JP2001318207A - Antireflection film and image display device - Google Patents

Antireflection film and image display device

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JP2001318207A
JP2001318207A JP2001014690A JP2001014690A JP2001318207A JP 2001318207 A JP2001318207 A JP 2001318207A JP 2001014690 A JP2001014690 A JP 2001014690A JP 2001014690 A JP2001014690 A JP 2001014690A JP 2001318207 A JP2001318207 A JP 2001318207A
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JP
Japan
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refractive index
layer
antireflection film
hard coat
low refractive
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Application number
JP2001014690A
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Japanese (ja)
Inventor
Hirohisa Sotozono
裕久 外園
Kazuhiro Nakamura
和浩 中村
Ichiro Amimori
一郎 網盛
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antireflection film having high antireflection performance, superior also in stain-proofing property and scuffing resistance and producible at a low cost and to provide an image display device, using the antireflection film. SOLUTION: The antireflection film is an optical film with a low refractive index layer, whose refractive index is 1.35-1.49 on a transparent base and the low refractive index layer contains a hydrolyzate of an organosilane and/or its partial condensation product, a compound which generates a reaction accelerator under light and a fluoropolymer. The optical film has 3.0-20.0% haze and 1.8% or lower average reflectance in the range of 450-650 nm.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、反射防止フィル
ム、特に防眩性を有する反射防止フィルム並びにそれを
用いた偏光板及び液晶表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an antireflection film, particularly to an antireflection film having an antiglare property, and a polarizing plate and a liquid crystal display using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】反射防止フィルムは、一般に、陰極管表
示装置(CRT)、プラズマディスプレイパネル(PD
P)や液晶表示装置(LCD)のような画像表示装置に
おいて、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り
込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率
を低減するディスプレイの最表面に配置される。
2. Description of the Related Art Antireflection films are generally used for cathode ray tube displays (CRT), plasma display panels (PD).
P) and image display devices such as liquid crystal display devices (LCDs), in order to prevent a reduction in contrast and reflection of an image due to reflection of external light, a display that reduces reflectance using the principle of optical interference. Placed on the surface.

【0003】近年、画像表示装置のディスプレイにおい
て、一層の高精密化、高輝度化、高色再現性が要求され
ており、反射防止フィルムにおいても更なる反射防止性
能の改善が望まれている。
In recent years, the display of an image display device has been required to have higher precision, higher luminance, and higher color reproducibility, and further improvement in antireflection performance of antireflection films has been desired.

【0004】また、透明支持体上にハードコート層と低
屈折率層のみを有する反射防止フィルムにおいては、反
射率を低減するためには低屈折率層を十分に低屈折率化
しなければならず、トリアセチルセルロースを支持体と
し、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートのUV
硬化被膜をハードコート層とする反射防止フィルムで4
50nmから650nmにおける平均反射率を1.6%
以下にするためには屈折率を1.40以下にしなければ
ならない。屈折率1.40以下の素材としては無機物で
はフッ化マグネシウムやフッ化カルシウム、有機物では
フッ素含率の大きい含フッ素化合物が挙げられるが、こ
れらフッ素化合物は凝集力がないためディスプレイの最
表面に配置するフィルムとしては耐傷性が不足してい
た。従って、十分な耐傷性を有するためには1.43以
上の屈折率を有する化合物が必要であった。
In an antireflection film having only a hard coat layer and a low refractive index layer on a transparent support, the low refractive index layer must have a sufficiently low refractive index in order to reduce the reflectance. UV of dipentaerythritol hexaacrylate using triacetyl cellulose as a support
An anti-reflection film with a cured coating as a hard coat layer.
1.6% average reflectance from 50 nm to 650 nm
In order to make the refractive index below, the refractive index must be made below 1.40. Materials having a refractive index of 1.40 or less include magnesium fluoride and calcium fluoride for inorganic substances, and fluorine-containing compounds having a large fluorine content for organic substances. These fluorine compounds have no cohesive force and are arranged on the outermost surface of the display. The resulting film had insufficient scratch resistance. Therefore, in order to have sufficient scratch resistance, a compound having a refractive index of 1.43 or more was required.

【0005】特開平7−287102号においては、ハ
ードコート層の屈折率を大きくすることにより、反射率
を低減させることが記載されている。しかしながら、こ
のような高屈折率ハードコート層は支持体との屈折率差
が大きいためにフィルムの色むらが発生し、反射率の波
長依存性も大きく振幅してしまう。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-287102 describes that the reflectance is reduced by increasing the refractive index of the hard coat layer. However, such a high-refractive-index hard coat layer has a large difference in refractive index from the support, so that color unevenness of the film occurs, and the wavelength dependence of the reflectivity also has a large amplitude.

【0006】また特開平7−333404号において
は、ガスバリア性、防眩性、反射防止性に優れる防眩性
反射防止膜が記載されているが、CVDによる酸化珪素
膜が必須であるため、ウェット塗布と比較して生産性に
劣る。
JP-A-7-333404 describes an anti-glare anti-reflection film having excellent gas barrier properties, anti-glare properties and anti-reflection properties. Poor productivity compared to coating.

【0007】特公平6−98703号、特開昭63−2
1601号公報にはアルコキシシラン化合物の加水分解
部分縮合物からなる組成物をプラスチック基材表面に塗
布して反射光を低減化させる技術が開示されている。こ
れら公報に記載の技術ではゾルゲル法により無機膜がウ
ェット塗布により得られる。無機膜であるため非常に高
い膜強度が期待されるが、上記無機膜は一般に多くの基
材との密着性に乏しく、剥離故障が生じやすい欠点があ
った。さらに、硬化に長時間の加熱が必須であり、生産
性に乏しい欠点もあった。
JP-B-6-98703, JP-A-63-2
No. 1601 discloses a technique for applying a composition comprising a hydrolyzed partial condensate of an alkoxysilane compound to the surface of a plastic substrate to reduce reflected light. According to the techniques described in these publications, an inorganic film is obtained by wet coating by a sol-gel method. Although an extremely high film strength is expected because it is an inorganic film, the above-mentioned inorganic film generally has poor adhesion to many base materials, and has a drawback that peeling failure easily occurs. Furthermore, a long time heating is essential for curing, and there is a disadvantage that productivity is poor.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、反射
防止性能の優れる反射防止フィルムを提供することであ
る。さらに、本発明の課題は、支持体上に防眩性ハード
コート層と低屈折率層を形成することによって、簡便か
つ安価にして十分な反射防止性能と耐傷性、防汚性を有
し、しかも色むらの少ない反射防止フィルムを提供する
ことである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an antireflection film having excellent antireflection performance. Further, an object of the present invention is to form an antiglare hard coat layer and a low refractive index layer on a support, and have sufficient antireflection performance and scratch resistance, which is simple and inexpensive, and has antifouling properties. In addition, an object of the present invention is to provide an antireflection film with less color unevenness.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記課題は、以下の発明
により達成された。 (1)透明支持体上に、オルガノシランの加水分解物お
よび/またはその部分縮合物、光によって反応促進剤を
発生する化合物および含フッ素ポリマーからなる屈折率
1.35乃至1.49の低屈折率層を有する反射防止フ
ィルム。 (2)透明支持体上に、防眩性ハードコート層および該
防眩性ハードコート層上に屈折率1.35乃至1.49
の低屈折率層を有する光学フィルムにおいて、該防眩性
ハードコート層が平均粒径1.0乃至10.0μmの微
粒子を含有し、該低屈折率層がオルガノシランの加水分
解物および/またはその部分縮合物、光によって反応促
進剤を発生する化合物および含フッ素ポリマーを含有
し、該光学フィルムのヘイズが3.0乃至20.0%、
450nmから650nmの平均反射率が1.8%以下
であることを特徴とする反射防止フィルム。 (3)前記防眩性ハードコート層において該防眩性ハー
ドコート層を形成する素材の屈折率が1.57乃至2.
00であることを特徴とする(2)項記載の反射防止フ
ィルム。 (4)前記低屈折率層において光によって反応促進剤を
発生する化合物が光酸発生剤であることを特徴とする
(1)項〜(3)項記載の反射防止フィルム。 (5)前記低屈折率層において含フッ素ポリマーが含フ
ッ素ビニルモノマーを重合して得られるポリマーである
ことを特徴とする(1)項〜(4)項記載の反射防止フ
ィルム。 (6)前記含フッ素ポリマーが前記オルガノシランと共
有結合可能な官能基を有することを特徴とする(1)項
〜(5)項記載の反射防止フィルム。 (7)前記透明支持体がトリアセチルセルロースまたは
ポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレンナフタ
レートまたはアートンまたはゼオネックスであることを
特徴とする(1)項〜(6)項記載の反射防止フィル
ム。 (8)透明支持体が、トリアセチルセルロースフィルム
であり、トリアセチルセルロースを溶剤に溶解すること
で調整されたトリアセチルセルロースドープを単層流
延、複数層共流延もしくは複数層逐次流延の何れかの流
延方法により流延することにより作製されたことを特徴
とする上記1〜7のいずれかに記載の反射防止フィル
ム。 (9)該トリアセチルセルロースドープが、トリアセチ
ルセルロースを冷却溶解法あるいは高温溶解法によっ
て、ジクロロメタンを実質的に含まない溶剤に溶解する
ことで調製されたトリアセチルセルロースドープである
ことを特徴とする上記8記載の反射防止フィルム。 (10)(1)項〜(9)項のいずれかに記載の反射防
止フィルムを偏光板における偏光層の2枚の保護フィル
ムのうちの少なくとも一方に用いたことを特徴とする偏
光板。 (11)(1)項〜(9)項のいずれかに記載の反射防
止フィルムまたは(10)項に記載の反射防止偏光板の
反射防止層をディスプレイの最表層に用いたことを特徴
とする液晶表示装置。
The above object has been achieved by the following inventions. (1) A low refractive index having a refractive index of 1.35 to 1.49 comprising a hydrolyzate of organosilane and / or a partial condensate thereof, a compound generating a reaction accelerator by light, and a fluoropolymer on a transparent support. Anti-reflection film having a refractive index layer. (2) An antiglare hard coat layer on a transparent support and a refractive index of 1.35 to 1.49 on the antiglare hard coat layer.
In the optical film having a low refractive index layer, the antiglare hard coat layer contains fine particles having an average particle size of 1.0 to 10.0 μm, and the low refractive index layer has a hydrolyzate of organosilane and / or The optical film contains a partial condensate, a compound generating a reaction accelerator by light, and a fluoropolymer, and the haze of the optical film is 3.0 to 20.0%;
An anti-reflection film, wherein the average reflectance at 450 nm to 650 nm is 1.8% or less. (3) In the antiglare hard coat layer, the material forming the antiglare hard coat layer has a refractive index of 1.57 to 2.
00, wherein the antireflection film according to (2) is used. (4) The antireflection film according to any one of (1) to (3), wherein the compound that generates a reaction accelerator by light in the low refractive index layer is a photoacid generator. (5) The antireflection film according to any one of (1) to (4), wherein the fluorine-containing polymer in the low refractive index layer is a polymer obtained by polymerizing a fluorine-containing vinyl monomer. (6) The antireflection film according to any one of (1) to (5), wherein the fluoropolymer has a functional group capable of covalently bonding to the organosilane. (7) The antireflection film according to any one of (1) to (6), wherein the transparent support is triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, ARTON, or ZEONEX. (8) The transparent support is a triacetylcellulose film, and the triacetylcellulose dope prepared by dissolving triacetylcellulose in a solvent is subjected to single-layer casting, multiple-layer co-casting or multiple-layer sequential casting. 8. The antireflection film according to any one of the above 1 to 7, wherein the antireflection film is produced by casting by any casting method. (9) The triacetylcellulose dope is characterized by being prepared by dissolving triacetylcellulose in a solvent substantially free of dichloromethane by a cooling dissolution method or a high-temperature dissolution method. 9. The antireflection film according to the above item 8, (10) A polarizing plate, wherein the antireflection film according to any one of (1) to (9) is used as at least one of two protective films of a polarizing layer in the polarizing plate. (11) The antireflection film according to any one of items (1) to (9) or the antireflection layer of the antireflection polarizing plate according to item (10) is used as the outermost layer of a display. Liquid crystal display.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明の反射防止膜は、低屈折率
層に下記のオルガノシランの加水分解物および/または
その部分縮合物、光によって反応促進剤を発生する化合
物および含フッ素ポリマーを有してなる。屈折率は1.
35乃至1.49、好ましくは1.35乃至1.44で
ある。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The antireflection film of the present invention comprises a low-refractive-index layer comprising the following organosilane hydrolyzate and / or partial condensate thereof, a compound capable of generating a reaction accelerator by light, and a fluorine-containing polymer. Have. The refractive index is 1.
35 to 1.49, preferably 1.35 to 1.44.

【0011】次に、本発明の実施の一形態として好適な
反射防止フィルムの基本的な構成を図1を参照しながら
説明する。図1に示す態様は本発明の反射防止フィルム
の一例であり、透明支持体1、ハードコート層2、防眩
性ハードコート層3、そして低屈折率層4の順序の層構
成を有する。5は粒子であり、防眩性ハードコート層3
の粒子5以外の部分の素材の屈折率が好ましくは1.5
7乃至2.00、さらに好ましくは1.60乃至1.8
0であり、低屈折率層4の屈折率は1.35乃至1.4
9、好ましくは1.35乃至1.44である。ハードコ
ート層2は必須ではないが膜強度付与のために塗設され
ることが好ましい。平均反射率は1.8%以下である。
反射防止膜では、低屈折率層が下記式(1)をそれぞれ
満足することが好ましい。
Next, a basic structure of an antireflection film suitable as one embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The embodiment shown in FIG. 1 is an example of the antireflection film of the present invention, and has a layer structure in the order of a transparent support 1, a hard coat layer 2, an antiglare hard coat layer 3, and a low refractive index layer 4. Reference numeral 5 denotes particles, and the hard coat layer 3 has an antiglare property.
The material other than the particles 5 preferably has a refractive index of 1.5
7 to 2.00, more preferably 1.60 to 1.8
0, and the refractive index of the low refractive index layer 4 is 1.35 to 1.4.
9, preferably 1.35 to 1.44. The hard coat layer 2 is not essential, but is preferably applied to impart film strength. Average reflectance is 1.8% or less.
In the antireflection film, the low refractive index layer preferably satisfies the following expression (1).

【0012】 mλ/4×0.7<n11<mλ/4×1.3 (1)Mλ / 4 × 0.7 <n 1 d 1 <mλ / 4 × 1.3 (1)

【0013】式中、mは正の奇数(一般に1)であり、
1は低屈折率層の屈折率であり、そして、d1は低屈折
率層の膜厚(nm)である。
Where m is a positive odd number (generally 1),
n 1 is the refractive index of the low refractive index layer, and d 1 is the thickness (nm) of the low refractive index layer.

【0014】本発明における防眩性ハードコート層の屈
折率は1つの値で記述されず、防眩性ハードコート層を
形成する素材中に微粒子が分散している屈折率不均一層
である。防眩性ハードコート層を形成する素材の屈折率
は1.57乃至2.00であることが好ましい。これが
小さすぎると反射防止性能が小さくなり、大きすぎると
色味が大きくなりすぎてしまうことがある。高屈折率素
材が二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとチ
タン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜
鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも一つ
の酸化物からなる粒径100nm以下の微粒子とからな
る場合、微粒子の粒径が光の波長よりも十分小さいため
に散乱が生じず、光学的には均一な物質として振舞うこ
とが、特開平8−110401号等に記載されている。
The refractive index of the antiglare hard coat layer in the present invention is not described by a single value, but is a non-uniform refractive index layer in which fine particles are dispersed in a material forming the antiglare hard coat layer. The material for forming the antiglare hard coat layer preferably has a refractive index of 1.57 to 2.00. If this is too small, the antireflection performance will be small, and if it is too large, the color may be too large. High refractive index material from a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups and titanium, zirconium, aluminum, indium, zinc, tin, fine particles having a particle diameter of 100 nm or less consisting of at least one oxide selected from antimony For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. H8-110401 discloses that fine particles have a sufficiently small particle size smaller than the wavelength of light, so that scattering does not occur and the particles behave as optically uniform substances.

【0015】この防眩性ハードコート層は、高屈折率素
材中に分散する粒径1.0μm以上の微粒子によって内
部散乱が生じるために、防眩性ハードコート層での光学
干渉の影響を生じない。粒子を有しない高屈折率防眩性
ハードコート層では、防眩性ハードコート層と支持体と
の屈折率差による光学干渉のために、反射率の波長依存
性において反射率の大きな振幅が見られ、結果として反
射防止効果が悪化し、同時に色むらが発生してしまう
が、本発明の反射防止フィルムでは微粒子の内部散乱効
果によってこれらの問題を解決した。
In the hard-coating antiglare layer, internal scattering is caused by fine particles having a particle diameter of 1.0 μm or more dispersed in the high refractive index material, so that the hard-coating layer is affected by optical interference in the hard-coating antiglare layer. Absent. In the case of the high refractive index antiglare hard coat layer having no particles, a large amplitude of the reflectance is seen in the wavelength dependence of the reflectance due to optical interference due to the refractive index difference between the antiglare hard coat layer and the support. As a result, the antireflection effect deteriorates and color unevenness occurs at the same time. However, in the antireflection film of the present invention, these problems were solved by the internal scattering effect of fine particles.

【0016】本発明の反射防止フィルムは透明支持体上
に防眩性ハードコート層を有し、さらにその上の低屈折
率層を有してなるが、必要に応じ、防眩性ハードコート
層の下層に平滑なハードコート層を設けることができ
る。
The antireflection film of the present invention has an antiglare hard coat layer on a transparent support and a low refractive index layer thereon. If necessary, the antiglare hard coat layer A smooth hard coat layer can be provided as a lower layer.

【0017】防眩性ハードコート層に用いる化合物は、
飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポ
リマーであることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖とし
て有するポリマーであることがさらに好ましい。バイン
ダーポリマーは架橋していることが好ましい。飽和炭化
水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和
モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋し
ているバインダーポリマーを得るためには、二以上のエ
チレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ま
しい。高屈折率にするためには、このモノマーの構造中
に芳香族環、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄、リン、
窒素の原子から選ばれた少なくとも1つを含むことが好
ましい。
The compound used for the antiglare hard coat layer is
A polymer having a saturated hydrocarbon or polyether as a main chain is preferable, and a polymer having a saturated hydrocarbon as a main chain is more preferable. The binder polymer is preferably crosslinked. The polymer having a saturated hydrocarbon as a main chain is preferably obtained by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer. In order to obtain a crosslinked binder polymer, it is preferable to use a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups. In order to obtain a high refractive index, an aromatic ring, a halogen atom other than fluorine, sulfur, phosphorus,
It preferably contains at least one selected from nitrogen atoms.

【0018】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの例には、多価アルコールと(メタ)アクリル酸と
のエステル(例、エチレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、1,4−ジクロヘキサンジアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート)、ペン
タエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチ
ロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロ
ールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリ
トールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シク
ロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリア
クリレート、ポリエステルポリアクリレート)、ビニル
ベンゼンおよびその誘導体(例、1,4−ジビニルベン
ゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエ
ステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン)、ビニル
スルホン(例、ジビニルスルホン)、アクリルアミド
(例、メチレンビスアクリルアミド)およびメタクリル
アミドが含まれる。
Examples of the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups include esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid (eg, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-dichlorohexane diacrylate) Pentaerythritol tetra (meth) acrylate), pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethanetri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta ( (Meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate), vinylbenzene and the like. Derivatives (eg, 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2-acryloylethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone), vinylsulfone (eg, divinylsulfone), acrylamide (eg, methylenebisacrylamide) and methacryl Amides are included.

【0019】高屈折率モノマーの例には、ビス(4−メ
タクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビニルナフタ
レン、ビニルフェニルスルフィド、4−メタクリロキシ
フェニル−4'−メトキシフェニルチオエーテル等が含
まれる。これらのエチレン性不飽和基を有するモノマー
は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤を用
い、塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬
化させる必要がある。
Examples of the high refractive index monomer include bis (4-methacryloylthiophenyl) sulfide, vinylnaphthalene, vinylphenylsulfide, 4-methacryloxyphenyl-4'-methoxyphenylthioether and the like. These monomers having an ethylenically unsaturated group need to be cured by a polymerization reaction using ionizing radiation or heat after application using a photo radical initiator or a thermal radical initiator.

【0020】ポリエーテルを主鎖として有するポリマー
は、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により合成す
ることが好ましい。光酸発生剤あるいは熱酸発生剤を用
い、塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬
化させる必要がある。
The polymer having a polyether as a main chain is preferably synthesized by a ring-opening polymerization reaction of a polyfunctional epoxy compound. It is necessary to use a photoacid generator or a thermal acid generator, and after application, cure by a polymerization reaction using ionizing radiation or heat.

【0021】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基を有するモ
ノマーを用いてポリマー中に架橋性基を導入し、この架
橋性基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに
導入してもよい。架橋性官能基の例には、イソシアナー
ト基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、ア
ルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシ
ル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。
ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導
体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよび
ウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキ
シドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用
できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応
の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。ま
た、本発明において架橋性基とは、上記化合物に限らず
上記官能基が分解した結果反応性を示すものであっても
よい。これら架橋性基を有する化合物は塗布後、熱など
によって架橋させる必要がある。
In place of or in addition to the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups, a crosslinkable group is introduced into the polymer by using a monomer having a crosslinkable group, and the reaction of the crosslinkable group causes a crosslinkable structure. May be introduced into the binder polymer. Examples of the crosslinkable functional group include an isocyanate group, an epoxy group, an aziridine group, an oxazoline group, an aldehyde group, a carbonyl group, a hydrazine group, a carboxyl group, a methylol group, and an active methylene group.
Vinyl sulfonic acid, acid anhydride, cyanoacrylate derivative, melamine, etherified methylol, ester and urethane, and metal alkoxide such as tetramethoxysilane can also be used as a monomer for introducing a crosslinked structure. A functional group that exhibits crosslinkability as a result of a decomposition reaction, such as a block isocyanate group, may be used. Further, in the present invention, the crosslinkable group is not limited to the above compound, but may be a compound which shows reactivity as a result of decomposition of the above functional group. These compounds having a crosslinkable group need to be crosslinked by heat or the like after coating.

【0022】防眩性ハードコート層には、素材の屈折率
を高めるために、チタン、ジルコニウム、アルミニウ
ム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ば
れる少なくとも一つの酸化物からなる粒径100nm以
下、好ましくは50nm以下の微粒子を含有することが
好ましい。微粒子の例としては、TiO2、ZrO2、A
23、In23、ZnO、SnO2、Sb23、IT
O等が挙げられる。これらの無機微粒子の添加量は、防
眩性ハードコート層の全質量の10乃至90%であるこ
とが好ましく、20乃至80%であると更に好ましく、
30乃至60%が特に好ましい。
In order to increase the refractive index of the material, the antiglare hard coat layer has a particle diameter of at least 100 nm comprising at least one oxide selected from titanium, zirconium, aluminum, indium, zinc, tin and antimony. And preferably contains fine particles of 50 nm or less. Examples of the fine particles include TiO 2 , ZrO 2 , A
l 2 O 3 , In 2 O 3 , ZnO, SnO 2 , Sb 2 O 3 , IT
O and the like. The addition amount of these inorganic fine particles is preferably 10 to 90%, more preferably 20 to 80% of the total mass of the antiglare hard coat layer,
Particularly preferred is 30 to 60%.

【0023】防眩性ハードコート層には、防眩性付与と
防眩性ハードコート層の干渉による反射率悪化防止、色
むら防止の目的で、樹脂または無機化合物の粒子が用い
られ、例えば、シリカ粒子やTiO2粒子、架橋アクリ
ル粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾ
グアナミン樹脂粒子、などが好ましく用いられる。平均
粒径は1.0乃至10.0μmが好ましく、1.5乃至
7.0μmがより好ましい。また、粒子の形状として
は、真球、不定形、のいずれも使用できる。異なる2種
以上の粒子を併用して用いてもよい。粒子の塗布量は、
好ましくは10乃至1000mg/m2、より好ましく
は30乃至100mg/m2とする。また、防眩性ハー
ドコート層の膜厚の2分の1よりも大きい粒径のシリカ
粒子が、該シリカ粒子全体の40乃至100%を占める
ことが好ましい。粒度分布はコールターカウンター法や
遠心沈降法等により測定できるが、分布は粒子数分布に
換算して考える。防眩性ハードコート層膜厚は1乃至1
0μmが好ましく、1.2乃至6μmがより好ましい。
The antiglare hard coat layer is made of particles of a resin or an inorganic compound for the purpose of imparting antiglare properties and preventing deterioration in reflectance due to interference of the antiglare hard coat layer and color unevenness. Silica particles, TiO 2 particles, crosslinked acrylic particles, crosslinked styrene particles, melamine resin particles, benzoguanamine resin particles, and the like are preferably used. The average particle size is preferably from 1.0 to 10.0 μm, more preferably from 1.5 to 7.0 μm. Further, as the shape of the particles, any of a true sphere and an irregular shape can be used. Two or more different particles may be used in combination. The amount of particles applied is
Preferably it is 10 to 1000 mg / m 2 , more preferably 30 to 100 mg / m 2 . Further, it is preferable that silica particles having a particle diameter larger than half of the thickness of the antiglare hard coat layer occupy 40 to 100% of the whole silica particles. The particle size distribution can be measured by a Coulter counter method, a centrifugal sedimentation method, or the like, and the distribution is converted into a particle number distribution. Anti-glare hard coat layer thickness is 1 to 1
0 μm is preferable, and 1.2 to 6 μm is more preferable.

【0024】本発明において平滑なハードコート層に用
いる樹脂は防眩性付与微粒子を用いないこと以外は防眩
性ハードコート層において挙げたものと同様である。平
滑なハードコート層は膜強度向上の目的で必要に応じ
て、透明支持体と防眩性ハードコート層の間に塗設され
る。平滑なハードコート層膜厚は1乃至10μmが好ま
しく、1.2乃至6μmがより好ましい。
In the present invention, the resin used for the smooth hard coat layer is the same as that described for the antiglare hard coat layer except that fine particles imparting antiglare properties are not used. The smooth hard coat layer is provided between the transparent support and the antiglare hard coat layer as needed for the purpose of improving the film strength. The thickness of the smooth hard coat layer is preferably 1 to 10 μm, more preferably 1.2 to 6 μm.

【0025】本発明の低屈折率層には、オルガノシラン
の加水分解物および/またはその部分縮合物、いわゆる
ゾルゲル成分(以後このように称する)が用いられ、膜
強度向上および耐擦傷性向上に寄与している。含フッ素
ポリマーも用いられ、防汚性および滑り性に寄与してい
る。含フッ素ポリマーとしては含フッ素ビニルモノマー
を重合して得られるポリマーが好ましく、さらにゾルゲ
ル成分と共有結合可能な官能基を有することが、ゾルゲ
ル成分との相溶性および膜強度の観点で好ましい。ゾル
ゲル成分は塗布液の段階ではゾル状態であり、光により
反応促進剤を発生する化合物の作用により、塗布後の光
照射により速やかに硬化する。
In the low refractive index layer of the present invention, a hydrolyzate of organosilane and / or a partial condensate thereof, a so-called sol-gel component (hereinafter referred to as such) is used to improve film strength and abrasion resistance. Has contributed. Fluorine-containing polymers are also used and contribute to antifouling properties and slip properties. As the fluorinated polymer, a polymer obtained by polymerizing a fluorinated vinyl monomer is preferable, and it is more preferable that the fluorinated polymer has a functional group that can be covalently bonded to the sol-gel component from the viewpoint of compatibility with the sol-gel component and film strength. The sol-gel component is in a sol state at the stage of the coating solution, and is rapidly cured by light irradiation after application by the action of a compound that generates a reaction accelerator by light.

【0026】本発明の低屈折率層に用いられるオルガノ
シランは次の一般式(2)で表されるものである。
The organosilane used in the low refractive index layer of the present invention is represented by the following general formula (2).

【0027】RxSi(OR')4-x (2)R x Si (OR ') 4-x (2)

【0028】(ただし、R、R'は同一または異なって
いてもよく、それぞれ水素、アルキル基、アリール基、
アリル基、フルオロアルキル基を表し、アルキル基は官
能基としてエポキシ基、アミノ基、アクリル基、イソシ
アネート基、メルカプト基、を有していてもよい。xは
0〜3の整数である。)
(However, R and R ′ may be the same or different and each represents hydrogen, an alkyl group, an aryl group,
It represents an allyl group or a fluoroalkyl group, and the alkyl group may have an epoxy group, an amino group, an acryl group, an isocyanate group, or a mercapto group as a functional group. x is an integer of 0 to 3. )

【0029】一般式(2)で表されるオルガノシランの
具体例としては、x=0としては、テトラメトキシシラ
ン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラ
ン、テトラ−n−ブトキシシラン、など、x=1として
は、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシ
ラン、エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシ
シラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリメト
キシシラン、フェニルトリエトキシシラン、CF3CH2
CH2Si(OCH33、CF3(CF25CH2CH2
i(OCH33、γ−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−トリ
メトキシシリルプロピルイソシアネート、γ−メルカプ
トプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピル
トリメトキシシラン、など、x=2としては、ジメチル
ジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミ
ノプロピルメチルトリエトキシシラン、γ−メルカプト
プロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシ
プロピルメチルジメトキシシラン、などが挙げられる
が、本発明はこれらに限定されるものではない。また異
なる2種以上のオルガノシランを混合して用いることも
普通に行われ、硬さ、脆性、の調節、および官能基導入
の目的で適宜調節されることが好ましい。
As specific examples of the organosilane represented by the general formula (2), when x = 0, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetra-n-butoxysilane, etc. 1 includes methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, CF 3 CH 2
CH 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 5 CH 2 CH 2 S
i (OCH 3 ) 3 , γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-trimethoxysilylpropylisocyanate, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane , Γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, etc., where x = 2 is dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropyl Examples include methyltriethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, and γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, but the present invention is not limited to these. It is also common practice to use a mixture of two or more different organosilanes, and it is preferable to appropriately adjust the hardness, the brittleness, and the purpose of introducing a functional group.

【0030】オルガノシランの加水分解縮合反応は無溶
媒でも、溶媒中でも行うことができる。溶媒としては有
機溶媒が好ましく、アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノ
ール、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、1,
4−ジオキサンなどを挙げることができる。ここで用い
る溶媒は含フッ素ポリマーも溶解させる必要がある。加
水分解縮合反応は触媒存在下で行われることが好まし
い。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸などの無機酸類、
シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンス
ルホン酸などの有機酸類、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、アンモニアなどの無機塩基類、トリエチルアミ
ン、ピリジンなどの有機塩基類、トリイソプロポキシア
ルミニウム、テトラブトキシジルコニウム、などの金属
アルコキシド類、前記金属アルコキシド類と、アセト酢
酸エチル、アセチルアセトンなどのとの金属キレート化
合物類、などが挙げられる。加水分解縮合反応はアルコ
キシ基1モルに対して0.3乃至2.0モル、好ましく
は0.5乃至1.0モルの水を添加し、上記溶媒および
触媒の存在下、25乃至100℃で、撹拌することによ
り行われる。触媒の添加量はアルコキシ基に対して0.
01乃至10モル%、好ましくは0.1乃至5モル%で
ある。反応条件はオルガノシランの反応性により適宜調
節されることが好ましい。
The hydrolysis-condensation reaction of the organosilane can be carried out without a solvent or in a solvent. As the solvent, an organic solvent is preferable, and acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, butyl acetate, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, toluene, xylene, tetrahydrofuran,
4-dioxane and the like can be mentioned. The solvent used here must also dissolve the fluoropolymer. The hydrolysis condensation reaction is preferably performed in the presence of a catalyst. As the catalyst, inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and nitric acid,
Organic acids such as oxalic acid, acetic acid, formic acid, methanesulfonic acid, and toluenesulfonic acid; inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and ammonia; organic bases such as triethylamine and pyridine; triisopropoxy aluminum and tetrabutoxy Metal alkoxides such as zirconium; metal chelate compounds of the metal alkoxides with ethyl acetoacetate, acetylacetone and the like. The hydrolysis-condensation reaction is performed by adding 0.3 to 2.0 mol, preferably 0.5 to 1.0 mol of water to 1 mol of the alkoxy group, at 25 to 100 ° C. in the presence of the solvent and the catalyst. This is performed by stirring. The amount of the catalyst added is 0.1 to the alkoxy group.
The content is from 01 to 10 mol%, preferably from 0.1 to 5 mol%. The reaction conditions are preferably adjusted as appropriate depending on the reactivity of the organosilane.

【0031】本発明の低屈折率層に用いられる含フッ素
ポリマーとしては、含フッ素ビニルポリマー、含フッ素
ポリエーテル、含フッ素ポリシロキサン、などが挙げら
れるが、含フッ素ビニルポリマーが好ましい。さらに、
この含フッ素ビニルポリマーが反応性基を有し、塗布硬
化後にゾルゲル成分と共有結合で結ばれていることがよ
り好ましい。本発明の含フッ素ビニルポリマーは含フッ
素ビニルモノマーをラジカル重合することにより得られ
る。含フッ素モノマーの具体例としては例えばフルオロ
オレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフ
ルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロ
プロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3
−ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸の部分または
完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えばビスコ
ート6FM(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキ
ン製)等)、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類
等である。このうちヘキサフロオロプロピレン、フッ素
化ビニルエーテル類が好ましい。
Examples of the fluorine-containing polymer used in the low refractive index layer of the present invention include a fluorine-containing vinyl polymer, a fluorine-containing polyether, and a fluorine-containing polysiloxane, and a fluorine-containing vinyl polymer is preferable. further,
It is more preferable that the fluorine-containing vinyl polymer has a reactive group and is covalently bonded to the sol-gel component after application and curing. The fluorinated vinyl polymer of the present invention can be obtained by radical polymerization of a fluorinated vinyl monomer. Specific examples of the fluorine-containing monomer include, for example, fluoroolefins (eg, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3)
-Dioxole, etc.), partially or fully fluorinated alkyl ester derivatives of (meth) acrylic acid (for example, Biscoat 6FM (manufactured by Osaka Organic Chemicals) and M-2020 (manufactured by Daikin)), fully or partially fluorinated vinyl ethers, etc. is there. Of these, hexafluoropropylene and fluorinated vinyl ethers are preferred.

【0032】オルガノシランと共有結合可能な官能基を
有するビニルモノマーについて以下に説明する。オルガ
ノシランの加水分解により生成するシラノール基との反
応性付与のための官能基としてはアルコキシシリル基が
挙げられる。含アルコキシシリル基モノマーとしてはγ
−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニル
トリメトキシシラン、などが挙げられる。含官能基オル
ガノシランを用いることにより、エポキシ基、アミノ
基、イソシアネート基、メルカプト基、などがゾルゲル
成分に導入可能である。これらの官能基と共有結合可能
な官能基としては、ヒドロキシ基、エポキシ基、カルボ
キシル基、などが挙げられ、これらの官能基を有するビ
ニルモノマーとしては、ヒドロキシ基を有する2−ヒド
ロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルア
クリレート、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、3
−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシ
ブチルビニルエーテル、エポキシ基を有するグリシジル
メタクリレート、グルシジルアクリレート、ビニルグリ
シジルエーテル、カルボキシル基を有するアクリル酸、
メタクリル酸、β−カルボキシエチルアクリレート、ク
ロトン酸、イタコン酸、α−ビニル酢酸、フマル酸ビニ
ル、マレイン酸ビニル、などを挙げることができるが、
本発明はこれらに限定されるものではない。
The vinyl monomer having a functional group capable of covalently bonding to organosilane will be described below. Examples of the functional group for imparting reactivity with a silanol group generated by hydrolysis of the organosilane include an alkoxysilyl group. As the alkoxysilyl group-containing monomer, γ
-Methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, and the like. By using the organosilane having a functional group, an epoxy group, an amino group, an isocyanate group, a mercapto group, and the like can be introduced into the sol-gel component. Examples of the functional group capable of covalently bonding to these functional groups include a hydroxy group, an epoxy group, and a carboxyl group. Examples of the vinyl monomer having these functional groups include 2-hydroxyethyl methacrylate having a hydroxy group, -Hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl vinyl ether, 3
-Hydroxypropyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, glycidyl methacrylate having an epoxy group, glycidyl acrylate, vinyl glycidyl ether, acrylic acid having a carboxyl group,
Methacrylic acid, β-carboxyethyl acrylate, crotonic acid, itaconic acid, α-vinyl acetic acid, vinyl fumarate, vinyl maleate, and the like,
The present invention is not limited to these.

【0033】上記以外のビニルモノマーも共重合モノマ
ーとして用いることができる。このようなモノマーとし
ては、例えばオレフィン類(エチレン、プロピレン、イ
ソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等)、アクリル
酸エステル類(メチルアクリレート、、エチルアクリレ
ート、2−エチルヘキシルアクリレート)、メタクリル
酸エステル類(メチルメタクリレート、エチルメタクリ
レート、ブチルメタクリレート、エチレングリコールジ
メタクリレート等)、スチレン誘導体(スチレン、ジビ
ニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン
等)、ビニルエーテル類(メチルビニルエーテル、エチ
ルビニルエーテル、n−プロピルビニルエーテル、n−
ブチルビニルエーテル等)、ビニルエステル類(酢酸ビ
ニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等)、アクリ
ルアミド類(N−tertブチルアクリルアミド、N−
シクロヘキシルアクリルアミド等)、メタクリルアミド
類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。
このうちビニルエーテル類が好ましい。
Vinyl monomers other than those described above can also be used as copolymer monomers. Such monomers include, for example, olefins (ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc.), acrylates (methyl acrylate, ethyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate), methacrylates (methyl methacrylate) , Ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, etc.), styrene derivatives (styrene, divinyl benzene, vinyl toluene, α-methyl styrene, etc.), vinyl ethers (methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, n-propyl vinyl ether, n-
Butyl vinyl ether, etc.), vinyl esters (vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate, etc.), acrylamides (N-tertbutylacrylamide, N-
Cyclohexyl acrylamide), methacrylamides, acrylonitrile derivatives and the like.
Of these, vinyl ethers are preferred.

【0034】本発明における上記モノマーの混合比とし
ては含フッ素モノマーが20乃至80%、官能基含有モ
ノマーが0乃至30%、それ以外のモノマーが0乃至7
0%が好ましくい。モノマー混合物は普通のラジカル重
合により重合させることができる。
In the present invention, the mixing ratio of the above monomers is 20 to 80% for the fluorine-containing monomer, 0 to 30% for the functional group-containing monomer, and 0 to 7% for the other monomers.
0% is preferred. The monomer mixture can be polymerized by ordinary radical polymerization.

【0035】本発明の低屈折率層に用いられる光によっ
て反応促進剤を発生する化合物としては、特に限定され
ないが、光酸発生剤あるいは光塩基発生剤が好ましく、
いずれもゾルゲル成分の縮合反応を促進することができ
る。具体的には、光酸発生剤としては、ベンゾイントシ
レート、トリ(ニトロベンジル)ホスフェート、ジアリ
ールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩な
ど、光塩基発生剤としては、ニトロベンジルシクロヘキ
シルカルバメート、ジ(メトキシベンジル)ヘキサメチ
レンジカルバメートなどを挙げることができる。このう
ち光酸発生剤が好ましく、具体的にはトリアリールスル
ホニウム塩、ジアリールヨードニウム塩、が好ましい。
これらの化合物と併用して増感色素も好ましく用いるこ
とができる。本発明の光によって反応促進剤を発生する
化合物の添加量としては、低屈折率層塗布液全固形分に
対して0.1乃至15%が好ましく、より好ましくは
0.5乃至5%である。
The compound used in the low refractive index layer of the present invention to generate a reaction accelerator by light is not particularly limited, but a photoacid generator or a photobase generator is preferable.
In any case, the condensation reaction of the sol-gel component can be promoted. Specifically, benzoin tosylate, tri (nitrobenzyl) phosphate, diaryliodonium salt, triarylsulfonium salt, etc. are used as the photoacid generator, and nitrobenzylcyclohexylcarbamate, di (methoxybenzyl) are used as the photobase generator. Hexamethylene dicarbamate and the like can be mentioned. Of these, photoacid generators are preferred, and specifically, triarylsulfonium salts and diaryliodonium salts are preferred.
Sensitizing dyes can also be preferably used in combination with these compounds. The addition amount of the compound that generates a reaction accelerator by light according to the present invention is preferably 0.1 to 15%, more preferably 0.5 to 5%, based on the total solid content of the coating solution for the low refractive index layer. .

【0036】本発明の低屈折率層のゾルゲル成分と含フ
ッ素ポリマー成分は硬化後には共有結合でつながってい
ることが膜強度および透明性の点で好ましい。このよう
な目的のため、塗布液の状態で既に含フッ素ポリマーの
官能基をアルコキシシリル基に変性することも好ましく
行われる。変性の方法としては、含フッ素ポリマーの官
能基と反応可能な官能基を有するオルガノシランを予め
反応させればよい。本発明の低屈折率層の膜厚は好まし
くは0.05乃至0.2μm、より好ましくは0.08
乃至0.12μmである。
The sol-gel component and the fluoropolymer component of the low refractive index layer of the present invention are preferably connected by a covalent bond after curing, from the viewpoint of film strength and transparency. For this purpose, it is also preferable to modify the functional group of the fluoropolymer into an alkoxysilyl group in the state of a coating solution. As a modification method, an organosilane having a functional group capable of reacting with the functional group of the fluoropolymer may be reacted in advance. The thickness of the low refractive index layer of the present invention is preferably 0.05 to 0.2 μm, more preferably 0.08 to 0.28 μm.
To 0.12 μm.

【0037】本発明の透明支持体としては、プラスチッ
クフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィ
ルムを形成するポリマーとしては、セルロースエステル
(例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロー
ス)、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル
(例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート)、ポリスチレン、ポリオレフィン、アート
ン、ゼオネックスなどが挙げられる。このうちトリアセ
チルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレンナフタレート、アートン、ゼオネックスが好まし
い。本発明の反射防止フィルムを液晶表示装置に用いる
場合、片面に粘着層を設ける等してディスプレイの最表
面に配置する。該透明支持体がトリアセチルセルロース
の場合は偏光板の偏光層を保護する保護フィルムとして
トリアセチルセルロースが用いられるため、本発明の反
射防止フィルムをそのまま保護フィルムに用いることが
コストの上では好ましい。支持体の厚みは、特に限定さ
れないが、50〜150μmが好ましく、70〜120
μmがより好ましい。
It is preferable to use a plastic film as the transparent support of the present invention. Examples of the polymer forming the plastic film include cellulose ester (eg, triacetyl cellulose, diacetyl cellulose), polyamide, polycarbonate, polyester (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate), polystyrene, polyolefin, ARTON, ZEONEX and the like. Of these, triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, ARTON and ZEONEX are preferred. When the antireflection film of the present invention is used for a liquid crystal display device, it is disposed on the outermost surface of the display by providing an adhesive layer on one side. When the transparent support is triacetyl cellulose, triacetyl cellulose is used as a protective film for protecting the polarizing layer of the polarizing plate. Therefore, it is preferable in terms of cost to use the antireflection film of the present invention as it is as the protective film. The thickness of the support is not particularly limited, but is preferably 50 to 150 μm, and 70 to 120 μm.
μm is more preferred.

【0038】透明支持体としては、トリアセチルセルロ
ースを溶剤に溶解することで調整されたトリアセチルセ
ルロースドープを単層流延、複数層共流延若しくは複数
層逐次流延の何れかの流延方法により流延することによ
り作製されたトリアセチルセルースフィルムを用いるこ
とが好ましい。特に、環境保全の観点から、トリアセチ
ルセルロースを冷却溶解法あるいは高温溶解法によって
ジクロロメタンを実質的に含まない溶剤に溶解すること
で調整されたトリアセチルセルロースドープを用いて作
製されたトリアセチルセルースフィルムが好ましい。
As the transparent support, a triacetylcellulose dope prepared by dissolving triacetylcellulose in a solvent is subjected to any one of a single-layer casting method, a multi-layer co-casting method and a multi-layer sequential casting method. It is preferable to use a triacetylcellulose film produced by casting. In particular, from the viewpoint of environmental conservation, triacetyl cellulose prepared using a triacetyl cellulose dope prepared by dissolving triacetyl cellulose in a solvent substantially free of dichloromethane by a cooling dissolution method or a high-temperature dissolution method. Films are preferred.

【0039】トリアセチルセルロースの単層流延は、特
開平7−11055等で開示されているドラム流延、あ
るいはバンド流延等があげられ、複数の層からなるトリ
アセチルセルロースの共流延は、特開昭61−9472
5、特公昭62−43846等で開示されている。逐次
流延は、単層流延を繰り返すことで行われる。それぞれ
の流延は、原料フレークをハロゲン化炭化水素類(ジク
ロロメタン等、アルコール類(メタノール、エタノー
ル、ブタノール等)、エステル類(蟻酸メチル、酢酸メ
チル)、エーテル類(ジオキサン、ジオキソラン、ジエ
チルエーテル等)等の溶剤にて溶解し、これに必要に応
じて可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、滑り剤、剥離
促進剤等の各種の添加剤を加えた溶液(ドープと称す
る)を、水平式のエンドレスの金属ベルトまたは回転す
るドラムからなる支持体の上に、ドープ供給手段(ダイ
と称する)により流延する際、単層ならば単一のドープ
を単層流延し、複数の層ならば高濃度のセルロースエス
テルドープの両側に低濃度ドープを共流延し、支持体上
である程度乾燥して剛性が付与されたフィルムを支持体
から剥離し、次いで各種の搬送手段により乾燥部を通過
させて溶剤を除去することからなる方法である。
Examples of the monolayer casting of triacetyl cellulose include drum casting and band casting disclosed in JP-A-7-11055 and the like. Co-casting of triacetyl cellulose comprising a plurality of layers is available. JP-A-61-9472
5, and JP-B-62-43846. Sequential casting is performed by repeating single layer casting. In each casting, the raw material flakes are formed from halogenated hydrocarbons (dichloromethane, etc., alcohols (methanol, ethanol, butanol, etc.), esters (methyl formate, methyl acetate), ethers (dioxane, dioxolan, diethyl ether, etc.). And a solution (called a dope) to which various additives such as a plasticizer, an ultraviolet absorber, a deterioration inhibitor, a slipping agent, and a peeling accelerator are added if necessary. When casting on a support consisting of an endless metal belt or a rotating drum by a dope supplying means (referred to as a die), a single layer is cast with a single dope, and a single layer is cast with a dope. If co-casting a low concentration dope on both sides of a high concentration cellulose ester dope, peeling the rigidity-imparted film dried to some extent on the support, Ide passed through a drying section by a variety of transport means is a method comprising removing the solvent.

【0040】上記のような、トリアセチルセルロースを
溶解するための溶剤としては、ジクロロメタンが代表的
である。しかしながら、技術的には、ジクロロメタンの
ようなハロゲン化炭化水素は問題なく使用できるが、ジ
クロロメタンを実質的に含む溶剤に溶解することで調整
されたトリアセチルセルロースドープを単層流延法によ
って製造すると、その製造過程でジクロロメタンが大気
中に放出されるため、環境保全や作業環境の観点から、
ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含ま
ないことが好ましい。「実質的に含まない」とは、有機
溶剤中のハロゲン化炭化水素の割合が5質量%未満(好
ましくは2質量%未満)であることを意味する。共流延
法の場合には、ジクロロメタンを実質的に含む溶剤を用
いたドープを複数層共流延法によって流延しても、外側
の流延層と比較してトリアセチルセルロース濃度の高い
ドープを内側の流延層に用いることができるため、結果
として大気中に放出されるジクロロメタンの量が減少で
きる。また、流延速度も高くすることが可能であり、生
産性にも優れる。勿論、共流延法の場合であってもジク
ロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まない
ことが好ましい。ジクロロメタン等を実質的に含まない
溶剤を用いてトリアセチルセルロースのドープを調整す
る場合には、後述するような特殊な溶解法が必須とな
る。
As a solvent for dissolving triacetyl cellulose as described above, dichloromethane is typical. However, technically, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane can be used without any problem.However, when a triacetyl cellulose dope prepared by dissolving in a solvent substantially containing dichloromethane is produced by a monolayer casting method. , Since dichloromethane is released into the atmosphere during the manufacturing process, from the viewpoint of environmental protection and working environment,
It is preferable that halogenated hydrocarbons such as dichloromethane are not substantially contained. “Substantially free” means that the proportion of halogenated hydrocarbon in the organic solvent is less than 5% by mass (preferably less than 2% by mass). In the case of the co-casting method, even if a dope using a solvent containing substantially dichloromethane is cast by a multi-layer co-casting method, a dope having a higher triacetyl cellulose concentration than the outer casting layer is obtained. Can be used for the inner casting layer, thereby reducing the amount of dichloromethane released into the atmosphere. Further, the casting speed can be increased, and the productivity is excellent. Of course, even in the case of the co-casting method, it is preferable that halogenated hydrocarbons such as dichloromethane are not substantially contained. When adjusting the dope of triacetylcellulose using a solvent that does not substantially contain dichloromethane or the like, a special dissolution method as described below is essential.

【0041】第一の溶解法は、冷却溶解法と称され、以
下に説明する。まず室温近辺の温度(−10〜40℃)
で溶剤中にトリアセチルセルロースを撹拌しながら徐々
に添加する。次に、混合物は−100〜−10℃(好ま
しくは−80〜−10℃、さらに好ましくは−50〜−
20℃、最も好ましくは−50〜−30℃)に冷却す
る。冷却は、例えば、ドライアイ・メタノール浴(−7
5℃)や冷却したジエチレングリコール溶液(−30〜
−20℃)中で行うことができる。このように冷却する
と、トリアセチルセルロースと溶剤の混合物は固化す
る。さらに、これを0〜200℃(好ましくは0〜15
0℃、さらに好ましくは0〜120℃、最も好ましくは
0〜50℃)に加温すると、溶剤中にトリアセチルセル
ロースが流動する溶液となる。昇温は、室温中に放置す
るだけでもよし、温浴中で加温してもよい。
The first melting method is called a cooling melting method and will be described below. First, the temperature around room temperature (-10 to 40 ° C)
And gradually add triacetyl cellulose to the solvent with stirring. Next, the mixture is -100 to -10C (preferably -80 to -10C, more preferably -50 to-
(20 ° C., most preferably −50 to −30 ° C.). Cooling is performed, for example, in a dry eye / methanol bath (−7).
5 ° C) or a cooled diethylene glycol solution (-30 to
-20 ° C). Upon such cooling, the mixture of triacetyl cellulose and the solvent solidifies. Further, the temperature is raised to 0 to 200 ° C (preferably 0 to 15 ° C).
Heating to 0 ° C., more preferably 0 to 120 ° C., and most preferably 0 to 50 ° C.) results in a solution in which triacetyl cellulose flows in the solvent. The temperature may be raised only by leaving it at room temperature or may be heated in a warm bath.

【0042】第二の方法は、高温溶解法と称され、以下
に説明する。まず室温近辺の温度(−10〜40℃)で
溶剤中にトリアセチルセルロースを撹拌しながら徐々に
添加する。トリアセチルセルロースは、各種溶剤を含有
する混合溶剤中に添加し予め膨潤させておくことが好ま
しい。本法において、トリアセチルセルロースの溶解濃
度は30質量%以下が好ましいが、フィルム製膜時の乾
燥効率の点から、なるべく高濃度であることが好まし
い。次にトリアセチルセルロースを溶解している有機溶
剤混合液を、0.2MPa〜30MPaの加圧下で70
〜240℃、好ましくは80〜220℃、更に好ましく
100〜200℃、最も好ましくは100〜190℃に
加熱し、次にこれらの加熱溶液はそのままでは塗布でき
ないため、使用された溶剤の最も低い沸点以下に冷却す
る。その場合、−10〜50℃に冷却して常圧に戻すこ
とが一般的である。冷却は、トリアセチルセルロース溶
液が内蔵されている高圧高温容器やラインを、室温に放
置するだけでもよく、更に好ましくは冷却水などの冷媒
を用いて該装置を冷却してもよい。
The second method is called a high-temperature melting method and will be described below. First, triacetyl cellulose is gradually added to a solvent at a temperature around room temperature (−10 to 40 ° C.) with stirring. The triacetyl cellulose is preferably added to a mixed solvent containing various solvents and swelled in advance. In the present method, the dissolution concentration of triacetyl cellulose is preferably 30% by mass or less, but from the viewpoint of drying efficiency during film formation, the concentration is preferably as high as possible. Next, the mixed solution of the organic solvent in which triacetyl cellulose is dissolved is mixed under pressure of 0.2 MPa to 30 MPa.
-240 ° C, preferably 80-220 ° C, more preferably 100-200 ° C, most preferably 100-190 ° C, then these heated solutions cannot be applied as such, so the lowest boiling point of the solvent used Cool below. In that case, it is common to cool to −10 to 50 ° C. and return to normal pressure. For cooling, the high-pressure high-temperature vessel or line in which the triacetylcellulose solution is incorporated may be simply left at room temperature, and more preferably, the apparatus may be cooled using a cooling medium such as cooling water.

【0043】反射防止フィルムの各層は、ディップコー
ト法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ロー
ラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート
法やエクストルージョンコート法(米国特許26812
94号明細書)により、塗布により形成することができ
る。二以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方
法については、米国特許2761791号、同2941
898号、同3508947号、同3526528号の
各明細書および原崎勇次著、コーティング工学、253
頁、朝倉書店(1973)に記載がある。
Each layer of the antireflection film is formed by a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method or an extrusion coating method (US Pat. No. 26812).
No. 94) can be formed by coating. Two or more layers may be applied simultaneously. The method of simultaneous coating is described in U.S. Pat.
Nos. 898, 3508947 and 3526528, and Yuji Harazaki, Coating Engineering, 253
Page, Asakura Shoten (1973).

【0044】本発明の偏光板は、偏光層の2枚の保護フ
ィルムのうち少なくとも1枚に上記反射防止フィルムを
用いてなる。本発明の反射防止フィルムを最表層に使用
することにより、外光の映り込み等が防止され、耐傷
性、防汚性等も優れた偏光板とすることができる。ま
た、本発明の偏光板において反射防止フィルムが保護フ
ィルムを兼ねることで、製造コストを低減できる。
The polarizing plate of the present invention comprises the above-mentioned antireflection film for at least one of the two protective films of the polarizing layer. By using the antireflection film of the present invention as the outermost layer, reflection of external light and the like can be prevented, and a polarizing plate having excellent scratch resistance, stain resistance, and the like can be obtained. Further, in the polarizing plate of the present invention, since the antireflection film also functions as the protective film, the production cost can be reduced.

【0045】反射防止フィルムは、液晶表示装置(LC
D)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレク
トロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管表
示装置(CRT)のような画像表示装置に適用する。反
射防止膜が透明支持体を有する場合は、透明支持体側を
画像表示装置の画像表示面に接着する。
The antireflection film is made of a liquid crystal display (LC
D), an image display device such as a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), and a cathode ray tube display (CRT). When the antireflection film has a transparent support, the transparent support side is adhered to the image display surface of the image display device.

【0046】[0046]

【実施例】以下に実施例に基づき本発明についてさらに
詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。
The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, but it should not be construed that the invention is limited thereto.

【0047】(防眩性ハードコート層用塗布液Aの調
製)ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DP
HA、日本化薬(株)製)250gをメチルエチルケト
ン/シクロヘキサノン=50/50%の混合溶媒439
gに溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤(イルガ
キュア907、チバガイギー社製)7.5gおよび光増
感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)5.
0gを49gのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加
えた。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の
屈折率は1.53であった。さらにこの溶液に平均粒径
3μmの不定形シリカ粒子(商品名:ミズカシルP−5
26、水澤化学工業(株)製)10gを添加して、高速
ディスパにて5000rpmで1時間攪拌、分散した
後、孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過
して防眩性ハードコート層の塗布液を調製した。
(Preparation of Coating Solution A for Antiglare Hard Coat Layer) A mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DP
HA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 250 g of a mixed solvent of methyl ethyl ketone / cyclohexanone = 50/50% 439
g. 4. 7.5 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and a photosensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
A solution of 0 g in 49 g of methyl ethyl ketone was added. The refractive index of the coating film obtained by applying this solution and curing with ultraviolet light was 1.53. Further, to this solution, amorphous silica particles having an average particle diameter of 3 μm (trade name: Mizukasil P-5)
26, manufactured by Mizusawa Chemical Industry Co., Ltd.), stirred and dispersed at 5,000 rpm for 1 hour with a high-speed disperser, and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 30 μm to obtain a coating solution for the antiglare hard coat layer. Prepared.

【0048】(防眩性ハードコート層用塗布液Bの調
製)ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DP
HA、日本化薬(株)製)125g、ビス(4−メタク
リロイルチオフェニル)スルフィド(MPSMA、住友
精化(株)製)125gを、439gのメチルエチルケ
トン/シクロヘキサノン=50/50%の混合溶媒に溶
解した。得られた溶液に、光重合開始剤(イルガキュア
907、チバガイギー社製)5.0gおよび光増感剤
(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)3.0g
を49gのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加え
た。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈
折率は1.60であった。さらにこの溶液に平均粒径2
μmの架橋ポリスチレン粒子(商品名:SX−200
H、綜研化学(株)製)10gを添加して、高速ディス
パにて5000rpmで1時間攪拌、分散した後、孔径
30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩
性ハードコート層の塗布液を調製した。
(Preparation of Coating Solution B for Antiglare Hard Coat Layer) A mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DP
125 g of HA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and 125 g of bis (4-methacryloylthiophenyl) sulfide (MPSMA, manufactured by Sumitomo Seika Co., Ltd.) are dissolved in 439 g of a mixed solvent of methyl ethyl ketone / cyclohexanone = 50/50%. did. To the resulting solution, 5.0 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and 3.0 g of a photosensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
Was dissolved in 49 g of methyl ethyl ketone. The refractive index of the coating film obtained by applying this solution and curing with ultraviolet light was 1.60. In addition, the average particle size
μm crosslinked polystyrene particles (trade name: SX-200)
H, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.), stirred and dispersed at 5000 rpm for 1 hour with a high-speed disperser, and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 30 μm to prepare a coating solution for an antiglare hard coat layer. did.

【0049】(防眩性ハードコート層用塗布液Cの調
製)シクロヘキサノン104.1g、メチルエチルケト
ン61.3gの混合溶媒に、エアディスパで攪拌しなが
ら酸化ジルコニウム分散物含有ハードコート塗布液(K
Z−7991、JSR(株)製)217.0g、を添加
した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の
屈折率は1.70であった。さらにこの溶液に平均粒径
2μmの架橋ポリスチレン粒子(商品名:SX−200
H、綜研化学(株)製)5gを添加して、高速ディスパ
にて5000rpmで1時間攪拌、分散した後、孔径3
0μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性
ハードコート層の塗布液を調製した。
(Preparation of Coating Solution C for Antiglare Hard Coat Layer) A hard coat coating solution containing a zirconium oxide dispersion (K) was stirred in a mixed solvent of 104.1 g of cyclohexanone and 61.3 g of methyl ethyl ketone with an air disper.
217.9 g of Z-7991 (manufactured by JSR Corporation) was added. The coating film obtained by applying this solution and curing with ultraviolet light had a refractive index of 1.70. Further, crosslinked polystyrene particles having an average particle size of 2 μm (trade name: SX-200) were added to this solution.
H, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.), and the mixture was stirred and dispersed at 5000 rpm for 1 hour with a high-speed disperser.
The solution was filtered through a 0 μm polypropylene filter to prepare a coating solution for an antiglare hard coat layer.

【0050】(防眩性ハードコート層用塗布液Dの調
製)シクロヘキサノン32.2gに、エアディスパで攪
拌しながら酸化ジルコニウム分散物含有ハードコート塗
布液(KZ−7118、JSR(株)製)303.3
g、およびジペンタエリスリトールペンタアクリレート
とジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物
(DPHA、日本化薬(株)製)123.4g、を添加
した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の
屈折率は1.61であった。さらにこの溶液に平均粒径
2μmの架橋ポリスチレン粒子(商品名:SX−200
H、綜研化学(株)製)8.2gを添加して、高速ディ
スパにて5000rpmで1時間攪拌、分散した後、孔
径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して防
眩性ハードコート層の塗布液を調製した。
(Preparation of Coating Solution D for Antiglare Hard Coat Layer) A hard coat coating solution containing a zirconium oxide dispersion (KZ-7118, manufactured by JSR Corporation) was added to 32.2 g of cyclohexanone while stirring with an air disper. 3
g, and 123.4 g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.). The refractive index of the coating film obtained by applying this solution and curing with ultraviolet light was 1.61. Further, crosslinked polystyrene particles having an average particle size of 2 μm (trade name: SX-200) were added to this solution.
H, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.), stirred and dispersed at 5,000 rpm for 1 hour with a high-speed disperser, and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 30 μm, followed by coating with an antiglare hard coat layer. Was prepared.

【0051】(ハードコート層用塗布液Eの調製)ジペ
ンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日
本化薬(株)製)250gを、439gのメチルエチル
ケトン/シクロヘキサノン=50/50%の混合溶媒に
溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤(イルガキュ
ア907、チバガイギー社製)7.5gおよび光増感剤
(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)5.0g
を49gのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加え
た。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈
折率は1.53であった。さらにこの溶液を孔径30μ
mのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコー
ト層の塗布液を調製した。
(Preparation of Coating Solution E for Hard Coat Layer) 250 g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was mixed with 439 g of methyl ethyl ketone / cyclohexanone = 50/50. % Of the mixed solvent. 7.5 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and 5.0 g of a photosensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) are added to the obtained solution.
Was dissolved in 49 g of methyl ethyl ketone. The refractive index of the coating film obtained by applying this solution and curing with ultraviolet light was 1.53. Further, the solution was added with a pore size of
Then, the mixture was filtered through a polypropylene filter of m to prepare a coating solution for a hard coat layer.

【0052】(低屈折率層用塗布液Aの調製)屈折率
1.41の含フッ素ポリマーおよび光によって反応促進
剤を発生する化合物を含有する光硬化性ゾルゲル化合物
(オプスターTM501A、固形分濃度15%、JSR
(株)製)28gにメチルイソブチルケトン72gを添
加、攪拌の後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルタ
ーでろ過して、低屈折率層用塗布液を調製した。
(Preparation of Coating Solution A for Low Refractive Index Layer) A photocurable sol-gel compound containing a fluorine-containing polymer having a refractive index of 1.41 and a compound capable of generating a reaction accelerator by light (Opster TM501A, solid content: 15%) %, JSR
After adding 72 g of methyl isobutyl ketone to 28 g and stirring, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a coating solution for a low refractive index layer.

【0053】(低屈折率層用塗布液Bの調製)屈折率
1.43の含フッ素ポリマーおよび光によって反応促進
剤を発生する化合物を含有する光硬化性ゾルゲル化合物
(オプスターTM505、固形分濃度15%、JSR
(株)製)28gにメチルイソブチルケトン72gを添
加、攪拌の後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルタ
ーでろ過して、低屈折率層用塗布液を調製した。
(Preparation of Coating Solution B for Low Refractive Index Layer) A photocurable sol-gel compound containing a fluorine-containing polymer having a refractive index of 1.43 and a compound capable of generating a reaction accelerator by light (Opster TM505, solid content of 15%) %, JSR
After adding 72 g of methyl isobutyl ketone to 28 g and stirring, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a coating solution for a low refractive index layer.

【0054】(低屈折率層用塗布液Cの調製)屈折率
1.40の熱架橋性含フッ素ポリマー(JN−722
3、固形分濃度6%、JSR(株)製)28gにメチル
イソブチルケトンを12g添加、攪拌の後、孔径1μm
のポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層
用塗布液を調製した。
(Preparation of Coating Solution C for Low Refractive Index Layer) A thermally crosslinkable fluoropolymer having a refractive index of 1.40 (JN-722)
3, 12 g of methyl isobutyl ketone was added to 28 g of a solid content concentration of 6% (manufactured by JSR Corporation), and after stirring, the pore size was 1 μm.
To prepare a coating solution for a low refractive index layer.

【0055】(低屈折率層用塗布液Dの調製)屈折率
1.45のテトラエトキシシラン/メチルトリメトキシ
シラン/γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
=40/40/20%の加水分解部分縮合物(固形分濃
度15%)28gに光酸発生剤(サイラキュアUVI−
6990、固形分50%)0.084gとメチルイソブ
チルケトン72gを添加、攪拌の後、孔径1μmのポリ
プロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布
液を調製した。
(Preparation of Coating Solution D for Low Refractive Index Layer) Tetraethoxysilane / methyltrimethoxysilane / γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane having a refractive index of 1.45 = 40/40/20% hydrolyzed portion 28 g of the condensate (solid content 15%) was added to a photoacid generator (Siracure UVI-
(6990, solid content 50%) 0.084 g and methyl isobutyl ketone 72 g were added, and after stirring, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a coating solution for a low refractive index layer.

【0056】(低屈折率層用塗布液Eの調製)屈折率
1.45のテトラエトキシシラン/メチルトリメトキシ
シラン/γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
=40/40/20%の加水分解部分縮合物(固形分濃
度15%)25.2gに熱架橋性含フッ素ポリマー(J
N−7223、固形分濃度6%、JSR(株)製)7g
と光酸発生剤(サイラキュアUVI−6990、固形分
50%)0.084gとメチルイソブチルケトン67.
8gを添加、攪拌の後、孔径1μmのポリプロピレン製
フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液を調製し
た。
(Preparation of Coating Solution E for Low Refractive Index Layer) Tetraethoxysilane / methyltrimethoxysilane / γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane having a refractive index of 1.45 = 40/40/20% hydrolyzed portion 25.2 g of a condensate (solid content 15%) was added to a thermally crosslinkable fluoropolymer (J
N-7223, solid content concentration 6%, 7 g, manufactured by JSR Corporation)
And 0.084 g of a photoacid generator (Siracure UVI-6990, solid content 50%) and methyl isobutyl ketone 67.
After adding 8 g and stirring, the mixture was filtered with a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a coating solution for a low refractive index layer.

【0057】[実施例1]80μmの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム(TAC−TD80U、富士写真
フイルム(株)製)に、上記の防眩性ハードコート層用
塗布液Aをバーコーターを用いて塗布し、120℃で乾
燥の後、160W/cmの空冷メタルハライドランプ
(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400
mW/cm2、照射量300mJ/cm2の紫外線を照射
して塗布層を硬化させ、厚さ6μmの防眩性ハードコー
ト層を形成した。ハードコート層膜厚の2分の1である
3μmより大きい粒径のシリカ粒子は約50%である。
その上に、上記低屈折率層用塗布液Aをバーコーターを
用いて塗布し、60℃で乾燥の後、照度400mW/c
2、照射量300mJ/cm2の紫外線を照射して塗布
層を硬化させた後、さらに120℃で8分間加熱し、厚
さ0.096μmの低屈折率層を形成した。
Example 1 An antiglare hard coat layer coating solution A was coated on a triacetyl cellulose film (TAC-TD80U, Fuji Photo Film Co., Ltd.) having a thickness of 80 μm using a bar coater. After applying and drying at 120 ° C., an illuminance of 400 W / cm was applied using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) of 160 W / cm.
The coating layer was cured by irradiating an ultraviolet ray having an irradiation amount of 300 mJ / cm 2 with an irradiation amount of 300 mJ / cm 2 to form an antiglare hard coat layer having a thickness of 6 μm. About 50% of the silica particles have a particle size larger than 3 μm, which is one half of the thickness of the hard coat layer.
The coating solution A for a low refractive index layer was coated thereon using a bar coater, dried at 60 ° C., and then irradiated with an illuminance of 400 mW / c.
The coating layer was cured by irradiating ultraviolet rays having an irradiation amount of 300 mJ / cm 2 at m 2 and then heated at 120 ° C. for 8 minutes to form a low refractive index layer having a thickness of 0.096 μm.

【0058】[実施例2]低屈折率層塗布液Aの替わり
に低屈折率塗布液Bを用いスピンコーターを用いて塗布
した以外は実施例1と同様にしてサンプルを作製した。
[Example 2] A sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid B of the low refractive index layer was used instead of the coating liquid A of the low refractive index layer, and coating was performed using a spin coater.

【0059】[比較例1]実施例1と同様に防眩性ハー
ドコート層を形成した。その上に低屈折率塗布液Cをバ
ーコーター用いて塗布し、80℃で乾燥の後、さらに1
20℃で10分間加熱し、厚さ0.096μmの低屈折
率層を形成し、比較用サンプルを作製した。
Comparative Example 1 An antiglare hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1. A low-refractive-index coating solution C was applied thereon using a bar coater, dried at 80 ° C., and further dried for 1 hour.
Heating was performed at 20 ° C. for 10 minutes to form a low-refractive-index layer having a thickness of 0.096 μm, thereby preparing a comparative sample.

【0060】[比較例2]低屈折率層塗布液Aの替わり
に低屈折率塗布液Dを用いた以外は実施例1と同様にし
て比較用サンプルを作製した。
Comparative Example 2 A comparative sample was prepared in the same manner as in Example 1, except that the low refractive index coating solution D was used instead of the low refractive index layer coating solution A.

【0061】[実施例3]80μmの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム(TAC−TD80U、富士写真
フイルム(株)製)に、ハードコート層用塗布液Eをバ
ーコーターを用いて塗布し、120℃で乾燥の後、16
0W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィ
ックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2
照射量300mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を
硬化させ、厚さ4μmのハードコート層を形成した。そ
の上に、防眩性ハードコート層用塗布液Bをバーコータ
ーを用いて塗布し、上記ハードコート層と同条件にて乾
燥、紫外線硬化して、厚さ約1.5μmのハードコート
層を形成した。その上に、上記低屈折率層用塗布液Aを
バーコーターを用いて塗布し、60℃で乾燥の後、照度
400mW/cm2、照射量300mJ/cm2の紫外線
を照射して塗布層を硬化させた後、さらに120℃で8
分間加熱し、厚さ0.096μmの低屈折率層を形成し
た。
Example 3 A coating solution E for a hard coat layer was applied to a 80 μm-thick triacetyl cellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) using a bar coater. After drying in 16
Using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) of 0 W / cm, illuminance 400 mW / cm 2 ,
The coating layer was cured by irradiating an ultraviolet ray having an irradiation amount of 300 mJ / cm 2 to form a hard coat layer having a thickness of 4 μm. An antiglare hard coat layer coating solution B was applied thereon using a bar coater, dried and cured under the same conditions as the hard coat layer to form a hard coat layer having a thickness of about 1.5 μm. Formed. The coating liquid A for a low refractive index layer was applied thereon using a bar coater, dried at 60 ° C., and irradiated with ultraviolet light having an illuminance of 400 mW / cm 2 and an irradiation amount of 300 mJ / cm 2 to form a coating layer. After curing, 8 hours at 120 ° C
The mixture was heated for minutes to form a low refractive index layer having a thickness of 0.096 μm.

【0062】[実施例4]防眩性ハードコート層用塗布
液Bの替わりに防眩性ハードコート層用塗布液Cを用い
た以外は実施例3と同様にしてサンプルを作製した。
Example 4 A sample was prepared in the same manner as in Example 3 except that coating liquid C for an antiglare hard coat layer was used instead of coating liquid B for an antiglare hard coat layer.

【0063】[実施例5]防眩性ハードコート層用塗布
液Bの替わりに防眩性ハードコート層用塗布液Dを用い
グラビアコーターを用いて塗布した以外は実施例3と同
様にしてサンプルを作成した。
Example 5 A sample was prepared in the same manner as in Example 3 except that a coating liquid D for an antiglare hard coat layer was used instead of the coating liquid B for an antiglare hard coat layer, and the coating was performed using a gravure coater. It was created.

【0064】[実施例6]低屈折率層用塗布液Aの替わ
りに低屈折率層用塗布液Bを用いた以外は実施例4と同
様にしてサンプルを作製した。
Example 6 A sample was prepared in the same manner as in Example 4 except that the coating liquid B for a low refractive index layer was used in place of the coating liquid A for a low refractive index layer.

【0065】[比較例3]実施例4と同様に防眩性ハー
ドコート層を形成した。その上に低屈折率層用塗布液C
をバーコーター用いて塗布し、80℃で乾燥の後、さら
に120℃で10分間加熱し、厚さ0.096μmの低
屈折率層を形成し、比較用サンプルを作製した。
Comparative Example 3 An antiglare hard coat layer was formed in the same manner as in Example 4. On top of that, a coating solution C for a low refractive index layer
Was applied using a bar coater, dried at 80 ° C., and further heated at 120 ° C. for 10 minutes to form a low refractive index layer having a thickness of 0.096 μm to prepare a comparative sample.

【0066】[比較例4]低屈折率層用塗布液Aの替わ
りに低屈折率層用塗布液Dを用いた以外は実施例4と同
様にして比較用サンプルを作製した。
Comparative Example 4 A comparative sample was prepared in the same manner as in Example 4 except that the low refractive index layer coating liquid D was used instead of the low refractive index layer coating liquid A.

【0067】[実施例7]80μmの厚さのトリアセチル
セルロースフィルム(TAC−TD80U、富士写真フ
イルム(株)製)に、ハードコート層用塗布液Eをバー
コーターを用いて塗布し、120℃で乾燥の後、160
W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィッ
クス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照
射量300mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬
化させ、厚さ4μmのハードコート層を形成した。その
上に、上記低屈折率層用塗布液Aをバーコーターを用い
て塗布し、60℃で乾燥の後、照度400mW/c
2、照射量300mJ/cm2の紫外線を照射して塗布
層を硬化させた後、さらに120℃で8分間加熱し、厚
さ0.096μmの低屈折率層を形成した。
Example 7 A coating solution E for a hard coat layer was coated on a triacetyl cellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) with a thickness of 80 μm using a bar coater. After drying in 160
Using a W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.), the coating layer is cured by irradiating ultraviolet rays with an illuminance of 400 mW / cm 2 and an irradiation amount of 300 mJ / cm 2 to form a hard coat having a thickness of 4 μm. A layer was formed. The coating solution A for a low refractive index layer was coated thereon using a bar coater, dried at 60 ° C., and then irradiated with an illuminance of 400 mW / c.
The coating layer was cured by irradiating ultraviolet rays having an irradiation amount of 300 mJ / cm 2 at m 2 and then heated at 120 ° C. for 8 minutes to form a low refractive index layer having a thickness of 0.096 μm.

【0068】(反射防止膜の評価)得られたフィルムに
ついて、以下の項目の評価を行った。 (1)平均反射率 分光光度計(日本分光(株)製)を用いて、380〜7
80nmの波長領域において、入射角5°における分光
反射率を測定した。結果には450〜650nmの平均
反射率を用いた。 (2)ヘイズ 得られたフィルムのヘイズをヘイズメーターMODEL
1001DP(日本電色工業(株)製)を用いて測定
した。
(Evaluation of Antireflection Film) The obtained film was evaluated for the following items. (1) Average reflectance 380-7 using a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation)
The spectral reflectance at an incident angle of 5 ° was measured in a wavelength region of 80 nm. The average reflectance of 450 to 650 nm was used for the results. (2) Haze The haze of the obtained film was measured using a haze meter MODEL.
It measured using 1001DP (made by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).

【0069】(3)鉛筆硬度評価 耐傷性の指標としてJIS K 5400に記載の鉛筆
硬度評価を行った。反射防止膜を温度25℃、湿度60
%RHで2時間調湿した後、JIS S 6006に規
定する3Hの試験用鉛筆を用いて、1kgの荷重にて n=5の評価において傷が全く認められない :○ n=5の評価において傷が1または2つ :△ n=5の評価において傷が3つ以上 :×
(3) Evaluation of Pencil Hardness Pencil hardness evaluation described in JIS K 5400 was performed as an index of scratch resistance. Antireflection film at a temperature of 25 ° C and a humidity of 60
% RH for 2 hours, using a 3H test pencil specified in JIS S 6006, with a load of 1 kg, and no scratches are observed in the evaluation of n = 5: ○ In the evaluation of n = 5 1 or 2 scratches: Δ 3 or more scratches in the evaluation of n = 5: ×

【0070】(4)接触角、指紋付着性評価 表面の耐汚染性の指標として、光学材料を温度25℃、
湿度60%RHで2時間調湿した後、水に対する接触角
を測定した。またこのサンプル表面に指紋を付着させて
から、それをクリーニングクロスで拭き取ったときの状
態を観察して、以下のように指紋付着性を評価した。 指紋が完全に拭き取れる :○ 指紋がやや見える :△ 指紋がほとんど拭き取れない :×
(4) Evaluation of Contact Angle and Fingerprint Adhesion As an index of surface contamination resistance, an optical material was heated at a temperature of 25 ° C.
After adjusting the humidity at 60% RH for 2 hours, the contact angle to water was measured. After attaching a fingerprint to the sample surface, the sample was wiped off with a cleaning cloth to observe the state, and the fingerprint adhesion was evaluated as follows. Fingerprints can be completely wiped off: ○ Fingerprints can be seen slightly: △ Fingerprints can hardly be wiped off: ×

【0071】(5)動摩擦係数測定 表面滑り性の指標として動摩擦係数にて評価した。動摩
擦係数は試料を25℃、相対湿度60%で2時間調湿し
た後、HEIDON−14動摩擦測定機により5mmφ
ステンレス鋼球、荷重100g、速度60cm/min
にて測定した値を用いた。
(5) Measurement of Dynamic Friction Coefficient The dynamic friction coefficient was evaluated as an index of the surface slip property. The coefficient of kinetic friction was adjusted at 25 ° C. and a relative humidity of 60% for 2 hours, and then 5 mmφ using a HEIDON-14 kinetic friction measuring instrument.
Stainless steel ball, load 100g, speed 60cm / min
The value measured in was used.

【0072】(6)防眩性評価 作製した防眩性フィルムにルーバーなしのむき出し蛍光
灯(8000cd/m2)を映し、その反射像のボケの
程度を以下の基準で評価した。 蛍光灯の輪郭が全くわからない :◎ 蛍光灯の輪郭がわずかにわかる :○ 蛍光灯はぼけているが、輪郭は識別できる :△ 蛍光灯がほとんどぼけない :×
(6) Evaluation of Antiglare Property A bare fluorescent lamp (8000 cd / m 2 ) without a louver was projected on the produced antiglare film, and the degree of blurring of the reflected image was evaluated according to the following criteria. The outline of the fluorescent lamp is not known at all: ◎ The outline of the fluorescent lamp is slightly recognized: ○ The fluorescent lamp is blurred, but the outline can be identified: △ The fluorescent lamp is hardly blurred: ×

【0073】(7)ギラツキ評価 作製した防眩性フィルムにルーバーありの蛍光灯拡散光
を映し、表面のギラツキを以下の基準で評価した。 ほとんどギラツキが見られない :○ わずかにギラツキがある :△ 目で識別できるサイズのギラツキがある :×
(7) Glare Evaluation A louver-equipped fluorescent lamp diffused light was projected on the produced antiglare film, and the glare on the surface was evaluated according to the following criteria. There is almost no glare: ○ There is slight glare: △ There is glare of a size that can be identified by eyes: ×

【0074】表1に実施例および比較例の結果を示す。
実施例1〜6はいずれも反射防止性能に優れ、鉛筆硬
度、指紋付着性、防眩性、ギラツキのような防眩性反射
防止フィルムに必要とする全ての性能は良好であった。
実施例7は、防眩層を有していないために防眩性はない
が、ヘイズがほとんどなく画像鮮明性に優れ、かつ、反
射防止性能に優れ、鉛筆硬度、指紋付着性のような反射
防止フィルムに必要とする全ての性能は良好であった。
比較例1、3は、低屈折率層にゾルゲル成分が存在しな
いため、鉛筆硬度が悪く、耐傷性が不足していた。比較
例2、4は、含フッ素ポリマー成分がないため、接触角
が低く、また指紋付着性も全くなく、防汚性が不足して
いた。
Table 1 shows the results of Examples and Comparative Examples.
All of Examples 1 to 6 were excellent in antireflection performance, and all properties required for an antiglare antireflection film such as pencil hardness, fingerprint adhesion, antiglare property, and glare were good.
Example 7 does not have an anti-glare property because it does not have an anti-glare layer, but has little haze, is excellent in image clarity, is excellent in antireflection performance, and has a reflection such as pencil hardness and fingerprint adhesion. All the performances required for the barrier film were good.
In Comparative Examples 1 and 3, since no sol-gel component was present in the low refractive index layer, the pencil hardness was poor and the scratch resistance was insufficient. In Comparative Examples 2 and 4, since there was no fluoropolymer component, the contact angle was low, there was no fingerprint adhesion, and the antifouling property was insufficient.

【0075】[0075]

【表1】 [Table 1]

【0076】次に、実施例1から6のフィルムを用いて
反射防止偏光板を作製した。この偏光板を用いて反射防
止層を最表層に配置した液晶表示装置を作製したとこ
ろ、外光の映り込みがないために優れたコントラストが
得られ、防眩性により反射像が目立たず優れた視認性を
有していた。また、実施例7のフィルムを用いて反射防
止偏光板を作製した。この偏光板を用いて同様に液晶表
示装置を作製したところ外光の映り込みがないために優
れたコントラストが得られ、優れた視認性を有してい
た。
Next, an antireflection polarizing plate was prepared using the films of Examples 1 to 6. When a liquid crystal display device in which an antireflection layer was disposed on the outermost layer using this polarizing plate was produced, an excellent contrast was obtained because there was no reflection of external light, and a reflection image was inconspicuous due to antiglare properties. It had visibility. Further, an antireflection polarizing plate was produced using the film of Example 7. When a liquid crystal display device was similarly manufactured using this polarizing plate, excellent contrast was obtained because of no reflection of external light, and excellent visibility was obtained.

【0077】<実施例8〜17および比較例5〜8で使
用する支持体の作製> (1)3層共流延トリアセチルセルロースフィルムAの
作製 (トリアセチルセルロースドープA1の調整)トリアセ
チルセルロース17.4質量部、トリフェニルフォスフ
ェート2.6質量部、ジクロロメタン66質量部、メタ
ノール5.8質量部、ノルマルブタノール8.2質量部
からなる原料を攪拌しながら混合して溶解し、トリアセ
チルセルロースドープAを調整した。
<Preparation of Supports Used in Examples 8 to 17 and Comparative Examples 5 to 8> (1) Preparation of Trilayer Co-cast Triacetyl Cellulose Film A (Preparation of Triacetyl Cellulose-Doped A1) Triacetyl Cellulose A raw material composed of 17.4 parts by mass, 2.6 parts by mass of triphenyl phosphate, 66 parts by mass of dichloromethane, 5.8 parts by mass of methanol, and 8.2 parts by mass of normal butanol was mixed and dissolved while stirring, and triacetyl was added. Cellulose dope A was prepared.

【0078】(トリアセチルセルロースドープA2の調
整)トリアセチルセルロース24質量部、トリフェニル
フォスフェート4質量部、ジクロロメタン66質量部、
メタノール6質量部からなる原料を攪拌しながら混合し
て溶解し、トリアセチルセルロースドープA2を調整し
た。
(Preparation of Triacetylcellulose Dope A2) Triacetylcellulose 24 parts by mass, triphenylphosphate 4 parts by mass, dichloromethane 66 parts by mass,
A raw material consisting of 6 parts by mass of methanol was mixed and dissolved with stirring to prepare triacetyl cellulose dope A2.

【0079】(3層共流延トリアセチルセルロースフィ
ルムAの作製)特開平11−254594号公報に従っ
て、3層共流延ダイを用い、ドープA2の両側にドープ
A1を共流延するように配置して金属ドラム上に同時に
吐出させて重層流延した後、流延膜をドラムから剥ぎ取
り、乾燥して、ドラム面側から10μm、60μm、1
0μmの3層共流延トリアセチルセルロースフィルムを
作製した。このフィルムには、各層間に明確な界面は形
成されていなかった。
(Preparation of tri-layer co-cast triacetyl cellulose film A) According to JP-A-11-254594, using a three-layer co-casting die, the dope A1 was arranged on both sides of the dope A2 so as to be co-cast. Then, the casting film was simultaneously discharged onto a metal drum to form a multilayer cast, and then the casting film was peeled off from the drum, dried, and then 10 μm, 60 μm, and 1 μm from the drum surface side.
A 0 μm three-layer co-cast triacetyl cellulose film was prepared. In this film, no clear interface was formed between the layers.

【0080】(2)低温溶解法によるトリアセチルセル
ロースフィルムBの作製 (トリアセチルセルロースドープBの調整)トリアセチ
ルセルロース20質量部、酢酸メチル48質量部、シク
ロヘキサノン20質量部、メタノール5質量部、エタノ
ール5質量部、トリフェニルフォスフェート/ビフェニ
ルジフェニルフォスフェート(1/2)2質量部、シリ
カ(粒径20nm)0.1質量部、2、4−ビス−(n
−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ
−tert−ブチルアニリノ)−1、3、5−トリアジ
ン0.2質量部を添加、攪拌して得られた不均一なゲル
状溶液を、−70℃にて6時間冷却した後、50℃に加
温し攪拌してドープBを調整した。
(2) Preparation of triacetyl cellulose film B by low-temperature dissolution method (Preparation of triacetyl cellulose dope B) 20 parts by weight of triacetyl cellulose, 48 parts by weight of methyl acetate, 20 parts by weight of cyclohexanone, 5 parts by weight of methanol, ethanol 5 parts by mass, 2 parts by mass of triphenyl phosphate / biphenyldiphenyl phosphate (1/2), 0.1 part by mass of silica (particle size: 20 nm), 2,4-bis- (n
(Octylthio) -6- (4-hydroxy-3,5-di-tert-butylanilino) -1,3,5-triazine (0.2 part by mass) was added thereto, and the mixture was stirred to obtain a heterogeneous gel-like solution. After cooling at −70 ° C. for 6 hours, the mixture was heated to 50 ° C. and stirred to prepare dope B.

【0081】(低温溶解法によるトリアセチルセルロー
スフィルムBの作製)特開平7−11055号に従い、
上記トリアセチルセルロースドープBを単層ドラム流延
し、厚み80μmのトリアセチルセルロースフィルムB
を作製した。
(Preparation of triacetyl cellulose film B by low-temperature dissolution method)
The above-mentioned triacetyl cellulose dope B was cast in a single-layer drum, and a 80 μm-thick triacetyl cellulose film B
Was prepared.

【0082】(3)高温溶解法によるトリアセチルセル
ロースフィルムCの作製 (トリアセチルセルロースドープCの調整)上記トリア
セチルセルロースドープBと同様にして得られた不均一
なゲル状溶液を、ステンレス製密閉容器にて1MPa、
180℃で5分間加熱した後、50℃の水浴中に容器ご
と投入し冷却し、トリアセチルセルロースドープCを調
整した。
(3) Preparation of Triacetyl Cellulose Film C by High-Temperature Dissolution Method (Preparation of Triacetyl Cellulose Dope C) A non-uniform gel-like solution obtained in the same manner as in the above triacetyl cellulose dope B was sealed with stainless steel. 1MPa in container,
After heating at 180 ° C. for 5 minutes, the whole container was put into a 50 ° C. water bath and cooled to prepare triacetyl cellulose dope C.

【0083】(高温溶解法によるトリアセチルセルロー
スフィルムCの作製)特開平7−11055号に従い、
上記トリアセチルセルロースドープCを単層ドラム流延
し、厚み80μmのトリアセチルセルロースフィルムC
を作製した。
(Preparation of Triacetyl Cellulose Film C by High Temperature Dissolution Method)
The above triacetyl cellulose dope C was cast in a single-layer drum, and the triacetyl cellulose film C having a thickness of 80 μm was cast.
Was prepared.

【0084】[実施例8]上記の3層共流延トリアセチ
ルセルロースフィルムAに、上記の防眩性ハードコート
層用塗布液Aをバーコーターを用いて塗布し、120℃
で乾燥の後、160W/cmの空冷メタルハライドラン
プ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度40
0mW/cm2、照射量300mJ/cm2の紫外線を照
射して塗布層を硬化させ、厚さ6μmの防眩性ハードコ
ート層を形成した。ハードコート層膜厚の2分の1であ
る3μmより大きい粒径のシリカ粒子は約50%であ
る。その上に、上記低屈折率層用塗布液Aをバーコータ
ーを用いて塗布し、60℃で乾燥の後、照度400mW
/cm2、照射量300mJ/cm2の紫外線を照射して
塗布層を硬化させた後、さらに120℃で8分間加熱
し、厚さ0.096μmの低屈折率層を形成した。
Example 8 The above-mentioned coating solution A for an antiglare hard coat layer was applied to the above three-layer co-cast triacetyl cellulose film A using a bar coater,
After drying with a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.), the illuminance was 40
The coating layer was cured by irradiating ultraviolet rays at 0 mW / cm 2 and an irradiation amount of 300 mJ / cm 2 to form an antiglare hard coat layer having a thickness of 6 μm. About 50% of the silica particles have a particle size larger than 3 μm, which is one half of the thickness of the hard coat layer. The coating liquid A for a low refractive index layer was coated thereon using a bar coater, dried at 60 ° C., and then irradiated with an illuminance of 400 mW.
/ Cm 2, after curing the coating layer by an irradiation dose of 300 mJ / cm 2, was heated further 8 minutes at 120 ° C., to form a low refractive index layer having a thickness of 0.096Myuemu.

【0085】[実施例9]低屈折率層塗布液Aの替わり
に低屈折率塗布液Bを用いスピンコーターを用いて塗布
した以外は実施例8と同様にしてサンプルを作製した。
Example 9 A sample was prepared in the same manner as in Example 8, except that the low refractive index layer coating solution B was used instead of the low refractive index layer coating solution A and the coating was performed using a spin coater.

【0086】[比較例5]実施例8と同様に防眩性ハー
ドコート層を形成した。その上に低屈折率塗布液Cをバ
ーコーター用いて塗布し、80℃で乾燥の後、さらに1
20℃で10分間加熱し、厚さ0.096μmの低屈折
率層を形成し、比較用サンプルを作製した。
Comparative Example 5 An antiglare hard coat layer was formed in the same manner as in Example 8. A low-refractive-index coating solution C was applied thereon using a bar coater, dried at 80 ° C., and further dried for 1 hour.
Heating was performed at 20 ° C. for 10 minutes to form a low-refractive-index layer having a thickness of 0.096 μm, thereby preparing a comparative sample.

【0087】[比較例6]低屈折率層塗布液Aの替わり
に低屈折率塗布液Dを用いた以外は実施例8と同様にし
て比較用サンプルを作製した。
Comparative Example 6 A comparative sample was prepared in the same manner as in Example 8, except that the low-refractive-index layer coating solution D was used instead of the low-refractive-index layer coating solution A.

【0088】[実施例10]上記の3層共流延トリアセ
チルセルロースフィルムAに、ハードコート層用塗布液
Eをバーコーターを用いて塗布し、120℃で乾燥の
後、160W/cm2の空冷メタルハライドランプ(ア
イグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW
/cm2、照射量300mJ/cm2の紫外線を照射して
塗布層を硬化させ、厚さ4μmのハードコート層を形成
した。その上に、防眩性ハードコート層用塗布液Bをバ
ーコーターを用いて塗布し、上記ハードコート層と同条
件にて乾燥、紫外線硬化して、厚さ約1.5μmのハー
ドコート層を形成した。その上に、上記低屈折率層用塗
布液Aをバーコーターを用いて塗布し、60℃で乾燥の
後、照度400mW/cm2、照射量300mJ/cm2
の紫外線を照射して塗布層を硬化させた後、さらに12
0℃で8分間加熱し、厚さ0.096μmの低屈折率層
を形成した。
Example 10 A hard coat layer coating solution E was applied to the above three-layer co-cast triacetyl cellulose film A using a bar coater, dried at 120 ° C., and dried at 160 W / cm 2 . Illuminance 400mW using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.)
/ Cm 2, and an irradiation dose of 300 mJ / cm 2 to cure the coating layer, to form a hard coat layer having a thickness of 4 [mu] m. An antiglare hard coat layer coating solution B was applied thereon using a bar coater, dried and cured under the same conditions as the hard coat layer to form a hard coat layer having a thickness of about 1.5 μm. Formed. The coating liquid A for a low refractive index layer was applied thereon using a bar coater, dried at 60 ° C., and then irradiated with an illuminance of 400 mW / cm 2 and an irradiation amount of 300 mJ / cm 2.
After the applied layer is cured by irradiating ultraviolet rays of
Heating was performed at 0 ° C. for 8 minutes to form a low refractive index layer having a thickness of 0.096 μm.

【0089】[実施例11]防眩性ハードコート層塗布
液Bの替わりに防眩性ハードコート層塗布液Cを用いた
以外は実施例10と同様にしてサンプルを作製した。
Example 11 A sample was prepared in the same manner as in Example 10, except that the antiglare hard coat layer coating solution C was used instead of the antiglare hard coat layer coating solution B.

【0090】[実施例12]防眩性ハードコート層塗布
液Bの替わりに防眩性ハードコート層塗布液Dを用いグ
ラビアコーターを用いて塗布した以外は実施例10と同
様にしてサンプルを作製した。
Example 12 A sample was prepared in the same manner as in Example 10 except that the anti-glare hard coat layer coating liquid D was used instead of the anti-glare hard coat layer coating liquid D and the coating was performed using a gravure coater. did.

【0091】[実施例13]低屈折率層塗布液Aの替わ
りに低屈折率塗布液Bを用いた以外は実施例11と同様
にしてサンプルを作製した。
Example 13 A sample was prepared in the same manner as in Example 11 except that the low-refractive-index layer coating solution B was used instead of the low-refractive-index layer coating solution A.

【0092】[実施例14]透明支持体を低温溶解法に
よるトリアセチルセルロースフィルムBに変更した以外
は実施例13と同様にしてサンプルを作製した。
Example 14 A sample was prepared in the same manner as in Example 13 except that the transparent support was changed to a triacetyl cellulose film B by a low-temperature dissolution method.

【0093】[実施例15]透明支持体を高温溶解法に
よるトリアセチルセルロースフィルムCに変更した以外
は実施例13と同様にしてサンプルを作製した。
Example 15 A sample was prepared in the same manner as in Example 13 except that the transparent support was changed to a triacetyl cellulose film C by a high-temperature dissolution method.

【0094】[比較例7]実施例11と同様に防眩性ハ
ードコート層を形成した。その上に低屈折率塗布液Cを
バーコーター用いて塗布し、80℃で乾燥の後、さらに
120℃で10分間加熱し、厚さ0.096μmの低屈
折率層を形成し、比較用サンプルを作製した。
Comparative Example 7 An antiglare hard coat layer was formed in the same manner as in Example 11. A low-refractive-index coating solution C was applied thereon using a bar coater, dried at 80 ° C., and further heated at 120 ° C. for 10 minutes to form a low-refractive-index layer having a thickness of 0.096 μm. Was prepared.

【0095】[比較例8]低屈折率層塗布液Aの替わり
に低屈折率塗布液Dを用いた以外は実施例11と同様に
して比較用サンプルを作製した。
Comparative Example 8 A comparative sample was prepared in the same manner as in Example 11, except that the low refractive index coating solution D was used instead of the low refractive index layer coating solution A.

【0096】[実施例16]上記の3層共流延トリアセチ
ルセルロースフィルムAに、ハードコート層用塗布液E
をバーコーターを用いて塗布し、120℃で乾燥の後、
160W/cm2の空冷メタルハライドランプ(アイグ
ラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/c
2、照射量300mJ/cm2の紫外線を照射して塗布
層を硬化させ、厚さ4μmのハードコート層を形成し
た。その上に、上記低屈折率層用塗布液Aをバーコータ
ーを用いて塗布し、60℃で乾燥の後、照度400mW
/cm2、照射量300mJ/cm2の紫外線を照射して
塗布層を硬化させた後、さらに120℃で8分間加熱
し、厚さ0.096μmの低屈折率層を形成した。
Example 16 A coating solution E for a hard coat layer was applied to the above three-layer co-cast triacetyl cellulose film A.
Is applied using a bar coater and dried at 120 ° C.
Illuminance of 400 mW / c using a 160 W / cm 2 air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.)
The coating layer was cured by irradiating ultraviolet rays having an irradiation amount of 300 mJ / cm 2 with m 2 , and a hard coat layer having a thickness of 4 μm was formed. The coating liquid A for a low refractive index layer was coated thereon using a bar coater, dried at 60 ° C., and then irradiated with an illuminance of 400 mW.
/ Cm 2, after curing the coating layer by an irradiation dose of 300 mJ / cm 2, was heated further 8 minutes at 120 ° C., to form a low refractive index layer having a thickness of 0.096Myuemu.

【0097】[実施例17]低屈折率層塗布液Aの替わ
りに低屈折率塗布液Eを用いた以外は実施例11と同様
にしてサンプルを作製した。
Example 17 A sample was prepared in the same manner as in Example 11 except that the low-refractive-index layer coating solution E was used instead of the low-refractive-index layer coating solution A.

【0098】実施例8〜17および比較例5〜8につい
て、前述の評価を同様に行った結果を表2に示した。
Table 2 shows the results of the same evaluation as described above for Examples 8 to 17 and Comparative Examples 5 to 8.

【0099】[0099]

【表2】 [Table 2]

【0100】実施例8〜15および17はいずれも反射
防止性能に優れ、鉛筆硬度、指紋付着性、防眩性、ギラ
ツキのような防眩性反射防止フィルムに必要とする全て
の性能は良好であった。実施例16は、防眩層を有して
いないために防眩性はないが、ヘイズがほとんどなく画
像鮮明性に優れ、かつ、反射防止性能に優れ、鉛筆硬
度、指紋付着性のような反射防止フィルムに必要とする
全ての性能は良好であった。比較例5、7は、低屈折率
層にゾルゲル成分が存在しないため、鉛筆硬度が悪く、
耐傷性が不足していた。比較例6、8は、含フッ素ポリ
マー成分がないため、接触角が低く、また指紋付着性も
全くなく、防汚性が不足していた。
Examples 8 to 15 and 17 are all excellent in antireflection performance, and all properties required for an antiglare antireflection film such as pencil hardness, fingerprint adhesion, antiglare property and glare are good. there were. Example 16 has no anti-glare property because it does not have an anti-glare layer, but has almost no haze, is excellent in image clarity, is excellent in anti-reflection performance, and has a reflection such as pencil hardness and fingerprint adhesion. All the performances required for the barrier film were good. Comparative Examples 5 and 7 had poor pencil hardness because no sol-gel component was present in the low refractive index layer.
The scratch resistance was insufficient. In Comparative Examples 6 and 8, since there was no fluoropolymer component, the contact angle was low, there was no fingerprint adhesion, and the antifouling property was insufficient.

【0101】次に、実施例8から15、17のフィルム
を用いて防眩性反射防止偏光板を作製した。この偏光板
を用いて反射防止層を最表層に配置した液晶表示装置を
作製したところ、外光の映り込みがないために優れたコ
ントラストが得られ、防眩性により反射像が目立たず優
れた視認性を有していた。また、実施例16のフィルム
を用いて反射防止偏光板を作製した。この偏光板を用い
て同様に液晶表示装置を作製したところ外光の映り込み
がないために優れたコントラストが得られ、優れた視認
性を有していた。
Next, antiglare antireflection polarizing plates were prepared using the films of Examples 8 to 15 and 17. When a liquid crystal display device in which an antireflection layer was disposed on the outermost layer using this polarizing plate was produced, an excellent contrast was obtained because there was no reflection of external light, and a reflection image was inconspicuous due to antiglare properties. It had visibility. Further, an antireflection polarizing plate was produced using the film of Example 16. When a liquid crystal display device was similarly manufactured using this polarizing plate, excellent contrast was obtained because of no reflection of external light, and excellent visibility was obtained.

【0102】[0102]

【発明の効果】本発明の反射防止フィルムは、反射防止
性能が高く、防汚性、耐傷性にも優れ、防眩性ハードコ
ート層及び低屈折率層の形成により低コストで製造する
ことができる。この反射防止フィルムを用いた偏光板及
び液晶表示装置は、外光の映り込みが十分に防止されて
いるうえ、防汚性、耐傷性も高いという優れた性質を有
する。
The antireflection film of the present invention has high antireflection performance, excellent antifouling property and scratch resistance, and can be manufactured at low cost by forming an antiglare hard coat layer and a low refractive index layer. it can. The polarizing plate and the liquid crystal display device using the antireflection film have excellent properties such that the reflection of external light is sufficiently prevented and the antifouling property and scratch resistance are high.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】反射防止フィルムの層構成を示す断面模式図で
ある。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing a layer configuration of an antireflection film.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 透明支持体 2 ハードコート層 3 防眩性ハードコート層 4 低屈折率層 5 粒子 REFERENCE SIGNS LIST 1 transparent support 2 hard coat layer 3 antiglare hard coat layer 4 low refractive index layer 5 particles

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08J 7/04 CFD C09D 5/00 Z C09D 5/00 7/12 7/12 127/12 127/12 183/00 183/00 C09K 3/00 U C09K 3/00 G02F 1/1335 G02F 1/1335 510 510 C08L 1:12 // C08L 1:12 67:02 67:02 G02B 1/10 A ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C08J 7/04 CFD C09D 5/00 Z C09D 5/00 7/12 7/12 127/12 127/12 183 / 00 183/00 C09K 3/00 U C09K 3/00 G02F 1/1335 G02F 1/1335 510 510 C08L 1:12 // C08L 1:12 67:02 67:02 G02B 1/10 A

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明支持体上に、オルガノシランの加水
分解物および/またはその部分縮合物、光によって反応
促進剤を発生する化合物および含フッ素ポリマーを含有
する屈折率1.35乃至1.49の低屈折率層を有する
反射防止フィルム。
1. A refractive index of 1.35 to 1.49 containing a hydrolyzate of organosilane and / or a partial condensate thereof, a compound generating a reaction accelerator by light, and a fluoropolymer on a transparent support. An antireflection film having a low refractive index layer.
【請求項2】 透明支持体上に、防眩性ハードコート層
および該防眩性ハードコート層上に屈折率1.35乃至
1.49の低屈折率層を有する光学フィルムにおいて、
該防眩性ハードコート層が平均粒径1.0乃至10.0
μmの微粒子を含有し、該低屈折率層がオルガノシラン
の加水分解物および/またはその部分縮合物、光によっ
て反応促進剤を発生する化合物および含フッ素ポリマー
を含有し、該光学フィルムのヘイズが3.0乃至20.
0%、450nmから650nmの平均反射率が1.8
%以下であることを特徴とする反射防止フィルム。
2. An optical film, comprising: an antiglare hard coat layer on a transparent support; and a low refractive index layer having a refractive index of 1.35 to 1.49 on the antiglare hard coat layer.
The hard-coating antiglare layer has an average particle size of 1.0 to 10.0.
The low refractive index layer contains a hydrolyzate of organosilane and / or a partial condensate thereof, a compound generating a reaction accelerator by light, and a fluorine-containing polymer, and the haze of the optical film is reduced. 3.0 to 20.
0%, the average reflectance from 450 nm to 650 nm is 1.8
% Or less.
【請求項3】 前記防眩性ハードコート層において、該
防眩性ハードコート層を形成する素材の屈折率が1.5
7乃至2.00であることを特徴とする請求項2に記載
の反射防止フィルム。
3. The antiglare hard coat layer, wherein the material forming the antiglare hard coat layer has a refractive index of 1.5.
The anti-reflection film according to claim 2, wherein the thickness is 7 to 2.00.
【請求項4】 前記低屈折率層において、光によって反
応促進剤を発生する化合物が光酸発生剤であることを特
徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の反射防止フィ
ルム。
4. The antireflection film according to claim 1, wherein in the low refractive index layer, a compound that generates a reaction accelerator by light is a photoacid generator.
【請求項5】 前記低屈折率層において、含フッ素ポリ
マーが含フッ素ビニルモノマーを重合して得られるポリ
マーであることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに
記載の反射防止フィルム。
5. The antireflection film according to claim 1, wherein the fluoropolymer in the low refractive index layer is a polymer obtained by polymerizing a fluorovinyl monomer.
【請求項6】 前記含フッ素ポリマーが前記オルガノシ
ランと共有結合可能な官能基を有することを特徴とする
請求項1〜5のいずれかに記載の反射防止フィルム。
6. The antireflection film according to claim 1, wherein the fluorine-containing polymer has a functional group capable of covalently bonding to the organosilane.
【請求項7】 前記透明支持体がトリアセチルセルロー
スまたはポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレ
ンナフタレートまたはアートンまたはゼオネックスであ
ることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の反
射防止フィルム。
7. The antireflection film according to claim 1, wherein the transparent support is triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, ARTON or ZEONEX.
【請求項8】 該透明支持体が、トリアセチルセルロー
スフィルムであり、トリアセチルセルロースを溶剤に溶
解することで調整されたトリアセチルセルロースドープ
を単層流延、複数層共流延もしくは複数層逐次流延の何
れかの流延方法により流延することにより作製されたこ
とを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の反射防
止フィルム。
8. The transparent support is a triacetylcellulose film, and a triacetylcellulose dope adjusted by dissolving triacetylcellulose in a solvent is cast in a single layer, co-cast in a plurality of layers, or successively in a plurality of layers. The antireflection film according to any one of claims 1 to 7, wherein the antireflection film is manufactured by casting by any casting method.
【請求項9】 該トリアセチルセルロースドープが、ト
リアセチルセルロースを冷却溶解法あるいは高温溶解法
によって、ジクロロメタンを実質的に含まない溶剤に溶
解することで調製されたトリアセチルセルロースドープ
であることを特徴とする請求項8記載の反射防止フィル
ム。
9. The triacetylcellulose dope is prepared by dissolving triacetylcellulose in a solvent substantially free of dichloromethane by a cooling dissolution method or a high-temperature dissolution method. The antireflection film according to claim 8, wherein
【請求項10】 請求項1〜9のいずれかに記載の反射
防止フィルムを偏光板における偏光層の2枚の保護フィ
ルムのうちの少なくとも一方に用いたことを特徴とする
偏光板。
10. A polarizing plate, wherein the antireflection film according to claim 1 is used for at least one of two protective films of a polarizing layer in the polarizing plate.
【請求項11】 請求項1〜9のいずれかに記載の反射
防止フィルムまたは請求項10に記載の偏光板の反射防
止層をディスプレイの最表層に用いたことを特徴とする
液晶表示装置。
11. A liquid crystal display device comprising the antireflection film according to claim 1 or the antireflection layer of the polarizing plate according to claim 10 as the outermost layer of a display.
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