JPH10319211A - Antireflection film and image display device using the same - Google Patents

Antireflection film and image display device using the same

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JPH10319211A
JPH10319211A JP9128994A JP12899497A JPH10319211A JP H10319211 A JPH10319211 A JP H10319211A JP 9128994 A JP9128994 A JP 9128994A JP 12899497 A JP12899497 A JP 12899497A JP H10319211 A JPH10319211 A JP H10319211A
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Japan
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refractive index
layer
fine particles
index layer
film
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Application number
JP9128994A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiro Nakamura
和浩 中村
Tomokazu Yasuda
知一 安田
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To easily produce an antireflection film having a high antireflection effect and superior scratch resistance by using a low refractive index layer composed of fluorine-contg. polymer particles and a polymerizable monomer and/or a polymerizable oligomer and/or a polymerizable polymer. SOLUTION: This antireflection film contains a low refractive index layer 1 obtd. by piling up two or more fine particles 2 of a fluorine-contg. polymer (fluororesin) having 5-200 nm average particle diameter on a substrate 11 and forming microvoids among the fine particles. The low refractive index layer 1 is composed of the fluorine-contg. polymer particles 2 and a polymerizable monomer and/or a polymerizable oligomer and/or a polymerizable polymer. The layer 1 is preferably used in combination with a high refractive index layer 4 formed on the substrate 11.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置(L
CD)等の画像表示装置の画像表示表面の反射率の低下
に有効な反射防止膜及び反射防止膜を有する画像表示装
置に関する。
The present invention relates to a liquid crystal display (L).
The present invention relates to an antireflection film effective for lowering the reflectance of an image display surface of an image display device such as a CD) and an image display device having an antireflection film.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、可視光のような広い波長領域を有
する光に対する反射防止膜としては、金属酸化物等の金
属化合物の透明薄膜を積層させた多層膜が用いられてき
た。反射防止膜として、多層膜の代わりに低屈折率の単
層膜を用いた場合、単色光に対しては有効であるもの
の、ある程度広い波長領域を有する光に対して単層膜は
有効な反射防止効果を示さない。前記の多層膜では、積
層数が多いほど波長領域の広い光に対しても有効な反射
防止膜となる。そのため、従来の反射防止膜には、物理
又は化学蒸着法等の手段によって金属酸化物等を3層以
上積層したものが用いられてきた。しかしながら、多層
構造の反射防止膜を形成するためには、予め最適に設計
された各層の屈折率と膜厚との関係に従い、その膜厚を
高精度に制御した物理蒸着をその層の数だけ行う必要が
あり、煩雑で非常に高コストなものである。また、表面
の耐傷性あるいは指紋付着性等の対汚染性の改善のため
には例えば新たに含フッ素樹脂からなる層を設ける必要
がある。
2. Description of the Related Art Hitherto, as an antireflection film for light having a wide wavelength range such as visible light, a multilayer film formed by laminating transparent thin films of a metal compound such as a metal oxide has been used. When a single-layer film having a low refractive index is used instead of a multilayer film as an antireflection film, it is effective for monochromatic light, but a single-layer film is effective for light having a wide wavelength range to some extent. Does not show a protective effect. In the above-described multilayer film, the more the number of layers, the more effective the antireflection film for light having a wider wavelength range. Therefore, as the conventional antireflection film, a film obtained by laminating three or more layers of metal oxide or the like by means such as physical or chemical vapor deposition has been used. However, in order to form an antireflection film having a multilayer structure, physical vapor deposition whose thickness is controlled with high precision in accordance with the relationship between the refractive index and the film thickness of each layer that is optimally designed in advance is performed by the number of layers. It must be done, is cumbersome and very expensive. Further, in order to improve the anti-contamination property such as scratch resistance or fingerprint adhesion of the surface, it is necessary to newly provide a layer made of a fluorine-containing resin, for example.

【0003】上述のような多層膜による方法の他に、空
気との界面から膜厚方向に屈折率が徐々に変化するよう
な膜によって反射防止効果を得る方法が、知られてい
る。例えば、特開平2−245702号公報には、ガラ
ス基板とMgF2 の中間の屈折率を持つSiO2 超微粒
子と、MgF2 超微粒子とを混合してガラス基板に塗布
し、ガラス基板面から塗布膜面に向かって徐々にSiO
2 の混合比を減少させてMgF2 の混合比を増加させる
ことにより、塗布層内の屈折率の変化を大きくさせると
共に、塗布層と空気、及び塗布層とガラス基板の界面に
おける屈折率変化を緩やかにすることによって、反射防
止効果が得られることが記載されている。このように形
成された反射防止膜は、その底面とガラス表面との屈折
率の変化が小さいので、高い反射防止効果を示す。
In addition to the above-described method using a multilayer film, a method for obtaining an antireflection effect by a film whose refractive index gradually changes in the film thickness direction from the interface with air is known. For example, JP-A-2-245702 discloses that an ultrafine particle of SiO 2 having an intermediate refractive index between a glass substrate and MgF 2 and an ultra fine particle of MgF 2 are mixed and applied to a glass substrate, and then applied from the glass substrate surface. SiO gradually toward the film surface
By decreasing the mixing ratio of 2 to increase the mixing ratio of MgF 2, with greatly changes in the refractive index of the coating layer, the coating layer and the air, and the refractive index change at the interface between the coating layer and the glass substrate It is described that an anti-reflection effect can be obtained by making it gentle. The thus formed anti-reflection film exhibits a high anti-reflection effect because the change in the refractive index between the bottom surface and the glass surface is small.

【0004】また、特開平5−13021号公報には、
エチルシリケート中に分散したMgF2 、SiO2 を有
する超微粒子を用いた二層からなる反射防止膜が開示さ
れている。例えば、第一層は、MgF2 /SiO2 が7
/3の層で、第二層は、MgF2 /SiO2 が1/1の
層で、第一層の屈折率が1.42そして第二層の屈折率
が1.44である。従って、屈折率変化は大きいとは言
えず、充分な反射防止効果は得られない。
[0004] Also, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-13021 discloses that
An antireflection film comprising two layers using ultrafine particles having MgF 2 and SiO 2 dispersed in ethyl silicate is disclosed. For example, the first layer is composed of 7 MgF 2 / SiO 2.
The second layer is a layer in which MgF 2 / SiO 2 is 1/1, the refractive index of the first layer is 1.42, and the refractive index of the second layer is 1.44. Therefore, the change in the refractive index cannot be said to be large, and a sufficient antireflection effect cannot be obtained.

【0005】また、特開平7−92305号公報には、
コア部とその周囲のシェル部からなる屈折率1.428
の超微粒子からなり、空気と微粒子とから形成された表
面が凹凸の上層部(低屈折率)と、微粒子のみから形成
された下層部とからなる反射防止膜が開示されている。
そして、上記超微粒子のコア部が、メタクリル酸メチ
ル、メタクリル酸、トリフルオロエチルアクリレート、
N−イソブトキシメチルアクリルアミドから形成され、
シェル部がスチレン、アクリル酸、アクリル酸ブチルか
ら形成されている。
[0005] Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-92305 discloses that
Refractive index of 1.428 consisting of core and surrounding shell
An anti-reflection film is disclosed which comprises an upper layer portion (low refractive index) having irregularities on the surface formed of air and fine particles and a lower layer portion formed only of fine particles.
And the core of the ultrafine particles is methyl methacrylate, methacrylic acid, trifluoroethyl acrylate,
Formed from N-isobutoxymethylacrylamide,
The shell part is formed from styrene, acrylic acid, and butyl acrylate.

【0006】更に、特開平7−168006号公報に
は、空気と微粒子(例、MgF2 )とから形成された表
面が凹凸の上層部(低屈折率)、微粒子のみの中層部
(中屈折率)、及び微粒子とバインダーから形成された
下層部とからなる反射防止膜が開示されている。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-168006 discloses that the surface formed of air and fine particles (eg, MgF 2 ) has an irregular upper layer portion (low refractive index) and a fine particle only middle layer portion (medium refractive index). ), And an antireflection film comprising fine particles and a lower layer portion formed of a binder.

【0007】しかしながら、前記の特開平2−2457
02号公報、特開平5−13021号公報、特開平7−
92305号公報及び特開平7−168006号公報に
記載の反射防止膜は、空気に対する屈折率が膜厚方向に
徐々に変化する原理を利用したものである。これらの反
射防止膜は、その作成に、煩雑な操作と、熟練した技術
が必要であり、また得られる膜も満足な反射防止効果が
得られていない。
[0007] However, the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 2-2457.
02, JP-A-5-13021, JP-A-7-
The antireflection films described in JP-A-92305 and JP-A-7-168006 utilize the principle that the refractive index to air gradually changes in the thickness direction. These antireflection films require complicated operations and skillful techniques for their preparation, and the obtained films do not have a satisfactory antireflection effect.

【0008】そこで、特願平8−344688におい
て、平均粒径が5〜200nmの範囲の含フッ素ポリマ
ーの微粒子を少なくとも2個以上積み重ねることにより
微粒子間にミクロボイドを形成してなる低屈折率層を光
干渉層に少なくとも一層含むことを特徴とする反射防止
膜を各種ディスプレイの表面に形成する事により、優れ
た反射防止性能を有する反射防止膜が得られることを開
示したが、該反射防止膜の光干渉層は耐傷性に劣るとい
う問題点があった。
In view of this, Japanese Patent Application No. 8-344688 discloses a low refractive index layer in which microvoids are formed between fine particles by stacking at least two fine particles of a fluoropolymer having an average particle size in the range of 5 to 200 nm. By forming an antireflection film characterized by including at least one layer in the light interference layer on the surface of various displays, it is disclosed that an antireflection film having excellent antireflection performance can be obtained. The light interference layer has a problem that the scratch resistance is poor.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、容易に作成
することができ、且つ高い反射防止効果と優れた耐傷性
を示す反射防止膜を提供することを目的とする。また本
発明は、容易に作成することができ、且つ高い反射防止
効果と優れた耐傷性を示す反射防止膜を備えた画像表示
装置を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an antireflection film which can be easily formed and has a high antireflection effect and excellent scratch resistance. Another object of the present invention is to provide an image display device which can be easily formed and has an antireflection film exhibiting a high antireflection effect and excellent scratch resistance.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、1)基材上に
平均粒径が5〜200nmの範囲の含フッ素ポリマー
(即ち、弗素樹脂)の微粒子を少なくとも2個以上積み
重ねることにより微粒子間にミクロボイドを形成してな
る低屈折率層を含むことを特徴とする反射防止膜におい
て、該低屈折率層が含フッ素ポリマー粒子、重合性を有
するモノマーおよび/または重合性を有するオリゴマー
および/または重合性を有するポリマーから成り、耐傷
性等に優れた反射防止膜を提供する事にある。上記本発
明の反射防止膜の好ましい態様は下記のとおりである。 2)前記光干渉層が低屈折率層、基材のいずれよりも高
い屈折率を有する層を少なくとも一層含む複数の層から
成り、各層が共通のモノマー、および/またはオリゴマ
ーおよび/またはポリマーをバインダとして含む。 3)前記光干渉層と該光干渉層を設ける基材との間に
0.5ミクロン〜10ミクロンの膜厚を有するハードコ
ート層を有する。 4)前記1)、2)または3)に記載の反射防止膜を有
する画像表示装置。
According to the present invention, there is provided 1) a method in which at least two or more fine particles of a fluoropolymer having an average particle size in the range of 5 to 200 nm are stacked on a base material to form fine particles. An anti-reflection film comprising a low refractive index layer formed by forming microvoids in the antireflection film, wherein the low refractive index layer has fluorine-containing polymer particles, a polymerizable monomer and / or a polymerizable oligomer and / or An object of the present invention is to provide an antireflection film made of a polymer having polymerizability and having excellent scratch resistance and the like. Preferred embodiments of the antireflection film of the present invention are as follows. 2) The light interference layer is composed of a plurality of layers including at least one layer having a higher refractive index than any of the low refractive index layer and the base material, and each layer includes a common monomer and / or oligomer and / or polymer as a binder. Included as 3) A hard coat layer having a thickness of 0.5 to 10 microns is provided between the light interference layer and the substrate on which the light interference layer is provided. 4) An image display device having the antireflection film according to 1), 2) or 3).

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】本発明の反射防止膜は、上記含フ
ッ素ポリマーの微粒子とミクロボイドからなる低屈折率
層が、それよりも高い屈折率を有する高屈折率層の上に
形成された2層よりなることが好ましい。またこれらの
層が支持体(好ましくは透明フィルム)上に設けられて
いることが好ましい。また、本発明の反射防止膜は、上
記含フッ素ポリマーの微粒子とミクロボイドからなる低
屈折率層が、それよりも高い屈折率を有する高屈折率層
の上に形成され、更に高屈折率層が、それよりも低く且
つ低屈折率層よりも高い屈折率を有する中屈折率層の上
に形成された3層よりなることが好ましい。またこれら
の層が支持体(好ましくは透明フィルム)上に設けられ
ていることが好ましい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The antireflection film of the present invention comprises a low refractive index layer composed of the above-mentioned fluoropolymer fine particles and microvoids formed on a high refractive index layer having a higher refractive index. It is preferred that the layer be composed of layers. Further, it is preferable that these layers are provided on a support (preferably a transparent film). Further, in the antireflection film of the present invention, a low refractive index layer composed of the above-mentioned fluoropolymer fine particles and microvoids is formed on a high refractive index layer having a higher refractive index, and further a high refractive index layer is formed. And three layers formed on a middle refractive index layer having a lower refractive index and a higher refractive index than the low refractive index layer. Further, it is preferable that these layers are provided on a support (preferably a transparent film).

【0012】本発明は上記いずれかの反射防止膜を少な
くとも一層有することを特徴とする画像表示装置にもあ
る。
The present invention also provides an image display device having at least one of the above antireflection films.

【0013】本発明の反射防止膜は、基本的に弗素樹脂
(含フッ素ポリマー)の微粒子、重合性を有するモノマ
ーおよび/または重合性を有するオリゴマーおよび/ま
たは重合性を有するポリマーから成る低屈折率層を有す
る。そして、低屈折率層は、上記微粒子を少なくとも2
個以上積み重ねることにより微粒子間に形成されたミク
ロボイドを含む。
The antireflection film of the present invention basically has a low refractive index composed of fine particles of a fluororesin (fluorine-containing polymer), a polymerizable monomer and / or a polymerizable oligomer and / or a polymerizable polymer. With layers. The low-refractive-index layer contains the fine particles at least 2 times.
Includes microvoids formed between particles by stacking more than one.

【0014】本発明の反射防止膜の代表的な構成例を図
1に示す。低屈折率層1、高屈折率層4、中屈折率層7
の3層から成る光干渉層およびハードコート層10が順
次、透明フィルム(支持体)11上に形成されている。
低屈折率層は、弗素樹脂の微粒子2と微粒子間に形成さ
れたミクロボイドから形成されている。低屈折率層で
は、少なくとも2個の弗素樹脂の微粒子が膜厚方向に重
ねられることにより、微粒子間にミクロボイドが形成さ
れる。従って、ミクロボイドは、一般に低屈折率層内で
均一に配置している。弗素樹脂の微粒子は、一般に溶剤
の除去または加熱により、溶融あるいは軟化し、一部バ
インダ3を介して互いに密着する。あるいは、弗素樹脂
の微粒子が官能基(反応性基)を有する場合には、官能
基間、官能基−バインダ間の反応により粒子同士が強固
に結合することができる。また弗素樹脂の微粒子を、極
く少量のシランカップリング剤を用いて密着させること
もできる。本発明では特に、ごく少量の多官能モノマー
および/またはオリゴマーおよび/またはポリマーから
成るバインダを含む事によって耐傷性に優れたハード性
低屈折率膜となる。ここでモノマーとは、一般に重合反
応によって重合体を形成することができる出発物質を指
す。一般にはオリゴマーとは、重合度が2から20程度
のモノマーの重合体を指すが、ここではそのような比較
的低〜中分子量の重合体に重合性を有する官能基を導入
した重合性の低〜中分子量の物質も含んでオリゴマーと
する。ポリマーとは、オリゴマーよりも分子量が高く、
高分子性が発現する領域の分子量を有する全ての物質を
指す。本発明において、重合性を有するモノマーまたは
重合性を有するオリゴマーを用いることが好ましい。一
般に、光干渉層が多層から成る場合には各光干渉層間お
よび光干渉層とハードコード層との密着の問題が生じる
が、本発明の反射防止膜においては、各光干渉層に後述
する素材の中から選ばれた同一素材のバインダを含むた
め、層間密着に優れた膜となる。
FIG. 1 shows a typical configuration example of the antireflection film of the present invention. Low refractive index layer 1, high refractive index layer 4, medium refractive index layer 7
The light interference layer and the hard coat layer 10 composed of the three layers described above are sequentially formed on a transparent film (support) 11.
The low-refractive-index layer is formed of fluorine resin fine particles 2 and microvoids formed between the fine particles. In the low-refractive-index layer, microvoids are formed between the fine particles by overlapping at least two fine particles of the fluororesin in the film thickness direction. Therefore, the microvoids are generally uniformly arranged in the low refractive index layer. The fluorine resin fine particles are generally melted or softened by removing or heating the solvent, and partially adhere to each other via the binder 3. Alternatively, when the fluororesin fine particles have a functional group (reactive group), the particles can be strongly bonded to each other by a reaction between the functional groups or between the functional group and the binder. Also, the fine particles of the fluororesin can be adhered to each other by using a very small amount of a silane coupling agent. Particularly in the present invention, a hard low refractive index film having excellent scratch resistance is obtained by including a very small amount of a binder composed of a polyfunctional monomer and / or oligomer and / or polymer. Here, the monomer generally refers to a starting material capable of forming a polymer by a polymerization reaction. In general, an oligomer refers to a polymer of monomers having a degree of polymerization of about 2 to 20, but here, a polymer having a low polymerizability obtained by introducing a polymerizable functional group into such a relatively low to medium molecular weight polymer. Oligomers include substances of medium to medium molecular weight. Polymers are higher in molecular weight than oligomers,
Refers to all substances having a molecular weight in the region where high polymerity is exhibited. In the present invention, it is preferable to use a polymerizable monomer or a polymerizable oligomer. In general, when the light interference layer is composed of multiple layers, a problem of adhesion between each light interference layer and between the light interference layer and the hard code layer occurs. However, in the antireflection film of the present invention, each light interference layer has Since it contains a binder of the same material selected from the above, a film having excellent interlayer adhesion is obtained.

【0015】上記微粒子は、一般に1個の粒子の厚さ
で、平面方向に配置されさ粒子層を形成し、更に複数の
粒子層を重ねて本発明の低屈折率層を形成した形態とな
る。このため、粒子間に形成されるミクロボイドは、粒
子の大きさがほぼ同じであるので、通常ボイドの大き
さ、その間隔において均一に形成されている。本発明の
低屈折率層はミクロでは微粒子であるが、光の波長オー
ダーで見たときには光学的に均一な層とみなすことがで
きる。
The fine particles generally have a thickness of one particle and are arranged in a plane direction to form a particle layer, and a plurality of particle layers are stacked to form a low refractive index layer of the present invention. . For this reason, the microvoids formed between the particles have substantially the same particle size, and thus are usually formed uniformly in the size of the voids and at intervals between the voids. The low refractive index layer of the present invention is fine particles in a microscopic scale, but can be regarded as an optically uniform layer when viewed on the order of the wavelength of light.

【0016】本発明の低屈折率層の表面の空気の屈折率
は1であり、本発明の弗素樹脂の微粒子の屈折率は空気
の屈折率1よりも高く、一般に1.25から1.45の
間にある。そして本発明の低屈折率層は、空気層の屈折
率と微粒子自体の屈折率の間に位置することになる。従
って、本発明の低屈折率層の屈折率は、弗素樹脂微粒子
をより小さくすることによって、素材の屈折率よりもミ
クロボイドの体積分率の分だけ低くすることができる。
弗素樹脂微粒子の平均粒径は、一般に5〜200nmの
範囲にあり、5〜50nmが好ましい。また低屈折率層
の層厚は、一般に5〜400nmの範囲にあり、50〜
200nmが好ましい。
The refractive index of the air on the surface of the low refractive index layer of the present invention is 1, and the refractive index of the fine particles of the fluororesin of the present invention is higher than the refractive index of air, generally 1.25 to 1.45. Between. The low refractive index layer of the present invention is located between the refractive index of the air layer and the refractive index of the fine particles themselves. Therefore, the refractive index of the low refractive index layer of the present invention can be made lower than the refractive index of the material by the volume fraction of microvoids by making the fluororesin fine particles smaller.
The average particle size of the fluorine resin fine particles is generally in the range of 5 to 200 nm, preferably 5 to 50 nm. The thickness of the low refractive index layer is generally in the range of 5 to 400 nm,
200 nm is preferred.

【0017】多層反射防止膜の一例として、二層を有す
る反射防止膜では、高屈折率層及び低屈折率層がそれぞ
れ下記の条件(1)及び(2)を一般に満足する。 mλ/4×0.7<n1 d1 <mλ/4×1.3 (1) nλ/4×0.7<n2 d2 <nλ/4×1.3 (2) 上記式に於て、mは正の整数(一般に、1、2又は3)
を表わし、n1 は高屈折率層の屈折率を表わし、d1 は
高屈折率層の層厚(nm)を表わし、nは正の奇数(一
般に、1)を表わし、n2 は低屈折率層の屈折率を表わ
し、そしてd2は低屈折率層の層厚(nm)を表わす。
高屈折率層の屈折率n1 は、一般に透明フィルムより少
なくとも0.05高く、そして、低屈折率層の屈折率n
2 は、一般に高屈折率層の屈折率より少なくとも0.1
低くかつ透明フィルムより少なくとも0.05低い。更
に、高屈折率層の屈折率n1 は、一般に1.5〜1.7
の範囲にある。
As an example of a multilayer antireflection film, in an antireflection film having two layers, a high refractive index layer and a low refractive index layer generally satisfy the following conditions (1) and (2), respectively. mλ / 4 × 0.7 <n1 d1 <mλ / 4 × 1.3 (1) nλ / 4 × 0.7 <n2 d2 <nλ / 4 × 1.3 (2) In the above equation, m is Positive integer (typically 1, 2, or 3)
Where n 1 represents the refractive index of the high refractive index layer, d 1 represents the layer thickness (nm) of the high refractive index layer, n represents a positive odd number (generally 1), and n 2 represents the low refractive index layer. Represents the refractive index, and d2 represents the layer thickness (nm) of the low refractive index layer.
The refractive index n1 of the high refractive index layer is generally at least 0.05 higher than the transparent film, and the refractive index n1 of the low refractive index layer is higher.
2 is generally at least 0.1% higher than the refractive index of the high refractive index layer.
Low and at least 0.05 lower than the transparent film. Further, the refractive index n1 of the high refractive index layer is generally 1.5 to 1.7.
In the range.

【0018】上記条件(1)及び(2)は、従来から良
く知られた条件であり、例えば、特開昭59−5040
1号公報に記載されている。
The above conditions (1) and (2) are well-known conditions, for example, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-5040.
No. 1 publication.

【0019】多層反射防止膜の他の例として、三層を有
する反射防止膜では、中、高及び低屈折率層がそれぞれ
下記の条件(3)〜(5)を一般に満足する。 hλ/4×0.7<n3 d3 <hλ/4×1.3 (3) kλ/4×0.7<n4 d4 <kλ/4×1.3 (4) jλ/4×0.7<n5 d5 <jλ/4×1.3 (5) 上記式に於て、hは正の整数(一般に、1、2又は3)
を表わし、n3 は中屈折率層の屈折率を表わし、d3 は
中屈折率層の層厚(nm)を表わし、kは正の整数(一
般に、1、2又は3)を表わし、n4 は高屈折率層の屈
折率を表わし、d4 は高屈折率層の層厚(nm)を表わ
し、jは正の奇数(一般に、1)を表わし、n5 は低屈
折率層の屈折率を表わし、そしてd5 は低屈折率層の層
厚(nm)を表わす。中屈折率層の屈折率n3 は、一般
に1.5〜1.7の範囲にあり、高屈折率層の屈折率n
4 は、一般に1.7〜2.2の範囲にある。
As another example of the multilayer antireflection film, in an antireflection film having three layers, the middle, high and low refractive index layers generally satisfy the following conditions (3) to (5), respectively. hλ / 4 × 0.7 <n3 d3 <hλ / 4 × 1.3 (3) kλ / 4 × 0.7 <n4 d4 <kλ / 4 × 1.3 (4) jλ / 4 × 0.7 < n5 d5 <jλ / 4 × 1.3 (5) In the above formula, h is a positive integer (generally 1, 2, or 3)
, N3 represents the refractive index of the medium refractive index layer, d3 represents the layer thickness (nm) of the medium refractive index layer, k represents a positive integer (generally 1, 2 or 3), and n4 represents the high refractive index. Represents the refractive index of the refractive index layer, d4 represents the layer thickness (nm) of the high refractive index layer, j represents a positive odd number (generally 1), n5 represents the refractive index of the low refractive index layer, and d5 represents the thickness (nm) of the low refractive index layer. The refractive index n3 of the medium refractive index layer is generally in the range of 1.5 to 1.7, and the refractive index n3 of the high refractive index layer is
4 is generally in the range of 1.7 to 2.2.

【0020】本発明において用いられる弗素樹脂(含フ
ッ素ポリマー)微粒子の平均粒径は、5〜200nmの
範囲が一般的で、5〜50nmである。このような微粒
子は、例えば、ポリマーラテックスから得られる。微粒
子の粒径が増大すると膜表面での散乱が増加し、200
nmを超えると膜ヘイズが生じ、好ましくない。本発明
の反射防止膜に使用される弗素樹脂としては、結晶性、
非晶性のいずれのものも用いることができる。これまで
結晶性を有する弗素樹脂は光線透過率を低減させるため
に光学材料の膜としては用いることができなかったが、
光の波長よりも充分に小さな粒径を有する微粒子を用い
ることによって、結晶性を有するものであっても光線透
過率を低減すること無く反射防止膜として用いることが
できる。弗素樹脂微粒子は、一般に室温以上のガラス転
移温度(Tg)を有し、100℃以上が好ましい。Tg
が室温未満の場合は、微粒子が過度に軟化するために変
形、融着し易く、このためミクロボイドが消失して屈折
率が上昇する。弗素樹脂微粒子として、Tgの異なる二
種以上の弗素樹脂の微粒子を用いることができる。その
場合、Tgの差は少なくとも5℃以上が一般的で、20
℃以上が好ましい。
The average particle diameter of the fine particles of the fluororesin (fluoropolymer) used in the present invention is generally in the range of 5 to 200 nm, and is 5 to 50 nm. Such fine particles are obtained, for example, from a polymer latex. As the particle size of the fine particles increases, scattering on the film surface increases,
If it exceeds nm, film haze occurs, which is not preferable. The fluororesin used for the antireflection film of the present invention is crystalline,
Any amorphous material can be used. Until now, crystalline fluororesin could not be used as an optical material film to reduce light transmittance,
By using fine particles having a particle size sufficiently smaller than the wavelength of light, even those having crystallinity can be used as an antireflection film without reducing light transmittance. The fluororesin fine particles generally have a glass transition temperature (Tg) of room temperature or higher, and preferably 100 ° C or higher. Tg
When the temperature is lower than room temperature, the fine particles are excessively softened and easily deformed and fused, so that microvoids disappear and the refractive index increases. As the fluorine resin fine particles, fine particles of two or more kinds of fluorine resins having different Tg can be used. In this case, the difference in Tg is generally at least 5 ° C.
C. or higher is preferred.

【0021】ポリマーラテックスの弗素樹脂微粒子は、
例えば、弗素原子を多く含有し、素材の低屈折率化に貢
献するコア部と、比較的フッ素原子の含有量に乏しいシ
ェル部からなるものでも良い。このため、シェル部は、
微粒子間または微粒子と下層との密着性の改善すること
ができる。シェル部表面に、アクリロイル基、エポキシ
基等の官能基を有していても良い。
The fluororesin fine particles of the polymer latex are
For example, a core portion containing a large amount of fluorine atoms and contributing to lowering the refractive index of the material, and a shell portion having a relatively low fluorine atom content may be used. For this reason, the shell part
The adhesion between the fine particles or between the fine particles and the lower layer can be improved. The surface of the shell may have a functional group such as an acryloyl group or an epoxy group.

【0022】本発明の含フッ素重合体を形成するモノマ
ーとして下記一般式の化合物を挙げることができる
The monomers forming the fluorine-containing polymer of the present invention include compounds represented by the following general formula.

【0023】[0023]

【化1】 Embedded image

【0024】但し、R1 は水素原子、メチル基、または
フッ素原子を表わし、p及びnは、それぞれ正の整数を
表わす;
Wherein R 1 represents a hydrogen atom, a methyl group or a fluorine atom, and p and n each represent a positive integer;

【0025】[0025]

【化2】 Embedded image

【0026】(但し、nは整数である)(Where n is an integer)

【0027】[0027]

【化3】 Embedded image

【0028】(但し、xは1〜4の整数である) 以下に、上記モノマーより得られる弗素樹脂の例を示
す。
(Where x is an integer of 1 to 4) Examples of the fluororesin obtained from the above monomer are shown below.

【0029】[0029]

【化4】 Embedded image

【0030】(但し、l+m+nが1〜6の条件で、l
は0〜5の整数であり、mは1〜4の整数であり、nは
0〜1の整数であり、そしてRはFまたはCF2 であ
る)
(Provided that l + m + n is 1 to 6;
Is an integer from 0 to 5, m is an integer from 1 to 4, n is an integer from 0 to 1, and R is F or CF 2.

【0031】[0031]

【化5】 Embedded image

【0032】(但し、o+p+qが1〜6の条件で、
o、p及びqは、それぞれ0〜5の整数である)
(Provided that o + p + q is 1 to 6,
o, p and q are each an integer of 0 to 5)

【0033】[0033]

【化6】 Embedded image

【0034】(但し、R1 及びR2 は、それぞれFまた
はCF3 である)
(Where R 1 and R 2 are each F or CF 3 )

【0035】[0035]

【化7】 Embedded image

【0036】[0036]

【化8】 Embedded image

【0037】(但し、R1 は水素原子、メチル基、また
はフッ素原子を表わし、p及びnは、それぞれ正の整数
を表わす)
(However, R 1 represents a hydrogen atom, a methyl group, or a fluorine atom, and p and n each represent a positive integer.)

【0038】[0038]

【化9】 Embedded image

【0039】弗素樹脂の屈折率は、弗素原子の含有量に
比例してほぼ直線的に低下し、低屈折率層の屈折率はミ
クロボイドの含有量の増加と共にさらに低下する。この
両方の含有量を増加させることにより、低屈折率層の屈
折率を充分に低くすることができる。従って、弗素樹脂
は、一般に0.30重量分率以上(好ましくは、0.3
0〜0.75重量分率、特に0.35〜0.75重量分
率)の弗素原子を含み、低屈折率層が、一般に0.05
〜0.50体積分率のミクロボイドを含み、さらに0.
10〜0.50体積分率が好ましく、特に0.10〜
0.28体積分率が好ましい。
The refractive index of the fluorine resin decreases almost linearly in proportion to the content of fluorine atoms, and the refractive index of the low refractive index layer further decreases as the content of microvoids increases. By increasing the content of both, the refractive index of the low refractive index layer can be sufficiently reduced. Therefore, the fluorine resin is generally used in an amount of 0.30 weight fraction or more (preferably, 0.3% by weight).
0 to 0.75 weight fraction, especially 0.35 to 0.75 weight fraction), and the low refractive index layer is
~ 0.50 volume fraction microvoids, and
A volume fraction of 10 to 0.50 is preferable, especially 0.10 to
A 0.28 volume fraction is preferred.

【0040】単分散の粒径を有する微粒子を最密充填し
た場合には、微粒子間に26%(0.26体積分率)の
空隙(ミクロボイド)が形成され、単純立方充填とした
場合は48%に増える。実際の系(低屈折率層)では、
粒径にある程度の分布が存在するために、これらの値通
りにはならない。また、低屈折率層を形成する条件(即
ち、微粒子同士の融着方法や融着条件)によっても空隙
率は変化する。ミクロボイドの含有量が高すぎると、膜
の機械的強度が低下するため、ミクロボイドの体積分率
は0.50以下とするのが好ましい。本発明では極少量
のバインダを用いるため、バインダと微粒子との比率に
よって空隙率は変化する。このようにして形成されたミ
クロボイド(空隙)が、数十〜数百nm(光の波長以
下)の大きさであれば、素材を屈折率の点から選択し、
そして形成されるミクロボイドの体積分率を調節するこ
とにより、目的の屈折率を有する透明な膜を形成するこ
とができる。
When fine particles having a monodispersed particle size are closest packed, voids (microvoids) of 26% (0.26 volume fraction) are formed between the fine particles. Increase to%. In the actual system (low refractive index layer),
Due to the presence of some distribution of particle sizes, these values are not met. The porosity also changes depending on the conditions for forming the low-refractive-index layer (that is, the method of fusing the particles and the conditions for fusing). If the content of microvoids is too high, the mechanical strength of the film decreases, so that the volume fraction of microvoids is preferably 0.50 or less. Since a very small amount of binder is used in the present invention, the porosity changes depending on the ratio of the binder to the fine particles. If the microvoids (voids) thus formed have a size of several tens to several hundreds of nm (less than the wavelength of light), the material is selected from the viewpoint of the refractive index,
Then, by adjusting the volume fraction of the formed microvoids, a transparent film having a target refractive index can be formed.

【0041】本発明では低屈折率層に少量のバインダを
使用するため、微粒子間に形成されるミクロボイドを埋
め過ぎないように、微粒子間の密着が得られる必要最低
限の量用いる必要がある。バインダの好ましい例として
は、水系塗布の場合は水溶性の各種多官能エポキシモノ
マー、水分散性の多官能イソシアナート等が挙げられ
る。有機溶剤塗布の場合にはポリメチルメタクリレー
ト、ポリメチルアクリレート等のアクリル系樹脂、(メ
タ)アクリル系の単官能/多官能モノマー、オリゴマー
やポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート等
のオリゴマー等を挙げることができる。特に皮膜強度の
観点から、上記単官能/多官能モノマーとして好ましく
用いられるものとして、下記の具体例を挙げる事ができ
る。3官能以上の多官能モノマーとしてはペンタエリス
リトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリ
トールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロ
パントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタン
トリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテ
トラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペ
ンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキ
サ(メタ)アクリレート等があり、2官能モノマーとし
てはエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,
3プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,
6ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート等があり、
単官能モノマーとしてはメチル(メタ)アクリレート、
エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレ
ート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、t−ブチ
ルアクリレート等がある。
In the present invention, since a small amount of binder is used in the low refractive index layer, it is necessary to use the minimum amount required to achieve the close contact between the fine particles so as not to overfill the microvoids formed between the fine particles. Preferred examples of the binder include various water-soluble polyfunctional epoxy monomers and water-dispersible polyfunctional isocyanates in the case of aqueous coating. In the case of applying an organic solvent, acrylic resins such as polymethyl methacrylate and polymethyl acrylate, (meth) acrylic monofunctional / polyfunctional monomers, oligomers and oligomers such as polyester acrylate and urethane acrylate can be exemplified. Particularly, from the viewpoint of film strength, the following specific examples can be given as those preferably used as the monofunctional / polyfunctional monomer. Examples of trifunctional or higher polyfunctional monomers include pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, and dipentaerythritol tetra (meth) acrylate. Acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, and the like. As the bifunctional monomer, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,
3 propylene glycol di (meth) acrylate, 1,
6 hexanediol di (meth) acrylate, etc.
Monofunctional monomers include methyl (meth) acrylate,
Examples include ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, and t-butyl acrylate.

【0042】さらに水系あるいはアルコール系塗布の場
合には、有機置換されたケイ素系化合物をこれに含める
ことができる。これらのケイ素系化合物は一般式:
In the case of water-based or alcohol-based coating, an organic-substituted silicon-based compound can be included in this. These silicon compounds have the general formula:

【0043】R11aR12bSiX4−(a+b) (ここでR11及びR12は、それぞれアルキル基、アルケ
ニル基、アリル基、またはハロゲン、エポキシ、アミ
ノ、メルカプト、メタクリロイルないしシアノで置換さ
れた炭化水素基を表わし、Xは、アルコキシル基、アル
コキシアルコキシル基、ハロゲン原子ないしアシルオキ
シ基から選ばれた加水分解可能な基を表わし、a+bが
1または2である条件下で、a及びbはそれぞれ0、1
または2である。)で表わされる化合物ないしはその加
水分解生成物である。弗素樹脂微粒子が水分散物である
場合には、上記水溶性樹脂の使用が好ましい。弗素樹脂
微粒子が有機溶媒に分散されている場合には、用いられ
る溶媒に充分に溶解し、微粒子や支持体との親和性があ
り、透明性の高いもの(即ち上記アクリル系樹脂及びセ
ルロース誘導体)が好ましく用いられる。また、上記の
ような重合基を有するモノマー等をバインダとして用い
る事により、微粒子層を形成後にUV、加熱等の処理に
よって架橋を行うこでさらに強固な低屈折率層となる。
バインダの添加量としては、微粒子間の密着が得られる
必要最低限の量が用いられる。バインダの添加量は、一
般に25重量%以下が好ましく、特に15重量%以下が
好ましい。
R 11 aR 12 bSiX 4- (a + b) (where R 11 and R 12 are each an alkyl group, an alkenyl group, an allyl group, or a carbon substituted with halogen, epoxy, amino, mercapto, methacryloyl or cyano, respectively) X represents a hydrogen group, X represents a hydrolyzable group selected from an alkoxyl group, an alkoxyalkoxyl group, a halogen atom and an acyloxy group, and under the condition that a + b is 1 or 2, a and b each represent 0, 1
Or 2. ) Or a hydrolysis product thereof. When the fluororesin fine particles are an aqueous dispersion, the use of the above water-soluble resin is preferred. When the fluororesin fine particles are dispersed in an organic solvent, they are sufficiently dissolved in the solvent used, have an affinity for the fine particles and the support, and have high transparency (that is, the acrylic resin and the cellulose derivative). Is preferably used. In addition, by using a monomer having a polymerizable group as described above as a binder, after forming a fine particle layer, crosslinking is performed by a treatment such as UV or heating, so that a stronger low refractive index layer is obtained.
As the amount of the binder to be added, the minimum amount required to obtain the adhesion between the fine particles is used. The amount of the binder added is generally preferably 25% by weight or less, particularly preferably 15% by weight or less.

【0044】本発明の反射防止膜は、一般に、支持体と
その上に設けられた低屈折率層からなる。支持体は通
常、透明フィルムである。透明フィルムを形成する材料
としては、セルロース誘導体(例、ジアセチルセルロー
ス、トリアセチルセルロース(TAC)、プロピオニル
セルロース、ブリルセルロース、アセチルプロピオニル
セルロース及びニトロセルロース)、ポリアミド、ポリ
カーボネート(例、米国特許番号3023101号に記
載のもの)、ポリエステル(ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタ
レート、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチレンテレ
フタレート、ポリエチレン−1,2−ジフェノキシエタ
ン−4,4’−ジカルボキシレート及び特公昭48−4
0414号公報に記載のポリエステル)、ポリスチレ
ン、ポリオレフィン(例、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン及びポリメチルペンテン)、ポリメチルメタクリレー
ト、シンジオタクチックポリスチレン、ポリスルホン、
ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリエー
テルイミド及びポリオキシエチレンを挙げることができ
る。トリアセチルセルロース、ポリカーボネート及びポ
リエチレンテレフタレートが好ましい。透明フィルムの
屈折率は1.40〜1.60が好ましい。
The antireflection film of the present invention generally comprises a support and a low refractive index layer provided thereon. The support is usually a transparent film. Materials for forming the transparent film include cellulose derivatives (eg, diacetylcellulose, triacetylcellulose (TAC), propionylcellulose, brylcellulose, acetylpropionylcellulose, and nitrocellulose), polyamides, polycarbonates (eg, US Pat. No. 3,023,101). Described), polyesters (polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, poly-1,4-cyclohexane dimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,4'-dicarboxylate, and Tokubyosho) 48-4
0414), polystyrene, polyolefins (eg, polyethylene, polypropylene and polymethylpentene), polymethyl methacrylate, syndiotactic polystyrene, polysulfone,
Polyethersulfone, polyetherketone, polyetherimide and polyoxyethylene can be mentioned. Triacetyl cellulose, polycarbonate and polyethylene terephthalate are preferred. The refractive index of the transparent film is preferably from 1.40 to 1.60.

【0045】本発明の反射防止膜が、多層膜である場
合、一般に、低屈折率層は、低屈折率層より高い屈折率
を有する少なくとも一層の層(即ち、前記の高屈折率
層、中屈折率層)と共に用いられる。上記より高い屈折
率を有する層を形成するための有機材料としては、熱可
塑性樹脂(例、ポリスチレン、ポリスチレン共重合体、
ポリカーボネート、ポリスチレン以外の芳香環、複素
環、脂環式環状基を有するポリマー、またはフッ素以外
のハロゲン基を有するポリマー);熱硬化性樹脂組成物
(例、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ないしエポキシ
樹脂などを硬化剤とする樹脂組成物);ウレタン形成性
組成物(例、脂環式ないしは芳香族イソシアネートおよ
びポリオールの組み合わせ);およびラジカル重合性組
成物(上記の化合物(ポリマー等)に二重結合を導入す
ることにより、ラジカル硬化を可能にした変性樹脂また
はプレポリマーを含む組成物)などを挙げることができ
る。高い皮膜形成性を有する材料が好ましい。上記より
高い屈折率を有する層は、有機材料中に分散した無機系
微粒子も使用することができる。上記に使用される有機
材料としては、一般に無機系微粒子が高屈折率を有する
ため有機材料単独で用いられる場合よりも低屈折率もの
も用いることができる。そのよな材料例として、上記に
述べた有機材料の他、アクリル系を含むビニル系共重合
体、ポリエステル、アルキド樹脂、繊維素系重合体、ウ
レタン樹脂およびこれらを硬化せしめる各種の硬化剤、
硬化性官能基を有する組成物など、透明性があり無機系
微粒子を安定に分散せしめる各種の有機材料を挙げるこ
とができる。特に皮膜強度の観点から、上記硬化性官能
基を有する組成物として好ましく用いられるものとし
て、下記の具体例を挙げる事ができる。3官能以上の多
官能モノマーとしてはペンタエリスリトールテトラ(メ
タ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)
アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)ア
クリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリ
レート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリ
レート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリ
レート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレ
ート等があり、2官能モノマーとしてはエチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、1,3プロピレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、1,6ヘキサンジオール
ジ(メタ)アクリレート等があり、単官能モノマーとし
てはメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アク
リレート、ブチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシ
ル(メタ)アクリレート、t−ブチルアクリレート等が
ある。
When the antireflection film of the present invention is a multilayer film, the low-refractive-index layer generally has at least one layer having a higher refractive index than the low-refractive-index layer. (Refractive index layer). As an organic material for forming a layer having a higher refractive index than the above, a thermoplastic resin (eg, polystyrene, polystyrene copolymer,
A polymer having an aromatic ring, a heterocyclic ring, an alicyclic group other than polycarbonate or polystyrene, or a polymer having a halogen group other than fluorine); a thermosetting resin composition (eg, a melamine resin, a phenol resin, or an epoxy resin) A curing agent); a urethane-forming composition (eg, a combination of an alicyclic or aromatic isocyanate and a polyol); and a radically polymerizable composition (a double bond is formed in the above compound (polymer or the like). A composition containing a modified resin or a prepolymer which is capable of radical curing by being introduced). Materials having high film forming properties are preferred. For the layer having a higher refractive index than the above, inorganic fine particles dispersed in an organic material can also be used. As the organic material used in the above, an inorganic fine particle generally has a high refractive index, so that a material having a lower refractive index than that of a case where the organic material is used alone can be used. As such material examples, in addition to the organic materials described above, vinyl-based copolymers including acrylics, polyesters, alkyd resins, cellulose-based polymers, urethane resins and various curing agents for curing these,
Various organic materials that are transparent and can stably disperse inorganic fine particles, such as a composition having a curable functional group, can be given. Particularly, from the viewpoint of film strength, the following specific examples can be given as those preferably used as the composition having the curable functional group. Trifunctional or higher functional monomers include pentaerythritol tetra (meth) acrylate and pentaerythritol tri (meth)
Acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, and the like. Examples of the functional monomer include ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,3 propylene glycol di (meth) acrylate, and 1,6 hexanediol di (meth) acrylate. Monofunctional monomers include methyl (meth) acrylate and ethyl ( Examples include (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, and t-butyl acrylate.

【0046】さらに水系塗布あるいはアルコール系塗布
の場合には、有機置換されたケイ素系化合物をこれに含
めることができる。これらのケイ素系化合物は一般式:
In the case of water-based coating or alcohol-based coating, an organic-substituted silicon-based compound can be included in this. These silicon compounds have the general formula:

【0047】R11aR12bSiX4−(a+b) (ここでR11及びR12は、それぞれアルキル基、アルケ
ニル基、アリル基、またはハロゲン、エポキシ、アミ
ノ、メルカプト、メタクリロイルないしシアノで置換さ
れた炭化水素基を表わし、Xは、アルコキシル基、アル
コキシアルコキシル基、ハロゲン原子ないしアシルオキ
シ基から選ばれた加水分解可能な基を表わし、a+bが
1または2である条件下で、a及びbはそれぞれ0、1
または2である。)で表わされる化合物ないしはその加
水分解生成物である。
R 11 aR 12 bSiX 4- (a + b) (where R 11 and R 12 are each an alkyl group, an alkenyl group, an allyl group, or a carbon substituted with halogen, epoxy, amino, mercapto, methacryloyl or cyano. X represents a hydrogen group, X represents a hydrolyzable group selected from an alkoxyl group, an alkoxyalkoxyl group, a halogen atom and an acyloxy group, and under the condition that a + b is 1 or 2, a and b each represent 0, 1
Or 2. ) Or a hydrolysis product thereof.

【0048】これらに分散される無機系微粒子の好まし
い無機化合物としては、アルミニウム、チタニウム、ジ
ルコニウム、アンチモン、錫などの金属元素の酸化物を
挙げることができる。これらの化合物は、微粒子状で、
即ち粉末ないしは水および/またはその他の溶媒中への
コロイド状分散体として、市販されている。これらをさ
らに上記の有機材料または有機ケイ素化合物中に混合分
散して使用する。
Preferred inorganic compounds of the inorganic fine particles dispersed therein include oxides of metal elements such as aluminum, titanium, zirconium, antimony and tin. These compounds are in the form of fine particles,
That is, it is commercially available as a powder or a colloidal dispersion in water and / or other solvents. These are further mixed and dispersed in the above organic material or organosilicon compound for use.

【0049】上記より高い屈折率を有する層を形成する
材料として、被膜形成性で溶剤に分散し得るか、それ自
身が液状である無機系材料(例、各種元素のアルコキシ
ド、有機酸の塩、配位性化合物と結合した配位化合物
(例、キレート化合物)、活性無機ポリマー)を挙げる
ことができる。これらの好適な例としては、チタンテト
ラエトキシド、チタンテトラ−i−プロポキシド、チタ
ンテトラ−n−プロポキシド、チタンテトラ−n−ブト
キシド、チタンテトラ−sec −ブトキシド、チタンテト
ラ−tert−ブトキシド、アルミニウムトリエトキシド、
アルミニウムトリ−i−プロポキシド、アルミニウムト
リブトキシド、アンチモントリエトキシド、アンチモン
トリブトキシド、ジルコニウムテトラエトキシド、ジル
コニウムテトラ−i−プロポキシド、ジルコニウムテト
ラ−n−プロポキシド、ジルコニウムテトラ−n−ブト
キシド、ジルコニウムテトラ−sec −ブトキシド及びジ
ルコニウムテトラ−tert−ブトキシドなどの金属アルコ
レート化合物;ジイソプロポキシチタニウムビス(アセ
チルアセトネート)、ジブトキシチタニウムビス(アセ
チルアセトネート)、ジエトキシチタニウムビス(アセ
チルアセトネート)、ビス(アセチルアセトンジルコニ
ウム)、アルミニウムアセチルアセトネート、アルミニ
ウムジ−n−ブトキシドモノエチルアセトアセテート、
アルミニウムジ−i−プロポキシドモノメチルアセトア
セテート及びトリ−n−ブトキシドジルコニウムモノエ
チルアセトアセテートなどのキレート化合物;さらには
炭酸ジルコニールアンモニウムあるいはジルコニウムを
主成分とする活性無機ポリマーなどを挙げることができ
る。上記に述べた他に、屈折率が比較的低いが上記の化
合物と併用できるものとしてとくに各種のアルキルシリ
ケート類もしくはその加水分解物、微粒子状シリカとく
にコロイド状に分散したシリカゲルも使用することがで
きる。
As a material for forming a layer having a higher refractive index, inorganic materials which are film-forming and can be dispersed in a solvent or are themselves liquid (eg, alkoxides of various elements, salts of organic acids, A coordination compound (eg, a chelate compound) bonded to a coordination compound, an active inorganic polymer) can be exemplified. Preferred examples thereof include titanium tetraethoxide, titanium tetra-i-propoxide, titanium tetra-n-propoxide, titanium tetra-n-butoxide, titanium tetra-sec-butoxide, titanium tetra-tert-butoxide, Aluminum triethoxide,
Aluminum tri-i-propoxide, aluminum tributoxide, antimony triethoxide, antimony tributoxide, zirconium tetraethoxide, zirconium tetra-i-propoxide, zirconium tetra-n-propoxide, zirconium tetra-n-butoxide, zirconium Metal alcoholate compounds such as tetra-sec-butoxide and zirconium tetra-tert-butoxide; diisopropoxytitanium bis (acetylacetonate), dibutoxytitanium bis (acetylacetonate), diethoxytitanium bis (acetylacetonate), Bis (acetylacetone zirconium), aluminum acetylacetonate, aluminum di-n-butoxide monoethylacetoacetate,
Chelating compounds such as aluminum di-i-propoxide monomethyl acetoacetate and tri-n-butoxide zirconium monoethyl acetoacetate; and active inorganic polymers mainly containing zirconium ammonium zirconate or zirconium. In addition to those described above, various alkyl silicates or hydrolysates thereof, particularly fine particles of silica, particularly silica gel dispersed in a colloidal form can be used as those having a relatively low refractive index but which can be used in combination with the above compounds. .

【0050】本発明の反射防止膜は、表面にアンチグレ
ア機能(即ち、入射光を表面で散乱させて膜周囲の景色
が膜表面に移るのを防止する機能)を有するように処理
することができる。例えば、このような機能を有する反
射防止膜は、透明フィルムの表面に微細な凹凸を形成
し、そしてその表面に反射防止膜(例、低屈折率層等)
を形成することにより得られる。上記微細な凹凸の形成
は、例えば、無機又は有機の微粒子を含む層を透明フィ
ルム表面に形成することにより行なわれる。あるいは、
弗素樹脂微粒子とは異なる、50nm〜5μmの粒径を
有する微粒子を低屈折率層形成用塗布液に、弗素樹脂微
粒子の0.1〜50重量%の量で導入し、反射防止膜の
最上層に凹凸を形成しても良い。アンチグレア機能を有
する(即ち、アンチグレア処理された)反射防止膜は、
一般に、3〜30%のヘイズを有する。
The antireflection film of the present invention can be treated so that the surface has an antiglare function (that is, a function of scattering incident light on the surface to prevent a scene around the film from shifting to the film surface). . For example, an antireflection film having such a function forms fine irregularities on the surface of a transparent film, and forms an antireflection film (eg, a low refractive index layer, etc.) on the surface.
Is obtained. The formation of the fine irregularities is performed, for example, by forming a layer containing inorganic or organic fine particles on the surface of the transparent film. Or,
Fine particles having a particle diameter of 50 nm to 5 μm, which are different from the fluororesin fine particles, are introduced into the coating solution for forming the low refractive index layer in an amount of 0.1 to 50% by weight of the fluororesin fine particles. Unevenness may be formed on the surface. An anti-reflection film having an anti-glare function (ie, an anti-glare treatment)
Generally, it has a haze of 3 to 30%.

【0051】本発明の反射防止膜(アンチグレア機能を
有する反射防止膜が好ましい)は、液晶表示装置(LC
D)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロル
ミネッセンスディスプレイ(ELD)、陰極管表示装置
(CRT)等の画像表示装置に組み込むことができる。
このような反射防止膜を有する画像表示装置は、入射光
の反射が防止され、視認性が格段に向上する。本発明の
反射防止膜を備えた液晶表示装置(LCD)は、たとえ
ば、下記の構成を有する。透明電極を有する一対の基板
とその間に封入されたネマチック液晶からなる液晶セ
ル、及び液晶セルの両側に配置された偏光板からなる液
晶表示装置であって、少なくとも一方の偏光板が表面に
本発明の反射防止膜を備えている液晶表示装置。
The antireflection film of the present invention (preferably an antireflection film having an antiglare function) is used for a liquid crystal display (LC).
D), an image display device such as a plasma display (PDP), an electroluminescence display (ELD), and a cathode ray tube display (CRT).
In the image display device having such an antireflection film, reflection of incident light is prevented, and visibility is remarkably improved. A liquid crystal display (LCD) provided with the antireflection film of the present invention has, for example, the following configuration. A liquid crystal display comprising a pair of substrates having transparent electrodes, a nematic liquid crystal sealed between the substrates, and a polarizing plate disposed on both sides of the liquid crystal cell, wherein at least one of the polarizing plates has a surface on which the present invention is applied. Liquid crystal display device having an anti-reflection film.

【0052】本発明の反射防止膜の低屈折率層は、たと
えば、この層を形成するための塗布液(水及び/又は有
機溶剤中に分散した弗素樹脂微粒子)を、カーテンフロ
ーコート、ディップコート、スピンコート、ロールコー
ト等の塗布法によって、透明フィルムあるい高又は中屈
折率層等に塗布し、乾燥することにより形成される。
The low-refractive-index layer of the antireflection film of the present invention may be formed, for example, by applying a coating solution (fluorine resin fine particles dispersed in water and / or an organic solvent) for forming this layer to a curtain flow coat or a dip coat. It is formed by applying to a transparent film or a high or middle refractive index layer or the like by an application method such as spin coating, roll coating or the like, and drying.

【0053】本発明においては、中間層としてハードコ
ート層、防湿防止層、帯電防止層等を、透明フィルム上
に設けることもできる。ハードコート層としては、アク
リル系、ウレタン系、エポキシ系のポリマー及び/又は
オリゴマー及びモノマーの他に、シリカ系の材料も使用
することができる。
In the present invention, a hard coat layer, an anti-moisture layer, an anti-static layer and the like may be provided on the transparent film as an intermediate layer. As the hard coat layer, in addition to acrylic-based, urethane-based, and epoxy-based polymers and / or oligomers and monomers, silica-based materials can also be used.

【0054】[0054]

【実施例】【Example】

実施例1 25重量部のジペンタエリスリトールペンタ/ヘキサア
クリレート(商品名:DPHA、日本化薬(株)製)、
25重量部のウレタンアクリレートオリゴマー(商品
名:UV−6300B、日本合成化学工業(株)製)、
2重量部の光重合開始剤(商品名:イルガキュア−90
7、チバ−ガイギー社製)及び0.5重量部の増感剤
(商品名:カヤキュア−DETX、日本化薬(株)製)
を50重量部のメチルエチルケトンに溶解した塗布液
を、TACフィルム上にバーコータを用いて塗布し、次
いで塗布膜に紫外線照射してハードコート層(層厚:5
μm)を形成した。続いて、ヘキサフルオロイソプロピ
ルメタクリレート−ジビニルベンゼン−ヒドロキシエチ
ルメタクリレートの乳化共重合によって得た弗素樹脂微
粒子(平均粒径:30nm、屈折率:1.421)と、
上記ハードコート層に用いた組成物のUV−6300B
をDPHAに置き換えた組成物(屈折率:1.535)
を混合して得た塗布液(固形分:1重量%;弗素樹脂微
粒子/バインダ=84/16、重量比)を、高屈折率層
上にスピンコータを用いて塗布し、120℃で乾燥した
後に塗布膜に紫外線照射することで、弗素樹脂微粒子と
ごく少量のバインダからなる膜厚91nmの低屈折率層
を形成し、反射防止膜を得た。低屈折率層の屈折率(n
layer )は、その反射率(R)及びTACフィルム(透
明支持体)の屈折率(nbase)から下記式より求めた。
Example 1 25 parts by weight of dipentaerythritol penta / hexaacrylate (trade name: DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
25 parts by weight of a urethane acrylate oligomer (trade name: UV-6300B, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.),
2 parts by weight of a photopolymerization initiator (trade name: Irgacure-90)
7, Ciba-Geigy) and 0.5 parts by weight of a sensitizer (trade name: Kayacure-DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
Was dissolved in 50 parts by weight of methyl ethyl ketone, and the solution was applied onto a TAC film using a bar coater, and the applied film was irradiated with ultraviolet light to form a hard coat layer (layer thickness: 5
μm). Subsequently, fluororesin fine particles (average particle size: 30 nm, refractive index: 1.421) obtained by emulsion copolymerization of hexafluoroisopropyl methacrylate-divinylbenzene-hydroxyethyl methacrylate;
UV-6300B of the composition used for the hard coat layer
Wherein DP is replaced by DPHA (refractive index: 1.535)
(Solid content: 1% by weight; fluororesin fine particles / binder = 84/16, weight ratio), was applied onto the high refractive index layer using a spin coater, and dried at 120 ° C. By irradiating the coating film with ultraviolet rays, a low-refractive-index layer having a thickness of 91 nm comprising fluororesin fine particles and a very small amount of binder was formed, and an antireflection film was obtained. The refractive index of the low refractive index layer (n
layer) was determined from the following formula based on the reflectance (R) and the refractive index (nbase) of the TAC film (transparent support).

【0055】[0055]

【数1】 (Equation 1)

【0056】また、低屈折率層のミクロボイドの体積分
率(Vlayer )は、低屈折率層の屈折率(nlayer )、
含フッ素微粒子の屈折率とバインダの屈折率の平均の屈
折率(nmaterial)から下記式より求めた。 Vlayer =(nlayer −nmaterial)/(1−nmateri
al) その結果、反射防止膜(TACフィルム及び低屈折率
層)の反射率は、550nmの波長において反射率1.
945%であり、低屈折率層の屈折率は1.400と計
算され、約0.10体積分率のミクロボイドを含有して
いることが示唆された。更に、低屈折率層を電子顕微鏡
で観察したところ、ほぼ3個の弗素樹脂微粒子が膜厚方
向に重なってミクロボイドを形成していることが認めら
れた。また、鉛筆硬度は3Hであり、#0000のスチ
ールウールによる擦りで表面に傷が付かず、耐傷性に優
れる事が分かった。
The volume fraction (Vlayer) of the microvoids in the low-refractive-index layer is represented by the refractive index (nlayer) of the low-refractive-index layer,
The average refractive index (nmaterial) of the refractive index of the fluorine-containing fine particles and the refractive index of the binder was determined by the following equation. Vlayer = (nlayer-nmaterial) / (1-nmateri
al) As a result, the reflectance of the antireflection film (TAC film and low refractive index layer) is 1.75 at a wavelength of 550 nm.
It was 945%, and the refractive index of the low refractive index layer was calculated to be 1.400, indicating that the low refractive index layer contained microvoids of about 0.10 volume fraction. Further, when the low refractive index layer was observed with an electron microscope, it was confirmed that approximately three fluororesin fine particles overlapped in the film thickness direction to form microvoids. The pencil hardness was 3H, and the surface was not scratched by rubbing with # 0000 steel wool, indicating that the scratch resistance was excellent.

【0057】実施例2 25重量部のジペンタエリスリトールペンタ/ヘキサア
クリレート(商品名:DPHA、日本化薬(株)製)、
25重量部のウレタンアクリレートオリゴマー(商品
名:UV−6300B、日本合成化学工業(株)製)、
2重量部の光重合開始剤(商品名:イルガキュア−90
7、チバ−ガイギー社製)及び0.5重量部の増感剤
(商品名:カヤキュア−DETX、日本化薬(株)製)
を50重量部のメチルエチルケトンに溶解した塗布液
を、TACフィルム上にバーコータを用いて塗布し、次
いで塗布膜に紫外線照射してハードコート層(層厚:5
μm)を形成した。TiO2 の微分散液とバインダとし
上記ハードコート層に用いた組成物のUV−6300B
をDPHAに置き換えた組成物(重合後の屈折率:1.
535)を含む塗布液(固形分:2重量%、TiO2
バインダ=22/78、重量比)を、ハードコート層の
上にスピンコータを用いて塗布し、120℃で乾燥した
後に紫外線照射して、中屈折率層(屈折率:1.62、
層厚:78nm)を形成した。TiO2 の微分散液と上
記バインダを含む塗布液(固形分:2重量%、TiO 2
/バインダ=68/32、重量比)を、中屈折率層の上
にスピンコータを用いて塗布し、120℃で乾燥した後
に塗布膜に紫外線照射して、高屈折率層(屈折率:2.
00、層厚:127nm)を形成した。さらに、ヘキサ
フルオロイソプロピルメタクリレート−ジビニルベンゼ
ン−ヒドロキシエチルメタクリレートの乳化共重合によ
って得た弗素樹脂微粒子(平均粒径:30nm、屈折
率:1.421)と、上記中/高屈折率層に用いたバイ
ンダ(屈折率:1.535)を混合して得た塗布液(固
形分:1重量%;弗素樹脂微粒子/バインダ=84/1
6、重量比)を、高屈折率層上にスピンコータを用いて
塗布し、120℃で乾燥した後に塗布膜に紫外線照射す
ることで、弗素樹脂微粒子とごく少量のバインダからな
る膜厚91nmの低屈折率層を形成し、反射防止膜を得
た。その結果、低屈折率層の屈折率は1.400であ
り、約0.10体積分率のミクロボイドを含有している
ことが示唆された。更に、低屈折率層を電子顕微鏡で観
察したところ、ほぼ3個の弗素樹脂微粒子が膜厚方向に
重なってミクロボイドを形成していることが認められ
た。反射防止膜(TACフィルム及び低屈折率層)の反
射防止効果は、450nmから650nmの波長領域に
おいて反射率0.5%未満であり、従来用いられてきた
物理蒸着による多層膜の反射防止膜と同等であることが
わかった。また、鉛筆硬度は3Hであり、#0000の
スチールウールで擦ったところ表面に傷が付かず、耐傷
性に優れる事が分かった。
Example 2 25 parts by weight of dipentaerythritol penta / hexa
Crylate (trade name: DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.),
25 parts by weight of urethane acrylate oligomer (product
Name: UV-6300B, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.)
2 parts by weight of a photopolymerization initiator (trade name: Irgacure-90)
7, Ciba-Geigy) and 0.5 parts by weight of a sensitizer
(Product name: Kayacure-DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
Coating solution in which is dissolved in 50 parts by weight of methyl ethyl ketone
On a TAC film using a bar coater,
The coating film is irradiated with ultraviolet light to form a hard coat layer (layer thickness: 5
μm). TiOTwoAs a fine dispersion and binder
UV-6300B of the composition used for the hard coat layer
In which DPHA was replaced by DPHA (refractive index after polymerization: 1.
535) (solid content: 2% by weight, TiO2)Two/
Binder = 22/78, weight ratio)
Coated with a spin coater and dried at 120 ° C
After that, ultraviolet irradiation is performed to obtain a medium refractive index layer (refractive index: 1.62,
(Layer thickness: 78 nm). TiOTwoOf fine dispersion and above
Coating solution containing the binder (solid content: 2% by weight, TiO Two
/ Binder = 68/32, weight ratio) on the middle refractive index layer
And then dried at 120 ° C using a spin coater
The coating film is irradiated with ultraviolet rays to form a high refractive index layer (refractive index: 2.
00, layer thickness: 127 nm). Furthermore, hexa
Fluoroisopropyl methacrylate-divinylbenze
By emulsion copolymerization of 1-hydroxyethyl methacrylate.
Resin particles (average particle size: 30 nm, refraction
Index: 1.421) and the bi-layer used for the middle / high refractive index layer.
(Refractive index: 1.535) to obtain a coating solution (solid
Form fraction: 1% by weight; fine particles of fluororesin / binder = 84/1
6, weight ratio) on the high refractive index layer using a spin coater.
After applying and drying at 120 ° C., the applied film is irradiated with ultraviolet rays.
This makes it possible to use fluororesin fine particles and a very small amount of binder.
Forming a low refractive index layer having a thickness of 91 nm to obtain an antireflection film.
Was. As a result, the refractive index of the low refractive index layer is 1.400.
Contains about 0.10 volume fraction of microvoids
It has been suggested. Furthermore, the low refractive index layer was observed with an electron microscope.
It was found that almost three fluororesin fine particles
It is recognized that they overlap to form microvoids
Was. Anti-reflection film (TAC film and low refractive index layer)
The anti-irradiation effect is in the wavelength range from 450 nm to 650 nm.
Has a reflectance of less than 0.5% and has been used in the past.
Must be equivalent to multi-layer anti-reflective coating by physical vapor deposition
all right. The pencil hardness is 3H, and the pencil hardness is # 0000.
Scratched with steel wool, no scratch on surface, scratch resistant
It turned out to be excellent.

【0058】比較例 ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート(商品名:
ビスコート6FM、大阪有機化学(株)製)、0.48
重量分率の弗素原子含有)を乳化重合し、弗素樹脂微粒
子(平均粒径:30nm、屈折率:1.387)を得
た。この弗素樹脂微粒子85重量部に対してポリビニル
アルコール(商品名:PVA203、クラレ(株)、屈
折率:1.520)を15重量部をバインダとして添加
した水/メタノール=9/1の分散媒に分散した塗布液
(固形分:1重量%)を、実施例1、2と同様にハード
コート層を塗工したトリアセチルセルロース(TAC)
フィルム上にスピンコータを用いて塗布し、40℃の温
度で乾燥して、弗素樹脂微粒子からなる膜厚100nm
の低屈折率層を形成し、反射防止膜を得た。更に、低屈
折率層を電子顕微鏡で観察したところ、ほぼ3個の弗素
樹脂微粒子が膜厚方向に重なってミクロボイドを形成し
ていることが認められた。反射防止膜(TACフィルム
及び低屈折率層)の反射率は、1.331%(波長55
0nmの光に対する)であり、低屈折率層の屈折率は
1.366(約0.10体積分率のミクロボイド含有)
と計算された。しかし、耐傷性に劣っており、鉛筆硬度
Bであり、#0000のスチールウールで擦ったとこ
ろ、光干渉層が一部脱落した。
Comparative Example Hexafluoroisopropyl methacrylate (trade name:
Viscort 6FM, manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.), 0.48
Emulsion polymerization was carried out to obtain fluorine resin fine particles (average particle diameter: 30 nm, refractive index: 1.387). A dispersion medium of water / methanol = 9/1 in which 15 parts by weight of polyvinyl alcohol (trade name: PVA203, Kuraray Co., Ltd., refractive index: 1.520) is added as a binder to 85 parts by weight of the fluororesin fine particles. Triacetyl cellulose (TAC) coated with a hard coat layer in the same manner as in Examples 1 and 2 using the dispersed coating solution (solid content: 1% by weight)
The film is coated on the film using a spin coater and dried at a temperature of 40 ° C.
Was formed to obtain an antireflection film. Further, when the low refractive index layer was observed with an electron microscope, it was confirmed that approximately three fluororesin fine particles overlapped in the film thickness direction to form microvoids. The reflectance of the antireflection film (TAC film and low refractive index layer) is 1.331% (wavelength 55
0 nm light) and the refractive index of the low refractive index layer is 1.366 (containing about 0.10 volume fraction of microvoids).
It was calculated. However, it was inferior in scratch resistance, had a pencil hardness of B, and when rubbed with # 0000 steel wool, a part of the light interference layer dropped off.

【0059】[0059]

【発明の効果】本発明の反射防止膜を構成する低屈折率
層は、弗素樹脂微粒子と微粒子間に形成されたミクロボ
イドから形成されている。この低屈折率層は、その材料
より低い屈折率を有する層であり極めて低い屈折率を有
すると同時に、ごく少量のバインダを介して微粒子が互
いに強固に結びついているために耐傷性に優れる。特
に、この低屈折率層を高屈折率を有する少なくとも一層
と共に用いた反射防止膜は、高い反射防止効果を示す。
The low refractive index layer constituting the antireflection film of the present invention is formed of fluorine resin fine particles and microvoids formed between the fine particles. The low refractive index layer has a refractive index lower than that of the material and has an extremely low refractive index, and also has excellent scratch resistance because fine particles are tightly bound to each other via a very small amount of binder. In particular, an antireflection film using this low refractive index layer together with at least one layer having a high refractive index exhibits a high antireflection effect.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の反射防止膜の代表的な一例の断面図を
示す。
FIG. 1 shows a cross-sectional view of a typical example of an antireflection film of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 低屈折率層 2 含フッ素微粒子 3、6、9 バインダ 4 高屈折率層 5、8 金属酸化物微粒子 7 中屈折率層 10 ハードコート層 11 透明フィルム Reference Signs List 1 low refractive index layer 2 fluorine-containing fine particles 3, 6, 9 binder 4 high refractive index layer 5, 8 metal oxide fine particles 7 medium refractive index layer 10 hard coat layer 11 transparent film

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基材上に、平均粒径が5〜200nmの
範囲の含フッ素ポリマーの微粒子を少なくとも2個以上
積み重ねることにより微粒子間にミクロボイドを形成し
てなる低屈折率層を光干渉層に少なくとも一層含むこと
を特徴とする反射防止膜において、該低屈折率層が含フ
ッ素ポリマー粒子、重合性を有するモノマーおよび/ま
たは重合性を有するオリゴマーおよび/または重合性を
有するポリマーから成ることを特徴とする反射防止膜。
1. A low-refractive-index layer comprising microvoids formed between fine particles by stacking at least two fine particles of a fluoropolymer having an average particle size in the range of 5 to 200 nm on a substrate. Wherein the low refractive index layer comprises fluorine-containing polymer particles, a polymerizable monomer and / or a polymerizable oligomer and / or a polymerizable polymer. Characteristic anti-reflection film.
【請求項2】 前記光干渉層が低屈折率層、基材のいず
れよりも高い屈折率を有する層を少なくとも一層含む複
数の層から成り、各層が共通のモノマー、および/また
はオリゴマーおよび/またはポリマーをバインダとして
含む事を特徴とする請求項1に記載の反射防止膜。
2. The light interference layer comprises a plurality of layers including at least one layer having a higher refractive index than any of a low refractive index layer and a substrate, and each layer has a common monomer and / or oligomer and / or The anti-reflection film according to claim 1, wherein a polymer is contained as a binder.
【請求項3】 前記光干渉層と該光干渉層を設ける基材
との間に0.5ミクロン〜10ミクロンの膜厚を有する
ハードコート層を有する事を特徴とする請求項1または
2に記載の反射防止膜。
3. The method according to claim 1, further comprising a hard coat layer having a thickness of 0.5 to 10 μm between the light interference layer and a substrate on which the light interference layer is provided. The antireflection film as described in the above.
【請求項4】 請求項1に記載の反射防止膜を有する事
を特徴とする画像表示装置。
4. An image display device comprising the antireflection film according to claim 1.
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Cited By (4)

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