JP2000258606A - Antidazzle and antireflection film and image display device - Google Patents

Antidazzle and antireflection film and image display device

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JP2000258606A
JP2000258606A JP11062440A JP6244099A JP2000258606A JP 2000258606 A JP2000258606 A JP 2000258606A JP 11062440 A JP11062440 A JP 11062440A JP 6244099 A JP6244099 A JP 6244099A JP 2000258606 A JP2000258606 A JP 2000258606A
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hard coat
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coat layer
low refractive
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To easily obtain an antidazzle and antireflection film having enough antireflection properlies, scratch resistance and contamination-proof properties with little color irregularity at a low cost by forming only two layers of a hard coating layer 2 and a low refractive index layer 3 on a supporting body 1. SOLUTION: The optical film is produced by forming a hard coating layer 2 on a transparent supporting body 1 and forming a low refractive index layer 3 having 1.43 to 1.49 refractive index on the hard coating layer 2. The refractive index of the material which constitutes the hard coating layer ranges from 1.58 to 2.00, and the hard coating layer 2 contains irregular silica particles having 1.0 to 10.0 μm average particle size. The low refractive index layer 3 consists of a crosslinked fluorine-contg. compd. having 0.03 to 0.15 coefft. of dynamic friction and 90 to 120 deg. contact angle with water. The antidazzle and antireflection film has 3.0 to 20.0% haze and <=1.8% average reflectance for 450 to 650 nm wavelength.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、防眩性の優れた反
射防止フィルムおよびそれを用いた液晶表示装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an antireflection film having excellent antiglare properties and a liquid crystal display device using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】反射防止フィルムは一般に、液晶表示装
置、プラズマディスプレイパネル、エレクトロルミネッ
センスディスプレイのような画像表示装置において、外
光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止
するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減する
ディスプレイの最表面に配置される。
2. Description of the Related Art In general, an antireflection film is used in an image display device such as a liquid crystal display device, a plasma display panel, and an electroluminescence display in order to prevent a decrease in contrast and reflection of an image due to reflection of external light. Is disposed on the outermost surface of the display to reduce the reflectivity using the principle described above.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、透明支
持体上にハードコート層と低屈折率層のみを有する反射
防止フィルムにおいては、反射率を低減するためには低
屈折率層を十分に低屈折率化しなければならず、例えば
トリアセチルセルロースを支持体とし、ジペンタエリス
リトールヘキサアクリレートのUV硬化被膜をハードコ
ート層とする反射防止フィルムで450nmから650
nmにおける平均反射率を1.6%以下にするためには
屈折率を1.40以下にしなければならない。屈折率
1.40以下の素材としては無機物ではフッ化マグネシ
ウムやフッ化カルシウム、有機物ではフッ素含率の大き
い含フッ素化合物が挙げられるが、これらフッ素化合物
は凝集力がないためディスプレイの最表面に配置するフ
ィルムとしては耐傷性が不足していた。従って、十分な
耐傷性を有するためには1.43以上の屈折率を有する
化合物を用いることが従来必要となっていた。
However, in an antireflection film having only a hard coat layer and a low refractive index layer on a transparent support, the low refractive index layer must have a sufficiently low refractive index to reduce the reflectance. For example, an anti-reflection film using triacetyl cellulose as a support and a UV-cured coating of dipentaerythritol hexaacrylate as a hard coat layer has a thickness of 450 to 650.
In order to make the average reflectance in nm less than 1.6%, the refractive index must be made less than 1.40. Materials having a refractive index of 1.40 or less include magnesium fluoride and calcium fluoride for inorganic substances, and fluorine-containing compounds having a large fluorine content for organic substances. These fluorine compounds have no cohesive force and are arranged on the outermost surface of the display. The resulting film had insufficient scratch resistance. Therefore, it has been conventionally necessary to use a compound having a refractive index of 1.43 or more in order to have sufficient scratch resistance.

【0004】特開平7−287102号においては、気
相法によってSiO(1.5≦x≦4.00)の低屈
折率層を形成しハードコート層の屈折率を大きくするこ
とにより、反射率を低減させることが記載されている。
しかしながら、このような高屈折率ハードコート層は支
持体との屈折率差が大きいためにフィルムの色むらが発
生し、反射率の波長依存性も大きく振幅してしまう。本
発明の課題は、支持体上にハードコート層と低屈折率層
の2層を形成するのみによって、簡便かつ安価にして十
分な反射防止性能と耐傷性、防汚性を有し、しかも色む
らの少ない防眩性反射防止フィルムを提供することであ
る。
In Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-287102, a low refractive index layer of SiO x (1.5 ≦ x ≦ 4.00) is formed by a vapor phase method, and the refractive index of a hard coat layer is increased to thereby reflect light. It is stated to reduce the rate.
However, such a high-refractive-index hard coat layer has a large difference in refractive index from the support, so that color unevenness of the film occurs, and the wavelength dependence of the reflectivity also has a large amplitude. It is an object of the present invention to provide a simple and inexpensive and sufficient antireflection performance, scratch resistance, and stain resistance by simply forming a hard coat layer and a low refractive index layer on a support. An object of the present invention is to provide an antiglare antireflection film with less unevenness.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は以下のよ
うに達成された。 (1)透明支持体上に、ハードコート層と該ハードコー
ト層上の屈折率1.43乃至1.49の低屈折率層とを
順に設けた光学フィルムにおいて、該ハードコート層を
形成する素材の屈折率が1.58乃至2.00であっ
て、該ハードコート層中に平均粒径1.0乃至10.0
μmの不定形シリカ粒子を含有し、該低屈折率層が、動
摩擦係数0.03乃至0.15、水に対する接触角90
乃至120°の、含フッ素化合物の架橋体を含んでな
り、該光学フィルムのヘイズが3.0乃至20.0%、
450nmから650nmの平均反射率が1.8%以下
であることを特徴とする防眩性反射防止フィルム。 (2)ハードコート層の膜厚の2分の1よりも大きい粒
径のシリカ粒子が、重量比で該シリカ粒子全体の40乃
至100%を占めることを特徴とする(1)項記載の防
眩性反射防止フィルム。 (3)ハードコート層を形成する素材が、二以上のエチ
レン性不飽和基を有するモノマーと、チタン、アルミニ
ウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選
ばれる少なくとも一つの酸化物からなる粒径100nm
以下の微粒子とを(好ましくは電離放射線により)架橋
したものであることを特徴とする防眩性反射防止フィル
ム。 (4)(1)から(3)項のいずれか1項に記載の防眩
性反射防止フィルムを偏光板における偏光層の2枚の保
護フィルムのうちの少なくとも一方に用いたことを特徴
とする偏光板。 (5)(1)から(3)項のいずれか1項に記載の防眩
性反射防止フィルムまたは請求項4に記載の防眩性反射
防止偏光板の反射防止層をディスプレイの最表層に反射
防止用として用いたことを特徴とする液晶表示装置。
The object of the present invention has been attained as follows. (1) A material for forming the hard coat layer in an optical film in which a hard coat layer and a low refractive index layer having a refractive index of 1.43 to 1.49 on the hard coat layer are sequentially provided on a transparent support. Has a refractive index of 1.58 to 2.00 and an average particle size of 1.0 to 10.0 in the hard coat layer.
μm amorphous silica particles, and the low refractive index layer has a dynamic friction coefficient of 0.03 to 0.15 and a contact angle of 90 to water.
To 120 °, comprising a crosslinked product of a fluorine-containing compound, wherein the haze of the optical film is 3.0 to 20.0%,
An antiglare antireflection film, wherein the average reflectance at 450 nm to 650 nm is 1.8% or less. (2) The protection according to (1), wherein the silica particles having a particle diameter larger than half of the thickness of the hard coat layer occupy 40 to 100% of the whole silica particles by weight. Dazzling anti-reflection film. (3) The particle size of the material forming the hard coat layer is composed of a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups and at least one oxide selected from titanium, aluminum, indium, zinc, tin, and antimony. 100nm
An antiglare antireflection film, which is obtained by crosslinking the following fine particles (preferably by ionizing radiation). (4) The antiglare antireflection film according to any one of (1) to (3) is used as at least one of two protective films of a polarizing layer in a polarizing plate. Polarizer. (5) The anti-glare anti-reflection film according to any one of (1) to (3) or the anti-reflection layer of the anti-glare anti-reflection polarizing plate according to claim 4 is reflected on the outermost surface layer of a display. A liquid crystal display device used for prevention.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】本発明の実施の一形態として好適
な防眩性反射防止フィルムの基本的な構成を図面を参照
しながら説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The basic structure of an antiglare antireflection film suitable as one embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0007】図1に示す態様は本発明の防眩性反射防止
フィルムの一例であり、トリアセチルセルロースからな
る透明支持体1、ハードコート層2、そして低屈折率層
3の順序の層構成を有する。4は不定形シリカ粒子であ
り、そのハードコートの層からの突出部も低屈折率層3
で覆われている。ハードコート層のシリカ粒子以外の部
分の素材の屈折率が1.58乃至2.00であり、低屈
折率層の屈折率は1.43乃至1.49である。反射防
止膜では、低屈折率層が下記式(I)をそれぞれ満足す
ることが好ましい。
The embodiment shown in FIG. 1 is an example of the antiglare antireflection film of the present invention. The transparent support 1, which is made of triacetyl cellulose, the hard coat layer 2, and the low refractive index layer 3 are arranged in this order. Have. Reference numeral 4 denotes amorphous silica particles, the protruding portion of which is protruded from the hard coat layer and has a low refractive index layer 3.
Covered with. The material other than the silica particles of the hard coat layer has a refractive index of 1.58 to 2.00, and the low refractive index layer has a refractive index of 1.43 to 1.49. In the antireflection film, the low refractive index layer preferably satisfies the following formula (I).

【0008】 mλ/4×0.7<n<mλ/4×1.3 (I)Mλ / 4 × 0.7 <n 1 d 1 <mλ / 4 × 1.3 (I)

【0009】式中、mは正の奇数(一般に1)であり、
は低屈折率層の屈折率であり、そして、dは低屈
折率層の膜厚(nm)である。λは使用光線の波長であ
る。
Wherein m is a positive odd number (generally 1);
n 1 is the refractive index of the low refractive index layer, and d 1 is the thickness (nm) of the low refractive index layer. λ is the wavelength of the light beam used.

【0010】本発明のハードコート層の屈折率は1つの
値で記述されない。ハードコート層を形成する素材の屈
折率は1.58乃至2.00、シリカ粒子の屈折率は
1.47であり、支持体として用いうるトリアセチルセ
ルロースの屈折率は1.48であるため、該ハードコー
ト層は支持体より高屈折率のマトリクスに低屈折率のシ
リカ粒子が分散している屈折率不均一層である。本発明
のハードコート層において素材の屈折率は1.58乃至
2.00であるが、これが小さすぎると十分な反射防止
性能が得られず、大きすぎると色つきが悪化する。高屈
折率素材が二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマ
ーとチタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、ア
ンチモンのうちより選ばれる少なくとも一つの酸化物か
らなる粒径100nm以下の微粒子とからなる場合、微
粒子の粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生
じず、光学的には均一な物質として挙動する。このこと
は特開平8−110401号等に記載されている。
The refractive index of the hard coat layer of the present invention is not described by a single value. Since the refractive index of the material forming the hard coat layer is 1.58 to 2.00, the refractive index of the silica particles is 1.47, and the refractive index of triacetyl cellulose that can be used as a support is 1.48, The hard coat layer is a non-uniform refractive index layer in which silica particles having a low refractive index are dispersed in a matrix having a higher refractive index than the support. In the hard coat layer of the present invention, the material has a refractive index of 1.58 to 2.00. If the refractive index is too small, sufficient antireflection performance cannot be obtained, and if it is too large, coloring deteriorates. When the high-refractive-index material is composed of a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups and fine particles having a particle diameter of 100 nm or less composed of at least one oxide selected from titanium, aluminum, indium, zinc, tin, and antimony. Since the particle diameter of the fine particles is sufficiently smaller than the wavelength of light, scattering does not occur, and the fine particles behave as optically uniform substances. This is described in JP-A-8-110401.

【0011】本発明においてこのハードコート層は、高
屈折率素材中に分散する低屈折率のシリカ粒子によって
内部散乱が生じるために、ハードコート層での光学干渉
の影響を生じない。シリカ粒子を有しない高屈折率ハー
ドコート層では、ハードコート層と支持体との屈折率差
による光学干渉のために、反射率の波長依存性において
反射率の大きな振幅が見られ、結果として反射防止効果
が悪化し、同時に色むらが発生してしまうが、本発明の
反射防止フィルムではシリカ粒子の内部散乱効果によっ
てこれらの問題を解決した。
In the present invention, the hard coat layer is not affected by optical interference in the hard coat layer because internal scattering is caused by low refractive index silica particles dispersed in the high refractive index material. In the high refractive index hard coat layer having no silica particles, a large amplitude of the reflectance is seen in the wavelength dependence of the reflectance due to the optical interference due to the refractive index difference between the hard coat layer and the support. The anti-reflection effect deteriorates and color unevenness occurs at the same time. However, in the anti-reflection film of the present invention, these problems were solved by the internal scattering effect of silica particles.

【0012】透明支持体としては、トリアセチルセルロ
ースが好ましい。本発明の防眩性反射防止フィルムを液
晶表示装置に用いる場合、片面に粘着層を設ける等して
ディスプレイの最表面に配置する。トリアセチルセルロ
ースは偏光板の偏光層を保護する保護フィルムに用いら
れるため、本発明の防眩性反射防止フィルムをそのまま
保護フィルムに用いることがコストの上では好ましい。
As the transparent support, triacetyl cellulose is preferred. When the antiglare antireflection film of the present invention is used for a liquid crystal display device, it is disposed on the outermost surface of the display by providing an adhesive layer on one surface or the like. Since triacetyl cellulose is used for a protective film for protecting a polarizing layer of a polarizing plate, it is preferable in terms of cost to use the antiglare antireflection film of the present invention as it is for a protective film.

【0013】ハードコート層に用いる化合物は、飽和炭
化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマー
であることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有す
るポリマーであることがさらに好ましい。バインダーポ
リマーは架橋していることが好ましい。飽和炭化水素を
主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマ
ーの重合反応により得ることが好ましい。架橋している
バインダーポリマーを得るためには、二以上のエチレン
性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。
高屈折率にするためには、このモノマーの構造中に芳香
族環、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄、リン、窒素の
原子から選ばれた少なくとも1つを含むことが好まし
い。
The compound used for the hard coat layer is preferably a polymer having a saturated hydrocarbon or polyether as a main chain, and more preferably a polymer having a saturated hydrocarbon as a main chain. The binder polymer is preferably crosslinked. The polymer having a saturated hydrocarbon as a main chain is preferably obtained by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer. In order to obtain a crosslinked binder polymer, it is preferable to use a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups.
In order to obtain a high refractive index, the structure of the monomer preferably contains at least one selected from an aromatic ring, a halogen atom other than fluorine, sulfur, phosphorus, and nitrogen.

【0014】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの例には、多価アルコールと(メタ)アクリル酸と
のエステル(例、エチレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート)、ペン
タエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチ
ロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロ
ールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリ
トールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シク
ロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリア
クリレート、ポリエステルポリアクリレート)、ビニル
ベンゼンおよびその誘導体(例、1,4−ジビニルベン
ゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエ
ステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン)、ビニル
スルホン(例、ジビニルスルホン)、アクリルアミド
(例、メチレンビスアクリルアミド)およびメタクリル
アミドが含まれる。高屈折率モノマーの例には、ビス
(4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビニ
ルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、4−メタク
リロキシフェニル−4‘−メトキシフェニルチオエーテ
ル等が含まれる。ポリエーテルを主鎖として有するポリ
マーは、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により合
成することが好ましい。これらのエチレン性不飽和基を
有するモノマーは、塗布後電離放射線、熱などによる重
合反応により硬化させる必要がある。
Examples of the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups include esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid (eg, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-cyclohexane diacrylate, Pentaerythritol tetra (meth) acrylate), pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethanetri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) ) Acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate), vinylbenzene and Derivatives (eg, 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2-acryloylethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone), vinylsulfone (eg, divinylsulfone), acrylamide (eg, methylenebisacrylamide) and methacryl Amides are included. Examples of the high refractive index monomer include bis (4-methacryloylthiophenyl) sulfide, vinylnaphthalene, vinylphenylsulfide, 4-methacryloxyphenyl-4′-methoxyphenylthioether and the like. The polymer having a polyether as a main chain is preferably synthesized by a ring-opening polymerization reaction of a polyfunctional epoxy compound. These monomers having an ethylenically unsaturated group must be cured by a polymerization reaction using ionizing radiation, heat, or the like after coating.

【0015】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応によ
り、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ
基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カ
ルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロー
ル基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン
酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、
エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テト
ラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構
造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロッ
クイソシアナート基のように、分解反応の結果として架
橋性を示す官能基を用いてもよい。また、本発明におい
て架橋基とは、上記化合物に限らず上記官能基が分解し
た結果反応性を示すものであってもよい。これら架橋基
を有する化合物は塗布後熱などによって架橋させる必要
がある。
[0015] Instead of or in addition to the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups, a crosslinked structure may be introduced into the binder polymer by a reaction of a crosslinkable group.
Examples of the crosslinkable functional group include an isocyanate group, an epoxy group, an aziridine group, an oxazoline group, an aldehyde group, a carbonyl group, a hydrazine group, a carboxyl group, a methylol group, and an active methylene group. Vinyl sulfonic acid, acid anhydride, cyanoacrylate derivative, melamine,
Metal alkoxides such as etherified methylols, esters and urethanes, tetramethoxysilane can also be used as monomers for introducing a crosslinked structure. A functional group that exhibits crosslinkability as a result of a decomposition reaction, such as a block isocyanate group, may be used. Further, in the present invention, the cross-linking group is not limited to the above-mentioned compound, but may be one which shows reactivity as a result of decomposition of the above-mentioned functional group. These compounds having a cross-linking group need to be cross-linked by heat or the like after coating.

【0016】ハードコート層には、ハードコート層を形
成する素材の屈折率を高めるために、チタン、アルミニ
ウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選
ばれる少なくとも一つの酸化物からなる粒径100nm
以下、好ましくは50nm以下の微粒子を含有すること
が好ましい。微粒子の例としては、TiO、Al
、In、ZnO、SnO、Sb、IT
O等が挙げられる。無機微粒子の添加量は、ハードコー
ト層の全重量の10乃至90重量%であることが好まし
く、20乃至80重量%であると更に好ましく、30乃
至60重量%が特に好ましい。
The hard coat layer is formed of at least one oxide selected from titanium, aluminum, indium, zinc, tin and antimony in order to increase the refractive index of the material forming the hard coat layer.
It is preferable to contain fine particles having a particle size of 50 nm or less. Examples of the fine particles include TiO 2 , Al 2 O
3 , In 2 O 3 , ZnO, SnO 2 , Sb 2 O 3 , IT
O and the like. The addition amount of the inorganic fine particles is preferably from 10 to 90% by weight, more preferably from 20 to 80% by weight, and particularly preferably from 30 to 60% by weight based on the total weight of the hard coat layer.

【0017】ハードコート層には、防眩性付与とハード
コート層の干渉による反射率悪化防止、色むら防止の目
的で、不定形シリカ粒子が用いられる。平均粒径は1.
0乃至10.0μmが好ましく、2.0乃至8.0μm
がより好ましい。シリカ粒子として不定形のものを用い
るのは表面のギラツキを防止するためであり、これ以外
に真球シリカや架橋アクリル粒子、TiO粒子等を併
用してもよい。また、ハードコート層の膜厚の2分の1
よりも大きい粒径の不定形シリカ粒子が、重量比で該シ
リカ粒子全体の40乃至100%を占めることが好まし
い。ハードコート層中のシリカ粒子は、必ずしもその底
面が支持体に接してはおらず、むしろ塗布時に浮いてい
る状態が普通である。またこのハードコート層の膜厚の
2分の1よりも大きい粒径の不定形シリカ粒子はハード
コート層の素材中3〜50重量%が好ましく、5〜30
重量%がより好ましい。粒度分布はコールターカウンタ
ー法や遠心沈降法等により測定できる不定形シリカの粒
径測定法であるが、コールターカウンター法の場合、粒
子数分布になるので、この場合は重量分布に換算するこ
とにしている。ちなみに、レーザー法(マスターサイザ
ー)でも体積分布(=重量分布)が求められる。これは
原理的には球換算径(体積をその体積の球の直径に換算
したもの)となっている。分布は粒子数分布に換算して
考える。ハードコート層膜厚は2乃至10μmが好まし
く、3乃至6μmがより好ましい。
In the hard coat layer, amorphous silica particles are used for the purpose of imparting antiglare properties, preventing deterioration of reflectance due to interference of the hard coat layer, and preventing color unevenness. The average particle size is 1.
0 to 10.0 μm is preferable, and 2.0 to 8.0 μm
Is more preferred. The reason for using irregular-shaped silica particles is to prevent glare on the surface. In addition, true spherical silica, crosslinked acrylic particles, TiO 2 particles, and the like may be used in combination. Also, one half of the thickness of the hard coat layer
It is preferable that amorphous silica particles having a larger particle diameter occupy 40 to 100% by weight of the whole silica particles. The bottom surface of the silica particles in the hard coat layer is not always in contact with the support, but rather, the silica particles are usually in a floating state during coating. The amorphous silica particles having a particle size larger than half the thickness of the hard coat layer are preferably 3 to 50% by weight in the material of the hard coat layer, and 5 to 30% by weight.
% Is more preferred. Particle size distribution is a method of measuring the particle size of amorphous silica that can be measured by the Coulter counter method, centrifugal sedimentation method, etc.In the case of the Coulter counter method, the particle number distribution is used, so in this case it is decided to convert it to weight distribution. I have. Incidentally, the volume distribution (= weight distribution) is also required by the laser method (master sizer). This is, in principle, a sphere-converted diameter (a volume converted to the diameter of a sphere of that volume). The distribution is converted into a particle number distribution. The thickness of the hard coat layer is preferably 2 to 10 μm, more preferably 3 to 6 μm.

【0018】低屈折率層には、動摩擦係数0.03乃至
0.15、水に対する接触角90乃至120°の、熱ま
たは電離放射線により架橋させた含フッ素化合物(高分
子)が用いられる。低屈折率層の屈折率は1.43〜
4.49であり、この値が低すぎると耐傷性が著しく悪
化し、高すぎると十分な反射防止性能が得られない。ま
たこの層の動摩擦係数は0.03〜0.15であり、こ
れが小さすぎると製造工程においてロールでスリップが
発生して傷が発生してしまい、大きすぎると耐傷性その
ものが悪化する。ポリマーを構成する架橋性のフッ素高
分子化合物としてはパーフルオロアルキル基含有シラン
化合物(例えば(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2
−テトラデシル)トリエトキシシラン)等の他、含フッ
素モノマー成分と架橋性基付与のためのモノマー成分を
構成成分とする含フッ素共重合体が挙げられる。ポリマ
ーを構成する含フッ素モノマー成分の具体例としては、
例えばフルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレ
ン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレ
ン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレ
ン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキ
ソール等)、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ
素化アルキルエステル誘導体類(例えばビスコート6F
M(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキン製)
等)、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等であ
る。架橋性基付与のためのモノマー成分としてはグリシ
ジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性
官能基を有する(メタ)アクリレートモノマーの他、カ
ルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸
基等を有する(メタ)アクリレートモノマー(例えば
(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレー
ト、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、アリル
アクリレート等)が挙げられる。後者は共重合の後、架
橋構造を導入できることが特開平10−25388号お
よび特開平10−147739号に知られている。
For the low refractive index layer, a fluorine-containing compound (polymer) crosslinked by heat or ionizing radiation having a dynamic friction coefficient of 0.03 to 0.15 and a contact angle to water of 90 to 120 ° is used. The refractive index of the low refractive index layer is 1.43 or more.
If this value is too low, the scratch resistance is remarkably deteriorated, and if it is too high, sufficient antireflection performance cannot be obtained. The coefficient of kinetic friction of this layer is 0.03 to 0.15. If the coefficient is too small, slipping occurs on the roll in the manufacturing process to cause damage, and if it is too large, the scratch resistance itself deteriorates. As the crosslinkable fluoropolymer compound constituting the polymer, a perfluoroalkyl group-containing silane compound (for example, (heptadecafluoro-1,1,2,2,2)
-Tetradecyl) triethoxysilane) and the like, and a fluorine-containing copolymer having a fluorine-containing monomer component and a monomer component for providing a crosslinkable group as constituent components. Specific examples of the fluorine-containing monomer component constituting the polymer,
For example, a portion of fluoroolefins (eg, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole), (meth) acrylic acid or Perfluorinated alkyl ester derivatives (for example, Biscoat 6F
M (manufactured by Osaka Organic Chemicals) and M-2020 (manufactured by Daikin)
Etc.), fully or partially fluorinated vinyl ethers, etc. As a monomer component for providing a crosslinkable group, in addition to a (meth) acrylate monomer having a crosslinkable functional group in the molecule in advance, such as glycidyl methacrylate, it has a carboxyl group, a hydroxyl group, an amino group, a sulfonic acid group, and the like ( (Meth) acrylate monomers (for example, (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate, etc.). It is known from JP-A-10-25388 and JP-A-10-147739 that the latter can introduce a crosslinked structure after copolymerization.

【0019】また上記含フッ素モノマー成分を構成成分
とするポリマーだけでなく、フッ素原子を含有しないモ
ノマーとの共重合体を用いてもよい。併用可能なモノマ
ー成分には特に限定はなく、例えばオレフィン類(エチ
レン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニ
リデン等)、アクリル酸エステル類(アクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシ
ル)、メタクリル酸エステル類(メタクリル酸メチル、
メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレング
リコールジメタクリレート等)、スチレン誘導体(スチ
レン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチル
スチレン等)、ビニルエーテル類(メチルビニルエーテ
ル等)、ビニルエステル類(酢酸ビニル、プロピオン酸
ビニル、桂皮酸ビニル等)、アクリルアミド類(N−t
ertブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアク
リルアミド等)、メタクリルアミド類、アクリロニトリ
ル誘導体等を挙げることができる。
In addition to a polymer containing the above-mentioned fluorine-containing monomer component as a constituent component, a copolymer with a monomer containing no fluorine atom may be used. There is no particular limitation on the monomer components that can be used in combination, for example, olefins (ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc.), acrylates (methyl acrylate, ethyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate), Methacrylates (methyl methacrylate,
Ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, etc.), styrene derivatives (styrene, divinylbenzene, vinyl toluene, α-methylstyrene, etc.), vinyl ethers (methyl vinyl ether, etc.), vinyl esters (vinyl acetate, propionic acid) Vinyl, vinyl cinnamate, etc.), acrylamides (Nt
tert-butylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, etc.), methacrylamides, acrylonitrile derivatives and the like.

【0020】反射防止膜の各層は、ディップコート法、
エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコ
ート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエ
クストルージョンコート法(米国特許2681294号
明細書)により、塗布により形成することができる。二
以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法につ
いては、米国特許2761791号、同2941898
号、同3508947号、同3526528号の各明細
書および原崎勇次著、コーティング工学、253頁、朝
倉書店(1973)に記載がある。本発明において各層
の厚さは特に制限はなく、透明支持体は、用途により全
く異なる。ハードコート層は前記の通りであり、低屈折
率層は好ましくは90〜110μm、より好ましくは9
5〜105μmである。
Each layer of the antireflection film is formed by a dip coating method,
It can be formed by coating by an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method or an extrusion coating method (US Pat. No. 2,681,294). Two or more layers may be applied simultaneously. The method of simultaneous coating is described in U.S. Pat. Nos. 2,761,791 and 2,918,898.
Nos. 3,508,947 and 3,526,528, and in Yuji Harazaki, Coating Engineering, page 253, Asakura Shoten (1973). In the present invention, the thickness of each layer is not particularly limited, and the transparent support is completely different depending on the use. The hard coat layer is as described above, and the low refractive index layer is preferably 90 to 110 μm, more preferably 9 to 110 μm.
5 to 105 μm.

【0021】反射防止膜は、液晶表示装置(LCD)、
プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロル
ミネッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管表示装置
(CRT)のような画像表示装置に適用する。反射防止
膜が透明支持体を有する場合は、透明支持体側を画像表
示装置の画像表示面に接着する。本発明の防眩性反射フ
ィルムを適用しうる画像表示装置としては、特開平7−
287102号公報(例えば段落(0059)〜(00
61)及び図14、15)、特開平7−333404号
公報(例えば段落(0078)〜(0079)及び図1
9、20)などに記載のものがある)。
The anti-reflection film includes a liquid crystal display (LCD),
The present invention is applied to an image display device such as a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), and a cathode ray tube display (CRT). When the antireflection film has a transparent support, the transparent support side is adhered to the image display surface of the image display device. An image display device to which the antiglare reflective film of the present invention can be applied is disclosed in
287102 (for example, paragraphs (0059) to (00)
61) and FIGS. 14 and 15), JP-A-7-333404 (for example, paragraphs (0078) to (0079) and FIG.
9, 20)).

【0022】[0022]

【実施例】本発明を詳細に説明するために、以下に実施
例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。
EXAMPLES The present invention will be described in detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0023】(二酸化チタン分散物の調製)二酸化チタ
ン(一次粒子重量平均粒径:50nm、屈折率2.7
0)30重量部、アニオン性ジアクリレートモノマー
(商品名:PM21、日本化薬(株)製)4.5重量
部、カチオン性メタクリレートモノマー(商品名:DM
AEA、興人(株)製)0.3重量部およびメチルエチ
ルケトン65.2重量部をサンドグラインダーにより分
散し、二酸化チタン分散物を調製した。
(Preparation of Titanium Dioxide Dispersion) Titanium dioxide (primary particle weight average particle diameter: 50 nm, refractive index 2.7)
0) 30 parts by weight, 4.5 parts by weight of anionic diacrylate monomer (trade name: PM21, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), cationic methacrylate monomer (trade name: DM)
0.3 parts by weight of AEA (produced by Kojin Co., Ltd.) and 65.2 parts by weight of methyl ethyl ketone were dispersed by a sand grinder to prepare a titanium dioxide dispersion.

【0024】(ハードコート層用塗布液Aの調製)ジペ
ンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日
本化薬(株)製)125g、ビス(4−メタクリロイル
チオフェニル)スルフィド(MPSMA、住友精化
(株)製)125gを、439gのメチルエチルケトン
/シクロヘキサノン=50/50重量%の混合溶媒に溶
解した。得られた溶液に、光重合開始剤(イルガキュア
907、チバガイギー社製)7.5gおよび光増感剤
(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)5.0g
を49gのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加え
た。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈
折率は1.62であった。さらにこの溶液に平均粒径3
μmの不定形シリカ粒子(商品名:ミズカシルP−52
6、水澤化学工業(株)製)10gを添加して、高速デ
ィスパにて5000rpmで1時間攪拌、分散した後、
孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して
ハードコート層の塗布液を調製した。
(Preparation of Coating Solution A for Hard Coat Layer) 125 g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), bis (4-methacryloylthiophenyl) sulfide ( 125 g of MPSMA (manufactured by Sumitomo Seika Co., Ltd.) was dissolved in 439 g of a mixed solvent of methyl ethyl ketone / cyclohexanone = 50/50% by weight. 7.5 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and 5.0 g of a photosensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) are added to the obtained solution.
Was dissolved in 49 g of methyl ethyl ketone. The refractive index of the coating film obtained by applying this solution and curing with ultraviolet light was 1.62. In addition, the average particle size of 3
μm amorphous silica particles (trade name: Mizukasil P-52)
6, 10 g of Mizusawa Chemical Industry Co., Ltd.), and the mixture is stirred and dispersed at 5000 rpm for 1 hour with a high-speed disper.
The solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 30 μm to prepare a coating solution for the hard coat layer.

【0025】(ハードコート層用塗布液Bの調製)シク
ロヘキサノン104.1g、メチルエチルケトン61.
3gの混合溶媒に、エアディスパで攪拌しながら前記二
酸化チタン分散物217.0g、ジペンタエリスリトー
ルペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)
110.4gを順に添加した。この液を遮光しながら室
温で30分攪拌の後、光重合開始剤イルガキュア907
(チバガイギー社製)5.44gおよび光増感剤カヤキ
ュアーDETX(日本化薬(株)製)1.81gを添加
してさらに室温にて1時間攪拌した。この溶液を塗布、
紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は1.66であっ
た。さらにこの溶液に平均粒径3μmの不定形シリカ粒
子(商品名:ミズカシルP−526、水澤化学工業
(株)製)5gを添加して、高速ディスパにて5000
rpmで1時間攪拌、分散した後、孔径30μmのポリ
プロピレン製フィルターでろ過してハードコート層の塗
布液を調製した。
(Preparation of Coating Solution B for Hard Coat Layer) 104.1 g of cyclohexanone, methyl ethyl ketone
217.0 g of the titanium dioxide dispersion, a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) in 3 g of a mixed solvent while stirring with an air disper
110.4 g were added in order. After stirring the solution at room temperature for 30 minutes while shielding the solution from light, the photopolymerization initiator Irgacure 907 was used.
5.44 g (manufactured by Ciba-Geigy) and 1.81 g of photosensitizer Kayacure DETX (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) were added, and the mixture was further stirred at room temperature for 1 hour. Apply this solution,
The coating film obtained by ultraviolet curing had a refractive index of 1.66. Further, 5 g of amorphous silica particles having an average particle diameter of 3 μm (trade name: Mizukasil P-526, manufactured by Mizusawa Chemical Industry Co., Ltd.) was added to the solution, and the dispersion was 5,000 with a high-speed disper.
After stirring and dispersion at 1 rpm for 1 hour, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 30 μm to prepare a coating solution for the hard coat layer.

【0026】(ハードコート層用塗布液Cの調製)ジペ
ンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日
本化薬(株)製)125g、ビス(4−メタクリロイル
チオフェニル)スルフィド(MPSMA、住友精化
(株)製)125gを、439gのメチルエチルケトン
/シクロヘキサノン=50/50重量%の混合溶媒に溶
解した。得られた溶液に、光重合開始剤(イルガキュア
907、チバガイギー社製)7.5gおよび光増感剤
(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)5.0g
を49gのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加え
た。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈
折率は1.62であった。この液を孔径30μmのポリ
プロピレン製フィルターでろ過してハードコート層の塗
布液を調製した。
(Preparation of Coating Solution C for Hard Coat Layer) 125 g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), bis (4-methacryloylthiophenyl) sulfide ( 125 g of MPSMA (manufactured by Sumitomo Seika Co., Ltd.) was dissolved in 439 g of a mixed solvent of methyl ethyl ketone / cyclohexanone = 50/50% by weight. 7.5 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and 5.0 g of a photosensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) are added to the obtained solution.
Was dissolved in 49 g of methyl ethyl ketone. The refractive index of the coating film obtained by applying this solution and curing with ultraviolet light was 1.62. This solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 30 μm to prepare a coating solution for the hard coat layer.

【0027】(ハードコート層用塗布液Dの調製)ジペ
ンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日
本化薬(株)製)250gを、439gのメチルエチル
ケトン/シクロヘキサノン=50/50重量%の混合溶
媒に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤(イルガ
キュア907、チバガイギー社製)7.5gおよび光増
感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)5.
0gを49gのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加
えた。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の
屈折率は1.53であった。さらにこの溶液に平均粒径
3μmの不定形シリカ粒子(商品名:ミズカシルP−5
26、水澤化学工業(株)製)10gを添加して、高速
ディスパにて5000rpmで1時間攪拌、分散した
後、孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過
してハードコート層の塗布液を調製した。
(Preparation of Coating Solution D for Hard Coat Layer) 250 g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was mixed with 439 g of methyl ethyl ketone / cyclohexanone = 50/50. It dissolved in the mixed solvent of weight%. 4. 7.5 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and a photosensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
A solution of 0 g in 49 g of methyl ethyl ketone was added. The refractive index of the coating film obtained by applying this solution and curing with ultraviolet light was 1.53. Further, to this solution, amorphous silica particles having an average particle diameter of 3 μm (trade name: Mizukasil P-5)
26, manufactured by Mizusawa Chemical Industry Co., Ltd.), and the mixture was stirred and dispersed at 5000 rpm for 1 hour with a high-speed disperser, and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 30 μm to prepare a coating solution for the hard coat layer.

【0028】(ハードコート層用塗布液Eの調製)シク
ロヘキサノン104.1g、メチルエチルケトン61.
3gの混合溶媒に、エアディスパで攪拌しながら前記二
酸化チタン分散物217.0g、ジペンタエリスリトー
ルペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)
110.4gを順に添加した。この液を遮光しながら室
温で30分攪拌の後、光重合開始剤イルガキュア907
(チバガイギー社製)5.44gおよび光増感剤カヤキ
ュアーDETX(日本化薬(株)製)1.81gを添加
してさらに室温にて1時間攪拌した。この溶液を塗布、
紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は1.66であっ
た。さらにこの溶液に平均粒径1.5μmの真球シリカ
粒子(商品名:シーホスターKE−P150、(株)日
本触媒製)10gを添加して、高速ディスパにて500
0rpmで1時間攪拌、分散した後、孔径30μmのポ
リプロピレン製フィルターでろ過してハードコート層の
塗布液を調製した。
(Preparation of Coating Solution E for Hard Coat Layer) 104.1 g of cyclohexanone, methyl ethyl ketone
217.0 g of the titanium dioxide dispersion, a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) in 3 g of a mixed solvent while stirring with an air disper
110.4 g were added in order. After stirring the solution at room temperature for 30 minutes while shielding the solution from light, the photopolymerization initiator Irgacure 907 was used.
5.44 g (manufactured by Ciba-Geigy) and 1.81 g of photosensitizer Kayacure DETX (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) were added, and the mixture was further stirred at room temperature for 1 hour. Apply this solution,
The coating film obtained by ultraviolet curing had a refractive index of 1.66. Further, 10 g of true spherical silica particles having an average particle size of 1.5 μm (trade name: Seahoster KE-P150, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) was added to the solution, and 500 g of high-speed disperser was used.
After stirring and dispersing at 0 rpm for 1 hour, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 30 μm to prepare a coating solution for the hard coat layer.

【0029】(低屈折率層用塗布液Aの調製)屈折率
1.46の熱架橋性含フッ素ポリマー(JN−722
1、JSR(株)製)200gにメチルイソブチルケト
ンを200g添加、攪拌の後、孔径1μmのポリプロピ
レン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液を調
製した。
(Preparation of Coating Solution A for Low Refractive Index Layer) A thermally crosslinkable fluoropolymer having a refractive index of 1.46 (JN-722)
1. 200 g of methyl isobutyl ketone was added to 200 g of JSR Corporation, and the mixture was stirred and filtered with a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a coating solution for a low refractive index layer.

【0030】(低屈折率層用塗布液Bの調製)屈折率
1.40の熱架橋性含フッ素ポリマー(JN−722
3、JSR(株)製)200gにメチルイソブチルケト
ンを200g添加、攪拌の後、孔径1μmのポリプロピ
レン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液を調
製した。
(Preparation of Coating Solution B for Low Refractive Index Layer) A thermally crosslinkable fluoropolymer having a refractive index of 1.40 (JN-722)
3, 200 g of methyl isobutyl ketone was added to 200 g of JSR Corporation, and after stirring, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a coating solution for a low refractive index layer.

【0031】[実施例1]80μmの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム(TAC−TD80U、富士写真
フイルム(株)製)に、上記のハードコート層用塗布液
Aをバーコーターを用いて塗布し、120℃で乾燥の
後、160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイ
グラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/
cm、照射量300mJ/cmの紫外線を照射して
塗布層を硬化させ、厚さ6μmのハードコート層を形成
した。ハードコート層膜厚の2分の1である3μmより
大きい粒径のシリカ粒子は約50%である。その上に、
上記低屈折率層用塗布液Aをバーコーターを用いて塗布
し、80℃で乾燥の後、さらに120℃で10分間熱架
橋し、厚さ0.096μmの低屈折率層を形成した。
Example 1 The above coating solution A for a hard coat layer was applied to a 80 μm-thick triacetyl cellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) using a bar coater. After drying at 120 ° C., an illuminance of 400 mW / cm was applied using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) of 160 W / cm.
cm 2, and an irradiation dose of 300 mJ / cm 2 to cure the coating layer, to form a hard coat layer having a thickness of 6 [mu] m. About 50% of the silica particles have a particle size larger than 3 μm, which is one half of the thickness of the hard coat layer. in addition,
The coating liquid A for a low refractive index layer was applied using a bar coater, dried at 80 ° C., and thermally crosslinked at 120 ° C. for 10 minutes to form a low refractive index layer having a thickness of 0.096 μm.

【0032】[実施例2]80μmの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム(TAC−TD80U、富士写真
フイルム(株)製)に、上記のハードコート層用塗布液
Bをバーコーターを用いて塗布し、120℃で乾燥の
後、160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイ
グラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/
cm、照射量300mJ/cmの紫外線を照射して
塗布層を硬化させ、厚さ6μmのハードコート層を形成
した。ハードコート層膜厚の2分の1である3μmより
大きい粒径のシリカ粒子は約50%である。その上に、
上記低屈折率層用塗布液Aをバーコーターを用いて塗布
し、80℃で乾燥の後、さらに120℃で10分間熱架
橋し、厚さ0.096μmの低屈折率層を形成した。
Example 2 The above coating solution B for a hard coat layer was coated on a triacetyl cellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) having a thickness of 80 μm using a bar coater. After drying at 120 ° C., an illuminance of 400 mW / cm was applied using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) of 160 W / cm.
cm 2, and an irradiation dose of 300 mJ / cm 2 to cure the coating layer, to form a hard coat layer having a thickness of 6 [mu] m. About 50% of the silica particles have a particle size larger than 3 μm, which is one half of the thickness of the hard coat layer. in addition,
The coating liquid A for a low refractive index layer was applied using a bar coater, dried at 80 ° C., and thermally crosslinked at 120 ° C. for 10 minutes to form a low refractive index layer having a thickness of 0.096 μm.

【0033】[比較例1]80μmの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム(TAC−TD80U、富士写真
フイルム(株)製)に、上記のハードコート層用塗布液
Cをバーコーターを用いて塗布し、120℃で乾燥の
後、160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイ
グラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/
cm、照射量300mJ/cmの紫外線を照射して
塗布層を硬化させ、厚さ6μmのハードコート層を形成
した。このハードコート層にはシリカ粒子は含まれてい
ない。その上に、上記低屈折率層用塗布液Aをバーコー
ターを用いて塗布し、80℃で乾燥の後、さらに120
℃で10分間熱架橋し、厚さ0.096μmの低屈折率
層を形成した。
Comparative Example 1 The above-mentioned coating solution C for a hard coat layer was applied to a triacetyl cellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) having a thickness of 80 μm using a bar coater. After drying at 120 ° C., an illuminance of 400 mW / cm was applied using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) of 160 W / cm.
cm 2, and an irradiation dose of 300 mJ / cm 2 to cure the coating layer, to form a hard coat layer having a thickness of 6 [mu] m. This hard coat layer does not contain silica particles. The coating liquid A for a low refractive index layer was applied thereon using a bar coater, dried at 80 ° C., and further dried at 120 ° C.
The composition was thermally crosslinked at 10 ° C. for 10 minutes to form a low refractive index layer having a thickness of 0.096 μm.

【0034】[比較例2]80μmの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム(TAC−TD80U、富士写真
フイルム(株)製)に、上記のハードコート層用塗布液
Dをバーコーターを用いて塗布し、120℃で乾燥の
後、160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイ
グラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/
cm、照射量300mJ/cmの紫外線を照射して
塗布層を硬化させ、厚さ6μmのハードコート層を形成
した。ハードコート層膜厚の2分の1である3μmより
大きい粒径のシリカ粒子は約50%である。その上に、
上記低屈折率層用塗布液Aをバーコーターを用いて塗布
し、80℃で乾燥の後、さらに120℃で10分間熱架
橋し、厚さ0.096μmの低屈折率層を形成した。
[Comparative Example 2] The above coating solution D for a hard coat layer was coated on a triacetyl cellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) having a thickness of 80 μm using a bar coater. After drying at 120 ° C., an illuminance of 400 mW / cm was applied using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) of 160 W / cm.
cm 2, and an irradiation dose of 300 mJ / cm 2 to cure the coating layer, to form a hard coat layer having a thickness of 6 [mu] m. About 50% of the silica particles have a particle size larger than 3 μm, which is one half of the thickness of the hard coat layer. in addition,
The coating liquid A for a low refractive index layer was applied using a bar coater, dried at 80 ° C., and thermally crosslinked at 120 ° C. for 10 minutes to form a low refractive index layer having a thickness of 0.096 μm.

【0035】[比較例3]80μmの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム(TAC−TD80U、富士写真
フイルム(株)製)に、上記のハードコート層用塗布液
Eをバーコーターを用いて塗布し、120℃で乾燥の
後、160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイ
グラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/
cm、照射量300mJ/cmの紫外線を照射して
塗布層を硬化させ、厚さ6μmのハードコート層を形成
した。ハードコート層膜厚の2分の1である3μmより
大きい粒径のシリカ粒子は0%である。その上に、上記
低屈折率層用塗布液Aをバーコーターを用いて塗布し、
80℃で乾燥の後、さらに120℃で10分間熱架橋
し、厚さ0.096μmの低屈折率層を形成した。
Comparative Example 3 The above coating solution E for a hard coat layer was coated on a triacetyl cellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) having a thickness of 80 μm using a bar coater. After drying at 120 ° C., an illuminance of 400 mW / cm was applied using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) of 160 W / cm.
cm 2, and an irradiation dose of 300 mJ / cm 2 to cure the coating layer, to form a hard coat layer having a thickness of 6 [mu] m. Silica particles having a particle diameter larger than 3 μm, which is one half of the thickness of the hard coat layer, are 0%. On top of this, the low refractive index layer coating solution A was applied using a bar coater,
After drying at 80 ° C., thermal crosslinking was further performed at 120 ° C. for 10 minutes to form a low refractive index layer having a thickness of 0.096 μm.

【0036】[比較例4]80μmの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム(TAC−TD80U、富士写真
フイルム(株)製)に、上記のハードコート層用塗布液
Aをバーコーターを用いて塗布し、120℃で乾燥の
後、160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイ
グラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/
cm、照射量300mJ/cmの紫外線を照射して
塗布層を硬化させ、厚さ10μmのハードコート層を形
成した。ハードコート層膜厚の2分の1である5μmよ
り大きい粒径のシリカ粒子は約5%である。その上に、
上記低屈折率層用塗布液Aをバーコーターを用いて塗布
し、80℃で乾燥の後、さらに120℃で10分間熱架
橋し、厚さ0.096μmの低屈折率層を形成した。
[Comparative Example 4] The above-mentioned coating solution A for a hard coat layer was coated on a triacetyl cellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) having a thickness of 80 μm using a bar coater. After drying at 120 ° C., an illuminance of 400 mW / cm was applied using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) of 160 W / cm.
cm 2, and an irradiation dose of 300 mJ / cm 2 to cure the coating layer, to form a hard coat layer having a thickness of 10 [mu] m. About 5% of the silica particles have a particle size larger than 5 μm, which is one half of the thickness of the hard coat layer. in addition,
The coating liquid A for a low refractive index layer was applied using a bar coater, dried at 80 ° C., and thermally crosslinked at 120 ° C. for 10 minutes to form a low refractive index layer having a thickness of 0.096 μm.

【0037】[比較例5]80μmの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム(TAC−TD80U、富士写真
フイルム(株)製)に、上記のハードコート層用塗布液
Aをバーコーターを用いて塗布し、120℃で乾燥の
後、160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイ
グラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/
cm、照射量300mJ/cmの紫外線を照射して
塗布層を硬化させ、厚さ6μmのハードコート層を形成
した。ハードコート層膜厚の2分の1である3μmより
大きい粒径のシリカ粒子は約50%である。その上に、
上記低屈折率層用塗布液Bをバーコーターを用いて塗布
し、80℃で乾燥の後、さらに120℃で10分間熱架
橋し、厚さ0.096μmの低屈折率層を形成した。
Comparative Example 5 The above coating solution A for a hard coat layer was applied to a triacetyl cellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) having a thickness of 80 μm using a bar coater. After drying at 120 ° C., an illuminance of 400 mW / cm was applied using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) of 160 W / cm.
cm 2, and an irradiation dose of 300 mJ / cm 2 to cure the coating layer, to form a hard coat layer having a thickness of 6 [mu] m. About 50% of the silica particles have a particle size larger than 3 μm, which is one half of the thickness of the hard coat layer. in addition,
The low refractive index layer coating solution B was applied using a bar coater, dried at 80 ° C., and thermally crosslinked at 120 ° C. for 10 minutes to form a low refractive index layer having a thickness of 0.096 μm.

【0038】[比較例6]80μmの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム(TAC−TD80U、富士写真
フイルム(株)製)に、上記のハードコート層用塗布液
Aをバーコーターを用いて塗布し、120℃で乾燥の
後、160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイ
グラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/
cm、照射量300mJ/cmの紫外線を照射して
塗布層を硬化させ、厚さ6μmのハードコート層を形成
した。ハードコート層膜厚の2分の1である3μmより
大きい粒径のシリカ粒子は約50%以上である。
Comparative Example 6 The above-mentioned coating solution A for a hard coat layer was coated on a triacetyl cellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) having a thickness of 80 μm using a bar coater. After drying at 120 ° C., an illuminance of 400 mW / cm was applied using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) of 160 W / cm.
cm 2, and an irradiation dose of 300 mJ / cm 2 to cure the coating layer, to form a hard coat layer having a thickness of 6 [mu] m. About 50% or more of the silica particles having a particle diameter larger than 3 μm, which is one half of the thickness of the hard coat layer.

【0039】(反射防止膜の評価)得られたフィルムに
ついて、以下の項目の評価を行った。 (1)平均反射率 分光光度計(日本分光(株)製)を用いて、380〜7
80nmの波長領域において、入射角5°における分光
反射率を測定した。結果には450〜650nmの平均
反射率を用いた。 (2)ヘイズ 得られたフィルムのヘイズをヘイズメーターMODEL
1001DP(日本電色工業(株)製)を用いて測定
した。 (3)鉛筆硬度評価 耐傷性の指標としてJIS K 5400に記載の鉛筆
硬度評価を行った。反射防止膜を温度25℃、湿度60
%RHで2時間調湿した後、JIS S 6006に規
定する3Hの試験用鉛筆を用いて、1kgの荷重にてひ
っかき試験を行った。 n=5の評価において傷が全く認められない :○ n=5の評価において傷が1または2つ :△ n=5の評価において傷が3つ以上 :× (4)接触角、指紋付着性評価 表面の耐汚染性の指標として、光学材料を温度25℃、
湿度60%RHで2時間調湿した後、水に対する接触角
を測定した。またこのサンプル表面に指紋を付着させて
から、それをクリーニングクロスで拭き取ったときの状
態を観察して、以下のように指紋付着性を評価した。 指紋が完全に拭き取れる :○ 指紋がやや見える :△ 指紋がほとんど拭き取れない :×
(Evaluation of antireflection film) The following items were evaluated for the obtained film. (1) Average reflectance 380-7 using a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation)
The spectral reflectance at an incident angle of 5 ° was measured in a wavelength region of 80 nm. The average reflectance of 450 to 650 nm was used for the results. (2) Haze The haze of the obtained film was measured using a haze meter MODEL.
It measured using 1001DP (made by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.). (3) Pencil hardness evaluation Pencil hardness evaluation described in JIS K 5400 was performed as an index of scratch resistance. Antireflection film at a temperature of 25 ° C and a humidity of 60
After humidity control for 2 hours at% RH, a scratch test was performed with a 1 kg load using a 3H test pencil specified in JIS S 6006. No scratches were observed in the evaluation of n = 5: ○ 1 or 2 scratches in the evaluation of n = 5: Δ 3 or more scratches in the evaluation of n = 5: × (4) Contact angle, fingerprint adhesion Evaluation As an index of the contamination resistance of the surface, the optical material was heated at a temperature of 25 ° C.
After adjusting the humidity at 60% RH for 2 hours, the contact angle to water was measured. Further, after attaching a fingerprint to the surface of the sample, the state when the fingerprint was wiped off with a cleaning cloth was observed, and the adhesion of the fingerprint was evaluated as follows. Fingerprints can be completely wiped off: ○ Fingerprints can be seen slightly: △ Fingerprints can hardly be wiped off: ×

【0040】(5)動摩擦係数測定 表面滑り性の指標として動摩擦係数にて評価した。動摩
擦係数は試料を25℃、相対湿度60%で2時間調湿し
た後、HEIDON−14動摩擦測定機により5mmφ
ステンレス鋼球、荷重100g、速度60cm/min
にて測定した値を用いた。 (6)防眩性評価 作成した防眩性フィルムにルーバーなしのむき出し蛍光
灯(8000cd/m )を映し、その反射像のボケの
程度を以下の基準で評価した。 蛍光灯の輪郭が全くわからない :◎ 蛍光灯の輪郭がわずかにわかる :○ 蛍光灯はぼけているが、輪郭は識別できる :△ 蛍光灯がほとんどぼけない :× (7)ギラツキ評価 作成した防眩性フィルムにルーバーありの蛍光灯拡散光
を映し、表面のギラツキを以下の基準で評価した。 ほとんどギラツキが見られない :○ わずかにギラツキがある :△ 目で識別できるサイズのギラツキがある :×
(5) Measurement of Dynamic Friction Coefficient The dynamic friction coefficient was evaluated as an index of the surface slip property. Motion
The coefficient of friction was adjusted at 25 ° C and 60% relative humidity for 2 hours.
5mmφ with HEIDON-14 dynamic friction measuring machine
Stainless steel ball, load 100g, speed 60cm / min
The value measured in was used. (6) Evaluation of anti-glare property Exposed fluorescence without louver on prepared anti-glare film
Light (8000 cd / m 2) And the reflection image is blurred
The degree was evaluated based on the following criteria. The outline of the fluorescent lamp is not known at all: ◎ The outline of the fluorescent lamp is slightly recognized: ○ The fluorescent lamp is blurred, but the outline can be identified: △ The fluorescent lamp hardly blurs: × (7) Glare evaluation Light diffuser with louver on conductive film
And glare on the surface was evaluated according to the following criteria. There is almost no glare: ○ There is slight glare: △ There is glare of a size that can be identified by eyes: ×

【0041】表1に実施例および比較例の結果を示す。
実施例1、2とも反射防止性能に優れ、鉛筆硬度、指紋
付着性、防眩性、ギラツキのような防眩性反射防止フィ
ルムに必要とする全ての性能は良好であった。比較例1
はシリカ粒子が存在しないため、防眩性が全くなかっ
た。また、表には記載していないが、フィルムの色味む
らが顕著であった。比較例2はハードコート層の素材屈
折率が小さいために十分な反射防止性能(反射率)が得
られなかった。比較例3は粒径の小さい真球シリカを用
いているため、防眩性にやや劣り、反射光にギラツキが
見られた。比較例4はハードコート層膜厚がシリカ粒子
と比較して厚いため、防眩性が不十分であり、ギラツキ
がやや劣っていた。比較例5はフッ素含率が大きく屈折
率の小さい熱架橋性含フッ素ポリマーを低屈折率層に用
いているが、反射防止性能は若干優れるものの、鉛筆硬
度が極めて悪く、耐傷性が不足していた。比較例6は低
屈折率層がないため、反射防止性能が全く見られず、ま
た指紋付着性も全くなかった。
Table 1 shows the results of Examples and Comparative Examples.
Both Examples 1 and 2 were excellent in antireflection performance, and all performances required for antiglare antireflection films such as pencil hardness, fingerprint adhesion, antiglare properties, and glare were good. Comparative Example 1
Has no anti-glare properties because no silica particles are present. Although not described in the table, the color unevenness of the film was remarkable. In Comparative Example 2, sufficient antireflection performance (reflectance) was not obtained because the material refractive index of the hard coat layer was small. In Comparative Example 3, since spherical silica having a small particle diameter was used, antiglare properties were slightly inferior, and glare was observed in reflected light. In Comparative Example 4, since the hard coat layer was thicker than the silica particles, the antiglare property was insufficient, and the glare was slightly inferior. Comparative Example 5 uses a thermally crosslinkable fluoropolymer having a large fluorine content and a small refractive index for the low refractive index layer. However, although the antireflection performance is slightly excellent, the pencil hardness is extremely poor and the scratch resistance is insufficient. Was. In Comparative Example 6, since there was no low refractive index layer, no antireflection performance was observed, and no fingerprint adhesion was observed.

【0042】[0042]

【表1】 [Table 1]

【0043】次に、実施例1及び2のフィルムを用いて
防眩性反射防止偏光板を作成した。この偏光板を用いて
反射防止層を最表層に配置した液晶表示装置を作成した
ところ、外光の映り込みがないために優れたコントラス
トが得られ、防眩性により反射像が目立たず優れた視認
性を有していた。
Next, an antiglare antireflection polarizing plate was prepared using the films of Examples 1 and 2. When a liquid crystal display device in which an antireflection layer was disposed on the outermost layer was prepared using this polarizing plate, an excellent contrast was obtained because there was no reflection of external light, and a reflection image was inconspicuous due to antiglare properties. It had visibility.

【0044】[0044]

【発明の効果】本発明の防眩性反射防止フィルムは、支
持体上にハードコート層と低屈折率層の2層を形成する
のみによって、簡便かつ安価にして十分な反射防止性能
と耐傷性、防汚性を有し、しかも色むらの少ないという
優れた作用効果を奏する。したがってこの防眩性反射防
止フィルムを表示装置の前面に用いた画像表示装置は外
光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みがな
く、画像の色むらがなく、表示面の耐傷性、防汚性が高
い、という優れた作用効果を奏する。
The antiglare antireflection film of the present invention is simple and inexpensive and has sufficient antireflection performance and scratch resistance by only forming a hard coat layer and a low refractive index layer on a support. It has an excellent effect of antifouling property and less color unevenness. Therefore, an image display device using the antiglare antireflection film on the front surface of the display device does not have a decrease in contrast or reflection of an image due to reflection of external light, has no color unevenness in an image, has scratch resistance on a display surface, and has stain resistance. It has an excellent effect of high performance.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る防眩性反射防止フィルムの一例の
断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of an example of an antiglare antireflection film according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 透明支持体 2 ハードコート層 3 低屈折率層 4 不定形シリカ粒子 Reference Signs List 1 transparent support 2 hard coat layer 3 low refractive index layer 4 amorphous silica particles

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明支持体上に、ハードコート層と該ハ
ードコート層上の屈折率1.43乃至1.49の低屈折
率層とを順に設けた光学フィルムにおいて、該ハードコ
ート層を形成する素材の屈折率が1.58乃至2.00
であって、該ハードコート層中に平均粒径1.0乃至1
0.0μmの不定形シリカ粒子を含有し、該低屈折率層
が、動摩擦係数0.03乃至0.15、水に対する接触
角90乃至120°の、含フッ素化合物の架橋体を含ん
でなり、該光学フィルムのヘイズが3.0乃至20.0
%、450nmから650nmの平均反射率が1.8%
以下であることを特徴とする防眩性反射防止フィルム。
1. An optical film in which a hard coat layer and a low refractive index layer having a refractive index of 1.43 to 1.49 on the transparent support are provided in this order on a transparent support. Material has a refractive index of 1.58 to 2.00
Wherein the hard coat layer has an average particle size of 1.0 to 1
It contains 0.0 μm amorphous silica particles, and the low refractive index layer comprises a crosslinked product of a fluorine-containing compound having a dynamic friction coefficient of 0.03 to 0.15 and a contact angle to water of 90 to 120 °, The haze of the optical film is 3.0 to 20.0
%, Average reflectance from 450 nm to 650 nm is 1.8%
An antiglare antireflection film characterized by the following.
【請求項2】 ハードコート層の膜厚の2分の1よりも
大きい粒径のシリカ粒子が、重量比で該シリカ粒子全体
の40乃至100%を占めることを特徴とする請求項1
記載の防眩性反射防止フィルム。
2. The method according to claim 1, wherein the silica particles having a particle diameter larger than one half of the thickness of the hard coat layer occupy 40 to 100% of the total weight of the silica particles.
The antiglare antireflection film according to the above.
【請求項3】 ハードコート層を形成する素材が、二以
上のエチレン性不飽和基を有するモノマーと、チタン、
アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのう
ちより選ばれる少なくとも一つの酸化物からなる粒径1
00nm以下の微粒子とを架橋したものであることを特
徴とする防眩性反射防止フィルム。
3. A material for forming a hard coat layer comprises a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups, titanium,
Particle size 1 of at least one oxide selected from aluminum, indium, zinc, tin, and antimony
An antiglare antireflection film, which is obtained by crosslinking fine particles of not more than 00 nm.
【請求項4】 請求項1から3のいずれか1項に記載の
防眩性反射防止フィルムを偏光板における偏光層の2枚
の保護フィルムのうちの少なくとも一方に用いたことを
特徴とする偏光板。
4. Polarized light, wherein the antiglare antireflection film according to claim 1 is used for at least one of two protective films of a polarizing layer in a polarizing plate. Board.
【請求項5】 請求項1から3のいずれか1項に記載の
防眩性反射防止フィルムまたは請求項4に記載の防眩性
反射防止偏光板をディスプレイの最表層に反射防止用と
して用いたことを特徴とする液晶表示装置。
5. The anti-glare anti-reflection film according to claim 1 or the anti-glare anti-reflection polarizing plate according to claim 4 is used as an anti-reflection layer on the outermost layer of a display. A liquid crystal display device characterized by the above-mentioned.
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