic particles or organic particles, but are preferably inorganic particles from the viewpoint of durability, and may be metal or metalloid oxides, nitrides, borides, chlorides, carbonates, sulfates. It is preferable that a complex oxide containing two kinds of metals and metalloids, a different element is introduced between the lattices, a lattice point is replaced with a different element, or a lattice defect is introduced.

無機粒子はSi、Al、Ca、Zn、Ga、Mg、Zr、Ti、In、Sb、Sn、BaおよびCeからなる群より選ばれる少なくとも1つの金属や半金属が酸化された酸化物粒子であることがさらに好ましい。   The inorganic particles are oxide particles in which at least one metal or metalloid selected from the group consisting of Si, Al, Ca, Zn, Ga, Mg, Zr, Ti, In, Sb, Sn, Ba, and Ce is oxidized. More preferably.

具体的にはシリカ(SiO)、酸化アルミニウム(Al)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化ジルコニウム(ZrO)、酸化チタン(TiO)、酸化インジウム(In)、酸化スズ(SnO)、酸化アンチモン(Sb)およびインジウムスズ酸化物(In)からなる群より選ばれる少なくとも一つの金属酸化物や半金属酸化物である。特に好ましくはシリカ(SiO)である。 Specifically, silica (SiO 2 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), zinc oxide (ZnO), zirconium oxide (ZrO 2 ), titanium oxide (TiO 2 ), indium oxide (In 2 O 3 ), tin oxide It is at least one metal oxide or semimetal oxide selected from the group consisting of (SnO 2 ), antimony oxide (Sb 2 O 3 ), and indium tin oxide (In 2 O 3 ). Particularly preferred is silica (SiO 2 ).

さらに粒子aの数平均粒子径は、5nm以上250nm以下が好ましい。無機粒子の数平均粒子径が5nmよりも小さくなると、凹凸を形成する能力が十分ではない場合があり、250nmよりも大きくなると光沢感が低下する場合がある。   Furthermore, the number average particle diameter of the particles a is preferably 5 nm or more and 250 nm or less. When the number average particle diameter of the inorganic particles is smaller than 5 nm, the ability to form irregularities may not be sufficient, and when the number average particle diameter is larger than 250 nm, the gloss may be lowered.

さらに、粒子aの形態は特に限定するものではないが、シリカが数珠状に連結(複数のシリカが連鎖状につながった形状)した長鎖の構造を有するもの、または、連結したシリカが分岐したものが好ましい。以降これらを数珠状に連結したおよび/または分岐したシリカと呼ぶ。   Further, the form of the particles a is not particularly limited, but the particles a have a long chain structure in which silica is connected in a bead shape (a shape in which a plurality of silicas are connected in a chain), or the connected silica is branched. Those are preferred. These are hereinafter referred to as beaded and / or branched silica.

前記数珠状に連結したおよび/または分岐したシリカは、シリカの一次粒子を2価以上の金属イオンを介在させ粒子−粒子間を結合させたもので、少なくとも3個以上、好ましくは5個以上、更に好ましくは7個以上連結したものをいう。前記数珠状に連結したおよび/または分岐したシリカの連結、分岐、屈曲状態は走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて確認することができる。この数珠状に連結したおよび/または分岐したシリカの市販品としては日産化学工業株式会社製の、PS−S、PS−M(水分散体)、IPA−ST(IPA分散体)、MEK−ST(MEK分散体)、扶桑化学工業株式会社製のPL−1−IPA(IPA分散体)、PL−1−MEK(MEK分散体)などを挙げることができ、これらの製品を利用することができる。   The bead-like and / or branched silica is composed of primary particles of silica bonded with particles between particles through interposition of metal ions having a valence of 2 or more, preferably 5 or more, More preferably, 7 or more connected. The connection, branching, and bending states of the silica connected in the bead shape and / or branched can be confirmed using a scanning electron microscope (SEM). Commercially available products of this silica linked and / or branched silica include PS-S, PS-M (water dispersion), IPA-ST (IPA dispersion), MEK-ST manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. (MEK dispersion), PL-1-IPA (IPA dispersion), PL-1-MEK (MEK dispersion) manufactured by Fuso Chemical Industry Co., Ltd., and the like can be used. .

本発明の特に好ましい表面形状を得るためには、前述の数珠状に連結したおよび/または分岐したシリカが、塗料組成物A中に含まれるバインダー原料Aの良溶媒中で安定に分散するのに必要な表面修飾がなされていることが特に好ましい。例えば、バインダー原料としてアクリル系モノマー、オリゴマーを使用する場合には、表面修飾としては炭素数1〜5以内のアルキル基、アルケニル基、ビニル基、(メタ)アクリル基などが必要最低限、表面に導入されていることが好ましい。これを満たす市販品としては、MEK−ST−UP(MEK分散体)がある。
本発明の塗料組成物A中に含まれる粒子aは、塗工、乾燥、硬化処理もしくは蒸着等の処理において、熱や電離放射線などによりその表面状態を変化させた状態で前記第1層中に含まれる場合がある。すなわち、前記塗料組成物Aにおいて塗工、乾燥、硬化処理もしくは蒸着等の処理がなされ、前記塗料組成物A中の粒子aは反応することにより、前記表面層中に含まれる粒子aとは粒子表面の官能基が異なる場合と、塗料組成物Aにおいて塗工、乾燥、硬化処理もしくは蒸着等の処理がなされた後でも、表面層中に含まれる一部の粒子aについては、塗料組成物A中に含まれる粒子aと同様の状態で存在する場合(すなわち、未反応のまま存在する場合)がある。
In order to obtain a particularly preferable surface shape of the present invention, the above-mentioned bead-like and / or branched silica is stably dispersed in a good solvent of the binder raw material A contained in the coating composition A. It is particularly preferred that the necessary surface modification is made. For example, when an acrylic monomer or oligomer is used as a binder raw material, the surface modification requires an alkyl group, an alkenyl group, a vinyl group, a (meth) acryl group or the like having 1 to 5 carbon atoms on the surface. It is preferably introduced. As a commercial product satisfying this, there is MEK-ST-UP (MEK dispersion).
The particles a contained in the coating composition A of the present invention are contained in the first layer in a state in which the surface state is changed by heat, ionizing radiation, or the like in a process such as coating, drying, curing or vapor deposition. May be included. That is, the coating composition A is subjected to a treatment such as coating, drying, curing treatment or vapor deposition, and the particles a in the coating composition A react with each other, so that the particles a contained in the surface layer are particles. For some particles a contained in the surface layer even when the functional groups on the surface are different from those after coating, drying, curing treatment or vapor deposition in the coating composition A, the coating composition A In some cases, the particles a exist in the same state as the particles a contained therein (that is, the particles a remain unreacted).

粒子aの数平均粒子径は、後述のとおり、成形材料、塗料組成物のいずれにおいても走査型電子顕微鏡(SEM)、透過型電子顕微鏡等を用いて一次粒子を観察し、各一次粒子の外接円の直径を等価粒子径とし、その数平均値から求めた値を指す。   As will be described later, the number average particle size of the particles a is determined by observing the primary particles using a scanning electron microscope (SEM), a transmission electron microscope, etc. in both the molding material and the coating composition, and circumscribing each primary particle. The diameter obtained from the number average value of the diameter of the circle is the equivalent particle diameter.

粒子aの数平均粒子径は、表面、または断面を観察することにより数平均粒子径を求めることが可能であり、また、粒子aの数平均粒子径は、溶媒で希釈した塗料組成物Aを滴下、乾燥することによりサンプルを調製して観察することが可能である。   The number average particle size of the particles a can be determined by observing the surface or the cross section, and the number average particle size of the particles a can be determined from the coating composition A diluted with a solvent. It is possible to prepare and observe a sample by dropping and drying.

[第2層構成材料]
前記成形材料の第2層の屈折率に好ましい範囲があることは前述の通りである。さらに、第2層の層厚みは、80nm以上が好ましく、100nm以上がより好ましい。第2層の層厚みが80nm未満であると反射防止機能が不十分になる場合がある。第2層の層厚みは80nm以上であれば特に問題ない。ただし、第2層の層厚みの上限は4000nm程度であり、それより厚い場合、反射防止性能、透明性が不十分になる場合がある。
[Second layer constituent material]
As described above, the refractive index of the second layer of the molding material has a preferable range. Furthermore, the layer thickness of the second layer is preferably 80 nm or more, and more preferably 100 nm or more. If the thickness of the second layer is less than 80 nm, the antireflection function may be insufficient. There is no particular problem if the thickness of the second layer is 80 nm or more. However, the upper limit of the thickness of the second layer is about 4000 nm. If it is thicker than that, antireflection performance and transparency may be insufficient.

前記成形材料の第2層は、粒子bとバインダー成分Bを主成分とすることが好ましい。本明細書で、主成分とは、特に断らない限り、全成分のうち50質量%以上を占める成分であることをいう。この場合は、粒子bとバインダー成分Bとの合計が50質量%以上であることを指す。また、前記成形材料の第2層の製造方法については特に限定されないが、支持基材上に塗料組成物(以下塗料組成物Bとする)を支持基材上に塗布、乾燥、および硬化する方法を用いることが好ましい。この塗料組成物Bは、粒子bとバインダー原料Bを主成分とすることが好ましい。バインダー成分B、バインダー原料Bについては後述する。   The second layer of the molding material preferably contains particles b and a binder component B as main components. In this specification, the main component means a component occupying 50% by mass or more of all components unless otherwise specified. In this case, the sum of the particles b and the binder component B is 50% by mass or more. The method for producing the second layer of the molding material is not particularly limited, but a method of applying, drying, and curing a coating composition (hereinafter referred to as coating composition B) on a supporting substrate. Is preferably used. The coating composition B preferably contains the particles b and the binder raw material B as main components. The binder component B and the binder raw material B will be described later.

本発明の塗料組成物B中に含まれる粒子bは、塗工、乾燥、硬化処理もしくは蒸着等の処理において、熱や電離放射線などによりその表面状態を変化させた状態で、前記第2層に含まれる場合がある。   The particles b contained in the coating composition B of the present invention are applied to the second layer in a state in which the surface state is changed by heat, ionizing radiation or the like in a process such as coating, drying, curing or vapor deposition. May be included.

すなわち、前記塗料組成物Bにおいて塗工、乾燥、硬化処理もしくは蒸着等の処理がなされ、前記塗料組成物B中の粒子bは反応することにより、前記表面層中に含まれる粒子bとは粒子表面の官能基が異なる場合と、塗料組成物Bにおいて塗工、乾燥、硬化処理もしくは蒸着等の処理がなされた後でも、表面層中に含まれる一部の粒子bについては、塗料組成物B中に含まれる粒子bと同様の状態で存在する場合(すなわち、未反応のまま存在する場合)がある。   That is, the coating composition B is subjected to a treatment such as coating, drying, curing treatment or vapor deposition, and the particles b in the coating composition B react to form particles b in the surface layer. Even if the surface functional groups are different from those in the coating composition B after coating, drying, curing treatment or vapor deposition, some of the particles b contained in the surface layer are coated with the coating composition B. In some cases, the particles b exist in the same state as the particles b contained therein (that is, the particles b remain unreacted).

粒子bは無機粒子、有機粒子のいずれでもよいが、耐久性の観点から無機粒子であることが好ましく、金属や半金属の酸化物、窒化物、ホウ素化物、塩化物、炭酸塩、硫酸塩であることが好ましく、2種類の金属、半金属を含む複合酸化物や、格子間に異元素が導入されたり、格子点が異種元素で置換されたり、格子欠陥が導入されていてもよい。   The particle b may be either an inorganic particle or an organic particle, but is preferably an inorganic particle from the viewpoint of durability, and may be a metal or metalloid oxide, nitride, boride, chloride, carbonate or sulfate. It is preferable that a complex oxide containing two kinds of metals and metalloids, a different element is introduced between the lattices, a lattice point is replaced with a different element, or a lattice defect is introduced.

粒子bは、粒子aとは異なる種類の無機粒子であることが好ましい。粒子bは特に限定されないが、金属元素、半金属元素の酸化物、窒化物、ホウ素化物、炭酸塩、硫酸塩であることが好ましく、Ga、Zr、Ti、Al、In、Zn、Sb、Sn、およびCeからなる群より選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物粒子であることがさらに好ましい。   The particles b are preferably inorganic particles of a different type from the particles a. The particles b are not particularly limited, but are preferably metal elements, metalloid oxides, nitrides, borides, carbonates, sulfates, Ga, Zr, Ti, Al, In, Zn, Sb, Sn. And oxide particles of at least one element selected from the group consisting of Ce and Ce.

粒子bは、具体的には酸化ジルコニウム(ZrO)、酸化チタン(TiO)、酸化アルミニウム(Al)、酸化インジウム(In)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO)、酸化アンチモン(Sb)、およびインジウムスズ酸化物からなる群より選ばれる少なくとも一つ、あるいはこれらの間の固溶体、および一部元素を置換、または一部元素が格子間に侵入、一部元素が欠損した固溶体、または種類の異なる無機粒子が接合した無機粒子である。粒子bは、特に好ましくはリン含有酸化スズ(PTO)、アンチモン含有酸化スズ(ATO)、ガリウム含有酸化亜鉛(GZO)や酸化チタン(TiO)、酸化ジルコニウム(ZrO)である。 Specifically, the particles b are composed of zirconium oxide (ZrO 2 ), titanium oxide (TiO 2 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), indium oxide (In 2 O 3 ), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO). 2 ), at least one selected from the group consisting of antimony oxide (Sb 2 O 3 ), and indium tin oxide, or a solid solution therebetween, and some elements are substituted, or some elements enter between the lattices Or a solid solution in which some elements are deficient, or inorganic particles in which different types of inorganic particles are joined. The particles b are particularly preferably phosphorus-containing tin oxide (PTO), antimony-containing tin oxide (ATO), gallium-containing zinc oxide (GZO), titanium oxide (TiO 2 ), or zirconium oxide (ZrO 2 ).

また、粒子bは、粒子aよりも屈折率が高い無機粒子であることが好ましい。粒子bの屈折率は、好ましくは1.60〜2.80、より好ましくは1.65〜2.50である。粒子bの無機粒子部分の屈折率が1.60よりも小さくなると、得られる成形材料の粒子bを含む第2層の屈折率が低下し、粒子a含む第1層との屈折率差が小さくなるため、反射部防止機能が不十分になる場合がある、粒子bの屈折率が2.80よりも大きくなると、反射色が強く場合がある。   The particles b are preferably inorganic particles having a higher refractive index than the particles a. The refractive index of the particle b is preferably 1.60 to 2.80, more preferably 1.65 to 2.50. When the refractive index of the inorganic particle portion of the particle b is smaller than 1.60, the refractive index of the second layer containing the particles b of the molding material to be obtained is lowered, and the refractive index difference from the first layer containing the particles a is small. Therefore, the reflection preventing function may be insufficient. When the refractive index of the particles b is greater than 2.80, the reflected color may be strong.

さらに、本発明の製造方法により得られる成形材料において、粒子aがシリカ粒子の場合は、粒子bは該シリカ粒子よりも屈折率が高い無機粒子であることが特に好ましく、このような屈折率が高い無機粒子としては、屈折率が1.60から2.80の無機化合物が好ましく用いられる。そのような無機化合物の具体例としては、アンチモン酸化物、アンチモン含有酸化亜鉛、アンチモン含有酸化スズ(ATO)、リン含有酸化スズ(PTO)、ガリウム含有酸化亜鉛(GZO)、酸化ジルコニウム(ZrO)、および/または酸化チタン(TiO)が挙げられ、特に屈折率が高い酸化チタン、酸化ジルコニウムがより好ましい。 Furthermore, in the molding material obtained by the production method of the present invention, when the particles a are silica particles, it is particularly preferable that the particles b are inorganic particles having a higher refractive index than the silica particles. As the high inorganic particles, inorganic compounds having a refractive index of 1.60 to 2.80 are preferably used. Specific examples of such inorganic compounds include antimony oxide, antimony-containing zinc oxide, antimony-containing tin oxide (ATO), phosphorus-containing tin oxide (PTO), gallium-containing zinc oxide (GZO), and zirconium oxide (ZrO 2 ). , And / or titanium oxide (TiO 2 ), with titanium oxide and zirconium oxide having a particularly high refractive index being more preferred.

[バインダー成分A、バインダー成分B、バインダー原料A、バインダー原料B]
前記成形材料の第1層はバインダー成分Aを含むことが好ましく、前記成形材料の第2層はバインダー成分Bを含むことが好ましく、前記塗料組成物Aはバインダー原料Aを含むことが好ましく、前記塗料組成物Bは、バインダー原料Bを含むことが好ましい。
[Binder Component A, Binder Component B, Binder Raw Material A, Binder Raw Material B]
The first layer of the molding material preferably includes the binder component A, the second layer of the molding material preferably includes the binder component B, the coating composition A preferably includes the binder raw material A, The coating composition B preferably contains a binder raw material B.

ここで前記バインダー原料A、バインダー原料Bとは前記塗料組成物A、塗料組成物B中に含まれる化合物であり、前記塗料組成物A、塗料組成物Bを塗布、乾燥、および硬化することにより形成された前記層に存在する前記バインダー成分A、バインダー成分Bの原料である。つまり、前記塗料組成物A、塗料組成物B中に含まれるバインダー原料A、バインダー原料Bが、熱や電離放射線などにより硬化して、第1層、第2層に含まれるものを、バインダー成分A、バインダー成分Bという。なお、一部のバインダー原料については、成形材料中でも塗料組成物中と同様の状態で存在する場合もあり(未反応のまま存在する場合もあり)、その場合でも成形材料中のものはバインダー成分という。   Here, the binder raw material A and the binder raw material B are compounds contained in the coating composition A and the coating composition B. By applying, drying, and curing the coating composition A and the coating composition B, It is a raw material of the binder component A and the binder component B present in the formed layer. That is, the binder raw material A and the binder raw material B contained in the coating composition A and the coating composition B are cured by heat, ionizing radiation or the like, and are contained in the first layer and the second layer. A and the binder component B are called. In addition, some binder materials may exist in the same state as in the coating composition even in the molding material (there may exist unreacted), but even in that case, the one in the molding material is the binder component That's it.

前記塗料組成物中のバインダー原料A、バインダー原料Bは特に限定するものではなく、同一でも、異なっていてもよい。また、製造性の観点より、熱および/または活性エネルギー線などにより、硬化可能であることが好ましい。塗料組成物A、塗料組成物B中のバインダー原料A、バインダー原料Bは、一種類であってもよいし、二種類以上を混合して用いてもよい。   The binder raw material A and the binder raw material B in the coating composition are not particularly limited, and may be the same or different. Moreover, it is preferable that it can harden | cure with a heat | fever and / or active energy ray etc. from a viewpoint of manufacturability. The binder raw material A and the binder raw material B in the coating composition A and the coating composition B may be one kind or a mixture of two or more kinds.

また、粒子a、粒子bを表面層中に保持する観点より、分子中にアルコキシ基、シラノール基、反応性二重結合、および開環反応可能な官能基を有しているモノマー、オリゴマーがバインダー原料A、バインダー原料Bであることが好ましい。さらにUV線により硬化する場合は、酸素阻害を防ぐことができることから酸素濃度ができるだけ低い方が好ましく、嫌気性雰囲気下で硬化する方がより好ましい。酸素濃度を下げることにより最表面の硬化状態が向上し、耐薬品耐性が良化する場合がある。   Further, from the viewpoint of holding the particles a and particles b in the surface layer, monomers and oligomers having alkoxy groups, silanol groups, reactive double bonds, and functional groups capable of ring-opening reaction in the molecule are binders. It is preferable that it is the raw material A and the binder raw material B. Further, in the case of curing with UV rays, oxygen concentration is preferably as low as possible because oxygen inhibition can be prevented, and curing in an anaerobic atmosphere is more preferable. By reducing the oxygen concentration, the cured state of the outermost surface is improved and chemical resistance may be improved.

このような塗料組成物中のバインダー原料A、バインダー原料Bは、具体的には多官能アクリレートモノマー、オリゴマー、アルコキシシラン、アルコキシシラン加水分解物、アルコキシシランオリゴマー等が好ましく、多官能アクリレートモノマー、オリゴマーがより好ましい。   Specifically, the binder raw material A and the binder raw material B in such a coating composition are preferably polyfunctional acrylate monomers, oligomers, alkoxysilanes, alkoxysilane hydrolysates, alkoxysilane oligomers, and the like. Is more preferable.

多官能アクリレートモノマーの例としては、1分子中に3(より好ましくは4または5)個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する多官能アクリレートおよびその変性ポリマー、具体的な例としては、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサンメチレンジイソシアネートウレタンポリマーなどを用いることができる。これらの単量体は、1種または2種以上を混合して使用することができる。なお、「(メタ)アクリレート」は、アクリレートとメタクリレートを「(メタ)アクリロイルオキシ基」は、アクリロイルオキシ基とメタクリロイルオキシ基を総称して、表すものとする(上記以外に化合物中に「(メタ)アクリ・・・」が含まれる場合も同様である)。   Examples of polyfunctional acrylate monomers include polyfunctional acrylates having 3 (more preferably 4 or 5) or more (meth) acryloyloxy groups in one molecule and modified polymers thereof, and specific examples include pentaerythritol. Tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, Trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol triacrylate hexanemethylene diisocyanate urethane polymer, or the like can be used. These monomers can be used alone or in combination of two or more. “(Meth) acrylate” represents acrylate and methacrylate, and “(meth) acryloyloxy group” is a generic term for acryloyloxy group and methacryloyloxy group. The same applies to the case where “).

市販されている多官能アクリル系組成物としては三菱レイヨン株式会社;(商品名“ダイヤビーム”(登録商標)シリーズなど)、長瀬産業株式会社;(商品名“デナコール”(登録商標)シリーズなど)、新中村化学株式会社;(商品名“NKエステル”シリーズなど)、DIC株式会社;(商品名“UNIDIC”(登録商標)など)、東亞合成株式会社;(“アロニックス”(登録商標)シリーズなど)、日油株式会社;(“ブレンマー”(登録商標)シリーズなど)、日本化薬株式会社;(商品名“KAYARAD”(登録商標)シリーズなど)、共栄社化学株式会社;(商品名“ライトエステル”シリーズなど)などを挙げることができ、これらの製品を利用することができる。   Commercially available polyfunctional acrylic compositions include Mitsubishi Rayon Co., Ltd. (trade name “Diabeam” (registered trademark) series, etc.), Nagase Sangyo Co., Ltd. (trade name “Denacol” (registered trademark) series, etc.) Shinnakamura Chemical Co., Ltd. (trade name “NK Ester” series, etc.), DIC Corporation; (trade name “UNIDIC” (registered trademark), etc.), Toagosei Co., Ltd. (“Aronix” (registered trademark) series, etc. ), NOF Corporation; (“Blemmer” (registered trademark) series, etc.), Nippon Kayaku Co., Ltd .; (trade name “KAYARAD” (registered trademark) series, etc.), Kyoeisha Chemical Co., Ltd .; "Series" etc.), and these products can be used.

多官能アクリレートオリゴマーの例としては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレートなどが挙げられるが、本発明の成形材料の表面形状を得るためにはウレタンアクリレートが好ましい。さらに粒子の分散の観点から、ウレタンアクリレートのうちポリオール骨格に脂環式炭化水素(シクロヘキシル、トリシクロデカニル、イソボニル骨格)を有し、かつ1分子中に9(より好ましくは12)個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する単位構造からなるものが特に好ましい。   Examples of the polyfunctional acrylate oligomer include epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, and the like, and urethane acrylate is preferable for obtaining the surface shape of the molding material of the present invention. Furthermore, from the viewpoint of particle dispersion, the urethane acrylate has an alicyclic hydrocarbon (cyclohexyl, tricyclodecanyl, isobornyl skeleton) in the polyol skeleton, and 9 (more preferably 12) or more in one molecule. What consists of a unit structure which has a (meth) acryloyloxy group is especially preferable.

バインダー原料Aのハンセンの溶解度パラメーターはその官能基に応じて特徴付けられる。バインダー原料のハンセンの溶解度パラメーターには好ましい条件が存在する。具体的にはフッ素化合物Aのハンセンの溶解度パラメーターの分散項をσ、極性項をσ、水素結合項をσとし、バインダー成分のハンセンの溶解度パラメーターの分散項をσBd、極性項をσBp、水素結合項をσBhとしたとき、
R=[(σ−σBd+(σ−σBp+(σ−σBh1/2
により定義されるパラメーターRが3(MPa)1/2以上12(MPa)1/2以下の値を有することが好ましく、3(MPa)1/2以上8(MPa)1/2以下の値を有することがより好ましく、4(MPa)1/2以上6(MPa)1/2以下の値を有することが特に好ましい。パラメーターRが12(MPa)1/2を超える場合には透明性や光沢感が低下する。一方パラメーターRが3(MPa)1/2に満たない場合、またはσ<σBdを満たさない場合には指紋付着量が増加する。
The Hansen solubility parameter of the binder raw material A is characterized according to its functional group. There are favorable conditions for the solubility parameter of Hansen, the binder raw material. Specifically, the dispersion term of Hansen solubility parameter of fluorine compound A is σ d , the polar term is σ p , the hydrogen bond term is σ h , the dispersion term of Hansen solubility parameter of binder component is σ Bd , and the polar term is When σ Bp and the hydrogen bond term are σ Bh ,
R = [(σ d −σ Bd ) 2 + (σ p −σ Bp ) 2 + (σ h −σ Bh ) 2 ] 1/2
The parameter R defined by is preferably 3 (MPa) 1/2 or more and 12 (MPa) 1/2 or less, preferably 3 (MPa) 1/2 or more and 8 (MPa) 1/2 or less. More preferably, it has a value of 4 (MPa) 1/2 or more and 6 (MPa) 1/2 or less. When the parameter R exceeds 12 (MPa) 1/2 , the transparency and glossiness decrease. On the other hand, when the parameter R is less than 3 (MPa) 1/2 or when σ dBd is not satisfied, the fingerprint adhesion amount increases.

[溶媒]
前記塗料組成物A、塗料組成物Bは溶媒を含んでもよい。溶媒の種類数としては1種類以上20種類以下が好ましく、より好ましくは1種類以上10種類以下、さらに好ましくは1種類以上6種類以下である。ここで「溶媒」とは、前述の粒子a、粒子b、フッ素化合物A、バインダー原料A、バインダー原料Bを溶解、もしくは分散することができ、塗布、乾燥、および硬化工程を経ることによって、ほぼ全量を蒸発させることが可能な常温、常圧で液体である物質を指す。
[solvent]
The coating composition A and the coating composition B may contain a solvent. The number of solvent types is preferably 1 or more and 20 or less, more preferably 1 or more and 10 or less, and still more preferably 1 or more and 6 or less. Here, the “solvent” can dissolve or disperse the particles a, particles b, fluorine compound A, binder raw material A, and binder raw material B described above, and is almost processed through coating, drying, and curing steps. It refers to a substance that is liquid at room temperature and pressure that can be evaporated in its entirety.

ここで、溶媒の種類とは溶媒を構成する分子構造によって決まる。すなわち、同一の元素組成で、かつ官能基の種類と数が同一であっても結合関係が異なるもの(構造異性体)、前記構造異性体ではないが、3次元空間内ではどのような配座をとらせてもぴったりとは重ならないもの(立体異性体)は、種類の異なる溶媒として取り扱う。例えば、2−プロパノールと、n−プロパノールは異なる溶媒として取り扱う。   Here, the kind of solvent is determined by the molecular structure constituting the solvent. That is, the same elemental composition and the same type and number of functional groups have different bond relationships (structural isomers), which are not structural isomers, but what conformations are in three-dimensional space Those that do not overlap exactly even if they are removed (stereoisomers) are treated as different types of solvents. For example, 2-propanol and n-propanol are handled as different solvents.

[その他の添加剤]
前記塗料組成物A、塗料組成物Bとしては、更に光重合開始剤や硬化剤や触媒を含むことが好ましい。光重合開始剤及び触媒は、無機粒子間、バインダー原料間、無機粒子とバインダー原料間の反応を促進するために用いられる。該開始剤としては、塗料組成物をラジカル反応等による重合および/またはシラノール縮合および/または架橋反応を開始あるいは促進できるものが好ましい。
[Other additives]
The coating composition A and the coating composition B preferably further contain a photopolymerization initiator, a curing agent, and a catalyst. A photoinitiator and a catalyst are used in order to promote reaction between inorganic particles, between binder raw materials, and between inorganic particles and binder raw materials. As the initiator, those capable of initiating or accelerating polymerization and / or silanol condensation and / or crosslinking reaction of the coating composition by radical reaction or the like are preferable.

該開始剤、該硬化剤、及び触媒は、種々のものを使用できる。また、複数の開始剤を同時に用いてもよいし、単独で用いてもよい。さらに、酸性触媒や、熱重合開始剤や光重合開始剤を併用してもよい。酸性触媒の例としては、塩酸水溶液、蟻酸、酢酸などが挙げられる。熱重合開始剤の例としては、過酸化物、アゾ化合物が挙げられる。また、光重合開始剤の例としては、アルキルフェノン系化合物、含硫黄系化合物、アシルホスフィンオキシド系化合物、アミン系化合物などが挙げられるがこれらに限定されるものではないが、硬化性の点から、アルキルフェノン系化合物が好ましく、具体例としては、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−フェニル)−1−ブタン、2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−(4−フェニル)−1−ブタン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−1−ブタン、2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルフォリニル)フェニル]−1−ブタン、1−シクロヒキシル−フェニルケトン、2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−[4−(2−エトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、などが挙げられる。   Various initiators, curing agents, and catalysts can be used. A plurality of initiators may be used at the same time or may be used alone. Furthermore, you may use together an acidic catalyst, a thermal-polymerization initiator, and a photoinitiator. Examples of acidic catalysts include aqueous hydrochloric acid, formic acid, acetic acid and the like. Examples of the thermal polymerization initiator include peroxides and azo compounds. Examples of the photopolymerization initiator include alkylphenone compounds, sulfur-containing compounds, acylphosphine oxide compounds, and amine compounds, but are not limited thereto, but from the viewpoint of curability. Alkylphenone compounds are preferred, and specific examples include 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropane-1 -One, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-phenyl) -1-butane, 2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- (4-phenyl) -1-butane, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -1-butane, 2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) Nyl) methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butane, 1-cyclohexyl-phenylketone, 2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- [4- (2- Ethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, and the like.

なお、該開始剤及び該硬化剤の含有割合は、塗料組成物中のバインダー原料の合計100質量部に対して0.001質量部から30質量部が好ましく、より好ましくは0.05質量部から20質量部であり更に好ましくは0.1質量部から10質量部である。   The content ratio of the initiator and the curing agent is preferably 0.001 to 30 parts by mass, more preferably 0.05 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the binder raw materials in the coating composition. 20 parts by mass, more preferably 0.1 to 10 parts by mass.

前記塗料組成物A、塗料組成物Bは更に、界面活性剤、増粘剤、レベリング剤などの添加剤を必要に応じて適宜含有させてもよい。   The coating composition A and the coating composition B may further contain additives such as a surfactant, a thickener, and a leveling agent as necessary.

[塗料組成物A中の各成分の含有量]
前記塗料組成物Aは、フッ素化合物A、バインダー原料A、粒子aを含むが、塗料組成物A中のそれぞれの質量関係について説明する。
[Content of each component in coating composition A]
The coating composition A includes the fluorine compound A, the binder raw material A, and the particles a. The mass relationship in the coating composition A will be described.

塗料組成物A100質量%において、フッ素化合物Aが0.025質量%以上40質量%以下、粒子aが0.2質量%以上55質量%以下、バインダー原料Aが0.8質量%以上66質量%以下、溶媒が10質量%以上95質量%以下、開始剤、硬化剤、触媒のその他の成分は0.025質量%以上7質量%以下が好ましく例示される。   In 100% by mass of the coating composition A, the fluorine compound A is 0.025% by mass to 40% by mass, the particle a is 0.2% by mass to 55% by mass, and the binder raw material A is 0.8% by mass to 66% by mass. Hereinafter, the solvent is preferably 10% by mass to 95% by mass, and the initiator, the curing agent, and the other components of the catalyst are preferably 0.025% by mass to 7% by mass.

より好ましくは、フッ素化合物Aが0.05質量%以上30質量%以下、粒子aが0.4質量%以上50質量%以下、バインダー原料Aが3.2質量%以上56質量%以下、溶媒が40質量%以上90質量%以下、開始剤、硬化剤、触媒のその他の成分が0.05質量%以上6質量%以下である。   More preferably, the fluorine compound A is 0.05% by mass to 30% by mass, the particles a are 0.4% by mass to 50% by mass, the binder raw material A is 3.2% by mass to 56% by mass, and the solvent is 40 mass% or more and 90 mass% or less, and other components of an initiator, a hardening | curing agent, and a catalyst are 0.05 mass% or more and 6 mass% or less.

[塗料組成物B中の各成分の含有量]
前記塗料組成物Bは、バインダー原料B、粒子bを含むが、塗料組成物B中のそれぞれの質量関係について説明する。
[Content of each component in coating composition B]
Although the said coating composition B contains the binder raw material B and the particle | grains b, each mass relationship in the coating composition B is demonstrated.

塗料組成物B100質量%において、粒子bが0.2質量%以上95質量%以下、バインダー原料Bが0.8質量%以上60質量%以下、溶媒が30質量%以上95質量%以下、開始剤、硬化剤、触媒のその他の成分が0.025質量%以上7質量%以下好ましく例示される。
より好ましくは、粒子bが0.4質量%以上90質量%以下、バインダー原料Bが3.2質量%以上50質量%以下、溶媒が40質量%以上90質量%以下、開始剤、硬化剤、触媒のその他の成分が0.05質量%以上6質量%以下である。
In 100% by mass of the coating composition B, the particle b is 0.2% by mass to 95% by mass, the binder raw material B is 0.8% by mass to 60% by mass, the solvent is 30% by mass to 95% by mass, and the initiator. The other components of the curing agent and the catalyst are preferably exemplified by 0.025% by mass or more and 7% by mass or less.
More preferably, the particle b is 0.4% by mass to 90% by mass, the binder raw material B is 3.2% by mass to 50% by mass, the solvent is 40% by mass to 90% by mass, an initiator, a curing agent, The other components of the catalyst are 0.05% by mass or more and 6% by mass or less.

[支持基材]
本発明の成形材料が平面状である場合には、前記表面層を設けるため支持基材を必要とする。支持基材に特に限定はなく、ガラス板、プラスチックフィルム、プラスチックシート、プラスチックレンズ、金属板のいずれでもよい。
[Supporting substrate]
When the molding material of the present invention is planar, a support base material is required to provide the surface layer. There is no limitation in particular in a support base material, Any of a glass plate, a plastic film, a plastic sheet, a plastic lens, and a metal plate may be sufficient.

プラスチックフィルム、プラスチックシートを支持基材に使用する場合の例には、セルロースエステル(例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース)、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル(例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレート、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−1,2−ジフェノキシエタン−4,4’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート)、ポリスチレン(例、シンジオタクチックポリスチレン)、ポリオレフィン(例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン)、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレート及びポリエーテルケトンなどが含まれるが、これらの中でも得にトリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレートが好ましい。   Examples of using a plastic film or plastic sheet as a supporting substrate include cellulose esters (eg, triacetylcellulose, diacetylcellulose, propionylcellulose, butyrylcellulose, acetylpropionylcellulose, nitrocellulose), polyamide, polycarbonate, polyester (Eg, polyethylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalene dicarboxylate, poly-1,4-cyclohexanedimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,4′-dicarboxylate, polybutylene terephthalate ), Polystyrene (eg, syndiotactic polystyrene), polyolefin (eg, polypropylene, polyethylene, polymethylpentene), polysulfone, poly Terusuruhon, polyarylate, polyetherimide, including but such as polymethyl methacrylate and polyether ketone, triacetyl cellulose obtained Among these, polycarbonates, polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are preferred.

支持基材の表面には、前記層を形成する前に各種の表面処理を施すことも可能である。表面処理の例には、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理およびオゾン酸化処理が含まれる。これらの中でもグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理および火焔処理が好ましく、グロー放電処理と紫外線処理がさらに好ましい。   Various surface treatments can be applied to the surface of the support substrate before forming the layer. Examples of the surface treatment include chemical treatment, mechanical treatment, corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet irradiation treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment, laser treatment, mixed acid treatment and ozone oxidation treatment. Among these, glow discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona discharge treatment and flame treatment are preferred, and glow discharge treatment and ultraviolet treatment are more preferred.

[成形材料の製造方法]
本発明の成形材料の表面に形成される前記表面層、つまり第2層と第1層は蒸着、スパッタリング、CVDなどの気相処理、塗布、含浸、めっき、ケン化などの液相処理、転写、貼合などの固相処理、およびこれら処理の組み合わせによって成形材料の表面に形成してもよいが、蒸着による気相処理、塗布による液相処理が好ましく、塗料組成物を支持基材等に塗布することにより形成する液相処理がより好ましい。また、2層の形成を異なる方法で行ってもよいし、同じ方法で行ってもよい。
[Method of manufacturing molding material]
The surface layer formed on the surface of the molding material of the present invention, that is, the second layer and the first layer are vapor phase treatment such as vapor deposition, sputtering, and CVD, liquid phase treatment such as coating, impregnation, plating, saponification, and transfer. It may be formed on the surface of the molding material by solid phase treatment such as pasting and a combination of these treatments, but vapor phase treatment by vapor deposition and liquid phase treatment by coating are preferred, and the coating composition is applied to a supporting substrate or the like. A liquid phase treatment formed by coating is more preferable. The two layers may be formed by different methods or by the same method.

塗布による成形材料の製造方法は特に限定されないが、塗料組成物をディップコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やダイコート法(米国特許第2681294号明細書)などにより支持基材等に塗布することにより層を形成することが好ましい。さらに、これらの塗布方式のうち、グラビアコート法または、ダイコート法が塗布方法としてより好ましい。塗料組成物の製造方法については後述する。   The method for producing the molding material by coating is not particularly limited, but the coating composition is supported by a dip coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method or a die coating method (US Pat. No. 2,681,294). It is preferable to form a layer by applying to the above. Further, among these coating methods, the gravure coating method or the die coating method is more preferable as the coating method. The method for producing the coating composition will be described later.

次いで、支持基材等の上に塗布された液膜を乾燥する。得られる成形材料中から完全に溶媒を除去する事に加え、液膜中の粒子により表面の構造の形成を促進する観点からも、乾燥工程では液膜の加熱を伴うことが好ましい。   Next, the liquid film applied on the support substrate or the like is dried. In addition to completely removing the solvent from the molding material to be obtained, it is preferable that the drying process is accompanied by heating of the liquid film from the viewpoint of promoting the formation of the surface structure by the particles in the liquid film.

乾燥方法については、伝熱乾燥(高熱物体への密着)、対流伝熱(熱風)、輻射伝熱(赤外線)、その他(マイクロ波、誘導加熱)などが挙げられる。この中でも、本発明の製造方法では、精密に幅方向でも乾燥速度を均一にする必要から、対流伝熱、または輻射伝熱を使用した方式が好ましい。さらに、フッ素化合物Aの表面への移動や配向、粒子の自己組織化の進行を制御する観点からは、輻射伝熱と対流伝熱を併用する乾燥方式が特に好ましい。   Examples of the drying method include heat transfer drying (adherence to a high-temperature object), convection heat transfer (hot air), radiant heat transfer (infrared ray), and others (microwave, induction heating). Among these, in the manufacturing method of the present invention, a method using convective heat transfer or radiant heat transfer is preferable because it is necessary to make the drying speed uniform even in the width direction. Furthermore, from the viewpoint of controlling the movement and orientation of the fluorine compound A to the surface and the progress of self-organization of the particles, a drying method using both radiant heat transfer and convective heat transfer is particularly preferable.

乾燥過程は一般的に(A)恒率乾燥期間、(B)減率乾燥期間に分けられ、前者は、液膜表面において溶媒分子の大気中への拡散が乾燥の律速になっているため、乾燥速度は、この区間において一定で、乾燥速度は大気中の被蒸発溶媒分圧、風速、温度により支配され、膜面温度は熱風温度と大気中の被蒸発溶媒分圧により決まる値で一定になる。後者は、液膜中での溶媒の拡散が律速となっているため、乾燥速度はこの区間において一定値を示さず低下し続け、液膜中の溶媒の拡散係数により支配され、膜面温度は上昇する。ここで乾燥速度とは、単位時間、単位面積当たりの溶媒蒸発量を表わしたもので、g・m−2・s−1の次元からなる。 The drying process is generally divided into (A) a constant rate drying period and (B) a decreasing rate drying period. Since the former is the rate of drying, diffusion of solvent molecules into the atmosphere on the liquid film surface is The drying speed is constant in this section, the drying speed is governed by the partial pressure of the solvent to be evaporated in the atmosphere, the wind speed and the temperature, and the film surface temperature is constant at a value determined by the hot air temperature and the partial pressure of the solvent to be evaporated in the atmosphere. Become. In the latter, since the diffusion of the solvent in the liquid film is rate-limiting, the drying rate does not show a constant value in this section and continues to decrease, and is governed by the diffusion coefficient of the solvent in the liquid film, and the film surface temperature is To rise. Here, the drying rate represents the amount of solvent evaporation per unit time and unit area, and has a dimension of g · m −2 · s −1 .

前記乾燥速度には、好ましい範囲があり、10g・m−2・s−1以下であることが好ましく、5g・m−2・s−1以下であることがより好ましい。恒率乾燥区間における乾燥速度をこの範囲にすることにより、乾燥速度の不均一さに起因するムラを防ぐことができる。 The drying speed has a preferred range, preferably 10 g · m −2 · s −1 or less, and more preferably 5 g · m −2 · s −1 or less. By setting the drying speed in the constant rate drying section within this range, unevenness due to nonuniform drying speed can be prevented.

0.1g・m−2・s−1以上10g・m−2・s−1以下の範囲の乾燥速度が得られるならば、特に特定の風速、温度に限定されない。 As long as a drying speed in the range of 0.1 g · m −2 · s −1 or more and 10 g · m −2 · s −1 or less can be obtained, the wind speed and temperature are not particularly limited.

本発明の製造方法では、減率乾燥期間では残存溶媒の蒸発と共に、粒子の配列による緻密化が行われる。この過程においては粒子の配列のための時間を必要とするため、減率乾燥期間における膜面温度上昇速度には好ましい範囲が存在し、5℃/秒以下であることが好ましく、1℃/秒以下であることがより好ましい。   In the production method of the present invention, the densification by the arrangement of the particles is performed along with the evaporation of the residual solvent during the decreasing rate drying period. Since this process requires time for the arrangement of particles, there is a preferred range for the film surface temperature rise rate during the rate of drying, and it is preferably 5 ° C./second or less, preferably 1 ° C./second. The following is more preferable.

さらに、熱またはエネルギー線を照射する事によるさらなる硬化操作(硬化工程)を行ってもよい。硬化工程において、熱で硬化する場合には、室温から200℃であることが好ましく、硬化反応の活性化エネルギーの観点から、より好ましくは100℃以上200℃以下、さらに好ましくは130℃以上200℃以下である。   Furthermore, you may perform the further hardening operation (hardening process) by irradiating a heat | fever or an energy ray. When curing with heat in the curing step, the temperature is preferably from room temperature to 200 ° C, more preferably from 100 ° C to 200 ° C, and even more preferably from 130 ° C to 200 ° C, from the viewpoint of the activation energy of the curing reaction. It is as follows.

また、エネルギー線により硬化する場合には汎用性の点から電子線(EB線)及び/又は紫外線(UV線)であることが好ましい。また紫外線により硬化する場合は、酸素阻害を防ぐことができることから酸素濃度ができるだけ低い方が好ましく、窒素雰囲気下(窒素パージ)で硬化する方がより好ましい。酸素濃度が高い場合には、最表面の硬化が阻害され、硬化が不十分となり、耐擦傷性、耐アルカリ性が不十分となる場合がある。また、紫外線を照射する際に用いる紫外線ランプの種類としては、例えば、放電ランプ方式、フラッシュ方式、レーザー方式、無電極ランプ方式等が挙げられる。放電ランプ方式である高圧水銀灯を用いて紫外線硬化させる場合、紫外線の照度が100〜3000mW/cm、好ましくは200〜2000mW/cm、さらに好ましくは300〜1500mW/cmとなる条件で紫外線照射を行うことが好ましく、紫外線の積算光量が100〜3000mJ/cm、好ましくは200〜2000mJ/cm、さらに好ましくは300〜1500mJ/cmとなる条件で紫外線照射を行うことがより好ましい。ここで、紫外線照度とは、単位面積当たりに受ける照射強度で、ランプ出力、発光スペクトル効率、発光バルブの直径、反射鏡の設計及び被照射物との光源距離によって変化する。しかし、搬送スピードによって照度は変化しない。また、紫外線積算光量とは単位面積当たりに受ける照射エネルギーで、その表面に到達するフォトンの総量である。積算光量は、光源下を通過する照射速度に反比例し、照射回数とランプ灯数に比例する。 Moreover, when hardening with an energy ray, it is preferable that it is an electron beam (EB ray) and / or an ultraviolet-ray (UV ray) from a versatility point. In the case of curing with ultraviolet rays, the oxygen concentration is preferably as low as possible because oxygen inhibition can be prevented, and curing in a nitrogen atmosphere (nitrogen purge) is more preferable. When the oxygen concentration is high, the curing of the outermost surface is inhibited, the curing becomes insufficient, and the scratch resistance and alkali resistance may be insufficient. Examples of the ultraviolet lamp used when irradiating ultraviolet rays include a discharge lamp method, a flash method, a laser method, and an electrodeless lamp method. When the discharge lamp type to ultraviolet cured using a high pressure mercury lamp is, illuminance 100~3000mW / cm 2 of ultraviolet, ultraviolet irradiation under the conditions preferably 200~2000mW / cm 2, further preferably a 300~1500mW / cm 2 preferably performing, integrated light quantity of ultraviolet 100~3000mJ / cm 2, preferably 200~2000mJ / cm 2, more preferably it is more preferable to carry out ultraviolet irradiation under the condition that the 300~1500mJ / cm 2. Here, the ultraviolet illuminance is the irradiation intensity received per unit area, and changes depending on the lamp output, the emission spectral efficiency, the diameter of the light emitting bulb, the design of the reflector, and the light source distance to the irradiated object. However, the illuminance does not change depending on the conveyance speed. Further, the UV integrated light amount is irradiation energy received per unit area, and is the total amount of photons reaching the surface. The integrated light quantity is inversely proportional to the irradiation speed passing under the light source, and is proportional to the number of irradiations and the number of lamps.

次に、実施例に基づいて本発明を説明するが、本発明は必ずしもこれらに限定されるものではない。   Next, although this invention is demonstrated based on an Example, this invention is not necessarily limited to these.

[フッ素化合物A]
[フッ素化合物A1]
フッ素化合物A1としてフルオロポリエーテル部位を含む化合物(RS−75 DIC株式会社製)を使用した。
[Fluorine Compound A]
[Fluorine compound A1]
A compound containing a fluoropolyether moiety (RS-75 manufactured by DIC Corporation) was used as the fluorine compound A1.

[フッ素化合物A2]
フッ素化合物A2として含フッ素デンドリマー(FA−200 日産化学工業株式会社製)を使用した。
[Fluorine compound A2]
A fluorine-containing dendrimer (FA-200 manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) was used as the fluorine compound A2.

[塗料組成物Aの作成]
[塗料組成物A1]下記材料を混合し塗料組成物A1を得た。
フッ素化合物A: フッ素化合物A1 18.7 質量%
粒子a: 連鎖状オルガノシリカゾル MEK−ST−UP
(日産化学工業株式会社製 固形分濃度20%) 45 質量%
バインダー原料A:KAYARAD DPHA(日本化薬株式会社製) 13.5 質量%
溶媒: MEK 21.8 質量%
光重合開始剤: 1−ヒドロキシーシクロヘキシルーフェニルーケトン
(イルガキュア184 BASF社製) 1 質量%
[塗料組成物A2] 下記材料を混合し塗料組成物A2を得た。
フッ素化合物A: フッ素化合物A1 11.2 質量%
粒子a: 連鎖状オルガノシリカゾル MEK−ST−UP
(日産化学工業株式会社製 固形分濃度20%) 45 質量%
バインダー原料A:KAYARAD DPHA(日本化薬株式会社製) 16.5 質量%
溶媒: MEK 26.3 質量%
光重合開始剤: 1−ヒドロキシーシクロヘキシルーフェニルーケトン
(イルガキュア184 BASF社製) 1 質量%
[塗料組成物A3] 下記材料を混合し塗料組成物A3を得た。
フッ素化合物A: フッ素化合物A1 2.2 質量%
粒子a: 連鎖状オルガノシリカゾル MEK−ST−UP
(日産化学工業株式会社製 固形分濃度20%) 15 質量%
バインダー原料A:KAYARAD DPHA(日本化薬株式会社製) 26.1 質量%
溶媒: MEK 55.7 質量%
光重合開始剤: 1−ヒドロキシーシクロヘキシルーフェニルーケトン
(イルガキュア184 BASF社製) 1 質量%
[塗料組成物A4] 下記材料を混合し塗料組成物A4を得た。
フッ素化合物A: フッ素化合物A2 7.5 質量%
粒子a: 連鎖状オルガノシリカゾル MEK−ST−UP
(日産化学工業株式会社製 固形分濃度20%) 45 質量%
バインダー原料A:KAYARAD DPHA(日本化薬株式会社製) 13.5 質量%
溶媒: MEK 33 質量%
光重合開始剤: 1−ヒドロキシーシクロヘキシルーフェニルーケトン
(イルガキュア184 BASF社製) 1 質量%
[塗料組成物A5] 下記材料を混合し塗料組成物A5を得た。
フッ素化合物A: フッ素化合物A1 37.5 質量%
粒子a: 連鎖状オルガノシリカゾル MEK−ST−UP
(日産化学工業株式会社製 固形分濃度20%) 45 質量%
バインダー原料A:KAYARAD DPHA(日本化薬株式会社製) 6 質量%
溶媒: MEK 10.5 質量%
光重合開始剤: 1−ヒドロキシーシクロヘキシルーフェニルーケトン
(イルガキュア184 BASF社製) 1 質量%
[塗料組成物A6] 下記材料を混合し塗料組成物A6を得た。
フッ素化合物A: フッ素化合物A1 3.7 質量%
粒子a: 含酸化ジルコニウム粒子 F75
(CIKナノテック株式会社製 固形分濃度30%)25 質量%
バインダー原料A:KAYARAD DPHA(日本化薬株式会社製) 21 質量%
溶媒: MEK 49.3 質量%
光重合開始剤: 1−ヒドロキシーシクロヘキシルーフェニルーケトン
(イルガキュア184 BASF社製) 1 質量%
[塗料組成物A7] 下記材料を混合し塗料組成物A7を得た。
フッ素化合物A: フッ素化合物A1 37.5 質量%
粒子a: オルガノシリカゾル IPA−ST−L
(日産化学工業株式会社製 固形分濃度30%) 30 質量%
バインダー原料A:KAYARAD DPHA(日本化薬株式会社製) 6 質量%
溶媒: MEK 25.5 質量%
光重合開始剤: 1−ヒドロキシーシクロヘキシルーフェニルーケトン
(イルガキュア184 BASF社製) 1 質量%
[塗料組成物A8] 下記材料を混合し塗料組成物A8を得た。
フッ素化合物A: フッ素化合物A2 37.5 質量%
粒子a: シリカ粒子 ハイプシカSP 600nm
(宇部日東化成株式会社 粉末) 30 質量%
バインダー原料A:KAYARAD DPHA(日本化薬株式会社製) 6 質量%
溶媒: MEK 25.5 質量%
光重合開始剤: 1−ヒドロキシーシクロヘキシルーフェニルーケトン
(イルガキュア184 BASF社製) 1 質量%
[塗料組成物A9] 下記材料を混合し塗料組成物A9を得た。
フッ素化合物A: なし
粒子a: なし
バインダー原料A:KAYARAD DPHA(日本化薬株式会社製) 30 質量%
溶媒: MEK 69 質量%
光重合開始剤: 1−ヒドロキシーシクロヘキシルーフェニルーケトン
(イルガキュア184 BASF社製) 1 質量%。
[Preparation of coating composition A]
[Coating composition A1] The following materials were mixed to obtain a coating composition A1.
Fluorine compound A: Fluorine compound A1 18.7 mass%
Particle a: Chained organosilica sol MEK-ST-UP
(Nissan Chemical Industries, Ltd. solid content concentration 20%) 45% by mass
Binder raw material A: KAYARAD DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 13.5% by mass
Solvent: MEK 21.8% by mass
Photopolymerization initiator: 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone
(Irgacure 184 manufactured by BASF) 1% by mass
[Coating composition A2] The following materials were mixed to obtain a coating composition A2.
Fluorine compound A: Fluorine compound A1 11.2% by mass
Particle a: Chained organosilica sol MEK-ST-UP
(Nissan Chemical Industries, Ltd. solid content concentration 20%) 45% by mass
Binder raw material A: KAYARAD DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 16.5% by mass
Solvent: 26.3% by mass of MEK
Photopolymerization initiator: 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone
(Irgacure 184 manufactured by BASF) 1% by mass
[Coating composition A3] The following materials were mixed to obtain a coating composition A3.
Fluorine compound A: Fluorine compound A1 2.2 mass%
Particle a: Chained organosilica sol MEK-ST-UP
(Nissan Chemical Industries, Ltd. solid content concentration 20%) 15% by mass
Binder raw material A: KAYARAD DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 26.1% by mass
Solvent: 55.7% by mass of MEK
Photopolymerization initiator: 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone
(Irgacure 184 manufactured by BASF) 1% by mass
[Coating composition A4] The following materials were mixed to obtain a coating composition A4.
Fluorine compound A: Fluorine compound A2 7.5% by mass
Particle a: Chained organosilica sol MEK-ST-UP
(Nissan Chemical Industries, Ltd. solid content concentration 20%) 45% by mass
Binder raw material A: KAYARAD DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 13.5% by mass
Solvent: MEK 33 mass%
Photopolymerization initiator: 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone
(Irgacure 184 manufactured by BASF) 1% by mass
[Coating composition A5] The following materials were mixed to obtain a coating composition A5.
Fluorine compound A: Fluorine compound A1 37.5% by mass
Particle a: Chained organosilica sol MEK-ST-UP
(Nissan Chemical Industries, Ltd. solid content concentration 20%) 45% by mass
Binder raw material A: KAYARAD DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 6% by mass
Solvent: MEK 10.5 mass%
Photopolymerization initiator: 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone
(Irgacure 184 manufactured by BASF) 1% by mass
[Coating composition A6] The following materials were mixed to obtain a coating composition A6.
Fluorine compound A: Fluorine compound A1 3.7% by mass
Particle a: Oxidized zirconium oxide particle F75
(CIK Nanotech Co., Ltd. solid content concentration 30%) 25% by mass
Binder raw material A: KAYARAD DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 21% by mass
Solvent: MEK 49.3 mass%
Photopolymerization initiator: 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone
(Irgacure 184 manufactured by BASF) 1% by mass
[Coating composition A7] The following materials were mixed to obtain a coating composition A7.
Fluorine compound A: Fluorine compound A1 37.5% by mass
Particle a: Organosilica sol IPA-ST-L
(Nissan Chemical Industries, Ltd. solid content concentration 30%) 30% by mass
Binder raw material A: KAYARAD DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 6% by mass
Solvent: MEK 25.5% by mass
Photopolymerization initiator: 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone
(Irgacure 184 manufactured by BASF) 1% by mass
[Coating composition A8] The following materials were mixed to obtain a coating composition A8.
Fluorine compound A: Fluorine compound A2 37.5% by mass
Particle a: Silica particle Hypsika SP 600 nm
(Ube Nitto Kasei Corporation powder) 30% by mass
Binder raw material A: KAYARAD DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 6% by mass
Solvent: MEK 25.5% by mass
Photopolymerization initiator: 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone
(Irgacure 184 manufactured by BASF) 1% by mass
[Coating composition A9] The following materials were mixed to obtain a coating composition A9.
Fluorine compound A: None
Particle a: None Binder raw material A: KAYARAD DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 30% by mass
Solvent: MEK 69 mass%
Photopolymerization initiator: 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone
(Irgacure 184 manufactured by BASF) 1% by mass.

[塗料組成物Bの作成]
[塗料組成物B1]下記材料を混合し塗料組成物B1を得た。
粒子b: 含酸化チタン粒子 TO−1027TIV
(日揮触媒化成株式会社製 固形分濃度30%) 80 質量%
バインダー原料B:KAYARAD DPHA(日本化薬株式会社製) 6 質量%
溶媒: MEK 13 質量%
光重合開始剤: 1−ヒドロキシーシクロヘキシルーフェニルーケトン
(イルガキュア184 BASF社製) 1 質量%
[塗料組成物B2]下記材料を混合し塗料組成物B2を得た。
粒子b: 含酸化チタン粒子 TO−1027TIV
(日揮触媒化成株式会社製 固形分濃度30%) 90 質量%
バインダー原料B:KAYARAD DPHA(日本化薬株式会社製) 3 質量%
溶媒: MEK 6 質量%
光重合開始剤: 1−ヒドロキシーシクロヘキシルーフェニルーケトン
(イルガキュア184 BASF社製) 1 質量%
[塗料組成物B3]下記材料を混合し塗料組成物B1を得た。
粒子b: 含酸化チタン粒子 TO−1027TIV
(日揮触媒化成株式会社製 固形分濃度30%) 10 質量%
バインダー原料B:KAYARAD DPHA(日本化薬株式会社製) 27 質量%
溶媒: MEK 62 質量%
光重合開始剤: 1−ヒドロキシーシクロヘキシルーフェニルーケトン
(イルガキュア184 BASF社製) 1 質量%
[塗料組成物B4]下記材料を混合し塗料組成物B1を得た。
粒子b: 含酸化チタン粒子 TO−1027TIV
(日揮触媒化成株式会社製 固形分濃度30%) 95 質量%
バインダー原料B:KAYARAD DPHA(日本化薬株式会社製) 1.5 質量%
溶媒: MEK 2・5 質量%
光重合開始剤: 1−ヒドロキシーシクロヘキシルーフェニルーケトン
(イルガキュア184 BASF社製) 1 質量%。
[Preparation of coating composition B]
[Coating composition B1] The following materials were mixed to obtain a coating composition B1.
Particle b: Titanium oxide-containing particle TO-1027TIV
(Solid content concentration 30% by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd.) 80% by mass
Binder raw material B: KAYARAD DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 6% by mass
Solvent: MEK 13% by mass
Photopolymerization initiator: 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone
(Irgacure 184 manufactured by BASF) 1% by mass
[Coating composition B2] The following materials were mixed to obtain a coating composition B2.
Particle b: Titanium oxide-containing particle TO-1027TIV
(JGC Catalysts Chemical Co., Ltd. solid content concentration 30%) 90% by mass
Binder raw material B: KAYARAD DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 3% by mass
Solvent: MEK 6 mass%
Photopolymerization initiator: 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone
(Irgacure 184 manufactured by BASF) 1% by mass
[Coating composition B3] The following materials were mixed to obtain a coating composition B1.
Particle b: Titanium oxide-containing particle TO-1027TIV
(Solid content concentration 30% by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd.) 10% by mass
Binder raw material B: KAYARAD DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 27 mass%
Solvent: MEK 62 mass%
Photopolymerization initiator: 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone
(Irgacure 184 manufactured by BASF) 1% by mass
[Coating composition B4] The following materials were mixed to obtain a coating composition B1.
Particle b: Titanium oxide-containing particle TO-1027TIV
(Solid content concentration 30%, manufactured by JGC Catalysts & Chemicals, Inc.) 95% by mass
Binder raw material B: KAYARAD DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 1.5 mass%
Solvent: MEK 2.5% by mass
Photopolymerization initiator: 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone
(Irgacure 184 manufactured by BASF) 1% by mass.

[成形材料の作製]
支持基材としてPET樹脂フィルム上に易接着性塗料が塗工されている“ルミラー”U46(東レ株式会社製)を用いた。まず第2層目の形成として、前記塗料組成物Bを搬送速度10m/分の条件で、小径グラビアコーターおよび乾燥室前半部に赤外線パネルヒーターを有する連続塗工装置を用いて、固形分塗工膜厚が希望する膜厚になるようにグラビア線数、およびグラビアロール速度比を調整して塗工し、第2層目形成した。塗工から乾燥、硬化および液膜にあたる風の条件は下記条件の通りである。
[Production of molding material]
“Lumirror” U46 (manufactured by Toray Industries, Inc.) in which an easy-adhesive paint was applied on a PET resin film was used as a supporting substrate. First, as the formation of the second layer, the coating composition B is coated with a solid content using a continuous coating apparatus having a small-diameter gravure coater and an infrared panel heater in the first half of the drying chamber under the condition of a conveyance speed of 10 m / min. The second layer was formed by adjusting the number of gravure lines and the gravure roll speed ratio so that the desired film thickness was obtained. The conditions of the wind from coating to drying, curing, and liquid film are as follows.

第1乾燥
送風温湿度 : 温度:45℃、 相対湿度:10%
風速 : 塗工面側:5m/秒、 反塗工面側:5m/秒
風向 : 塗工面側:基材に対して平行、反塗工面側:基材に対して垂直
滞留時間 : 1分間
パネルヒーター設定温度:80℃
第2乾燥
送風温湿度 : 温度:100℃、 相対湿度:1%
風速 : 塗工面側:5m/秒、 反塗工面側:5m/秒
風向 : 塗工面側:基材に対して平行、反塗工面側:基材に対して垂直
滞留時間 : 1分間
硬化工程
照射出力 : 600W/cm
積算光量 : 120mJ/cm
酸素濃度 : 0.1体積%
なお、風速、温湿度は熱線式風速計(日本カノマックス株式会社 アネモマスター風速・風量計 MODEL6034)による測定値を使用した。
First drying blast temperature and humidity: Temperature: 45 ° C, Relative humidity: 10%
Wind speed: Coated surface side: 5 m / second, Anti-coated surface side: 5 m / second Wind direction: Coated surface side: parallel to the substrate, anti-coated surface side: Vertical residence time with respect to the substrate: 1 minute panel heater setting Temperature: 80 ° C
Second drying blast temperature and humidity: Temperature: 100 ° C, Relative humidity: 1%
Wind speed: coating surface side: 5 m / sec, anti-coating surface side: 5 m / sec Wind direction: coating surface side: parallel to the substrate, anti-coating surface side: vertical residence time with respect to the substrate: 1 minute Curing process irradiation Output: 600W / cm 2
Integrated light quantity: 120 mJ / cm 2
Oxygen concentration: 0.1% by volume
In addition, the measured value by a hot-wire anemometer (Nippon Kanomax Co., Ltd. Anemomaster anemometer / air flow meter MODEL6034) was used for the wind speed and temperature and humidity.

続いて、前記第2層目形成した表面上に、第1層目の形成として、前記塗料組成物Aを搬送速度10m/分の条件で、小径グラビアコーターおよび乾燥室前半部に赤外線パネルヒーターを有する連続塗工装置を用いて、固形分塗工膜厚が希望する膜厚になるようにグラビア線数、およびグラビアロール速度比を調整して塗工し、第1層目を形成した。塗工から乾燥、硬化および液膜にあたる風の条件は第2層目形成時と同様の条件である。   Subsequently, on the surface formed with the second layer, as a first layer, an infrared panel heater is applied to the small-diameter gravure coater and the first half of the drying chamber on the condition that the coating composition A is transported at a speed of 10 m / min. Using the continuous coating apparatus, the first layer was formed by adjusting the number of gravure lines and the gravure roll speed ratio so that the solid coating thickness would be the desired thickness. The conditions of wind from coating to drying, curing, and liquid film are the same as those for forming the second layer.

以上の方法により、実施例1〜13、比較例1〜2について、成形材料を作成した。   By the above method, the molding material was created about Examples 1-13 and Comparative Examples 1-2.

[成形材料の評価]
作製した成形材料について、次に示す性能評価を実施し、得られた結果を表に示す。特に断らない場合を除き、測定は各実施例・比較例において1つのサンプルについて場所を変えて3回測定を行い、その平均値を用いた。
[Evaluation of molding materials]
About the produced molding material, the following performance evaluation was implemented and the obtained result is shown to a table | surface. Unless otherwise specified, the measurement was performed three times by changing the location of one sample in each example and comparative example, and the average value was used.

[60°鏡面光沢度]
成形材料の対象とする面の光沢度測定は、測定面の裏面をサンドペーパーで粗面化し、黒色塗料で塗りつぶしたものを日本電色工業株式会社製 VG7000を用いて、成形材料表面の光沢度をJIS Z 8741(1997)に従い60°鏡面光沢度を測定し、100%以上を合格とした。
[60 ° specular gloss]
The glossiness of the surface of the molding material is measured by using a VG7000 made by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. with the back surface of the measurement surface roughened with sandpaper and painted with black paint. According to JIS Z 8741 (1997), the 60 ° specular gloss was measured, and 100% or more was regarded as acceptable.

[オレイン酸前進接触角、後退接触角]
前進接触角、後退接触角の測定は拡張−収縮法により測定を行い、協和界面科学株式会社製接触角計Drop Master DM−501を用いて、同装置の拡張−収縮法測定マニュアルに従った。前進接触角は、具体的にはシリンジからオレイン酸(ナカライ規格一級 ナカライテスク製)を液吐出速度8.5μL/秒で最終液量50μLまで連続的に吐出し、液滴の形状を0.5秒毎に30回撮影し、同画像から、同装置付属の統合解析ソフト“FAMAS”を用いてそれぞれの接触角を求めた。液滴の拡張過程での接触角は最初、拡張につれて変化し、次いでほぼ一定になる挙動を示すため、測定順に接触角データを並べ、その順に連続した5点を選択したとき、連続した5点の標準偏差が最初に1°以下になった時の平均値をその測定の前進接触角とし、この測定を1サンプルについて5回行い、その平均値を試料の前進接触角とした。
[Oleic acid advancing contact angle, receding contact angle]
The advancing contact angle and the receding contact angle were measured by the expansion-contraction method, and the contact angle meter Drop Master DM-501 manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. was used in accordance with the expansion-contraction method measurement manual of the same apparatus. Specifically, the advancing contact angle is obtained by continuously discharging oleic acid (manufactured by Nacalai Standard No. 1 Nacalai Tesque) from a syringe to a final liquid volume of 50 μL at a liquid discharge speed of 8.5 μL / sec. Images were taken 30 times per second, and the respective contact angles were determined from the images using the integrated analysis software “FAMAS” attached to the apparatus. The contact angle during the expansion process of the droplet first changes with expansion and then shows a behavior that becomes almost constant. Therefore, when the contact angle data is arranged in the order of measurement and five consecutive points are selected in that order, five consecutive points are selected. The average value when the standard deviation of the first became 1 ° or less was defined as the advancing contact angle of the measurement, this measurement was performed five times for one sample, and the average value was defined as the advancing contact angle of the sample.

後退接触角は、初期液滴量50μL、液吐出速度8.5μL/秒で液滴を連続的に吸引し、同液滴の縮小過程の形状を撮影し、同様の方法でそれぞれの接触角を求めた。液滴の収縮過程の接触角は最初、収縮につれて変化し、次いでほぼ一定になる挙動を示すため、液滴の収縮していく方向に接触角を並べ、その順に連続した5点を選択したとき、連続した5点の標準偏差が最初に1°以下になったときの平均値をその測定の後退接触角とし、この測定を1サンプルについて5回行い、その平均値を試料の後退接触角とした。なお、サンプルによっては液滴の収縮過程の接触角が一定にならず、連続的に低下し続けるものもあるが、これについては後退接触角を0°とした。   With respect to the receding contact angle, droplets are continuously sucked at an initial droplet amount of 50 μL and a liquid discharge speed of 8.5 μL / second, and the shape of the contraction process of the droplets is photographed. Asked. Since the contact angle of the droplet shrinkage process changes with shrinkage and then becomes almost constant, the contact angles are arranged in the direction of droplet shrinkage, and five consecutive points are selected in that order. The average value when the standard deviation of five consecutive points first becomes 1 ° or less is set as the receding contact angle of the measurement, this measurement is performed five times for one sample, and the average value is set as the receding contact angle of the sample. did. Note that, depending on the sample, the contact angle during the contraction process of the droplets is not constant and continues to decrease, but for this, the receding contact angle was set to 0 °.

[最低反射率]
反射防止機能の測定は測定面の裏面反射を除くため、裏面をサンドペーパーで粗面化し、黒色塗料で塗りつぶしたものを株式会社島津製作所製分光光度計UV−3100を用いて光の波長380〜780nmの5°、−5°正反射スペクトルを測定した。得られた380から780nmの範囲の分光反射率から最低値を求め、これを最低反射率とし、2%以下を合格とした。
[Minimum reflectance]
In order to remove the reflection of the back surface of the measurement surface, the antireflection function is measured by using a spectrophotometer UV-3100 manufactured by Shimadzu Corporation with the back surface roughened with sandpaper and filled with black paint. A 5 ° and −5 ° specular reflection spectrum at 780 nm was measured. The lowest value was calculated | required from the spectral reflectance of the range of 380 to 780 nm obtained, this was made into the minimum reflectance, and 2% or less was set as the pass.

[第1層と第2層の平均膜厚]
透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて断面を観察することにより、支持基材上の第1層と第2層の厚みを測定した。各層の厚みは、以下の方法に従い測定した。積層膜の断面の超薄切片をTEMにより20万倍の倍率で撮影した画像から、ソフトウェア(画像処理ソフトImageJ)にて各層の厚みを読み取った。合計で30点の層厚みを測定して求めた平均値を、平均膜厚とした。
[Average film thickness of first layer and second layer]
By observing a cross section using a transmission electron microscope (TEM), the thickness of the 1st layer and the 2nd layer on a support base material was measured. The thickness of each layer was measured according to the following method. The thickness of each layer was read by software (image processing software ImageJ) from an image obtained by photographing an ultrathin section of the cross section of the laminated film at a magnification of 200,000 times with a TEM. The average value obtained by measuring the layer thickness of 30 points in total was defined as the average film thickness.

[第1層、第2層の屈折率]
第1層、第2層の個々の屈折率は、成形材料の積層膜に対して反射分光膜厚計(大塚電子株式会社製、商品名[FE−3000])により、300〜800nmの範囲での反射率を測定し、該装置付属のソフトウェア[FE−Analysis]を用い、大塚電子株式会社製[膜厚測定装置 総合カタログP6(非線形最小二乗法)]に記載の方法に従い、550nmにおける屈折率を求めた。
屈折率の波長分散の近似式としてCauchyの分散式(数式1)を用い最小二乗法(カーブフィッティング法)により、光学定数(C1、C2、C3)を計算し、580nmにおける屈折率を測定した。
[Refractive indices of first layer and second layer]
The individual refractive indexes of the first layer and the second layer are in the range of 300 to 800 nm with respect to the laminated film of the molding material by a reflection spectral film thickness meter (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd., trade name [FE-3000]). The refractive index at 550 nm was measured according to the method described in [Film thickness measuring device general catalog P6 (nonlinear least squares method)] manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd. using the software [FE-Analysis] attached to the device. Asked.
The optical constants (C1, C2, C3) were calculated by the least square method (curve fitting method) using Cauchy's dispersion formula (Formula 1) as an approximate expression of the wavelength dispersion of the refractive index, and the refractive index at 580 nm was measured.

[ピーク数の測定]
成形材料を任意の場所で切り出した後、原子間力顕微鏡(SII社製、SPI3800)を用いて、観察モード=DFMモード、スキャナー=FS−20A、カンチレバー=DF−3、観察視野=5×5μm、分解能1024×512pixelsにて表面形態観察を行い観察像を得た。次いで2乗平均粗さの100%をピーク閾値にするため、「Peak Thrsh (%rms)」を100%に設定して解析を行い、ピーク数を求めた。
[Measurement of the number of peaks]
After cutting the molding material at an arbitrary location, using an atomic force microscope (SII, SPI3800), observation mode = DFM mode, scanner = FS-20A, cantilever = DF-3, observation field = 5 × 5 μm 2. Surface morphology was observed with a resolution of 1024 × 512 pixels to obtain an observed image. Next, in order to set 100% of the mean square roughness as a peak threshold, analysis was performed by setting “Peak Thrsh (% rms)” to 100%, and the number of peaks was obtained.

[粒子aの数平均粒子径]
走査型電子顕微鏡(SEM)にて観察、測定した。観察試料は前記塗料組成物Aを分散媒(イソプロピルアルコール)に固形分濃度0.5質量%に希釈し、超音波にて分散後、導電テープ上に滴下、乾燥して調製した。数平均粒子径は、1視野あたり一次粒子の集合体としての個数が10個以上50個以下になる倍率にて観察を行い、得られた画像から一次粒子の外接円の直径を求めてこれを等価粒子径とし、観察数を増やし一次粒子100個について測定した値から数平均粒子径を求めた。
[Number average particle diameter of particles a]
Observation and measurement were performed with a scanning electron microscope (SEM). The observation sample was prepared by diluting the coating composition A in a dispersion medium (isopropyl alcohol) to a solid content concentration of 0.5% by mass, dispersing it with ultrasonic waves, dropping it on a conductive tape and drying it. The number average particle diameter is observed at a magnification such that the number of aggregates of primary particles per field of view is 10 or more and 50 or less, and the diameter of the circumscribed circle of the primary particles is obtained from the obtained image. The number average particle size was determined from the value measured for 100 primary particles with the number of observations increased with the equivalent particle size.

[耐指紋性(指紋付着性)]
指紋付着性は、成形材料の評価する面を上にして黒画用紙上に置き、指紋を押し付ける指(人差し指)と親指を3回こすってから、前記第1層表面の表面にゆっくりと押し付け、付着した指紋の視認性を下記の評価基準で評価し、5点以上を合格とした。
10点: 指紋が視認されない、もしくは未付着部との差がわからない
7点: 指紋がほとんど視認できない、もしくは指紋だとは認識されない
5点: 指紋が僅かに視認されるが、ほとんど気にならない
3点: 指紋が視認される
1点: 指紋が明確に視認され、非常に気になる
上記評価を10人の対象者について行い、その平均値を求めた。小数点以下については四捨五入して取り扱った。
[Fingerprint resistance (fingerprint adhesion)]
For fingerprint adhesion, place on the black paper with the evaluation surface of the molding material facing up, rub the finger (index finger) and thumb to press the fingerprint three times, and then slowly press the surface against the surface of the first layer. The visibility of the fingerprints made was evaluated according to the following evaluation criteria, and 5 points or more were regarded as acceptable.
10 points: The fingerprint is not visually recognized or the difference from the non-attached part is not recognized. 7 points: The fingerprint is hardly visible or not recognized as the fingerprint. 5 points: The fingerprint is slightly visible, but hardly noticed. Points: Fingerprints are visually recognized. 1 point: The above evaluations were performed on 10 subjects who were clearly aware of fingerprints and were very worrisome, and the average value was obtained. The numbers after the decimal point were rounded off.

[耐指紋性(指紋拭取り性)]
前述の方法で、指紋を付着させた後、次いで、折り上げ寸法が12.5×12.5cmのセルロース長繊維不織布ガーゼ(“ハイゼ”ガーゼ NT−4 川本産業株式会社製)を用いて拭取りを行った。指紋拭取り性は、この拭取り方法で拭いた後の視認性を下記の評価基準で評価し、5点以上を合格とした。
10点: 1回拭くと、ほぼ視認されなくなる
7点: 1回拭くと、ほぼ気にならない程度になる
5点: 3回拭くと、ほぼ視認されなくなる
3点: 5回拭けば、ほぼ気にならない程度になる
1点: 5回以上拭いても、汚れが残る
上記評価を10人の対象者について行い、その平均値を求めた。小数点以下については四捨五入して取り扱った。
[Fingerprint resistance (fingerprint wiping)]
After attaching a fingerprint by the above-mentioned method, then, using a cellulose long fiber nonwoven fabric gauze (“Hize” gauze NT-4 manufactured by Kawamoto Sangyo Co., Ltd.) having a folded size of 12.5 × 12.5 cm, it is wiped off Went. For fingerprint wiping, the visibility after wiping with this wiping method was evaluated according to the following evaluation criteria, and 5 or more points were accepted.
10 points: When wiped once, it becomes almost unrecognizable. 7 points: When wiped once, it becomes almost unnoticeable. 5 points: When wiped three times, it becomes almost unrecognizable. 1 point: The above evaluation was performed on 10 subjects who remained dirty even after wiping 5 times or more, and the average value was obtained. The numbers after the decimal point were rounded off.

[耐擦傷性]
成形材料の対象とする面に500g/cm荷重となるスチールウール(#0000)を垂直にあて、1cmの長さを20往復した際に目視される傷の本数を記載し、下記のクラス分けを行い3点以上を合格とした。
5点: 0本
4点: 1本以上 5本未満
3点: 5本以上 10本未満
2点: 10本以上 20本未満
1点: 20本以上。
[Abrasion resistance]
Addressed the steel wool to be 500 g / cm 2 load to a surface of interest of the molding material (# 0000) vertically, and wherein the number of scratches is visually length of 1cm upon 20 reciprocally, classification below And scored 3 or more points.
5 points: 0 4 points: 1 or more Less than 5 3 points: 5 or more Less than 10 2 points: 10 or more Less than 20 1 point: 20 or more.

Figure 2014092770
Figure 2014092770

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本発明にかかる成形材料、塗料組成物、および成形材料の製造方法は、耐指紋性と反射防止性を付与するために好適に使用できるだけでなく、種々プラスチック成形品、カメラの最表面部のレンズ、メガネのレンズ、スマートフォン・テレビ・カーナビゲーション・パソコンの液晶画面
建築物や車両などの窓ガラスおよび種々の印刷物のそれぞれの表面に同様の機能を付与するためにも用いることができる。
The molding material, the coating composition, and the manufacturing method of the molding material according to the present invention can be suitably used for imparting fingerprint resistance and antireflection properties, as well as various plastic molded products, the lens on the outermost surface portion of the camera. It can also be used to impart the same function to the surfaces of glasses lenses, glass windows for smartphones, televisions, car navigation systems, personal computers, window glass and various printed materials.

Claims (7)

支持基材の少なくとも片面に、屈折率の異なる第2層及び第1層からなる表面層をこの順に有し、下記条件1から4を満たすことを特徴とする成形材料。
条件1.第1層表面のJIS Z8741(1997)で規定する60°鏡面光沢度が40%以上。
条件2.第1層表面のオレイン酸の後退接触角θが60°以上。
条件3.第1層表面のオレイン酸の前進接触角θと後退接触角θが式(1)を満たす。
(θ−θ)≦ 15° ・・・ 式(1)
条件4.入射光の波長380nmから780nmにおける最低反射率が2%以下。
A molding material comprising a surface layer composed of a second layer and a first layer having different refractive indexes in this order on at least one surface of a supporting substrate, and satisfying the following conditions 1 to 4.
Condition 1. The 60 ° specular glossiness specified by JIS Z8741 (1997) on the surface of the first layer is 40% or more.
Condition 2. Receding contact angle theta r oleic acid in the first layer surface than 60 °.
Condition 3. Advancing contact angle theta a and receding contact angle theta r oleic acid in the first layer surface satisfy the formula (1).
a −θ r ) ≦ 15 ° Formula (1)
Condition 4. The minimum reflectance of incident light at a wavelength of 380 nm to 780 nm is 2% or less.
前記第1層が下記条件5および6を満たし、前記第2層が下記条件7を満たすことを特徴とする、請求項1に記載の成形材料。
条件5.入射光の波長580nmにおける屈折率が1.45以上1.50以下。
条件6.層厚みが80nm以上120nm以下。
条件7.入射光の波長580nmにおける屈折率が1.60以上1.75以下。
The molding material according to claim 1, wherein the first layer satisfies the following conditions 5 and 6, and the second layer satisfies the following condition 7.
Condition 5. The refractive index of incident light at a wavelength of 580 nm is 1.45 or more and 1.50 or less.
Condition 6. The layer thickness is 80 nm or more and 120 nm or less.
Condition 7. The refractive index of incident light at a wavelength of 580 nm is 1.60 or more and 1.75 or less.
前記第1層表面の原子間力顕微鏡(AFM)によって観察される2乗平均粗さ(RMS)を超える高さを有するピーク数が25μmあたり500個以上1500個以下であることを特徴とする、請求項1または請求項2のいずれかに記載の成形材料。 The number of peaks having a height exceeding the root mean square roughness (RMS) observed by an atomic force microscope (AFM) on the surface of the first layer is 500 or more and 1500 or less per 25 μm 2. The molding material in any one of Claim 1 or Claim 2. 前記第1層がフルオロアルキル基、フルオロオキシアルキル基、フルオロアルケニル基、フルオロアルカンジイル基およびフルオロオキシアルカンジイル基からなる群より選ばれる少なくとも1つを含む部位と反応性部位とを有するフッ素化合物Aと、バインダー成分Aと、数平均粒子径が5nm以上250nm以下の粒子aとを含むことを特徴とする、請求項1から請求項3のいずれかに記載の成形材料。   Fluorine compound A in which the first layer has a reactive site and a site containing at least one selected from the group consisting of a fluoroalkyl group, a fluorooxyalkyl group, a fluoroalkenyl group, a fluoroalkanediyl group and a fluorooxyalkanediyl group 4. The molding material according to claim 1, comprising: a binder component A; and a particle a having a number average particle diameter of 5 nm or more and 250 nm or less. 前記粒子aが数珠状に連結したおよび/または分岐したシリカであることを特徴とする、請求項4に記載の成形材料。   The molding material according to claim 4, wherein the particles a are silica linked in a bead shape and / or branched. 前記成形材料が、
(1)支持基材上に第2層を形成する工程
(2)(1)にて形成された第2層上に、フルオロアルキル基、フルオロオキシアルキル基、フルオロアルケニル基、フルオロアルカンジイル基およびフルオロオキシアルカンジイル基からなる群より選ばれる少なくとも1つを含む部位と反応性部位とを有する化合物であるフッ素化合物A、バインダー原料A、および数平均粒子径が5nm以上250nm以下の粒子aを含む塗料組成物Aを塗布、乾燥、および硬化することにより前記第1層を形成する工程、からなる請求項1から5のいずれかに記載の成形材料の製造方法。
The molding material is
(1) Step (2) of forming a second layer on a supporting substrate On the second layer formed in (1), a fluoroalkyl group, a fluorooxyalkyl group, a fluoroalkenyl group, a fluoroalkanediyl group, and Fluorine compound A that is a compound having at least one site selected from the group consisting of fluorooxyalkanediyl groups and a reactive site, binder raw material A, and particles a having a number average particle size of 5 nm to 250 nm are included. The method for producing a molding material according to any one of claims 1 to 5, comprising a step of forming the first layer by applying, drying and curing the coating composition A.
前記粒子aが数珠状に連結したおよび/または分岐したシリカであることを特徴とする、請求項6に記載の成形材料の製造方法。   The method for producing a molding material according to claim 6, wherein the particles a are silica connected in a bead shape and / or branched.
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