JP5172986B2 - Method for producing antiglare antireflection film - Google Patents

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Description

本発明は、防眩性反射防止フィルムの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing an antiglare antireflection film.

防眩性反射防止フィルムは一般に、陰極管表示装置(CRT)、プラズマディスプレイ(PDP)や液晶表示装置(LCD)のような画像表示装置において、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために、表面突起による光の散乱と、薄膜干渉によって、反射率を低減する機能を有しており、ディスプレイの最表面に配置される。   Anti-glare anti-reflection films are generally used for image display devices such as cathode ray tube display devices (CRT), plasma display devices (PDP), and liquid crystal display devices (LCD). In order to prevent this, it has a function of reducing the reflectance by scattering of light by the surface protrusion and thin film interference, and is disposed on the outermost surface of the display.

一般に塗布製膜によって作製される反射防止フィルムは、ディスプレイの最表面に配置される点から、光学・物理諸性能と共に、外観面状不良や点欠陥が無いことは、その製品の品質を決める重要な因子となっている。   In general, the anti-reflection film produced by coating is the most important point for determining the quality of the product because it is placed on the outermost surface of the display. It is an important factor.

反射防止フィルムを構成する主な原料は、有機溶剤に対する溶解性や分散性が得やすいことから、塗布液は水系よりもむしろ、有機溶剤系が選択される。   Since the main raw material constituting the antireflection film is easily soluble and dispersible in an organic solvent, the coating solution is selected from an organic solvent rather than an aqueous solution.

この際、乾燥条件が適切でないと、ブラッシング、ムラ、スジ、ハジキなどの外観・欠陥故障が発生し、製品得率を落とすばかりか、品質を悪化させる原因となり得る。特に、反射防止フィルムに対する、面状品質、性能品質の要求レベルは非常に高いため、製造条件のひとつである乾燥条件の選択は大変重要であった。   At this time, if the drying conditions are not appropriate, appearance / defect failures such as brushing, unevenness, streaks, repelling, etc. may occur, which may not only reduce the product yield but also cause the quality to deteriorate. In particular, since the required level of surface quality and performance quality for antireflection films is very high, the selection of drying conditions, which is one of the manufacturing conditions, was very important.

また、上記のような光学機能層を溶剤塗布により付与する場合、乾燥遅延や乾燥中の液組成変動等により、塗液中に添加されている粒子の凝集や、表面形状の変化、層の構成成分の相分離等により、反射率、防眩性、ギラツキ等の性能の悪化が生じる。   In addition, when applying the optical functional layer as described above by solvent coating, aggregation of particles added to the coating liquid, change in surface shape, layer structure, etc. due to delay in drying or liquid composition fluctuation during drying, etc. Due to phase separation of components, performance such as reflectance, antiglare property, and glare deteriorates.

このような課題に対して、従来の技術として、紫外線硬化樹脂と反応開始剤と溶液からなる塗液を希釈塗布し、溶剤乾燥前に、強制乾燥する方法が例示されている(例えば特許文献1参照)。
しかしながら、この例示の方法は、塗布液の端部からの裏面への裏回りを避けるため、100℃の熱風を裏面から吹きつけ強制乾燥させており、本発明の反射防止フイルムに適用した場合、乾燥ムラが大きく適さなかった。
In order to deal with such a problem, as a conventional technique, there is exemplified a method in which a coating liquid composed of an ultraviolet curable resin, a reaction initiator, and a solution is diluted and forcedly dried before solvent drying (for example, Patent Document 1). reference).
However, in this exemplary method, hot air at 100 ° C. is blown from the back surface for forced drying in order to avoid the back to the back surface from the end of the coating liquid, and when applied to the antireflection film of the present invention, Unevenness in drying was not suitable.

特許第2523574号公報(第6ページ実施例2)Japanese Patent No. 2523574 (Example 6 on page 6)

本発明の目的は、十分な反射防止性能を有しながら、塗布面状故障の無い、製品得率の高い、優れた反射防止フィルムを供給することである。
また、反射率、防眩性、ギラツキ等の性能の悪化のない反射防止フイルムを供給することである。
An object of the present invention is to provide an excellent antireflection film having a high product yield and having a sufficient antireflection performance and no coating surface failure.
Another object of the present invention is to supply an antireflection film that does not deteriorate performance such as reflectance, antiglare property, and glare.

我々は鋭意検討を進めた結果、反射防止フィルムを製膜する際にそれぞれの層をどのような条件でセットさせるかが極めて重要であることがわかった。
本発明において塗布膜をセットさせるとは、乾燥によって塗布液の流動が実質的になくなることを意味し、塗布液の流動が実質的になくなるとは、塗布液溶剤が蒸発することで、塗布液中の固形分濃度が上がり、これに従い塗布液の液粘度が上昇し、周囲の風や重力、フィルムの搬送の上下動によって塗布液が移動しなくなることを意味するものであり、実際にはラインを途中で強制停止し、どの地点から流動が無くなっているかを目視で確認することができる。
本発明によれば、塗布液塗工後の温度を、10℃〜40℃に保つことにより、溶剤の強制乾燥による急激な乾燥を避けつつ、徐々にセット状態に持っていくことができ、本発明の目的を達成できる。
具体的には、下記構成の反射防止フィルムの製造方法により、上記目的が達成される
<1>
透明支持体上に、平均粒径1〜10μmの防眩性付与粒子を含有する膜厚1〜10μmの少なくとも1層の防眩性ハードコート層を形成することにより防眩性反射防止フィルムを製造する方法であって、
前記防眩性ハードコート層を形成するための塗布工程、第一の乾燥部による乾燥工程、第二の乾燥部による乾燥工程及び硬化工程を有し、
前記防眩性ハードコート層を形成するための第一の乾燥部による乾燥工程が、5秒〜120秒の乾燥時間であり、風除けのためのカバーが設けられて塗膜面にあたる風の風速が0.5m/s以下であり、前記塗布液における主溶剤の沸点よりも10℃以上低く、かつ10℃以上40℃以下に温度制御して、塗布膜のセットを終了させる乾燥工程であり、
前記防眩性ハードコート層を形成するための第二の乾燥部による乾燥工程が、前記第一の乾燥部よりも高い温度であって、塗布液中に含まれる最も沸点の低い溶剤の沸点温度以上、塗布液中に含まれる最も沸点の高い溶剤の沸点温度+20℃以下にて乾燥する工程である、防眩性反射防止フィルムの製造方法。
<2>
透明支持体上に、平均粒径1〜10μmの防眩性付与粒子を含有する膜厚1〜10μmの少なくとも1層の防眩性ハードコート層を形成することにより防眩性反射防止フィルムを製造する方法であって、
前記防眩性ハードコート層を形成するための塗布工程、第一の乾燥部による乾燥工程、第二の乾燥部による乾燥工程及び硬化工程を有し、
前記防眩性ハードコート層を形成するための第一の乾燥部による乾燥工程が、5秒〜120秒の乾燥時間であり、風除けのためのカバーが設けられて塗膜面にあたる風の風速が0.5m/s以下であり、前記塗布液における主溶剤の沸点よりも10℃以上低く、かつ10℃以上40℃以下に温度制御して、塗布膜のセットを終了させる乾燥工程であり、
前記防眩性ハードコート層を形成するための第二の乾燥部による乾燥工程が、前記第一の乾燥部よりも高い温度の50℃以上140℃以下にて乾燥する工程である、防眩性反射防止フィルムの製造方法。
<3>
前記防眩性ハードコート層を形成するための第一の乾燥部による乾燥工程が、15℃以上35℃以下に温度制御する、<1>又は<2>に記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
<4>
前記防眩性ハードコート層を形成するための第一の乾燥部での温度制御が、塗工後30秒以内にはじめることを特徴とする<1>〜<3>のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
<5>
前記第一の乾燥部の温度が、塗工部の温度より2℃以上30℃以下高い温度であることを特徴とする<1>〜<4>のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
<6>
前記防眩性ハードコート層の塗布液中の溶剤組成として、沸点100℃以上の溶剤が、塗布液中の全溶剤の1%〜90%含まれることを特徴とする<1>〜<5>のいずれか1項に記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
<7>
透明支持体上に、膜厚1〜10μmの少なくとも1層のハードコート層を形成することにより反射防止フィルムを製造する方法であって、
前記ハードコート層を形成するための塗布工程、第一の乾燥部による乾燥工程、第二の乾燥部による乾燥工程及び硬化工程を有し、
前記ハードコート層を形成するための第一の乾燥部による乾燥工程が、5秒〜120秒の乾燥時間であり、風除けのためのカバーが設けられて塗膜面にあたる風の風速が0.5m/s以下であり、前記塗布液における主溶剤の沸点よりも10℃以上低く、かつ10℃以上40℃以下に温度制御して、塗布膜のセットを終了させる乾燥工程であり、
前記ハードコート層を形成するための第二の乾燥部による乾燥工程が、前記第一の乾燥部よりも高い温度であって、塗布液中に含まれる最も沸点の低い溶剤の沸点温度以上、塗布液中に含まれる最も沸点の高い溶剤の沸点温度+20℃以下にて乾燥する工程である、
反射防止フィルムの製造方法。
<8>
透明支持体上に、膜厚1〜10μmの少なくとも1層のハードコート層を形成することにより反射防止フィルムを製造する方法であって、
前記ハードコート層を形成するための塗布工程、第一の乾燥部による乾燥工程、第二の乾燥部による乾燥工程及び硬化工程を有し、
前記ハードコート層を形成するための第一の乾燥部による乾燥工程が、5秒〜120秒の乾燥時間であり、風除けのためのカバーが設けられて塗膜面にあたる風の風速が0.5m/s以下であり、前記塗布液における主溶剤の沸点よりも10℃以上低く、かつ10℃以上40℃以下に温度制御して、塗布膜のセットを終了させる乾燥工程であり、
前記ハードコート層を形成するための第二の乾燥部による乾燥工程が、前記第一の乾燥部よりも高い温度の50℃以上140℃以下にて乾燥する工程である、反射防止フィルムの製造方法。
<9>
透明支持体上に、少なくとも1層のハードコート層を形成し、さらに最外に位置する低屈折率層を形成することにより反射防止フィルムを製造する方法であって、
前記ハードコート層を形成するための塗布工程、乾燥工程及び硬化工程、並びに
前記低屈折率層を形成するための塗布工程、第一の乾燥部による乾燥工程及び第二の乾燥部による乾燥工程を有し、
前記低屈折率層を形成するための第一の乾燥部による乾燥工程が、風除けのためのカバーが設けられて塗膜面にあたる風の風速が0.5m/s以下であり、前記塗布液における主溶剤の沸点よりも10℃以上低く、かつ10℃以上40℃以下に温度制御して、塗布膜のセットを終了させる乾燥工程であり、
前記低屈折率層を形成するための第二の乾燥部による乾燥工程が、前記第一の乾燥部よりも高い温度であって、塗布液中に含まれる最も沸点の低い溶剤の沸点温度以上、塗布液中に含まれる最も沸点の高い溶剤の沸点温度+20℃以下にて乾燥する工程である、反射防止フィルムの製造方法。
<10>
透明支持体上に、少なくとも1層のハードコート層を形成し、さらに最外に位置する低屈折率層を形成することにより反射防止フィルムを製造する方法であって、
前記ハードコート層を形成するための塗布工程、乾燥工程及び硬化工程、並びに
前記低屈折率層を形成するための塗布工程、第一の乾燥部による乾燥工程及び第二の乾燥部による乾燥工程を有し、
前記低屈折率層を形成するための第一の乾燥部による乾燥工程が、風除けのためのカバーが設けられて塗膜面にあたる風の風速が0.5m/s以下であり、前記塗布液における主溶剤の沸点よりも10℃以上低く、かつ10℃以上40℃以下に温度制御して、塗布膜のセットを終了させる乾燥工程であり、
前記低屈折率層を形成するための第二の乾燥部による乾燥工程が、前記第一の乾燥部よりも高い温度の50℃以上140℃以下にて乾燥する工程である、反射防止フィルムの製造方法。
<11>
前記低屈折率層を形成する為に用いる塗布液の溶剤として、沸点が100℃以下の溶媒が50%〜100%であることを特徴とする<9>又は<10>に記載の反射防止フィルムの製造方法。
本発明は、上記<1>〜<11>に係る発明であるが、以下、それ以外の事項についても記載している。
As a result of diligent investigation, it was found that it is extremely important to set each layer under the conditions when forming the antireflection film.
In the present invention, setting the coating film means that the flow of the coating solution is substantially eliminated by drying, and that the flow of the coating solution is substantially eliminated means that the coating solution is evaporated and the coating solution is evaporated. This means that the concentration of solids in the liquid increases and the liquid viscosity of the coating liquid increases accordingly, and the coating liquid does not move due to the surrounding wind, gravity, and vertical movement of the film transport. Can be forcibly stopped halfway and it can be visually confirmed from which point the flow is lost.
According to the present invention, by maintaining the temperature after coating the coating solution at 10 ° C. to 40 ° C., it is possible to gradually bring it into a set state while avoiding rapid drying due to forced drying of the solvent. The object of the invention can be achieved.
Specifically, the above object is achieved by a method for producing an antireflection film having the following constitution .
<1>
An antiglare antireflection film is produced by forming at least one antiglare hard coat layer having a film thickness of 1 to 10 μm containing antiglare imparting particles having an average particle diameter of 1 to 10 μm on a transparent support. A way to
A coating step for forming the antiglare hard coat layer, a drying step by the first drying unit, a drying step by the second drying unit and a curing step;
The drying process by the first drying unit for forming the antiglare hard coat layer has a drying time of 5 seconds to 120 seconds, a windbreak cover is provided, and the wind speed of the wind hitting the coating surface is 0.5 m / s or less, 10 ° C. or more lower than the boiling point of the main solvent in the coating solution, and temperature control to 10 ° C. or more and 40 ° C. or less to complete the setting of the coating film,
The drying step by the second drying unit for forming the antiglare hard coat layer is at a temperature higher than that of the first drying unit, and the boiling point of the solvent having the lowest boiling point contained in the coating solution. As mentioned above, the manufacturing method of the anti-glare antireflection film which is a step of drying at the boiling point temperature of the solvent having the highest boiling point contained in the coating liquid + 20 ° C. or lower.
<2>
An antiglare antireflection film is produced by forming at least one antiglare hard coat layer having a film thickness of 1 to 10 μm containing antiglare imparting particles having an average particle diameter of 1 to 10 μm on a transparent support. A way to
A coating step for forming the antiglare hard coat layer, a drying step by the first drying unit, a drying step by the second drying unit and a curing step;
The drying process by the first drying unit for forming the antiglare hard coat layer has a drying time of 5 seconds to 120 seconds, a windbreak cover is provided, and the wind speed of the wind hitting the coating surface is 0.5 m / s or less, 10 ° C. or more lower than the boiling point of the main solvent in the coating solution, and temperature control to 10 ° C. or more and 40 ° C. or less to complete the setting of the coating film,
Anti-glare property, wherein the drying step by the second drying unit for forming the anti-glare hard coat layer is a step of drying at a temperature higher than the first drying unit by 50 ° C. or more and 140 ° C. or less. A method for producing an antireflection film.
<3>
The antiglare antireflection film according to <1> or <2>, wherein the drying step by the first drying unit for forming the antiglare hard coat layer is temperature-controlled at 15 ° C. or more and 35 ° C. or less. Production method.
<4>
The temperature control in the first drying section for forming the antiglare hard coat layer starts within 30 seconds after coating, and the antireflection according to any one of <1> to <3> Manufacturing method of dazzling antireflection film.
<5>
The antiglare antireflection film according to any one of <1> to <4>, wherein the temperature of the first drying part is 2 ° C. to 30 ° C. higher than the temperature of the coating part. Manufacturing method.
<6>
<1> to <5>, wherein the solvent composition in the coating solution of the antiglare hard coat layer includes a solvent having a boiling point of 100 ° C. or higher in an amount of 1% to 90% of the total solvent in the coating solution. The manufacturing method of the anti-glare antireflection film of any one of these.
<7>
A method for producing an antireflection film by forming at least one hard coat layer having a thickness of 1 to 10 μm on a transparent support,
Having a coating process for forming the hard coat layer, a drying process by a first drying section, a drying process by a second drying section and a curing process;
The drying process by the first drying section for forming the hard coat layer has a drying time of 5 seconds to 120 seconds, a windbreak cover is provided, and the wind speed of the wind hitting the coating surface is 0.5 m. Is a drying step that ends the set of the coating film by controlling the temperature to be 10 ° C. or more and 40 ° C. or less lower than the boiling point of the main solvent in the coating solution,
The drying step by the second drying section for forming the hard coat layer is higher than the first drying section and is applied at a temperature equal to or higher than the boiling temperature of the lowest boiling point solvent contained in the coating solution. It is a step of drying at the boiling point temperature of the solvent having the highest boiling point contained in the liquid + 20 ° C. or lower.
A method for producing an antireflection film.
<8>
A method for producing an antireflection film by forming at least one hard coat layer having a thickness of 1 to 10 μm on a transparent support,
Having a coating process for forming the hard coat layer, a drying process by a first drying section, a drying process by a second drying section and a curing process;
The drying process by the first drying section for forming the hard coat layer has a drying time of 5 seconds to 120 seconds, a windbreak cover is provided, and the wind speed of the wind hitting the coating surface is 0.5 m. Is a drying step that ends the set of the coating film by controlling the temperature to be 10 ° C. or more and 40 ° C. or less lower than the boiling point of the main solvent in the coating solution,
The method for producing an antireflection film, wherein the drying step by the second drying unit for forming the hard coat layer is a step of drying at a temperature higher than the first drying unit by 50 ° C. or more and 140 ° C. or less. .
<9>
A method for producing an antireflection film by forming at least one hard coat layer on a transparent support and further forming an outermost low refractive index layer,
A coating step for forming the hard coat layer, a drying step and a curing step, and
Having a coating step for forming the low refractive index layer, a drying step by a first drying unit and a drying step by a second drying unit;
The drying step by the first drying section for forming the low refractive index layer is provided with a cover for windbreak, and the wind speed of the wind hitting the coating film surface is 0.5 m / s or less, in the coating solution It is a drying step of controlling the temperature to be 10 ° C. or more and 40 ° C. or less lower than the boiling point of the main solvent and finishing the setting of the coating film,
The drying step by the second drying unit for forming the low refractive index layer is at a temperature higher than that of the first drying unit, and is equal to or higher than the boiling point of the lowest boiling point solvent contained in the coating liquid. A method for producing an antireflection film, which is a step of drying at the boiling point temperature of the solvent having the highest boiling point contained in the coating liquid + 20 ° C. or lower.
<10>
A method for producing an antireflection film by forming at least one hard coat layer on a transparent support and further forming an outermost low refractive index layer,
A coating step for forming the hard coat layer, a drying step and a curing step, and
Having a coating step for forming the low refractive index layer, a drying step by a first drying unit and a drying step by a second drying unit;
The drying step by the first drying section for forming the low refractive index layer is provided with a cover for windbreak, and the wind speed of the wind hitting the coating film surface is 0.5 m / s or less, in the coating solution It is a drying step of controlling the temperature to be 10 ° C. or more and 40 ° C. or less lower than the boiling point of the main solvent and finishing the setting of the coating film,
Production of an antireflection film, wherein the drying step by the second drying unit for forming the low refractive index layer is a step of drying at a temperature higher than the first drying unit at 50 ° C. or more and 140 ° C. or less. Method.
<11>
The antireflection film as described in <9> or <10>, wherein a solvent having a boiling point of 100 ° C. or lower is 50% to 100% as a solvent of the coating solution used for forming the low refractive index layer Manufacturing method.
The present invention is an invention according to the above <1> to <11>, but hereinafter, other matters are also described.

(1)透明支持体上に、少なくとも1層のハードコート層と、最外に位置する低屈折率層それぞれの塗布液を塗布し、乾燥することで形成する反射防止フィルムの製造方法において、いずれのハードコート層および低屈折率層も、塗布液を塗布した後、10℃以上40℃以下に保たれた第一の乾燥部にて、塗布膜のセットを終了させることを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
(2)上記製造方法において、第1乾燥部の温度が、ハードコート層および低屈折率層の塗布液の主溶剤の沸点よりも10℃以上低いことを特徴とする(1)記載の反射防止フィルムの製造方法。
(3)上記製造方法において、いずれかの層の第一の乾燥が、塗布後30秒以内に開始されることを特徴とする(1)または(2)記載の反射防止フィルムの製造方法。
(4)上記製造方法において、いずれかの層の第一の乾燥部の温度が塗工部温度より2℃以上30℃以下高いことを特徴とする(1)〜(3)のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
(5)該ハードコート層の少なくとも1層が、防眩性ハードコート層であることを特徴とする(1)〜(4)のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
(6)該防眩性ハードコート層に含有される無機微粒子フィラーが、粒径1nm〜100nmの範囲のジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモン、ケイ素のうちより選ばれる少なくとも1つの金属酸化物からなり、該防眩性ハードコート層に含有される防眩性付与粒子が、粒径2μm〜7μmの範囲の、有機高分子粒子または/更に無機粒子であり、更に、該防眩性ハードコート層に含有される、防眩性付与に寄与しない、層内に含有される粒子が、粒径1μm〜5μmの範囲の、有機高分子粒子または/更に無機粒子であることを特徴とする(5)に記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
(7)該防眩性ハードコート層において、有機樹脂と該無機フィラーの複合体の屈折率に対し、該防眩性付与粒子または/更に該層内に含有される粒子の屈折率が、0.05〜0.15の範囲で異なることを特徴とする(5)または(6)に記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。
(8)該ハードコート層と、低屈折率層の間に、中屈折率層、高屈折率層を有することを特徴とする(1)〜(4)のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
(9)該透明支持体がトリアセチルセルロースであることを特徴とする(1)〜(8)のいずれかに記載の反射防止フィルムあるいは防眩性反射防止フィルムの製造方法。
(10)低屈折率層の屈折率が1.38〜1.49であることを特徴とする(1)〜(9)のいずれかに記載の反射防止フィルムあるいは防眩性反射防止フィルムの製造方法。
(11)(1)〜(10)のいずれかに記載の製造方法で製造された反射防止フィルムあるいは防眩性反射防止フィルムを、偏光板における偏光子の2枚の保護フィルムのうちの一方に用いたことを特徴とする偏光板。
(12)前記偏光板における偏光子の2枚の保護フィルムのうちの前記反射防止フィルム、または前記防眩性反射防止フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであり、該光学異方性層がディスコティック構造単位を有する化合物からなる負の複屈折を有する層であり、該ディスコティック構造単位の円盤面が該表面保護フィルム面に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と該表面保護フィルム面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向において変化していることを特徴とする(11)に記載の偏光板。
(13)(11)または(12)に記載の偏光板の、該反射防止フィルムまたは該防眩性反射防止フィルムとは反対側の保護フィルムに、λ/4板を配置したことを特徴とする、反射防止機能を有する円偏光板。
(14)上記偏光板の偏光子が、連続的に供給されるポリマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸する方法において、少なくともフィルム幅方向に1.1〜20.0倍に延伸し、フィルム両端の保持装置の長手方向進行速度差が3%以内であり、フィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、20〜70゜傾斜するようにフィルム進行方向をフィルム両端を保持させた状態で屈曲させてなる延伸方法によって製造された偏光子であることを特徴とする(11)〜(13)のいずれかに記載の偏光板。
(15)(1)〜(10)のいずれかに記載の製造方法で製造された反射防止フィルムあるいは防眩性反射防止フィルム、または(11)〜(14)に記載の反射防止フィルム付き偏光板あるいは防眩性反射防止フィルム付き偏光版を、ディスプレイの最表面に用いたことを特徴とするディスプレイ装置。
(16)(11)〜(14)のいずれかに記載の偏光板を少なくとも1枚有するTN、STN、VA、IPS、OCBのモードの透過型、反射型、または半透過型のディスプレイ装置。
(17)(11)〜(14)のいずれかに記載の偏光板を少なくとも1枚有する透過型または半透過型のディスプレイ装置であり、視認側とは反対側の偏光板とバックライトとの間に、偏光選択層を有する偏光分離フィルムを配置することを特徴とするディスプレイ装置。
(1) In the method for producing an antireflection film formed by applying a coating liquid for each of at least one hard coat layer and an outermost low refractive index layer on a transparent support and drying it, The hard coat layer and the low-refractive index layer of the antireflection film are characterized in that after the coating solution is applied, the coating film is set at the first drying section maintained at 10 ° C. or higher and 40 ° C. or lower. A method for producing a film.
(2) In the above production method, the temperature of the first drying part is 10 ° C. or more lower than the boiling point of the main solvent of the coating liquid for the hard coat layer and the low refractive index layer, and the antireflection according to (1) A method for producing a film.
(3) In the said manufacturing method, 1st drying of any layer is started within 30 second after application | coating, The manufacturing method of the antireflection film as described in (1) or (2) characterized by the above-mentioned.
(4) In the manufacturing method described above, the temperature of the first drying part of any layer is 2 ° C. or more and 30 ° C. or less higher than the coating part temperature. Manufacturing method of antireflection film.
(5) The method for producing an antiglare antireflection film as described in any one of (1) to (4), wherein at least one of the hard coat layers is an antiglare hard coat layer.
(6) The inorganic fine particle filler contained in the antiglare hard coat layer is at least one selected from zirconium, titanium, aluminum, indium, zinc, tin, antimony, and silicon having a particle diameter in the range of 1 nm to 100 nm. The anti-glare imparting particles made of a metal oxide and contained in the anti-glare hard coat layer are organic polymer particles and / or inorganic particles having a particle size in the range of 2 μm to 7 μm. The particles contained in the hard hard coat layer that do not contribute to imparting anti-glare properties and are contained in the layer are organic polymer particles and / or further inorganic particles having a particle size in the range of 1 μm to 5 μm. The manufacturing method of the anti-glare antireflection film as described in (5).
(7) In the antiglare hard coat layer, the refractive index of the antiglare-imparting particles or / and the particles contained in the layer is 0 with respect to the refractive index of the composite of the organic resin and the inorganic filler. The method for producing an antiglare and antireflection film according to (5) or (6), wherein the difference is in the range of 0.05 to 0.15.
(8) The antireflective film according to any one of (1) to (4), which has a middle refractive index layer and a high refractive index layer between the hard coat layer and the low refractive index layer. Production method.
(9) The method for producing an antireflection film or an antiglare antireflection film according to any one of (1) to (8), wherein the transparent support is triacetylcellulose.
(10) The production of the antireflection film or antiglare antireflection film according to any one of (1) to (9), wherein the low refractive index layer has a refractive index of 1.38 to 1.49. Method.
(11) The antireflection film or the antiglare antireflection film produced by the production method according to any one of (1) to (10) is applied to one of the two protective films of the polarizer in the polarizing plate. A polarizing plate characterized by being used.
(12) Optical having an optical compensation layer in which the antireflection film or the antiglare antireflection film out of the two protective films of the polarizer in the polarizing plate includes an optically anisotropic layer. A compensation film, wherein the optically anisotropic layer is a layer having negative birefringence composed of a compound having a discotic structural unit, and the disc surface of the discotic structural unit is inclined with respect to the surface protective film surface And the angle formed by the disc surface of the discotic structural unit and the surface protective film surface varies in the depth direction of the optically anisotropic layer.
(13) A λ / 4 plate is disposed on the anti-reflection film or the protective film opposite to the anti-glare anti-reflection film of the polarizing plate according to (11) or (12). A circularly polarizing plate having an antireflection function.
(14) In the method in which the polarizer of the polarizing plate is stretched by applying tension while holding both ends of the continuously supplied polymer film by a holding means, 1.1 to 20.0 at least in the film width direction. The longitudinal travel speed difference of the holding devices at both ends of the film is within 3%, and the angle formed by the film traveling direction at the exit of the step of retaining both ends of the film and the substantial stretching direction of the film is 20 to 20 times. The polarizer according to any one of (11) to (13), wherein the polarizer is manufactured by a stretching method in which the film traveling direction is bent so that both ends of the film are held so as to be inclined by 70 °. Polarizer.
(15) An antireflection film or an antiglare antireflection film produced by the production method according to any one of (1) to (10), or a polarizing plate with an antireflection film according to (11) to (14) Or the display apparatus characterized by using the polarizing plate with an anti-glare antireflection film for the outermost surface of a display.
(16) A TN, STN, VA, IPS, OCB mode transmissive, reflective, or transflective display device having at least one polarizing plate according to any one of (11) to (14).
(17) A transmissive or transflective display device having at least one polarizing plate according to any one of (11) to (14), between the polarizing plate on the side opposite to the viewing side and the backlight. A display device comprising: a polarizing separation film having a polarization selective layer.

防眩性反射防止フィルムの層構成を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the layer structure of an anti-glare antireflection film. 実施例で使用のテンター延伸機の概略図である。It is the schematic of the tenter drawing machine used in the Example. 実施例で行った偏光膜の裁断を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the cutting of the polarizing film performed in the Example. 本発明の製造方法における塗布機の模式図である。It is a schematic diagram of the coating machine in the manufacturing method of this invention.

本発明の実施の一形態として好適な防眩性反射防止フィルムの基本的な構成を図面を参照しながら説明する。   A basic configuration of an antiglare antireflection film suitable as an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1に模式的に示される態様は本発明の反射防止フィルムの一例であり、この場合、反射防止フィルム1は、透明支持体2、防眩性ハードコート層3、そして低屈折率層4の順序の層構成を有する。防眩性ハードコート層3には、透光性粒子である防眩性付与粒子5、あるいは更に、透光性粒子である内部散乱付与粒子6が分散している。   The embodiment schematically shown in FIG. 1 is an example of the antireflection film of the present invention. In this case, the antireflection film 1 includes a transparent support 2, an antiglare hard coat layer 3, and a low refractive index layer 4. Has an ordered layer structure. In the antiglare hard coat layer 3, antiglare imparting particles 5 that are translucent particles, or further, internal scattering imparting particles 6 that are translucent particles are dispersed.

本発明の反射防止フィルムは、透明支持体上に、少なくとも1層のハードコート層を有し、さらにその上に最外層の低屈折率層を有するが、防眩性を持たせるためにはハードコート層を防眩性ハードコート層としてもよいし、ハードコート層上に防眩層を設けてもよい。また、防眩性ハードコート層を平滑なハードコート層の上にを設けてもよい。それにより、フィルム強度をあげることができる。防眩性を必要としない用途の反射防止フィルムに対しては、防眩性ハードコート層3を設けず、平滑なハードコート層としておけば良い。   The antireflection film of the present invention has at least one hard coat layer on a transparent support, and further has an outermost low refractive index layer thereon. The coat layer may be an antiglare hard coat layer, or an antiglare layer may be provided on the hard coat layer. Further, an antiglare hard coat layer may be provided on a smooth hard coat layer. Thereby, film strength can be raised. For an antireflection film that does not require antiglare properties, the antiglare hard coat layer 3 is not provided, and a smooth hard coat layer may be used.

また、本発明に用いられる反射防止フィルムとして、ハードコート層と低屈折率層の間に、中屈折率層、高屈折率層等を設け、薄膜の干渉による3層構成の反射防止フィルムとしても良い。この時、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層のそれぞれの層の光学膜厚、すなわち屈折率と膜厚の積が設計波長λに対してnλ/4前後、またはその倍数であることが好ましいことが特開昭59−50401号公報に記載されている。   In addition, as an antireflection film used in the present invention, an intermediate refractive index layer, a high refractive index layer, etc. are provided between a hard coat layer and a low refractive index layer, and an antireflection film having a three-layer structure due to thin film interference can also be used. good. At this time, the optical film thickness of each of the medium refractive index layer, the high refractive index layer, and the low refractive index layer, that is, the product of the refractive index and the film thickness is about nλ / 4 with respect to the design wavelength λ or a multiple thereof. It is described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-50401 that it is preferable.

特に、低反射率且つ反射光の色味が低減された反射率特性を実現するためには、設計波長λ(=500nm)に対して中屈折率層が下式(I)を、高屈折率層が下式(II)を、低屈折率層が下式(III)をそれぞれ満足することが好ましい。   In particular, in order to realize a reflectance characteristic with a low reflectance and a reduced color of reflected light, the middle refractive index layer has the following formula (I) for the design wavelength λ (= 500 nm), and the high refractive index. It is preferable that the layer satisfies the following formula (II) and the low refractive index layer satisfies the following formula (III).

lλ/4×0.80<n1d1<lλ/4×1.00 (I)   lλ / 4 × 0.80 <n1d1 <lλ / 4 × 1.00 (I)

mλ/4×0.75<n2d2<mλ/4×0.95 (II)   mλ / 4 × 0.75 <n2d2 <mλ / 4 × 0.95 (II)

nλ/4×0.95<n3d3<nλ/4×1.05 (III)   nλ / 4 × 0.95 <n3d3 <nλ / 4 × 1.05 (III)

式中、lは1であり、n1は中屈折率層の屈折率であり、そして、d1は中屈折率層の層厚(nm)であり、mは2であり、n2は高屈折率層の屈折率であり、そして、d2は高屈折率層の層厚(nm)であり、nは1であり、n3は低屈折率層の屈折率であり、そして、d3は低屈折率層の層厚(nm)である。さらに、例えばトリアセチルセルロース
(屈折率:1.49)からなるような屈折率が1.45〜1.55の透明支持体に対しては、n1は1.60〜1.65、n2は1.85〜1.95、n3は1.35〜1.45の屈折率であることが好ましく、例えばポリエチレンテレフタレート(屈折率:1.66)からなるような屈折率が1.55〜1.65の透明支持体に対しては、n1は1.65〜1.75、n2は1.85〜2.05、n3は1.35〜1.45の屈折率であることが好ましい。
In the formula, l is 1, n1 is the refractive index of the medium refractive index layer, d1 is the layer thickness (nm) of the medium refractive index layer, m is 2, and n2 is the high refractive index layer. And d2 is the thickness (nm) of the high refractive index layer, n is 1, n3 is the refractive index of the low refractive index layer, and d3 is the low refractive index layer. Layer thickness (nm). Furthermore, for example, n1 is 1.60 to 1.65 and n2 is 1 for a transparent support having a refractive index of 1.45 to 1.55 made of triacetylcellulose (refractive index: 1.49). .85 to 1.95, n3 is preferably a refractive index of 1.35 to 1.45, for example, a refractive index of 1.55 to 1.65 made of polyethylene terephthalate (refractive index: 1.66). N1 is preferably 1.65 to 1.75, n2 is 1.85 to 2.05, and n3 is preferably 1.35 to 1.45.

本発明の製造方法について以下に説明する。本発明の反射防止フィルムの製造のための工程の一例を図4に示した。図4の工程において、ロール状の支持体フィルムを送り出す1a、塗布液を塗布する塗工部2a、ムラが発生しないように溶剤を揮発させる第1乾燥部3a、加熱により溶剤を除去・加熱硬化等を行う第2乾燥部4a、塗膜を熱、電離放射線等により硬化させる工程5a、塗工したフィルムを巻き取る工程6a等が行われる。ただし本発明はこれに限定されるものではない。
本発明では透明支持体上に、反射防止フィルムの構成層となるハードコート層および低屈折率層をそれぞれの塗布液で塗布し、乾燥する際に、塗布後、10℃以上40℃以下に保たれた第一の乾燥部3aにて、塗布膜のセットを終了させることが必要である。第一の乾燥部の温度が40℃を越えると、乾燥性が急激に激しくなり、外観面状、欠陥への影響を与えるようになる。乾燥部の温度が低すぎると(10℃未満)、乾燥時間が遅れ、長い乾燥ゾーンが必要となるデメリットがあることや、未乾による工程の反転ロールや、巻き取り後のフィルム裏面への転写が問題となる。第一の乾燥部の温度については、好ましくは15℃以上40℃以下、より好ましくは18℃以上35℃以下である。また、乾燥後期で温度を徐々に上げていくような乾燥温度パターンをつけることも好ましい。
また、第1乾燥部の乾燥温度は、反射防止フィルムの構成層となるハードコート層および低屈折率層のそれぞれの塗布液の主溶剤の沸点よりも10℃以下低いことが塗膜の急激な乾燥による乾燥ムラを避けるため好ましい。より好ましい温度は、15℃以下、特に好ましくは20℃以下低いことである。これらの構成層の主溶剤の内容は、後述する。
第1乾燥部での温度制御は塗工後すぐ〜30秒以内にはじめることが望ましい。より好ましくは0.5秒〜20秒以内、特に好ましくは1秒〜15秒以内である。温度制御を実施する時間は、塗布液の濃度や使用している塗布液溶剤にもよるが、5秒〜120秒以内、より好ましくは10秒〜100秒、特に好ましくは、20秒〜90秒である。
第1乾燥部での温度制御は、塗膜中の残留溶剤量が多い時点ではじめることが効果が大きい。塗膜中の残留溶剤が、塗工時の10質量%以下となると液の流動性はほとんどなくなるため、塗工時の溶剤量の10質量%になる以前に実施することが必要である。より好ましくは残留溶剤量30質量%以前、特に好ましくは50質量%以前である。
本発明の第1乾燥部の温度は、塗工部の温度より2℃以上、30℃以下高い温度が望ましい。これは、塗膜の温度に対し、第1乾燥部の温度が高いことで、溶剤の揮発が促進され、塗膜粘度が上がり易いためと考えられる。温度差が2℃以下の場合には、乾燥促進効果は少なく、30℃以上では、乾燥の温度差が大きすぎることによる乾燥ムラが生じ易い。より好ましくは、3℃以上25℃以下、特に好ましくは5℃以上20℃以下である。
塗工部の温度としては、8℃〜35℃の範囲が好ましい。より好ましくは15℃〜30℃、特に好ましくは18℃〜25℃である。
第1乾燥部における温度制御は、風によるムラを抑えながら実施することが望ましい。このための方法としては、塗布面の風速を抑える方法、裏面からの送風による加温、赤外線ヒーター等による加温、第1乾燥室全体を熱伝導等により加温する方法等がある。また、初期乾燥部には、風除けのためのカバー等をつけることも好ましい。初期乾燥ゾーンでの塗膜面にあたる風の風速は0.5m/s以下であることが好ましい。より好ましくは0.3m/s以下、特に好ましくは0.2m/s以下である。
塗布膜がセットし、塗布液の流動が終了した塗膜に対しては、巻き取り後に改めて、あるいは10℃以上40℃以下に保たれた第一の乾燥部以降巻き取りまでに、更に高い温度での乾燥(第二乾燥部4a)を行ない、フィルム中の残留の溶剤量を低減することは、搬送ラインにある反転ロールや巻取り後のフィルム裏面への転写、あるいは製膜したフィルムの膜強度、溶剤の泣き出し防止の点で望ましい。第二の乾燥部の温度は、選択した塗布液溶剤の沸点に対して設定することが好ましく、塗布液中に含まれる最も沸点の低い溶剤の沸点温度〜塗布液中に含まれる最も沸点の高い溶剤の沸点温度+20℃の間が好ましく、塗布液中に含まれる最も沸点の低い溶剤の沸点温度+20℃〜塗布液中に含まれる最も沸点の高い溶剤の沸点温度+20℃がより好ましい。 第2乾燥部の温度は50℃以上140℃以下、特に好ましくは60℃以上、120℃以下である。加熱時間としては、15秒以上30分以内が好ましい。より好ましくは20秒以上15分以下、特に好ましくは30秒以上10分以下である。
第1乾燥部と第2乾燥部の間や第2乾燥部の後、場合によっては、第2乾燥部の中間に、塗膜を硬化する工程5aを付与することも好ましい。塗膜の硬化方法としては、加熱による熱硬化、もしくは、UV、電子線等の電離放射線照射による方法が考えられる。熱硬化は、第2の乾燥部での加熱時に反転ロール等を設置し、加熱時間を長くすることで達成可能である。電離放射線照射は、照射を連続で実施できる設備を、工程中の必要な場所に設けることが好ましい。
本発明の乾燥条件は、少なくとも1層のハードコート層と、低屈折率層に適用することが必須であるが、中屈折率層、高屈折率層等、その他の構成層の乾燥条件に適用することも好ましい。
The production method of the present invention will be described below. An example of the process for manufacturing the antireflection film of the present invention is shown in FIG. In the process of FIG. 4, 1a for feeding a roll-shaped support film, a coating part 2a for applying a coating liquid, a first drying part 3a for volatilizing the solvent so as not to cause unevenness, and removal of the solvent by heating and heat curing The second drying unit 4a for performing the above, the step 5a for curing the coating film with heat, ionizing radiation, etc., the step 6a for winding the coated film, and the like are performed. However, the present invention is not limited to this.
In the present invention, on the transparent support, a hard coat layer and a low refractive index layer, which are constituent layers of the antireflection film, are applied with each coating solution and dried, and after the coating, kept at 10 ° C. or more and 40 ° C. or less. It is necessary to finish the setting of the coating film in the first drying unit 3a. When the temperature of the first drying section exceeds 40 ° C., the drying property is rapidly increased and the appearance surface shape and the defect are affected. If the temperature of the drying section is too low (less than 10 ° C), there are disadvantages that the drying time is delayed and a long drying zone is required, the reversing roll of the process due to undried, and the transfer to the back of the film after winding Is a problem. About the temperature of a 1st drying part, Preferably it is 15 to 40 degreeC, More preferably, it is 18 to 35 degreeC. It is also preferable to provide a drying temperature pattern in which the temperature is gradually increased in the late stage of drying.
In addition, the drying temperature of the first drying section should be 10 ° C. or less lower than the boiling point of the main solvent of the coating solution of each of the hard coat layer and the low refractive index layer, which are the constituent layers of the antireflection film. It is preferable in order to avoid drying unevenness due to drying. A more preferable temperature is 15 ° C. or lower, particularly preferably 20 ° C. or lower. The contents of the main solvent in these constituent layers will be described later.
It is desirable to start the temperature control in the first drying section within ˜30 seconds immediately after coating. More preferably, it is within 0.5 second to 20 seconds, and particularly preferably within 1 second to 15 seconds. The time for controlling the temperature depends on the concentration of the coating solution and the coating solution solvent used, but is within 5 seconds to 120 seconds, more preferably 10 seconds to 100 seconds, and particularly preferably 20 seconds to 90 seconds. It is.
It is effective to start the temperature control in the first drying section when the amount of residual solvent in the coating film is large. When the residual solvent in the coating film is 10% by mass or less at the time of coating, the fluidity of the liquid is almost lost. Therefore, it is necessary to carry out before the amount of the solvent at the time of coating reaches 10% by mass. More preferably, the residual solvent amount is 30% by mass or less, particularly preferably 50% by mass or less.
The temperature of the first drying part of the present invention is preferably 2 ° C. or more and 30 ° C. or less higher than the temperature of the coating part. This is considered to be because the volatilization of the solvent is promoted and the viscosity of the coating film tends to increase because the temperature of the first drying section is higher than the temperature of the coating film. When the temperature difference is 2 ° C. or less, the drying accelerating effect is small. When the temperature difference is 30 ° C. or more, drying unevenness is likely to occur due to the drying temperature difference being too large. More preferably, it is 3 to 25 ° C, particularly preferably 5 to 20 ° C.
As a temperature of a coating part, the range of 8 to 35 degreeC is preferable. More preferably, it is 15 to 30 degreeC, Most preferably, it is 18 to 25 degreeC.
The temperature control in the first drying unit is preferably performed while suppressing unevenness due to wind. As a method for this, there are a method of suppressing the wind speed on the coating surface, heating by blowing air from the back surface, heating by an infrared heater or the like, and a method of heating the entire first drying chamber by heat conduction or the like. In addition, it is also preferable to attach a windshield cover or the like to the initial drying section. It is preferable that the wind speed of the wind which hits the coating-film surface in an initial drying zone is 0.5 m / s or less. More preferably, it is 0.3 m / s or less, Most preferably, it is 0.2 m / s or less.
For coating films in which the coating film has been set and the flow of the coating liquid has been completed, the temperature is further increased after winding, or until the first drying section that has been kept at 10 ° C. or higher and 40 ° C. or lower until winding. In order to reduce the amount of residual solvent in the film by carrying out drying (second drying section 4a), it is possible to transfer the film to the reverse roll in the conveying line or to the back of the film after winding, or to form a film on the formed film. It is desirable in terms of strength and prevention of solvent crying. The temperature of the second drying section is preferably set with respect to the boiling point of the selected coating solution solvent, and the boiling point of the solvent having the lowest boiling point contained in the coating solution to the highest boiling point contained in the coating solution. The boiling point temperature of the solvent is preferably + 20 ° C., more preferably the boiling point temperature of the solvent having the lowest boiling point contained in the coating liquid + 20 ° C. to the boiling point temperature of the solvent having the highest boiling point contained in the coating liquid + 20 ° C. The temperature of the second drying section is 50 ° C. or higher and 140 ° C. or lower, particularly preferably 60 ° C. or higher and 120 ° C. or lower. The heating time is preferably 15 seconds or more and 30 minutes or less. More preferably, it is 20 seconds or more and 15 minutes or less, and particularly preferably 30 seconds or more and 10 minutes or less.
It is also preferable to provide a step 5a for curing the coating film between the first drying unit and the second drying unit or after the second drying unit, in some cases, in the middle of the second drying unit. As a method for curing the coating film, thermal curing by heating or irradiation with ionizing radiation such as UV or electron beam is conceivable. Thermosetting can be achieved by installing a reversing roll or the like at the time of heating in the second drying section and extending the heating time. In the ionizing radiation irradiation, it is preferable to provide equipment capable of continuously performing irradiation at a necessary place in the process.
The drying conditions of the present invention must be applied to at least one hard coat layer and a low refractive index layer, but are applied to drying conditions of other constituent layers such as a medium refractive index layer and a high refractive index layer. It is also preferable to do.

本発明の防眩性ハードコート層について以下に説明する。
防眩性ハードコート層はハードコート性を付与するためのバインダー、防眩性や内部散乱性を付与するための透光性粒子、および高屈折率化、架橋収縮防止、あるいは高強度化のための無機微粒子フィラー、などから形成される。
防眩性ハードコート層の、透光性粒子以外の部分の屈折率は1.48〜1.70の範囲にあることが好ましい。
The antiglare hard coat layer of the present invention will be described below.
Anti-glare hard coat layer is a binder for imparting hard coat properties, translucent particles for imparting anti-glare and internal scattering properties, and for increasing the refractive index, preventing crosslinking shrinkage, or increasing the strength. Inorganic fine particle filler.
The refractive index of the part other than the light-transmitting particles in the antiglare hard coat layer is preferably in the range of 1.48 to 1.70.

バインダーとしては、飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。
また、バインダーポリマーは架橋構造を有することが好ましい。
飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマーの重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの(共)重合体が好ましい。
高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも1種の原子を含むことが好ましい。
The binder is preferably a polymer having a saturated hydrocarbon chain or a polyether chain as a main chain, and more preferably a polymer having a saturated hydrocarbon chain as a main chain.
The binder polymer preferably has a crosslinked structure.
As the binder polymer having a saturated hydrocarbon chain as a main chain, a polymer of an ethylenically unsaturated monomer is preferable. As the binder polymer having a saturated hydrocarbon chain as the main chain and having a crosslinked structure, a (co) polymer of monomers having two or more ethylenically unsaturated groups is preferable.
In order to obtain a high refractive index, the monomer structure preferably contains an aromatic ring or at least one atom selected from halogen atoms other than fluorine, sulfur atoms, phosphorus atoms, and nitrogen atoms.

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル(例、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート)、ビニルベンゼンおよびその誘導体(例、1,4−ジビニルベンゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン)、ビニルスルホン
(例、ジビニルスルホン)、アクリルアミド(例、メチレンビスアクリルアミド)およびメタクリルアミドが挙げられる。上記モノマーは2種以上併用してもよい。
Examples of the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups include esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid (eg, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-dichlorohexane diacrylate, pentaerythritol tetra). (Meth) acrylate), pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, Pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate), vinylbenzene and its derivatives ( 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2-acryloylethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone), vinylsulfone (eg, divinylsulfone), acrylamide (eg, methylenebisacrylamide) and methacrylamide. It is done. Two or more of these monomers may be used in combination.

高屈折率モノマーの具体例としては、ビス(4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、4−メタクリロキシフェニル−4’−メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらのモノマーも2種以上併用してもよい。   Specific examples of the high refractive index monomer include bis (4-methacryloylthiophenyl) sulfide, vinyl naphthalene, vinyl phenyl sulfide, 4-methacryloxyphenyl-4'-methoxyphenyl thioether, and the like. Two or more of these monomers may be used in combination.

これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、エチレン性不飽和基を有するモノマー、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤、マット粒子および無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して防眩性反射防止フィルムを形成することができる。
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーのベンゾイルベンゾエート、−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイドおよびチオキサントン類等が挙げられる。
特に、光開裂型の光ラジカル重合開始剤が好ましい。光開裂型の光ラジカル重合開始剤については、最新UV硬化技術(P.159,発行人;高薄一弘,発行所;(株)技術情報協会,1991年発行)に記載されている。
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、日本チバガイギー(株)製のイルガキュア(651,184,907)等が挙げられる。
光重合開始剤は、多官能モノマー100質量部に対して、0.1〜15質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは1〜10質量部の範囲である。
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンを挙げることができる。
Polymerization of the monomer having an ethylenically unsaturated group can be performed by irradiation with ionizing radiation or heating in the presence of a photo radical initiator or a thermal radical initiator.
Accordingly, a coating liquid containing a monomer having an ethylenically unsaturated group, a photo radical initiator or a thermal radical initiator, mat particles, and an inorganic filler is prepared, and the coating liquid is applied on a transparent support and then ionizing radiation or heat is applied. The antiglare antireflection film can be formed by curing by the polymerization reaction.
Examples of the photoradical polymerization initiator include acetophenones, benzophenones, Michler's benzoylbenzoate, -amyloxime ester, tetramethylthiuram monosulfide, and thioxanthones.
In particular, photocleavable photoradical polymerization initiators are preferred. The photocleavable photoradical polymerization initiator is described in the latest UV curing technology (P.159, issuer; Kazuhiro Takashiro, publisher; Technical Information Association, published in 1991).
Examples of commercially available photocleavable photoradical polymerization initiators include Irgacure (651, 184, 907) manufactured by Ciba Geigy Japan.
It is preferable to use a photoinitiator in the range of 0.1-15 mass parts with respect to 100 mass parts of polyfunctional monomers, More preferably, it is the range of 1-10 mass parts.
In addition to the photopolymerization initiator, a photosensitizer may be used. Specific examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, Michler's ketone and thioxanthone.

ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキシ化合物の開環重合体が好ましい。多官能エポシキ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、多官能エポシキシ化合物、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤、マット粒子および無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して防眩性反射防止フィルムを形成することができる。
The polymer having a polyether as the main chain is preferably a ring-opening polymer of a polyfunctional epoxy compound. The ring-opening polymerization of the polyfunctional epoxy compound can be performed by irradiation with ionizing radiation or heating in the presence of a photoacid generator or a thermal acid generator.
Accordingly, a coating liquid containing a polyfunctional epoxy compound, a photoacid generator or a thermal acid generator, matte particles and an inorganic filler is prepared, and the coating liquid is applied onto a transparent support and then subjected to a polymerization reaction by ionizing radiation or heat. It can be cured to form an antiglare antireflection film.

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりにまたはそれに加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。
Instead of or in addition to a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups, a monomer having a crosslinkable functional group is used to introduce a crosslinkable functional group into the polymer, and by reaction of this crosslinkable functional group, A crosslinked structure may be introduced into the binder polymer.
Examples of the crosslinkable functional group include isocyanate group, epoxy group, aziridine group, oxazoline group, aldehyde group, carbonyl group, hydrazine group, carboxyl group, methylol group and active methylene group. Vinylsulfonic acid, acid anhydride, cyanoacrylate derivative, melamine, etherified methylol, ester and urethane, and metal alkoxide such as tetramethoxysilane can also be used as a monomer for introducing a crosslinked structure. A functional group that exhibits crosslinkability as a result of the decomposition reaction, such as a block isocyanate group, may be used. That is, in the present invention, the crosslinkable functional group may not react immediately but may exhibit reactivity as a result of decomposition.
These binder polymers having a crosslinkable functional group can form a crosslinked structure by heating after coating.

防眩性ハードコート層には、防眩性や内部散乱性付与の目的で、平均粒径が1〜10μm、好ましくは1.5〜7.0μm、より好ましくは2.0〜6.0μmの透光性粒子、例えば無機化合物の粒子または有機高分子(樹脂)粒子が含有される。透光性微粒子の屈折率としては、透光性粒子以外の部分の防眩性ハードコート層の屈折率はとの関係で選択すべきであるが、1.40〜1.80の範囲にあることが好ましい。
上記透光性粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子(例えば日本触媒(株)製シーホスタシリーズ 屈折率=1.43)、アルミナ粒子(例えば住友化学工業(株)製スミコランダムシリーズ 屈折率=1.64)、TiO粒子等の無機化合物の粒子、あるいは 架橋アクリル粒子(例えば綜研化学(株)製MXシリーズ 屈折率=1.49)、架橋スチレン粒子(例えば綜研化学(株)製SXシリーズ 屈折率=1.61)、架橋メラミン粒子、架橋ベンゾグアナミン粒子(例えば日本触媒(株)製エポスターシリーズ 屈折率=1.68)等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子が好ましい。透光性粒子の形状は、真球あるいは不定形のいずれも使用できるが、表面突起形状が揃う真球状粒子が好ましい。
また、異なる2種以上の透光性粒子を併用して用いてもよい。素材種が2種類以上でも、粒径が2種類以上でも、その制限は無い。上記透光性粒子は、形成された防眩性ハードコート層中の含有量が、好ましくは100〜1000mg/m、より好ましくは300〜800mg/mとなるように防眩性ハードコート層に含有される。
また、透光性粒子のうち、防眩性を付与する粒子は、防眩層の厚みよりも大きな粒径の粒子が効率的で好ましい。一方、防眩層の屈折率とは異なる、内部散乱に寄与する粒子は、この防眩性を付与する粒子であっても構わないし、または/更に防眩性付与に寄与せず、層内に埋め込まれる粒子であってもよい。防眩性を高めすぎないために、この場合は、防眩層の厚みよりも小さな粒径の粒子であることが好ましい。本請求項で記載の光散乱性を発現させるためには、防眩性を付与する粒子の粒径は、好ましくは3μm〜7μm、より好ましくは4〜6μmであり、内部散乱性を付与する粒子の粒径は好ましくは2〜5μm、より好ましくは3〜4μmである。散乱性を調整するために、粒径は同じでも、屈折率の異なる粒子を複数種混合して用いても良い。上記の様に好ましい範囲はあるが、本発明に記載の要件を満たせば、含有量、粒径に特に制限はない。
The antiglare hard coat layer has an average particle size of 1 to 10 μm, preferably 1.5 to 7.0 μm, more preferably 2.0 to 6.0 μm for the purpose of imparting antiglare properties and internal scattering properties. Translucent particles, for example, inorganic compound particles or organic polymer (resin) particles are contained. The refractive index of the light-transmitting fine particles should be selected in relation to the refractive index of the antiglare hard coat layer other than the light-transmitting particles, but is in the range of 1.40 to 1.80. It is preferable.
Specific examples of the translucent particles include silica particles (for example, Nippon Shokubai Co., Ltd. Seahosta series refractive index = 1.43), alumina particles (for example, Sumitomo Chemical Co., Ltd. Sumiko Random Series refractive index = 1.64), particles of inorganic compounds such as TiO 2 particles, or crosslinked acrylic particles (for example, MX series manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., refractive index = 1.49), cross-linked styrene particles (for example, SX series manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) Preferred examples include resin particles such as refractive index = 1.61), crosslinked melamine particles, and crosslinked benzoguanamine particles (for example, Nippon Shokubai Co., Ltd. Eposter series refractive index = 1.68). Of these, crosslinked styrene particles are preferred. As the shape of the translucent particle, either a true sphere or an indefinite shape can be used, but a true spherical particle having a uniform surface protrusion shape is preferable.
Further, two or more different kinds of translucent particles may be used in combination. Even if there are two or more kinds of material and two or more kinds of particle sizes, there is no limitation. The light-transmitting particles, the content of the formed antiglare hard coat layer is preferably 100-1000 mg / m 2, antiglare hard coat layer as more preferably a 300 to 800 / m 2 Contained in
Of the light-transmitting particles, the particle imparting antiglare property is preferably a particle having a particle size larger than the thickness of the antiglare layer. On the other hand, the particles that contribute to internal scattering, which are different from the refractive index of the antiglare layer, may be particles that impart this antiglare property, and / or do not further contribute to imparting the antiglare property and are contained in the layer. It may be an embedded particle. In this case, in order not to increase the antiglare property too much, it is preferable that the particles have a particle size smaller than the thickness of the antiglare layer. In order to exhibit the light scattering property described in the present claims, the particle size of the particle imparting antiglare property is preferably 3 μm to 7 μm, more preferably 4 to 6 μm, and the particle imparting internal scattering property The particle size of is preferably 2 to 5 μm, more preferably 3 to 4 μm. In order to adjust the scattering property, a plurality of particles having the same particle diameter or different refractive indexes may be used. Although there is a preferable range as described above, the content and the particle diameter are not particularly limited as long as the requirements described in the present invention are satisfied.

防眩性ハードコート層には、防眩層の屈折率を調整するために、上記の透光性粒子とは別に、珪素、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物からなり、平均粒径が0.2μm以下、好ましくは0.1μm以下、より好ましくは0.06μm以下である無機フィラーが含有されることが好ましい。無機フィラー形状は特に制限されるものではなく、例えば、球状、板状、繊維状、棒状、不定形、中空等のいずれも好ましく用いられるが、球状が分散性がより良く好ましい。この無機フィラーは、その充填量によりカール防止、表面硬度向上にも寄与できる。無機フィラーを防眩層が含有する場合、防眩層の屈折率は、防眩層を構成する透明樹脂と無機フィラー各々の屈折率とこれらの混合比率で決まる。防眩層の屈折率と前記透光性粒子のうちの内部散乱粒子との屈折率差は、0.05〜0.15が好ましい。0.05未満であれば内部散乱性が低く、多くの体積の内部散乱粒子を含有しなければならず、防眩性反射防止膜の膜強度の低下の懸念があるため、好ましくない。
一方、0.15を超えると、散乱光の散乱角度が大きくなるため、文字ボケが激しくなる方向であり、反射防止フィルムとして好ましくない。最も好ましくは、屈折率差は0.07〜0.13である。
防眩層ハードコート層と透光性粒子の屈折率の大小は、特に制限はないが、文字ボケをより少なくするためには、上記記載の屈折率差の範囲内で、防弦層ハードコート層の屈折率を低くする方が好ましいし、防眩性反射防止フィルムとして、より反射率を低くするためには、防眩層ハードコート層の屈折率を高くする方が好ましく、設計コンセプトによって適宜選択される。
In order to adjust the refractive index of the antiglare layer, the antiglare hard coat layer is selected from silicon, titanium, zirconium, aluminum, indium, zinc, tin, and antimony separately from the above light-transmitting particles. It is preferable that an inorganic filler having an average particle size of 0.2 μm or less, preferably 0.1 μm or less, and more preferably 0.06 μm or less is contained. The shape of the inorganic filler is not particularly limited, and for example, any of a spherical shape, a plate shape, a fiber shape, a rod shape, an indefinite shape, a hollow shape, and the like are preferably used. This inorganic filler can contribute to curling prevention and surface hardness improvement by the filling amount. When the antiglare layer contains an inorganic filler, the refractive index of the antiglare layer is determined by the refractive index of each of the transparent resin and the inorganic filler constituting the antiglare layer and the mixing ratio thereof. The refractive index difference between the refractive index of the antiglare layer and the internal scattering particles among the translucent particles is preferably 0.05 to 0.15. If it is less than 0.05, the internal scattering property is low, it must contain a large volume of internal scattering particles, and there is a concern that the film strength of the antiglare antireflection film may be lowered.
On the other hand, if it exceeds 0.15, the scattering angle of the scattered light becomes large, resulting in a direction in which the character blur becomes intense, which is not preferable as an antireflection film. Most preferably, the refractive index difference is 0.07 to 0.13.
The magnitude of the refractive index of the antiglare layer hard coat layer and the translucent particles is not particularly limited, but in order to reduce the character blur, within the range of the refractive index difference described above, the string protective layer hard coat It is preferable to lower the refractive index of the layer, and in order to further reduce the reflectance as an antiglare antireflection film, it is preferable to increase the refractive index of the antiglare layer hard coat layer, depending on the design concept. Selected.

防眩性ハードコート層に用いられる無機フィラーの具体例としては、TiO、ZrO、Al、In、ZnO、SnO、Sb、ITO、SiO等が挙げられる。SiO、TiO、およびZrOが無機フィラーの中で、取り扱い性の点で特に好ましい。該無機フィラーは表面をシランカップリング処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
これらの無機フィラーの添加量は、防眩性ハードコート層の全質量の10〜90%であることが好ましく、より好ましくは20〜70%であり、特に好ましくは30〜50%である。
尚、このような無機フィラーは、粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、樹脂バインダーに該フィラーが分散した複合体は、前述の通り、光学的に均一な物質として振舞う。
Specific examples of the inorganic filler used in the antiglare hard coat layer include TiO 2 , ZrO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , ZnO, SnO 2 , Sb 2 O 3 , ITO, and SiO 2. It is done. Among the inorganic fillers, SiO 2 , TiO 2 , and ZrO 2 are particularly preferable from the viewpoint of handleability. The surface of the inorganic filler is preferably subjected to a silane coupling treatment or a titanium coupling treatment, and a surface treatment agent having a functional group capable of reacting with a binder species on the filler surface is preferably used.
The amount of these inorganic fillers added is preferably 10 to 90% of the total mass of the antiglare hard coat layer, more preferably 20 to 70%, and particularly preferably 30 to 50%.
In addition, since such an inorganic filler has a particle size sufficiently smaller than the wavelength of light, scattering does not occur, and a composite in which the filler is dispersed in a resin binder behaves as an optically uniform substance as described above. .

本発明の、樹脂バインダーからなる防眩性ハードコート層あるいは、樹脂バインダーが無機フィラーを含有した防眩性ハードコート層の屈折率は、1.48〜1.70であることが好ましく、より好ましくは1.50〜1.65である。屈折率を上記範囲とするには、前述の通り、樹脂バインダー及び無機フィラーの種類及び量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。   The refractive index of the antiglare hard coat layer made of a resin binder or the antiglare hard coat layer containing an inorganic filler in the present invention is preferably 1.48 to 1.70, more preferably. Is 1.50 to 1.65. In order to set the refractive index within the above range, as described above, the types and amount ratios of the resin binder and the inorganic filler may be appropriately selected. How to select can be easily known experimentally in advance.

本発明の防眩性ハードコート層は、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するために、フッ素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、あるいはその両者を防眩層形成用の塗布組成物中に含有することができる。特にフッ素系の界面活性剤は、より少ない添加量において、本発明の防眩性反射防止フィルムの塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良する効果が現れるため、好ましく用いられる。
フッ素系の界面活性剤の好ましい例としては、スリーエム社製のフロラードFC−431等のパーフルオロアルキルスルホン酸アミド基含有ノニオン、大日本インキ社製のメガファックF−171、F−172、F−173、F−176PF等のパーフルオロアルキル基含有オリゴマー等が挙げられる。シリコーン系の界面活性剤としては、エチレングリコール、プロピレングリコール等のオリゴマー等の各種の置換基で側鎖や主鎖の末端が変性されたポリジメチルシロキサン等が挙げられる。
The antiglare hard coat layer of the present invention prevents fluorine or silicone surfactants or both, particularly in order to ensure surface uniformity such as coating unevenness, drying unevenness, and point defects. It can contain in the coating composition for glare layer formation. In particular, a fluorine-based surfactant is preferably used because an effect of improving surface defects such as coating unevenness, drying unevenness, and point defects of the antiglare antireflection film of the present invention appears in a smaller addition amount.
Preferable examples of the fluorosurfactant include perfluoroalkylsulfonic acid amide group-containing nonions such as 3M's Fluorard FC-431, Daifuku Ink's MegaFuck F-171, F-172, F- Perfluoroalkyl group-containing oligomers such as 173 and F-176PF. Examples of the silicone-based surfactant include polydimethylsiloxane in which a side chain or a main chain terminal is modified with various substituents such as oligomers such as ethylene glycol and propylene glycol.

しかしながら、上記のような界面活性剤を使用することにより、防眩層表面にF原子を含有する官能基、および/またはSi原子を有する官能基が偏析することにより、防眩層の表面エネルギーが低下し、上記防眩層上に低屈折率層をオーバーコートしたときに反射防止性能が悪化する問題が起こりえる。これは低屈折率層を形成するために用いられる塗布組成物の濡れ性が悪化するために低屈折率層の膜厚の目視では検知できない微小なムラが悪化するためと推定される。このような問題を解決するためには、フッ素系および/またはシリコーン系の界面活性剤の構造と添加量を調整することにより、防眩層の表面エネルギーを好ましくは25mN・m−1〜70mN・m−1に、より好ましくは35mN・m−1〜70mN・m−1に制御することが効果的であり、さらに後述するように低屈折率層の塗布溶剤を50〜100質量パーセントが100℃以下の沸点を有するものとすることが効果的であること検討の中で見出した。また、上記のような表面エネルギーを実現するためには、X線光電子分光法で測定したF原子由来のピークとC原子由来のピークの比であるF/Cが0.40以下、および/またはSi原子由来のピークとC原子由来のピークの比であるSi/Cが0.30以下であることが必要であることもわかっている。 However, the surface energy of the antiglare layer is increased by using the surfactant as described above, because the functional groups containing F atoms and / or the functional groups having Si atoms are segregated on the surface of the antiglare layer. When the low refractive index layer is overcoated on the antiglare layer, there may be a problem that the antireflection performance deteriorates. This is presumably because minute unevenness that cannot be detected by visual observation of the film thickness of the low refractive index layer deteriorates because the wettability of the coating composition used for forming the low refractive index layer deteriorates. In order to solve such a problem, the surface energy of the antiglare layer is preferably 25 mN · m −1 to 70 mN · by adjusting the structure and addition amount of the fluorine-based and / or silicone-based surfactant. to m -1, more preferably it is effective to control the 35mN · m -1 ~70mN · m -1 , further 50 to 100 weight percent of the coating solvent of the low refractive index layer as described later 100 ° C. It was found in the examination that it is effective to have the following boiling point. In order to realize the surface energy as described above, F / C, which is the ratio of the peak derived from the F atom and the peak derived from the C atom measured by X-ray photoelectron spectroscopy, is 0.40 or less, and / or It has also been found that Si / C, which is the ratio of the Si atom-derived peak to the C atom-derived peak, needs to be 0.30 or less.

本発明の防眩性ハードコート層の膜厚は1〜10μmが好ましく、より好ましくは2〜7μm、更に好ましくは3〜5μmである。膜厚が薄すぎると、防眩性反射防止フィルムとしての表面硬度が低下する、好ましい範囲の透光性粒子を含有できなくなる、といった弊害が生じ、一方、膜厚が厚すぎると、塗液中のバインダー成分の比率が高くなり、液粘度上昇による塗布性不良といった弊害が生じるためである。   The film thickness of the antiglare hard coat layer of the present invention is preferably 1 to 10 μm, more preferably 2 to 7 μm, still more preferably 3 to 5 μm. If the film thickness is too thin, the surface hardness as an antiglare and antireflection film is lowered, and it becomes impossible to contain translucent particles in a preferable range. On the other hand, if the film thickness is too thick, This is because the ratio of the binder component becomes high, resulting in problems such as poor applicability due to an increase in liquid viscosity.

本発明の防弦性反射防止フィルムの表面突起形状は、(1)防眩性や内部散乱性を付与する透光性微粒子の素材種、粒径、添加量、(2)更には樹脂、あるいは樹脂と無機フィラーの複合体から成る防眩層の厚み、(3)塗布液の溶剤組成、(4)Wet塗布量、(5)乾燥条件、(6)電離線硬化樹脂に対する硬化条件など、が制御因子として挙げることができ、この中で(1)、(2)の影響が大きい。我々が検討を進めた結果、同じ防眩性を与える、防眩性反射防止フィルムであっても、このトータルの防眩性を発現するための、ひとつひとつの表面突起形状が異なると、ディスプレイ電源OFF時あるいは、液晶の黒表示の時に、表面散乱性の違いで、外観状の黒の締まり(逆にいうと、白味)が異なることがわかった。表面突起の突起傾斜角が大きいと、広角域への表面散乱性が強くなるため、黒の締まりが損なわれ、白っぽくなり、高級感が失われる。黒の締まりは、突起傾斜角度分布の角度の小さい側から95%頻度の角度とよく相関があることを明確にし、好ましくは20°以下、より好ましくは15°以下、更に好ましくは13°以下である。
また、防眩性によく相関する、平均の表面突起傾斜角度は、より好ましくは1〜5°、より好ましくは1.5〜4.5°、更に好ましくは2〜4°である。
本発明の製造方法で製造する場合、上記(3)、(4)、(5)などは重要な影響因子となるため、表面形状制御と、面状・欠陥制御との両立が容易となる条件選択が望ましい。
The surface protrusion shape of the string-proof antireflection film of the present invention includes (1) material type, particle size, addition amount of light-transmitting fine particles imparting antiglare property and internal scattering property, and (2) resin or The thickness of the antiglare layer composed of a composite of resin and inorganic filler, (3) solvent composition of coating solution, (4) wet coating amount, (5) drying conditions, (6) curing conditions for ionizing radiation curable resin, etc. It can be mentioned as a control factor, and the influence of (1) and (2) is great among them. As a result of our investigation, even if it is an anti-glare antireflection film that gives the same anti-glare property, the display power is turned off if each surface protrusion shape is different to express this total anti-glare property. At the time of black display of liquid crystal, it was found that the appearance of black tightening (in other words, whiteness) differs due to the difference in surface scattering. When the protrusion inclination angle of the surface protrusion is large, the surface scattering property to a wide angle region becomes strong, so that black tightening is lost, whitish, and high-class feeling is lost. The black tightening clearly shows that there is a good correlation with the angle of 95% frequency from the small angle side of the protrusion inclination angle distribution, preferably 20 ° or less, more preferably 15 ° or less, and further preferably 13 ° or less. is there.
The average surface protrusion inclination angle that correlates well with the antiglare property is more preferably 1 to 5 °, more preferably 1.5 to 4.5 °, and further preferably 2 to 4 °.
When manufacturing by the manufacturing method of the present invention, the above (3), (4), (5), etc. are important influencing factors, and therefore it is easy to achieve both surface shape control and surface / defect control. Selection is desirable.

本発明に係る低屈折率層、ハードコート層、その他の構成層を形成するために用いる塗布液の溶剤としては、各層の構成成分の溶解性、添加している粒子等の安定性、塗工する下地層への溶解・拡散性、乾燥工程での乾燥性、粘度調整等の観点から適宜選択できる。溶剤の組成としては、単独および混合のいずれでもよいが、乾燥性、粘度等を調整するために、適宜混合することがより好ましい。特に、高沸点の溶剤と、低沸点の溶剤を混合することは好ましい方法である。
また、本発明の塗布液における主溶剤とは、塗布液中に含まれる溶剤のうち、最も質量比の大きい溶剤のことをしめす。
The solvent of the coating solution used for forming the low refractive index layer, hard coat layer, and other constituent layers according to the present invention includes solubility of constituent components of each layer, stability of added particles, coating, etc. It can be appropriately selected from the viewpoints of solubility / diffusibility in the underlying layer, drying property in the drying process, viscosity adjustment, and the like. The composition of the solvent may be either single or mixed, but it is more preferable to mix appropriately in order to adjust the drying property, viscosity and the like. In particular, mixing a high boiling point solvent and a low boiling point solvent is a preferred method.
Moreover, the main solvent in the coating liquid of this invention shows the solvent with the largest mass ratio among the solvents contained in a coating liquid.

低沸点溶剤(沸点が100℃以下の溶剤とする)としては、例えば、ヘキサン(沸点68.7℃、以下「℃」を省略する)、ヘプタン(98.4)、シクロヘキサン(80.7)、ベンゼン(80.1)などの炭化水素類、ジクロロメタン(39.8)、クロロホルム(61.2)、四塩化炭素(76.8)、1,2−ジクロロエタン(83.5)、トリクロロエチレン(87.2)などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル(34.6)、ジイソプロピルエーテル(68.5)、ジプロピルエーテル(90.5)、テトラヒドロフラン(66)などのエーテル類、ギ酸エチル(54.2)、酢酸メチル(57.8)、酢酸エチル(77.1)、酢酸イソプロピル(89)などのエステル類、アセトン(56.1)、2−ブタノン(=メチルエチルケトン、79.6)などのケトン類、メタノール(64.5)、エタノール(78.3)、2−プロパノール(82.4)、1−プロパノール(97.2)、2−ブタノール(99.5)、t−ブタノール(82.5)などのアルコール類、アセトニトリル(81.6)、プロピオニトリル(97.4)などのシアノ化合物類、二硫化炭素(46.2)、などがある。このうちケトン類、エステル類が好ましく、特に好ましくはケトン類である。ケトン類の中では2−ブタノンが特に好ましい。   As the low boiling point solvent (the solvent having a boiling point of 100 ° C. or lower), for example, hexane (boiling point 68.7 ° C., hereinafter “° C.” is omitted), heptane (98.4), cyclohexane (80.7), Hydrocarbons such as benzene (80.1), dichloromethane (39.8), chloroform (61.2), carbon tetrachloride (76.8), 1,2-dichloroethane (83.5), trichloroethylene (87. 2) and other halogenated hydrocarbons, diethyl ether (34.6), diisopropyl ether (68.5), dipropyl ether (90.5), ethers such as tetrahydrofuran (66), ethyl formate (54.2) ), Methyl acetate (57.8), ethyl acetate (77.1), esters such as isopropyl acetate (89), acetone (56.1), 2-butanone (= Ketones such as tilethylketone, 79.6), methanol (64.5), ethanol (78.3), 2-propanol (82.4), 1-propanol (97.2), 2-butanol (99) .5), alcohols such as t-butanol (82.5), cyano compounds such as acetonitrile (81.6) and propionitrile (97.4), and carbon disulfide (46.2). . Of these, ketones and esters are preferable, and ketones are particularly preferable. Among the ketones, 2-butanone is particularly preferable.

高沸点溶剤(沸点が100℃以上の溶剤とする)としては、例えば、オクタン(125.7)、トルエン(110.6)、キシレン(138)、テトラクロロエチレン(121.2)、クロロベンゼン(131.7)、ジオキサン(101.3)、ジブチルエーテル
(142.4)、酢酸ブチル(126)、酢酸イソブチル(118)、シクロヘキサノン
(155.7)、2−メチル−4−ペンタノン(=MIBK、115.9)、2−オクタノン(173)、1−ブタノール(117.7)、iso―ブタノール(107.9)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(120)、ジアセトンアルコール(168)、N,N−ジメチルホルムアミド(153)、N,N−ジメチルアセトアミド(166)、ジメチルスルホキシド(189)、などがある。好ましくは、シクロヘキサノン、2−メチル−4−ペンタノン、等である。
本発明の防眩性ハードコート層の溶剤組成としては、沸点100℃以上の溶剤が、塗布液中の全溶剤の1%〜90%、より好ましくは、塗布液中の全溶剤の3%〜80%含まれることが好ましい。沸点100℃以上の溶剤が全く無いと、乾燥時にブラッシング面状が起きやすくなる。
また、反射防止フィルムを構成する原料の溶解性、分散性が得られる点から、ケトン系溶剤が好ましく、メチルエチルケトン(沸点80℃)、シクロヘキサノン(沸点156℃)、ジアセトンアルコール(沸点168℃)、メチルイソブチルケトン(沸点113℃)、アセトン(沸点56℃)などが挙げられる。また、Wet塗布量は、塗布方式からの制限も受けるが、3cc/m〜20cc/m、より好ましくは3cc/m〜10cc/mである。あまりWet塗布量が少なすぎると、必要な固形分塗設量を得るための塗布液の粘度が高くなり塗布性(スジなど)に影響が出やすくなることから好ましくなく、Wet塗布量が多くなりすぎると、乾燥しにくくなり不利となる。
塗布液の固形分濃度は、3%以上60%以下が好ましく、5%以上50%以下が更に好ましい。また、乾燥条件因子については適宜選択されるが、乾燥風の温度、給気/排気バランス、ベースの温度、塗布液の温度などを制御する。
Examples of the high boiling point solvent (the solvent having a boiling point of 100 ° C. or higher) include octane (125.7), toluene (110.6), xylene (138), tetrachloroethylene (121.2), and chlorobenzene (131.7). ), Dioxane (101.3), dibutyl ether (142.4), butyl acetate (126), isobutyl acetate (118), cyclohexanone (155.7), 2-methyl-4-pentanone (= MIBK, 115.9). ), 2-octanone (173), 1-butanol (117.7), iso-butanol (107.9), propylene glycol monomethyl ether (120), diacetone alcohol (168), N, N-dimethylformamide (153) ), N, N-dimethylacetamide (166), dimethyl sulfoxide (18) ), And the like. Preferred are cyclohexanone, 2-methyl-4-pentanone, and the like.
As the solvent composition of the antiglare hard coat layer of the present invention, a solvent having a boiling point of 100 ° C. or higher is 1% to 90% of the total solvent in the coating liquid, more preferably 3% to the total solvent in the coating liquid. It is preferable that 80% is contained. If there is no solvent having a boiling point of 100 ° C. or higher, a brushed surface is likely to occur during drying.
Further, from the viewpoint of obtaining the solubility and dispersibility of the raw materials constituting the antireflection film, a ketone solvent is preferable, methyl ethyl ketone (boiling point 80 ° C.), cyclohexanone (boiling point 156 ° C.), diacetone alcohol (boiling point 168 ° C.), Examples include methyl isobutyl ketone (boiling point 113 ° C.) and acetone (boiling point 56 ° C.). Further, Wet coating amount is also subject restrictions from coating system, 3cc / m 2 ~20cc / m 2, more preferably from 3cc / m 2 ~10cc / m 2 . If the amount of wet coating is too small, the viscosity of the coating solution for obtaining the necessary solid content coating amount is increased, and the coating properties (such as streaks) are likely to be affected, and the amount of wet coating increases. If too much, it becomes difficult to dry, which is disadvantageous.
The solid content concentration of the coating solution is preferably 3% to 60%, more preferably 5% to 50%. The drying condition factor is appropriately selected, and the temperature of the drying air, the supply / exhaust balance, the base temperature, the temperature of the coating solution, and the like are controlled.

本発明の防眩性反射防止フィルムでは、フィルム強度向上の目的で防眩性を持たない、いわゆる平滑なハードコート層も好ましく用いられ、透明支持体と防眩性ハードコート層もしくは透明支持体と低、中、高屈折率層の間に塗設される。   In the antiglare antireflection film of the present invention, a so-called smooth hard coat layer having no antiglare property for the purpose of improving the film strength is also preferably used, and a transparent support and an antiglare hard coat layer or a transparent support are used. It is coated between the low, medium and high refractive index layers.

平滑なハードコート層について説明する。
平滑なハードコート層に用いる素材は、防眩性を付与するための透光性粒子を用いないこと以外は、防眩性ハードコート層において挙げたものと同様であり、樹脂バインダー、あるいは、樹脂バインダーと無機フィラーの混合体から形成される。
A smooth hard coat layer will be described.
The material used for the smooth hard coat layer is the same as that described in the anti-glare hard coat layer except that the light-transmitting particles for imparting anti-glare properties are not used, and the resin binder or resin It is formed from a mixture of a binder and an inorganic filler.

本発明の平滑なハードコート層では、無機フィラーとして、強度および汎用性の点でシリカ、アルミナが好ましく、特にシリカが好ましい。また該無機フィラーは表面をシランカップリング処理されることが好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。   In the smooth hard coat layer of the present invention, silica and alumina are preferable as the inorganic filler in terms of strength and versatility, and silica is particularly preferable. Further, the surface of the inorganic filler is preferably subjected to silane coupling treatment, and a surface treatment agent having a functional group capable of reacting with the binder species on the filler surface is preferably used.

これらの無機フィラーの添加量は、ハードコート層の全質量の10〜90%であることが好ましく、より好ましくは20〜70%であり、特に好ましくは30〜50%である。平滑なハードコート層の膜厚は1〜10μmが好ましく、より好ましくは2〜7μm、更に好ましくは3〜5μmである。   The amount of these inorganic fillers added is preferably 10 to 90% of the total mass of the hard coat layer, more preferably 20 to 70%, and particularly preferably 30 to 50%. The film thickness of the smooth hard coat layer is preferably 1 to 10 μm, more preferably 2 to 7 μm, and still more preferably 3 to 5 μm.

本発明の低屈折率層について以下に説明する。
本発明の防眩性反射防止フィルムの低屈折率層の屈折率は、1.38〜1.49が好ましく、より好ましくは1.38〜1.44の範囲にある。
さらに、低屈折率層は下記数式(I)を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
The low refractive index layer of the present invention will be described below.
The refractive index of the low refractive index layer of the antiglare antireflection film of the present invention is preferably from 1.38 to 1.49, more preferably from 1.38 to 1.44.
Further, the low refractive index layer preferably satisfies the following formula (I) from the viewpoint of reducing the reflectance.

mλ/4×0.7<n1d1<mλ/4×1.3 数式(I)   mλ / 4 × 0.7 <n1d1 <mλ / 4 × 1.3 Formula (I)

式中、mは正の奇数であり、nは低屈折率層の屈折率であり、そして、dは低屈折率層の膜厚(nm)である。また、λは波長であり、500〜550nmの範囲の値である。
なお、上記数式(I)を満たすとは、上記波長の範囲において数式(I)を満たすm(正の奇数、通常1である)が存在することを意味している。
In the formula, m is a positive odd number, n 1 is the refractive index of the low refractive index layer, and d 1 is the film thickness (nm) of the low refractive index layer. Further, λ is a wavelength, which is a value in the range of 500 to 550 nm.
In addition, satisfy | filling said numerical formula (I) means that m (positive odd number, usually 1) which satisfy | fills numerical formula (I) exists in the said wavelength range.

本発明の低屈折率層を形成する素材について以下に説明する。
低屈折率層には、低屈折率バインダーとして、動摩擦係数0.03〜0.15、水に対する接触角90〜120°の熱または電離放射線により架橋する含フッ素ポリマー、および膜強度向上のための無機フィラー、が好ましく用いられる。
The material for forming the low refractive index layer of the present invention will be described below.
For the low refractive index layer, as a low refractive index binder, a fluorinated polymer that crosslinks by heat or ionizing radiation having a dynamic friction coefficient of 0.03 to 0.15, a contact angle with water of 90 to 120 °, and a film strength improvement An inorganic filler is preferably used.

低屈折率層に用いられる架橋性の含フッ素ポリマーとしてはパーフルオロアルキル基含有シラン化合物(例えば(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラデシル)トリエトキシシラン)等の他、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素ポリマーが挙げられる。
含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えばビスコート6FM(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキン製)等)、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。
Examples of the crosslinkable fluorine-containing polymer used in the low refractive index layer include a perfluoroalkyl group-containing silane compound (for example, (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetradecyl) triethoxysilane), and other fluorine-containing monomers. And a fluorine-containing polymer having a monomer for providing a crosslinkable group as a structural unit.
Specific examples of the fluorine-containing monomer unit include, for example, fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole, etc. ), A part of (meth) acrylic acid or a fully fluorinated alkyl ester derivative (for example, Biscoat 6FM (manufactured by Osaka Organic Chemicals) or M-2020 (manufactured by Daikin)), a complete or partially fluorinated vinyl ether, and the like. Perfluoroolefins are preferred, and hexafluoropropylene is particularly preferred from the viewpoints of refractive index, solubility, transparency, availability, and the like.

架橋反応性付与のための構成単位としてはグリシジル(メタ)アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー(例えば(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等)の重合によって得られる構成単位、これらの構成単位に高分子反応によって(メタ)アクリルロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位(例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる)が挙げられる。   As structural units for imparting crosslinking reactivity, structural units obtained by polymerization of monomers having a self-crosslinkable functional group in advance in the molecule such as glycidyl (meth) acrylate and glycidyl vinyl ether, carboxyl groups, hydroxy groups, amino groups Obtained by polymerization of a monomer having a sulfo group or the like (for example, (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate, hydroxyethyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, maleic acid, crotonic acid, etc.) And a structural unit obtained by introducing a crosslinking reactive group such as a (meth) acryloyl group into these structural units by a polymer reaction (for example, it can be introduced by a technique such as allowing acrylic acid chloride to act on a hydroxy group) And the like.

また上記含フッ素モノマー単位、架橋反応性付与のための構成単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合することもできる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類(エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等)、アクリル酸エステル類(アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル)、メタクリル酸エステル類(メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等)、スチレン誘導体(スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等)、ビニルエーテル類(メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等)、ビニルエステル類(酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等)、アクリルアミド類(N−tertブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド等)、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。   In addition to the above-mentioned fluorine-containing monomer units and structural units for imparting crosslinking reactivity, monomers not containing fluorine atoms can be copolymerized as appropriate from the viewpoints of solubility in solvents and film transparency. There are no particular limitations on the monomer units that can be used in combination. For example, olefins (ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc.), acrylic esters (methyl acrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic acid 2) -Ethylhexyl), methacrylates (methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, etc.), styrene derivatives (styrene, divinylbenzene, vinyl toluene, α-methylstyrene, etc.), vinyl ethers (methyl) Vinyl ether, ethyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, etc.), vinyl esters (vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate etc.), acrylamides (N-tertbutylacrylamide, N-silane) B hexyl acrylamide), methacrylamides, and acrylonitrile derivatives.

上記のポリマーに対しては特開平10−25388号および特開平10−147739号に記載のごとく適宜硬化剤を併用しても良い。   As described in JP-A-10-25388 and JP-A-10-147739, a curing agent may be appropriately used in combination with the above polymer.

本発明で特に有用な含フッ素ポリマーは、パ‐フルオロオレフィンとビニルエーテル類またはビニルエステル類のランダム共重合体である。特に単独で架橋反応可能な基((メタ)アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等)を有していることが好ましい。これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の5〜70mol%を占めていることが好ましく、特に好ましくは30〜60mol%の場合である。   The fluorine-containing polymer particularly useful in the present invention is a random copolymer of perfluoroolefin and vinyl ethers or vinyl esters. In particular, it preferably has a group capable of undergoing a crosslinking reaction alone (a radical reactive group such as a (meth) acryloyl group, a ring-opening polymerizable group such as an epoxy group or an oxetanyl group). These crosslinkable group-containing polymerized units preferably occupy 5 to 70 mol% of the total polymerized units of the polymer, particularly preferably 30 to 60 mol%.

また本発明の含フッ素ポリマーには防汚性を付与する目的で、ポリシロキサン構造が導入されていることが好ましい。ポリシロキサン構造の導入方法に制限はないが例えば特開平11−189621号、同11−228631号、特開2000−313709号に記載のごとくシリコーンマクロアゾ開始剤を用いてポリシロキサンブロック共重合成分を導入する方法、特開平2−251555号、同2−308806号に記載のごとくシリコーンマクロマーを用いてポリシロキサングラフト共重合成分を導入する方法が好ましい。これらのポリシロキサン成分はポリマー中の0.5〜10質量%であることが好ましく、特に好ましくは1〜5質量%である。   Moreover, it is preferable that the polysiloxane structure is introduce | transduced in the fluorine-containing polymer of this invention in order to provide antifouling property. There is no limitation on the method of introducing the polysiloxane structure, but the polysiloxane block copolymer component is prepared using a silicone macroazo initiator as described in, for example, JP-A Nos. 11-189621, 11-2288631, and 2000-313709. A method of introducing a polysiloxane graft copolymer component using a silicone macromer as described in JP-A-2-251555 and JP-A-2-308806 is preferred. These polysiloxane components are preferably 0.5 to 10% by mass in the polymer, and particularly preferably 1 to 5% by mass.

防汚性付与に対しては上記以外にも反応性基含有ポリシロキサン(例えばKF−100T,X−22−169AS,KF−102,X−22−3701IE,X−22−164B,X−22−5002,X−22−173B,X−22−174D,X−22−167B,X−22−161AS(以上商品名、信越化学工業社製)、AK−5,AK−30,AK−32(以上商品名、東亜合成社製)、サイラプレーンFM0275,サイラプレーンFM0721(以上チッソ社製)等)を添加する手段も好ましい。この際これらのポリシロキサンは低屈折率層全固形分の0.5〜10質量%の範囲で添加されることが好ましく、特に好ましくは1〜5質量%の場合である。   For imparting antifouling properties, reactive group-containing polysiloxanes other than the above (for example, KF-100T, X-22-169AS, KF-102, X-22-3701IE, X-22-164B, X-22- 5002, X-22-173B, X-22-174D, X-22-167B, X-22-161AS (above trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), AK-5, AK-30, AK-32 (above A trade name, manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.), Silaplane FM0275, Silaplane FM0721 (manufactured by Chisso Corporation), etc.) is also preferred. In this case, these polysiloxanes are preferably added in the range of 0.5 to 10% by mass of the total solid content of the low refractive index layer, and particularly preferably 1 to 5% by mass.

また上記含フッ素モノマーを構成単位とするポリマーだけでなく、フッ素原子を含有しないモノマーとの共重合体を用いてもよい。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類(エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等)、アクリル酸エステル類(アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル)、メタクリル酸エステル類(メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等)、スチレン誘導体(スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等)、ビニルエーテル類(メチルビニルエーテル等)、ビニルエステル類(酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等)、アクリルアミド類(N−tertブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド等)、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。   Further, not only a polymer having the above-mentioned fluorine-containing monomer as a structural unit but also a copolymer with a monomer not containing a fluorine atom may be used. There are no particular limitations on the monomer units that can be used in combination. For example, olefins (ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc.), acrylic esters (methyl acrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic acid 2) -Ethylhexyl), methacrylates (methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, etc.), styrene derivatives (styrene, divinylbenzene, vinyl toluene, α-methylstyrene, etc.), vinyl ethers (methyl) Vinyl ether), vinyl esters (vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate, etc.), acrylamides (N-tertbutylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, etc.), methacrylamides, Krilo nitrile derivatives and the like can be mentioned.

低屈折率層に用いられる無機フィラーとしては低屈折率のものが好ましく用いられ、好ましい無機フィラーは、シリカ、フッ化マグネシウムであり、特にシリカが好ましい。
該無機フィラーの平均粒径は0.001〜0.2μmであることが好ましく、0.001〜0.05μmであることがより好ましい。フィラーの粒径はなるべく均一(単分散)であることが好ましい。
該無機フィラーは粒子径の異なる2種類のフィラーを併用しても良い。特に粒子径が0.02〜0.05μmの無機フィラーと粒子径が0.01μm以下の無機フィラーを併用することにより、反射率と耐擦傷性を両立させることができる。粒子径の異なる2種類の無機フィラーそれぞれの添加量の割合は、欲しい反射率と耐擦傷性のバランスにより0〜1の間を自由に変化させることが可能である。反射率を低減させたい場合には粒子径の小さな無機フィラーが大部分を占めることが好ましく、耐擦傷性を強化したい場合には粒子径の大きな無機フィラーの割合を上げてゆくことが好ましい。
該無機フィラーの添加量は、低屈折率層の全質量の5〜70質量%であることが好ましく、10〜50質量%であると更に好ましく、15〜30質量%が特に好ましい。
As the inorganic filler used in the low refractive index layer, those having a low refractive index are preferably used. Preferred inorganic fillers are silica and magnesium fluoride, and silica is particularly preferable.
The average particle size of the inorganic filler is preferably 0.001 to 0.2 μm, and more preferably 0.001 to 0.05 μm. The particle diameter of the filler is preferably as uniform (monodispersed) as possible.
As the inorganic filler, two kinds of fillers having different particle diameters may be used in combination. In particular, when an inorganic filler having a particle size of 0.02 to 0.05 μm and an inorganic filler having a particle size of 0.01 μm or less are used in combination, both reflectance and scratch resistance can be achieved. The ratio of the added amount of each of the two types of inorganic fillers having different particle diameters can be freely changed between 0 and 1 depending on the desired balance between reflectivity and scratch resistance. When it is desired to reduce the reflectance, it is preferable that the inorganic filler having a small particle diameter occupies the majority, and when it is desired to enhance the scratch resistance, it is preferable to increase the proportion of the inorganic filler having a large particle diameter.
The amount of the inorganic filler added is preferably 5 to 70% by mass, more preferably 10 to 50% by mass, and particularly preferably 15 to 30% by mass with respect to the total mass of the low refractive index layer.

該無機フィラーは表面処理を施して用いることも好ましい。表面処理法としてはプラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理とカップリング剤を使用する化学的表面処理があるが、カップリング剤の使用が好ましい。カップリング剤としては、後述する一般式(1)の化合物も含めたオルガノアルコキシメタル化合物(例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤)が好ましく用いられる。該無機フィラーがシリカの場合はシランカップリング処理が特に有効である。
一般式(1)の化合物は、低屈折率層の無機フィラーの表面処理剤として該層塗布液調製以前にあらかじめ表面処理を施すために用いても良いし、該層塗布液調製時にさらに添加剤として添加して該層に含有させても良い。
The inorganic filler is preferably used after being subjected to a surface treatment. The surface treatment method includes physical surface treatment such as plasma discharge treatment and corona discharge treatment and chemical surface treatment using a coupling agent, but the use of a coupling agent is preferred. As the coupling agent, an organoalkoxymetal compound (eg, titanium coupling agent, silane coupling agent) including the compound of the general formula (1) described later is preferably used. When the inorganic filler is silica, silane coupling treatment is particularly effective.
The compound of the general formula (1) may be used as a surface treatment agent for the inorganic filler of the low refractive index layer in order to perform surface treatment in advance before the preparation of the layer coating solution, and further added during the preparation of the layer coating solution. And may be added to the layer.

本発明の反射防止フィルムのハードコート層(防眩性を有しているものも含む)および低屈折率層のうちの少なくとも1層に、下記一般式(1)の化合物が含有されることが、耐擦傷性に対して好ましい。
この化合物は、アルコキシシリル基が加水分解していない状態、もしくはオルガノシラン化合物の加水分解物/またはその部分縮合物、いわゆるゾル成分(以降このように称する)の状態で含有される。これらのオルガノシラン化合物は、特にゾル成分で含有されることが好ましい。
一般式(1)
(R)m−Si(OR)n
一般式(1)式中、Rは置換もしくは無置換のアルキル基もしくは、アリール基を表す。Rは置換もしくは無置換のアルキル基もしくはアシル基を表す。mは0〜3の整数を表す。nは1〜4の整数を表す。mとnの合計は4である。
一般式(1)で表される化合物について説明する。
一般式(1)においてRは置換もしくは無置換のアルキル基もしくはアリール基を表す。アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、t−ブチル、sec−ブチル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アルキル基として好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは1〜6のものである。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
置換基としては特に制限はないが、ハロゲン(フッ素、塩素、臭素等)、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基(メチル、エチル、i−プロピル、プロピル、t−ブチル等)、アリール基(フェニル、ナフチル等)、芳香族ヘテロ環基(フリル、ピラゾリル、ピリジル等)、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、i−プロポキシ、ヘキシルオキシ等)、アリールオキシ(フェノキシ等)、アルキルチオ基(メチルチオ、エチルチオ等)、アリールチオ基(フェニルチオ等)、アルケニル基(ビニル、1−プロペニル等)、アルコキシシリル基(トリメトキシシリル、トリエトキシシリル等)、アシルオキシ基(アセトキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(フェノキシカルボニル等)、カルバモイル基(カルバモイル、N−メチルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N−メチル−N−オクチルカルバモイル等)、アシルアミノ基(アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等)等が好ましい。
これらのうちで更に好ましくは水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アルコキシシリル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基であり、特に好ましくはエポキシ基、重合性のアシルオキシ基(アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ)、重合性のアシルアミノ基(アクリルアミノ、メタクリルアミノ)である。またこれら置換基は更に置換されていても良い。
は置換もしくは無置換のアルキル基もしくはアシル基を表す。アルキル基、アシル基ならびに置換基の説明はRと同じである。Rとして好ましくは無置換のアルキル基もしくは無置換のアシル基であり、特に好ましくは無置換のアルキル基である。
mは0〜3の整数を表す。nは1〜4の整数を表す。mとnの合計は4である。RもしくはRが複数存在するとき、複数のRもしくはRはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。mとして好ましくは0、1、2であり、特に好ましくは1である。
以下に一般式(1)で表される化合物の具体例を示すが、これらに限定されるものではない。
The compound of the following general formula (1) may be contained in at least one of the hard coat layer (including those having antiglare properties) and the low refractive index layer of the antireflection film of the present invention. , Preferred for scratch resistance.
This compound is contained in a state in which the alkoxysilyl group is not hydrolyzed, or in the state of a hydrolyzate of an organosilane compound / or a partial condensate thereof, so-called sol component (hereinafter referred to as such). These organosilane compounds are particularly preferably contained as a sol component.
General formula (1)
(R 1 ) m-Si (OR 2 ) n
In the general formula (1), R 1 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or an aryl group. R 2 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or acyl group. m represents an integer of 0 to 3. n represents an integer of 1 to 4. The sum of m and n is 4.
The compound represented by the general formula (1) will be described.
In the general formula (1), R 1 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group. Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, hexyl, t-butyl, sec-butyl, hexyl, decyl, hexadecyl and the like. The alkyl group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 6 carbon atoms. Examples of the aryl group include phenyl and naphthyl, and a phenyl group is preferable.
Although there is no restriction | limiting in particular as a substituent, Halogen (fluorine, chlorine, bromine, etc.), a hydroxyl group, a mercapto group, a carboxyl group, an epoxy group, an alkyl group (methyl, ethyl, i-propyl, propyl, t-butyl etc.), Aryl groups (phenyl, naphthyl, etc.), aromatic heterocyclic groups (furyl, pyrazolyl, pyridyl, etc.), alkoxy groups (methoxy, ethoxy, i-propoxy, hexyloxy, etc.), aryloxy (phenoxy, etc.), alkylthio groups (methylthio) , Ethylthio etc.), arylthio group (phenylthio etc.), alkenyl group (vinyl, 1-propenyl etc.), alkoxysilyl group (trimethoxysilyl, triethoxysilyl etc.), acyloxy group (acetoxy, acryloyloxy, methacryloyloxy etc.), Alkoxycarbonyl group Bonyl, ethoxycarbonyl, etc.), aryloxycarbonyl groups (phenoxycarbonyl, etc.), carbamoyl groups (carbamoyl, N-methylcarbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl, N-methyl-N-octylcarbamoyl, etc.), acylamino groups (acetylamino) Benzoylamino, acrylamino, methacrylamino and the like.
Of these, more preferred are a hydroxyl group, a mercapto group, a carboxyl group, an epoxy group, an alkyl group, an alkoxysilyl group, an acyloxy group, and an acylamino group, and particularly preferred are an epoxy group and a polymerizable acyloxy group (acryloyloxy, methacryloyloxy). ) And a polymerizable acylamino group (acrylamino, methacrylamino). These substituents may be further substituted.
R 2 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or acyl group. The description of the alkyl group, acyl group and substituent is the same as R 1 . R 2 is preferably an unsubstituted alkyl group or an unsubstituted acyl group, and particularly preferably an unsubstituted alkyl group.
m represents an integer of 0 to 3. n represents an integer of 1 to 4. The sum of m and n is 4. When R 1 or R 2 there are a plurality, it may be different even multiple of R 1 or R 2 respectively the same. m is preferably 0, 1, 2 and particularly preferably 1.
Although the specific example of a compound represented by General formula (1) below is shown, it is not limited to these.

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これらの具体例の中で、(1)、(12)、(18)、(19)等が特に好ましい。   Among these specific examples, (1), (12), (18), (19) and the like are particularly preferable.

また、本発明のオルガノシラン化合物は、加水分解・縮合反応によりゾル化した状態で用いることも好ましい。ゾル化は、無溶媒でも、溶媒中でも行うことができるが成分を均一に混合するために有機溶媒を用いることが好ましく、例えばアルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、エステル類などが好適である。
ゾル化の溶媒はオルガノシランと触媒を溶解させるものが好ましい。また、有機溶媒が塗布液あるいは塗布液の一部として用いることが工程上好ましく、含フッ素樹脂などのその他の素材と混合した場合に、溶解性あるいは分散性を損なわないものが好ましい。
The organosilane compound of the present invention is also preferably used in a state of being solated by hydrolysis / condensation reaction. Sollation can be performed in the absence of a solvent or in a solvent, but an organic solvent is preferably used in order to mix the components uniformly. For example, alcohols, aromatic hydrocarbons, ethers, ketones, esters, etc. Is preferred.
The solvent for solification is preferably one that dissolves the organosilane and the catalyst. In addition, it is preferable in the process that an organic solvent is used as a coating solution or a part of the coating solution, and those that do not impair the solubility or dispersibility when mixed with other materials such as a fluorine-containing resin are preferable.

このうち、アルコール類としては、例えば1価アルコールまたは2価アルコールを挙げることができ、このうち1価アルコールとしては炭素数1〜8の飽和脂肪族アルコールが好ましい。これらのアルコール類の具体例としては、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、i−プロピルアルコール、n−ブチルアルコール、sec −ブチルアルコール、tert−ブチルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテルなどを挙げることができる。   Among these, examples of the alcohols include monohydric alcohols and dihydric alcohols. Among these, monohydric alcohols are preferably saturated aliphatic alcohols having 1 to 8 carbon atoms. Specific examples of these alcohols include methanol, ethanol, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, n-butyl alcohol, sec-butyl alcohol, tert-butyl alcohol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, ethylene glycol. Examples thereof include monobutyl ether and ethylene glycol monoethyl ether acetate.

また、芳香族炭化水素類の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどを、エーテル類の具体例としては、テトラヒドロフラン、ジオキサンなど、ケトン類の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトンなどを、エステル類の具体例としては、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸プロピレンなどを挙げることができる。
これらの有機溶媒は、1種単独であるいは2種以上を混合して使用することもできる。該反応における固形分の濃度は特に限定されるものではないが通常1%〜90%の範囲であり、好ましくは20%〜70%の範囲である。
オルガノシランの加水分解・縮合反応は、触媒の存在下で行われることが好ましい。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類;シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類;トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類;トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコキシド類等が挙げられるが、ゾル液の製造安定性やゾル液の保存安定性の点から、酸触媒(無機酸類、有機酸類)が好ましい。無機酸では塩酸、硫酸、有機酸では、水中での酸解離定数(pKa値(25℃))が4.5以下のものが好ましく、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が3.0以下の有機酸がより好ましく、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が2.5以下の有機酸が更に好ましく、水中での酸解離定数が2.5以下の有機酸が更に好ましく、メタンスルホン酸、シュウ酸、フタル酸、マロン酸が更に好ましく、シュウ酸が特に好ましい。
加水分解・縮合反応は、通常、オルガノシランの加水分解性基1モルに対して0.3〜2モル、好ましくは0.5〜1モルの水を添加し、上記溶媒の存在下あるいは非存在下に、そして好ましくは触媒の存在下に、25〜100℃で、撹拌することにより行われる。
加水分解性基がアルコキシドで触媒が有機酸の場合には、有機酸のカルボキシル基やスルホ基がプロトンを供給するために、水の添加量を減らすことができ、オルガノシランのアルコキシド基1モルに対する水の添加量は、0〜2モル、好ましくは0〜1.5モル、より好ましくは、0〜1モル、特に好ましくは、0〜0.5モルである。アルコールを溶媒に用いた場合には、実質的に水を添加しない場合も好適である。
触媒の使用量は、触媒が無機酸の場合には加水分解性基に対して0.01〜10モル%、好ましくは0.1〜5モル%であり、触媒が有機酸の場合には、水の添加量によって最適な使用量が異なるが、水を添加する場合には加水分解性基に対して0.01〜10モル%、好ましくは0.1〜5モル%であり、実質的に水を添加しない場合には、加水分解性基に対して1〜500モル%、好ましくは10〜200モル%であり、より好ましくは20〜200モル%であり、更に好ましくは50〜150モル%であり、特に好ましくは50〜120モル%である。
反応は25〜100℃で撹拌することにより行われるがオルガノシランの反応性により適宜調節されることが好ましい。
Specific examples of aromatic hydrocarbons include benzene, toluene, xylene and the like. Specific examples of ethers include tetrahydrofuran and dioxane. Specific examples of ketones include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, Specific examples of esters such as diisobutyl ketone include ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, and propylene carbonate.
These organic solvents can be used alone or in combination of two or more. The concentration of the solid content in the reaction is not particularly limited, but is usually in the range of 1% to 90%, preferably in the range of 20% to 70%.
The hydrolysis / condensation reaction of organosilane is preferably performed in the presence of a catalyst. Catalysts include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and nitric acid; organic acids such as oxalic acid, acetic acid, formic acid, methanesulfonic acid and toluenesulfonic acid; inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and ammonia; triethylamine, Examples include organic bases such as pyridine; metal alkoxides such as triisopropoxyaluminum and tetrabutoxyzirconium. From the viewpoint of production stability of the sol solution and storage stability of the sol solution, acid catalysts (inorganic acids, organic Acids) are preferred. Among inorganic acids, hydrochloric acid, sulfuric acid, and organic acids preferably have an acid dissociation constant in water (pKa value (25 ° C.)) of 4.5 or less, and an acid dissociation constant in hydrochloric acid, sulfuric acid, or water of 3.0 or less. More preferred is an organic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, an organic acid having an acid dissociation constant of 2.5 or less in water is more preferred, an organic acid having an acid dissociation constant in water of 2.5 or less is more preferred, and methanesulfonic acid Further, oxalic acid, phthalic acid, and malonic acid are more preferable, and oxalic acid is particularly preferable.
The hydrolysis / condensation reaction is usually performed by adding 0.3 to 2 mol, preferably 0.5 to 1 mol of water to 1 mol of the hydrolyzable group of organosilane, and in the presence or absence of the solvent. Under stirring and preferably in the presence of a catalyst at 25-100 ° C.
When the hydrolyzable group is an alkoxide and the catalyst is an organic acid, the carboxyl group or sulfo group of the organic acid supplies protons, so that the amount of water added can be reduced, so The amount of water added is 0 to 2 mol, preferably 0 to 1.5 mol, more preferably 0 to 1 mol, and particularly preferably 0 to 0.5 mol. When alcohol is used as the solvent, it is also preferred that substantially no water is added.
The catalyst is used in an amount of 0.01 to 10 mol%, preferably 0.1 to 5 mol%, based on the hydrolyzable group when the catalyst is an inorganic acid, and when the catalyst is an organic acid, The optimum amount used varies depending on the amount of water added, but in the case of adding water, it is 0.01 to 10 mol%, preferably 0.1 to 5 mol% with respect to the hydrolyzable group. When water is not added, it is 1 to 500 mol%, preferably 10 to 200 mol%, more preferably 20 to 200 mol%, still more preferably 50 to 150 mol%, based on the hydrolyzable group. And particularly preferably 50 to 120 mol%.
The reaction is carried out by stirring at 25 to 100 ° C., but it is preferably adjusted as appropriate depending on the reactivity of the organosilane.

一般式1の化合物の適宜な添加量は、該化合物が加水分解していない場合、該化合物を含有する層の全固形分の1〜300質量%が好ましく、3〜200質量%がより好ましく、5〜100質量%が最も好ましい。
オルガノシランのゾルの場合の適宜な含有量は、添加する層によっても異なるが、低屈折率層の添加量は含有層(添加層)の全固形分の0.1〜50質量%が好ましく、0.5〜20質量%がより好ましく、1〜10質量%が特に好ましい。低屈折率層以外の光学薄膜層への添加量は、含有層(添加層)の全固形分の0.001〜50質量%が好ましく、0.01〜20質量%がより好ましく、0.05〜10質量%が更に好ましく、1〜5質量%が特に好ましい。
また、低屈折率層においては、含フッ素樹脂に対するオルガノシランのゾルの使用量は、5〜100質量%が好ましく、5〜40質量%がより好ましく、8〜35質量%が更に好ましく、10〜30質量%が特に好ましい。使用量が少ないと本発明の効果が得にくく、使用量が多すぎると屈折率が増加したり、膜の形状・面状が悪化したりするので好ましくない。
以上のように一般式(1)で表される化合物はこれらハードコート層乃至低屈折率層の少なくとも1層の塗布液に含有せしめて塗設することが好ましい。
When the compound of the general formula 1 is not hydrolyzed, 1 to 300% by mass of the total solid content of the layer containing the compound is preferable, and 3 to 200% by mass is more preferable. 5-100 mass% is the most preferable.
The appropriate content in the case of the organosilane sol varies depending on the layer to be added, but the added amount of the low refractive index layer is preferably 0.1 to 50% by mass of the total solid content of the containing layer (added layer), 0.5-20 mass% is more preferable, and 1-10 mass% is especially preferable. The amount added to the optical thin film layer other than the low refractive index layer is preferably 0.001 to 50% by mass, more preferably 0.01 to 20% by mass, based on the total solid content of the containing layer (added layer). 10 mass% is more preferable, and 1-5 mass% is especially preferable.
In the low refractive index layer, the use amount of the organosilane sol with respect to the fluorine-containing resin is preferably 5 to 100% by mass, more preferably 5 to 40% by mass, still more preferably 8 to 35% by mass, 30% by mass is particularly preferred. If the amount used is small, it is difficult to obtain the effect of the present invention, and if the amount used is too large, the refractive index increases or the shape / surface shape of the film deteriorates.
As described above, it is preferable that the compound represented by the general formula (1) is coated by being included in at least one coating liquid of these hard coat layer to low refractive index layer.

本発明に係る低屈折率層を形成するために用いる塗布液の溶剤としては、先に述べた溶剤を用いることができる。溶剤は、単独および混合のいずれでもよいが、混合のときは、沸点が100℃以下の溶媒が50〜100%であることが好ましく、より好ましくは80〜100%、より好ましくは90〜100%、さらに好ましくは100%である。沸点が100℃以下の溶媒が50%以下であると、乾燥速度が非常に遅くなり、塗布面状が悪化し、塗布膜厚にもムラが生じるため、反射率などの光学特性も悪化する。沸点が100℃以下の溶媒を多く含む塗布液を用いる事により、この問題は解決する。   As the solvent of the coating solution used for forming the low refractive index layer according to the present invention, the solvents described above can be used. The solvent may be either alone or mixed, but when mixed, the solvent having a boiling point of 100 ° C. or lower is preferably 50 to 100%, more preferably 80 to 100%, more preferably 90 to 100%. More preferably, it is 100%. When the solvent having a boiling point of 100 ° C. or less is 50% or less, the drying speed is very slow, the coating surface condition is deteriorated, and the coating film thickness is also uneven, and the optical characteristics such as reflectance are also deteriorated. This problem is solved by using a coating solution containing a large amount of a solvent having a boiling point of 100 ° C. or lower.

次に本発明の中、高屈折率層について以下に説明する。
本発明の中屈折率層および高屈折率層は、屈折率の高い無機微粒子、熱または電離放射線硬化性のモノマー、開始剤、もしくは前述のオルガノシラン化合物及び/またはゾル、および溶媒を含有する塗布組成物を塗布、溶媒の乾燥、熱および/または電離放射線による硬化させることによって形成される。無機微粒子としては、 Ti、Zr、In、Zn、Sn、Sbの酸化物から選ばれた少なくとも1種の金属酸化物からなるものが好ましい。このようにして形成された中屈折率層および高屈折率層は、高屈折率を有するポリマー溶液を塗布、乾燥したものと比較して、耐傷性や密着性に優れる。分散液安定性や、硬化後の膜強度等を確保するために、特開平11−153703号公報や米国特許US6210858B1等に記載されているような、多官能(メタ)アクリレートモノマーとアニオン性基含有(メタ)アクリレート分散剤とが塗布組成物中に含まれることが好ましい。
Next, the high refractive index layer in the present invention will be described below.
The medium refractive index layer and the high refractive index layer of the present invention are coatings containing inorganic fine particles having a high refractive index, thermal or ionizing radiation curable monomers, initiators, or the aforementioned organosilane compounds and / or sols, and solvents. Formed by applying the composition, drying the solvent, curing by heat and / or ionizing radiation. As the inorganic fine particles, those composed of at least one metal oxide selected from Ti, Zr, In, Zn, Sn, and Sb oxides are preferable. The medium refractive index layer and the high refractive index layer thus formed are excellent in scratch resistance and adhesion as compared with those obtained by applying and drying a polymer solution having a high refractive index. In order to ensure dispersion stability, film strength after curing, etc., it contains a polyfunctional (meth) acrylate monomer and an anionic group as described in JP-A-11-153703, US Pat. No. 6,610,858B1, etc. It is preferable that a (meth) acrylate dispersant is contained in the coating composition.

無機微粒子の平均粒径は、コールターカウンター法で測定したときの平均粒径で1から100nmであることが好ましい。1nm以下では、比表面積が大きすぎるために、分散液中での安定性に乏しく、好ましくない。100nm以上では、バインダとの屈折率差に起因する可視光の散乱が発生し、好ましくない。高屈折率層および中屈折率層のヘイズは、3%以下であることが好ましく、1%以下であることがより好ましく、0.5%以下であることが更に好ましい。   The average particle diameter of the inorganic fine particles is preferably 1 to 100 nm as an average particle diameter measured by a Coulter counter method. If it is 1 nm or less, the specific surface area is too large, so that the stability in the dispersion is poor, which is not preferable. When the thickness is 100 nm or more, scattering of visible light due to a difference in refractive index from the binder occurs, which is not preferable. The haze of the high refractive index layer and the medium refractive index layer is preferably 3% or less, more preferably 1% or less, and still more preferably 0.5% or less.

本発明の防眩性反射防止フィルムの透明支持体としては、プラスチックフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムを形成するポリマーとしては、セルロースエステル(例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、代表的には富士写真フィルム社製TAC−TD80UL,TD80UF、60μmTAC、T40UZ、FTUV50Fなど)、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル(例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート)、ポリスチレン、ポリオレフィン、ノルボルネン系樹脂(アートン:商品名、JSR社製)、非晶質ポリオレフィン(ゼオネックス:商品名、日本ゼオン社製)、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、が好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
トリアセチルセルロースは、単層または複数の層からなる。単層のトリアセチルセルロースは、公開特許公報の特開平7−11055等で開示されているドラム流延、あるいはバンド流延等により作成され、後者の複数の層からなるトリアセチルセルロースは、公開特許公報の特開昭61−94725、特公昭62−43846等で開示されている、いわゆる共流延法により作成される。すなわち、原料フレークをハロゲン化炭化水素類(ジクロロメタン等、アルコール類(メタノール、エタノール、ブタノール等)、エステル類(蟻酸メチル、酢酸メチル等)、エーテル類(ジオキサン、ジオキソラン、ジエチルエーテル等)等の溶剤にて溶解し、これに必要に応じて可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、滑り剤、剥離促進剤等の各種の添加剤を加えた溶液(ドープと称する)を、水平式のエンドレスの金属ベルトまたは回転するドラムからなる支持体の上に、ドープ供給手段(ダイと称する)により流延する際、単層ならば単一のドープを単層流延し、複数の層ならば高濃度のセルロースエステルドープの両側に低濃度ドープを共流延し、支持体上である程度乾燥して剛性が付与されたフィルムを支持体から剥離し、次いで各種の搬送手段により乾燥部を通過させて溶剤を除去することからなる方法である。
As the transparent support of the antiglare antireflection film of the present invention, it is preferable to use a plastic film. Examples of the polymer forming the plastic film include cellulose esters (eg, triacetylcellulose, diacetylcellulose, typically TAC-TD80UL, TD80UF, 60 μmTAC, T40UZ, FTUV50F, etc., manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.), polyamide, polycarbonate, polyester ( Examples include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate), polystyrene, polyolefin, norbornene resin (Arton: trade name, manufactured by JSR Corporation), amorphous polyolefin (ZEONEX: trade name, manufactured by Nippon Zeon Corporation), and the like. Of these, triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate, and polyethylene naphthalate are preferable, and triacetyl cellulose is particularly preferable.
Triacetyl cellulose consists of a single layer or a plurality of layers. A single-layer triacetyl cellulose is prepared by drum casting or band casting disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 7-11055, etc. of the published patent publication. It is prepared by the so-called co-casting method disclosed in JP-A-61-94725 and JP-B-62-43846. That is, the raw material flakes are solvents such as halogenated hydrocarbons (dichloromethane, alcohols (methanol, ethanol, butanol, etc.), esters (methyl formate, methyl acetate, etc.), ethers (dioxane, dioxolane, diethyl ether, etc.), etc. A solution (called a dope) with various additives such as a plasticizer, an ultraviolet absorber, an anti-degradation agent, a slipping agent, and a peeling accelerator is added to the horizontal endless as necessary. When casting by a dope supply means (called a die) on a support composed of a metal belt or a rotating drum, a single dope is cast in a single layer if it is a single layer, and a high concentration in the case of multiple layers. A low-concentration dope is co-cast on both sides of the cellulose ester dope, and the film is dried to some extent on the support to release the rigid film, and then peeled off from the support. A process comprising passed through a drying section by species of the conveying means to remove the solvent.

上記のような、トリアセチルセルロースを溶解するための溶剤としては、ジクロロメタンが代表的である。しかし地球環境や作業環境の観点から、溶剤はジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないことが好ましい。「実質的に含まない」とは、有機溶剤中のハロゲン化炭化水素の割合が5質量%未満(好ましくは2質量%未満)であることを意味する。ジクロロメタン等を実質的に含まない溶剤を用いてトリアセチルセルロースのドープを調整する場合には、後述するような特殊な溶解法が必須となる。   A typical solvent for dissolving triacetylcellulose as described above is dichloromethane. However, from the viewpoint of the global environment and working environment, the solvent preferably does not substantially contain a halogenated hydrocarbon such as dichloromethane. “Substantially free” means that the proportion of halogenated hydrocarbon in the organic solvent is less than 5% by mass (preferably less than 2% by mass). When adjusting the dope of triacetyl cellulose using a solvent substantially free of dichloromethane or the like, a special dissolution method as described later is essential.

第一の溶解法は、冷却溶解法と称され、以下に説明する。まず室温近辺の温度(−10〜40℃)で溶剤中にトリアセチルセルロースを撹拌しながら徐々に添加する。次に、混合物は−100〜−10℃(好ましくは−80〜−10℃、さらに好ましくは−50〜−20℃、最も好ましくは−50〜−30℃)に冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴(−75℃)や冷却したジエチレングリコール溶液(−30〜−20℃)中で実施できる。このように冷却すると、トリアセチルセルロースと溶剤の混合物は固化する。さらに、これを0〜200℃(好ましくは0〜150℃、さらに好ましくは0〜120℃、最も好ましくは0〜50℃)に加温すると、溶剤中にトリアセチルセルロースが流動する溶液となる。昇温は、室温中に放置するだけでもよし、温浴中で加温してもよい。   The first dissolution method is called a cooling dissolution method and will be described below. First, triacetyl cellulose is gradually added to a solvent at a temperature around room temperature (-10 to 40 ° C.) while stirring. The mixture is then cooled to -100 to -10 ° C (preferably -80 to -10 ° C, more preferably -50 to -20 ° C, most preferably -50 to -30 ° C). The cooling can be performed, for example, in a dry ice / methanol bath (−75 ° C.) or a cooled diethylene glycol solution (−30 to −20 ° C.). When cooled in this manner, the mixture of triacetyl cellulose and solvent solidifies. Furthermore, when this is heated to 0 to 200 ° C. (preferably 0 to 150 ° C., more preferably 0 to 120 ° C., most preferably 0 to 50 ° C.), a solution in which triacetyl cellulose flows in the solvent is obtained. The temperature can be raised by simply leaving it at room temperature or in a warm bath.

第二の方法は、高温溶解法と称され、以下に説明する。まず室温近辺の温度(−10〜40℃)で溶剤中にトリアセチルセルロースを撹拌しながら徐々に添加される。本発明のトリアセチルセルロース溶液は、各種溶剤を含有する混合溶剤中にトリアセチルセルロースを添加し予め膨潤させることが好ましい。本法において、トリアセチルセルロースの溶解濃度は30質量%以下が好ましいが、フィルム製膜時の乾燥効率の点から、なるべく高濃度であることが好ましい。次に有機溶剤混合液は、0.2MPa〜30MPaの加圧下で70〜240℃に加熱される(好ましくは80〜220℃、更に好ましく100〜200℃、最も好ましくは100〜190℃)。次にこれらの加熱溶液はそのままでは塗布できないため、使用された溶剤の最も低い沸点以下に冷却する必要がある。その場合、−10〜50℃に冷却して常圧に戻すことが一般的である。冷却はトリアセチルセルロース溶液が内蔵されている高圧高温容器やラインを、室温に放置するだけでもよく、更に好ましくは冷却水などの冷媒を用いて該装置を冷却してもよい。ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないセルロースアセテートフィルムおよびその製造法については発明協会公開技報(公技番号2001−1745、2001年3月15日発行、以下公開技報2001−1745号と略す)に記載されている。   The second method is called a high temperature melting method and will be described below. First, triacetyl cellulose is gradually added to a solvent at a temperature around room temperature (-10 to 40 ° C.) while stirring. The triacetyl cellulose solution of the present invention is preferably swollen beforehand by adding triacetyl cellulose to a mixed solvent containing various solvents. In this method, the dissolution concentration of triacetyl cellulose is preferably 30% by mass or less, but is preferably as high as possible from the viewpoint of drying efficiency during film formation. Next, the organic solvent mixed solution is heated to 70 to 240 ° C. under a pressure of 0.2 MPa to 30 MPa (preferably 80 to 220 ° C., more preferably 100 to 200 ° C., most preferably 100 to 190 ° C.). Next, since these heated solutions cannot be applied as they are, it is necessary to cool them below the lowest boiling point of the solvent used. In that case, it is common to cool to -10-50 degreeC and to return to a normal pressure. For cooling, the high-pressure and high-temperature vessel or line containing the triacetylcellulose solution may be left at room temperature, and more preferably, the apparatus may be cooled using a coolant such as cooling water. A cellulose acetate film substantially free of halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and a process for producing the same are disclosed in JIII Journal of Technical Disclosure (Publication No. 2001-1745, published on March 15, 2001, hereinafter Published Technical Report 2001-1745). (Abbreviated as No.).

本発明の反射防止フィルムを液晶表示装置に用いる場合、片面に粘着層を設ける等してディスプレイの最表面に配置する。該透明支持体がトリアセチルセルロースの場合は偏光板の偏光層を保護する保護フィルムとしてトリアセチルセルロースが用いられるため、本発明の反射防止フィルムをそのまま保護フィルムに用いることがコストの上では好ましい。   When the antireflection film of the present invention is used in a liquid crystal display device, it is disposed on the outermost surface of the display by providing an adhesive layer on one side. When the transparent support is triacetylcellulose, triacetylcellulose is used as a protective film for protecting the polarizing layer of the polarizing plate. Therefore, it is preferable in terms of cost to use the antireflection film of the present invention as it is for the protective film.

本発明の反射防止フィルム付きの偏光板は、透明支持体上に含フッ素ポリマーを主体とする最外層を形成した後、鹸化処理を実施することにより得られる。鹸化処理は、公知の手法、例えば、アルカリ液の中に該フィルムを適切な時間浸漬して実施される。アルカリ液に浸漬した後は、該フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。
鹸化処理することにより、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面が親水化される。
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする偏向膜との接着性を改良するのに特に有効である。また、親水化された表面は、空気中の塵埃が付着しにくくなるため、偏向膜と接着させる際に偏向膜と反射防止フィルムの間に塵埃が入りにくく、塵埃による点欠陥を防止するのに有効である。
鹸化処理は、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が40゜以下になるように実施することが好ましい。更に好ましくは30゜以下、特に好ましくは20゜以下である。
The polarizing plate with an antireflection film of the present invention can be obtained by forming an outermost layer mainly composed of a fluorine-containing polymer on a transparent support and then performing a saponification treatment. The saponification treatment is performed by a known method, for example, by immersing the film in an alkali solution for an appropriate time. After being immersed in the alkaline solution, it is preferable to sufficiently wash with water or neutralize the alkaline component by dipping in a dilute acid so that the alkaline component does not remain in the film.
By saponification treatment, the surface of the transparent support opposite to the side having the outermost layer is hydrophilized.
The hydrophilized surface is particularly effective for improving the adhesion with a deflection film containing polyvinyl alcohol as a main component. In addition, the hydrophilic surface makes it difficult for dust in the air to adhere to it, so that it is difficult for dust to enter between the deflection film and the antireflection film when bonded to the deflection film, thus preventing point defects due to dust. It is valid.
The saponification treatment is preferably carried out so that the contact angle of water on the surface of the transparent support opposite to the side having the outermost layer is 40 ° or less. More preferably, it is 30 ° or less, particularly preferably 20 ° or less.

本発明の反射防止フィルム付きの偏光板は、偏光層の2枚の保護フィルムのうち少なくとも1枚に上記反射防止フィルムを用いてなる。本発明の反射防止フィルムを最表面に使用することにより、外光の映り込み等が防止され、高精細適性のある、防汚性、耐擦傷性等も優れた偏光板とすることができる。また、本発明の偏光板において反射防止フィルムが保護フィルムを兼ねることで、製造コストを低減できる。   The polarizing plate with an antireflection film of the present invention is formed by using the antireflection film as at least one of the two protective films of the polarizing layer. By using the antireflection film of the present invention on the outermost surface, reflection of external light and the like can be prevented, and a polarizing plate having excellent antifouling property, scratch resistance and the like having high definition can be obtained. Moreover, in the polarizing plate of this invention, when an antireflection film serves as a protective film, manufacturing cost can be reduced.

本発明の反射防止フィルムを偏光子の表面保護フィルムの片側として用いる場合には、透明支持体の反射防止層が形成される面とは反対側の面をアルカリによって鹸化処理することが必要であることは前記で述べた通りである。アルカリ鹸化処理の具体的手段としては、以下の2つから選択することができる。汎用のトリアセチルセルロースフィルムと同一の工程で処理できる点で(1)が優れているが、防眩性反射防止フィルム面まで鹸化処理されるため、表面がアルカリ加水分解されて、膜が劣化する懸念がある点、鹸化処理液成分の乾固物が残ると汚れになる点が問題になり得る。その場合には、特別な工程となるが、(2)が優れる。(1)透明支持体上に反射防止層を形成後に、アルカリ液中に少なくとも1回浸漬することで、該フィルムの裏面を鹸化処理する。(2)透明支持体上に反射防止層を形成する前または後に、アルカリ液を該防眩性反射防止フィルムの防眩性反射防止フィルムを形成する面とは反対側の面に塗布し、加熱、水洗および/または中和することで、該フィルムの裏面だけを鹸化処理する。   When the antireflection film of the present invention is used as one side of the surface protective film of the polarizer, it is necessary to saponify the surface of the transparent support opposite to the surface on which the antireflection layer is formed with an alkali. This is as described above. Specific means for the alkali saponification treatment can be selected from the following two. (1) is excellent in that it can be processed in the same process as a general-purpose triacetyl cellulose film, but since the surface is saponified to the antiglare antireflection film surface, the surface is hydrolyzed with alkali and the film deteriorates. There may be a problem in that there is a concern, and when the dried product of the saponification liquid component remains, it becomes dirty. In that case, although it becomes a special process, (2) is excellent. (1) After the antireflection layer is formed on the transparent support, the back surface of the film is saponified by immersing it in an alkaline solution at least once. (2) Before or after forming the antireflection layer on the transparent support, the alkaline solution is applied to the surface of the antiglare antireflection film opposite to the surface on which the antiglare antireflection film is formed, and heated. Only the back surface of the film is saponified by washing with water and / or neutralizing.

本発明の反射防止フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。
まず、各層を形成するための成分を含有した塗布液が調製される。次に、ハードコート層を形成するための塗布液を、リバースグラビア法(グラビアコート法、マイクログラビアコート法などに分類される)、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、エクストルージョンコート法(米国特許2681294号明細書参照)により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥するが、マイクログラビアコート法が特に好ましい。その後、光照射あるいは加熱して、ハードコート層を形成するためのモノマーを重合して硬化する。これによりハードコート層が形成される。
ここで、必要であれば前記ハードコート層を防眩性ハードコート層とし塗布の前に同様な方法で平滑なハードコート層塗布および硬化を行えばよい。次に、同様にして低屈折率層を形成するための塗布液をハードコート層上に塗布し、光照射あるいは加熱し低屈折率層が形成される。このようにして、本発明の反射防止フィルムが得られる。
The antireflection film of the present invention can be formed by the following method, but is not limited to this method.
First, a coating solution containing components for forming each layer is prepared. Next, the coating liquid for forming the hard coat layer is reverse gravure method (classified as gravure coating method, micro gravure coating method, etc.), dip coating method, air knife coating method, curtain coating method, roller coating method The coating is applied on the transparent support by the wire bar coating method and the extrusion coating method (see US Pat. No. 2,681,294), followed by heating and drying. The microgravure coating method is particularly preferred. Thereafter, the monomer for forming the hard coat layer is polymerized and cured by light irradiation or heating. Thereby, a hard coat layer is formed.
Here, if necessary, the hard coat layer may be an antiglare hard coat layer, and a smooth hard coat layer may be applied and cured by the same method before application. Next, a coating solution for forming a low refractive index layer is applied onto the hard coat layer in the same manner, and light irradiation or heating is performed to form the low refractive index layer. In this way, the antireflection film of the present invention is obtained.

本発明の反射防止フィルムの各層を塗設する際に用いるマイクログラビアコート法とは、直径が約10〜100mm、好ましくは約20〜50mmで全周にグラビアパターンが刻印されたグラビアロールを支持体の下方に、かつ支持体の搬送方向に対してグラビアロールを逆回転させると共に、該グラビアロールの表面からドクターブレードによって余剰の塗布液を掻き落として、定量の塗布液を前記支持体の上面が自由状態にある位置におけるその支持体の下面に塗布液を転写させて塗工することを特徴とするコート法である。ロール形態の透明支持体を連続的に巻き出し、該巻き出された支持体の一方の側に、少なくともハードコート層乃至含フッ素ポリマーを含む低屈折率層の内の少なくとも一層をマイクログラビアコート法によって塗工することができる。   The micro gravure coating method used for coating each layer of the antireflection film of the present invention is a support having a gravure roll having a diameter of about 10 to 100 mm, preferably about 20 to 50 mm and having a gravure pattern engraved on the entire circumference. The gravure roll is rotated in the reverse direction with respect to the conveying direction of the support, and the surplus coating liquid is scraped off from the surface of the gravure roll by a doctor blade. The coating method is characterized in that the coating solution is transferred to the lower surface of the support at a position in a free state. A roll-shaped transparent support is continuously unwound, and at least one layer of at least one of a hard coat layer or a low refractive index layer containing a fluorine-containing polymer is provided on one side of the unwound support. Can be applied by.

マイクログラビアコート法による塗工条件としては、グラビアロールに刻印されたグラビアパターンの線数は50〜800本/インチが好ましく、100〜300本/インチがより好ましく、グラビアパターンの深度は1〜600μmが好ましく、5〜200μmがより好ましく、グラビアロールの回転数は3〜800rpmであることが好ましく、5〜200rpmであることがより好ましく、支持体の搬送速度は0.5〜100m/分であることが好ましく、1〜50m/分がより好ましい。   As coating conditions by the micro gravure coating method, the number of gravure patterns imprinted on the gravure roll is preferably 50 to 800 lines / inch, more preferably 100 to 300 lines / inch, and the depth of the gravure pattern is 1 to 600 μm. Is preferable, 5 to 200 μm is more preferable, the rotation speed of the gravure roll is preferably 3 to 800 rpm, more preferably 5 to 200 rpm, and the conveyance speed of the support is 0.5 to 100 m / min. It is preferably 1 to 50 m / min.

このようにして形成された本発明の反射防止フィルムは、ヘイズ値が10〜70%、好ましくは30〜50%の範囲にあり、そして450nmから650nmの平均反射率が2.2%以下、好ましくは1.9%以下である。   The antireflection film of the present invention thus formed has a haze value in the range of 10 to 70%, preferably 30 to 50%, and an average reflectance of 450 nm to 650 nm is preferably 2.2% or less, preferably Is 1.9% or less.

本発明の反射防止フィルムが、上記範囲のヘイズ値及び平均反射率であることにより、透過画像の劣化を伴なわずに良好な反射防止性が得られる。   When the antireflection film of the present invention has a haze value and an average reflectance in the above range, good antireflection properties can be obtained without causing deterioration of the transmitted image.

本発明の反射防止フィルムは、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル
(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管表示装置(CRT)のようなディスプレイ装置に適用することができる。本発明の反射防止フィルムは透明支持体を有しているので、透明支持体側をディスプレイ装置の画像表示面に接着して用いられる。
The antireflection film of the present invention can be applied to display devices such as a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), and a cathode ray tube display device (CRT). Since the antireflection film of the present invention has a transparent support, the transparent support side is adhered to the image display surface of the display device.

また、本発明の反射防止フィルムは、偏光子、透明支持体およびディスコティック液晶の配向を固定した光学異方層から構成される光学補償フィルム、並びに光散乱層からなる偏光板と組み合わせて用いられることが好ましい。さらには偏光板における偏光子の2枚の保護フィルムのうちの反射防止フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであり、該光学異方性層がディスコティック構造単位を有する化合物からなる負の複屈折を有する層であり、該ディスコティック構造単位の円盤面が該表面保護フィルム面に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と該表面保護フィルム面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向において変化している偏光板がより好ましい。光散乱層からなる偏光板は、例えば特開平11−305010号公報等に記載がある。さらに詳述すると、本発明の反射防止フィルムは、偏光子の表面保護フィルムの片側として用いた場合、 ツイステットネマチック(TN)、スーパーツイステットネマチック(STN)、バーティカルアライメント(VA)、インプレインスイッチング(IPS)、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル(OCB)等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。特にTNモードやIPSモードの液晶表示装置に対しては、特開2001−100043等に記載されているように、視野角拡大効果を有する光学補償フィルムを、偏光子の裏表2枚の保護フィルムの内の本発明の反射防止フィルムとは反対側の面に用いることにより、1枚の偏光板の厚みで反射防止効果と視野角拡大効果を有する偏光板を得ることができ、特に好ましい。   The antireflection film of the present invention is used in combination with a polarizer, a transparent support, an optical compensation film composed of an optical anisotropic layer in which the orientation of the discotic liquid crystal is fixed, and a polarizing plate composed of a light scattering layer. It is preferable. Furthermore, the film other than the antireflection film among the two protective films of the polarizer in the polarizing plate is an optical compensation film having an optical compensation layer comprising an optical anisotropic layer, and the optical anisotropic layer is A layer having a negative birefringence composed of a compound having a discotic structural unit, the disc surface of the discotic structural unit is inclined with respect to the surface protective film surface, and the disc surface of the discotic structural unit; A polarizing plate in which the angle formed with the surface protective film surface changes in the depth direction of the optically anisotropic layer is more preferable. A polarizing plate comprising a light scattering layer is described in, for example, JP-A No. 11-305010. More specifically, when the antireflection film of the present invention is used as one side of a surface protective film of a polarizer, twisted nematic (TN), super twisted nematic (STN), vertical alignment (VA), in-plane switching. (IPS), optically compensatory bend cell (OCB), etc., can be preferably used for transmissive, reflective, or transflective liquid crystal display devices. In particular, for a TN mode or IPS mode liquid crystal display device, as described in JP-A-2001-100043, an optical compensation film having an effect of widening the viewing angle is used for the protective film on the back and front of the polarizer. By using it on the surface opposite to the antireflection film of the present invention, a polarizing plate having an antireflection effect and a viewing angle widening effect can be obtained with the thickness of one polarizing plate, which is particularly preferable.

偏光膜としては、いかなる偏光膜をも適用することができる。例えばポリビニルアルコール系フィルムを連続的に供給し、その両端を保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸する際、フィルムの一方端の実質保持開始点から実質保持解除点までの保持手段の軌跡L1と、もう一端の実質保持開始点から実質保持解除点までの保持手段の軌跡L2が、左右の実質保持解除点の距離Wに対し、下記式(2)の関係にあると共に、左右の実質保持開始点を結ぶ直線は、保持工程に導入されるフィルムの中心線と略直交するものとし、左右の実質保持解除点を結ぶ直線は、次工程に送り出されるフィルムの中心線と略直交するようにして延伸したものであってもよい(図2参照。米国特許公開2002−8840A1参照。)
式(2) |L2−L1|>0.4W
Any polarizing film can be applied as the polarizing film. For example, when a polyvinyl alcohol film is continuously supplied and stretched while holding both ends by holding means and stretched, the locus of the holding means from the substantial holding start point to the substantial holding release point at one end of the film L1 and the locus L2 of the holding means from the substantial holding start point at the other end to the substantial holding release point are in the relationship of the following expression (2) with respect to the distance W between the left and right substantial holding release points, The straight line connecting the holding start points is approximately perpendicular to the center line of the film introduced into the holding process, and the straight line connecting the left and right substantial holding release points is approximately orthogonal to the center line of the film sent to the next process. (See FIG. 2; see US Patent Publication 2002-8840A1.)
Formula (2) | L2-L1 |> 0.4W

また、透過型または半透過型の液晶表示装置に用いる場合には、市販の輝度向上フィルム(偏光選択層を有する偏光分離フィルム、例えば住友3M(株)製のD−BEFなど)と併せて用いることにより、さらに視認性の高い表示装置を得ることができる。また、λ/4板と組み合わせることで、反射型液晶用の偏光板や、有機ELディスプレイ用表面保護板として表面および内部からの反射光を低減するのに用いることができる。さらに、PET、PEN等の透明支持体上に本発明の反射防止層を形成して、プラズマディスプレイパネル(PDP)や陰極管表示装置(CRT)のような画像表示装置に適用できる。   When used in a transmissive or transflective liquid crystal display device, it is used in combination with a commercially available brightness enhancement film (a polarized light separation film having a polarization selective layer, such as D-BEF manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.). Thus, a display device with higher visibility can be obtained. Further, by combining with a λ / 4 plate, it can be used to reduce reflected light from the surface and the inside as a polarizing plate for reflective liquid crystal or a surface protective plate for organic EL display. Furthermore, the antireflection layer of the present invention can be formed on a transparent support such as PET or PEN, and can be applied to an image display device such as a plasma display panel (PDP) or a cathode ray tube display (CRT).

本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   In order to describe the present invention in detail, examples will be described below, but the present invention is not limited thereto.

[実施例1]
(防眩性ハードコート層用塗布液(1)の調製)
市販シリカ含有UV硬化型ハードコート液(デソライトKZ7317、JSR(株)製、固形分濃度約72%、固形分中SiO含率約38%、重合性モノマーDPHA、重合開始剤含有)61.3質量部をメチルイソブチルケトン8.4質量部で希釈した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は1.51であった。
さらにこの溶液に、平均粒径3.5μmの架橋ポリスチレン粒子(商品名:SX−350H、綜研化学(株)製)の25%メチルイソブチルケトン分散液をポリトロン分散機にて10000rpmで30分分散した分散液を11.0質量部加え、次いで、平均粒径5μmの架橋ポリスチレン粒子(商品名:SX−500H、綜研化学(株)製、屈折率1.61)の25%メチルイソブチルケトン分散液をポリトロン分散機にて10000rpmで30分分散した分散液を14.4質量部加えた。更に、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−5103信越化学工業(株)製)を4.9質量部加えた。本塗布液の溶剤組成は、MEK(沸点79.6℃)/MIBK(沸点115.9℃)=3/7であった。
上記混合液を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、防眩性ハードコート層の塗布液(1)を調製した。
[Example 1]
(Preparation of coating solution (1) for antiglare hard coat layer)
Commercially available silica-containing UV curable hard coat solution (Desolite KZ7317, manufactured by JSR Corporation, solid content concentration of about 72%, SiO 2 content of solid content of about 38%, polymerizable monomer DPHA, containing polymerization initiator) 61.3 Part by weight was diluted with 8.4 parts by weight of methyl isobutyl ketone. The refractive index of the coating film obtained by applying this solution and curing with ultraviolet rays was 1.51.
Furthermore, a 25% methyl isobutyl ketone dispersion of crosslinked polystyrene particles having an average particle size of 3.5 μm (trade name: SX-350H, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) was dispersed in this solution at 10,000 rpm for 30 minutes using a Polytron disperser. Next, 11.0 parts by mass of the dispersion was added, and then a 25% methyl isobutyl ketone dispersion of crosslinked polystyrene particles having an average particle diameter of 5 μm (trade name: SX-500H, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., refractive index 1.61) was added. 14.4 parts by mass of the dispersion liquid dispersed at 10,000 rpm for 30 minutes with a Polytron disperser was added. Further, 4.9 parts by mass of 3-acryloxypropyltrimethoxysilane (KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added. The solvent composition of this coating solution was MEK (boiling point 79.6 ° C.) / MIBK (boiling point 115.9 ° C.) = 3/7.
The mixed solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 30 μm to prepare a coating solution (1) for an antiglare hard coat layer.

(低屈折率層用塗布液Aの調製)
屈折率1.42の熱架橋性含フッ素ポリマー(JN−7228、固形分濃度6%、JSR(株)製)55.2質量部に、コロイダルシリカ分散液(MEK−ST、平均粒径10〜20nm、固形分濃度30%、日産化学社製)4.8質量部、メチルエチルケトン28.0質量部、シクロヘキサノン2.8質量部、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−5103信越化学工業(株)製)を9.2質量部を添加、攪拌の後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液Aを調製した。本塗布液の溶剤組成はMEK/シクロヘキサノン(沸点155.7℃)=97/3であった。
(Preparation of coating solution A for low refractive index layer)
Thermally crosslinkable fluorine-containing polymer having a refractive index of 1.42 (JN-7228, solid content concentration 6%, manufactured by JSR Corporation) was added to 55.2 parts by mass of colloidal silica dispersion (MEK-ST, average particle size of 10 to 10%). 20 nm, solid content concentration 30%, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) 4.8 parts by mass, methyl ethyl ketone 28.0 parts by mass, cyclohexanone 2.8 parts by mass, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane (KBM-5103 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) ) Was added, and after stirring, the mixture was filtered with a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a coating solution A for a low refractive index layer. The solvent composition of this coating solution was MEK / cyclohexanone (boiling point 155.7 ° C.) = 97/3.

防眩性ハードコート層用塗布液(1)、低屈折率層用塗布液A、それぞれを図4に示したような塗布機を用いて、以下のようにして塗布した。積層の組み合わせは表1に記載の通りに行った。
(1)防眩性ハードコート層の塗設
80μmの厚さのトリアセチルセルロースフイルム(TAC−TD80UL、富士写真フイルム(株)製)をロール形態で巻き出して、上記の防眩性ハードコート層用塗布液(1)を線数110本/インチ、深度35μmのグラビアパターンを有する直径50mmのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数40rpm、搬送速度10m/分の条件で塗布した。この時の塗工部の温度は18℃であった。第一(最初)の乾燥ゾーン内で30℃2分の乾燥の後、更に以降の乾燥ゾーン内で100℃、2分の乾燥の後、酸素濃度0.1%以下の窒素パージ下で240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm、照射量300mJ/cmの紫外線を照射して塗布層を硬化させ、乾燥膜厚4.0μmの防眩性ハードコート層を形成し、巻き取った。上記第一の乾燥ゾーン内の風速は、最大で0.2m/sであり、乾燥ゾーン内で塗布膜はセットしていることが確認された。
防眩層ハードコート層の屈折率は、1.51であった。
(2)低屈折率層の塗設
該防眩性ハードコート層を塗設したフイルムを再び巻き出して、上記低屈折率層用塗布液Aを線数200本/インチ、深度35μmのグラビアパターンを有する直径50mmのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数40rpm、搬送速度10m/分の条件で塗布した。この時の塗工部の温度は18℃であった。最初の乾燥ゾーン内で30℃2分の乾燥の後、以降の乾燥ゾーン内で100℃で2分乾燥の後、続けて140℃で8分間後加熱し、さらに酸素濃度0.1%以下の窒素パージ下で240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm、照射量300mJ/cmの紫外線を照射し、続けて140℃で8分間後加熱し、厚さ0.096μmの低屈折率層を形成し、巻き取った。上記第一の乾燥ゾーン内の風速は、最大で0.3m/sであり、乾燥ゾーン内で塗布膜はセットしていることが確認された。低屈折率層の屈折率は、1.43であった。(実施例試料1の防眩性反射防止フィルムの完成)
The antiglare hard coating layer coating solution (1) and the low refractive index layer coating solution A were applied as follows using a coating machine as shown in FIG. The stacking combination was performed as described in Table 1.
(1) Coating of antiglare hard coat layer Triacetyl cellulose film (TAC-TD80UL, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) having a thickness of 80 μm is unwound in a roll form, and the above antiglare hard coat layer is applied. The coating liquid (1) was applied under the conditions of a gravure roll rotation speed of 40 rpm and a conveyance speed of 10 m / min using a micro gravure roll with a diameter of 110 mm / inch and a gravure pattern with a depth of 35 μm and a doctor blade. . The temperature of the coating part at this time was 18 degreeC. After drying at 30 ° C. for 2 minutes in the first (first) drying zone, further drying at 100 ° C. for 2 minutes in the subsequent drying zone, and 240 W / min under a nitrogen purge with an oxygen concentration of 0.1% or less. Using an air-cooled metal halide lamp (produced by Eye Graphics Co., Ltd.), the coating layer is cured by irradiating ultraviolet rays with an illuminance of 400 mW / cm 2 and an irradiation amount of 300 mJ / cm 2 , and a dry film thickness of 4.0 μm is prevented. A dazzling hard coat layer was formed and wound up. The maximum wind speed in the first drying zone was 0.2 m / s, and it was confirmed that the coating film was set in the drying zone.
The refractive index of the antiglare layer hard coat layer was 1.51.
(2) Coating of low refractive index layer The film coated with the antiglare hard coat layer is unwound again, and the coating liquid A for the low refractive index layer is a gravure pattern having a line number of 200 lines / inch and a depth of 35 μm. Using a microgravure roll having a diameter of 50 mm and a doctor blade, the coating was performed under the conditions of a gravure roll rotation speed of 40 rpm and a conveyance speed of 10 m / min. The temperature of the coating part at this time was 18 degreeC. After drying at 30 ° C. for 2 minutes in the first drying zone, drying at 100 ° C. for 2 minutes in the subsequent drying zone, followed by post-heating at 140 ° C. for 8 minutes, and further with an oxygen concentration of 0.1% or less Using a 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) under a nitrogen purge, irradiation was performed with ultraviolet light having an illuminance of 400 mW / cm 2 and an irradiation amount of 300 mJ / cm 2 , and subsequently at 140 ° C. for 8 minutes. Heating was performed to form a low refractive index layer having a thickness of 0.096 μm and wound. The maximum wind speed in the first drying zone was 0.3 m / s, and it was confirmed that the coating film was set in the drying zone. The refractive index of the low refractive index layer was 1.43. (Completion of the antiglare antireflection film of Example Sample 1)

Figure 0005172986
Figure 0005172986

(防眩性反射防止フィルムの鹸化処理)
実施例試料1について、以下の処理を行った。
1.5Nの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、50℃に保温した。更に、0.01Nの希硫酸水溶液を調製した。 作製した防眩性反射防止フィルムを、上記の水酸化ナトリウム水溶液に2分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、上記の希硫酸水溶液に1分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。更に、この防眩性反射防止フィルムを100℃の温度で十分に乾燥させた。
このようにして、鹸化処理済み防眩性反射防止フィルムを作製した。これにより、実施例試料1の防眩性反射防止フィルム裏面のTACは、鹸化処理されることで、親水化された。
(Saponification treatment of antiglare antireflection film)
Example Sample 1 was subjected to the following treatment.
A 1.5N aqueous sodium hydroxide solution was prepared and kept at 50 ° C. Furthermore, a 0.01N dilute sulfuric acid aqueous solution was prepared. The produced anti-glare antireflection film was immersed in the aqueous sodium hydroxide solution for 2 minutes and then immersed in water to sufficiently wash away the aqueous sodium hydroxide solution. Subsequently, after being immersed in the above-mentioned dilute sulfuric acid aqueous solution for 1 minute, it was immersed in water to sufficiently wash away the dilute sulfuric acid aqueous solution. Furthermore, this antiglare antireflection film was sufficiently dried at a temperature of 100 ° C.
In this manner, a saponified antiglare antireflection film was produced. Thereby, the TAC on the back surface of the antiglare antireflection film of Example Sample 1 was hydrophilized by being saponified.

(防眩性反射防止フィルムの偏光板作成、実装)
次に、鹸化処理した実施例試料1を用いて、防眩性反射防止偏光板を作成した。
更に、市販の高精細タイプのノートPC((株)DELL社製、15インチUXGAノートPC)の、外面の防眩性反射防止フィルムを、粘着層ごときれいに剥がし、改めて粘着層を鹸化された裏面TACに付与し、防眩性反射防止層が外面に向くようにして、張り合わせ、実装させた。
(Preparation and mounting of anti-glare anti-reflection film polarizing plate)
Next, an antiglare antireflection polarizing plate was prepared using the saponified Example Sample 1.
Furthermore, the anti-glare antireflection film on the outer surface of a commercially available high-definition type notebook PC (manufactured by DELL Co., Ltd., 15-inch UXGA notebook PC) was peeled off together with the adhesive layer, and the back surface was saponified again. It was applied to TAC and pasted and mounted so that the antiglare antireflection layer faced the outer surface.

(防眩性反射防止フィルムの評価)
得られたフィルムについて、以下の項目の評価を行った。
(Evaluation of antiglare antireflection film)
About the obtained film, the following items were evaluated.

(1)外観面状
作製した防眩性反射防止フィルムを、(株)DELL社製15インチUXGAノートPCに実装し、タングステン光にて、詳細な外観検査した。
外観の面状に全く問題無し :○
実用上問題無いが、弱いムラを検出 :△
やや強いムラを検出 :×
かなり強いムラを検出 :××
また、塗布層の残留溶剤量が多く、工程内の反転ロールに塗膜成分が転写し、接着跡として見えたものも(N.G.)×と判定した。
(2)防眩性評価
作成した防眩性フィルムにルーバーなしのむき出し蛍光灯(8000cd/m)を映し、その反射像のボケの程度を以下の基準で評価した。
蛍光灯の輪郭が全くわからない :◎
蛍光灯の輪郭がわずかにわかる :○
蛍光灯はぼけているが、輪郭は識別できる :△
蛍光灯がほとんどぼけない :×
(3)ギラツキ評価
作成した防眩性フィルムにルーバーありの蛍光灯拡散光を映し、表面のギラツキを以下の基準で評価した。
ほとんどギラツキが見られない :○
わずかにギラツキがある :△
目で識別できるサイズのギラツキがある :×
(4)平均反射率
分光光度計(日本分光(株)製)を用いて、380〜780nmの波長領域において、積分球測定による分光反射率を測定した。結果には450〜650nmの積分球平均反射率を用いた。
(1) Appearance surface shape The produced anti-glare antireflection film was mounted on a 15-inch UXGA notebook PC manufactured by DELL Co., Ltd., and a detailed appearance inspection was performed with tungsten light.
No problem with the appearance of the surface: ○
No problem in practical use, but detects weak unevenness: △
Detects slightly strong unevenness: ×
Detects very strong unevenness: XX
Also, the amount of residual solvent in the coating layer was large, the coating film component was transferred to the reverse roll in the process, and the appearance of adhesion marks was also determined as (NG) ×.
(2) Evaluation of antiglare property An exposed fluorescent lamp (8000 cd / m 2 ) without a louver was projected on the prepared antiglare film, and the degree of blur of the reflected image was evaluated according to the following criteria.
I do not know the outline of the fluorescent lamp at all: ◎
Slightly understand the outline of the fluorescent lamp: ○
The fluorescent lamp is blurred, but the outline can be identified: △
Fluorescent lamp is hardly blurred: ×
(3) Glitter evaluation Fluorescent lamp diffused light with a louver was projected on the created antiglare film, and surface glare was evaluated according to the following criteria.
Almost no glare seen: ○
There is slight glare: △
There is glare of a size that can be discerned by the eyes: ×
(4) Average reflectance Using a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation), spectral reflectance by integrating sphere measurement was measured in a wavelength region of 380 to 780 nm. For the results, an integrating sphere average reflectance of 450 to 650 nm was used.

[実施例試料、比較例試料]
実施例試料1に準じ、添加溶剤や原料素材の溶剤成分を調整により、防眩性ハードコート層についてはMEK/酢酸エチル(沸点57.8℃)=2/8の塗布液、低屈折率層については、アセトン(沸点56.1℃)/MEK=6/4、ジクロロメタン(沸点39.8℃)/MEK=6/4、およびMEK/ジアセトンアルコール(沸点168℃)=95/5の塗布液を作成し、前記表1に記載した通りの塗布液溶剤にすること、並びに、防眩性ハードコート層及び低屈折率層の塗工の際の塗布部以降最初の乾燥部の温度を変更すること以外は、実施例試料1と全く同じにして作成した試料を実施例試料2〜22、比較例試料1〜10とする。
[Example Sample, Comparative Sample]
By adjusting the additive solvent and the solvent component of the raw material according to Example Sample 1, the coating solution of MEK / ethyl acetate (boiling point 57.8 ° C.) = 2/8, low refractive index layer for the antiglare hard coat layer Application of acetone (boiling point 56.1 ° C.) / MEK = 6/4, dichloromethane (boiling point 39.8 ° C.) / MEK = 6/4, and MEK / diacetone alcohol (boiling point 168 ° C.) = 95/5 Create a solution and change it to the coating solution solvent as described in Table 1 above, and change the temperature of the first drying section after the coating section when coating the antiglare hard coat layer and the low refractive index layer Samples prepared in exactly the same manner as Example Sample 1 except for the above are referred to as Example Samples 2-22 and Comparative Samples 1-10.

次に、実施例試料1〜22、比較例試料1〜10の鹸化処理したフィルムを、偏光板と貼り合わせて防眩性反射防止付き偏光板を作製し、この偏光板を用いて防眩性反射防止層を最表層に配置した液晶表示装置を作製したところ、実施例試料1〜22は外光の映り込みがないために優れたコントラストが得られ、外観の面状が非常に良好であり、優れた視認性と外観を有する液晶表示装置となった。一方、比較例試料1〜10は、塗布部から最初の乾燥部の温度が40℃を越えると、外観面状が悪化してくるようになり、10℃未満であると、セットが終了しておらず、未乾の為の反転ロールでの接着跡が見えるようになったため、いずれもディスプレイ装置として不適当であった。
また、第1乾燥部の温度を、防眩性ハードコート塗布液の主溶剤の沸点並以上の80℃、100℃にした比較例7、8では、外観のムラが特にひどく、本反射防止膜形成法として適しなかった。また、低屈折率層において、沸点の低いジクロロメタンを主溶剤とした場合には、第1乾燥部を沸点より5℃低い35℃にしたときにはムラが強めで、15℃低い25℃にした場合外観は良化した。
Next, the saponified films of Example Samples 1 to 22 and Comparative Samples 1 to 10 were bonded to a polarizing plate to prepare a polarizing plate with antiglare and antireflection, and the polarizing plate was used for antiglare property. When a liquid crystal display device having an antireflection layer disposed on the outermost layer was produced, Example Samples 1 to 22 had excellent contrast because there was no reflection of external light, and the surface appearance was very good. The liquid crystal display device has excellent visibility and appearance. On the other hand, in Comparative Samples 1 to 10, when the temperature of the first drying part from the application part exceeds 40 ° C., the appearance surface shape deteriorates, and when it is less than 10 ° C., the setting is completed. All of them were unsuitable as a display device because the adhesion marks on the reversing roll because they were not dried became visible.
Further, in Comparative Examples 7 and 8 in which the temperature of the first drying part was set to 80 ° C. and 100 ° C., which is equal to or higher than the boiling point of the main solvent of the antiglare hard coat coating solution, the unevenness in appearance was particularly severe, and this antireflection film It was not suitable as a forming method. Further, in the low refractive index layer, when dichloromethane having a low boiling point is used as a main solvent, the unevenness is strong when the first drying part is set to 35 ° C., which is 5 ° C. lower than the boiling point, and the appearance is reduced to 15 ° C. and 25 ° C. Improved.

[実施例31〜44]
(オルガノシランのゾル組成物aの調製)
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン161部、シュウ酸 123部、エタノール415部を加え混合したのち、70℃で5時間反応させた後、室温まで冷却しオルガノシランのゾル組成物aを得た。
[Examples 31 to 44]
(Preparation of organosilane sol composition a)
A reactor equipped with a stirrer and a reflux condenser, 161 parts of acryloyloxypropyltrimethoxysilane, 123 parts of oxalic acid, and 415 parts of ethanol were added and mixed, reacted at 70 ° C. for 5 hours, cooled to room temperature, and organosilane. A sol composition a was obtained.

(防眩性ハードコート層用塗布液(2)の調製)
市販シリカ含有UV硬化型ハードコート液(デソライトZ7526の溶剤組成変更品、JSR社製、固形分濃度約72%、固形分中SiO含率約38%、重合性モノマー、重合開始剤含有)272g、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)91質量部、オルガノシランのゾル組成物aを19.6gを加え、さらにメチルイソブチルケトン26.2gで希釈した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は1.52であった。
さらにこの溶液に平均粒径3.5μmの分級強化架橋ポリスチレン粒子(商品名:SXS−350H、綜研化学(株)製)の30%メチルイソブチルケトン分散液をポリトロン分散機にて10000rpmで20分分散した分散液を44g加え、次いで、平均粒径5μmの分級強化架橋ポリスチレン粒子(商品名:SXS−500H、綜研化学(株)製)の30%メチルイソブチルケトン分散液をポリトロン分散機にて10000rpmで30分分散した分散液を57.8g加えた。本塗布液の溶剤組成はMEK/MIBK=3/7であった。
上記混合液を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハードコート層の塗布液(2)を調製した。
(Preparation of coating solution for antiglare hard coat layer (2))
272 g of commercially available silica-containing UV curable hard coat liquid (solvent composition modified from Desolite Z7526, manufactured by JSR, solid content concentration of about 72%, SiO 2 content of solid content of about 38%, polymerizable monomer, polymerization initiator contained) , 91 parts by mass of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.), 19.6 g of organosilane sol composition a, and 26.2 g of methyl isobutyl ketone Diluted with The refractive index of the coating film obtained by applying this solution and curing with ultraviolet rays was 1.52.
Further, a 30% methyl isobutyl ketone dispersion of classified reinforcing cross-linked polystyrene particles having an average particle size of 3.5 μm (trade name: SXS-350H, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) was dispersed in this solution at 10,000 rpm for 20 minutes using a Polytron disperser. 44 g of the obtained dispersion was added, and then a 30% methyl isobutyl ketone dispersion of classified reinforcing cross-linked polystyrene particles having an average particle diameter of 5 μm (trade name: SXS-500H, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) at 10,000 rpm with a Polytron disperser. 57.8 g of the dispersion dispersed for 30 minutes was added. The solvent composition of this coating solution was MEK / MIBK = 3/7.
The mixed solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 30 μm to prepare a coating solution (2) for an antiglare hard coat layer.

(防眩性ハードコート層用塗布液(3)の調製)
市販ジルコニア含有UV硬化型ハードコート液(デソライトZ7404、JSR社製、固形分濃度約61.2%、固形分中ZrO含率約69.6%、重合性モノマー、重合開始剤含有)95.2g、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)28.8g、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(KBM5103(商品名);信越化学工業社製)を9.6gを加え、さらにメチルイソブチルケトン20.1g、メチルエチルケトン5.4gで希釈した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は1.62であった。本塗布液の溶剤組成は、MEK/MIBK=1/9であった。
さらにこの溶液に平均粒径1.5μmのシリカ粒子(商品名:シーホスターKE−P150、日本触媒(株)製)の30%メチルイソブチルケトン分散液をポリトロン分散機にて10000rpmで20分分散した分散液を29.5g加え、次いで、平均粒径3μmの分級強化架橋ポリメタアクリル酸メチル粒子(商品名:MXS−300、綜研化学(株)製)の30%メチルイソブチルケトン分散液をポリトロン分散機にて10000rpmで30分分散し、1週間経時させた分散液を11.3g加えた。
上記混合液を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハードコート層の塗布液(3)を調製した。
(Preparation of coating solution for antiglare hard coat layer (3))
Commercially available zirconia-containing UV curable hard coat solution (Desolite Z7404, manufactured by JSR Corporation, solid content concentration of about 61.2%, ZrO 2 content of solid content of about 69.6%, containing polymerizable monomer and polymerization initiator) 2 g, 28.8 g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), acryloyloxypropyltrimethoxysilane (KBM5103 (trade name); manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 9.6 g was added, and further diluted with 20.1 g of methyl isobutyl ketone and 5.4 g of methyl ethyl ketone. The refractive index of the coating film obtained by applying this solution and curing with ultraviolet rays was 1.62. The solvent composition of this coating solution was MEK / MIBK = 1/9.
Further, a 30% methyl isobutyl ketone dispersion of silica particles having an average particle size of 1.5 μm (trade name: Seahoster KE-P150, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) was dispersed in this solution at 10,000 rpm for 20 minutes using a Polytron disperser. 29.5 g of the solution was added, and then a 30% methyl isobutyl ketone dispersion of classified reinforcing cross-linked methyl polymethacrylate particles having a mean particle size of 3 μm (trade name: MXS-300, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) Was added for 30 minutes at 10,000 rpm, and 11.3 g of the dispersion which was aged for one week was added.
The mixture solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 30 μm to prepare a coating solution (3) for an antiglare hard coat layer.

(低屈折率層用塗布液Bの調製)
屈折率1.42の熱架橋性含フッ素ポリマー(JN−7228、固形分濃度6%、JSR(株)製)177gにシリカゾル(MEK−ST、平均粒径10〜20nm、固形分濃度30%、日産化学社製)7.0g、シリカゾル(MEK−STの粒子径違い品、平均粒径50nm、固形分濃度25%、日産化学社製)8.2g、オルガノシランのゾル組成物a 4.0gおよびメチルエチルケトン90g、シクロヘキサノン9.0gを添加、攪拌の後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液Bを調製した。本塗布液の溶剤組成はMEK/シクロヘキサノン=97/3であった。
(Preparation of coating solution B for low refractive index layer)
Thermally crosslinkable fluorinated polymer having a refractive index of 1.42 (JN-7228, solid content concentration 6%, manufactured by JSR Corporation) 177 g and silica sol (MEK-ST, average particle size 10-20 nm, solid content concentration 30%, 7.0 g, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd., silica sol (MEK-ST particle size different product, average particle size 50 nm, solid content concentration 25%, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) 8.2 g, organosilane sol composition a 4.0 g Then, 90 g of methyl ethyl ketone and 9.0 g of cyclohexanone were added, and after stirring, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a coating solution B for a low refractive index layer. The solvent composition of this coating solution was MEK / cyclohexanone = 97/3.

上記の防眩性ハードコート層(2)、(3)、低屈折率層Bについて、それぞれを実施例1に記載の方法にしたがって実施例31から44のように塗布を行った。この時、乾燥条件は、塗工部温度、乾燥ゾーンの温度、ゾーンの配置、塗布速度等を適宜変更して行った。この時の積層、乾燥条件の組み合わせは表2に記載のとおりである。なお、防眩性ハードコート液(3)を用いた実施例試料41〜44は、防眩性が低く(△レベル)なるように塗布厚調整して塗布をした。
以上のように作成した防眩性反射防止フィルムを、実施例1と同様にけん化処理、偏光板作成、実装を行い、評価を行った。
About said anti-glare hard-coat layer (2), (3) and the low-refractive-index layer B, it apply | coated like Example 31 to 44 according to the method as described in Example 1, respectively. At this time, the drying conditions were changed by appropriately changing the coating part temperature, the temperature of the drying zone, the arrangement of the zone, the coating speed, and the like. The combinations of lamination and drying conditions at this time are as shown in Table 2. In addition, the sample samples 41 to 44 using the antiglare hard coat liquid (3) were applied by adjusting the coating thickness so that the antiglare property was low (Δ level).
The antiglare antireflection film prepared as described above was subjected to saponification treatment, polarizing plate preparation and mounting in the same manner as in Example 1 and evaluated.

この結果、実施例試料31〜44は外光の映り込みがなく、優れたコントラストが得られ、外観の面状が良好であった。特に塗工部から第1乾燥部にはいるまでの時間は30秒より短い場合がよく、第1乾燥部の温度は、塗工部より2℃以上高い場合が面状、反射率、ギラツキが良く、優れた視認性と外観を有する液晶表示装置となった。   As a result, Example Samples 31 to 44 did not reflect external light, provided excellent contrast, and had a good appearance. In particular, the time from the coating part to the first drying part may be shorter than 30 seconds, and the temperature of the first drying part may be 2 ° C. or more higher than the coating part in terms of surface, reflectance, and glare. The liquid crystal display device has good visibility and appearance.

Figure 0005172986
Figure 0005172986

[実施例51]
(ハードコート層用塗布液の調製)
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)306質量部を、16質量部のメチルエチルケトンと220質量部のシクロヘキサノンの混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤(イルガキュア907、チバガイギー社製)7.5質量部を加え、溶解するまで攪拌した後に、450質量部のMEK−ST(平均粒径10〜20nm、固形分濃度30質量%のSiOゾルのメチルエチルケトン分散物、日産化学(株)製)を添加し、撹拌して混合物を得、孔径3μmのポリプロピレン製フィルター(PPE−03)で濾過してハードコート層用塗布液を調製した。
(二酸化チタン分散物の調製)
二酸化チタン超微粒子(TTO−55B、石原テクノ(株)製)30質量部、ジメチルアミノエチルアクリレート(DMAEA、興人(株)製)1質量部、リン酸基含有アニオン性分散剤(KAYARAD PM−21、日本化薬(株)製)6質量部およびシクロヘキサノン63質量部を、サンドグラインダーによって、コールター法で測定した平均粒径が42nmになるまで分散し、二酸化チタン分散物を調製した。
[Example 51]
(Preparation of coating solution for hard coat layer)
306 parts by mass of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was dissolved in a mixed solvent of 16 parts by mass of methyl ethyl ketone and 220 parts by mass of cyclohexanone. After adding 7.5 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) to the obtained solution and stirring until dissolved, 450 parts by mass of MEK-ST (average particle size of 10 to 20 nm, solid content) 30 wt% SiO 2 sol methyl ethyl ketone dispersion (manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) was added and stirred to obtain a mixture, which was filtered through a polypropylene filter (PPE-03) with a pore size of 3 μm for the hard coat layer. A coating solution was prepared.
(Preparation of titanium dioxide dispersion)
Titanium dioxide ultrafine particles (TTO-55B, manufactured by Ishihara Techno Co., Ltd.) 30 parts by mass, dimethylaminoethyl acrylate (DMAEA, manufactured by Kojin Co., Ltd.) 1 part by mass, phosphate group-containing anionic dispersant (KAYARAD PM- 21, Nippon Kayaku Co., Ltd.) 6 parts by mass and cyclohexanone 63 parts by mass were dispersed with a sand grinder until the average particle size measured by the Coulter method was 42 nm to prepare a titanium dioxide dispersion.

(中屈折率層用塗布液の調製)
シクロヘキサノン75質量部およびメチルエチルケトン19質量部に、光重合開始剤(イルガキュア907、チバガイギー社製)0.11質量部および光増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)0.04質量部を溶解した。さらに、二酸化チタン分散物3.1質量部およびジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)2.1質量部を加え、室温で30分間撹拌した後、孔径0.4μmのプロファイルスター0.4μm(日本ポール社(株)製)で濾過して、中屈折率層用塗布液を調製した。
(Preparation of coating solution for medium refractive index layer)
To 75 parts by mass of cyclohexanone and 19 parts by mass of methyl ethyl ketone, 0.11 part by mass of photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and 0.04 parts by mass of photosensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) Was dissolved. Further, 3.1 parts by mass of titanium dioxide dispersion and 2.1 parts by mass of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.) were added and stirred at room temperature for 30 minutes. Then, it filtered with 0.4 micrometer profile star (Nippon Pole Co., Ltd. product) with the hole diameter of 0.4 micrometer, and prepared the coating liquid for medium refractive index layers.

(高屈折率層用塗布液の調製)
シクロヘキサノン54質量部およびメチルエチルケトン18質量部に、光重合開始剤(イルガキュア907、チバガイギー社製)0.13質量部および光増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)0.04質量部を溶解した。さらに、二酸化チタン分散物26.4質量部およびジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)1.6質量部を加え、室温で30分間撹拌した後、孔径0.4μmのプロファイルスター0.4μm(日本ポール社(株)製)で濾過して、高屈折率層用塗布液Aを調製した。
(Preparation of coating solution for high refractive index layer)
54 parts by mass of cyclohexanone and 18 parts by mass of methyl ethyl ketone, 0.13 parts by mass of photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and 0.04 parts by mass of photosensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) Was dissolved. Furthermore, 26.4 parts by mass of titanium dioxide dispersion and 1.6 parts by mass of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) were added and stirred at room temperature for 30 minutes. Thereafter, the mixture was filtered through a profile star 0.4 μm (manufactured by Nippon Pole Co., Ltd.) having a pore diameter of 0.4 μm to prepare a coating solution A for a high refractive index layer.

(低屈折率層用塗布液Cの調製)
屈折率1.42であり、熱架橋性含フッ素樹脂の6質量パーセントのメチルエチルケトン溶液(JN−7228、JSR(株)製)を溶媒置換して、メチルイソブチルケトン85質量%、2−ブタノール15質量%からなる混合溶媒中に固形分10質量%を含有するポリマー溶液を得た。このポリマー溶液70質量部にMEK−ST(平均粒径10〜20nm、固形分濃度30質量%のSiOゾルのメチルエチルケトン分散物、日産化学(株)製)10質量部、オルガノシランゾル組成物A2.17質量部、およびメチルイソブチルケトン42質量部およびシクロヘキサノン28質量部を添加、攪拌の後、孔径0.4μmのプロファイルスター0.4μm(日本ポール社(株)製)でろ過して、低屈折率層用塗布液Cを調製した。
(反射防止フィルムの作成)
上記のハードコート層、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層について、それぞれを実施例1に記載の塗布、乾燥方法にしたがって塗布を行った。80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム(TAC−TD80U、富士写真フィルム(株)製、屈折率:1.47)に、ハードコート層用塗布液を、グラビアコーターを用いて塗布し、第一(最初)の乾燥ゾーン内で30℃2分の乾燥の後、更に以降の乾燥ゾーン内で100℃、2分の乾燥の後、酸素濃度0.1%以下の窒素パージ下で240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm、照射量300mJ/cmの紫外線を照射して塗布層を硬化させ、巻き取った。上記第一の乾燥ゾーン内の風速は、最大で0.2m/sであり、乾燥ゾーン内で塗布膜はセットしていることが確認された。このハードコート層は屈折率1.51、膜厚6μmであった。
続いて、上記の中屈折率層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布し、ハードコートと同条件で乾燥、硬化し、中屈折率層(屈折率:1.63、膜厚:67nm)を設けた。
中屈折率層の上に、上記の高屈折率層用塗布液をグラビアコーターを用いて同様に塗布、乾燥、硬化し、高屈折率層(屈折率:1.90、膜厚:107nm)を設けた。
さらに高屈折率層の上に、上記の低屈折率層用塗布液Cをグラビアコーターを用いて塗布し、第一(最初)の乾燥ゾーン内で30℃2分の乾燥の後、120℃で1分間乾燥した後に、酸素濃度0.1%以下の窒素パージ下で240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm、照射量300mJ/cmの紫外線を照射し、さらに120℃で8分間、塗布層を熱硬化させ、低屈折率層(屈折率:1.43、膜厚:86nm)を設けた。このようにして反射防止フィルム51を作成した。
以上のように作成した反射防止フィルムを、実施例1と同様にけん化処理、偏光板作成、実装を行い、評価を行った。
その結果、実施例試料51は外光の映り込みがなく、優れたコントラストが得られ、外観の面状が良好であった。
(Preparation of coating solution C for low refractive index layer)
Refractive index is 1.42, and 6 mass percent of methyl ethyl ketone solution (JN-7228, manufactured by JSR Corporation) of thermally crosslinkable fluorine-containing resin is solvent-substituted to obtain 85 mass% of methyl isobutyl ketone and 15 mass of 2-butanol. A polymer solution containing 10% by mass of solid content in a mixed solvent consisting of% was obtained. In 70 parts by mass of this polymer solution, 10 parts by mass of MEK-ST (Methyl ethyl ketone dispersion of SiO 2 sol having an average particle size of 10 to 20 nm and a solid content concentration of 30% by mass, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.), organosilane sol composition A2 .17 parts by mass, and 42 parts by mass of methyl isobutyl ketone and 28 parts by mass of cyclohexanone were added. A coating liquid C for the rate layer was prepared.
(Creation of antireflection film)
About said hard-coat layer, medium refractive index layer, high refractive index layer, and low refractive index layer, it apply | coated according to the application | coating and drying method as described in Example 1, respectively. A hard coat layer coating solution was applied to a triacetyl cellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., refractive index: 1.47) with a thickness of 80 μm using a gravure coater. After drying for 2 minutes at 30 ° C. in the first) drying zone, after further drying at 100 ° C. for 2 minutes in the subsequent drying zone, air cooling at 240 W / cm under a nitrogen purge with an oxygen concentration of 0.1% or less Using a metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.), the coating layer was cured by being irradiated with ultraviolet rays having an illuminance of 400 mW / cm 2 and an irradiation amount of 300 mJ / cm 2 , and wound up. The maximum wind speed in the first drying zone was 0.2 m / s, and it was confirmed that the coating film was set in the drying zone. This hard coat layer had a refractive index of 1.51 and a film thickness of 6 μm.
Subsequently, the medium refractive index layer coating solution was applied using a gravure coater, dried and cured under the same conditions as the hard coat, and the medium refractive index layer (refractive index: 1.63, film thickness: 67 nm) was formed. Provided.
On the medium refractive index layer, the above high refractive index layer coating solution is similarly applied, dried and cured using a gravure coater to form a high refractive index layer (refractive index: 1.90, film thickness: 107 nm). Provided.
Further, the coating liquid C for the low refractive index layer is applied on the high refractive index layer using a gravure coater, dried at 30 ° C. for 2 minutes in the first (first) drying zone, and then at 120 ° C. After drying for 1 minute, an irradiance of 400 mW / cm 2 and an irradiation amount of 300 mJ / cm 2 using an air-cooled metal halide lamp (made by Eye Graphics Co., Ltd.) of 240 W / cm under a nitrogen purge with an oxygen concentration of 0.1% or less. Then, the coating layer was thermally cured at 120 ° C. for 8 minutes to provide a low refractive index layer (refractive index: 1.43, film thickness: 86 nm). In this way, an antireflection film 51 was prepared.
The antireflection film produced as described above was subjected to saponification treatment, polarizing plate production and mounting in the same manner as in Example 1 and evaluated.
As a result, the example sample 51 had no reflection of external light, an excellent contrast was obtained, and the surface appearance was good.

[実施例試料1A]
偏光膜を以下の方法で作製した。PVAフィルムをヨウ素2.0g/l、ヨウ化カリウム4.0g/lの水溶液に25℃にて240秒浸漬し、さらにホウ酸10g/lの水溶液に25℃にて60秒浸漬後、図23の形態のテンター延伸機に導入し、5.3倍に延伸し、テンターを延伸方向に対し図2の如く屈曲させ、以降幅を一定に保った。80℃雰囲気で乾燥させた後テンターから離脱した。左右のテンタークリップの搬送速度差は、0.05%未満であり、導入されるフィルムの中心線と次工程に送られるフィルムの中心線のなす角は、46゜であった。ここで|L1−L2|は0.7m、Wは0.7mであり、|L1−L2|=Wの関係にあった。テンター出口における実質延伸方向Ax−Cxは、次工程へ送られるフィルムの中心線22に対し45゜傾斜していた。テンター出口におけるシワ、フィルム変形は観察されなかった。
さらに、PVA((株)クラレ製PVA−117H)3%水溶液を接着剤として鹸化処理した富士写真フイルム(株)製フジタック(セルローストリアセテート、レターデーション値3.0nm)と貼り合わせ、さらに80℃で乾燥して有効幅650mmの偏光板を得た。得られた偏光板の吸収軸方向は、長手方向に対し45゜傾斜していた。この偏光板の550nmにおける透過率は43.7%、偏光度は99.97%であった。さらに図3の如く310×233mmサイズに裁断したところ、91.5%の面積効率で辺に対し45゜吸収軸が傾斜した偏光板を得た。
次に、実施例試料1の鹸化処理したフィルムを、上記偏光板と貼り合わせて防眩性反射防止付き偏光板を作製した。この偏光板を用いて防眩性反射防止層を最表層に配置した液晶表示装置を作製したところ、外光の映り込みがないために優れたコントラストが得られ、優れた視認性と外観を有するディスプレイ装置となった。
[Example Sample 1A]
A polarizing film was produced by the following method. The PVA film was immersed in an aqueous solution of 2.0 g / l iodine and 4.0 g / l potassium iodide at 25 ° C. for 240 seconds, and further immersed in an aqueous solution of boric acid 10 g / l for 60 seconds at 25 ° C. The film was introduced into a tenter stretching machine having a shape of 5 and stretched 5.3 times. The tenter was bent as shown in FIG. 2 with respect to the stretching direction, and thereafter the width was kept constant. After drying in an atmosphere of 80 ° C., it was detached from the tenter. The difference in transport speed between the left and right tenter clips was less than 0.05%, and the angle between the center line of the introduced film and the center line of the film sent to the next process was 46 °. Here, | L1-L2 | is 0.7 m, W is 0.7 m, and | L1-L2 | = W. The substantial stretching direction Ax-Cx at the tenter outlet was inclined by 45 ° with respect to the center line 22 of the film sent to the next process. Wrinkles and film deformation at the tenter exit were not observed.
Furthermore, it was bonded to Fuji Photo Film Co., Ltd. Fujitac (cellulose triacetate, retardation value 3.0 nm), which was saponified using an aqueous solution of PVA (Pura-117H, Kuraray Co., Ltd.) 3%, and further bonded at 80 ° C. It dried and the polarizing plate of effective width 650mm was obtained. The absorption axis direction of the obtained polarizing plate was inclined 45 ° with respect to the longitudinal direction. The polarizing plate had a transmittance at 550 nm of 43.7% and a polarization degree of 99.97%. Further, when cut into a size of 310 × 233 mm as shown in FIG. 3, a polarizing plate having an absorption efficiency of 91.5% and an inclination angle of 45 ° with respect to the side was obtained.
Next, the saponified film of Example Sample 1 was bonded to the above polarizing plate to produce a polarizing plate with antiglare and antireflection. Using this polarizing plate, a liquid crystal display device having an antiglare antireflection layer disposed on the outermost layer was produced. As a result, there was no reflection of external light, so that excellent contrast was obtained, and excellent visibility and appearance were obtained. It became a display device.

[実施例試料1B]
上記実施例試料1Aの45°吸収軸が傾斜した偏光板作製の中の、「富士写真フイルム
(株)製フジタック(セルローストリアセテート、レターデーション値3.0nm)」の代わりに実施例試料1の鹸化処理したフィルムを張り合わせて防眩性反射防止付き偏光板を作製した。この偏光板を用いて防眩性反射防止層を最表層に配置した液晶表示装置を作製したところ、実施例試料1同様に、外光の映り込みがないために優れたコントラストが得られ、優れた視認性と外観を有するディスプレイ装置となった。
[Example Sample 1B]
Saponification of Example Sample 1 instead of “Fujitack (cellulose triacetate, retardation value: 3.0 nm) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.” in the production of polarizing plate having 45 ° absorption axis inclined of Example Sample 1A. The processed film was laminated to produce a polarizing plate with antiglare and antireflection. Using this polarizing plate, a liquid crystal display device having an antiglare antireflection layer disposed on the outermost layer was produced. As in Example Sample 1, there was no reflection of external light, and an excellent contrast was obtained. It became a display device having high visibility and appearance.

[実施例試料1C]
上記実施例試料1を、1.5規定、55℃のNaOH水溶液中に2分間浸漬したあと中和、水洗してフィルムの裏面のトリアセチルセルロース面を鹸化処理し、80μmの厚さのトリアセチルセルロースフイルム(TAC−TD80U、富士写真フイルム(株)製)を同条件で鹸化処理したフィルムにポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作製した。このようにして作製した偏光板を、反射防止膜側が最表面となるように透過型TN液晶表示装置搭載のノートパソコンの液晶表示装置(偏光選択層を有する偏光分離フィルムである住友3M(株)製のD−BEFをバックライトと液晶セルとの間に有する)の視認側の偏光板と貼り代えたところ、外光の映り込みがないために優れたコントラストが得られ、優れた視認性と外観を有する液晶表示装置となった背景の映りこみが極めて少なく、表示品位の非常に高いディスプレイ装置が得られた。
[Example Sample 1C]
The above Example Sample 1 was immersed in an aqueous 1.5 N NaOH solution at 55 ° C. for 2 minutes, neutralized, washed with water, and the triacetyl cellulose surface on the back surface of the film was saponified to give 80 μm thick triacetyl. A film obtained by saponifying cellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) under the same conditions is adsorbed with iodine on polyvinyl alcohol, and stretched to adhere and protect both sides of the polarizer to protect the polarizing plate. Produced. A liquid crystal display device of a notebook personal computer equipped with a transmissive TN liquid crystal display device (Sumitomo 3M Co., Ltd., which is a polarization separation film having a polarization selection layer) so that the anti-reflection film side is the outermost surface. When the D-BEF made of D-BEF is attached to the polarizing plate on the viewing side of the backlight and the liquid crystal cell), excellent contrast is obtained because there is no reflection of external light, and excellent visibility. As a liquid crystal display device having an external appearance, there was very little reflection of the background, and a display device with very high display quality was obtained.

[実施例試料1D]
上記実施例試料1を貼りつけた透過型TN液晶セルの視認側の偏光板の液晶セル側の保護フィルム、およびバックライト側の偏光板の液晶セル側の保護フィルムに、ディスコティック構造単位の円盤面が透明支持体面に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と透明支持体面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向において変化している光学補償層を有する視野角拡大フィルム(ワイドビューフィルムSA−12B、富士写真フイルム(株)製)を用いたところ、明室でのコントラストに優れ、優れた視認性と外観を有し、且つ、上下左右の視野角が非常に広く、極めて良好な表示品位の高いディスプレイ装置が得られた。
[Example Sample 1D]
The discotic structural unit circle is applied to the protective film on the liquid crystal cell side of the polarizing plate on the viewing side of the transmission type TN liquid crystal cell to which the sample sample 1 is attached, and the protective film on the liquid crystal cell side of the polarizing plate on the backlight side. A field of view having an optical compensation layer in which the disc surface is inclined with respect to the transparent support surface, and the angle formed by the disc surface of the discotic structural unit and the transparent support surface changes in the depth direction of the optical anisotropic layer. When using a wide angle film (wide view film SA-12B, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.), it has excellent contrast in bright rooms, excellent visibility and appearance, and has a vertical, horizontal, and horizontal viewing angle. A very wide and very good display device with high display quality was obtained.

[実施例試料1E]
実施例試料1を、有機EL表示装置の表面のガラス板に粘着剤を介して貼り合わせたところ、ガラス表面での反射が抑えられ、極めて視認性の高い、良好な外観のディスプレイ装置が得られた。
[Example Sample 1E]
When Example Sample 1 was bonded to a glass plate on the surface of an organic EL display device via an adhesive, reflection on the glass surface was suppressed, and a display device with a very high visibility and good appearance was obtained. It was.

[実施例1F]
実施例試料1を用いて、片面反射防止フィルム付き偏光板を作製し、偏光板の反射防止膜を有している側の反対面にλ/4板を張り合わせ、有機EL表示装置の表面のガラス板に貼り付けたところ、表面反射および、表面ガラスの内部からの反射がカットされ、極めて視認性の高い、良好な外観のディスプレイ装置が得られた。
[Example 1F]
Using Example Sample 1, a polarizing plate with a single-sided antireflection film was prepared, and a λ / 4 plate was bonded to the opposite surface of the polarizing plate on the side having the antireflection film, and the glass on the surface of the organic EL display device When affixed to the plate, the surface reflection and the reflection from the inside of the surface glass were cut, and a display device with a good appearance and extremely high visibility was obtained.

[実施例1G]
実施例試料1Dの80μmTAC支持体を、富士写真フイルム(株)製の40μmTACに変えた以外は、全く同じにして作製した試料を実施例試料1Gとする。この実施例試料1Gは、非常に薄く 携帯端末、ノートPC等の薄手化に効果的な反射防止フィルム付き偏光板を有した優れたディスプレイ装置であった。
[Example 1G]
A sample prepared in exactly the same manner except that the 80 μm TAC support of Example Sample 1D was changed to 40 μm TAC manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. is referred to as Example Sample 1G. This Example Sample 1G was an excellent display device having a polarizing plate with an antireflection film that was very thin and effective for thinning portable terminals and notebook PCs.

1 防眩性反射防止フィルム
2 透明支持体
3 防眩性ハードコート層
4 低屈折率層
5 防眩性付与粒子
6 内部散乱性付与粒子
(イ) フィルム導入方向
(ロ) 次工程へのフィルム搬送方向
(a) フィルムを導入する工程
(b) フィルムを延伸する工程
(c) 延伸フィルムを次工程へ送る工程
A1 フィルムの保持手段への噛み込み位置とフィルム延伸の起点位置(実質保持開始点:右)
B1 フィルムの保持手段への噛み込み位置(左)
C1 フィルム延伸の起点位置(実質保持開始点:左)
Cx フィルム離脱位置とフィルム延伸の終点基準位置(実質保持解除点:左)
Ay フィルム延伸の終点基準位置(実質保持解除点:右)
|L1−L2| 左右のフィルム保持手段の行程差
W フィルムの延伸工程終端における実質幅
θ 延伸方向とフィルム進行方向のなす角
11 導入側フィルムの中央線
12 次工程に送られるフィルムの中央線
13 フィルム保持手段の軌跡(左)
14 フィルム保持手段の軌跡(右)
15 導入側フィルム
16 次工程に送られるフィルム
17、17’ 左右のフィルム保持開始(噛み込み)点
18、18’ 左右のフィルム保持手段からの離脱点
21 導入側フィルムの中央線
22 次工程に送られるフィルムの中央線
23 フィルム保持手段の軌跡(左)
24 フィルム保持手段の軌跡(右)
25 導入側フィルム
26 次工程に送られるフィルム
27、27’ 左右のフィルム保持開始(噛み込み)点
28、28’ 左右のフィルム保持手段からの離脱点
81 偏光板吸収軸
82 長手方向
1a 送り出し部
2a 塗布部
3a 第1乾燥部
4a 第2乾燥部
5a 硬化部、反転ロール
6a 巻き取り部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Anti-glare antireflection film 2 Transparent support 3 Anti-glare hard coat layer 4 Low refractive index layer 5 Anti-glare imparting particle 6 Internal scattering imparting particle (A) Film introduction direction (B) Film transport to the next process Direction (a) Step of introducing a film (b) Step of stretching a film (c) Step of sending a stretched film to the next step A1 Position of biting into the film holding means and starting position of film stretching (substantially holding start point: right)
B1 Biting position of film holding means (left)
C1 Film stretch starting position (substantially holding start point: left)
Cx film release position and film stretching end point reference position (actual holding release point: left)
Ay Film drawing end point reference position (substantially holding release point: right)
| L1-L2 | Stroke difference W between left and right film holding means W Substantially width θ at the end of the film stretching process Angle 11 formed by stretching direction and film traveling direction Center line 12 of introduction side film Center line 13 of film sent to next process Trajectory of film holding means (left)
14 Trajectory of film holding means (right)
15 Introducing film 16 Film 17, 17 ′ sent to the next step Left and right film holding start (engagement) points 18, 18 ′ Disengagement point 21 from the left and right film holding means Center line 22 of the introducing side film Sent to the next step The center line 23 of the film to be filmed The trajectory of the film holding means (left)
24 Trajectory of film holding means (right)
25 Introduction-side film 26 Films 27, 27 'sent to the next step 28, 28' Left and right film holding start (biting) points 28, 28 'Left and right film holding points 81 Polarizing plate absorption shaft 82 Longitudinal direction 1a Delivery part 2a Application unit 3a First drying unit 4a Second drying unit 5a Curing unit, reversing roll 6a Winding unit

Claims (11)

透明支持体上に、平均粒径1〜10μmの防眩性付与粒子を含有する膜厚1〜10μmの少なくとも1層の防眩性ハードコート層を形成することにより防眩性反射防止フィルムを製造する方法であって、
前記防眩性ハードコート層を形成するための塗布工程、第一の乾燥部による乾燥工程、第二の乾燥部による乾燥工程及び硬化工程を有し、
前記防眩性ハードコート層を形成するための第一の乾燥部による乾燥工程が、5秒〜120秒の乾燥時間であり、風除けのためのカバーが設けられて塗膜面にあたる風の風速が0.5m/s以下であり、前記塗布液における主溶剤の沸点よりも10℃以上低く、かつ10℃以上40℃以下に温度制御して、塗布膜のセットを終了させる乾燥工程であり、
前記防眩性ハードコート層を形成するための第二の乾燥部による乾燥工程が、前記第一の乾燥部よりも高い温度であって、塗布液中に含まれる最も沸点の低い溶剤の沸点温度以上、塗布液中に含まれる最も沸点の高い溶剤の沸点温度+20℃以下にて乾燥する工程である、防眩性反射防止フィルムの製造方法。
On a transparent support, antiglare and antireflection by forming an average particle size antiglare hard coat layer of the antiglare property-imparting particles to contain RumakuAtsu small without even one layer of 1 to 10 [mu] m 1 to 10 [mu] m a way to manufacture the fill-time,
A coating step for forming the antiglare hard coat layer, a drying step by the first drying unit, a drying step by the second drying unit and a curing step;
The drying process by the first drying unit for forming the antiglare hard coat layer has a drying time of 5 seconds to 120 seconds, a windbreak cover is provided, and the wind speed of the wind hitting the coating surface is 0.5 m / s or less, wherein 10 ° C. or more lower than the boiling point of the main solvent in the coating solution, and 1 0 ° C. or higher 40 ° C. in a temperature controlled below, in Ru drying step to end the set of coating the fabric layer Yes,
The proof for forming the antiglare hard coat layer a second drying section by the drying step, a high temperature than the previous SL first drying section, the lowest boiling point solvent contained in the coating cloth liquid the boiling point temperature or higher, a step of drying at least a high boiling point boiling point + 20 ° C. or less of a solvent contained in the coating solution, the manufacturing method of the anti-glare and anti-reflection film.
透明支持体上に、平均粒径1〜10μmの防眩性付与粒子を含有する膜厚1〜10μmの少なくとも1層の防眩性ハードコート層を形成することにより防眩性反射防止フィルムを製造する方法であって、
前記防眩性ハードコート層を形成するための塗布工程、第一の乾燥部による乾燥工程、第二の乾燥部による乾燥工程及び硬化工程を有し、
前記防眩性ハードコート層を形成するための第一の乾燥部による乾燥工程が、5秒〜120秒の乾燥時間であり、風除けのためのカバーが設けられて塗膜面にあたる風の風速が0.5m/s以下であり、前記塗布液における主溶剤の沸点よりも10℃以上低く、かつ10℃以上40℃以下に温度制御して、塗布膜のセットを終了させる乾燥工程であり、
前記防眩性ハードコート層を形成するための第二の乾燥部による乾燥工程が、前記第一の乾燥部よりも高い温度の50℃以上140℃以下にて乾燥する工程である、防眩性反射防止フィルムの製造方法。
On a transparent support, antiglare and antireflection by forming an average particle size antiglare hard coat layer of the antiglare property-imparting particles to contain RumakuAtsu small without even one layer of 1 to 10 [mu] m 1 to 10 [mu] m a way to manufacture the fill-time,
A coating step for forming the antiglare hard coat layer, a drying step by the first drying unit, a drying step by the second drying unit and a curing step;
The drying process by the first drying unit for forming the antiglare hard coat layer has a drying time of 5 seconds to 120 seconds, a windbreak cover is provided, and the wind speed of the wind hitting the coating surface is 0.5 m / s or less, wherein 10 ° C. or more lower than the boiling point of the main solvent in the coating solution, and 1 0 ° C. or higher 40 ° C. in a temperature controlled below, in Ru drying step to end the set of coating the fabric layer Yes,
Drying process by the second drying section for forming the antiglare hard coat layer is the step of drying at 140 ° C. hereinafter 5 0 ° C. or higher at a higher temperature than the previous SL first drying section the method of anti-glare and anti-reflection film.
前記防眩性ハードコート層を形成するための第一の乾燥部による乾燥工程が、15℃以上35℃以下に温度制御する、請求項1又は2に記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。  The manufacturing method of the anti-glare antireflection film according to claim 1 or 2, wherein the drying step by the first drying unit for forming the anti-glare hard coat layer is temperature-controlled at 15 ° C or more and 35 ° C or less. . 前記防眩性ハードコート層を形成するための第一の乾燥部での温度制御が、塗工後30秒以内にはじめることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。 Antiglare according to claim 1, wherein the temperature control in the first dry燥部for forming the antiglare hard coat layer, and wherein the start that within 30 seconds after coating For producing antireflective film. 前記第一の乾燥部の温度が、塗工部の温度より2℃以上30℃以下高い温度であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。 Temperature of the first dry燥部is, the anti-glare and anti-reflection film according to any one of the preceding claims, characterized in that a temperature higher 2 ℃ least 30 ° C. less than the temperature of the coated portion Production method. 前記防眩性ハードコート層の塗布液中の溶剤組成として、沸点100℃以上の溶剤が、塗布液中の全溶剤の1%〜90%含まれることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法。  6. The solvent composition in the coating solution of the antiglare hard coat layer includes 1% to 90% of a solvent having a boiling point of 100 [deg.] C. or more, based on the total solvent in the coating solution. The manufacturing method of the anti-glare antireflection film of Claim 1. 透明支持体上に、膜厚1〜10μmの少なくとも1層のハードコート層を形成することにより反射防止フィルムを製造する方法であって、  A method for producing an antireflection film by forming at least one hard coat layer having a thickness of 1 to 10 μm on a transparent support,
前記ハードコート層を形成するための塗布工程、第一の乾燥部による乾燥工程、第二の乾燥部による乾燥工程及び硬化工程を有し、  Having a coating process for forming the hard coat layer, a drying process by a first drying section, a drying process by a second drying section and a curing process;
前記ハードコート層を形成するための第一の乾燥部による乾燥工程が、5秒〜120秒の乾燥時間であり、風除けのためのカバーが設けられて塗膜面にあたる風の風速が0.5m/s以下であり、前記塗布液における主溶剤の沸点よりも10℃以上低く、かつ10℃以上40℃以下に温度制御して、塗布膜のセットを終了させる乾燥工程であり、  The drying process by the first drying section for forming the hard coat layer has a drying time of 5 seconds to 120 seconds, a windbreak cover is provided, and the wind speed of the wind hitting the coating surface is 0.5 m. Is a drying step that ends the set of the coating film by controlling the temperature to be 10 ° C. or more and 40 ° C. or less lower than the boiling point of the main solvent in the coating solution,
前記ハードコート層を形成するための第二の乾燥部による乾燥工程が、前記第一の乾燥部よりも高い温度であって、塗布液中に含まれる最も沸点の低い溶剤の沸点温度以上、塗布液中に含まれる最も沸点の高い溶剤の沸点温度+20℃以下にて乾燥する工程である、  The drying step by the second drying section for forming the hard coat layer is higher than the first drying section and is applied at a temperature equal to or higher than the boiling temperature of the lowest boiling point solvent contained in the coating solution. It is a step of drying at the boiling point temperature of the solvent having the highest boiling point contained in the liquid + 20 ° C. or lower.
反射防止フィルムの製造方法。A method for producing an antireflection film.
透明支持体上に、膜厚1〜10μmの少なくとも1層のハードコート層を形成することにより反射防止フィルムを製造する方法であって、  A method for producing an antireflection film by forming at least one hard coat layer having a thickness of 1 to 10 μm on a transparent support,
前記ハードコート層を形成するための塗布工程、第一の乾燥部による乾燥工程、第二の乾燥部による乾燥工程及び硬化工程を有し、  Having a coating process for forming the hard coat layer, a drying process by a first drying section, a drying process by a second drying section and a curing process;
前記ハードコート層を形成するための第一の乾燥部による乾燥工程が、5秒〜120秒の乾燥時間であり、風除けのためのカバーが設けられて塗膜面にあたる風の風速が0.5m/s以下であり、前記塗布液における主溶剤の沸点よりも10℃以上低く、かつ10℃以上40℃以下に温度制御して、塗布膜のセットを終了させる乾燥工程であり、  The drying process by the first drying section for forming the hard coat layer has a drying time of 5 seconds to 120 seconds, a windbreak cover is provided, and the wind speed of the wind hitting the coating surface is 0.5 m. Is a drying step that ends the set of the coating film by controlling the temperature to be 10 ° C. or more and 40 ° C. or less lower than the boiling point of the main solvent in the coating solution,
前記ハードコート層を形成するための第二の乾燥部による乾燥工程が、前記第一の乾燥部よりも高い温度の50℃以上140℃以下にて乾燥する工程である、反射防止フィルムの製造方法。  The method for producing an antireflection film, wherein the drying step by the second drying unit for forming the hard coat layer is a step of drying at a temperature higher than the first drying unit by 50 ° C. or more and 140 ° C. or less. .
透明支持体上に、少なくとも1層のハードコート層を形成し、さらに最外に位置する低屈折率層を形成することにより反射防止フィルムを製造する方法であって、  A method for producing an antireflection film by forming at least one hard coat layer on a transparent support and further forming an outermost low refractive index layer,
前記ハードコート層を形成するための塗布工程、乾燥工程及び硬化工程、並びに  A coating step for forming the hard coat layer, a drying step and a curing step, and
前記低屈折率層を形成するための塗布工程、第一の乾燥部による乾燥工程及び第二の乾燥部による乾燥工程を有し、  Having a coating step for forming the low refractive index layer, a drying step by a first drying unit and a drying step by a second drying unit;
前記低屈折率層を形成するための第一の乾燥部による乾燥工程が、風除けのためのカバーが設けられて塗膜面にあたる風の風速が0.5m/s以下であり、前記塗布液における主溶剤の沸点よりも10℃以上低く、かつ10℃以上40℃以下に温度制御して、塗布膜のセットを終了させる乾燥工程であり、  The drying step by the first drying section for forming the low refractive index layer is provided with a cover for windbreak, and the wind speed of the wind hitting the coating film surface is 0.5 m / s or less, in the coating solution It is a drying step of controlling the temperature to be 10 ° C. or more and 40 ° C. or less lower than the boiling point of the main solvent and finishing the setting of the coating film,
前記低屈折率層を形成するための第二の乾燥部による乾燥工程が、前記第一の乾燥部よりも高い温度であって、塗布液中に含まれる最も沸点の低い溶剤の沸点温度以上、塗布液中に含まれる最も沸点の高い溶剤の沸点温度+20℃以下にて乾燥する工程である、反射防止フィルムの製造方法。  The drying step by the second drying unit for forming the low refractive index layer is at a temperature higher than that of the first drying unit, and is equal to or higher than the boiling point of the lowest boiling point solvent contained in the coating liquid. A method for producing an antireflection film, which is a step of drying at the boiling point temperature of the solvent having the highest boiling point contained in the coating liquid + 20 ° C. or lower.
透明支持体上に、少なくとも1層のハードコート層を形成し、さらに最外に位置する低屈折率層を形成することにより反射防止フィルムを製造する方法であって、  A method for producing an antireflection film by forming at least one hard coat layer on a transparent support and further forming an outermost low refractive index layer,
前記ハードコート層を形成するための塗布工程、乾燥工程及び硬化工程、並びに  A coating step for forming the hard coat layer, a drying step and a curing step, and
前記低屈折率層を形成するための塗布工程、第一の乾燥部による乾燥工程及び第二の乾燥部による乾燥工程を有し、  Having a coating step for forming the low refractive index layer, a drying step by a first drying unit and a drying step by a second drying unit;
前記低屈折率層を形成するための第一の乾燥部による乾燥工程が、風除けのためのカバーが設けられて塗膜面にあたる風の風速が0.5m/s以下であり、前記塗布液における主溶剤の沸点よりも10℃以上低く、かつ10℃以上40℃以下に温度制御して、塗布膜のセットを終了させる乾燥工程であり、  The drying step by the first drying section for forming the low refractive index layer is provided with a cover for windbreak, and the wind speed of the wind hitting the coating film surface is 0.5 m / s or less, in the coating solution It is a drying step of controlling the temperature to be 10 ° C. or more and 40 ° C. or less lower than the boiling point of the main solvent and finishing the setting of the coating film,
前記低屈折率層を形成するための第二の乾燥部による乾燥工程が、前記第一の乾燥部よりも高い温度の50℃以上140℃以下にて乾燥する工程である、反射防止フィルムの製造方法。  Production of an antireflection film, wherein the drying step by the second drying unit for forming the low refractive index layer is a step of drying at a temperature higher than the first drying unit at 50 ° C. or more and 140 ° C. or less. Method.
前記低屈折率層を形成する為に用いる塗布液の溶剤として、沸点が100℃以下の溶媒が50%〜100%であることを特徴とする請求項9又は10に記載の反射防止フィルムの製造方法。  11. The production of an antireflection film according to claim 9, wherein a solvent having a boiling point of 100 ° C. or lower is 50% to 100% as a solvent of the coating solution used for forming the low refractive index layer. Method.
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