JP2001310423A - Flaw resistant transparent support and anti-reflection film - Google Patents

Flaw resistant transparent support and anti-reflection film

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JP2001310423A
JP2001310423A JP2001049204A JP2001049204A JP2001310423A JP 2001310423 A JP2001310423 A JP 2001310423A JP 2001049204 A JP2001049204 A JP 2001049204A JP 2001049204 A JP2001049204 A JP 2001049204A JP 2001310423 A JP2001310423 A JP 2001310423A
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JP
Japan
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refractive index
hard coat
layer
coat layer
transparent support
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Application number
JP2001049204A
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Japanese (ja)
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Tsukasa Yamada
司 山田
Yuzo Muramatsu
雄造 村松
Kenichiro Hatayama
剣一郎 畑山
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a support and an anti-reflection film which show less deformation and are flaw resistant by suppressing shrinkage of a hard coat layer due to crosslinkage of a binder polymer and further to provide a flaw- resistant support and an anti-reflection film which are excellently flaw-resistant by improving mechanical properties of the hard coat layer. SOLUTION: A flaw-resistant support comprises a transparent support (1) and a hard coat layer (2) laminated on the transparent support (1) wherein the hard coat layer contains a surface treated fine inorganic particle and a crosslinked binder polymer, the surface treatment being conducted by use of an organic compound containing an anionic functional group or an organometallic compound containing one or more of aluminum, silica, titanium and zirconium each as a surface-treating agent, the binder polymer being obtained by crosslinking of a polyfunctional acrylate compound. An anti- reflection film is obtained by use of the flaw-resistant support.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、耐傷性支持体と透
明支持体、ハードコート層、および低屈折率層が、この
順で積層されている反射防止膜並びにそれを用いた画像
表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an antireflection film in which a scratch-resistant support, a transparent support, a hard coat layer, and a low refractive index layer are laminated in this order, and an image display device using the same. .

【0002】[0002]

【従来の技術】反射防止膜は、液晶表示装置(LC
D)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレク
トロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管表
示装置(CRT)のような様々な画像表示装置に設けら
れている。反射防止膜としては、透明支持体上に金属酸
化物の透明薄膜を積層させた反射防止膜が従来から用い
られている。複数の透明薄膜を用いるのは、様々な波長
の光の反射を防止するためである。金属酸化物の透明薄
膜は、化学蒸着(CVD)法や物理蒸着(PVD)法に
より形成できる。通常は、物理蒸着法の一種である真空
蒸着法により形成している。金属酸化物の多層蒸着膜
は、反射防止膜として優れた光学的性質を有している。
反射防止膜を蒸着により形成する方法については、特開
昭60−144702号、同61−245449号、同
62−178901号および特開平9−197103号
の各公報に記載がある。
2. Description of the Related Art An antireflection film is used for a liquid crystal display (LC).
D), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), and a cathode ray tube display (CRT). As the anti-reflection film, an anti-reflection film in which a transparent thin film of a metal oxide is laminated on a transparent support has been conventionally used. The reason for using a plurality of transparent thin films is to prevent reflection of light of various wavelengths. The transparent thin film of a metal oxide can be formed by a chemical vapor deposition (CVD) method or a physical vapor deposition (PVD) method. Usually, it is formed by a vacuum evaporation method, which is a kind of physical evaporation method. The multilayer vapor-deposited film of metal oxide has excellent optical properties as an antireflection film.
Methods for forming an antireflection film by vapor deposition are described in JP-A-60-144702, JP-A-61-245449, JP-A-62-178901 and JP-A-9-197103.

【0003】また蒸着に代えて、塗布により反射防止膜
を形成する方法が提案されている。塗布による方法は、
光学的機能の観点では蒸着による方法よりも少し劣る
が、製造が容易で生産性が高いという特徴がある。塗布
による方法では、透明支持体上に、光学的機能層(低屈
折率層、高屈折率層、中屈折率層)の成分を塗布して、
反射防止膜を形成する。この反射防止膜を塗布により形
成する方法については、特公昭60−59250号、特
開昭59−50401号、特開平2−245702号、
同5−13021号、同8−110401号および同8
−179123号の各公報に記載がある。蒸着により光
学的機能層を設ける方法でも、塗布により光学的機能層
を設ける方法でも、光学的機能層を設ける前に透明支持
体上にハードコート層を設けることが普通である。ハー
ドコート層は、透明支持体の耐傷性を改善する機能を有
する。そのため、ハードコート層は、架橋しているバイ
ンダーポリマーのような硬い材料を用いて形成すること
が普通であり、バインダーポリマーは、ハードコート層
を形成してから架橋させることが多く行われる。しかし
ながら、この方法ではハードコート層を形成する際に平
面性が悪化してしまうことが多く反射防止膜作成におい
て問題となることが多かった。また、反射防止層の用途
が拡大するに従い、現行のハードコートでは耐傷性が不
足の場合があり、更なる耐傷性の改良が求められてい
た。
In addition, there has been proposed a method of forming an antireflection film by coating instead of vapor deposition. The method by coating
Although it is slightly inferior to the method by vapor deposition in terms of optical functions, it is characterized by easy production and high productivity. In the coating method, the components of the optical functional layer (low-refractive-index layer, high-refractive-index layer, medium-refractive-index layer) are applied on a transparent support,
An anti-reflection film is formed. Methods for forming this antireflection film by coating are described in JP-B-60-59250, JP-A-59-50401, JP-A-2-245702,
5-13021, 8-110401 and 8
It is described in each publication of -179123. In both the method of providing an optical functional layer by vapor deposition and the method of providing an optical functional layer by coating, it is common to provide a hard coat layer on a transparent support before providing the optical functional layer. The hard coat layer has a function of improving the scratch resistance of the transparent support. Therefore, the hard coat layer is usually formed using a hard material such as a crosslinked binder polymer, and the binder polymer is often crosslinked after forming the hardcoat layer. However, in this method, the flatness often deteriorates when the hard coat layer is formed, which often causes a problem in forming an antireflection film. Further, as the use of the antireflection layer expands, the current hard coat may have insufficient scratch resistance, and further improvement in scratch resistance has been demanded.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明者がハードコー
ト層について研究したところ、多くの場合バインダーポ
リマーが架橋反応において収縮し、ハードコート層の変
形、微小なひび割れが起こっていることが判明した。ま
た、ハードコート層全体の収縮にともない、反射防止膜
が変形する問題も認められた。反射防止膜の変形は、反
射防止膜を画像表示装置の画像表示面に取り付けて使用
する場合に深刻な問題となる。本発明の目的は、バイン
ダーポリマーの架橋に起因するハードコート層の収縮が
抑制され、変形の少ない耐傷性支持体および反射防止膜
を提供することである。また、本発明の目的は、ハード
コート層の機械特性を改良し、耐傷性に優れた支持体お
よび反射防止膜を提供することである。
The present inventors have studied the hard coat layer and found that in many cases, the binder polymer shrinks in the crosslinking reaction, and the hard coat layer is deformed and minute cracks occur. . In addition, there was also a problem that the antireflection film was deformed due to shrinkage of the entire hard coat layer. The deformation of the antireflection film becomes a serious problem when the antireflection film is used by attaching it to the image display surface of the image display device. An object of the present invention is to provide a scratch-resistant support and an anti-reflection film in which shrinkage of a hard coat layer due to crosslinking of a binder polymer is suppressed and deformation is small. Another object of the present invention is to improve the mechanical properties of the hard coat layer and provide a support and an antireflection film having excellent scratch resistance.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記
(1)〜(6)の耐傷性支持体、(7)〜(9)の反射
防止膜および(10)の画像表示装置により達成され
た。 (1)透明支持体上にハードコート層が設けられた耐傷
性支持体であって、該ハードコート層が表面処理された
無機微粒子および架橋したバインダーポリマーとを含
み、該表面処理がアニオン性官能基を含む有機化合物
か、または有機金属化合物を表面処理剤として行われ、
かつ該バインダーポリマーが多官能アクリレート化合物
の架橋によって得られたものであることを特徴とする耐
傷性支持体。 (2)該表面処理剤がリン酸基、リン酸モノエステル、
リン酸ジエステル、スルホン酸基、硫酸モノエステル、
カルボン酸基、これらの塩、若しくはこれらの酸塩化物
を有する有機化合物であるか、またはアルミニウム、チ
タニウム及びジルコニウムから選ばれた一種以上を含む
有機金属化合物であることを特徴とする(1)項に記載
の耐傷性支持体。 (3)該表面処理剤がリン酸モノエステル含有有機化合
物であることを特徴とする(1)項に記載の耐傷性支持
体。 (4)該無機微粒子が少なくとも二酸化ケイ素、酸化ジ
ルコニウム、酸化アルミニウム、二酸化チタンのいずれ
かを含む粒子からなることを特徴とする(1)〜(3)
項のいずれか1項に記載の耐傷性支持体。 (5)該無機微粒子が酸化アルミニウムを含む粒子から
なることを特徴とする(1)〜(4)項のいずれか1項
に記載の耐傷性支持体。 (6)ハードコート層が、1乃至15μmの厚さを有す
ることを特徴とする(5)項に記載の耐傷性支持体。 (7)透明支持体、ハードコート層、および透明支持体
の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層がこの順
で積層された反射防止膜であって、該透明支持体及びハ
ードコート層が(1)〜(6)項のいずれか1項に記載
の耐傷性支持体により形成されることを特徴とする反射
防止膜。 (8)透明支持体、ハードコート層、透明支持体の屈折
率よりも高い屈折率を有する高屈折率層、および透明支
持体の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層がこ
の順で積層された反射防止膜であって、該透明支持体及
びハードコート層が(1)〜(6)項のいずれか1項に
記載の耐傷性支持体により形成されることを特徴とする
反射防止膜。 (9)透明支持体、ハードコート層、透明支持体の屈折
率よりも高い屈折率を有する中屈折率層、中屈折率層の
屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率層、および透
明支持体の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層
がこの順で積層された反射防止膜であって、該透明支持
体及びハードコート層が(1)〜(6)項のいずれか1
項に記載の耐傷性支持体により形成されることを特徴と
する反射防止膜。 (10)画像表示面上に、(7)〜(9)項に記載の反
射防止膜を形成したことを特徴とする画像表示装置。
The object of the present invention is attained by the following scratch-resistant support (1) to (6), antireflection film (7) to (9) and image display device (10). Was done. (1) A scratch-resistant support having a hard coat layer provided on a transparent support, wherein the hard coat layer contains surface-treated inorganic fine particles and a crosslinked binder polymer, and the surface treatment is an anionic functional An organic compound containing a group, or an organic metal compound is performed as a surface treatment agent,
And a scratch-resistant support, wherein the binder polymer is obtained by crosslinking a polyfunctional acrylate compound. (2) the surface treating agent is a phosphate group, a phosphate monoester,
Phosphoric acid diester, sulfonic acid group, sulfuric acid monoester,
Item (1) is an organic compound having a carboxylic acid group, a salt thereof, or an acid chloride thereof, or an organic metal compound containing at least one selected from aluminum, titanium, and zirconium. 2. The scratch-resistant support according to 1. (3) The scratch-resistant support according to (1), wherein the surface treating agent is a phosphoric acid monoester-containing organic compound. (4) The inorganic fine particles are composed of particles containing at least one of silicon dioxide, zirconium oxide, aluminum oxide and titanium dioxide. (1) to (3)
Item 14. The scratch-resistant support according to any one of the above items. (5) The scratch-resistant support according to any one of (1) to (4), wherein the inorganic fine particles are made of particles containing aluminum oxide. (6) The scratch-resistant support according to item (5), wherein the hard coat layer has a thickness of 1 to 15 μm. (7) an antireflection film in which a transparent support, a hard coat layer, and a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the transparent support are laminated in this order, wherein the transparent support and the hard coat An antireflection film, wherein the layer is formed of the scratch-resistant support according to any one of (1) to (6). (8) The transparent support, the hard coat layer, the high refractive index layer having a refractive index higher than the refractive index of the transparent support, and the low refractive index layer having a refractive index lower than the refractive index of the transparent support are arranged in this order. Wherein the transparent support and the hard coat layer are formed of the scratch-resistant support according to any one of (1) to (6). Prevention film. (9) a transparent support, a hard coat layer, a medium refractive index layer having a refractive index higher than the refractive index of the transparent support, a high refractive index layer having a refractive index higher than the refractive index of the medium refractive index layer, and transparent. A low refractive index layer having a refractive index lower than the refractive index of the support is an antireflection film laminated in this order, and the transparent support and the hard coat layer are any of (1) to (6). 1
13. An anti-reflection film formed of the scratch-resistant support described in item 8. (10) An image display device, wherein the antireflection film according to any one of (7) to (9) is formed on the image display surface.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】本発明の反射防止膜の基本的な構
成を図面を引用しながら説明する。図1は、反射防止膜
の主な層構成を示す断面模式図である。図1の(a)に
示す態様は、透明支持体(1)、ハードコート層
(2)、低屈折率層(3)、そしてオーバーコート層
(4)の順序の層構成を有する。透明支持体(1)と低
屈折率層(3)は、以下の関係を満足する屈折率を有す
る。 低屈折率層の屈折率<透明支持体の屈折率 図1の(b)に示す態様は、透明支持体(1)、ハード
コート層(2)、高屈折率層(5)、低屈折率層
(3)、そしてオーバーコート層(4)の順序の層構成
を有する。透明支持体(1)、高屈折率層(5)および
低屈折率層(3)は、以下の関係を満足する屈折率を有
する。 低屈折率層の屈折率<透明支持体の屈折率<高屈折率層
の屈折率 図1の(c)に示す態様は、透明支持体(1)、ハード
コート層(2)、中屈折率層(6)、高屈折率層
(5)、低屈折率層(3)、そしてオーバーコート層
(4)の順序の層構成を有する。透明支持体(1)、中
屈折率層(6)、高屈折率層(5)および低屈折率層
(3)は、以下の関係を満足する屈折率を有する。 低屈折率層の屈折率<透明支持体の屈折率<中屈折率層
の屈折率<高屈折率層の屈折率
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The basic structure of an antireflection film according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a main layer configuration of the antireflection film. The embodiment shown in FIG. 1A has a layer structure in the order of a transparent support (1), a hard coat layer (2), a low refractive index layer (3), and an overcoat layer (4). The transparent support (1) and the low refractive index layer (3) have a refractive index satisfying the following relationship. Refractive index of low refractive index layer <refractive index of transparent support In the embodiment shown in FIG. 1B, the transparent support (1), the hard coat layer (2), the high refractive index layer (5), the low refractive index It has a layer structure of a layer (3) and an overcoat layer (4). The transparent support (1), the high refractive index layer (5) and the low refractive index layer (3) have a refractive index satisfying the following relationship. The refractive index of the low refractive index layer <the refractive index of the transparent support <the refractive index of the high refractive index layer The embodiment shown in FIG. 1 (c) is a transparent support (1), a hard coat layer (2), a medium refractive index. It has a layer structure of a layer (6), a high refractive index layer (5), a low refractive index layer (3), and an overcoat layer (4) in this order. The transparent support (1), the medium refractive index layer (6), the high refractive index layer (5) and the low refractive index layer (3) have a refractive index satisfying the following relationship. Refractive index of low refractive index layer <refractive index of transparent support <refractive index of medium refractive index layer <refractive index of high refractive index layer

【0007】[透明支持体]透明支持体としては、プラ
スチックフイルムを用いることが好ましい。プラスチッ
クフイルムを形成するポリマーの例には、セルロースエ
ステル(例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセル
ロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロー
ス、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロー
ス)、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル
(例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチレンテ
レフタレート、ポリエチレン−1,2−ジフェノキシエ
タン−4,4’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテ
レフタレート)、ポリスチレン(例、シンジオタクチッ
クポリスチレン)、ポリオレフィン(例、ポリプロピレ
ン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン)、ポリスルホ
ン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエー
テルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエー
テルケトンが含まれる。トリアセチルセルロース、ポリ
カーボネートおよびポリエチレンテレフタレートが好ま
しい。透明支持体の光透過率は、80%以上であること
が好ましく、86%以上であることがさらに好ましい。
透明支持体のヘイズは、2.0%以下であることが好ま
しく、1.0%以下であることがさらに好ましい。透明
支持体の屈折率は、1.4乃至1.7であることが好ま
しい。
[Transparent Support] As the transparent support, a plastic film is preferably used. Examples of the polymer forming the plastic film include cellulose esters (eg, triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, propionyl cellulose, butyryl cellulose, acetyl propionyl cellulose, nitrocellulose), polyamide, polycarbonate, polyester (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene) Naphthalate, poly-1,4-cyclohexane dimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,4′-dicarboxylate, polybutylene terephthalate), polystyrene (eg, syndiotactic polystyrene), polyolefin ( For example, polypropylene, polyethylene, polymethylpentene), polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, polyetherimide, Includes polymethyl methacrylate and polyether ketone. Triacetyl cellulose, polycarbonate and polyethylene terephthalate are preferred. The light transmittance of the transparent support is preferably 80% or more, and more preferably 86% or more.
The haze of the transparent support is preferably 2.0% or less, more preferably 1.0% or less. The refractive index of the transparent support is preferably from 1.4 to 1.7.

【0008】[ハードコート層]ハードコート層は、透
明支持体に耐傷性を付与する機能を有する。本発明にお
ける耐傷性支持体は、透明支持体上に特定のハードコー
ト層を有してなる。ハードコート層は、架橋されたバイ
ンダーポリマーを含む。架橋されたバインダーポリマー
を含むハードコート層は、多官能モノマーと重合開始剤
を含む塗布液を透明支持体上に塗布し、多官能モノマー
を重合させることにより形成できる。官能基としては、
重合性不飽和二重結合基が好ましい。重合性不飽和二重
結合基の例としては、アクリレート基、メタクリレート
基、ビニル基を挙げることができる。反応性の観点より
アクリレート基が好ましく用いられる。多官能モノマー
は、多価アルコールとアクリル酸またはメタクリル酸と
のエステルであることが好ましい。多価アルコールの例
には、エチレングリコール、1,4−シクロヘキサンジ
オール、ペンタエリスリトール、トリメチロールプロパ
ン、トリメチロールエタン、ジペンタエリスリトール、
1,2,4−シクロヘキサントリオール、ポリウレタン
ポリオールおよびポリエステルポリオールが含まれる。
トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペ
ンタエリスリトールおよびポリウレタンポリオールが好
ましい。二種類以上の多官能モノマーを併用してもよ
い。ハードコート層に、無機微粒子を添加することで膜
としての架橋収縮率を改良し塗膜の平面性を向上させる
ことができる。一般に無機微粒子は有機物よりも硬く、
UV照射等で収縮することがない。従って、無機微粒子
をハードコート層に添加することで、層全体が硬くなり
耐傷性が改良されるとともに架橋反応によるハードコー
ト層の収縮が抑制され、反射防止膜の変形も防止でき
る。ただし、無機微粒子はバインダーポリマーとの親和
性が低いため、無機微粒子のまま添加しても無機微粒子
/バインダーポリマー間が破壊しやすく、耐傷性、変形
を改善することは難しい。そこで、無機微粒子を微粒子
と親和性の高いカップリング剤、アニオン性基含有有機
化合物等で表面処理することにより、無機微粒子とバイ
ンダーポリマーとの親和性を改善する。この表面処理剤
がバインダーと共架橋可能な炭素−炭素二重結合を有す
る残基、例えば(メタ)アクリレート基をするものであ
れば、バインダーポリマーと無機粒子の親和性が高まり
ハードコート層の強度低下を起こさないことを確認し
た。アクリレート化合物が金属と親和性の高いリン原子
を含有するものであれば更にこの効果は高まる。
[Hard coat layer] The hard coat layer has a function of imparting scratch resistance to the transparent support. The scratch-resistant support in the present invention has a specific hard coat layer on a transparent support. The hard coat layer includes a crosslinked binder polymer. The hard coat layer containing the crosslinked binder polymer can be formed by applying a coating solution containing a polyfunctional monomer and a polymerization initiator on a transparent support and polymerizing the polyfunctional monomer. As a functional group,
Preferred are polymerizable unsaturated double bond groups. Examples of the polymerizable unsaturated double bond group include an acrylate group, a methacrylate group, and a vinyl group. An acrylate group is preferably used from the viewpoint of reactivity. The polyfunctional monomer is preferably an ester of a polyhydric alcohol and acrylic acid or methacrylic acid. Examples of polyhydric alcohols include ethylene glycol, 1,4-cyclohexanediol, pentaerythritol, trimethylolpropane, trimethylolethane, dipentaerythritol,
Includes 1,2,4-cyclohexanetriol, polyurethane polyols and polyester polyols.
Trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol and polyurethane polyols are preferred. Two or more polyfunctional monomers may be used in combination. By adding inorganic fine particles to the hard coat layer, the crosslinking shrinkage as a film can be improved and the flatness of the coating film can be improved. In general, inorganic fine particles are harder than organic substances,
Does not shrink due to UV irradiation or the like. Therefore, by adding inorganic fine particles to the hard coat layer, the entire layer is hardened, the scratch resistance is improved, the shrinkage of the hard coat layer due to the crosslinking reaction is suppressed, and the deformation of the antireflection film can be prevented. However, since the inorganic fine particles have low affinity with the binder polymer, even if the inorganic fine particles are added as they are, the inorganic fine particles / the binder polymer are easily broken, and it is difficult to improve the scratch resistance and deformation. Therefore, the affinity between the inorganic fine particles and the binder polymer is improved by subjecting the inorganic fine particles to a surface treatment with a coupling agent having a high affinity for the fine particles, an anionic group-containing organic compound, or the like. If the surface treating agent has a residue having a carbon-carbon double bond capable of co-crosslinking with the binder, for example, a (meth) acrylate group, the affinity between the binder polymer and the inorganic particles is increased and the strength of the hard coat layer is increased. It was confirmed that no reduction occurred. This effect is further enhanced if the acrylate compound contains a phosphorus atom having a high affinity for a metal.

【0009】無機微粒子としては硬度が高いものが好ま
しく、例えば、二酸化ケイ素粒子、二酸チタン粒子、酸
化ジルコニウム粒子、酸化アルミニウム粒子、酸化錫粒
子、炭酸カルシウム粒子、硫酸バリウム粒子、タルク、
カオリンおよび硫酸カルシウム粒子が含まれる。このう
ち二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸
化ジルコニウム粒子が特に好ましい。無機微粒子の平均
粒子径は、1乃至2000nmであることが好ましく、
2乃至1000nmであることがより好ましく、5乃至
500nmであることがさらに好ましく、10乃至20
0nmであることが最も好ましい。無機微粒子の添加量
は、ハードコート層の全量の1乃至99質量%であるこ
とが好ましく、10乃至90質量%であることがより好
ましく、20乃至80質量%であることがさらに好まし
く、40乃至60質量%であることが最も好ましい。
As the inorganic fine particles, those having high hardness are preferable. For example, silicon dioxide particles, titanium dioxide particles, zirconium oxide particles, aluminum oxide particles, tin oxide particles, calcium carbonate particles, barium sulfate particles, talc,
Kaolin and calcium sulfate particles are included. Among them, silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide and zirconium oxide particles are particularly preferred. The average particle diameter of the inorganic fine particles is preferably 1 to 2000 nm,
The thickness is more preferably 2 to 1000 nm, still more preferably 5 to 500 nm, and 10 to 20 nm.
Most preferably, it is 0 nm. The addition amount of the inorganic fine particles is preferably 1 to 99% by mass, more preferably 10 to 90% by mass, still more preferably 20 to 80% by mass, and more preferably 40 to 80% by mass of the total amount of the hard coat layer. Most preferably, it is 60% by mass.

【0010】一般に無機微粒子はバインダーポリマーと
の親和性が悪いため単に両者を混合するだけでは界面が
破壊しやすく、膜として割れ、耐傷性を改善することは
困難である。無機微粒子を有機セグメントを含む表面処
理剤で処理することで無機微粒子とポリマーバインダー
との親和性は改良されこの問題は解決できる。表面処理
剤は一方で金属粒子と結合を形成し得、他方でバインダ
ーポリマーと高い親和性を有することが必要である。金
属と結合を生成し得る官能基としては、金属アルコキシ
ドが好ましく、実際にはアルミニウム、チタニウム、ジ
ルコニウム等の化合物を挙げることができる。あるい
は、アニオン性基を有する化合物が好ましく、リン酸
基、リン酸モノエステル、リン酸ジエステル、スルホン
酸基、硫酸モノエステル、カルボン酸基、これらの塩、
若しくはこれらの酸塩化物等を有することがさらに好ま
しい。また表面処理剤はバインダーポリマーと化学的に
結合させることが好ましく、末端にビニル性重合基等を
導入したものが好適である。例えば、エチレン性不飽和
基を重合性基および架橋性基として有するモノマーから
バインダーポリマーを合成する場合は、金属アルコキシ
ド化合物またはアニオン性化合物の末端にエチレン性不
飽和基を有していることが好ましい。この表面処理の方
法は無機微粒子を前記の表面処理剤で被覆し、バインダ
ーポリマーに添加後、被覆表面処理剤をバインダーポリ
マーの架橋と同時に硬化、架橋させるのが良い。
In general, inorganic fine particles have a poor affinity for a binder polymer, so that the interface is easily broken simply by mixing the two, and it is difficult to crack as a film and to improve the scratch resistance. By treating the inorganic fine particles with a surface treating agent containing an organic segment, the affinity between the inorganic fine particles and the polymer binder is improved, and this problem can be solved. The surface treatment agent must be able to form bonds with the metal particles on the one hand and have a high affinity for the binder polymer on the other hand. As the functional group capable of forming a bond with a metal, a metal alkoxide is preferable, and in practice, compounds such as aluminum, titanium, and zirconium can be mentioned. Alternatively, a compound having an anionic group is preferable, and a phosphate group, a phosphate monoester, a phosphate diester, a sulfonic acid group, a sulfate monoester, a carboxylic acid group, a salt thereof,
Or it is more preferable to have these acid chlorides. It is preferable that the surface treatment agent is chemically bonded to the binder polymer, and it is preferable that the surface treatment agent has a vinyl polymer group or the like introduced at a terminal. For example, when a binder polymer is synthesized from a monomer having an ethylenically unsaturated group as a polymerizable group and a crosslinkable group, it is preferable that the metal alkoxide compound or the anionic compound has an ethylenically unsaturated group at a terminal. . In this surface treatment method, it is preferable that the inorganic fine particles are coated with the above-mentioned surface treatment agent, and after the addition to the binder polymer, the coated surface treatment agent is cured and crosslinked simultaneously with the crosslinking of the binder polymer.

【0011】 有機金属化合物の表面処理剤例 a)アルミニウム含有有機化合物例 a−1 HC=CHCOOC48Al(OC492 a−2 HC=CHCOOCAl(OC2 a−3 HC=CHCOOCAl(OC2 a−4 HC=CHCOOCOCAl(OCOC)2 a−5 HC=C(CH3)COOC48Al(OC492 a−6 HC=CHCOOC48Al(OC49)C48COOCH=CH a−7 HC=CHCOOCAl{O(1,4-ph)CH32 Examples of surface treating agents for organometallic compounds a) Examples of aluminum-containing organic compounds a-1H2C = CHCOOCFourH8Al (OCFourH9)Two  a-2H2C = CHCOOC3H6Al (OC3H7)Two  a-3H2C = CHCOOC2H4Al (OC2H5)Two  a-4H2C = CHCOOC2H4OC2H4Al (OC2H4OC2H5)Two  a-5H2C = C (CHThree) COOCFourH8Al (OCFourH9)Two  a-6H2C = CHCOOCFourH8Al (OCFourH9) CFourH8COOCH = CH2  a-7H2C = CHCOOC2H4Al {O (1,4-ph) CHThreeTwo 

【0012】 b)ジルコニウム含有有機化合物 b−1 HC=CHCOOC48Zr(OC493 b−2 HC=CHCOOC6Zr(OC3 b−3 HC=CHCOOC4Zr(OC b−4 HC=C(CH3)COOC48Zr(OC49 b−5 {CH=C(CH3)COOC362Zr(OC492 c)チタン含有有機化合物 c−1 {HC=C(CH3)COOC36TiOCH3 c−2 Ti{HC=C(CH3)COOC362TiOCH3 c−3 HC=CHCOOC48Ti(OC493 c−4 HC=CHCOOC6Ti(OC3 c−5 HC=CHCOOC4Ti(OC c−6 HC=CHCOOC6Ti(OCH33 c−7 HC=C(CH3)COOC48Ti(OC49 B) zirconium-containing organic compound b-1H2C = CHCOOCFourH8Zr (OCFourH9)Three  b-2H2C = CHCOOC3H6Zr (OC3H7)Three  b-3H2C = CHCOOC2HFourZr (OC2H5)3  b-4H2C = C (CHThree) COOCFourH8Zr (OCFourH9)3  b-5 @CH2= C (CHThree) COOCThreeH6TwoZr (OCFourH9)Two  c) Titanium-containing organic compound c-1 @ H2C = C (CHThree) COOCThreeH63TiOCHThree  c-2 Ti {H2C = C (CHThree) COOCThreeH6TwoTiOCHThree  c-3H2C = CHCOOCFourH8Ti (OCFourH9)Three  c-4H2C = CHCOOC3H6Ti (OC3H7)Three  c-5H2C = CHCOOC2HFourTi (OC2H5)3  c-6H2C = CHCOOC3H6Ti (OCHThree)Three  c-7H2C = C (CHThree) COOCFourH8Ti (OCFourH9)3

【0013】 アニオン性官能基含有表面処理剤例 d)リン酸モノエステル、リン酸ジエステルあるいはリン酸基含有有機化合物例 d−1 HC=C(CH3)COOC4OPO(OH)2 d−2 HC=C(CH3)COOC4OCOC510OPO(OH)2 d−3 HC=CHCOOC4OCOC510OPO(OH)2 d−4 HC=C(CH3)COOC4OCOC510OPO(OH)2 d−5 HC=C(CH3)COOC4OCOC510OPOCl2 d−6 HC=C(CH3)COOC4CH{OPO(OH)22 d−7 HC=C(CH3)COOC4OCOC510OPO(ONa)2 d−8 HC=CHCOOC4OCO(1,4-ph)C510OPO(OH)2 d−9 (HC=C(CH3)COO)2CHC4OCOC510OPO(OH)2 d−10 HC=CHPO(OH)2 Examples of anionic functional group-containing surface treatment agents d) Examples of phosphoric acid monoesters, phosphoric diesters, and phosphoric acid group-containing organic compounds d-1H2C = C (CHThree) COOC2HFourOPO (OH)Two  d-2H2C = C (CHThree) COOC2HFourOCOCFiveHTenOPO (OH)Two  d-3H2C = CHCOOC2HFourOCOCFiveHTenOPO (OH)Two  d-4H2C = C (CHThree) COOC2HFourOCOCFiveHTenOPO (OH)Two  d-5H2C = C (CHThree) COOC2HFourOCOCFiveHTenOPOClTwo  d-6H2C = C (CHThree) COOC2HFourCH @ OPO (OH)Two)Two  d-7H2C = C (CHThree) COOC2HFourOCOCFiveHTenOPO (ONa)Two  d-8H2C = CHCOOC2HFourOCO (1,4-ph) CFiveHTenOPO (OH)Two  d-9 (H2C = C (CHThree) COO)TwoCHC2HFourOCOCFiveHTenOPO (OH)Two  d-10H2C = CHPO (OH)Two 

【0014】 e)硫酸モノエステルあるいはスルホン酸基含有有機化合物例 e−1 HC=C(CH3)COOC4OSO3H e−2 HC=C(CH3)COOCSO3H e−3 HC=C(CH3)COOC4OCOC510OSO3H e−4 HC=CHCOOC4OCOC510OSO3H e−5 HC=CHCOOC1224(1,4-ph)SO3H e−6 HC=C(CH3)COOC4OCOC510OSO3NaE) Examples of organic compounds containing sulfuric acid monoester or sulfonic acid group e-1 H 2 C = C (CH 3 ) COOC 2 H 4 OSO 3 He e-2H 2 C = C (CH 3 ) COOC 3 H 6 SO 3 H e-3 H 2 C = C (CH 3) COOC 2 H 4 OCOC 5 H 10 OSO 3 H e-4 H 2 C = CHCOOC 2 H 4 OCOC 5 H 10 OSO 3 H e-5 H 2 C = CHCOOC 12 H 24 (1,4 -ph) SO 3 H e-6 H 2 C = C (CH 3) COOC 2 H 4 OCOC 5 H 10 OSO 3 Na

【0015】 f)カルボン酸基含有有機化合物例 f−1 HC=CHCOO(C510COO)2H f−2 HC=CHCOOC510COOH f−3 HC=CHCOOC4OCO(1,2-ph)COOH f−4 HC=CHCOO(C4COO)2H f−5 HC=C(CH)COOC510COOH f−6 HC=CHCOOC4COOH ここでphはフェニレン基を示す。F) Example of carboxylic acid group-containing organic compound f-1 H 2 C = CHCOO (C 5 H 10 COO) 2 H f-2 H 2 C = CHCOOC 5 H 10 COOH f-3 H 2 C = CHCOOC 2 H 4 OCO (1,2-ph) COOH f-4 H 2 C = CHCOO (C 2 H 4 COO) 2 H f-5 H 2 C = C (CH) COOC 5 H 10 COOH f-6 H 2 C = CHCOOC 2 H 4 COOH where ph represents a phenylene group.

【0016】バインダーポリマーの架橋反応(多官能モ
ノマーの重合反応)には、光重合開始剤を用いることが
好ましい。光重合開始剤の例には、アセトフェノン類、
ベンゾフェノン類、ミヒラーのベンゾイルベンゾエー
ト、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラム
モノサルファイドおよびチオキサントン類が含まれる。
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増
感剤の例には、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、
トリ−n−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよび
チオキサントンが含まれる。光重合開始剤は、多官能モ
ノマー100質量部に対して、0.1乃至15質量部の
範囲で使用することが好ましく、1乃至10質量部の範
囲で使用することがさらに好ましい。光重合反応は、ハ
ードコート層の塗布および乾燥後、紫外線照射により実
施することが好ましい。
For the crosslinking reaction of the binder polymer (polymerization reaction of the polyfunctional monomer), it is preferable to use a photopolymerization initiator. Examples of photopolymerization initiators include acetophenones,
Includes benzophenones, Michler's benzoylbenzoate, α-amyloxime esters, tetramethylthiuram monosulfide and thioxanthones.
A photosensitizer may be used in addition to the photopolymerization initiator. Examples of photosensitizers include n-butylamine, triethylamine,
Includes tri-n-butylphosphine, Michler's ketone and thioxanthone. The photopolymerization initiator is preferably used in an amount of 0.1 to 15 parts by mass, more preferably 1 to 10 parts by mass, based on 100 parts by mass of the polyfunctional monomer. The photopolymerization reaction is preferably carried out by irradiating ultraviolet rays after applying and drying the hard coat layer.

【0017】ハードコート層またはその塗布液には、さ
らに、着色剤(顔料、染料)、消泡剤、増粘剤、レベリ
ング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤や改質用樹
脂を添加してもよい。ハードコート層の塗布液は、有機
溶媒を媒体として用いて調製することが好ましい。有機
溶媒の例には、アルコール(例、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコー
ル)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、エステル
(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブ
チル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブ
チル)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサ
ン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、
クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロ
リドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラハイドロフラン)、エーテルアルコール
(例、1−メトキシ−2−プロパノール)が含まれる。
二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。ハードコート
層の厚さは、1乃至15μmであることが好ましい。
The hard coat layer or its coating solution further contains a colorant (pigment, dye), an antifoaming agent, a thickener, a leveling agent, a flame retardant, an ultraviolet absorber, an antioxidant and a modifying resin. It may be added. The coating solution for the hard coat layer is preferably prepared using an organic solvent as a medium. Examples of organic solvents include alcohols (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketones (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), esters (eg, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate) Butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg, methylene chloride,
Chloroform, carbon tetrachloride), aromatic hydrocarbons (eg, benzene, toluene, xylene), amides (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone), ethers (eg, diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran) , Ether alcohols (eg, 1-methoxy-2-propanol).
Two or more organic solvents may be used in combination. The thickness of the hard coat layer is preferably 1 to 15 μm.

【0018】[高屈折率層および中屈折率層]図1の
(b)に示すように、ハードコート層と低屈折率層との
間に、高屈折率層を設けてもよい。また、図1の(c)
に示すように、ハードコート層と高屈折率層との間に中
屈折率層を設けてもよい。高屈折率層の屈折率は、1.
65乃至2.40であることが好ましく、1.70乃至
2.20であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈
折率は、透明支持体の屈折率と高屈折率層の屈折率との
中間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率
は、1.55乃至1.80であることが好ましい。但
し、高屈折率層の屈折率と中屈折率層の屈折率の差が
0.1以上であることが好ましい。高屈折率層および中
屈折率層の厚さは、5nm乃至100μmであることが
好ましく、10nm乃至10μmであることがさらに好
ましく、30nm乃至1μmであることが最も好まし
い。高屈折率層および中屈折率層のヘイズは、5%以下
であることが好ましく、3%以下であることがさらに好
ましく、1%以下であることが最も好ましい。高屈折率
層および中屈折率層の硬度は、1kg荷重の鉛筆硬度で
H以上であることが好ましく、2H以上であることがさ
らに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。高
屈折率層および中屈折率層は、無機微粒子とポリマーと
を含むことが好ましい。
[High Refractive Index Layer and Medium Refractive Index Layer] As shown in FIG. 1B, a high refractive index layer may be provided between the hard coat layer and the low refractive index layer. Also, FIG.
As shown in (1), a middle refractive index layer may be provided between the hard coat layer and the high refractive index layer. The refractive index of the high refractive index layer is:
It is preferably from 65 to 2.40, and more preferably from 1.70 to 2.20. The refractive index of the middle refractive index layer is adjusted to be an intermediate value between the refractive index of the transparent support and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer is preferably from 1.55 to 1.80. However, the difference between the refractive index of the high refractive index layer and the refractive index of the middle refractive index layer is preferably 0.1 or more. The thickness of the high refractive index layer and the middle refractive index layer is preferably from 5 nm to 100 μm, more preferably from 10 nm to 10 μm, and most preferably from 30 nm to 1 μm. The haze of the high refractive index layer and the middle refractive index layer is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and most preferably 1% or less. The hardness of the high refractive index layer and the medium refractive index layer is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher in pencil hardness at a load of 1 kg. The high refractive index layer and the medium refractive index layer preferably contain inorganic fine particles and a polymer.

【0019】高屈折率層および中屈折率層に用いる無機
微粒子(以下高屈折無機微粒子)は、屈折率が1.80
乃至2.80であることが好ましく、1.90乃至2.
80であることがさらに好ましい。高屈折無機微粒子の
一次粒子の質量平均径は、1乃至150nmであること
が好ましく、1乃至100nmであることがさらに好ま
しく、1乃至80nmであることが最も好ましい。塗布
層中の高屈折無機微粒子の質量平均径は、1乃至200
nmであることが好ましく、5乃至150nmであるこ
とがより好ましく、10乃至100nmであることがさ
らに好ましく、10乃至80nmであることが最も好ま
しい。高屈折無機微粒子の比表面積は、10乃至400
/gであることが好ましく、20乃至200m
gであることがさらに好ましく、30乃至150m
gであることが最も好ましい。
The inorganic fine particles (hereinafter referred to as high refractive inorganic fine particles) used for the high refractive index layer and the medium refractive index layer have a refractive index of 1.80.
To 2.80, preferably 1.90 to 2.80.
More preferably, it is 80. The mass average diameter of the primary particles of the high refraction inorganic fine particles is preferably from 1 to 150 nm, more preferably from 1 to 100 nm, and most preferably from 1 to 80 nm. The mass average diameter of the high refractive inorganic fine particles in the coating layer is from 1 to 200.
nm, more preferably 5 to 150 nm, still more preferably 10 to 100 nm, and most preferably 10 to 80 nm. The specific surface area of the high refractive inorganic fine particles is 10 to 400.
is preferably m 2 / g, 20 to 200 meters 2 /
g, more preferably 30 to 150 m 2 / g.
g is most preferred.

【0020】高屈折無機微粒子は、金属の酸化物または
硫化物から形成することが好ましい。金属の酸化物また
は硫化物の例には、二酸化チタン(例、ルチル、ルチル
/アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構
造)、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコ
ニウムおよび硫化亜鉛が含まれる。酸化チタン、酸化錫
および酸化インジウムが特に好ましい。高屈折無機微粒
子は、これらの金属の酸化物または硫化物を主成分と
し、さらに他の元素を含むことができる。主成分とは、
粒子を構成する成分の中で最も含有量(質量%)が多い
成分を意味する。他の元素の例には、Ti、Zr、S
n、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、C
r、Hg、Zn、Al、Mg、Si、PおよびSが含ま
れる。高屈折無機微粒子を表面処理してもよい。表面処
理は、無機化合物または有機化合物を用いて実施する。
表面処理に用いる無機化合物の例には、酸化アルミニウ
ム、酸化ケイ素、酸化ジルコニウムおよび酸化鉄が含ま
れる。酸化アルミニウムおよび酸化ケイ素が好ましい。
表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、ア
ルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング
剤およびチタネートカップリング剤が含まれる。シラン
カップリング剤が最も好ましい。二種類以上の表面処理
を組み合わせて実施してもよい。以上を組み合わせて処
理されていても構わない。高屈折無機微粒子の形状は、
米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状あるいは不定形状
であることが好ましい。二種類以上の高屈折無機微粒子
を高屈折率層および中屈折率層内で併用してもよい。
The high refractive inorganic fine particles are preferably formed from a metal oxide or sulfide. Examples of metal oxides or sulfides include titanium dioxide (eg, rutile, rutile / anatase mixed crystal, anatase, amorphous structure), tin oxide, indium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, and zinc sulfide. Titanium oxide, tin oxide and indium oxide are particularly preferred. The high-refractive inorganic fine particles have an oxide or sulfide of these metals as a main component, and may further contain other elements. The main component is
It means the component having the largest content (% by mass) among the components constituting the particles. Examples of other elements include Ti, Zr, S
n, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, C
r, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P and S are included. High refractive inorganic fine particles may be surface-treated. The surface treatment is performed using an inorganic compound or an organic compound.
Examples of the inorganic compound used for the surface treatment include aluminum oxide, silicon oxide, zirconium oxide, and iron oxide. Aluminum oxide and silicon oxide are preferred.
Examples of organic compounds used for the surface treatment include polyols, alkanolamines, stearic acid, silane coupling agents, and titanate coupling agents. Silane coupling agents are most preferred. Two or more types of surface treatments may be performed in combination. The processing may be performed by combining the above. The shape of the high refractive inorganic fine particles is
It is preferably a rice grain, a sphere, a cube, a spindle, or an irregular shape. Two or more kinds of high refractive index inorganic fine particles may be used in the high refractive index layer and the medium refractive index layer.

【0021】高屈折率層および中屈折率層中の高屈折無
機微粒子の割合は、5乃至65体積%である。高屈折無
機微粒子の割合は、10乃至60体積%であることが好
ましく、20乃至55体積%であることがさらに好まし
い。高屈折無機微粒子は、分散物の状態で高屈折率層お
よび中屈折率層の形成に使用する。高屈折率層および中
屈折率層の高屈折無機微粒子の分散媒体は、沸点が60
乃至170℃の液体を用いることが好ましい。分散媒体
の例には、水、アルコール(例、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコー
ル)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、エステル
(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブ
チル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブ
チル)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサ
ン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、
クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロ
リドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラハイドロフラン)、エーテルアルコール
(例、1−メトキシ−2−プロパノール)が含まれる。
トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノンおよびブタノールが特
に好ましい。高屈折無機微粒子は、分散機を用いて媒体
中に分散できる。分散機の例には、サンドグラインダー
ミル(例、ピン付きビーズミル)、高速インペラーミ
ル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライターおよび
コロイドミルが含まれる。サンドグラインダーミルおよ
び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散
処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の
例には、ボールミル、三本ロールミル、ニーダーおよび
エクストルーダーが含まれる。
The proportion of the high refractive index inorganic fine particles in the high refractive index layer and the medium refractive index layer is 5 to 65% by volume. The ratio of the high refractive inorganic fine particles is preferably from 10 to 60% by volume, and more preferably from 20 to 55% by volume. The high refractive inorganic fine particles are used in the form of a dispersion to form a high refractive index layer and a medium refractive index layer. The dispersion medium of the high refractive index inorganic fine particles in the high refractive index layer and the medium refractive index layer has a boiling point of 60.
It is preferable to use a liquid at a temperature of from 170 to 170 ° C. Examples of dispersion media include water, alcohols (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketones (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), esters (eg, methyl acetate, ethyl acetate, Propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg, methylene chloride,
Chloroform, carbon tetrachloride), aromatic hydrocarbons (eg, benzene, toluene, xylene), amides (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone), ethers (eg, diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran) , Ether alcohols (eg, 1-methoxy-2-propanol).
Particularly preferred are toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol. The high refractive inorganic fine particles can be dispersed in a medium using a dispersing machine. Examples of dispersers include sand grinder mills (eg, bead mills with pins), high speed impeller mills, pebble mills, roller mills, attritors and colloid mills. Sand grinder mills and high speed impeller mills are particularly preferred. Further, a preliminary dispersion process may be performed. Examples of the disperser used for the preliminary dispersion treatment include a ball mill, a three-roll mill, a kneader and an extruder.

【0022】中屈折率層および高屈折率層には、比較的
屈折率が高いポリマーを用いることが好ましい。屈折率
が高いポリマーの例には、ポリスチレン、スチレン共重
合体、ポリカーボネート、メラミン樹脂、フェノール樹
脂、エポキシ樹脂および環状(脂環式または芳香族)イ
ソシアネートとポリオールとの反応で得られるポリウレ
タンが含まれる。その他の環状(芳香族、複素環式、脂
環式)基を有するポリマーや、フッ素以外のハロゲン原
子を置換基として有するポリマーも、屈折率が高い。二
重結合を導入してラジカル硬化を可能にしたモノマーの
重合反応によりポリマーを形成してもよい。
It is preferable to use a polymer having a relatively high refractive index for the middle refractive index layer and the high refractive index layer. Examples of high refractive index polymers include polystyrene, styrene copolymers, polycarbonates, melamine resins, phenolic resins, epoxy resins, and polyurethanes obtained by reacting cyclic (alicyclic or aromatic) isocyanates with polyols. . Other polymers having a cyclic (aromatic, heterocyclic, alicyclic) group and polymers having a halogen atom other than fluorine as a substituent also have a high refractive index. A polymer may be formed by a polymerization reaction of a monomer capable of radical curing by introducing a double bond.

【0023】[低屈折率層]低屈折率層の屈折率は、
1.20乃至1.55であることが好ましく、1.30
乃至1.55であることがさらに好ましい。低屈折率層
の厚さは、50乃至400nmであることが好ましく、
50乃至200nmであることがさらに好ましい。低屈
折率層は、3乃至50体積%の空隙率を有することが好
ましく、5乃至35体積%の空隙率を有することがさら
に好ましい。低屈折率層の空隙は、微粒子を用いて微粒
子間または微粒子内のミクロボイドとして形成すること
ができる。微粒子の平均粒径は、0.5乃至200mm
であることが好ましく、1乃至100nmであることが
より好ましく、3乃至70nmであることがさらに好ま
しく、5乃至40nmの範囲であることが最も好まし
い。微粒子の粒径は、なるべく均一(単分散)であるこ
とが好ましい。また、無機微粒子あるいは有機微粒子も
低屈折率層に用いることができる。
[Low Refractive Index Layer] The refractive index of the low refractive index layer is
1.20 to 1.55, preferably 1.30
It is more preferably from 1.55 to 1.55. The thickness of the low refractive index layer is preferably 50 to 400 nm,
More preferably, it is 50 to 200 nm. The low refractive index layer preferably has a porosity of 3 to 50% by volume, and more preferably 5 to 35% by volume. The voids in the low refractive index layer can be formed as microvoids between particles or within particles using fine particles. The average particle size of the fine particles is 0.5 to 200 mm
Is preferably 1 to 100 nm, more preferably 3 to 70 nm, and most preferably 5 to 40 nm. The particle size of the fine particles is preferably as uniform (monodispersed) as possible. Further, inorganic fine particles or organic fine particles can also be used for the low refractive index layer.

【0024】無機微粒子は、非晶質であることが好まし
い。無機微粒子は、金属の酸化物、窒化物、硫化物また
はハロゲン化物からなることが好ましく、金属酸化物ま
たは金属ハロゲン化物からなることがさらに好ましく、
金属酸化物または金属フッ化物からなることが最も好ま
しい。金属原子としては、Na、K、Mg、Ca、B
a、Al、Zn、Fe、Cu、Ti、Sn、In、W、
Y、Sb、Mn、Ga、V、Nb、Ta、Ag、Si、
B、Bi、Mo、Ce、Cd、Be、PbおよびNiが
好ましく、Mg、Ca、BおよびSiがさらに好まし
い。二種類の金属を含む無機化合物を用いてもよい。特
に好ましい無機化合物は、二酸化ケイ素である。
The inorganic fine particles are preferably amorphous. The inorganic fine particles are preferably made of a metal oxide, nitride, sulfide or halide, more preferably a metal oxide or metal halide,
Most preferably, it consists of a metal oxide or metal fluoride. As metal atoms, Na, K, Mg, Ca, B
a, Al, Zn, Fe, Cu, Ti, Sn, In, W,
Y, Sb, Mn, Ga, V, Nb, Ta, Ag, Si,
B, Bi, Mo, Ce, Cd, Be, Pb and Ni are preferred, and Mg, Ca, B and Si are more preferred. An inorganic compound containing two kinds of metals may be used. A particularly preferred inorganic compound is silicon dioxide.

【0025】無機微粒子内ミクロボイドは、例えば、粒
子を形成する酸化ケイ素の分子を架橋させることにより
形成することができる。酸化ケイ素の分子を架橋させる
と体積が縮小し、粒子が多孔質になる。ミクロボイドを
有する(多孔質)無機微粒子は、ゾル−ゲル法(特開昭
53−112732号、特公昭57−9051号の各公
報記載)または析出法(APPLIED OPTICS、27、3356頁
(1988)記載)により、分散物として直接合成すること
ができる。また、乾燥・沈澱法で得られた粉体を、機械
的に粉砕して分散物を得ることもできる。市販の多孔質
無機微粒子(例えば、二酸化ケイ素ゾル)を用いてもよ
い。ミクロボイドを有する無機微粒子は、低屈折率層の
形成のため、適当な媒体に分散した状態で使用すること
が好ましい。分散媒としては、水、アルコール(例、メ
タノール、エタノール、イソプロピルアルコール)およ
びケトン(例、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン)が好ましい。
The microvoids in the inorganic fine particles can be formed, for example, by crosslinking silicon oxide molecules forming the particles. Crosslinking the silicon oxide molecules reduces the volume and makes the particles porous. The (porous) inorganic fine particles having microvoids are described by a sol-gel method (described in JP-A-53-112732 and JP-B-57-9051) or a precipitation method (APPLIED OPTICS, 27, p. 3356 (1988)). ) Can be directly synthesized as a dispersion. Further, the powder obtained by the drying / precipitation method can be mechanically pulverized to obtain a dispersion. Commercially available porous inorganic fine particles (for example, silicon dioxide sol) may be used. The inorganic fine particles having microvoids are preferably used in a state of being dispersed in an appropriate medium for forming a low refractive index layer. As the dispersion medium, water, alcohol (eg, methanol, ethanol, isopropyl alcohol) and ketone (eg, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone) are preferable.

【0026】有機微粒子も、非晶質であることが好まし
い。有機微粒子は、モノマーの重合反応(例えば乳化重
合法)により合成されるポリマー微粒子であることが好
ましい。有機微粒子のポリマーはフッ素原子を含むこと
が好ましい。ポリマー中のフッ素原子の割合は、35乃
至80質量%であることが好ましく、45乃至75質量
%であることがさらに好ましい。含フッ素ポリマーを合
成するために用いるフッ素原子を含むモノマーの例に
は、フルオロオレフィン類(例、フルオロエチレン、ビ
ニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキ
サフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチ
ル−1,3−ジオキソール)、アクリル酸またはメタク
リル酸のフッ素化アルキルエステル類およびフッ素化ビ
ニルエーテル類が含まれる。フッ素原子を含むモノマー
とフッ素原子を含まないモノマーとのコポリマーを用い
てもよい。フッ素原子を含まないモノマーの例には、オ
レフィン類(例、エチレン、プロピレン、イソプレン、
塩化ビニル、塩化ビニリデン)、アクリル酸エステル類
(例、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸2−エチルヘキシル)、メタクリル酸エステル類
(例、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸ブチル)、スチレン類(例、スチレン、ビニル
トルエン、α−メチルスチレン)、ビニルエーテル類
(例、メチルビニルエーテル)、ビニルエステル類
(例、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル)、アクリルア
ミド類(例、N−tert−ブチルアクリルアミド、N−シ
クロヘキシルアクリルアミド)、メタクリルアミド類お
よびアクリルニトリル類が含まれる。
The organic fine particles are also preferably amorphous. The organic fine particles are preferably polymer fine particles synthesized by a polymerization reaction of a monomer (for example, an emulsion polymerization method). The polymer of the organic fine particles preferably contains a fluorine atom. The proportion of fluorine atoms in the polymer is preferably from 35 to 80% by mass, more preferably from 45 to 75% by mass. Examples of the fluorine atom-containing monomer used for synthesizing the fluorine-containing polymer include fluoroolefins (eg, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1). , 3-dioxole), fluorinated alkyl esters of acrylic or methacrylic acid and fluorinated vinyl ethers. A copolymer of a monomer containing a fluorine atom and a monomer not containing a fluorine atom may be used. Examples of monomers containing no fluorine atom include olefins (eg, ethylene, propylene, isoprene,
Vinyl chloride, vinylidene chloride), acrylates (eg, methyl acrylate, ethyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate), methacrylates (eg, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate), styrene (Eg, styrene, vinyltoluene, α-methylstyrene), vinyl ethers (eg, methyl vinyl ether), vinyl esters (eg, vinyl acetate, vinyl propionate), acrylamides (eg, N-tert-butylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide), methacrylamides and acrylonitriles.

【0027】有機微粒子内ミクロボイドは、例えば、粒
子を形成するポリマーを架橋させることにより形成する
ことができる。ポリマーを架橋させると体積が縮小し、
粒子が多孔質になる。粒子を形成するポリマーを架橋さ
せるためには、ポリマーを合成するためのモノマーの2
0モル%以上を多官能モノマーとすることが好ましい。
多官能モノマーの割合は、30乃至80モル%であるこ
とがさらに好ましく、35乃至50モル%であることが
最も好ましい。多官能モノマーの例には、ジエン類
(例、ブタジエン、ペンタジエン)、多価アルコールと
アクリル酸とのエステル(例、エチレングリコールジア
クリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリ
レート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト)、多価アルコールとメタクリル酸とのエステル
(例、エチレングリコールジメタクリレート、1,2,
4−シクロヘキサントリオールトリメタクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラメタクリレート)、ジビニル
化合物(例、ジビニルシクロヘキサン、1,4−ジビニ
ルベンゼン)、ジビニルスルホン、ビスアクリルアミド
類(例、メチレンビスアクリルアミド)およびビスメタ
クリルアミド類が含まれる。
The microvoids in the organic fine particles can be formed, for example, by crosslinking a polymer forming the particles. Crosslinking the polymer reduces its volume,
The particles become porous. In order to crosslink the polymer forming the particles, two of the monomers for synthesizing the polymer are used.
It is preferable that 0 mol% or more be a polyfunctional monomer.
The ratio of the polyfunctional monomer is more preferably from 30 to 80 mol%, and most preferably from 35 to 50 mol%. Examples of polyfunctional monomers include dienes (eg, butadiene, pentadiene), esters of polyhydric alcohol and acrylic acid (eg, ethylene glycol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate). Esters of polyhydric alcohol and methacrylic acid (eg, ethylene glycol dimethacrylate,
4-cyclohexanetriol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate), divinyl compounds (eg, divinylcyclohexane, 1,4-divinylbenzene), divinylsulfone, bisacrylamides (eg, methylenebisacrylamide) and bismethacrylamides. .

【0028】粒子間のミクロボイドは、微粒子を少なく
とも2個以上積み重ねることにより形成することができ
る。なお、粒径が等しい(完全な単分散の)球状微粒子
を最密充填すると、26体積%の空隙率の微粒子間ミク
ロボイドが形成される。粒径が等しい球状微粒子を単純
立方充填すると、48体積%の空隙率の微粒子間ミクロ
ボイドが形成される。実際の低屈折率層では、微粒子の
粒径の分布や粒子内ミクロボイドが存在するため、空隙
率は上記の理論値からかなり変動する。空隙率を増加さ
せると、低屈折率層の屈折率が低下する。微粒子を積み
重ねてミクロボイドの形成と、微粒子の粒径を調整する
ことで、粒子間ミクロボイドの大きさも適度の(光を散
乱せず、低屈折率層の強度に問題が生じない)値に容易
に調節できる。さらに、微粒子の粒径を均一にすること
で、粒子間ミクロボイドの大きさも均一である光学的に
均一な低屈折率層を得ることができる。これにより、低
屈折率層は微視的にはミクロボイド含有多孔質膜である
が、光学的あるいは巨視的には均一な膜にすることがで
きる。
The microvoids between the particles can be formed by stacking at least two or more fine particles. When spherical particles having the same particle size (perfectly monodispersed) are closest packed, microvoids between particles having a porosity of 26% by volume are formed. When the spherical fine particles having the same particle size are simply cubically filled, microvoids between the fine particles having a porosity of 48% by volume are formed. In an actual low refractive index layer, the porosity considerably fluctuates from the above theoretical value due to the particle size distribution of the fine particles and the presence of microvoids in the particles. Increasing the porosity lowers the refractive index of the low refractive index layer. By forming microvoids by stacking the fine particles and adjusting the particle size of the fine particles, the size of the microvoids between the particles can be easily adjusted to an appropriate value (does not scatter light and does not cause a problem in the strength of the low refractive index layer). Can be adjusted. Furthermore, by making the particle diameter of the fine particles uniform, an optically uniform low refractive index layer in which the size of the microvoids between particles is also uniform can be obtained. Thus, the low refractive index layer can be a microvoid-containing porous film microscopically, but can be an optically or macroscopically uniform film.

【0029】ミクロボイドを形成することにより、低屈
折率層の巨視的屈折率は、低屈折率層を構成する成分の
屈折率の和よりも低い値になる。層の屈折率は、層の構
成要素の体積当りの屈折率の和になる。微粒子やポリマ
ーのような低屈折率層の構成成分の屈折率は1よりも大
きな値であるのに対して、空気の屈折率は1.00であ
る。そのため、ミクロボイドを形成することによって、
屈折率が非常に低い低屈折率層を得ることができる。粒
子間ミクロボイドは、微粒子およびポリマーによって低
屈折率層内で閉じていることが好ましい。閉じている空
隙には、低屈折率層表面に開かれた開口と比較して、低
屈折率層表面での光の散乱が少ないとの利点がある。
By forming microvoids, the macroscopic refractive index of the low refractive index layer becomes a value lower than the sum of the refractive indexes of the components constituting the low refractive index layer. The refractive index of a layer is the sum of the refractive indices per volume of the components of the layer. The refractive index of the components of the low refractive index layer such as fine particles and polymer is a value larger than 1, while the refractive index of air is 1.00. Therefore, by forming microvoids,
A low refractive index layer having a very low refractive index can be obtained. The intergranular microvoids are preferably closed in the low refractive index layer by the fine particles and the polymer. The closed gap has an advantage that light is less scattered on the surface of the low-refractive-index layer as compared with an opening opened on the surface of the low-refractive-index layer.

【0030】低屈折率層は、5乃至50質量%の量のポ
リマーを含むことが好ましい。ポリマーは、微粒子を接
着し、空隙を含む低屈折率層の構造を維持する機能を有
する。ポリマーの使用量は、空隙を充填することなく低
屈折率層の強度を維持できるように調整する。ポリマー
の量は、低屈折率層の全量の10乃至30質量%である
ことが好ましい。ポリマーで微粒子を接着するために
は、(1)微粒子の表面処理剤にポリマーを結合させる
か、(2)微粒子をコアとして、その周囲にポリマーシ
ェルを形成するか、あるいは(3)微粒子間のバインダ
ーとして、ポリマーを使用することが好ましい。(1)
の表面処理剤に結合させるポリマーは、(2)のシェル
ポリマーまたは(3)のバインダーポリマーであること
が好ましい。(2)のポリマーは、低屈折率層の塗布液
の調製前に、微粒子の周囲に重合反応により形成するこ
とが好ましい。(3)のポリマーは、低屈折率層の塗布
液にモノマーを添加し、低屈折率層の塗布と同時または
塗布後に、重合反応により形成することが好ましい。
(1)〜(3)を二種類または三種類組み合わせて、実
施することが好ましく、(1)と(3)の二種類の組み
合わせ、または(1)〜(3)の三種類の組み合わせで
実施することが特に好ましい。上記の(1)表面処理、
(2)シェルおよび(3)バインダーについて、順次説
明する。
The low refractive index layer preferably contains the polymer in an amount of from 5 to 50% by weight. The polymer has a function of adhering the fine particles and maintaining the structure of the low refractive index layer including voids. The amount of the polymer used is adjusted so that the strength of the low refractive index layer can be maintained without filling the void. The amount of the polymer is preferably 10 to 30% by mass of the total amount of the low refractive index layer. In order to adhere the fine particles with the polymer, (1) bonding the polymer to the surface treatment agent of the fine particles, (2) forming a polymer shell around the fine particles as a core, or (3) forming a polymer shell around the fine particles. It is preferable to use a polymer as the binder. (1)
The polymer to be bonded to the surface treatment agent is preferably the shell polymer of (2) or the binder polymer of (3). It is preferable that the polymer (2) is formed around the fine particles by a polymerization reaction before preparing the coating solution for the low refractive index layer. The polymer of (3) is preferably formed by adding a monomer to the coating solution for the low refractive index layer and performing a polymerization reaction simultaneously with or after the coating of the low refractive index layer.
(1) to (3) are preferably carried out in combination of two or three kinds, and carried out in two combinations of (1) and (3) or in a combination of three kinds of (1) to (3). It is particularly preferred to do so. The above (1) surface treatment,
(2) Shell and (3) Binder will be described sequentially.

【0031】(1)表面処理 低屈折率層に用いる微粒子(特に無機微粒子)には、表
面処理を実施して、ポリマーとの親和性を改善すること
が好ましい。表面処理は、プラズマ放電処理やコロナ放
電処理のような物理的表面処理と、カップリング剤を使
用する化学的表面処理に分類できる。化学的表面処理の
み、または物理的表面処理と化学的表面処理の組み合わ
せで実施することが好ましい。カップリング剤として
は、アルコキシメタル化合物(例、チタンカップリング
剤、シランカップリング剤)が好ましく用いられる。微
粒子が二酸化ケイ素からなる場合は、シランカップリン
グ剤による表面処理が特に有効に実施できる。シランカ
ップリング剤の例には、オルトケイ酸のアルキルエステ
ル(例、オルトケイ酸メチル、オルトケイ酸エチル、オ
ルトケイ酸n−プロピル、オルトケイ酸i−プロピル、
オルトケイ酸n−ブチル、オルトケイ酸sec-ブチル、オ
ルトケイ酸t−ブチル)およびその加水分解物が含まれ
る。カップリング剤による表面処理は、微粒子の分散物
に、カップリング剤を加え、室温から60℃までの温度
で、数時間から10日間分散物を放置することにより実
施できる。表面処理反応を促進するため、無機酸(例、
硫酸、塩酸、硝酸、クロム酸、次亜塩素酸、ホウ酸、オ
ルトケイ酸、リン酸、炭酸)、有機酸(例、酢酸、ポリ
アクリル酸、ベンゼンスルホン酸、フェノール、ポリグ
ルタミン酸)、またはこれらの塩(例、金属塩、アンモ
ニウム塩)を、分散物に添加してもよい。
(1) Surface Treatment The fine particles (particularly, inorganic fine particles) used in the low refractive index layer are preferably subjected to a surface treatment to improve the affinity with the polymer. The surface treatment can be classified into a physical surface treatment such as a plasma discharge treatment or a corona discharge treatment, and a chemical surface treatment using a coupling agent. It is preferable to carry out only a chemical surface treatment or a combination of a physical surface treatment and a chemical surface treatment. As the coupling agent, an alkoxy metal compound (eg, a titanium coupling agent, a silane coupling agent) is preferably used. When the fine particles are made of silicon dioxide, surface treatment with a silane coupling agent can be particularly effectively performed. Examples of the silane coupling agent include alkyl esters of orthosilicic acid (eg, methyl orthosilicate, ethyl orthosilicate, n-propyl orthosilicate, i-propyl orthosilicate,
N-butyl orthosilicate, sec-butyl orthosilicate, t-butyl orthosilicate) and hydrolysates thereof. The surface treatment with the coupling agent can be carried out by adding the coupling agent to the dispersion of fine particles and leaving the dispersion at a temperature from room temperature to 60 ° C. for several hours to 10 days. To accelerate the surface treatment reaction, an inorganic acid (eg,
Sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, chromic acid, hypochlorous acid, boric acid, orthosilicic acid, phosphoric acid, carbonic acid), organic acid (eg, acetic acid, polyacrylic acid, benzenesulfonic acid, phenol, polyglutamic acid), or these Salts (eg, metal salts, ammonium salts) may be added to the dispersion.

【0032】(2)シェル シェルを形成するポリマーは、飽和炭化水素を主鎖とし
て有するポリマーであることが好ましい。フッ素原子を
主鎖または側鎖に含むポリマーが好ましく、フッ素原子
を側鎖に含むポリマーがさらに好ましい。ポリアクリル
酸エステルまたはポリメタクリル酸エステルが好まし
く、フッ素置換アルコールとポリアクリル酸またはポリ
メタクリル酸とのエステルが最も好ましい。シェルポリ
マーの屈折率は、ポリマー中のフッ素原子の含有量の増
加に伴い低下する。低屈折率層の屈折率を低下させるた
め、シェルポリマーは35乃至80質量%のフッ素原子
を含むことが好ましく、45乃至75質量%のフッ素原
子を含むことがさらに好ましい。フッ素原子を含むポリ
マーは、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの
重合反応により合成することが好ましい。フッ素原子を
含むエチレン性不飽和モノマーの例には、フルオロオレ
フィン(例、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライ
ド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレ
ン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキ
ソール)、フッ素化ビニルエーテルおよびフッ素置換ア
ルコールとアクリル酸またはメタクリル酸とのエステル
が含まれる。
(2) Shell The polymer forming the shell is preferably a polymer having a saturated hydrocarbon as a main chain. A polymer containing a fluorine atom in a main chain or a side chain is preferable, and a polymer containing a fluorine atom in a side chain is more preferable. Polyacrylates or polymethacrylates are preferred, and esters of fluorine-substituted alcohols with polyacrylic or polymethacrylic acid are most preferred. The refractive index of the shell polymer decreases as the content of fluorine atoms in the polymer increases. In order to reduce the refractive index of the low refractive index layer, the shell polymer preferably contains 35 to 80% by mass of fluorine atoms, and more preferably 45 to 75% by mass. The polymer containing a fluorine atom is preferably synthesized by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer containing a fluorine atom. Examples of the ethylenically unsaturated monomer containing a fluorine atom include fluoroolefins (eg, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole), Includes esters of fluorinated vinyl ethers and fluorinated alcohols with acrylic acid or methacrylic acid.

【0033】シェルを形成するポリマーは、フッ素原子
を含む繰り返し単位とフッ素原子を含まない繰り返し単
位からなるコポリマーであってもよい。フッ素原子を含
まない繰り返し単位は、フッ素原子を含まないエチレン
性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好まし
い。フッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの
例には、オレフィン(例、エチレン、プロピレン、イソ
プレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン)、アクリル酸エ
ステル(例、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ア
クリル酸2−エチルヘキシル)、メタクリル酸エステル
(例、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレー
ト)、スチレンおよびその誘導体(例、スチレン、ジビ
ニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレ
ン)、ビニルエーテル(例、メチルビニルエーテル)、
ビニルエステル(例、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニ
ル、桂皮酸ビニル)、アクリルアミド(例、N−tertブ
チルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミ
ド)、メタクリルアミドおよびアクリロニトリルが含ま
れる。
The polymer forming the shell may be a copolymer comprising a repeating unit containing a fluorine atom and a repeating unit containing no fluorine atom. The repeating unit containing no fluorine atom is preferably obtained by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer containing no fluorine atom. Examples of the ethylenically unsaturated monomer containing no fluorine atom include olefins (eg, ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride), acrylates (eg, methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic acid 2- Ethylhexyl), methacrylates (eg, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate), styrene and its derivatives (eg, styrene, divinylbenzene, vinyltoluene, α-methylstyrene), vinyl ether ( For example, methyl vinyl ether),
Includes vinyl esters (eg, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate), acrylamide (eg, N-tertbutylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide), methacrylamide and acrylonitrile.

【0034】後述する(3)のバインダーポリマーを併
用する場合は、シェルポリマーに架橋性官能基を導入し
て、シェルポリマーとバインダーポリマーとを架橋によ
り化学的に結合させてもよい。シェルポリマーは、結晶
性を有していてもよい。シェルポリマーのガラス転移温
度(Tg)が低屈折率層の形成時の温度よりも高いと、
低屈折率層内のミクロボイドの維持が容易である。ただ
し、Tgが低屈折率層の形成時の温度よりも高いと、微
粒子が融着せず、低屈折率層が連続層として形成されな
い(その結果、強度が低下する)場合がある。その場合
は、後述する(3)のバインダーポリマーを併用し、バ
インダーポリマーにより低屈折率層を連続層として形成
することが望ましい。微粒子の周囲にポリマーシェルを
形成して、コアシェル微粒子が得られる。コアシェル微
粒子中に無機微粒子からなるコアが5乃至90体積%含
まれていることが好ましく、15乃至80体積%含まれ
ていることがさらに好ましい。ポリマーシェルは、ラジ
カル重合法により形成することが好ましい。ラジカル重
合法については、大津隆行・木下雅悦共著、高分子合成
の実験法、化学同人(1972)および大津隆行、講座重合反
応論1ラジカル重合(I)、化学同人(1971)に記載があ
る。ラジカル重合法は、具体的には、乳化重合法または
分散重合により実施することが好ましい。乳化重合につ
いては、室井宗一、高分子ラテックスの化学、高分子刊
行会(1970)に記載がある。分散重合法については、Barr
ett, Keih E.J.、Dispersion Polymerization in Organ
ic Media、JOHN WILLEY & SONS(1975)に記載がある。
When a binder polymer (3) described later is used in combination, a crosslinkable functional group may be introduced into the shell polymer, and the shell polymer and the binder polymer may be chemically bonded by crosslinking. The shell polymer may have crystallinity. When the glass transition temperature (Tg) of the shell polymer is higher than the temperature at the time of forming the low refractive index layer,
It is easy to maintain microvoids in the low refractive index layer. However, if the Tg is higher than the temperature at the time of forming the low refractive index layer, the fine particles may not be fused and the low refractive index layer may not be formed as a continuous layer (as a result, the strength may be reduced). In this case, it is desirable to use the binder polymer of (3) described later in combination and to form the low refractive index layer as a continuous layer with the binder polymer. By forming a polymer shell around the fine particles, core-shell fine particles are obtained. The core-shell fine particles preferably contain a core composed of inorganic fine particles in an amount of 5 to 90% by volume, and more preferably 15 to 80% by volume. The polymer shell is preferably formed by a radical polymerization method. The radical polymerization method is described in Takatsu Otsu and Masayoshi Kinoshita, Experimental Methods for Polymer Synthesis, Doujin Kagaku (1972) and Takayuki Otsu, Lecture Polymerization Reaction Theory 1 Radical Polymerization (I), Kagaku Dojin (1971) . Specifically, the radical polymerization method is preferably performed by an emulsion polymerization method or a dispersion polymerization method. Emulsion polymerization is described in Soichi Muroi, Chemistry of Polymer Latex, Polymer Publishing Association (1970). For more information on dispersion polymerization, see Barr.
ett, Keih EJ, Dispersion Polymerization in Organ
ic Media, JOHN WILLEY & SONS (1975).

【0035】熱重合開始剤は、乳化重合法および分散重
合法に用いられる。乳化重合法に使用する熱重合開始剤
の例には、無機過酸化物(例、過硫酸カリウム、過硫酸
アンモニウム)、アゾニトリル化合物(例、アゾビスシ
アノ吉草酸ナトリウム)、アゾアミジン化合物(例、
2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミド)塩
酸塩)、環状アゾアミジン化合物(例、2,2’−アゾ
ビス〔2−(5−メチル−2−イミダゾリン−2−イ
ル)プロパン〕塩酸塩)、アゾアミド化合物(例、2,
2’−アゾビス{2−メチル−N−〔1,1’−ビス
(ヒドロキシメチル)−2−ヒドロキシエチル〕プロピ
オンアミド})が含まれる。無機過酸化物が好ましく、
過硫酸カリウムおよび過硫酸アンモニウムが特に好まし
い。分散重合法に使用する熱重合開始剤の例には、アゾ
化合物(例、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、
2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリ
ル)、ジメチル−2,2’−アゾビス(2−メチルプロ
ピオネート)、ジメチル−2,2’−アゾビスイソブチ
レート)および有機過酸化物(例、ラウリルパーオキシ
ド、ベンゾイルパーオキシド、tert−ブチルパーオクト
エート)が含まれる。
The thermal polymerization initiator is used in an emulsion polymerization method and a dispersion polymerization method. Examples of the thermal polymerization initiator used in the emulsion polymerization method include inorganic peroxides (eg, potassium persulfate, ammonium persulfate), azonitrile compounds (eg, sodium azobiscyanovalerate), azoamidine compounds (eg,
2,2′-azobis (2-methylpropionamide) hydrochloride), cyclic azoamidine compound (eg, 2,2′-azobis [2- (5-methyl-2-imidazolin-2-yl) propane] hydrochloride) , Azoamide compounds (eg, 2,
2′-azobis {2-methyl-N- [1,1′-bis (hydroxymethyl) -2-hydroxyethyl] propionamide}. Inorganic peroxides are preferred,
Potassium and ammonium persulfates are particularly preferred. Examples of the thermal polymerization initiator used in the dispersion polymerization method include azo compounds (eg, 2,2′-azobisisobutyronitrile,
2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), dimethyl-2,2'-azobis (2-methylpropionate), dimethyl-2,2'-azobisisobutyrate and organic peroxide (Eg, lauryl peroxide, benzoyl peroxide, tert-butyl peroctoate).

【0036】分散重合法では、表面処理された微粒子に
ポリマー分散剤を加え、モノマーと重合開始剤を溶解
し、生成するポリマーは不溶である重合媒体中で重合反
応を実施することが好ましい。重合媒体の例には、水、
アルコール(例、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール、2−メトキシ−1−プロパノー
ル、ブタノール、t−ブタノール、ペンタノール、ネオ
ペンタノール、シクロヘキサノール、1−メトキシ−2
−プロパノール)、メチルエチルケトン、アセトニトリ
ル、テトラヒドロフラン、酢酸エチルが含まれる。水、
メタノール、エタノールおよびイソプロパノールが好ま
しい。二種類以上の重合媒体を併用してもよい。乳化重
合法または分散重合法において、連鎖移動剤を使用して
もよい。連鎖移動剤の例には、ハロゲン化炭化水素
(例、四塩化炭素、四臭化炭素、二臭化酢酸エチル、三
臭化酢酸エチル、二臭化エチルベンゼン、二臭化エタ
ン、二塩化エタン)、炭化水素(例、ベンゼン、エチル
ベンゼン、イソプロピルベンゼン)、チオエーテル
(例、ジアゾチオエーテル)、メルカプタン(例、t−
ドデシルメルカプタン、n−ドデシルメルカプタン、ヘ
キサデシルメルカプタン、n−オクタデシルメルカプタ
ン、チオグリセロール)、ジスルフィド(例、ジイソプ
ロピルザントゲンジスルフィド)、チオグリコール酸お
よびその誘導体(例、チオグリコール酸、チオグリコー
ル酸2−エチルヘキシル、チオグリコール酸ブチル、チ
オグリコール酸メトキシブチル、トリメチロールプロパ
ントリス(チオグリコレート))が含まれる。二種類以
上のコアシェル微粒子を併用してもよい。また、シェル
のない無機微粒子とコアシェル粒子とを併用してもよ
い。
In the dispersion polymerization method, it is preferable to add a polymer dispersant to the surface-treated fine particles, dissolve the monomer and the polymerization initiator, and carry out the polymerization reaction in a polymerization medium in which the produced polymer is insoluble. Examples of polymerization media include water,
Alcohol (eg, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, 2-methoxy-1-propanol, butanol, t-butanol, pentanol, neopentanol, cyclohexanol, 1-methoxy-2
-Propanol), methyl ethyl ketone, acetonitrile, tetrahydrofuran, ethyl acetate. water,
Methanol, ethanol and isopropanol are preferred. Two or more polymerization media may be used in combination. In the emulsion polymerization method or the dispersion polymerization method, a chain transfer agent may be used. Examples of the chain transfer agent include halogenated hydrocarbons (eg, carbon tetrachloride, carbon tetrabromide, ethyl dibromide acetate, ethyl tribromide acetate, ethyl dibromide benzene, ethane dibromide, ethane dichloride) , Hydrocarbons (eg, benzene, ethylbenzene, isopropylbenzene), thioethers (eg, diazothioether), mercaptans (eg, t-
Dodecyl mercaptan, n-dodecyl mercaptan, hexadecyl mercaptan, n-octadecyl mercaptan, thioglycerol), disulfide (eg, diisopropylzantogen disulfide), thioglycolic acid and derivatives thereof (eg, thioglycolic acid, 2-ethylhexyl thioglycolate) Butyl thioglycolate, methoxy butyl thioglycolate, trimethylolpropane tris (thioglycolate)). Two or more types of core-shell fine particles may be used in combination. Also, inorganic fine particles having no shell and core-shell particles may be used in combination.

【0037】(3)バインダー バインダーポリマーは、飽和炭化水素またはポリエーテ
ルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、
飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることが
さらに好ましい。バインダーポリマーは架橋しているこ
とが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマ
ーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得る
ことが好ましい。架橋しているバインダーポリマーを得
るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーを用いることが好ましい。二以上のエチレン性不飽
和基を有するモノマーの例には、多価アルコールと(メ
タ)アクリル酸とのエステル(例、エチレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、1,4−ジクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メ
タ)アクリレート)、ペンタエリスリトールトリ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)
アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)
アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)
アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)ア
クリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラメタク
リレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステ
ルポリアクリレート)、ビニルベンゼンおよびその誘導
体(例、1,4−ジビニルベンゼン、4−ビニル安息香
酸−2−アクリロイルエチルエステル、1,4−ジビニ
ルシクロヘキサノン)、ビニルスルホン(例、ジビニル
スルホン)、アクリルアミド(例、メチレンビスアクリ
ルアミド)およびメタクリルアミドが含まれる。ポリエ
ーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキ
化合物の開環重合反応により合成することが好ましい。
(3) Binder The binder polymer is preferably a polymer having a saturated hydrocarbon or polyether as a main chain.
More preferably, the polymer has a saturated hydrocarbon as a main chain. The binder polymer is preferably crosslinked. The polymer having a saturated hydrocarbon as a main chain is preferably obtained by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer. In order to obtain a crosslinked binder polymer, it is preferable to use a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups. Examples of the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups include esters of a polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid (eg, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-dichlorohexanediol diacrylate, pentane). Erythritol tetra (meth) acrylate), pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylol ethane tri (meth)
Acrylate, dipentaerythritol tetra (meth)
Acrylate, dipentaerythritol penta (meth)
Acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate), vinylbenzene and its derivatives (eg, 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid) 2-acryloyl ethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone), vinyl sulfone (eg, divinyl sulfone), acrylamide (eg, methylenebisacrylamide) and methacrylamide. The polymer having a polyether as a main chain is preferably synthesized by a ring-opening polymerization reaction of a polyfunctional epoxy compound.

【0038】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応によ
り、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ
基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カ
ルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロー
ル基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン
酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、
エーテル化メチロール、エステルおよびウレタンも、架
橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブ
ロックイソシアナート基のように、分解反応の結果とし
て架橋性を示す官能基を用いてもよい。また、本発明に
おいて架橋基とは、上記官能基に限らず分解反応の結果
として上記官能基を与えるものであってもよい。バイン
ダーポリマーの重合反応および架橋反応に使用する重合
開始剤は、(2)シェルポリマーの合成に用いる熱重合
開始剤よりも、光重合開始剤の方が好ましい。光重合開
始剤の例には、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベン
ゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、ア
ントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸
化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフ
ィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホ
ニウム類がある。アセトフェノン類の例には、2,2−
ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノ
ン、1−ヒドロキシエチルフェニルケトン、1−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−4−
メチルチオ−2−モルフォリノプロピオフェノンおよび
2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフ
ォリノフェニル)−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類
の例には、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチ
ルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含
まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、
2,4−ジクロロベンゾフェノン、4,4−ジクロロベ
ンゾフェノンおよびp−クロロベンゾフェノンが含まれ
る。ホスフィンオキシド類の例には、2,4,6−トリ
メチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含
まれる。
Instead of or in addition to the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups, a crosslinked structure may be introduced into the binder polymer by a reaction of a crosslinkable group.
Examples of the crosslinkable functional group include an isocyanate group, an epoxy group, an aziridine group, an oxazoline group, an aldehyde group, a carbonyl group, a hydrazine group, a carboxyl group, a methylol group, and an active methylene group. Vinyl sulfonic acid, acid anhydride, cyanoacrylate derivative, melamine,
Etherified methylols, esters and urethanes can also be used as monomers to introduce the crosslinked structure. A functional group that exhibits crosslinkability as a result of a decomposition reaction, such as a block isocyanate group, may be used. Further, in the present invention, the cross-linking group is not limited to the above-mentioned functional group, and may be a group which gives the above-mentioned functional group as a result of a decomposition reaction. As the polymerization initiator used for the polymerization reaction and the crosslinking reaction of the binder polymer, a photopolymerization initiator is more preferable than the thermal polymerization initiator used for the synthesis of (2) the shell polymer. Examples of photopolymerization initiators include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds , Fluoroamine compounds and aromatic sulfoniums. Examples of acetophenones include 2,2-
Diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxyethylphenylketone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-methyl-4-
Methylthio-2-morpholinopropiophenone and 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone are included. Examples of benzoins include benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether. Examples of benzophenones include benzophenone,
Includes 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-chlorobenzophenone. Examples of the phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.

【0039】前記(2)のシェルポリマーと併用する場
合、バインダーポリマーのガラス転移温度(Tg)は、
シェルポリマーのTgよりも低いことが好ましい。バイ
ンダーポリマーのTgとシェルポリマーのTgとの温度
差は、5℃以上であることが好ましく、20℃以上であ
ることがさらに好ましい。バインダーポリマーは、低屈
折率層の塗布液にモノマーを添加し、低屈折率層の塗布
と同時または塗布後に重合反応(必要ならばさらに架橋
反応)により形成することが好ましい。低屈折率層の塗
布液に、少量のポリマー(例、ポリビニルアルコール、
ポリオキシエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリ
メチルアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセ
チルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、ア
ルキド樹脂)を添加してもよい。
When used in combination with the shell polymer (2), the glass transition temperature (Tg) of the binder polymer is as follows:
It is preferably lower than the Tg of the shell polymer. The temperature difference between the Tg of the binder polymer and the Tg of the shell polymer is preferably 5 ° C. or higher, more preferably 20 ° C. or higher. The binder polymer is preferably formed by adding a monomer to the coating solution for the low-refractive-index layer, and simultaneously or after the application of the low-refractive-index layer, by a polymerization reaction (and, if necessary, a crosslinking reaction). A small amount of polymer (eg, polyvinyl alcohol,
Polyoxyethylene, polymethyl methacrylate, polymethyl acrylate, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, nitrocellulose, polyester, alkyd resin) may be added.

【0040】[反射防止膜]反射防止膜には、以上述べ
た以外の層を設けてもよい。例えば、透明支持体の上に
は、ハードコート層に加えて、接着層、シールド層、滑
り層や帯電防止層を設けてもよい。シールド層は、電磁
波や赤外線を遮蔽するために設けられる。反射防止膜
は、外光を散乱させるアンチグレア機能を有していても
よい。アンチグレア機能は、反射防止膜の表面に凹凸を
形成することにより得られる。低屈折率層の上にオーバ
ーコート層を設けてもよい。オーバーコート層は、含フ
ッ素化合物を含むことが好ましい。反射防止膜のヘイズ
は、3乃至30%であることが好ましく、5乃至20%
であることがさらに好ましく、7乃至20%であること
が最も好ましい。反射防止膜は、液晶表示装置(LC
D)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレク
トロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管表
示装置(CRT)のような画像表示装置に適用する。反
射防止膜の透明支持体側を画像表示装置の画像表示面に
接着する。
[Anti-Reflection Film] The anti-reflection film may be provided with a layer other than those described above. For example, an adhesive layer, a shield layer, a slip layer, and an antistatic layer may be provided on the transparent support in addition to the hard coat layer. The shield layer is provided to shield electromagnetic waves and infrared rays. The anti-reflection film may have an anti-glare function for scattering external light. The anti-glare function is obtained by forming irregularities on the surface of the antireflection film. An overcoat layer may be provided on the low refractive index layer. The overcoat layer preferably contains a fluorine-containing compound. The haze of the antireflection film is preferably 3 to 30%, and 5 to 20%.
Is more preferable, and most preferably 7 to 20%. The anti-reflection film is a liquid crystal display (LC
D), an image display device such as a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), and a cathode ray tube display (CRT). The transparent support side of the antireflection film is adhered to the image display surface of the image display device.

【0041】[0041]

【実施例】[実施例1] (無機粒子分散液(M−1)の調製)セラミックコート
のベッセルに各試薬を以下の量計量した。 シクロヘキサノン 337g PM−2(日本化薬(株)製リン酸基含有メタアクリレート) 31g AKP−G015(住友化学工業製アルミナ) 92g 上記混合液をサンドミル(1/4Gのサンドミル)にて
1600rpm、10時間微細分散した。メディアは1
mmΦのジルコニアビーズを1400g用いた。得られ
た表面処理した酸化アルミニウムの粒径は93nmだっ
た。
EXAMPLES Example 1 (Preparation of Inorganic Particle Dispersion (M-1)) The following amounts of each reagent were measured in a ceramic-coated vessel. Cyclohexanone 337 g PM-2 (phosphate group-containing methacrylate manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 31 g AKP-G015 (Alumina manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 92 g The above mixture was subjected to 1600 rpm for 10 hours by a sand mill (1/4 G sand mill). Finely dispersed. Media is 1
1400 g of zirconia beads having a diameter of mmΦ was used. The particle size of the obtained surface-treated aluminum oxide was 93 nm.

【0042】(ハードコート層用塗布液の調製)上記の
表面処理したアルミナ微粒子の10質量%メタノール分
散液116gに、メタノール97g、イソプロパノール
163gおよび酢酸ブチル163gを加えた。混合液
に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(商品
名:DPHA、日本化薬(株)製)200gを加えて溶
解した。得られた溶液に、光重合開始剤(商品名:イル
ガキュア907、チバガイギー社製)7.5gおよび光
増感剤(商品名:カヤキュアーDETX、日本化薬
(株)製)5.0gを加えて溶解した。混合物を30分
間攪拌した後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルタ
ーで濾過してハードコート層用塗布液を調製した。
(Preparation of Coating Solution for Hard Coat Layer) 97 g of methanol, 163 g of isopropanol and 163 g of butyl acetate were added to 116 g of a 10% by mass methanol dispersion of the above-treated surface-treated alumina fine particles. To the mixture, 200 g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (trade name: DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was added and dissolved. To the obtained solution, 7.5 g of a photopolymerization initiator (trade name: Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and 5.0 g of a photosensitizer (trade name: Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) were added. Dissolved. After stirring the mixture for 30 minutes, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a coating solution for a hard coat layer.

【0043】(二酸化チタン分散物の調製)二酸化チタ
ン(一次粒子質量平均粒径:50nm、屈折率:2.7
0)30質量部、アニオン性ジアクリレートモノマー
(商品名:PM21、日本化薬(株)製)4.5質量
部、カチオン性メタクリレートモノマー(商品名:DM
AEA、興人(株)製)0.3質量部およびメチルエチ
ルケトン65.2質量部を、サンドグラインダーにより
分散し、二酸化チタン分散物を調製した。
(Preparation of Titanium Dioxide Dispersion) Titanium dioxide (primary particle mass average particle diameter: 50 nm, refractive index: 2.7)
0) 30 parts by mass, 4.5 parts by mass of anionic diacrylate monomer (trade name: PM21, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), cationic methacrylate monomer (trade name: DM)
0.3 parts by mass of AEA (produced by Kojin Co., Ltd.) and 65.2 parts by mass of methyl ethyl ketone were dispersed by a sand grinder to prepare a titanium dioxide dispersion.

【0044】(中屈折率層用塗布液の調製)シクロヘキ
サノン151.9gおよびメチルエチルケトン37.0
gに、光重合開始剤(イルガキュア907、チバガイギ
ー社製)0.14gおよび光増感剤(カヤキュアーDE
TX、日本化薬(株)製)0.04gを溶解した。さら
に、上記の二酸化チタン分散物6.1gおよびジペンタ
エリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化
薬(株)製)2.4gを加え、室温で30分間攪拌した
後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルターで濾過し
て、中屈折率層用塗布液を調製した。
(Preparation of coating liquid for medium refractive index layer) 151.9 g of cyclohexanone and 37.0 g of methyl ethyl ketone
g, 0.14 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and a photosensitizer (Kayacure DE)
TX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.). Further, 6.1 g of the above titanium dioxide dispersion and 2.4 g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) were added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. The solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a coating solution for a medium refractive index layer.

【0045】(高屈折率層用塗布液の調製)シクロヘキ
サノン152.8gおよびメチルエチルケトン37.2
gに、光重合開始剤(イルガキュア907、チバガイギ
ー社製)0.06gおよび光増感剤(カヤキュアーDE
TX、日本化薬(株)製)0.02gを溶解した。さら
に、上記の二酸化チタン分散物13.13gおよびジペ
ンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日
本化薬(株)製)0.76gを加え、室温で30分間攪
拌した後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルターで
濾過して、高屈折率層用塗布液を調製した。
(Preparation of coating solution for high refractive index layer) 152.8 g of cyclohexanone and 37.2 of methyl ethyl ketone
g, 0.06 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and a photosensitizer (Kayacure DE)
TX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.). Further, 13.13 g of the above titanium dioxide dispersion and 0.76 g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) were added, followed by stirring at room temperature for 30 minutes. The solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a coating solution for a high refractive index layer.

【0046】(低屈折率層用塗布液の調製)平均粒径が
15nmの酸化ケイ素微粒子のメタノール分散液(メタ
ノールシリカゾル、日産化学(株)製)200gに、シ
ランカップリング剤(商品名:KBM−503、信越シ
リコーン(株)製)3gおよび1N塩酸2gを加え、室
温で5時間攪拌した後、3日間放置して、シランカップ
リング処理した酸化ケイ素微粒子分散液を調製した。上
記分散液35.04gに、イソプロピルアルコール5
8.35gおよびジアセトンアルコール39.34gを
加えた。光重合開始剤(イルガキュア907、チバガイ
ギー社製)1.02gおよび光増感剤(カヤキュアーD
ETX、日本化薬(株)製)0.51gをイソプロピル
アルコール772.85gに溶解し、さらにジペンタエ
リスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬
(株)製)25.6gを加えて溶解した。得られた溶液
67.23gを、上記分散液、イソプロピルアルコール
およびジアセトンアルコールの混合液に添加した。混合
物を20分間室温で攪拌した後、孔径1μmのポリプロ
ピレン製フィルターで濾過して、低屈折率層用塗布液を
調製した。
(Preparation of Coating Solution for Low Refractive Index Layer) A silane coupling agent (trade name: KBM) was added to 200 g of a methanol dispersion (methanol silica sol, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) of silicon oxide fine particles having an average particle size of 15 nm. -503, manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) and 2 g of 1N hydrochloric acid were added, and the mixture was stirred at room temperature for 5 hours and then left for 3 days to prepare a silane-coupled silicon oxide fine particle dispersion. To 35.04 g of the above dispersion, isopropyl alcohol 5 was added.
8.35 g and 39.34 g of diacetone alcohol were added. 1.02 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and a photosensitizer (Kayacure D)
25. 0.51 g of ETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) is dissolved in 772.85 g of isopropyl alcohol, and a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 6 g was added and dissolved. 67.23 g of the resulting solution was added to a mixture of the above dispersion, isopropyl alcohol and diacetone alcohol. After the mixture was stirred at room temperature for 20 minutes, the mixture was filtered with a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a coating solution for a low refractive index layer.

【0047】(オーバーコート層用塗布液の調製)熱架
橋性含フッ素ポリマー(商品名:JN−7214、日本
合成ゴム(株)製)にイソプロピルアルコールを加え
て、0.6質量%の粗分散液を調製した。粗分散液を、
超音波で細分散し、オーバーコート層用塗布液を調製し
た。
(Preparation of Coating Solution for Overcoat Layer) To a thermally crosslinkable fluoropolymer (trade name: JN-7214, manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) was added isopropyl alcohol, and a 0.6% by mass coarse dispersion was performed. A liquid was prepared. The crude dispersion is
The mixture was finely dispersed by ultrasonic waves to prepare a coating solution for an overcoat layer.

【0048】(反射防止膜の作成)80μmの厚さのト
リアセチルセルロースフイルム(屈折率:1.48、商
品名:TAC−TD80U、富士写真フイルム(株)
製)上に、ゼラチン下塗り層を設けた。ゼラチン下塗り
層の上に、上記のハードコート層用塗布液を、バーコー
ターを用いて塗布し、120℃で乾燥した後、紫外線を
照射して、塗布層を硬化させ、厚さ9.0μmのハード
コート層を形成した。ハードコート層の上に、上記中屈
折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、120
℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、
中屈折率層(屈折率:1.72、厚さ:0.081μ
m)を形成した。中屈折率層の上に、上記高屈折率層用
塗布液をバーコーターを用いて塗布し、120℃で乾燥
した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、高屈折率
層(屈折率:1.92、厚さ:0.053μm)を形成
した。高屈折率層の上に、上記低屈折率層用塗布液をバ
ーコーターを用いて塗布し、120℃で乾燥した後、紫
外線を照射して塗布層を硬化させ、低屈折率層(屈折
率:1.40、厚さ:0.072μm)を形成した。形
成した低屈折率層の空隙率は、16体積%であった。低
屈折率層の上に、上記オーバーコート層用塗布液を#3
のワイヤーバーを用いて塗布し、120℃で1時間乾燥
して、反射防止膜を作成した。
(Preparation of antireflection film) Triacetylcellulose film having a thickness of 80 μm (refractive index: 1.48, trade name: TAC-TD80U, Fuji Photo Film Co., Ltd.)
) Was provided with a gelatin undercoat layer. The above coating liquid for a hard coat layer was coated on a gelatin undercoat layer using a bar coater, dried at 120 ° C., and then irradiated with ultraviolet rays to cure the coated layer and to have a thickness of 9.0 μm. A hard coat layer was formed. On the hard coat layer, the above-mentioned coating solution for a medium refractive index layer was applied using a bar coater,
After drying at ℃, the coating layer is cured by irradiating ultraviolet rays,
Medium refractive index layer (refractive index: 1.72, thickness: 0.081μ)
m) was formed. The coating liquid for a high refractive index layer is applied on the medium refractive index layer using a bar coater, dried at 120 ° C., and then irradiated with ultraviolet rays to cure the coating layer, and the high refractive index layer (refractive index : 1.92, thickness: 0.053 µm). The coating solution for the low refractive index layer is applied on the high refractive index layer using a bar coater, dried at 120 ° C., and then irradiated with ultraviolet rays to cure the coating layer, and the low refractive index layer (refractive index : 1.40, thickness: 0.072 µm). The porosity of the formed low refractive index layer was 16% by volume. On the low refractive index layer, apply the coating solution for the overcoat layer to # 3.
And dried at 120 ° C. for 1 hour to form an antireflection film.

【0049】(反射防止膜の評価)得られた反射防止膜
について、以下の項目の評価を行った。結果は表1に示
す。
(Evaluation of antireflection film) The following items were evaluated for the obtained antireflection film. The results are shown in Table 1.

【0050】(1)耐傷性 反射防止膜を温度25℃、相対湿度60%の条件で2時
間調湿した後、JIS−S−6006が規定する試験用
鉛筆を用いて、JIS−K−5400が規定する鉛筆硬
度評価方法に従い、1kgの加重にて傷が全く認められ
ない硬度を測定した。
(1) Scratch Resistance After the antireflection film was conditioned for 2 hours at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%, a JIS-K-5400 was used using a test pencil specified by JIS-S-6006. According to the pencil hardness evaluation method specified by, a hardness at which no flaw was observed under a load of 1 kg was measured.

【0051】(2)カール値 反射防止膜を35mm×3mmのサンプルに切り取り、
F式カール値読み取り板にはさみ、温度25℃、相対湿
度60%の条件で30分間調湿した後、カール値を読み
とった。
(2) Curl value The antireflection film was cut into a sample of 35 mm × 3 mm.
After sandwiching between F-type curl value reading plates and controlling the humidity for 30 minutes at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%, the curl value was read.

【0052】[実施例2]セラミックコートのベッセル
に各試薬を以下の量計量した。 シクロヘキサノン 337g アルミニウム含有化合物(a−3) 31g AKP−G015(住友化学工業製アルミナ) 92g 上記混合液をサンドミル(1/4Gのサンドミル)にて
1600rpm、10時間微細分散した。メディアは1
mmΦのジルコニアビーズを1400g用いた。ここに
1N塩酸0.1gを添加し、窒素雰囲気下で60℃に昇
温した、更に4時間攪拌した。得られた表面処理した酸
化アルミニウムの粒径は72nmだった。この酸化アル
ミニウムを用いた以外は実施例1と同様にして反射防止
膜を作成した。
Example 2 The following amounts of each reagent were measured in a ceramic-coated vessel. 337 g of cyclohexanone 31 g of an aluminum-containing compound (a-3) 92 g of AKP-G015 (alumina manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 92 g The above mixture was finely dispersed in a sand mill (1 / 4G sand mill) at 1600 rpm for 10 hours. Media is 1
1400 g of zirconia beads having a diameter of mmΦ was used. 0.1 g of 1N hydrochloric acid was added thereto, the temperature was raised to 60 ° C. in a nitrogen atmosphere, and the mixture was further stirred for 4 hours. The particle size of the obtained surface-treated aluminum oxide was 72 nm. An anti-reflection film was formed in the same manner as in Example 1 except that this aluminum oxide was used.

【0053】[実施例3]セラミックコートのベッセル
に各試薬を以下の量計量した。 シクロヘキサノン 337g チタニウム含有化合物(c−4) 31g TTO−55B(石原産業製酸化チタン微粒子) 92g 上記混合液をサンドミル(1/4Gのサンドミル)にて
1600rpm、6時間微細分散した。メディアは1m
mΦのジルコニアビーズを1400g用いた。ここに1
N塩酸0.1gを添加し、窒素雰囲気下で80℃に昇温
した、更に4時間攪拌した。得られた表面処理した酸化
チタンの粒径は32nmだった。この酸化チタニウムを
用いた以外は実施例1と同様にして反射防止膜を作成し
た。
Example 3 The following amounts of each reagent were measured in a ceramic-coated vessel. Cyclohexanone 337 g Titanium-containing compound (c-4) 31 g TTO-55B (titanium oxide fine particles manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) 92 g The above mixture was finely dispersed in a sand mill (1 / 4G sand mill) at 1600 rpm for 6 hours. Media is 1m
1,400 g of zirconia beads having a diameter of mΦ were used. Here 1
0.1 g of N hydrochloric acid was added, the temperature was raised to 80 ° C. under a nitrogen atmosphere, and the mixture was further stirred for 4 hours. The particle size of the obtained surface-treated titanium oxide was 32 nm. An anti-reflection film was formed in the same manner as in Example 1 except that this titanium oxide was used.

【0054】[比較例1]ジペンタエリスリトールペン
タアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)125
gおよびウレタンアクリレートオリゴマー(UV−63
00B、日本合成化学工業(株)製)125gを、45
0gの工業用変性エタノールに溶解した。得られた溶液
に、光重合開始剤(イルガキュア907、チバガイギー
社製)7.5gおよび光増感剤(カヤキュアーDET
X、日本化薬(株)製)5.0gを47.5gのメチル
エチルケトンに溶解した溶液を加えた。混合物を攪拌し
た後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルターで濾過
してハードコート層の塗布液を調製した。以上のように
調製したハードコート層用塗布液を用いた以外は、実施
例1と同様にして反射防止膜を作成して評価した。
Comparative Example 1 Mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 125
g and urethane acrylate oligomer (UV-63
00B, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.)
It was dissolved in 0 g of industrial denatured ethanol. 7.5 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and a photosensitizer (Kayacure DET) were added to the obtained solution.
X, Nippon Kayaku Co., Ltd.) in a solution of 5.0 g in 47.5 g of methyl ethyl ketone. After stirring the mixture, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a coating solution for the hard coat layer. An anti-reflection film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1, except that the coating solution for a hard coat layer prepared as described above was used.

【0055】[比較例2]酸化アルミニウム微粒子AK
P−G015(表面処理なし)の40質量%メタノール
分散液125gに、メタノール88g、イソプロパノー
ル163gおよび酢酸ブチル163gを加えた。混合液
に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DP
HA、日本化薬(株)製)200gを加えて溶解した。
得られた溶液に、光重合開始剤(イルガキュア907、
チバガイギー社製)7.5gおよび光増感剤(カヤキュ
アーDETX、日本化薬(株)製)5.0gを加えて溶
解した。混合物を30分間攪拌した後、孔径1μmのポ
リプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用
塗布液を調製した。以上のように調製したハードコート
層用塗布液を用いた以外は、実施例1と同様にして反射
防止膜を作成して評価した。
Comparative Example 2 Aluminum Oxide Fine Particles AK
88 g of methanol, 163 g of isopropanol and 163 g of butyl acetate were added to 125 g of a 40% by mass methanol dispersion of P-G015 (no surface treatment). A mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DP
(HA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and dissolved.
A photopolymerization initiator (Irgacure 907,
7.5 g of Ciba-Geigy and 5.0 g of a photosensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) were added and dissolved. After stirring the mixture for 30 minutes, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a coating solution for a hard coat layer. An anti-reflection film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1, except that the coating solution for a hard coat layer prepared as described above was used.

【0056】 表1 反射防止膜の評価結果 反射防止膜 耐傷性 カール値 摘要 ―――――――――――――――――――――――――――――――――――― 実施例1 3H 0.6 実施例2 2H 0.4 実施例3 3H 0.7 比較例1 2H 2.1 比較例2 HB 1.4 塗膜ひび割れ発生Table 1Evaluation results of anti-reflective coating  Antireflection film Scratch resistance Curl value Summary ―――――――――――――――――――――――――――――――――― Example 1 3H 0. 6 Example 2 2H 0.4 Example 3 3H 0.7 Comparative Example 1 2H 2.1 Comparative Example 2 HB 1.4 Coating crack occurrence

【0057】[0057]

【発明の効果】本発明の耐傷性透明支持体は耐傷性、変
形が改良され、これを用いることで反射防止膜を塗布方
により製造でき、耐傷性の向上、変形防止が可能とな
る。このような反射防止膜を用いることで、画像表示装
置の画像表示面における光の反射を有効に防止すること
ができる。
As described above, the scratch-resistant transparent support of the present invention has improved scratch resistance and deformation. By using this, an antireflection film can be produced by a coating method, thereby improving scratch resistance and preventing deformation. By using such an antireflection film, reflection of light on the image display surface of the image display device can be effectively prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】反射防止膜の主な層構成を示す断面模式図であ
る。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing a main layer configuration of an antireflection film.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 透明支持体 2 ハードコート層 3 低屈折率層 4 オーバーコート層 5 高屈折率層 6 中屈折率層 REFERENCE SIGNS LIST 1 transparent support 2 hard coat layer 3 low refractive index layer 4 overcoat layer 5 high refractive index layer 6 medium refractive index layer

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B32B 27/08 B32B 27/08 G02B 1/11 G09F 9/00 302 1/10 G02B 1/10 A // G09F 9/00 302 Z Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat II (Reference) B32B 27/08 B32B 27/08 G02B 1/11 G09F 9/00 302 1/10 G02B 1/10 A // G09F 9 / 00 302 Z

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明支持体上にハードコート層が設けら
れた耐傷性支持体であって、該ハードコート層が表面処
理された無機微粒子および架橋したバインダーポリマー
とを含み、該表面処理がアニオン性官能基を含む有機化
合物か、または有機金属化合物を表面処理剤として行わ
れ、かつ該バインダーポリマーが多官能アクリレート化
合物の架橋によって得られたものであることを特徴とす
る耐傷性支持体。
Claims: 1. A scratch-resistant support having a hard coat layer provided on a transparent support, wherein the hard coat layer contains surface-treated inorganic fine particles and a crosslinked binder polymer, and the surface treatment comprises an anion. A scratch-resistant support, wherein an organic compound containing a functional functional group or an organic metal compound is used as a surface treatment agent, and the binder polymer is obtained by crosslinking a polyfunctional acrylate compound.
【請求項2】 該表面処理剤がリン酸基、リン酸モノエ
ステル、リン酸ジエステル、スルホン酸基、硫酸モノエ
ステル、カルボン酸基、これらの塩若しくはこれらの酸
塩化物を有する有機化合物であるか、またはアルミニウ
ム、チタニウム及びジルコニウムから選ばれた一種以上
を含む有機金属化合物であることを特徴とする請求項1
に記載の耐傷性支持体。
2. The surface treating agent is a phosphoric acid group, a phosphoric acid monoester, a phosphoric diester, a sulfonic acid group, a sulfuric acid monoester, a carboxylic acid group, a salt thereof, or an organic compound having an acid chloride thereof. 2. An organic metal compound containing at least one selected from aluminum, titanium and zirconium.
2. The scratch-resistant support according to 1.
【請求項3】 該表面処理剤がリン酸モノエステル含有
有機化合物であることを特徴とする請求項1に記載の耐
傷性支持体。
3. The scratch-resistant support according to claim 1, wherein the surface treating agent is a phosphoric acid monoester-containing organic compound.
【請求項4】 該無機微粒子が少なくとも二酸化ケイ
素、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、二酸化チタ
ンのいずれかを含む粒子からなることを特徴とする請求
項1〜3のいずれか1項に記載の耐傷性支持体。
4. The scratch-resistant support according to claim 1, wherein said inorganic fine particles comprise particles containing at least one of silicon dioxide, zirconium oxide, aluminum oxide and titanium dioxide. body.
【請求項5】 該無機微粒子が酸化アルミニウムを含む
粒子からなることを特徴とする請求項1〜4のいずれか
1項に記載の耐傷性支持体。
5. The scratch-resistant support according to claim 1, wherein the inorganic fine particles comprise particles containing aluminum oxide.
【請求項6】 ハードコート層が、1乃至15μmの厚
さを有することを特徴とする請求項5に記載の耐傷性支
持体。
6. The scratch-resistant support according to claim 5, wherein the hard coat layer has a thickness of 1 to 15 μm.
【請求項7】 透明支持体、ハードコート層、および透
明支持体の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層
がこの順で積層された反射防止膜であって、該透明支持
体及びハードコート層が請求項1〜6のいずれか1項に
記載の耐傷性支持体により形成されることを特徴とする
反射防止膜。
7. An antireflection film in which a transparent support, a hard coat layer, and a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the transparent support are laminated in this order. An antireflection film, wherein the hard coat layer is formed of the scratch-resistant support according to any one of claims 1 to 6.
【請求項8】 透明支持体、ハードコート層、透明支持
体の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率層、およ
び透明支持体の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折
率層がこの順で積層された反射防止膜であって、該透明
支持体及びハードコート層が請求項1〜6のいずれか1
項に記載の耐傷性支持体により形成されることを特徴と
する反射防止膜。
8. A transparent support, a hard coat layer, a high refractive index layer having a refractive index higher than that of the transparent support, and a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the transparent support. An antireflection film laminated in this order, wherein the transparent support and the hard coat layer are any one of claims 1 to 6.
13. An anti-reflection film formed of the scratch-resistant support described in item 8.
【請求項9】 透明支持体、ハードコート層、透明支持
体の屈折率よりも高い屈折率を有する中屈折率層、中屈
折率層の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率層、
および透明支持体の屈折率よりも低い屈折率を有する低
屈折率層がこの順で積層された反射防止膜であって、該
透明支持体及びハードコート層が請求項1〜6のいずれ
か1項に記載の耐傷性支持体により形成されることを特
徴とする反射防止膜。
9. A transparent support, a hard coat layer, a medium refractive index layer having a refractive index higher than the refractive index of the transparent support, a high refractive index layer having a refractive index higher than the refractive index of the medium refractive index layer,
And an antireflection film in which a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the transparent support is laminated in this order, wherein the transparent support and the hard coat layer are any one of claims 1 to 6. 13. An anti-reflection film formed of the scratch-resistant support described in item 8.
【請求項10】 画像表示面上に、請求項7〜9に記載
の反射防止膜を形成したことを特徴とする画像表示装
置。
10. An image display device comprising the antireflection film according to claim 7 formed on an image display surface.
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