JPH09288201A - Antireflection film and image display device using the same - Google Patents
Antireflection film and image display device using the sameInfo
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- JPH09288201A JPH09288201A JP8344688A JP34468896A JPH09288201A JP H09288201 A JPH09288201 A JP H09288201A JP 8344688 A JP8344688 A JP 8344688A JP 34468896 A JP34468896 A JP 34468896A JP H09288201 A JPH09288201 A JP H09288201A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置(L
CD)等の画像表示装置の画像表示表面の反射率の低下
に有効な反射防止膜及び反射防止膜を有する画像表示装
置に関する。The present invention relates to a liquid crystal display (L).
The present invention relates to an antireflection film effective for lowering the reflectance of an image display surface of an image display device such as a CD) and an image display device having an antireflection film.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、可視光のような広い波長領域を有
する光に対する反射防止膜としては、金属酸化物等の金
属化合物の透明薄膜を積層させた多層膜が用いられてき
た。反射防止膜として、多層膜の代わりに低屈折率の単
層膜を用いた場合、単色光に対しては有効であるもの
の、ある程度広い波長領域を有する光に対して単層膜は
有効な反射防止効果を示さない。前記の多層膜では、積
層数が多いほど波長領域の広い光に対しても有効な反射
防止膜となる。そのため、従来の反射防止膜には、物理
又は化学蒸着法等の手段によって金属酸化物等を3層以
上積層したものが用いられてきた。しかしながら、多層
構造の反射防止膜を形成するためには、予め最適に設計
された各層の屈折率と膜厚との関係に従い、その膜厚を
高精度に制御した物理蒸着をその層の数だけ行う必要が
あり、煩雑で非常に高コストなものである。また、表面
の耐傷性あるいは指紋付着性等の対汚染性の改善のため
には例えば新たに含フッ素樹脂からなる層を設ける必要
がある。2. Description of the Related Art Hitherto, as an antireflection film for light having a wide wavelength region such as visible light, a multilayer film in which transparent thin films of metal compounds such as metal oxides are laminated has been used. When a low refractive index single layer film is used as the antireflection film instead of the multilayer film, it is effective for monochromatic light, but the single layer film is effective reflection for light having a wide wavelength range to some extent. Has no preventive effect. In the above-mentioned multilayer film, the larger the number of stacked layers, the more effective the antireflection film is for light having a wide wavelength range. Therefore, as the conventional antireflection film, a film in which three or more layers of metal oxides or the like are laminated by means such as physical or chemical vapor deposition has been used. However, in order to form an antireflection film having a multi-layered structure, physical vapor deposition in which the film thickness is controlled with high precision is performed according to the relationship between the refractive index and the film thickness of each layer that is optimally designed in advance by the number of layers. It has to be done and is cumbersome and very expensive. Further, in order to improve scratch resistance of the surface or stain resistance such as fingerprint adhesion, it is necessary to newly provide a layer made of a fluorine-containing resin, for example.
【0003】上述のような多層膜による方法の他に、空
気との界面から膜厚方向に屈折率が徐々に変化するよう
な膜によって反射防止効果を得る方法が、知られてい
る。例えば、特開平2−245702号公報には、ガラ
ス基板とMgF2 の中間の屈折率を持つSiO2 超微粒
子と、MgF2 超微粒子とを混合してガラス基板に塗布
し、ガラス基板面から塗布膜面に向かって徐々にSiO
2 の混合比を減少させてMgF2 の混合比を増加させる
ことにより、塗布層内の屈折率の変化を大きくさせると
共に、塗布層と空気、及び塗布層とガラス基板の界面に
おける屈折率変化を緩やかにすることによって、反射防
止効果が得られることが記載されている。このように形
成された反射防止膜は、その底面とガラス表面との屈折
率の変化が小さいので、高い反射防止効果を示す。In addition to the above-described method using a multilayer film, a method is known in which an antireflection effect is obtained by a film whose refractive index gradually changes from the interface with air in the film thickness direction. For example, in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2-245702, SiO 2 ultrafine particles having a refractive index intermediate between those of a glass substrate and MgF 2 and MgF 2 ultrafine particles are mixed and applied onto a glass substrate, and then applied from the glass substrate surface. SiO gradually toward the film surface
By decreasing the mixing ratio of 2 to increase the mixing ratio of MgF 2, with greatly changes in the refractive index of the coating layer, the coating layer and the air, and the refractive index change at the interface between the coating layer and the glass substrate It is described that an antireflection effect can be obtained by making it gentle. The antireflection film thus formed exhibits a high antireflection effect because the change in the refractive index between the bottom surface and the glass surface is small.
【0004】また、特開平5−13021号公報には、
エチルシリケート中に分散したMgF2 、SiO2 を有
する超微粒子を用いた二層からなる反射防止膜が開示さ
れている。例えば、第一層は、MgF2 /SiO2 が7
/3の層で、第二層は、MgF2 /SiO2 が1/1の
層で、第一層の屈折率が1.42そして第二層の屈折率
が1.44である。従って、屈折率変化は大きいとは言
えず、充分な反射防止効果は得られない。Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-13021 discloses that
An antireflection film comprising two layers using ultrafine particles having MgF 2 and SiO 2 dispersed in ethyl silicate is disclosed. For example, the first layer is composed of 7 MgF 2 / SiO 2.
The second layer is a layer in which MgF 2 / SiO 2 is 1/1, the refractive index of the first layer is 1.42, and the refractive index of the second layer is 1.44. Therefore, the change in the refractive index cannot be said to be large, and a sufficient antireflection effect cannot be obtained.
【0005】また、特開平7−92305号公報には、
コア部とその周囲のシェル部からなる屈折率1.428
の超微粒子からなり、空気と微粒子とから形成された表
面が凹凸の上層部(低屈折率)と、微粒子のみから形成
された下層部とからなる反射防止膜が開示されている。
そして、上記超微粒子のコア部が、メタクリル酸メチ
ル、メタクリル酸、トリフルオロエチルアクリレート、
N−イソブトキシメチルアクリルアミドから形成され、
シェル部がスチレン、アクリル酸、アクリル酸ブチルか
ら形成されている。Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-92305 discloses that
Refractive index of 1.428 consisting of core and surrounding shell
An anti-reflection film is disclosed which comprises an upper layer portion (low refractive index) having irregularities on the surface formed of air and fine particles and a lower layer portion formed only of fine particles.
And the core of the ultrafine particles is methyl methacrylate, methacrylic acid, trifluoroethyl acrylate,
Formed from N-isobutoxymethylacrylamide,
The shell part is formed from styrene, acrylic acid, and butyl acrylate.
【0006】更に、特開平7−168006号公報に
は、空気と微粒子(例、MgF2 )とから形成された表
面が凹凸の上層部(低屈折率)、微粒子のみの中層部
(中屈折率)、及び微粒子とバインダーから形成された
下層部とからなる反射防止膜が開示されている。Further, in Japanese Unexamined Patent Publication No. 7-168006, the surface formed of air and fine particles (eg, MgF 2 ) has an uneven upper layer (low refractive index), and only fine particles have an intermediate layer (medium refractive index). ), And an antireflection film comprising fine particles and a lower layer portion formed of a binder.
【0007】しかしながら、前記の特開平2−2457
02号公報、特開平5−13021号公報、特開平7−
92305号公報及び特開平7−168006号公報に
記載の反射防止膜は、空気に対する屈折率が膜厚方向に
徐々に変化する原理を利用したものである。これらの反
射防止膜は、その作成に、煩雑な操作と、熟練した技術
が必要であり、また得られる膜も満足な反射防止効果が
得られていない。[0007] However, the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 2-2457.
02, JP-A-5-13021, JP-A-7-
The antireflection films described in JP-A-92305 and JP-A-7-168006 utilize the principle that the refractive index to air gradually changes in the thickness direction. These antireflection films require complicated operations and skillful techniques for their preparation, and the obtained films do not have a satisfactory antireflection effect.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、容易に作成
することができ、且つ高い反射防止効果を示す反射防止
膜を提供することを目的とする。また本発明は、容易に
作成することができ、且つ高い反射防止効果を示す反射
防止膜を備えた画像表示装置を提供することを目的とす
る。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an antireflection film which can be easily produced and has a high antireflection effect. Another object of the present invention is to provide an image display device provided with an antireflection film which can be easily produced and exhibits a high antireflection effect.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明は、平均粒径が5
〜200nmの範囲の含フッ素重合体(即ち、弗素樹
脂)の微粒子を少なくとも2個以上積み重ねることによ
り微粒子間にミクロボイドを形成してなる低屈折率層を
含むことを特徴とする反射防止膜にある。上記本発明の
反射防止膜の好ましい態様は下記のとおりである。 1)前記含フッ素重合体が結晶性の重合体である。 2)前記含フッ素重合体が0.30重量分率以上(好ま
しくは0.30〜0.75の範囲)のフッ素原子を含
む。 3)前記低屈折率層のミクロボイドの体積分率が、0.
05〜0.50の範囲(好ましくは0.10〜0.50
の範囲)にある。 4)前記低屈折率層が、さらにバインダを含む。 5)前記含フッ素重合体の微粒子がコア―シェル構造を
有する。 6)前記含フッ素重合体微粒子がシランカップリング剤
で処理されている。 7)前記含フッ素重合体がパーフルオロ―2,2―ジメ
チル―1,3―ジオキソールあるいはテトラフルオロエ
チレンの単独重合体、あるいはそれらの共重合体を含
む。 8)前記反射防止膜のヘイズ値が3〜30%の範囲にあ
る。 9)反射防止膜が、前記低屈折率層を支持体(好ましく
は透明フィルム)上に形成してなる膜である。The present invention has an average particle size of 5
An antireflection film is characterized by including a low refractive index layer formed by stacking at least two fine particles of a fluoropolymer (that is, a fluororesin) in the range of up to 200 nm to form microvoids between the fine particles. . The preferred embodiments of the antireflection film of the present invention are as follows. 1) The fluoropolymer is a crystalline polymer. 2) The fluoropolymer contains 0.30 weight fraction or more (preferably 0.30 to 0.75) of fluorine atoms. 3) The volume fraction of microvoids in the low refractive index layer is 0.
Range of 05 to 0.50 (preferably 0.10 to 0.50
Range). 4) The low refractive index layer further contains a binder. 5) The fine particles of the fluoropolymer have a core-shell structure. 6) The fluoropolymer fine particles are treated with a silane coupling agent. 7) The fluorine-containing polymer contains a perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole or tetrafluoroethylene homopolymer or a copolymer thereof. 8) The haze value of the antireflection film is in the range of 3 to 30%. 9) The antireflection film is a film formed by forming the low refractive index layer on a support (preferably a transparent film).
【0010】本発明の反射防止膜は、上記含フッ素重合
体の微粒子とミクロボイドからなる低屈折率層が、それ
よりも高い屈折率を有する高屈折率層の上に形成された
2層よりなることが好ましい。またこれらの層が支持体
(好ましくは透明フィルム)上に設けられていることが
好ましい。また、本発明の反射防止膜は、上記含フッ素
重合体の微粒子とミクロボイドからなる低屈折率層が、
それよりも高い屈折率を有する高屈折率層の上に形成さ
れ、更に高屈折率層が、それよりも低く且つ低屈折率層
よりも高い屈折率を有する中屈折率層の上に形成された
3層よりなることが好ましい。またこれらの層が支持体
(好ましくは透明フィルム)上に設けられていることが
好ましい。更に、本発明は、1.40以下の屈折率及び
50〜200nmの層厚を有しかつ体積分率が0.02
〜0.28のミクロボイドを備えた低屈折率層を有する
反射防止膜にもある。The antireflection film of the present invention comprises a low refractive index layer comprising fine particles of the above-mentioned fluoropolymer and microvoids, and two layers formed on a high refractive index layer having a refractive index higher than that. It is preferable. It is also preferable that these layers are provided on a support (preferably a transparent film). Further, the antireflection film of the present invention, a low refractive index layer comprising fine particles of the fluoropolymer and microvoids,
Formed on a high refractive index layer having a higher refractive index, and a higher refractive index layer formed on a medium refractive index layer having a lower refractive index and a higher refractive index than the low refractive index layer. It is preferably composed of three layers. It is also preferable that these layers are provided on a support (preferably a transparent film). Furthermore, the present invention has a refractive index of 1.40 or less, a layer thickness of 50 to 200 nm and a volume fraction of 0.02.
There is also an antireflective coating having a low refractive index layer with microvoids of ˜0.28.
【0011】本発明は上記いずれかの反射防止膜を少な
くとも一層有することを特徴とする画像表示装置にもあ
る。The present invention also resides in an image display device having at least one of the above antireflection films.
【0012】[0012]
【発明の実施の形態】本発明の反射防止膜は、基本的に
弗素樹脂(含フッ素重合体)の微粒子から形成された低
屈折率層からなる。そして、低屈折率層は、上記微粒子
を少なくとも2個以上積み重ねることにより微粒子間に
形成されたミクロボイドを有する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The antireflection film of the present invention basically comprises a low refractive index layer formed from fine particles of a fluororesin (fluorine-containing polymer). The low refractive index layer has microvoids formed between the fine particles by stacking at least two of the above fine particles.
【0013】本発明の反射防止膜の代表的な構成例を図
1に示す。低屈折率層11が透明フィルム(支持体)1
3上に形成されている。低屈折率層は、弗素樹脂の微粒
子と微粒子間に形成されたミクロボイドから形成されて
いる。低屈折率層では、少なくとも2個の弗素樹脂の微
粒子が膜厚方向に重ねられることにより、微粒子間にミ
クロボイドが形成される。従って、ミクロボイドは、一
般に低屈折率層内で均一に配置している。弗素樹脂の微
粒子は、一般に溶剤の除去または加熱により、溶融ある
いは軟化して互いに密着する。あるいは、弗素樹脂の微
粒子が官能基(反応性基)を有する場合には、官能基間
の反応により粒子同士が結合することができる。また弗
素樹脂の微粒子を、極く少量のバインダーあるいはシラ
ンカップリング剤を用いて密着させることもできる。低
屈折率層は、一般に透明フィルムの表面、あるいは透明
フィルム上に設けられた最上層の表面に設けられる。A typical constitutional example of the antireflection film of the present invention is shown in FIG. The low refractive index layer 11 is a transparent film (support) 1
It is formed on 3. The low refractive index layer is formed of fine particles of fluororesin and microvoids formed between the fine particles. In the low-refractive-index layer, microvoids are formed between the fine particles by overlapping at least two fine particles of the fluororesin in the film thickness direction. Therefore, the microvoids are generally uniformly arranged in the low refractive index layer. The fine particles of the fluororesin are generally melted or softened by the removal of the solvent or the heating to adhere to each other. Alternatively, when the fine particles of the fluororesin have a functional group (reactive group), the particles can be bound to each other by the reaction between the functional groups. Further, the fine particles of the fluororesin can be adhered to each other by using a very small amount of binder or silane coupling agent. The low refractive index layer is generally provided on the surface of the transparent film or the surface of the uppermost layer provided on the transparent film.
【0014】上記微粒子は、一般に1個の粒子の厚さ
で、平面方向に配置されさ粒子層を形成し、更に複数の
粒子層を重ねて本発明の低屈折率層を形成している。こ
のため、粒子間に形成されるミクロボイドは、粒子の大
きさがほぼ同じであるので、通常ボイドの大きさ、その
間隔において均一に形成されている。本発明の低屈折率
層はミクロでは微粒子であるが、マクロでは一つの層と
みなすことができる。The fine particles generally have a thickness of one particle and are arranged in the plane direction to form a particle layer, and a plurality of particle layers are further stacked to form the low refractive index layer of the present invention. For this reason, the microvoids formed between the particles have almost the same size, and are therefore generally formed uniformly in the size of the voids and in the intervals thereof. The low refractive index layer of the present invention is fine particles in the microscopic state, but can be regarded as one layer in the macroscopic state.
【0015】本発明の低屈折率層の表面の空気の屈折率
は1であり、本発明の弗素樹脂の微粒子の屈折率は空気
の屈折率1よりも高く、一般に1.25から1.45の
間にある。そして本発明の低屈折率層は、空気層の屈折
率と微粒子自体の屈折率の間に位置することになる。従
って、本発明の低屈折率層の屈折率は、弗素樹脂微粒子
をより小さくすることによって、素材の屈折率よりもミ
クロボイドの体積分率の分だけ低くすることができる。
弗素樹脂微粒子の平均粒径は、一般に5〜200nmの
範囲にあり、5〜50nmが好ましい。また低屈折率層
の層厚は、一般に5〜400nmの範囲にあり、50〜
200nmが好ましい。The refractive index of air on the surface of the low refractive index layer of the present invention is 1, and the refractive index of the fine particles of the fluororesin of the present invention is higher than the refractive index of air, which is generally 1.25 to 1.45. Between The low refractive index layer of the present invention is located between the refractive index of the air layer and the refractive index of the fine particles themselves. Therefore, the refractive index of the low refractive index layer of the present invention can be made lower than the refractive index of the material by the volume fraction of microvoids by making the fluororesin fine particles smaller.
The average particle size of the fluorine resin fine particles is generally in the range of 5 to 200 nm, preferably 5 to 50 nm. The thickness of the low refractive index layer is generally in the range of 5 to 400 nm,
200 nm is preferred.
【0016】本発明の反射防止膜の別の代表例を図2に
示す。高屈折率層22が透明フィルム(支持体)23上
に形成され、さらに低屈折率層21が高屈折率層22上
に形成されている。反射防止膜を構成する層数の増加
は、通常反射防止膜が適用可能な光の波長範囲を拡大す
る。これは、金属化合物を用いる従来の多層膜の形成の
原理に基づくものである。Another typical example of the antireflection film of the present invention is shown in FIG. The high refractive index layer 22 is formed on the transparent film (support) 23, and the low refractive index layer 21 is further formed on the high refractive index layer 22. The increase in the number of layers constituting the antireflection film generally expands the wavelength range of light to which the antireflection film can be applied. This is based on the conventional principle of forming a multilayer film using a metal compound.
【0017】上記二層を有する反射防止膜では、高屈折
率層22及び低屈折率層21がそれぞれ下記の条件
(1)及び(2)を一般に満足する。 mλ/4×0.7<n1 d1 <mλ/4×1.3 (1) nλ/4×0.7<n2 d2 <nλ/4×1.3 (2) 上記式に於て、mは正の整数(一般に、1、2又は3)
を表わし、n1 は高屈折率層の屈折率を表わし、d1 は
高屈折率層の層厚(nm)を表わし、nは正の奇数(一
般に、1)を表わし、n2 は低屈折率層の屈折率を表わ
し、そしてd2 は低屈折率層の層厚(nm)を表わす。
高屈折率層の屈折率n1 は、一般に透明フィルムより少
なくとも0.05高く、そして、低屈折率層の屈折率n
2 は、一般に高屈折率層の屈折率より少なくとも0.1
低くかつ透明フィルムより少なくとも0.05低い。更
に、高屈折率層の屈折率n1 は、一般に1.5〜1.7
の範囲にある。In the antireflection film having the above two layers, the high refractive index layer 22 and the low refractive index layer 21 generally satisfy the following conditions (1) and (2), respectively. mλ / 4 × 0.7 <n 1 d 1 <mλ / 4 × 1.3 (1) nλ / 4 × 0.7 <n 2 d 2 <nλ / 4 × 1.3 (2) In the above formula, And m is a positive integer (generally 1, 2 or 3)
Where n 1 represents the refractive index of the high refractive index layer, d 1 represents the layer thickness (nm) of the high refractive index layer, n represents a positive odd number (generally 1), and n 2 represents the low refractive index. Represents the refractive index of the low refractive index layer, and d 2 represents the layer thickness (nm) of the low refractive index layer.
The refractive index n 1 of the high refractive index layer is generally at least 0.05 higher than that of the transparent film, and the refractive index n of the low refractive index layer is
2 is generally at least 0.1 than the refractive index of the high refractive index layer.
Low and at least 0.05 lower than the transparent film. Further, the refractive index n 1 of the high refractive index layer is generally 1.5 to 1.7.
In the range.
【0018】上記条件(1)及び(2)は、従来から良
く知られた条件であり、例えば、特開昭59−5040
1号公報に記載されている。The above conditions (1) and (2) are well-known conditions, for example, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-5040.
No. 1 publication.
【0019】本発明の反射防止膜の他の代表例を図3に
示す。中屈折率層32が透明フィルム(支持体)33上
に形成され、高屈折率層34が中屈折率層32上に形成
され、さらに低屈折率層31が高屈折率層34上に形成
されている。中屈折率層32の屈折率は、高屈折率層3
4と低屈折率層31との間の値を有する。図3の反射防
止膜は、図2の反射防止膜に比較して、更に適用可能な
光の波長領域が拡がっている。Another typical example of the antireflection film of the present invention is shown in FIG. The medium refractive index layer 32 is formed on the transparent film (support) 33, the high refractive index layer 34 is formed on the medium refractive index layer 32, and the low refractive index layer 31 is further formed on the high refractive index layer 34. ing. The refractive index of the middle refractive index layer 32 is equal to
4 and the low refractive index layer 31. The antireflection film of FIG. 3 has a wider applicable wavelength range of light than the antireflection film of FIG.
【0020】上記三層を有する反射防止膜では、中、高
及び低屈折率層がそれぞれ下記の条件(3)〜(5)を
一般に満足する。 hλ/4×0.7<n3 d3 <hλ/4×1.3 (3) kλ/4×0.7<n4 d4 <kλ/4×1.3 (4) jλ/4×0.7<n5 d5 <jλ/4×1.3 (5) 上記式に於て、hは正の整数(一般に、1、2又は3)
を表わし、n3 は中屈折率層の屈折率を表わし、d3 は
中屈折率層の層厚(nm)を表わし、kは正の整数(一
般に、1、2又は3)を表わし、n4 は高屈折率層の屈
折率を表わし、d4 は高屈折率層の層厚(nm)を表わ
し、jは正の奇数(一般に、1)を表わし、n5 は低屈
折率層の屈折率を表わし、そしてd5 は低屈折率層の層
厚(nm)を表わす。中屈折率層の屈折率n3 は、一般
に1.5〜1.7の範囲にあり、高屈折率層の屈折率n
4 は、一般に1.7〜2.2の範囲にある。In the antireflection film having the above three layers, the middle, high and low refractive index layers generally satisfy the following conditions (3) to (5), respectively. hλ / 4 × 0.7 <n 3 d 3 <hλ / 4 × 1.3 (3) kλ / 4 × 0.7 <n 4 d 4 <kλ / 4 × 1.3 (4) jλ / 4 × 0.7 <n 5 d 5 <jλ / 4 × 1.3 (5) In the above formula, h is a positive integer (generally 1, 2 or 3)
Where n 3 represents the refractive index of the medium refractive index layer, d 3 represents the layer thickness (nm) of the medium refractive index layer, k represents a positive integer (generally 1, 2 or 3), and n 4 represents the refractive index of the high refractive index layer, d 4 represents the layer thickness (nm) of the high refractive index layer, j represents a positive odd number (generally 1), and n 5 represents the refractive index of the low refractive index layer. Represents the refractive index, and d 5 represents the layer thickness (nm) of the low refractive index layer. The refractive index n 3 of the medium refractive index layer is generally in the range of 1.5 to 1.7, and the refractive index n 3 of the high refractive index layer is
4 is generally in the range 1.7 to 2.2.
【0021】本発明において用いられる弗素樹脂(含フ
ッ素重合体)微粒子の平均粒径は、5〜200nmの範
囲が一般的で、5〜50nmである。このような微粒子
は、例えば、ポリマーラテックスから得られる。微粒子
の粒径が増大すると膜表面での散乱が増加し、200n
mを超えると散乱光に色付きが生じ、好ましくない。本
発明の反射防止膜に使用される弗素樹脂としては、結晶
性、非晶性のいずれのものも用いることができる。これ
まで結晶性を有する弗素樹脂は光線透過率を低減させる
ために光学材料の膜としては用いることができなかった
が、光の波長よりも充分に小さな粒径を有する微粒子を
用いることによって、結晶性を有するものであっても光
線透過率を低減すること無く反射防止膜として用いるこ
とができる。弗素樹脂微粒子は、一般に室温以上のガラ
ス転移温度(Tg)を有し、100℃以上が好ましい。
尚、上限は200℃以下が好ましい。Tgが室温未満の
場合は、微粒子が過度に軟化するために破壊され易く、
このためミクロボイドが消失して屈折率が上昇する。弗
素樹脂微粒子として、Tgの異なる二種以上の弗素樹脂
の微粒子を用いることができる。その場合、Tgの差は
少なくとも5℃以上が一般的で、20℃以上が好まし
い。The average particle size of the fluorine resin (fluorine-containing polymer) fine particles used in the present invention is generally in the range of 5 to 200 nm, and is 5 to 50 nm. Such fine particles are obtained, for example, from polymer latex. When the particle size of fine particles increases, the scattering on the film surface increases,
If it exceeds m, the scattered light is colored, which is not preferable. The fluorine resin used in the antireflection film of the present invention may be either crystalline or amorphous. Up to now, a crystalline fluororesin could not be used as a film of an optical material to reduce the light transmittance, but by using fine particles having a particle size sufficiently smaller than the wavelength of light, Even if it has a property, it can be used as an antireflection film without reducing the light transmittance. The fluororesin fine particles generally have a glass transition temperature (Tg) of room temperature or higher, and preferably 100 ° C or higher.
The upper limit is preferably 200 ° C or lower. If the Tg is less than room temperature, the fine particles are excessively softened and easily broken,
Therefore, the microvoids disappear and the refractive index rises. As the fluorine resin fine particles, fine particles of two or more kinds of fluorine resins having different Tg can be used. In that case, the difference in Tg is generally at least 5 ° C or higher, and preferably 20 ° C or higher.
【0022】ポリマーラテックスの弗素樹脂微粒子は、
例えば、弗素原子を多く含有し、素材の低屈折率化に貢
献するコア部と、比較的フッ素原子の含有量に乏しいシ
ェル部からなるものでも良い。このため、シェル部は、
微粒子間または微粒子と下層との密着性の改善すること
ができる。シェル部表面に、アクリロイル基、エポキシ
基等の官能基を有していても良い。Fluorine resin fine particles of polymer latex are
For example, a core portion containing a large amount of fluorine atoms and contributing to lowering the refractive index of the material, and a shell portion having a relatively low fluorine atom content may be used. For this reason, the shell part
The adhesion between the fine particles or between the fine particles and the lower layer can be improved. The surface of the shell may have a functional group such as an acryloyl group or an epoxy group.
【0023】本発明の含フッ素重合体を形成するモノマ
ーとして下記一般式の化合物を挙げることができるExamples of the monomer forming the fluoropolymer of the present invention include compounds represented by the following general formula.
【0024】[0024]
【化1】 Embedded image
【0025】但し、R1 は水素原子、メチル基、または
フッ素原子を表わし、p及びnは、それぞれ正の整数を
表わす;However, R 1 represents a hydrogen atom, a methyl group, or a fluorine atom, and p and n each represent a positive integer;
【0026】[0026]
【化2】 (但し、nは整数である)Embedded image (However, n is an integer)
【0027】[0027]
【化3】 (但し、xは1〜4の整数である)Embedded image (However, x is an integer of 1 to 4)
【0028】以下に、上記モノマーより得られる弗素樹
脂の例を示す。Examples of fluororesins obtained from the above monomers are shown below.
【0029】[0029]
【化4】 Embedded image
【0030】(但し、l+m+nが1〜6の条件で、l
は0〜5の整数であり、mは1〜4の整数であり、nは
0〜1の整数であり、そしてRはFまたはCF2 であ
る)(Provided that l + m + n is 1 to 6;
Is an integer from 0 to 5, m is an integer from 1 to 4, n is an integer from 0 to 1, and R is F or CF 2.
【0031】[0031]
【化5】 Embedded image
【0032】(但し、o+p+qが1〜6の条件で、
o、p及びqは、それぞれ0〜5の整数である)(Provided that o + p + q is 1 to 6,
o, p and q are each an integer of 0 to 5)
【0033】[0033]
【化6】 [Chemical 6]
【0034】(但し、R1 及びR2 は、それぞれFまた
はCF3 である)(Where R 1 and R 2 are each F or CF 3 )
【0035】[0035]
【化7】 Embedded image
【0036】[0036]
【化8】 Embedded image
【0037】(但し、R1 は水素原子、メチル基、また
はフッ素原子を表わし、p及びnは、それぞれ正の整数
を表わす)(However, R 1 represents a hydrogen atom, a methyl group, or a fluorine atom, and p and n each represent a positive integer.)
【0038】[0038]
【化9】 Embedded image
【0039】本発明では、パーフルオロ―2、2―ジメ
チル―1、3―ジオキソールの単独重合体或いはテトラ
フルオロエチレンとの共重合体を含む弗素樹脂が、それ
自身の屈折率が約1.30と非常に低いために好まし
い。In the present invention, a fluororesin containing a perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole homopolymer or a copolymer with tetrafluoroethylene has a refractive index of about 1.30. It is preferable because it is very low.
【0040】弗素樹脂の屈折率は、弗素原子の含有量に
比例してほぼ直線的に低下し、低屈折率層の屈折率はミ
クロボイドの含有量の増加と共にさらに低下する。この
両方の含有量を増加させることにより、低屈折率層の屈
折率を充分に低くすることができる。従って、弗素樹脂
は、一般に0.30重量分率以上(好ましくは、0.3
0〜0.75重量分率、特に0.35〜0.75重量分
率)の弗素原子を含み、低屈折率層が、一般に0.05
〜0.50体積分率のミクロボイドを含み、さらに0.
10〜0.50体積分率が好ましく、特に0.10〜
0.28体積分率が好ましい。The refractive index of the fluororesin decreases almost linearly in proportion to the content of fluorine atoms, and the refractive index of the low refractive index layer further decreases as the content of microvoids increases. By increasing the contents of both of them, the refractive index of the low refractive index layer can be made sufficiently low. Therefore, the fluororesin is generally 0.30 or more by weight (preferably 0.3
0 to 0.75 weight fraction, especially 0.35 to 0.75 weight fraction), and the low refractive index layer generally contains 0.05
.About.0.50 volume fraction of microvoids, and more than 0.
A volume fraction of 10 to 0.50 is preferable, especially 0.10 to
A 0.28 volume fraction is preferred.
【0041】単分散の粒径を有する微粒子を最密充填し
た場合には、微粒子間に26%(0.26体積分率)の
空隙(ミクロボイド)が形成され、単純立方充填とした
場合は48%に増える。実際の系(低屈折率層)では、
粒径にある程度の分布が存在するために、これらの値通
りにはならない。また、低屈折率層を形成する条件(即
ち、微粒子同士の融着方法や融着条件)によっても空隙
率は変化する。ミクロボイドの含有量が高すぎると、膜
の機械的強度が低下するため、ミクロボイドの体積分率
は0.50以下とするのが好ましい。極少量のバインダ
を用いる場合には、バインダと微粒子との比率によって
空隙率は変化する。このようにして形成されたミクロボ
イド(空隙)が、数十〜数百nm(光の波長以下)の大
きさであれば、素材を屈折率の点から選択し、そして形
成されるミクロボイドの体積分率を調節することによ
り、目的の屈折率を有する透明な膜を形成することがで
きる。26% (0.26 volume fraction) of voids (microvoids) are formed between the fine particles when the fine particles having a monodisperse particle size are packed in the closest packing, and 48 when the simple cubic packing is used. Increase to%. In the actual system (low refractive index layer),
Due to the presence of some distribution of particle sizes, these values are not met. The porosity also changes depending on the conditions for forming the low-refractive index layer (that is, the method of fusing the particles together and the fusing conditions). If the content of microvoids is too high, the mechanical strength of the film is reduced, so the volume fraction of microvoids is preferably 0.50 or less. When using a very small amount of binder, the porosity changes depending on the ratio of the binder to the fine particles. If the microvoids (voids) thus formed have a size of several tens to several hundreds of nanometers (wavelength of light or less), the material is selected from the viewpoint of refractive index, and the volume of the formed microvoids. By adjusting the index, a transparent film having a desired refractive index can be formed.
【0042】低屈折率層に少量のバインダを使用する場
合、微粒子間に形成されるミクロボイドを埋め過ぎない
ように、微粒子間の密着が得られる必要最低限の量用い
る必要がある。バインダの好ましい例としては、ポリビ
ニルアルコール、ポリオキシエチレン等の水溶性樹脂;
ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート等
のアクリル系樹脂、ジアセチルセルロース、ニトロセル
ロース等のセルロース誘導体等を挙げることができる。
弗素樹脂微粒子が水分散物である場合には、上記水溶性
樹脂の使用が好ましい。弗素樹脂微粒子が有機溶媒に分
散されている場合には、用いられる溶媒に充分に溶解
し、微粒子や支持体との親和性があり、透明性の高いも
の(即ち上記アクリル系樹脂及びセルロース誘導体)が
好ましく用いられる。また、重合基を有するバインダを
用いる事により、微粒子層を形成後にUV、加熱等の処
理によって架橋を行うこともできる。バインダの添加量
としては、微粒子間の密着が得られる必要最低限の量が
用いられる。バインダ(例、ポリビニルアルコール)の
添加量は、一般に25重量%以下が好ましく、特に10
重量%以下が好ましい。When a small amount of binder is used in the low refractive index layer, it is necessary to use the minimum amount necessary to obtain close contact between the fine particles so as not to overfill the microvoids formed between the fine particles. Preferred examples of binders include water-soluble resins such as polyvinyl alcohol and polyoxyethylene;
Examples thereof include acrylic resins such as polymethyl methacrylate and polymethyl acrylate, and cellulose derivatives such as diacetyl cellulose and nitrocellulose.
When the fluororesin fine particles are an aqueous dispersion, the use of the above water-soluble resin is preferred. When the fluororesin fine particles are dispersed in an organic solvent, they are sufficiently dissolved in the solvent used, have an affinity for the fine particles and the support, and have high transparency (that is, the acrylic resin and the cellulose derivative). Is preferably used. Further, by using a binder having a polymerizing group, it is possible to carry out crosslinking by a treatment such as UV or heating after forming the fine particle layer. As the amount of the binder to be added, the minimum amount required to obtain the adhesion between the fine particles is used. The binder (eg, polyvinyl alcohol) is preferably added in an amount of 25% by weight or less, particularly 10% by weight.
% By weight or less is preferred.
【0043】本発明の反射防止膜は、一般に、支持体と
その上に設けられた低屈折率層からなる。支持体は通
常、透明フィルムである。透明フィルムを形成する材料
としては、セルロース誘導体(例、ジアセチルセルロー
ス、トリアセチルセルロース(TAC)、プロピオニル
セルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニ
ルセルロース及びニトロセルロース)、ポリアミド、ポ
リカーボネート(例、米国特許番号3023101号に
記載のもの)、ポリエステル(ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフ
タレート、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチレンテ
レフタレート、ポリエチレン−1,2−ジフェノキシエ
タン−4,4’−ジカルボキシレート及び特公昭48−
40414号公報に記載のポリエステル)、ポリスチレ
ン、ポリオレフィン(例、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン及びポリメチルペンテン)、ポリメチルメタクリレー
ト、シンジオタクチックポリスチレン、ポリスルホン、
ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリエー
テルイミド及びポリオキシエチレンを挙げることができ
る。トリアセチルセルロース、ポリカーボネート及びポ
リエチレンテレフタレートが好ましい。透明フィルムの
屈折率は1.40〜1.60が好ましい。The antireflection film of the present invention generally comprises a support and a low refractive index layer provided thereon. The support is usually a transparent film. As a material for forming a transparent film, a cellulose derivative (eg, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose (TAC), propionyl cellulose, butyryl cellulose, acetyl propionyl cellulose and nitrocellulose), polyamide, polycarbonate (eg, US Pat. No. 3023101) Described in 1), polyester (polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, poly-1,4-cyclohexane dimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,4'-dicarboxylate and special Kosho 48-
40414, polyester, polystyrene, polyolefin (eg, polyethylene, polypropylene and polymethylpentene), polymethylmethacrylate, syndiotactic polystyrene, polysulfone,
Mention may be made of polyethersulphones, polyetherketones, polyetherimides and polyoxyethylenes. Triacetyl cellulose, polycarbonate and polyethylene terephthalate are preferred. The refractive index of the transparent film is preferably from 1.40 to 1.60.
【0044】本発明の反射防止膜が、多層膜である場
合、一般に、低屈折率層は、低屈折率層より高い屈折率
を有する少なくとも一層の層(即ち、前記の高屈折率
層、中屈折率層)と共に用いられる。上記より高い屈折
率を有する層を形成するための有機材料としては、熱可
塑性樹脂(例、ポリスチレン、ポリスチレン共重合体、
ポリカーボネート、ポリスチレン以外の芳香環、複素
環、脂環式環状基を有するポリマー、またはフッ素以外
のハロゲン基を有するポリマー);熱硬化性樹脂組成物
(例、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ないしエポキシ
樹脂などを硬化剤とする樹脂組成物);ウレタン形成性
組成物(例、脂環式ないしは芳香族イソシアネートおよ
びポリオールの組み合わせ);およびラジカル重合性組
成物(上記の化合物(ポリマー等)に二重結合を導入す
ることにより、ラジカル硬化を可能にした変性樹脂また
はプレポリマーを含む組成物)などを挙げることができ
る。高い皮膜形成性を有する材料が好ましい。上記より
高い屈折率を有する層は、有機材料中に分散した無機系
微粒子も使用することができる。上記に使用される有機
材料としては、一般に無機系微粒子が高屈折率を有する
ため有機材料単独で用いられる場合よりも低屈折率もの
も用いることができる。そのよな材料例として、上記に
述べた有機材料の他、アクリル系を含むビニル系共重合
体、ポリエステル、アルキド樹脂、繊維素系重合体、ウ
レタン樹脂およびこれらを硬化せしめる各種の硬化剤、
硬化性官能基を有する組成物など、透明性があり無機系
微粒子を安定に分散せしめる各種の有機材料を挙げるこ
とができる。When the antireflection film of the present invention is a multilayer film, generally, the low refractive index layer is at least one layer having a higher refractive index than that of the low refractive index layer (that is, the above-mentioned high refractive index layer, medium (Refractive index layer). As an organic material for forming a layer having a higher refractive index than the above, a thermoplastic resin (eg, polystyrene, polystyrene copolymer,
A polymer having an aromatic ring, a heterocyclic ring, an alicyclic group other than polycarbonate or polystyrene, or a polymer having a halogen group other than fluorine); a thermosetting resin composition (eg, a melamine resin, a phenol resin, or an epoxy resin) A curing agent); a urethane-forming composition (eg, a combination of an alicyclic or aromatic isocyanate and a polyol); and a radically polymerizable composition (a double bond is formed in the above compound (polymer or the like). A composition containing a modified resin or a prepolymer which is capable of radical curing by being introduced). Materials having high film forming properties are preferred. For the layer having a higher refractive index than the above, inorganic fine particles dispersed in an organic material can also be used. As the organic material used in the above, since the inorganic fine particles generally have a high refractive index, a material having a lower refractive index than the organic material used alone can be used. As such material examples, in addition to the organic materials described above, vinyl-based copolymers including acrylics, polyesters, alkyd resins, cellulose-based polymers, urethane resins and various curing agents for curing these,
Various organic materials that are transparent and can stably disperse inorganic fine particles, such as a composition having a curable functional group, can be given.
【0045】さらに有機置換されたケイ素系化合物をこ
れに含めることができる。これらのケイ素系化合物は一
般式:Further organically substituted silicon-based compounds may be included therein. These silicon compounds have the general formula:
【0046】R11 aR12 bSiX4-(a+b) (ここでR11及びR12は、それぞれアルキル基、アルケ
ニル基、アリル基、またはハロゲン、エポキシ、アミ
ノ、メルカプト、メタクリロイルないしシアノで置換さ
れた炭化水素基を表わし、Xは、アルコキシル基、アル
コキシアルコキシル基、ハロゲン原子ないしアシルオキ
シ基から選ばれた加水分解可能な基を表わし、a+bが
1または2である条件下で、a及びbはそれぞれ0、1
または2である。)で表わされる化合物ないしはその加
水分解生成物である。R 11 a R 12 b SiX 4- (a + b) (wherein R 11 and R 12 are each an alkyl group, an alkenyl group, an allyl group, or halogen, epoxy, amino, mercapto, methacryloyl or cyano. Represents a substituted hydrocarbon group, X represents a hydrolyzable group selected from an alkoxyl group, an alkoxyalkoxyl group, a halogen atom and an acyloxy group, and a and b are a or b under the condition that a + b is 1 or 2. Are 0 and 1 respectively
Or 2. ) Or a hydrolysis product thereof.
【0047】これらに分散される無機系微粒子の好まし
い無機化合物としては、アルミニウム、チタニウム、ジ
ルコニウム、アンチモンなどの金属元素の酸化物を挙げ
ることができる。これらの化合物は、微粒子状で、即ち
粉末ないしは水および/またはその他の溶媒中へのコロ
イド状分散体として、市販されている。これらをさらに
上記の有機材料または有機ケイ素化合物中に混合分散し
て使用する。Preferred inorganic compounds of the inorganic fine particles dispersed in these are oxides of metal elements such as aluminum, titanium, zirconium and antimony. These compounds are commercially available in finely divided form, ie as a powder or as a colloidal dispersion in water and / or other solvents. These are further mixed and dispersed in the above organic material or organosilicon compound for use.
【0048】上記より高い屈折率を有する層を形成する
材料として、被膜形成性で溶剤に分散し得るか、それ自
身が液状である無機系材料(例、各種元素のアルコキシ
ド、有機酸の塩、配位性化合物と結合した配位化合物
(例、キレート化合物)、活性無機ポリマー)を挙げる
ことができる。これらの好適な例としては、チタンテト
ラエトキシド、チタンテトラ−i−プロポキシド、チタ
ンテトラ−n−プロポキシド、チタンテトラ−n−ブト
キシド、チタンテトラ−sec −ブトキシド、チタンテト
ラ−tert−ブトキシド、アルミニウムトリエトキシド、
アルミニウムトリ−i−プロポキシド、アルミニウムト
リブトキシド、アンチモントリエトキシド、アンチモン
トリブトキシド、ジルコニウムテトラエトキシド、ジル
コニウムテトラ−i−プロポキシド、ジルコニウムテト
ラ−n−プロポキシド、ジルコニウムテトラ−n−ブト
キシド、ジルコニウムテトラ−sec −ブトキシド及びジ
ルコニウムテトラ−tert−ブトキシドなどの金属アルコ
レート化合物;ジイソプロポキシチタニウムビス(アセ
チルアセトネート)、ジブトキシチタニウムビス(アセ
チルアセトネート)、ジエトキシチタニウムビス(アセ
チルアセトネート)、ビス(アセチルアセトンジルコニ
ウム)、アルミニウムアセチルアセトネート、アルミニ
ウムジ−n−ブトキシドモノエチルアセトアセテート、
アルミニウムジ−i−プロポキシドモノメチルアセトア
セテート及びトリ−n−ブトキシドジルコニウムモノエ
チルアセトアセテートなどのキレート化合物;さらには
炭酸ジルコニールアンモニウムあるいはジルコニウムを
主成分とする活性無機ポリマーなどを挙げることができ
る。上記に述べた他に、屈折率が比較的低いが上記の化
合物と併用できるものとしてとくに各種のアルキルシリ
ケート類もしくはその加水分解物、微粒子状シリカとく
にコロイド状に分散したシリカゲルも使用することがで
きる。As a material for forming a layer having a higher refractive index than the above, an inorganic material (eg, an alkoxide of various elements, a salt of an organic acid, etc.) which is film-forming and can be dispersed in a solvent or is itself liquid. Examples thereof include a coordination compound (eg, chelate compound) bound to a coordination compound and an active inorganic polymer. Preferred examples thereof include titanium tetraethoxide, titanium tetra-i-propoxide, titanium tetra-n-propoxide, titanium tetra-n-butoxide, titanium tetra-sec-butoxide, titanium tetra-tert-butoxide, Aluminum triethoxide,
Aluminum tri-i-propoxide, aluminum tributoxide, antimony triethoxide, antimony tributoxide, zirconium tetraethoxide, zirconium tetra-i-propoxide, zirconium tetra-n-propoxide, zirconium tetra-n-butoxide, zirconium Metal alcoholate compounds such as tetra-sec-butoxide and zirconium tetra-tert-butoxide; diisopropoxytitanium bis (acetylacetonate), dibutoxytitanium bis (acetylacetonate), diethoxytitanium bis (acetylacetonate), Bis (acetylacetone zirconium), aluminum acetylacetonate, aluminum di-n-butoxide monoethylacetoacetate,
Examples thereof include chelate compounds such as aluminum di-i-propoxide monomethyl acetoacetate and tri-n-butoxide zirconium monoethyl acetoacetate; and active inorganic polymers containing zirconyl ammonium carbonate or zirconium as a main component. In addition to those described above, various alkyl silicates or hydrolysates thereof, particularly fine particles of silica, particularly silica gel dispersed in a colloidal form can be used as those having a relatively low refractive index but which can be used in combination with the above compounds. .
【0049】本発明の反射防止膜は、表面にアンチグレ
ア機能(即ち、入射光を表面で散乱させて膜周囲の景色
が膜表面に移るのを防止する機能)を有するように処理
することができる。例えば、このような機能を有する反
射防止膜は、透明フィルムの表面に微細な凹凸を形成
し、そしてその表面に反射防止膜(例、低屈折率層等)
を形成することにより得られる。上記微細な凹凸の形成
は、例えば、無機又は有機の微粒子を含む層を透明フィ
ルム表面に形成することにより行なわれる。あるいは、
弗素樹脂微粒子とは異なる、50nm〜2μmの粒径を
有する微粒子を低屈折率層形成用塗布液に、弗素樹脂微
粒子の0.1〜50重量%の量で導入し、反射防止膜の
最上層に凹凸を形成しても良い。アンチグレア機能を有
する(即ち、アンチグレア処理された)反射防止膜は、
一般に、3〜30%のヘイズを有する。The antireflection film of the present invention can be treated so that the surface thereof has an antiglare function (that is, a function of scattering incident light on the surface and preventing the scenery around the film from being transferred to the film surface). . For example, an antireflection film having such a function forms fine irregularities on the surface of a transparent film, and forms an antireflection film (eg, a low refractive index layer, etc.) on the surface.
Is obtained. The fine irregularities are formed, for example, by forming a layer containing inorganic or organic fine particles on the surface of the transparent film. Alternatively,
Fine particles having a particle size of 50 nm to 2 μm, which is different from fluororesin fine particles, are introduced into a coating liquid for forming a low refractive index layer in an amount of 0.1 to 50% by weight of the fluororesin fine particles to form the uppermost layer of the antireflection film. Irregularities may be formed on the surface. An antireflection film having an anti-glare function (that is, anti-glare treatment) is
Generally, it has a haze of 3 to 30%.
【0050】本発明の反射防止膜(アンチグレア機能を
有する反射防止膜が好ましい)は、液晶表示装置(LC
D)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロル
ミネッセンスディスプレイ(ELD)、陰極管表示装置
(CRT)等の画像表示装置に組み込むことができる。
このような反射防止膜を有する画像表示装置は、入射光
の反射が防止され、視認性が格段に向上する。本発明の
反射防止膜を備えた液晶表示装置(LCD)は、たとえ
ば、下記の構成を有する。透明電極を有する一対の基板
とその間に封入されたネマチック液晶からなる液晶セ
ル、及び液晶セルの両側に配置された偏光板からなる液
晶表示装置であって、少なくとも一方の偏光板が表面に
本発明の反射防止膜を備えている液晶表示装置。The antireflection film of the present invention (preferably an antireflection film having an antiglare function) is a liquid crystal display device (LC
D), a plasma display (PDP), an electroluminescence display (ELD), a cathode ray tube display (CRT) or the like.
In the image display device having such an antireflection film, the reflection of incident light is prevented and the visibility is remarkably improved. A liquid crystal display (LCD) provided with the antireflection film of the present invention has, for example, the following configuration. A liquid crystal display comprising a pair of substrates having transparent electrodes, a nematic liquid crystal sealed between the substrates, and a polarizing plate disposed on both sides of the liquid crystal cell, wherein at least one of the polarizing plates has a surface on which the present invention is applied. Liquid crystal display device having an anti-reflection film.
【0051】本発明の反射防止膜の低屈折率層は、たと
えば、この層を形成するための塗布液(水及び/又は有
機溶剤中に分散した弗素樹脂微粒子)を、カーテンフロ
ーコート、ディップコート、スピンコート、ロールコー
ト等の塗布法によって、透明フィルムあるい高又は中屈
折率層等に塗布し、乾燥することにより形成される。The low refractive index layer of the antireflection film of the present invention may be formed, for example, by curtain flow coating or dip coating with a coating liquid (fluorine resin fine particles dispersed in water and / or an organic solvent) for forming this layer. It is formed by applying it to a transparent film or a high or medium refractive index layer by a coating method such as spin coating or roll coating, and drying.
【0052】本発明においては、中間層としてハードコ
ート層、防湿防止層、帯電防止層等を、透明フィルム上
に設けることもできる。ハードコート層としては、アク
リル系、ウレタン系、エポキシ系のポリマー及び/又は
オリゴマー及びモノマー(例、紫外線硬化型樹脂)の他
に、シリカ系の材料も使用することができる。In the present invention, a hard coat layer, a moisture-proof layer, an antistatic layer or the like can be provided on the transparent film as an intermediate layer. For the hard coat layer, silica-based materials can be used in addition to acrylic-based, urethane-based, epoxy-based polymers and / or oligomers and monomers (eg, UV-curable resin).
【0053】[0053]
[実施例1]トリフルオロエチルアクリレート(商品
名:ビスコート3F、大阪有機化学(株)製)、0.3
6重量分率の弗素原子含有)を乳化重合し、弗素樹脂微
粒子(平均粒径:33nm、屈折率:1.405)を得
た。この弗素樹脂微粒子を水とメタノールの混合溶剤
(水/メタノール=9/1、重量比)に分散した塗布液
(固形分:1重量%)を、トリアセチルセルロース(T
AC)フィルム上に、スピンコータを用いて微粒子のT
g以下の温度で塗布し、その温度で乾燥して、弗素樹脂
微粒子からなる膜厚100nmの低屈折率層を形成し、
反射防止膜を得た。低屈折率層の屈折率は1.34(約
0.15体積分率のミクロボイド含有)であった。低屈
折率層の屈折率(nlayer )は、その反射率(R)及び
TACフィルム(透明支持体)の屈折率(nbase)から
下記式より求めた。[Example 1] Trifluoroethyl acrylate (trade name: Biscoat 3F, manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.), 0.3
Emulsion polymerization of 6 weight fraction containing fluorine atoms was performed to obtain fluorine resin fine particles (average particle diameter: 33 nm, refractive index: 1.405). A coating solution (solid content: 1% by weight) prepared by dispersing the fine particles of the fluororesin in a mixed solvent of water and methanol (water / methanol = 9/1, weight ratio) was added to triacetyl cellulose (T
AC) on the film using a spin coater
coating at a temperature of g or less and drying at that temperature to form a low-refractive index layer made of fine particles of fluororesin having a thickness of 100 nm,
An antireflection film was obtained. The refractive index of the low refractive index layer was 1.34 (containing about 0.15 volume fraction of microvoids). The refractive index (n layer ) of the low refractive index layer was calculated from the reflectance (R) and the refractive index (n base ) of the TAC film (transparent support) by the following formula.
【0054】[0054]
【数1】 [Equation 1]
【0055】低屈折率層のミクロボイドの体積分率(V
layer )は、低屈折率層の屈折率(nlayer )とTAC
フィルムの屈折率(nbase)から下記式より求めた。 Vlayer =(nlayer −nbase)/(1−nbase) 更に、低屈折率層を電子顕微鏡で観察したところ、ほぼ
3個の弗素樹脂微粒子が膜厚方向に重なってミクロボイ
ドを形成していることが認められた。反射防止膜(TA
Cフィルム及び低屈折率層)の反射率は、0.98%
(波長550nmの光に対する)であり、TACのみの
場合は3.75%であった。Volume fraction of microvoids in the low refractive index layer (V
layer ) is the refractive index of the low refractive index layer (n layer ) and TAC
It was calculated from the following formula from the refractive index (n base ) of the film. V layer = (n layer -n base ) / (1-n base ) Furthermore, when the low refractive index layer was observed with an electron microscope, almost three fluororesin fine particles were overlapped in the film thickness direction to form microvoids. It was recognized that Antireflection film (TA
The reflectance of the C film and the low refractive index layer) is 0.98%
(For light having a wavelength of 550 nm) and was 3.75% in the case of TAC alone.
【0056】[実施例2]ヘキサフルオロイソプロピル
メタクリレート(商品名:ビスコート6FM、大阪有機
化学(株)製)、0.48重量分率の弗素原子含有)を
乳化重合し、弗素樹脂微粒子(平均粒径:30nm、屈
折率:1.387)を得た。この弗素樹脂微粒子を水と
メタノールの混合溶剤(水/メタノール=9/1、重量
比)に分散した塗布液(固形分:1重量%)を、トリア
セチルセルロース(TAC)フィルム上にスピンコータ
を用いて塗布し、40℃の温度で乾燥して、弗素樹脂微
粒子からなる膜厚100nmの低屈折率層を形成し、反
射防止膜を得た。低屈折率層の屈折率は1.30(約
0.23体積分率のミクロボイド含有)であった。低屈
折率層の屈折率及び低屈折率層のミクロボイドの体積分
率は、実施例1と同様にして求めた。更に、低屈折率層
を電子顕微鏡で観察したところ、ほぼ3個の弗素樹脂微
粒子が膜厚方向に重なってミクロボイドを形成している
ことが認められた。反射防止膜(TACフィルム及び低
屈折率層)の反射率は、0.44%(波長550nmの
光に対する)であり、TACのみの場合は3.75%で
あった。[Example 2] Hexafluoroisopropyl methacrylate (trade name: Biscoat 6FM, manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd., containing 0.48 weight fraction of fluorine atoms) was emulsion polymerized to obtain fluorine resin fine particles (average particles). Diameter: 30 nm, refractive index: 1.387) was obtained. A coating solution (solid content: 1% by weight) prepared by dispersing the fluorine resin fine particles in a mixed solvent of water and methanol (water / methanol = 9/1, weight ratio) was applied on a triacetyl cellulose (TAC) film using a spin coater. Was applied and dried at a temperature of 40 ° C. to form a low-refractive-index layer having a film thickness of 100 nm and made of fluorine resin fine particles to obtain an antireflection film. The refractive index of the low refractive index layer was 1.30 (containing about 0.23 volume fraction of microvoids). The refractive index of the low refractive index layer and the volume fraction of microvoids of the low refractive index layer were determined in the same manner as in Example 1. Further, when the low refractive index layer was observed with an electron microscope, it was confirmed that approximately three fluororesin fine particles overlapped in the film thickness direction to form microvoids. The reflectance of the antireflection film (TAC film and low refractive index layer) was 0.44% (for light having a wavelength of 550 nm), and 3.75% in the case of TAC alone.
【0057】[実施例3]TACフィルムに3重量%の
ポリスチレン(商品名:トーポレックスGPPS525
−51、三井東圧化学(株)製)を含むトルエン溶液を
スピンコータを用いて塗布し、室温で乾燥し、屈折率
1.585及び膜厚160nmの高屈折率層を形成し
た。続いて、パーフルオロ−2、2−ジメチル−1、3
−ジオキソール(PDD)とテトラフルオロエチレン
(TFE)を含む微粒子を乳化重合し、弗素樹脂微粒子
(平均粒径:30nm、約0.60重量分率の弗素素原
子含有、屈折率:1.310)を得た。この弗素樹脂微
粒子を水とメタノールの混合溶剤(水/メタノール=9
/1、重量比)に分散した塗布液(固形分:1重量%)
を、上記高屈折率層上にスピンコータを用いて塗布し、
室温で乾燥して、弗素樹脂微粒子を含む膜厚100nm
の低屈折率層を形成した。低屈折率層の屈折率は1.2
8(約0.10体積分率のミクロボイド含有)であっ
た。低屈折率層の屈折率及び低屈折率層のミクロボイド
の体積分率は、実施例1と同様にして求めた。更に、低
屈折率層を電子顕微鏡で観察したところ、ほぼ3個の弗
素樹脂微粒子が膜厚方向に重なってミクロボイドを形成
していることが認められた。反射防止膜(TACフィル
ム及び低屈折率層)の反射率は、0.19%(波長55
0nmの光に対する)であり、TACのみの場合は3.
75%であった。また、反射防止効果は、従来用いられ
てきた物理蒸着による多層膜の反射防止膜と同等である
ことがわかった。Example 3 3% by weight of polystyrene (trade name: Topolex GPPS525) was added to a TAC film.
A toluene solution containing −51, manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. was applied using a spin coater and dried at room temperature to form a high refractive index layer having a refractive index of 1.585 and a film thickness of 160 nm. Then, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3
-Emulsion polymerization of fine particles containing dioxole (PDD) and tetrafluoroethylene (TFE), and fine particles of fluororesin (average particle diameter: 30 nm, containing fluorine atom in about 0.60 weight fraction, refractive index: 1.310) Got The fluorine resin particles are mixed with a mixed solvent of water and methanol (water / methanol = 9
/ 1, weight ratio) coating liquid (solid content: 1% by weight)
Is coated on the high refractive index layer using a spin coater,
Drying at room temperature, film thickness including fluororesin particles 100nm
The low refractive index layer was formed. The refractive index of the low refractive index layer is 1.2
8 (containing about 0.10 volume fraction of microvoids). The refractive index of the low refractive index layer and the volume fraction of microvoids of the low refractive index layer were determined in the same manner as in Example 1. Further, when the low refractive index layer was observed with an electron microscope, it was confirmed that approximately three fluororesin fine particles overlapped in the film thickness direction to form microvoids. The reflectance of the antireflection film (TAC film and low refractive index layer) is 0.19% (wavelength 55
(For 0 nm light) and 3. for TAC only.
75%. Further, it has been found that the antireflection effect is equivalent to that of a conventionally used multilayer antireflection film formed by physical vapor deposition.
【0058】[実施例4]25重量部のジペンタエリス
リトールペンタ/ヘキサアクリレート(商品名:DPH
A、日本化薬(株)製)、25重量部のウレタンアクリ
レートオリゴマー(商品名:UV−6300B、日本合
成化学工業(株)製)、2重量部の光重合開始剤(商品
名:イルガキュア−907、チバ−ガイギー社製)及び
0.5重量部の増感剤(商品名:カヤキュア−DET
X、日本化薬(株)製)を50重量部のメチルエチルケ
トンに溶解した塗布液を、TACフィルム上にスピンコ
ータを用いて塗布し、次いで塗布膜に紫外線照射してハ
ードコート層(層厚:5μm)を形成した。TiO2 の
微分散液とバインダとしてポリメチルメタクリレート
(屈折率:1.48)を含む塗布液(固形分:2重量
%、TiO2 /バインダ=22/78、重量比)を、ハ
ードコート層の上にスピンコータを用いて塗布し、10
0℃で乾燥して、中屈折率層(屈折率:1.62、層
厚:78nm)を形成した。TiO2 の微分散液と上記
バインダを含む塗布液(固形分:2重量%、TiO2 /
バインダ=68/32、重量比)を、中屈折率層の上に
スピンコータを用いて塗布し、100℃で乾燥して、高
屈折率層(屈折率:2.00、層厚:127nm)を形
成した。さらに、ヘキサフルオロイソプロピルメタクリ
レートから得た弗素樹脂微粒子(平均粒径:30nm、
屈折率:1.387;即ち、実施例2で得たラテック
ス)と、バインダ(ポリビニルアルコール;屈折率:
1.50)を混合して得た塗布液(固形分:1重量%;
弗素樹脂微粒子/バインダ=84/16、重量比)を、
高屈折率層上にスピンコータを用いて、室温で塗布し、
その温度で乾燥して、弗素樹脂微粒子からなる膜厚91
nmの低屈折率層を形成し、反射防止膜を得た。低屈折
率層の屈折率は1.400(約0.10体積分率のミク
ロボイド含有)であった。低屈折率層の屈折率及び低屈
折率層のミクロボイドの体積分率は、実施例1と同様に
して求めた。更に、低屈折率層を電子顕微鏡で観察した
ところ、ほぼ3個の弗素樹脂微粒子が膜厚方向に重なっ
てミクロボイドを形成していることが認められた。反射
防止膜(TACフィルム及び低屈折率層)の反射防止効
果は、従来用いられてきた物理蒸着による多層膜の反射
防止膜と同等であることがわかった。Example 4 25 parts by weight of dipentaerythritol penta / hexaacrylate (trade name: DPH
A, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., 25 parts by weight of urethane acrylate oligomer (trade name: UV-6300B, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), 2 parts by weight of photopolymerization initiator (trade name: Irgacure-). 907, manufactured by Ciba-Geigy) and 0.5 parts by weight of a sensitizer (trade name: Kayacure-DET).
X, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., is dissolved in 50 parts by weight of methyl ethyl ketone to apply a coating solution on a TAC film using a spin coater, and then the coating film is irradiated with ultraviolet rays to form a hard coat layer (layer thickness: 5 μm). ) Was formed. A coating solution (solid content: 2% by weight, TiO 2 / binder = 22/78, weight ratio) containing a fine dispersion of TiO 2 and polymethylmethacrylate (refractive index: 1.48) as a binder was used for the hard coat layer. Apply using a spin coater and apply 10
It was dried at 0 ° C. to form a medium refractive index layer (refractive index: 1.62, layer thickness: 78 nm). Coating liquid containing a fine dispersion of TiO 2 and the above binder (solid content: 2% by weight, TiO 2 /
(Binder = 68/32, weight ratio) is applied on the medium refractive index layer using a spin coater and dried at 100 ° C. to form a high refractive index layer (refractive index: 2.00, layer thickness: 127 nm). Formed. Further, fine particles of fluororesin obtained from hexafluoroisopropyl methacrylate (average particle size: 30 nm,
Refractive index: 1.387; that is, the latex obtained in Example 2) and a binder (polyvinyl alcohol; refractive index:
1.50) to obtain a coating solution (solid content: 1% by weight;
Fluorine resin fine particles / binder = 84/16, weight ratio)
Using a spin coater on the high refractive index layer, coated at room temperature,
After drying at that temperature, a film thickness of 91
A low refractive index layer having a thickness of nm was formed to obtain an antireflection film. The refractive index of the low refractive index layer was 1.400 (containing about 0.10 volume fraction of microvoids). The refractive index of the low refractive index layer and the volume fraction of microvoids of the low refractive index layer were determined in the same manner as in Example 1. Further, when the low refractive index layer was observed with an electron microscope, it was confirmed that approximately three fluororesin fine particles overlapped in the film thickness direction to form microvoids. It has been found that the antireflection effect of the antireflection film (TAC film and low refractive index layer) is equivalent to that of a conventionally used multilayer antireflection film formed by physical vapor deposition.
【0059】[実施例5]実施例3において、TACフ
ィルムをアンチグレア処理された偏光板(商品名:スム
カランAG2、ヘイズ:9%、住友化学(株)製)に変
更した以外は、実施例3と同様にして反射防止膜付き偏
光板を作製した。得られた偏光板を液晶表示装置(LC
D)に取り付けた。液晶表示装置の表示面は、入射光の
反射が充分に抑えられており、且つ周囲の景色が写るこ
ともなく、視認性の優れたものであった。Example 5 Example 3 was repeated except that the TAC film was changed to an antiglare-treated polarizing plate (trade name: Sumcalan AG2, haze: 9%, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.). A polarizing plate with an antireflection film was produced in the same manner as in. The obtained polarizing plate was used as a liquid crystal display (LC
It was attached to D). On the display surface of the liquid crystal display device, reflection of incident light was sufficiently suppressed, the surrounding scenery was not reflected, and visibility was excellent.
【0060】[0060]
【発明の効果】本発明の反射防止膜を構成する低屈折率
層は、弗素樹脂微粒子と微粒子間に形成されたミクロボ
イドから形成されている。この低屈折率層は、その材料
より低い屈折率を有する層であり、極めて低い屈折率を
有する。特に、この低屈折率層を高屈折率を有する少な
くとも一層と共に用いた反射防止膜は、高い反射防止効
果を示す。The low refractive index layer constituting the antireflection film of the present invention is formed of fluorine resin fine particles and microvoids formed between the fine particles. This low refractive index layer is a layer having a refractive index lower than that of the material, and has a very low refractive index. In particular, an antireflection film using this low refractive index layer together with at least one layer having a high refractive index exhibits a high antireflection effect.
【図1】本発明の反射防止膜の代表的な一例の断面図を
示す。FIG. 1 shows a cross-sectional view of a typical example of an antireflection film of the present invention.
【図2】本発明の反射防止膜の代表的な別の一例の断面
図を示す。FIG. 2 shows a cross-sectional view of another typical example of the antireflection film of the present invention.
【図3】本発明の反射防止膜の代表的な他の一例の断面
図を示す。FIG. 3 shows a cross-sectional view of another typical example of the antireflection film of the present invention.
11、21、31 低屈折率層 22、34 高屈折率層 32 中屈折率層 13、23、33 透明フィルム 11, 21, 31 Low refractive index layer 22, 34 High refractive index layer 32 Medium refractive index layer 13, 23, 33 Transparent film
Claims (10)
ッ素重合体の微粒子を少なくとも2個以上積み重ねるこ
とにより微粒子間にミクロボイドを形成してなる低屈折
率層を含むことを特徴とする反射防止膜。1. A reflection comprising a low refractive index layer formed by stacking at least two fine particles of a fluoropolymer having an average particle diameter in the range of 5 to 200 nm to form microvoids between the particles. Preventive film.
ある請求項1に記載の反射防止膜。2. The antireflection film according to claim 1, wherein the fluoropolymer is a crystalline polymer.
以上のフッ素原子を含む請求項1に記載の反射防止膜。3. The antireflection film according to claim 1, wherein the fluoropolymer contains 0.30 weight percent or more of fluorine atoms.
率が、0.05〜0.50の範囲にある請求項1に記載
の反射防止膜。4. The antireflection film according to claim 1, wherein the volume fraction of microvoids in the low refractive index layer is in the range of 0.05 to 0.50.
む請求項1に記載の反射防止膜。5. The antireflection film according to claim 1, wherein the low refractive index layer further contains a binder.
ェル構造を有する請求項1に記載の反射防止膜。6. The antireflection film according to claim 1, wherein the fine particles of the fluoropolymer have a core-shell structure.
プリング剤で処理されている請求項1に記載の反射防止
膜。7. The antireflection film according to claim 1, wherein the fluorine-containing polymer fine particles are treated with a silane coupling agent.
2,2―ジメチル―1,3―ジオキソールあるいはテト
ラフルオロエチレンの単独重合体、あるいはそれらの共
重合体を含む請求項1に記載の反射防止膜。8. The fluoropolymer is perfluoro-
The antireflection film according to claim 1, comprising a homopolymer of 2,2-dimethyl-1,3-dioxole or tetrafluoroethylene, or a copolymer thereof.
の範囲にある請求項1に記載の反射防止膜。9. The haze value of the antireflection film is 3 to 30%.
The antireflection film according to claim 1, which is in the range of.
ことを特徴とする画像表示装置。10. An image display device comprising the antireflection film according to claim 1.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP8344688A JPH09288201A (en) | 1995-12-07 | 1996-12-09 | Antireflection film and image display device using the same |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP7-318825 | 1995-12-07 | ||
JP31882595 | 1995-12-07 | ||
JP3466196 | 1996-02-22 | ||
JP8-34661 | 1996-02-22 | ||
JP8344688A JPH09288201A (en) | 1995-12-07 | 1996-12-09 | Antireflection film and image display device using the same |
Publications (1)
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---|---|
JPH09288201A true JPH09288201A (en) | 1997-11-04 |
Family
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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