JP5239378B2 - Filter for image display device and image display device using the same - Google Patents

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Description

本発明は、画像表示装置用フィルター及びそれを用いた画像表示装置に関し、特に、プラズマディスプレイパネル(以下「PDP」と記載することがある。)用のフィルターとして好適で、近赤外線吸収等の光学フィルター機能を有し、かつ可視光線透過率の高い、透明性に優れ、しかも電磁波を遮蔽する画像表示装置用フィルター及びそれを用いた画像表示装置に関するものである。   The present invention relates to a filter for an image display device and an image display device using the same, and is particularly suitable as a filter for a plasma display panel (hereinafter sometimes referred to as “PDP”), and optical such as near infrared absorption. The present invention relates to a filter for an image display device that has a filter function and has high visible light transmittance, excellent transparency, and shields electromagnetic waves, and an image display device using the same.

近年、画像表示装置(ディスプレイと呼称する)の大型化、薄型化に伴い、PDPが注目を集めている。
PDPは、発光にプラズマ放電を利用するため、30MHz〜1GHz帯域の不要な電磁波が外部に漏洩して他の機器(例えば、遠隔制御機器、情報処理装置等)に影響を与えるおそれがある。そのため、プラズマディスプレイ装置に用いられるプラズマディスプレイパネルの前面側(観察者側)に、画像光の透過性は維持した上で、漏洩する電磁波を遮蔽(シールド)するためのフィルム状の電磁波シールド部材を設けるのが一般的である。
プラズマディスプレイの前面などに用いることができる電磁波遮蔽部材用材料としては、銀スパッタ薄膜、銅メッシュなどがあるが、銀スパッタ薄膜はコストが高く、また全面を被覆しているため可視光(線)透明性と電磁波遮蔽性との両立性に劣る。銅メッシュは開口部分があるため透明性は高いが、銅箔をフォトリソグラフィー法で開口部をエッチングしてメッシュ形状を作成するため、捨てる材料が多く低コスト化が難しい。
近年、透明基材の上に導電性ペーストや無電解めっきの触媒を含むインキをグラビア印刷などパターン印刷し、その上に銅をめっきで析出させ細線パターンを形成した電磁波シールド部材などが提案されており(特許文献1、2)、銅箔エッチング法などよりも経済性、生産性にすぐれた方法といえる。
尚、本願明細書中に於いて、断り無しで単に「電磁波」と云う場合は、広義の電磁波のうちで赤外線帯域よりも低周波数(長波長)帯域のもの、中でも主にMHz〜GHz帯域乃至其の近辺のものを云う。赤外線、可視光線、及び紫外線は含ま無い意味で用いる。
In recent years, PDPs have attracted attention as image display devices (referred to as displays) become larger and thinner.
Since PDP uses plasma discharge for light emission, unnecessary electromagnetic waves in the 30 MHz to 1 GHz band may leak to the outside and affect other devices (for example, remote control devices, information processing devices, etc.). Therefore, a film-like electromagnetic wave shielding member for shielding (shielding) electromagnetic waves that leak while maintaining the transparency of image light on the front side (observer side) of the plasma display panel used in the plasma display device. It is common to provide it.
Electromagnetic wave shielding member materials that can be used for the front surface of plasma displays include silver sputtered thin films and copper mesh, but silver sputtered thin films are expensive and cover the entire surface, so visible light (line) Poor compatibility between transparency and electromagnetic wave shielding. Since the copper mesh has an opening, the transparency is high. However, since the copper foil is etched by photolithography to create a mesh shape, many materials are thrown away and it is difficult to reduce the cost.
In recent years, electromagnetic wave shielding members have been proposed in which a conductive paste or ink containing a catalyst for electroless plating is printed on a transparent substrate by pattern printing such as gravure, and copper is deposited on the transparent substrate to form a fine line pattern. (Patent Documents 1 and 2), it can be said that the method is more economical and more productive than the copper foil etching method.
In the specification of the present application, when simply referring to “electromagnetic wave” without any notice, the electromagnetic wave in a broad sense has a frequency (long wavelength) band lower than the infrared band, and mainly the MHz to GHz band or the like. The one in the vicinity. Infrared, visible light, and ultraviolet light are used in a meaning that does not include them.

一方、電磁波シールド部材においては、非視認性、及び日光、照明光等の外来光入射環境下に於ける画像の白化を防ぎコントラストをよくするため、その表面を黒色化処理されるのが一般的である。
従来の黒色化処理の方法としては、たとえば、銅めっき上に黒色の銅-コバルト合金めっきなどを施す方法、導電性ペーストに黒色色素やカーボンブラックなどの黒色添加剤を使用してパターン印刷する方法(特許文献3)などが挙げられる。
しかしながら、黒色の銅-コバルト合金めっきなどを施す方法では、2層のめっき処理を行うこととなり、生産性あるいは経済性に問題があり、導電性ペースト中に黒色添加剤を使用してパターン印刷する方法では、黒色添加剤が添加されることで、印刷インキの印刷適性が悪くなったり、導電性が低下するという問題が生じる。
また、PDPは上記周波数帯域の電磁波の他、近赤外線、ネオン原子の発光スペクトル光(ネオン光とも呼稱する)等の不要の輻射が有り、これらを吸収、遮蔽する必要も有る。又、日光、照明光等の外来光が画面に反射して反射すると外来光の映り込み、画面の白化、画像コントラストの低下等を誘発する為、これら外来光の反射を低減する必要も有った。これらも要求を満たす為に、電磁波遮蔽フィルターと所望の機能を有する各種光学フィルターとを積創始、複合化した各種構成の画像表示装置用フィルターが提案されている。中でも、図1に示す様な積層構成のものが好適な形態として使用されることが多い。
On the other hand, in the electromagnetic wave shielding member, the surface is generally blackened in order to prevent invisibility and to improve the contrast and prevent whitening of the image in the environment of incident external light such as sunlight and illumination light. It is.
As a conventional blackening treatment method, for example, a method of performing black copper-cobalt alloy plating on copper plating, a method of pattern printing using a black additive or a black additive such as carbon black on a conductive paste, etc. (Patent document 3) etc. are mentioned.
However, in the method of performing black copper-cobalt alloy plating or the like, two layers of plating are performed, which has a problem in productivity or economy, and pattern printing is performed using a black additive in the conductive paste. In the method, the black additive is added, thereby causing a problem that printability of printing ink is deteriorated or conductivity is lowered.
In addition to electromagnetic waves in the above frequency band, the PDP has unnecessary radiation such as near infrared rays, emission spectrum light of neon atoms (also called neon light), and it is necessary to absorb and shield these. In addition, if extraneous light such as sunlight or illumination light is reflected and reflected on the screen, the extraneous light is reflected, the screen is whitened, and the image contrast is lowered. It was. In order to satisfy these requirements, filters for image display devices having various configurations in which an electromagnetic wave shielding filter and various optical filters having a desired function have been created and combined have been proposed. Among them, a layered structure as shown in FIG. 1 is often used as a preferred form.

特開2001−102792号公報JP 2001-102792 A 特開平11−174174号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-174174 特開2000−13088号公報JP 2000-13088 A

本発明の課題は、近赤外線吸収、外来光反射防止等の画像表示装置に求められる所望の光学フィルター機能、高透明性、及び電磁波遮蔽機能を有すると共に、外来光入射環境下に於ける画像白化を防ぎ高コントラストの画像を得る画像表示装置用フィルター及びそれを用いた画像表示装置を提供することにある。   It is an object of the present invention to have a desired optical filter function, high transparency, and electromagnetic wave shielding function required for an image display device such as near-infrared absorption and anti-reflection of external light, and image whitening in an external light incident environment. It is an object of the present invention to provide a filter for an image display device that obtains a high-contrast image and an image display device using the same.

本発明者は、所望の機能を有する光学フィルターと電磁波遮蔽フィルターとを積層した特定の構造(図1参照)を有する画像表示装置用フィルターに於いて、前記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、金属微粒子をバインダー樹脂によって結着した金属微粒子結着体と、該金属微粒子結着体の表面を被覆するニッケル柱状結晶集合体層とからなり、表面被覆ニッケル柱状結晶集合体の最外面が光拡散性の微凹凸面である電磁波遮蔽層を有することにより、上記課題を解決し得ることを見出した。本発明はかかる知見に基づき完成したものである。   The present inventor has conducted extensive research to solve the above problems in a filter for an image display device having a specific structure (see FIG. 1) in which an optical filter having a desired function and an electromagnetic wave shielding filter are laminated. As a result, the outermost surface of the surface-coated nickel columnar crystal aggregate is composed of a metal particle binder formed by binding metal fine particles with a binder resin and a nickel columnar crystal aggregate layer covering the surface of the metal fine particle binder. It has been found that the above problem can be solved by having an electromagnetic wave shielding layer that is a light diffusive fine uneven surface. The present invention has been completed based on such findings.

すなわち、本発明は、裏面側透明基材上に、パターン状の電磁波遮蔽層を有する電磁波遮蔽フィルターと、該電磁波遮蔽フィルターの該電磁波遮蔽層上に、表面側透明粘着剤層を介して、表面側透明基材上に、反射防止層、防眩層、又は硬質塗膜層の何れかから選択された表面調整層を有する表面調整フィルターを、該表面側透明基材側が該電磁波遮蔽層を向くようにして積層し、該電磁波遮蔽フィルターの裏面側透明基材上に裏面側透明粘着剤層を積層した層構成からなると共に、前記電磁波遮蔽層が、金属微粒子をバインダー樹脂によって結着した金属微粒子結着体と、該金属微粒子結着体の表面を被覆するニッケル柱状結晶集合体層とからなり、表面被覆ニッケル柱状結晶集合体層の最外面が光拡散性の微凹凸面を有し、前記表面側透明粘着剤層又は裏面側透明粘着剤層の何れか1層又は2層中には、近赤外線吸収剤、ネオン光吸収剤、調色剤、又は紫外線吸収剤の中から選択される何れか1種以上の吸收剤を含有して成る、画像表示装置用フィルター、
並びに該画像表示装置用フィルターを用いた画像表示装置を提供するものである。
That is, the present invention provides an electromagnetic wave shielding filter having a patterned electromagnetic wave shielding layer on the back surface side transparent substrate, and the surface side transparent adhesive layer on the electromagnetic wave shielding layer of the electromagnetic wave shielding filter. A surface adjustment filter having a surface adjustment layer selected from an antireflection layer, an antiglare layer, or a hard coating layer on the side transparent substrate, and the surface side transparent substrate side faces the electromagnetic wave shielding layer In this way, the electromagnetic wave shielding filter has a layer structure in which a back side transparent adhesive layer is laminated on the back side transparent base material of the electromagnetic wave shielding filter, and the electromagnetic wave shielding layer is composed of metal fine particles in which metal fine particles are bound by a binder resin. A binder and a nickel columnar crystal aggregate layer covering the surface of the metal fine particle binder, the outermost surface of the surface-coated nickel columnar crystal aggregate layer has a light diffusive fine irregular surface, Surface side transparency In any one or two layers of the pressure-sensitive adhesive layer or the back side transparent pressure-sensitive adhesive layer, any one selected from a near-infrared absorber, a neon light absorber, a toning agent, or an ultraviolet absorber. A filter for an image display device comprising the above absorbent,
The present invention also provides an image display device using the image display device filter.

本発明によれば、近赤外線吸收機能等の所望の光学フィルター機能、高透明性、及び電磁波遮蔽機能を有すると共に、外来光入射環境下に於ける画像白化を防ぎ高コントラストの画像を得る画像表示装置用フィルター及びそれを用いた画像表示装置を提供することができる。   According to the present invention, an image display that has a desired optical filter function such as a near-infrared absorption function, high transparency, and an electromagnetic wave shielding function, and that prevents whitening of the image in an external light incident environment and obtains a high-contrast image. An apparatus filter and an image display apparatus using the same can be provided.

図1は、本発明の画像表示装置用フィルターの層構成を示す断面図である。尚、図1を含めて、各図面に於ける縮尺は、図示説明の容易な樣に、縦横の寸法比、各層同士の寸法比を、現実の値から適宜変更してある。
図1に於いて、上方が観察者(視聴者)側、下方が画像表示装置側となっている。本発明の画像表示装置用フィルター100は、観察者側から順番に、表面調整層1、表面側透明基材2、表面側透明粘着剤層3、電磁波遮蔽層4、裏面側透明基材5、裏面側透明粘着剤層6の順に積層されて成る。
これらの各構成層のうち、表面調整層1、及び表面側透明基材2から表面調整フィルター10が構成され、又電磁波遮蔽層4、及び裏面側透明基材5から電磁波遮蔽フィルター20が構成される。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a layer structure of a filter for an image display device of the present invention. In addition, the scales in each drawing including FIG. 1 are appropriately changed from the actual values in the vertical and horizontal dimension ratios and the dimension ratios between the respective layers, while being easy to illustrate.
In FIG. 1, the upper side is the viewer (viewer) side, and the lower side is the image display device side. The filter 100 for an image display device of the present invention includes a surface adjustment layer 1, a surface side transparent base material 2, a surface side transparent adhesive layer 3, an electromagnetic wave shielding layer 4, a back side transparent base material 5, The back side transparent adhesive layer 6 is laminated in this order.
Among these constituent layers, the surface adjustment layer 10 is constituted by the surface adjustment layer 1 and the front surface side transparent base material 2, and the electromagnetic wave shielding filter 20 is constituted by the electromagnetic wave shielding layer 4 and the back surface side transparent base material 5. The

通常は、製造過程に於いて、先ず表面調整フィルター10及び電磁波遮蔽フィルター20が構成される。而かる後に、表面調整フィルター10の表面側透明基材2側と電磁波遮蔽フィルター20の電磁波遮蔽層4側とが、間に表面側透明粘着剤層3を介して、積層される。又、電磁波遮蔽フィルター20の裏面側透明基材5側の面に裏面側透明粘着剤層6が積層される。斯くして、画像表示装置用フィルター100が構成される。尚、表面調整フィルター10及び電磁波遮蔽フィルター20との積層(表面側透明粘着剤層3の積層)工程と、裏面側透明粘着剤層6の積層工程とは何れが先でも後でも可能である。或いは、両工程を同時に進行することも可能である。これらは、公知の積層技術の適宜選択により実現出来る。   Usually, in the manufacturing process, first, the surface adjustment filter 10 and the electromagnetic wave shielding filter 20 are configured. After that, the surface side transparent base material 2 side of the surface adjustment filter 10 and the electromagnetic wave shielding layer 4 side of the electromagnetic wave shielding filter 20 are laminated via the surface side transparent adhesive layer 3 therebetween. In addition, the back surface side transparent adhesive layer 6 is laminated on the surface of the electromagnetic wave shielding filter 20 on the back surface side transparent base material 5 side. Thus, the image display device filter 100 is configured. In addition, either the lamination | stacking (lamination | stacking of the surface side transparent adhesive layer 3) process with the surface adjustment filter 10 and the electromagnetic wave shielding filter 20 and the lamination | stacking process of the back surface side transparent adhesive layer 6 can be performed before and after. Or it is also possible to advance both processes simultaneously. These can be realized by appropriately selecting a known lamination technique.

得られた画像表示装置用フィルター100は、其の裏面側透明粘着剤層6を用いて、画像表示装置又は画像表示装置用基板200の観察者側面に積層される。若し、画像表示装置用フィルター100を画像表示装置又は画像表示装置用基板200と積層して、画像表示装置用前面板(板状の画像表示装置用フィルターとも言えるもの)を構成した場合には、これを更に画像表示装置の本体の観察者側に設置する。
本発明に於いて、該表面調整層1としては、反射防止層、防眩層、又は硬質塗膜層の何れかから選択される。最表面に於ける外来光の反射による外来光の映り込み、白化、画像コントラストの低下を防ぎたいときは、反射防止層、或は防眩層の何れかを選択する。又、外来光の反射を防ぐ必要が無い場合は、最低限、最表面を傷付き、汚染等から保護する必要は有る為、硬質塗膜層を選択する。尚、反射防止層、或は防眩層も、実質上は、硬質塗膜層の機能も最低限兼用していると言える。
The obtained image display device filter 100 is laminated on the viewer side of the image display device or the image display device substrate 200 using the back-side transparent adhesive layer 6. When the image display device filter 100 is laminated with the image display device or the image display device substrate 200 to form an image display device front plate (also referred to as a plate-like image display device filter). This is further installed on the observer side of the main body of the image display device.
In the present invention, the surface adjustment layer 1 is selected from any one of an antireflection layer, an antiglare layer, and a hard coating layer. To prevent the reflection of extraneous light from the reflection of extraneous light on the outermost surface, whitening, and reduction in image contrast, either an antireflection layer or an antiglare layer is selected. If it is not necessary to prevent reflection of extraneous light, the hardest coating layer is selected because it is necessary to protect the outermost surface from scratches and contamination at a minimum. In addition, it can be said that the antireflection layer or the antiglare layer also substantially serves as the function of the hard coating layer.

又、本発明に於いて、前記表面側透明粘着剤層3又は裏面側透明粘着剤層6の何れか1層又は2層中には、画像表示装置内からの或は外来の不要輻射光を吸收除去したり、画像光の色調を調整する為に、近赤外線吸収剤、ネオン光吸収剤、調色剤、又は紫外線吸収剤の中から選択される何れか1種以上の吸收剤を含有せしめる。
更に、本発明に於いては、新規な構成として、外来光入射環境下に於ける画像白化を防ぎ高コントラストの画像を得る為に、電磁波遮蔽層を、図2の如く、金属微粒子7bをバインダー樹脂7aによって結着した金属微粒子結着体7と、該金属微粒子結着体の表面を被覆するニッケル柱状結晶集合体層8とからなり、表面被覆ニッケル柱状結晶集合体層の最外面が光拡散性の微凹凸面を形成した構成とする。
In the present invention, either one or two of the front surface side transparent adhesive layer 3 and the rear surface side transparent adhesive layer 6 is subjected to unnecessary or extraneous radiation from the image display device. In order to absorb and remove or adjust the color tone of image light, one or more absorbers selected from near infrared absorbers, neon light absorbers, toning agents, and ultraviolet absorbers are included. .
Furthermore, in the present invention, as a new configuration, in order to prevent whitening of the image in an environment where external light is incident and to obtain a high-contrast image, an electromagnetic wave shielding layer is used as shown in FIG. It consists of a metal fine particle binder 7 bound by a resin 7a and a nickel columnar crystal aggregate layer 8 covering the surface of the metal fine particle binder, and the outermost surface of the surface-coated nickel columnar crystal aggregate layer is light diffusing. The structure is formed with a fine uneven surface.

ここで、該金属微粒子結着体と該微凹凸面を有する表面被覆ニッケル柱状結晶集合体層とは、協働して、十分な電磁波遮蔽機能を発現するだけの導電性を実現する。且つ、該微凹凸面を有する表面被覆ニッケル柱状結晶集合体層は、所謂黒化層として機能し、外来光を吸收し、又吸收し切れず反射する場合でも拡散反射として、観察者に視覚される反射光を低減させる。これによって、外来光による画像白化、画像コントラスト低下、及び外来光の映り込み等の外来光の悪影響を低減せしめる。即ち、本発明で採用する金属微粒子結着体7とニッケル柱状結晶集合体層8との組合せは、従来公知の黒化層に比べて、外来光の悪影響を低減する效果と導電性との両立性に優れている。
尚、これら外来光の悪影響の低減效果は、前記の通り、反射防止層、或は防眩層によっても発現されるが、これら層だけでは完全に低減することは困難である。該表面被覆ニッケル柱状結晶集合体も併用することによって、より良好な外来光の悪影響の低減效果を奏することが出来る。又、最表面の耐擦傷性を最優先に設計する場合は、表面調整層として硬質塗膜層を採用する場合は、反射防止性乃至は防眩性は犠牲にせざるを得なくなる。斯くの如き理由により、本発明に於いては、金属微粒子結着体7とニッケル柱状結晶集合体層8との組合せを必須とするものである。
Here, the metal fine particle binder and the surface-coated nickel columnar crystal aggregate layer having the fine irregular surface cooperate to realize conductivity sufficient to exhibit a sufficient electromagnetic wave shielding function. In addition, the surface-coated nickel columnar crystal aggregate layer having the fine uneven surface functions as a so-called blackening layer, and absorbs extraneous light, and even if it does not absorb and reflects as a diffuse reflection, it is visually recognized by the observer. To reduce reflected light. This reduces adverse effects of external light such as image whitening due to external light, image contrast reduction, and reflection of external light. That is, the combination of the metal fine particle binder 7 and the nickel columnar crystal aggregate layer 8 employed in the present invention has both the effect of reducing the adverse effect of extraneous light and the conductivity as compared with the conventionally known blackening layer. Excellent in properties.
As described above, the effect of reducing the adverse effects of extraneous light is also exhibited by the antireflection layer or the antiglare layer, but it is difficult to completely reduce these layers alone. By using the surface-coated nickel columnar crystal aggregate in combination, a better effect of reducing the adverse effect of extraneous light can be achieved. Further, in the case where the scratch resistance of the outermost surface is designed with the highest priority, when a hard coating layer is adopted as the surface adjustment layer, the antireflection property or the antiglare property must be sacrificed. For this reason, in the present invention, the combination of the fine metal particle binder 7 and the nickel columnar crystal aggregate layer 8 is essential.

観察者は、図1で示した場合と同様に、表面調整フィルター10側から、画像表示装置用フィルター100を通してPDP等の対象物を観察するが、このような構成をとることにより、観察者から見た際に、透過色調が青色を示さず、近赤外線が有効に吸収され、かつ可視光線透過率の高い、透明性に優れた画像を見ることができる。
本発明の画像表示装置用フィルターは、波長380〜780nmの可視光透過率が40%以上であり、波長800〜1100nmの近赤外線透過率が20%以下であることが好ましい。可視光透過率が40%以上であると、PDP等の画像表示装置の近赤外線吸収電磁波遮蔽フィルターとして用いた場合でも、十分に輝度を与えることができ、画像の暗化を生じることがない。以上の観点から、可視光透過率は、特に、60%以上であることが好ましい。一方、近赤外線透過率が10%以下であると、PDP本体から発生する近赤外線によって周囲の電子機器が誤動作を生じることがない。以上の観点から近赤外線透過率は10%以下であることが好ましい。
As in the case shown in FIG. 1, the observer observes an object such as a PDP from the surface adjustment filter 10 side through the image display device filter 100. By taking such a configuration, the observer When viewed, it is possible to see an image having excellent transparency with a transmission color tone not showing blue, near infrared rays being effectively absorbed, and high visible light transmittance.
The filter for an image display device of the present invention preferably has a visible light transmittance of 40% or more at a wavelength of 380 to 780 nm and a near infrared transmittance of 20% or less at a wavelength of 800 to 1100 nm. When the visible light transmittance is 40% or more, even when it is used as a near-infrared absorbing electromagnetic wave shielding filter of an image display device such as a PDP, sufficient luminance can be given and the image is not darkened. From the above viewpoint, the visible light transmittance is particularly preferably 60% or more. On the other hand, when the near-infrared transmittance is 10% or less, peripheral electronic devices do not malfunction due to near-infrared rays generated from the PDP main body. From the above viewpoint, the near infrared transmittance is preferably 10% or less.

先ず、表面調整フィルター10について説明する。表面調整フィルター10は前記の通り表面側透明基材2の観察者側面上に表面調整層1を形成して成る。表面調整層1として防眩層(Anti Glare層、AG層)を採用する場合、公知の各種形態の採用が可能ではあるが、好適な形態としては、表面側透明基材2の観察者側表面を粗面化するか、或は表面側透明基材2の表面に、電離放射線硬化性樹脂及び/又は熱硬化性樹脂をバインダーとし、これに光拡散性粒子として無機フィラー又は有機フィラー(光拡散剤)を含有させ、これを塗膜化する形態が挙げられる。
バインダーに用いる樹脂としては、表面層として表面強度が望まれる場合には、硬化性アクリル樹脂や、上述の電離放射線硬化性樹脂が好適に用いられ、硬質塗膜層としての「機能を兼用することも可能である。
無機フィラーとしては、例えば平均粒子径が0.5〜10μm程度のシリカ粒子や、コロイド状シリカ粒子のアミン化合物による凝集物であって、平均粒子径が0.5〜10μm程度のものなどを挙げることができる。
また、有機フィラーとしては、例えばメラミン系樹脂粒子、アクリル系樹脂粒子、アクリル−スチレン系共重合体粒子、ポリカーボネート系粒子、ポリエチレン系粒子、ポリスチレン系粒子、ベンゾグアナミン系樹脂粒子などが挙げられる。これらの有機フィラーの平均粒径は、通常2〜10μm程度である。
これらの光拡散性粒子は1種を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよく、防眩層中の含有量は、通常2〜15質量%、好ましくは3〜8質量%である。
First, the surface adjustment filter 10 will be described. The surface adjustment filter 10 is formed by forming the surface adjustment layer 1 on the observer side surface of the surface side transparent substrate 2 as described above. When an anti-glare layer (Anti Glare layer, AG layer) is adopted as the surface adjustment layer 1, various known forms can be adopted, but a preferred form is the observer side surface of the surface side transparent substrate 2 Or an ionizing radiation curable resin and / or a thermosetting resin as a binder on the surface of the transparent substrate 2 on the surface side, and an inorganic filler or an organic filler (light diffusion as light diffusing particles). Agent), and forms this into a coating film.
As the resin used for the binder, when surface strength is desired as the surface layer, a curable acrylic resin or the above-mentioned ionizing radiation curable resin is preferably used, and the “function as a hard coating layer is combined. Is also possible.
Examples of the inorganic filler include silica particles having an average particle diameter of about 0.5 to 10 μm, and aggregates of colloidal silica particles with an amine compound having an average particle diameter of about 0.5 to 10 μm. be able to.
Examples of the organic filler include melamine resin particles, acrylic resin particles, acrylic-styrene copolymer particles, polycarbonate particles, polyethylene particles, polystyrene particles, and benzoguanamine resin particles. These organic fillers usually have an average particle size of about 2 to 10 μm.
These light diffusing particles may be used alone or in combination of two or more. The content in the antiglare layer is usually 2 to 15% by mass, preferably 3 to 8%. % By mass.

また、表面に微凹凸を設けた防眩フィルムを基材の表面に貼付することにより、防眩層5を形成することもできる。このような防眩フィルムは、厚さが15〜250μm程度の、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、トリアセチルセルロースフィルムなどの基材に、エンボス版を用いた熱プレス法やサンドブラスト法により、表面に微凹凸を形成させてなる。
防眩層の厚さについては特に限定されるものではないが、通常、0.07〜20μm程度が好ましい。また、該防眩層の凹凸の平均間隔をSmとし、凹凸部の平均傾斜角をθaとし、凹凸の十点平均粗さをRzとした場合に、Smが60〜250μmであり、θaが0.3度〜1.0度であり、Rzが0.3〜1.0μmであることが好ましい。
Moreover, the anti-glare layer 5 can also be formed by sticking the anti-glare film which provided the fine unevenness | corrugation on the surface to the surface of a base material. Such an antiglare film is finely coated on the surface by a hot press method using an embossed plate or a sand blast method on a base material such as a polyethylene terephthalate film, a polycarbonate film, or a triacetyl cellulose film having a thickness of about 15 to 250 μm. Unevenness is formed.
The thickness of the antiglare layer is not particularly limited, but usually about 0.07 to 20 μm is preferable. Further, when the average interval between the irregularities of the antiglare layer is Sm, the average inclination angle of the irregularities is θa, and the ten-point average roughness of the irregularities is Rz, Sm is 60 to 250 μm and θa is 0 It is preferable that the angle is 3 ° to 1.0 ° and Rz is 0.3 to 1.0 μm.

また、表面側透明基材2の表面を粗面化する方法としては、サンドブラスト法やエンボス法等により基材2の表面に直接微細凹凸を形成して粗面化する方法、基材2の表面に海島構造による多孔質膜を形成する方法等を挙げることができる。この場合にも、Smが60〜250μmであり、θaが0.3度〜1.0度であり、Rzが0.3〜1.0μmであることが好ましい。
なお、上記Sm、θa及びRzはJIS B0601 1994に準拠し、例えば、表面粗さ測定器((株)小坂研究所製「SE−3400」)で測定し得るものである。
また、表面調整層1として反射防止層(Anti Reflection層、AR層)を採用する場合は、表面側透明基材2の表面に反射防止層を形成し、外光の反射を防止することが好ましい。
反射防止層は、一般に、低屈折率層の単層、或いは、低屈折率層と高屈折率層とを、該低屈折率層が最上層に位置する様に交互に積層した多層構成が一般的であり、蒸着やスパッタ等の乾式成膜法で、或いは塗工等の湿式成膜法を利用して形成するものである。
低屈折率層及び高屈折率層の屈折率については、これらの層間で屈折率差があればよく特に限定されないが、低屈折率層の屈折率については、1.45以下であることが好ましい。屈折率がこの範囲であると、十分な反射防止性能が得られる。
Moreover, as a method of roughening the surface of the surface-side transparent base material 2, a method of forming a rough surface directly on the surface of the base material 2 by a sandblasting method, an embossing method, or the like, and a surface of the base material 2 In addition, a method of forming a porous film having a sea-island structure can be exemplified. Also in this case, it is preferable that Sm is 60 to 250 μm, θa is 0.3 to 1.0 degree, and Rz is 0.3 to 1.0 μm.
In addition, said Sm, (theta) a, and Rz are based on JISB06011994, For example, it can measure with a surface roughness measuring device ("SE-3400" by Kosaka Laboratory).
When an antireflection layer (Anti Reflection layer, AR layer) is employed as the surface adjustment layer 1, it is preferable to form an antireflection layer on the surface of the surface side transparent substrate 2 to prevent reflection of external light. .
The antireflection layer generally has a single layer of a low refractive index layer or a multilayer structure in which a low refractive index layer and a high refractive index layer are alternately laminated so that the low refractive index layer is positioned at the uppermost layer. The film is formed by a dry film formation method such as vapor deposition or sputtering, or by using a wet film formation method such as coating.
The refractive index of the low refractive index layer and the high refractive index layer is not particularly limited as long as there is a difference in refractive index between these layers, but the refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.45 or less. . When the refractive index is within this range, sufficient antireflection performance can be obtained.

低屈折率層を構成する材料としては、ケイ素酸化物、フッ化物、フッ素含有樹脂等が用いられ、具体的にはSiO2(屈折率n=1.45)、MgF2(屈折率n=1.4)、LiF(屈折率n=1.4)、3NaF・AlF3(屈折率n=1.4)、AlF3(屈折率n=1.4)、Na3AlF6(屈折率n=1.33)などがある。本発明においては、これらの無機材料を微粒子化し、熱硬化型樹脂、電離放射線硬化性樹等のバインダー樹脂中に分散した材料が、容易に低屈折率層5を設けることができる点で好ましい。
低屈折率層の形成方法としては、まず上記で述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーティング、ロールコーティング、印刷等によって形成するウェットコーティング法や、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVD、イオンプレーティング等による気相法によって、低屈折率層形成材料を塗布し、次いで、乾燥後、熱や電離放射線(紫外線の場合は上述の光重合開始剤を使用する)等により硬化させることによって得ることができる。
As a material constituting the low refractive index layer, silicon oxide, fluoride, fluorine-containing resin or the like is used. Specifically, SiO 2 (refractive index n = 1.45), MgF 2 (refractive index n = 1). .4), LiF (refractive index n = 1.4), 3NaF · AlF 3 (refractive index n = 1.4), AlF 3 (refractive index n = 1.4), Na 3 AlF 6 (refractive index n = 1.33). In the present invention, a material in which these inorganic materials are finely divided and dispersed in a binder resin such as a thermosetting resin or ionizing radiation curable resin is preferable because the low refractive index layer 5 can be easily provided.
As a method of forming the low refractive index layer, first, the above-described materials are diluted with a solvent, for example, a wet coating method in which the material is formed by spin coating, roll coating, printing, vacuum deposition, sputtering, plasma CVD, ion plating, or the like. It can be obtained by applying a low refractive index layer-forming material by a vapor phase method, etc., and then drying and curing with heat, ionizing radiation (in the case of ultraviolet rays, use the above-mentioned photopolymerization initiator), etc. it can.

また、低屈折率層には、空隙を有する微粒子を用いても良い。空隙を有する微粒子とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び/又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。微粒子の形態、構造、凝集状態、塗膜内部での微粒子の分散状態により、内部及び/又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。空隙を有する微粒子は、無機物、有機物のいずれでもあってよく、例えば、金属、金属酸化物、樹脂からなるものが挙げられ、好ましくは、酸化珪素(シリカ)微粒子が挙げられる。   Further, fine particles having voids may be used for the low refractive index layer. The fine particles having voids form a structure in which fine particles are filled with gas and / or a porous structure containing gas, and are in inverse proportion to the gas occupancy ratio in the fine particles compared to the original refractive index of the fine particles. It means fine particles having a reduced refractive index. Depending on the form, structure, aggregation state, and dispersion state of the fine particles within the coating film, fine particles capable of forming a nanoporous structure inside and / or at least part of the surface are also included. The fine particles having voids may be either inorganic or organic, and examples thereof include metals, metal oxides, and resins, and preferably silicon oxide (silica) fine particles.

さらに、5〜30nmのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に分散したゾルとフッ素系の皮膜形成剤を混合した材料を使用することもできる。該5〜30nmのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に分散したゾルは、ケイ酸アルカリ塩中のアルカリ金属イオンをイオン交換等で脱アルカリする方法や、ケイ酸アルカリ塩を鉱酸で中和する方法等で知られた活性ケイ酸を縮合して得られる公知のシリカゾル、アルコキシシランを有機溶媒中で塩基性触媒の存在下に加水分解と縮合することにより得られる公知のシリカゾル、さらには上記の水性シリカゾル中の水を蒸留法等により有機溶剤に置換することにより得られる有機溶剤系のシリカゾル(オルガノシリカゾル)が用いられる。これらのシリカゾルは水系及び有機溶剤系のどちらでも使用することができる。有機溶剤系シリカゾルの製造に際し、完全に水を有機溶剤に置換する必要はない。前記シリカゾルはSiO2として0.5〜50質量%濃度の固形分を含有する。シリカゾル中のシリカ超微粒子の構造は球状、針状、板状等様々なものが使用可能である。
なお、本発明の画像表示装置用フィルターにおいては、上記低屈折率層と防眩層の両者を設けることもできる。
Furthermore, a material in which a sol obtained by dispersing ultrafine silica particles of 5 to 30 nm in water or an organic solvent and a fluorine-based film forming agent can be used. The sol in which the ultrafine silica particles of 5 to 30 nm are dispersed in water or an organic solvent is obtained by a method of dealkalizing alkali metal ions in alkali silicate salt by ion exchange or the like, or neutralizing alkali silicate salt with mineral acid. A known silica sol obtained by condensing active silicic acid known by the method, etc., a known silica sol obtained by condensing alkoxysilane with hydrolysis in an organic solvent in the presence of a basic catalyst, and the above-mentioned An organic solvent-based silica sol (organosilica sol) obtained by substituting water in the aqueous silica sol with an organic solvent by a distillation method or the like is used. These silica sols can be used in both aqueous and organic solvent systems. In producing the organic solvent-based silica sol, it is not necessary to completely replace water with the organic solvent. The silica sol contains solids 0.5 to 50 wt% concentration as SiO 2. Various structures such as a spherical shape, a needle shape, and a plate shape can be used for the structure of the ultrafine silica particles in the silica sol.
In the filter for an image display device of the present invention, both the low refractive index layer and the antiglare layer can be provided.

本発明において、硬質塗膜層は透明性を有し、JISK5600−5−4(1999)で規定される鉛筆硬度試験で「H」以上の硬度を示すものであれば、硬質塗膜層を構成する材料等は特に制限されない。
通常は樹脂硬化層として形成され、用いられる硬化性樹脂としては、電離放射線硬化性樹脂、その他公知の硬化性樹脂などを要求性能などに応じて適宜採用すればよい。電離放射線硬化性樹脂としては前述のものと同様のものを用いることができる。硬質塗膜層は、上記材料を必要に応じて溶剤で希釈して、表面側透明基材2上に塗工等の湿式成膜法により形成することができる。硬質塗膜層の厚みは特に限定されるものではないが、1〜20μmの範囲が好ましく、3〜5μmの範囲がより好ましい。
尚、耐汚染性向上の観点から、該硬質塗膜層上に更に、防汚染層を設けることが出来る。シリコーン系化合物、フッ素系化合物などを適宜バインダー樹脂中に添加した塗料組成物を硬質塗膜上に塗工形成する。
また、防汚染層として、本発明の画像表示装置用フィルターを使用する際に、その表面に不用意な接触や環境からの汚染が原因でごみや汚染物質が付着するのを防止し、あるいは付着しても除去しやすくするために形成される層であっても良い。これらの防汚染層としての厚さは好ましくは100nm以下で、より好ましくは10nm以下であり、更に好ましくは5nm以下である。これらの防汚染層の厚さが100nmを超えると防汚染性の初期値は優れているが、耐久性において劣るものとなる。防汚染性とその耐久性のバランスから5nm以下が最も好ましい。
In the present invention, if the hard coating layer has transparency and shows a hardness of “H” or higher in the pencil hardness test specified by JISK5600-5-4 (1999), the hard coating layer is constituted. The material to be used is not particularly limited.
Usually, it is formed as a resin cured layer, and as the curable resin to be used, an ionizing radiation curable resin, other known curable resins, or the like may be appropriately employed according to the required performance. As the ionizing radiation curable resin, the same ones as described above can be used. The hard coating layer can be formed on the surface-side transparent substrate 2 by a wet film formation method such as coating by diluting the above material with a solvent as necessary. Although the thickness of a hard coating layer is not specifically limited, The range of 1-20 micrometers is preferable and the range of 3-5 micrometers is more preferable.
In addition, from the viewpoint of improving the stain resistance, a stainproof layer can be further provided on the hard coating layer. A coating composition in which a silicone compound, a fluorine compound, or the like is appropriately added to a binder resin is applied and formed on a hard coating film.
In addition, when the filter for an image display device of the present invention is used as a contamination-preventing layer, it prevents or adheres to dust and contaminants due to inadvertent contact and environmental contamination. However, it may be a layer formed for easy removal. The thickness of these antifouling layers is preferably 100 nm or less, more preferably 10 nm or less, and even more preferably 5 nm or less. When the thickness of these antifouling layers exceeds 100 nm, the initial value of antifouling properties is excellent, but the durability is inferior. 5 nm or less is the most preferable from the balance of antifouling property and its durability.

表面側透明基材2及び裏面側透明基材5としては、特に制限はなく、従来反射防止フィルター、防眩フィルター等の基材として公知の樹脂フィルム又はガラスから適宜選択して用いることができる。
樹脂フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル樹脂;ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンノルボルネン系樹脂、シクロオレフィン樹脂などのポリオレフィン樹脂;ポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル酸エチルなどのアクリル樹脂;ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどの塩ビ系樹脂;ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレートなどのセルロース系樹脂;ポリスルホン、ポリエーテルスルホンなどのポリスルホン系樹脂;ポリアミド樹脂;ポリエーテルエーテルケトン;フッ素樹脂;ポリカーボネート樹脂等を挙げることができる。
これらのうち、透明性、透明性、機械的強度、耐熱性、コスト等のバランスに優れることからポリエステルフィルムが好ましく、特にポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。
また、ソーダ硝子、カリ硝子、硼珪酸硝子等のガラス基材も、光学的特性、機械的特性の点から好ましい。
There is no restriction | limiting in particular as the surface side transparent base material 2 and the back surface side transparent base material 5, It can select suitably from well-known resin films or glass as base materials, such as a conventional antireflection filter and an anti-glare filter, and can be used.
Examples of the resin film include polyester resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, polymethylpennorbornene resin, and cycloolefin resin; methyl poly (meth) acrylate, poly (meta ) Acrylic resins such as ethyl acrylate; PVC resins such as polyvinyl chloride and polyvinylidene chloride; Cellulosic resins such as diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, and acetyl cellulose butyrate; Polysulfone resins such as polysulfone and polyether sulfone; Polyamide resin; polyether ether ketone; fluororesin; polycarbonate resin and the like.
Among these, a polyester film is preferable because of excellent balance of transparency, transparency, mechanical strength, heat resistance, cost, and the like, and a polyethylene terephthalate film is particularly preferable.
Further, glass substrates such as soda glass, potash glass, and borosilicate glass are also preferable from the viewpoint of optical characteristics and mechanical characteristics.

上記表面側透明基材2及び裏面側透明基材5は、透明、半透明のいずれであってもよく、また、着色されていてもよいが、PDP用としては無色透明が好ましい。
これらの基材の厚さは特に制限はなく、用途に応じたものとすればよいが、透明樹脂フィルムからなる場合は、通常10〜500μm程度、好ましくは15〜250μmの範囲である。また、透明樹脂板やガラス板である場合は、通常1〜5mm程度が好適である。また、基材として、上記樹脂フィルムを用いる場合には、その表面に設けられる層との密着性を向上させる目的で、所望により片面又は両面に、酸化法や凹凸化法などにより表面処理を施すことができる。上記酸化法としては、例えばコロナ放電処理、クロム酸処理(湿式)、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理などが挙げられ、また、凹凸化法としては、例えばサンドブラスト法、溶剤処理法などが挙げられる。これらの表面処理法は基材の種類に応じて適宜選ばれるが、一般にはコロナ放電処理法が効果及び操作性などの面から好ましい。
The surface side transparent base material 2 and the back side transparent base material 5 may be either transparent or translucent, and may be colored, but for PDP, colorless and transparent are preferable.
The thickness of these base materials is not particularly limited and may be determined according to the intended use. However, in the case of a transparent resin film, it is usually in the range of about 10 to 500 μm, preferably 15 to 250 μm. Moreover, when it is a transparent resin plate or a glass plate, about 1-5 mm is usually suitable. Moreover, when using the said resin film as a base material, in order to improve the adhesiveness with the layer provided in the surface, surface treatment is given by the oxidation method, the uneven | corrugated method, etc. on one side or both surfaces as needed. be able to. Examples of the oxidation method include corona discharge treatment, chromic acid treatment (wet), flame treatment, hot air treatment, ozone / ultraviolet irradiation treatment and the like, and examples of the unevenness method include sand blast method and solvent treatment method. Is mentioned. These surface treatment methods are appropriately selected depending on the type of substrate, but in general, the corona discharge treatment method is preferable from the viewpoints of effects and operability.

表面側透明粘着剤層3又は裏面側透明粘着剤層6を構成する粘着剤組成物はのうちの少なくとも一方の中には、近赤外線吸収剤、ネオン光吸収剤、調色剤、又は紫外線吸収剤の中から選択される何れか1種以上の吸收剤を含有しても良い。
近赤外線吸収剤としては、公知の物の中から十分な近赤外線吸收性能と可視光線透過性とを兼備するものを適宜選択すれば良いい。例えば、フタロシアニン系、イモニウム系、ジイモニウム系、ジチオール金屬錯体、シアニン系化合物、アゾ化合物、ポリメチン系化合物、キノン系化合物、ジフェニルメタン系化合物、トリフェニルメタン系化合物系等の有機系化合物からなる有機系近赤外線吸收剤、或は金属酸化物、金属ホウ(硼)化物、金属窒化物などの無機系化合物から成る無機系近赤外線吸收剤が挙げられる。これらの中でも、耐久性の面から、無機系近赤外線吸收剤が好ましい。
At least one of the pressure-sensitive adhesive compositions constituting the surface-side transparent pressure-sensitive adhesive layer 3 or the back-side transparent pressure-sensitive adhesive layer 6 includes a near-infrared absorber, a neon light absorber, a toning agent, or an ultraviolet absorber. Any one or more absorbers selected from the agents may be contained.
What is necessary is just to select suitably what has sufficient near-infrared absorptive performance and visible-light transmittance among well-known things as a near-infrared absorber. For example, organic near organic compounds such as phthalocyanine, imonium, diimonium, dithiol gold complex, cyanine compounds, azo compounds, polymethine compounds, quinone compounds, diphenylmethane compounds, triphenylmethane compounds, etc. Infrared absorbers, or inorganic near infrared absorbers composed of inorganic compounds such as metal oxides, metal borides and metal nitrides. Among these, an inorganic near-infrared absorber is preferable from the viewpoint of durability.

金属酸化物としては、例えば、酸化タングステン系化合物、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化亜鉛、酸化ルテニウム、酸化インジウム、錫ドープ酸化インジウム(ITO)、酸化錫、アンチモンドープ酸化錫(ATO)、酸化セシウムなどの微粒子が挙げられる。十分な可視光線透明性を発現せしめる為には、平均粒子径は可視光線の最低波長である380nm以下、特に平均粒子径40〜200nmのものが好ましい。
金属ホウ化物としては、多ホウ化金属化合物が好ましく、具体的には、ホウ化ランタン(LaB6)、ホウ化プラセオジウム(PrB6)、ホウ化ネオジウム(NdB6)、ホウ化セリウム(CeB6)、ホウ化イットリウム(YB6)、ホウ化チタン(TiB6)、ホウ化ジルコニウム(ZrB6)、ホウ化ハフニウム(HfB6)、ホウ化バナジウム(VB6)、ホウ化タンタル(TaB6)、ホウ化クロム(CrB、CrB6)、ホウ化モリブデン(MoB6、Mo25、MoB)、ホウ化タングステン(W25)などが挙げられる。
また金属窒化物としては、窒化チタン、窒化ニオブ、窒化タンタル、窒化ジルコニウム、窒化ハフニウム、窒化バナジウムなどが挙げられる。
これらの中で、近赤外線の高吸収率と可視光線の高透過率との両立性、及び高湿高湿度条件下に於ける分光透過率特性の変化に対する耐久性の点から、酸化タングステン系化合物が好ましく、特には下記一般式(I)で示される酸化タングステン系化合物が好ましい。
Examples of the metal oxide include tungsten oxide compounds, titanium oxide, zirconium oxide, tantalum oxide, niobium oxide, zinc oxide, ruthenium oxide, indium oxide, tin-doped indium oxide (ITO), tin oxide, and antimony-doped tin oxide ( ATO) and fine particles such as cesium oxide. In order to exhibit sufficient visible light transparency, the average particle diameter is preferably 380 nm or less, particularly the average particle diameter of 40 to 200 nm, which is the minimum wavelength of visible light.
As the metal boride, a multiboride metal compound is preferable, and specifically, lanthanum boride (LaB 6 ), praseodymium boride (PrB 6 ), neodymium boride (NdB 6 ), cerium boride (CeB 6 ). Yttrium boride (YB 6 ), Titanium boride (TiB 6 ), Zirconium boride (ZrB 6 ), Hafnium boride (HfB 6 ), Vanadium boride (VB 6 ), Tantalum boride (TaB 6 ), Boron Examples thereof include chromium bromide (CrB, CrB 6 ), molybdenum boride (MoB 6 , Mo 2 B 5 , MoB), tungsten boride (W 2 B 5 ), and the like.
Examples of the metal nitride include titanium nitride, niobium nitride, tantalum nitride, zirconium nitride, hafnium nitride, and vanadium nitride.
Among these, from the viewpoint of compatibility between high absorption of near infrared rays and high transmittance of visible light, and durability against changes in spectral transmittance characteristics under high humidity and high humidity conditions, tungsten oxide compounds In particular, a tungsten oxide compound represented by the following general formula (I) is preferable.

MxWyOz ・・・(I)
ここで、M元素はCs、Rb、K、Tl、In、Ba、Li、Ca、Sr、Fe及びSnからなる群から選ばれる少なくとも1種であり、Wはタングステンを示し、Oは酸素を示す。
上記一般式(I)で示される酸化タングステン系化合物のうち、特にM元素がCsで表わされるセシウム含有酸化タングステンが、近赤外線吸収能が高いことから好適である。
MxWyOz (I)
Here, the M element is at least one selected from the group consisting of Cs, Rb, K, Tl, In, Ba, Li, Ca, Sr, Fe, and Sn, W represents tungsten, and O represents oxygen. .
Of the tungsten oxide compounds represented by the above general formula (I), cesium-containing tungsten oxide in which the M element is represented by Cs is particularly preferable because of its high near-infrared absorptivity.

また、上記一般式(I)において、添加されるM元素の添加量はタングステンの含有量を基準としたx/yの値として、0.001≦x/y≦1.1の関係を満足することが好ましく、特にx/yが0.33付近であることが、好適な近赤外線吸収能を示す点で好ましい。また、x/yが0.33付近であると、六方晶の結晶構造をとりやすく、該結晶構造をとることによって、耐久性の点でも好適である。
また、上記一般式(I)における酸素の含有量は、タングステンの含有量を基準としたz/yの値として、2.2≦z/y≦3.0の関係を満足することが好ましい。より具体的には、Cs0.33WO3、Rb0.33WO3、K0.33WO3、Ba0.33WO3などを挙げることができる。
上記無機近赤外線吸収剤は1種を単独で用いてもよく、又は2種以上を併用することもできる。
In addition, in the above general formula (I), the added amount of the M element satisfies the relationship of 0.001 ≦ x / y ≦ 1.1 as the value of x / y based on the tungsten content. In particular, x / y is preferably in the vicinity of 0.33 from the viewpoint of suitable near infrared absorption ability. Further, when x / y is around 0.33, a hexagonal crystal structure is easily obtained, and the use of this crystal structure is also preferable in terms of durability.
The oxygen content in the general formula (I) preferably satisfies the relationship of 2.2 ≦ z / y ≦ 3.0 as the value of z / y based on the content of tungsten. More specifically, Cs 0.33 WO 3 , Rb 0.33 WO 3 , K 0.33 WO 3 , Ba 0.33 WO 3 and the like can be mentioned.
The said inorganic near-infrared absorber may be used individually by 1 type, or can also use 2 or more types together.

本発明における無機近赤外線吸収剤は、特に、その平均粒子径が40〜200nmであることが肝要である。平均粒子径が40nm未満であると近赤外線吸収能が不十分となり、一方、平均粒子径が200nmを超えると、ミー散乱によって白濁を生じ、コントラストが低下してしまう。さらに好ましい近赤外吸収性能を発揮させるためには、該平均粒子径が60〜100nmであることが好ましく、70〜80nmであることがさらに好ましい。
なお、本発明における平均粒子径の測定は、透過型電子顕微鏡により撮像し、無作為に、例えば50個の無機近赤外線吸収剤を抽出して該粒子径を測定し、これを平均したものである。また、粒子の形状が球形でない場合には、長径を測定して算出したものと定義する。
In particular, it is important that the inorganic near-infrared absorber in the present invention has an average particle size of 40 to 200 nm. If the average particle size is less than 40 nm, the near-infrared absorptivity becomes insufficient. On the other hand, if the average particle size exceeds 200 nm, white turbidity occurs due to Mie scattering and the contrast decreases. In order to exhibit more preferable near infrared absorption performance, the average particle diameter is preferably 60 to 100 nm, and more preferably 70 to 80 nm.
In addition, the measurement of the average particle diameter in the present invention is obtained by taking an image with a transmission electron microscope, randomly extracting, for example, 50 inorganic near infrared absorbers, measuring the particle diameter, and averaging the results. is there. Moreover, when the shape of particle | grains is not spherical, it defines as what was calculated by measuring a major axis.

上記近赤外線吸収剤の粘着剤組成物における含有量は10〜60質量%(固形分換算)の範囲が好ましい。10質量%以上であると十分な近赤外線吸収効果が発現され、60質量%以下であると十分な量の可視光線を透過できる。以上の観点から、近赤外線吸収剤の粘着剤組成物における含有量は20〜40質量%(固形分換算)の範囲がより好ましい。   As for content in the adhesive composition of the said near-infrared absorber, the range of 10-60 mass% (solid content conversion) is preferable. When it is 10% by mass or more, a sufficient near-infrared absorption effect is exhibited, and when it is 60% by mass or less, a sufficient amount of visible light can be transmitted. From the above viewpoint, the content of the near-infrared absorbent in the pressure-sensitive adhesive composition is more preferably in the range of 20 to 40% by mass (in terms of solid content).

本発明においては、上述のように無機の近赤外線吸収剤を用いることが特に好ましいと言えるが、其の場合に於いても本発明の効果を奏する範囲内で、有機系や金属錯体等の他の近赤外線吸収剤を併用することもできる。例えば前記のジイモニウム系化合物等を併用することもできる。   In the present invention, it can be said that it is particularly preferable to use an inorganic near-infrared absorber as described above. However, in such a case, within the range where the effects of the present invention can be obtained, other organic systems, metal complexes, etc. The near-infrared absorber can also be used in combination. For example, the aforementioned diimonium compounds can be used in combination.

又、本発明において、好適な近赤外線吸收剤として、酸化タングステン系化合等の無機系化合物を用い、其の平均粒子径を40〜200nmとした場合、新たな問題点として、白濁及び青味がかった着色を生じることが判明した。此の原因は詳細は不明であるが、これら無機系化合物が一般に高屈折率であること(セシウム含有酸化タングステンの場合、屈折率が2.5)、及び特定の粒径の粒子によるレイリー散乱及び/又はミー散乱によるものと推測される。本発明者らが鋭意検討を重ねた結果、此の現象を低減する為には、酸化タングステン系化合物粒子を含む粘着剤層中に該酸化タングステン系化合物粒子よりも小粒子径の金屬酸化物微粒子を混合するか、或いは本発明の画像表示装置用フィルターの何れかの構成層中に赤色色素を混合すると良いことが判明した。斯かる金属酸化物微粒子は、その平均粒子径が5〜30nmの金属酸化物微粒子であり、本発明の効果を奏する範囲であれば、材料自体に制限はないが、上記近赤外線吸収剤との間で屈折率差が小さいものが好ましく、特にセシウム含有酸化タングステンの近赤外線吸收劑の場合には、酸化ジルコニウム及び酸化チタンが好適に挙げられる。これらの金属酸化物微粒子は、1種を単独で、又は2種以上を併用することもできる。   Further, in the present invention, when an inorganic compound such as a tungsten oxide compound is used as a suitable near-infrared absorber, and its average particle size is 40 to 200 nm, white turbidity and bluishness are added as new problems. It has been found that this causes coloration. The reason for this is unknown, but these inorganic compounds generally have a high refractive index (in the case of cesium-containing tungsten oxide, the refractive index is 2.5), and Rayleigh scattering by particles of a specific particle size and Presumably due to Mie scattering. In order to reduce this phenomenon, as a result of extensive studies by the present inventors, gold oxide fine particles having a particle diameter smaller than that of the tungsten oxide compound particles are contained in the pressure-sensitive adhesive layer containing the tungsten oxide compound particles. It has been found that it is preferable to mix a red pigment in a constituent layer of any of the filters for an image display device of the present invention. Such metal oxide fine particles are metal oxide fine particles having an average particle diameter of 5 to 30 nm, and the material itself is not limited as long as the effect of the present invention is achieved. In particular, in the case of near-infrared absorption of cesium-containing tungsten oxide, zirconium oxide and titanium oxide are preferable. These metal oxide fine particles can be used alone or in combination of two or more.

本発明における金属酸化物微粒子は、その平均粒子径が5〜30nmであることが肝要である。平均粒子径が5nm未満であると、透過色調の青味を消すことができず、本発明の効果を奏することができない。一方、平均粒子径が30nmを超えると、透過色調の青味を消すことができないと同時に白濁を生じる場合がある。本発明の効果をより高いレベルで達成するとの観点からは、該金属酸化物微粒子の平均粒子径は10〜20nmの範囲であることがより好ましい。
また、金属微粒子の形状については特に制限はないが球形が好ましい。
なお、金属酸化物微粒子の平均粒子径は、無機近赤外線吸収剤と同様に透過型電子顕微鏡を用いた方法により測定したものである。
It is important that the metal oxide fine particles in the present invention have an average particle size of 5 to 30 nm. If the average particle diameter is less than 5 nm, the blue color of the transmitted color tone cannot be erased, and the effects of the present invention cannot be achieved. On the other hand, if the average particle diameter exceeds 30 nm, the bluishness of the transmitted color tone cannot be eliminated, and at the same time, white turbidity may occur. From the viewpoint of achieving the effect of the present invention at a higher level, the average particle diameter of the metal oxide fine particles is more preferably in the range of 10 to 20 nm.
The shape of the metal fine particles is not particularly limited, but a spherical shape is preferable.
In addition, the average particle diameter of the metal oxide fine particles is measured by a method using a transmission electron microscope as in the case of the inorganic near infrared absorber.

上記金属酸化物微粒子の粘着剤組成物における含有量は、前記無機近赤外線吸収剤100質量部に対して50〜200質量部であることが好ましい。50質量部以上であると、透過色調の青味を消すことができ、一方、200質量部以下であると白濁の問題が生じない。以上の観点から、金属酸化物微粒子の含有量は無機近赤外線吸収剤100質量部に対して70〜150質量部の範囲がさらに好ましい。   It is preferable that content in the adhesive composition of the said metal oxide microparticles is 50-200 mass parts with respect to 100 mass parts of said inorganic near-infrared absorbers. When the amount is 50 parts by mass or more, the bluish color of the transmitted color tone can be eliminated, while when it is 200 parts by mass or less, the problem of cloudiness does not occur. From the above viewpoint, the content of the metal oxide fine particles is more preferably in the range of 70 to 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the inorganic near infrared absorber.

斯かる赤色色素としては、赤色染料及び赤色顔料を使用することができる。
赤色染料としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、C.I.アシッドレッド1,8,13,14,18,26,27,35,37,42,52,82,87,89,92,97,106,111,114,115,134,186,249,254,289等の酸性染料;C.I.ベーシックレッド2,12,13,14,15,18,22,23,24,27,29,35,36,38,39,46,49,51,52,54,59,68,69,70,73,78,82,102,104,109,112等の塩基性染料;C.I.リアクティブレッド1,14,17,25,26,32,37,44,46,55,60,66,74,79,96,97等の反応性染料;C.I.ソルベントレッド111、135、179、などが挙げられる。
また、赤色顔料としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、C.I.ピグメントレッド9、C.I.ピグメントレッド97、C.I.ピグメントレッド122、C.I.ピグメントレッド123、C.I.ピグメントレッド149、C.I.ピグメントレッド168、C.I.ピグメントレッド177、C.I.ピグメントレッド180、C.I.ピグメントレッド192、C.I.ピグメントレッド209、C.I.ピグメントレッド215、C.I.ピグメントレッド216、C.I.ピグメントレッド217、C.I.ピグメントレッド220、C.I.ピグメントレッド223、C.I.ピグメントレッド224、C.I.ピグメントレッド226、C.I.ピグメントレッド227、C.I.ピグメントレッド228、C.I.ピグメントレッド240、C.I.ピグメントレッド48:1、パーマネント・カーミンFBB(C.I.ピグメントレッド146)、パーマネント・ルビーFBH(C.I.ピグメントレッド11)、ファステル・ピンクBスプラ(C.I.ピグメントレッド81)、等が挙げられる。
上記赤色染料及び赤色顔料は、各々1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。また、赤色染料と赤色顔料を併用してもよい。
As such a red pigment, a red dye and a red pigment can be used.
There is no restriction | limiting in particular as a red dye, According to the objective, it can select suitably from well-known things, for example, C.I. I. Acid Red 1, 8, 13, 14, 18, 26, 27, 35, 37, 42, 52, 82, 87, 89, 92, 97, 106, 111, 114, 115, 134, 186, 249, 254 Acid dyes such as 289; C.I. I. Basic Red 2, 12, 13, 14, 15, 18, 22, 23, 24, 27, 29, 35, 36, 38, 39, 46, 49, 51, 52, 54, 59, 68, 69, 70, Basic dyes such as 73, 78, 82, 102, 104, 109, 112; I. Reactive dyes such as Reactive Red 1, 14, 17, 25, 26, 32, 37, 44, 46, 55, 60, 66, 74, 79, 96, 97; I. Solvent Red 111, 135, 179, etc. are mentioned.
The red pigment is not particularly limited and may be appropriately selected from known ones according to the purpose. I. Pigment red 9, C.I. I. Pigment red 97, C.I. I. Pigment red 122, C.I. I. Pigment red 123, C.I. I. Pigment red 149, C.I. I. Pigment red 168, C.I. I. Pigment red 177, C.I. I. Pigment red 180, C.I. I. Pigment red 192, C.I. I. Pigment red 209, C.I. I. Pigment red 215, C.I. I. Pigment red 216, C.I. I. Pigment red 217, C.I. I. Pigment red 220, C.I. I. Pigment red 223, C.I. I. Pigment red 224, C.I. I. Pigment red 226, C.I. I. Pigment red 227, C.I. I. Pigment red 228, C.I. I. Pigment red 240, C.I. I. Pigment Red 48: 1, Permanent Carmine FBB (CI Pigment Red 146), Permanent Ruby FBH (CI Pigment Red 11), Fastel Pink B Supra (CI Pigment Red 81), etc. Is mentioned.
Each of the red dye and the red pigment may be used alone or in combination of two or more. A red dye and a red pigment may be used in combination.

ネオン光吸収剤は、PDPから放射されるネオン光即ちネオン原子の発光スペクトルを吸収すべく添加されるものである。ネオン光吸収剤により、少なくともPDPからのオレンジ色発光が抑制可能で、鮮やかな赤色を得ることができる。ネオン光の発光スペクトル帯域は波長550〜640nmのため、ネオン光吸収層として機能する場合の分光透過率は波長590nmにおいて50%以下、さらに25%以下になるように設計することが好ましい。
ネオン光吸収剤は、少なくとも550〜640nmの波長領域内に吸収極大を有する色素を用いることができる。該色素の具体例としては、シアニン系、オキソノール系、メチン系、サブフタロシアニン系もしくはポルフィリン系等を挙げることができる。これらの中でもポルフィリン系が好ましい。その中でも特に、特許第3834479号公報に開示されるような、テトラアザポルフィリン系色素が、分散性が良好で、且つ耐熱性、耐湿性、耐光性が良好な点から好ましい。
ネオン光吸収剤の含有量は、特に限定されないが、ネオン光吸収層中に、0.05〜5質量%であることが好ましい。含有量が0.05質量%以上であれば充分なネオン光吸収機能を発現でき、5質量%以下であれば、充分な量の可視光線を透過できる。
調色剤は、画像表示装置からの発光の色純度や色再現範囲、電源OFF時の画像表示装置の表面色などの改善のために設けられるものである。すなわち、ディスプレイ用フィルターの色を調整するものであって、各ディスプレイ毎に色補正機能の要求が異なるため、適宜調整して用いられる。
The neon light absorber is added to absorb neon light emitted from the PDP, that is, an emission spectrum of neon atoms. The neon light absorber can suppress at least orange light emission from the PDP, and a bright red color can be obtained. Since the emission spectrum band of neon light has a wavelength of 550 to 640 nm, it is preferable that the spectral transmittance when functioning as a neon light absorption layer is designed to be 50% or less and further 25% or less at a wavelength of 590 nm.
As the neon light absorber, a dye having an absorption maximum in a wavelength region of at least 550 to 640 nm can be used. Specific examples of the dye include cyanine, oxonol, methine, subphthalocyanine or porphyrin. Of these, porphyrins are preferred. Among them, a tetraazaporphyrin-based dye as disclosed in Japanese Patent No. 3834479 is particularly preferable in terms of good dispersibility and good heat resistance, moisture resistance, and light resistance.
Although content of a neon light absorber is not specifically limited, It is preferable that it is 0.05-5 mass% in a neon light absorption layer. If the content is 0.05% by mass or more, a sufficient neon light absorbing function can be exhibited, and if it is 5% by mass or less, a sufficient amount of visible light can be transmitted.
The toning agent is provided for the purpose of improving the color purity of light emitted from the image display device, the color reproduction range, the surface color of the image display device when the power is turned off, and the like. That is, the color of the display filter is adjusted, and the color correction function is required for each display.

色補正色素として用いることのできる公知の色素としては、特開2000−275432号公報、特開2001−188121号公報、特開2001−350013号公報、特開2002−131530号公報等に記載の色素が好適に使用できる。さらに、この他にも、黄色光、赤色光、青色光等の可視光を吸収するアントラキノン系、ナフタレン系、アゾ系、フタロシアニン系、ピロメテン系、テトラアザポルフィリン系、スクアリリウム系、シアニン系等の色素を使用することができる。
色補正色素の含有量は、補正すべき色に合わせて適宜調整され、特に限定されない。通常、調色層中に0.01〜10質量%程度含有する。
Examples of known dyes that can be used as color correction dyes include the dyes described in JP 2000-275432 A, JP 2001-188121 A, JP 2001-350013 A, JP 2002-131530 A, and the like. Can be suitably used. In addition, dyes such as anthraquinone, naphthalene, azo, phthalocyanine, pyromethene, tetraazaporphyrin, squarylium, and cyanine that absorb visible light such as yellow light, red light, and blue light. Can be used.
The content of the color correction dye is appropriately adjusted according to the color to be corrected and is not particularly limited. Usually, about 0.01-10 mass% is contained in the toning layer.

紫外線吸収剤としては、紫外線を吸収することにより遮蔽する狭義の紫外線吸収剤の他、紫外線を散乱することによって遮蔽する紫外線散乱剤を用いることができる。
(狭義の)紫外線吸収剤としては、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、置換アクリロニトリル系、トリアジン系の紫外線吸収剤を使用することができる。
サリシレート系紫外線吸収剤の例としては、フェニルサリシレート、p−オクチルフェニルサリシレート、p−t−ブチルフェニルサリシレートなどが挙げられ、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例としては、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の例としては、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−tert−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−tert−アミル−5’−イソブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−イソブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−イソブチル−5’−プロピルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−[2’−ヒドロキシ−5’−(1,1,3,3−テトラメチル)フェニル]ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
As the ultraviolet absorber, in addition to a narrowly defined ultraviolet absorber that shields by absorbing ultraviolet rays, an ultraviolet scattering agent that shields by scattering ultraviolet rays can be used.
As the ultraviolet absorber (in a narrow sense), salicylate-based, benzophenone-based, benzotriazole-based, substituted acrylonitrile-based, and triazine-based ultraviolet absorbers can be used.
Examples of salicylate-based UV absorbers include phenyl salicylate, p-octylphenyl salicylate, pt-butylphenyl salicylate, and the like. Examples of benzophenone-based UV absorbers include 2,2′-dihydroxy-4- Methoxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4,4′-dimethoxybenzophenone, 2,2 ′, 4,4′-tetrahydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2- And hydroxy-4-octoxybenzophenone. Examples of the benzotriazole ultraviolet absorber include 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-tert-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3). '-Tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-tert-amyl-5'-isobutylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- ( 2'-hydroxy-3'-isobutyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-isobutyl-5'-propylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2 -(2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzoto Azole, 2- [2'-hydroxy-5 '- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenyl] benzotriazole and the like.

置換アクリロニトリル系紫外線吸収剤の例としては、2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリル酸エチル、2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリル酸2−エチルヘキシルなどが挙げられる。さらに、トリアジン系紫外線吸収剤の例としては、2−[4−[(2−ヒドロキシ−3−ドデシルオキシプロピル)オキシ]−2−ヒドロキシフェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−[4−[(2−ヒドロキシ−3−トリデシルオキシプロピル)オキシ]−2−ヒドロキシフェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジンなどのモノ(ヒドロキシフェニル)トリアジン化合物;2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピルオキシフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−3−メチル−4−プロピルオキシフェニル)−6−(4−メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−3−メチル−4−ヘキシルオキシフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジンなどのビス(ヒドロキシフェニル)トリアジン化合物;2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−6−(2,4−ジブトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス[2−ヒドロキシ−4−(3−ブトキシ−2−ヒドロキシプロピルオキシ)フェニル]−1,3,5−トリアジンなどのトリス(ヒドロキシフェニル)トリアジン化合物等が挙げられる。
本発明においては、前記各種の紫外線吸収剤は一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
Examples of the substituted acrylonitrile-based ultraviolet absorber include ethyl 2-cyano-3,3-diphenyl acrylate, 2-ethylhexyl 2-cyano-3,3-diphenyl acrylate, and the like. Furthermore, as an example of a triazine ultraviolet absorber, 2- [4-[(2-hydroxy-3-dodecyloxypropyl) oxy] -2-hydroxyphenyl] -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) ) -1,3,5-triazine, 2- [4-[(2-hydroxy-3-tridecyloxypropyl) oxy] -2-hydroxyphenyl] -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) Mono (hydroxyphenyl) triazine compounds such as 1,3,5-triazine and 2- (2,4-dihydroxyphenyl) -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine 2,4-bis (2-hydroxy-4-propyloxyphenyl) -6- (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (2-hydroxy); 3-methyl-4-propyloxyphenyl) -6- (4-methylphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (2-hydroxy-3-methyl-4-hexyloxyphenyl) -6 Bis (hydroxyphenyl) triazine compounds such as-(2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine; 2,4-bis (2-hydroxy-4-butoxyphenyl) -6- (2,4- Dibutoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (2-hydroxy-4-octyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris [2- And tris (hydroxyphenyl) triazine compounds such as hydroxy-4- (3-butoxy-2-hydroxypropyloxy) phenyl] -1,3,5-triazine.
In the present invention, the various ultraviolet absorbers may be used alone or in combination of two or more.

紫外線散乱剤としては、主に金属酸化物粉体などの無機系材料が用いられる。この紫外線散乱剤の例としては、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウムなどを微粒子化した粉体、あるいは二酸化チタン微粒子を酸化鉄で複合化処理してなるハイブリッド無機粉体、酸化セリウム微粒子の表面を非結晶性シリカでコーティングしてなるハイブリッド無機粉体などが挙げられる。紫外線散乱効果及び透明性は、粒子径に大きく影響を受けるので、本発明においては、前記紫外線散乱剤の平均粒子径は5μm以下が好ましく、特に10〜200nmの範囲が好ましい。   As the ultraviolet scattering agent, inorganic materials such as metal oxide powder are mainly used. Examples of this ultraviolet scattering agent include powders obtained by atomizing titanium dioxide, zinc oxide, cerium oxide, etc., hybrid inorganic powders obtained by complexing titanium dioxide fine particles with iron oxide, and the surface of cerium oxide fine particles. Examples include hybrid inorganic powders coated with amorphous silica. Since the ultraviolet scattering effect and transparency are greatly affected by the particle diameter, in the present invention, the average particle diameter of the ultraviolet scattering agent is preferably 5 μm or less, particularly preferably in the range of 10 to 200 nm.

本発明に於いて、表面側透明粘着剤層3又は裏面側透明粘着剤層6で用いる粘着剤組成物における樹脂は、粘着剤としての機能を果たすとともに、無機近赤外線吸収剤及び金属酸化物微粒子を結着させるためのバインダーの機能をも果たすものである。また、後に詳述するように、該粘着剤組成物を粘着剤層として使用する場合には、基材への塗工性、乾燥性及び硬化性等に優れるものが好ましい。具体的には、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ポリエステル系粘着剤などが好適に挙げられる。これらの樹脂は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
例えば、アクリル系粘着剤としては、モノマーとして少なくとも(メタ)アクリル酸アルキルエステルのモノマー(単量体)を重合させた重合体を用いることができる。該重合体としては、炭素原子数1〜18程度のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーとカルボキシル基を有するモノマーとの共重合体を用いるのが粘着剤としては一般的である。なお、本願明細書に於いて(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸またはメタクリル酸を意味する。また、同じように、以下の(メタ)アクリレートなどもアクリレート又はメタクリレートを意味する。
In the present invention, the resin in the pressure-sensitive adhesive composition used in the front-side transparent pressure-sensitive adhesive layer 3 or the back-side transparent pressure-sensitive adhesive layer 6 functions as a pressure-sensitive adhesive, and has an inorganic near-infrared absorber and metal oxide fine particles. It also fulfills the function of a binder for binding. Moreover, when using this adhesive composition as an adhesive layer so that it may explain in full detail later, what is excellent in the coating property to a base material, drying property, sclerosis | hardenability, etc. is preferable. Specifically, acrylic resins, rubber resins, polyester pressure-sensitive adhesives, and the like are preferable. These resins can be used alone or in combination of two or more.
For example, as the acrylic pressure-sensitive adhesive, a polymer obtained by polymerizing at least a monomer (monomer) of (meth) acrylic acid alkyl ester as a monomer can be used. As the polymer, it is common to use a copolymer of a (meth) acrylic acid alkyl ester monomer having an alkyl group having about 1 to 18 carbon atoms and a monomer having a carboxyl group. In the present specification, (meth) acrylic acid means acrylic acid or methacrylic acid. Similarly, the following (meth) acrylates also mean acrylates or methacrylates.

ここで、上記のようなモノマーを利用した重合体として、単独重合体や共重合体の具体例を挙げれば、次の様なものを挙げることができる。
例えば、上記(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーの単独重合体、つまり(メタ)アクリル酸エステル単独重合体としては、ポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル酸エチル、ポリ(メタ)アクリル酸プロピル、ポリ(メタ)アクリル酸ブチル、ポリ(メタ)アクリル酸オクチル等が挙げられる。
又、上記アクリル酸エステルモノマー2種以上から成る共重合体としては、たとえば、(メタ)アクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸エチル共重合体、(メタ)アクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸ブチル共重合体等があげられる。
又、上記(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマー1種以上と其の他モノマー1種以上との共重合体を用いることも出来る。其の他モノマーとしては、(メタ)アクリル酸2ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2ヒドロキシ3フェニルオキシプロピル等の水酸基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル、(メタ)アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸等のカルボキシル基を有するビニルモノマー、エチレン、スチレン等が挙げられる。
斯かる上記(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマー1種以上と其の他モノマー1種以上との共重合体の具体例としては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸2ヒドロキシエチル共重合体、(メタ)アクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸2ヒドロキシ3フェニルオキシプロピル共重合体、(メタ)アクリル酸メチル−スチレン共重合体、(メタ)アクリル酸メチル−エチレン共重合体、(メタ)アクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸2ヒドロキシエチル−スチレン共重合体、(メタ)アクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸ブチル−(メタ)アクリル酸2ヒドロキシエチル−スチレン共重合体が挙げられる。
Here, as specific examples of the homopolymer and the copolymer as the polymer using the monomer as described above, the following can be cited.
For example, homopolymers of the above (meth) acrylic acid alkyl ester monomers, that is, (meth) acrylic acid ester homopolymers include poly (meth) acrylate methyl, poly (meth) acrylate ethyl, poly (meth) acrylic And propyl acid, butyl poly (meth) acrylate, and octyl poly (meth) acrylate.
Examples of the copolymer composed of two or more acrylate monomers are, for example, methyl (meth) acrylate-ethyl (meth) acrylate copolymer, methyl (meth) acrylate-butyl (meth) acrylate. Examples thereof include copolymers.
Also, a copolymer of one or more (meth) acrylic acid alkyl ester monomers and one or more other monomers can be used. As other monomers, (meth) acrylic acid alkyl ester, (meth) acrylic acid, itaconic acid, maleic acid having a hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylate Examples thereof include vinyl monomers having a carboxyl group such as acid and fumaric acid, ethylene and styrene.
Specific examples of such a copolymer of one or more (meth) acrylic acid alkyl ester monomers and one or more other monomers include, for example, methyl (meth) acrylate-dihydroxyethyl (meth) acrylate. Copolymer, methyl (meth) acrylate- (meth) acrylic acid 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl copolymer, methyl (meth) acrylate-styrene copolymer, methyl (meth) acrylate-ethylene copolymer, (Meth) acrylate methyl- (meth) acrylate 2-hydroxyethyl-styrene copolymer, (meth) methyl acrylate-butyl (meth) acrylate-butyl (meth) acrylate 2-hydroxyethyl-styrene copolymer It is done.

本発明の粘着剤組成物の製造方法については、上記構成成分を混合すればよく、その方法については特に制限はない。更に必要に応じて、イソシアネート系、エポキシ系の架橋剤、粘着付与剤、シランカップリング剤、稀釈溶剤、体質顔料等の公知の各種添加剤を適宜添加しても良い。   About the manufacturing method of the adhesive composition of this invention, the said component may be mixed and there is no restriction | limiting in particular about the method. Furthermore, if necessary, various known additives such as isocyanate-based and epoxy-based crosslinking agents, tackifiers, silane coupling agents, diluent solvents, extender pigments and the like may be appropriately added.

本発明で用いる粘着剤組成物は、電磁波遮蔽フィルターなどの機能性フィルターの粘着剤層に好適に用いることができると共に、後述の各種吸收剤を添加することによって、該電磁波遮蔽フィルターに近赤外線吸収フィルター等の特定波長光吸收フィルターとしての機能を持たせることができる。   The pressure-sensitive adhesive composition used in the present invention can be suitably used for a pressure-sensitive adhesive layer of a functional filter such as an electromagnetic wave shielding filter, and by adding various absorbers described later, near-infrared absorption to the electromagnetic wave shielding filter. A function as a specific wavelength light absorption filter such as a filter can be provided.

図1に示す例では、表面側透明粘着剤層3は上述した粘着剤組成物を電磁波遮蔽層4の上に塗工して、又裏面側透明粘着剤層6は上述した粘着劑組成物を裏面側透明基材5の電磁波遮蔽層非形成面側上に塗工して得られる。これら粘着剤層3、6の厚さとしては、5〜800μmの範囲が好ましい。厚さが5μm以上であると、粘着剤としての機能を十分に果たし、硝子基板又は画像表示装置200等との十分な接着を得ることができるとともに、所定の吸收收剤を添加することによって近赤外線等の所定の不要輻射を十分に吸収することができる。特に、厚みを200μm程度以上とすることによって、実用上十分な耐衝撃性を付与可能である。一方、800μm以下であると過剰品質となって原材料価格が不必要に高騰することの抑制の点で有利である。以上の観点から、粘着剤層4の厚さは10〜500μmの範囲がさらに好ましく、20〜300の範囲が特に好ましい。なお、粘着剤層4の厚さを変えることで近赤外線等の所定の不要輻射の吸収効率を制御することができる。   In the example shown in FIG. 1, the surface side transparent adhesive layer 3 coats the adhesive composition mentioned above on the electromagnetic wave shielding layer 4, and the back surface side transparent adhesive layer 6 makes the adhesive pad composition mentioned above. It is obtained by coating on the non-electromagnetic wave shielding layer non-formation surface side of the back side transparent substrate 5. As thickness of these adhesive layers 3 and 6, the range of 5-800 micrometers is preferable. When the thickness is 5 μm or more, the function as a pressure-sensitive adhesive can be sufficiently achieved, and sufficient adhesion to the glass substrate or the image display device 200 can be obtained, and the addition of a predetermined absorber can be used. Predetermined unwanted radiation such as infrared rays can be sufficiently absorbed. In particular, practically sufficient impact resistance can be imparted by setting the thickness to about 200 μm or more. On the other hand, if it is 800 μm or less, it is advantageous in terms of suppressing excessive quality and unnecessarily high raw material prices. From the above viewpoint, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 4 is more preferably in the range of 10 to 500 μm, and particularly preferably in the range of 20 to 300. The absorption efficiency of predetermined unnecessary radiation such as near infrared rays can be controlled by changing the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 4.

次に、電磁波遮蔽層4について説明する。
本発明において、電磁波遮蔽層4は、図2に示すように、金属微粒子7bをバインダー樹脂7aによって結着した金属微粒子結着体7と、該金属微粒子結着体7の表面を被覆するニッケル柱状結晶集合体層8とからなり、表面被覆ニッケル柱状結晶集合体層8の最外面は光拡散性の微凹凸面である。
Next, the electromagnetic wave shielding layer 4 will be described.
In the present invention, as shown in FIG. 2, the electromagnetic wave shielding layer 4 includes a metal fine particle binder 7 in which metal fine particles 7b are bound by a binder resin 7a, and a nickel columnar shape that covers the surface of the metal fine particle binder 7. The outermost surface of the surface-coated nickel columnar crystal aggregate layer 8 is a light diffusive fine uneven surface.

電磁波遮蔽層4は、表面側透明基材2上に金属ペーストを所定のパターン状に印刷し、溶剤乾燥、或いは硬化反応等により固化して得た、金属微粒子7bがバインダー樹脂7aによって結着された、好ましくは多孔質の金属微粒子結着体7に、無電解ニッケルめっき処理及びエッチング処理を施すことにより製造される。
電磁波遮蔽層4の所定のパターンとは、電磁波シールド部材に通常採用されるメッシュ状(格子状、乃至網状)であってもストライプ状(縞状、乃至平行線群状)であってもよく、その線幅と線間ピッチも通常採用されている寸法であればよい。たとえば、線幅は5〜30μm、線間ピッチは100〜500μm、開口率は60〜95%、メッシュ形状としては正方格子であることが光透過性の点から好ましい。
電磁波遮蔽層4の厚みは、所望の導電率と所定の膜強度を確保できる範囲でできるだけ薄い方が、コスト上、さらにはその上への粘着剤貼合時の気泡混入をなくするという観点から好ましい。その厚みは、1〜20μm程度であることが好ましく、3〜10μm程度であることがより好ましい。
The electromagnetic wave shielding layer 4 is obtained by printing metal paste in a predetermined pattern on the transparent substrate 2 on the surface side and solidifying it by solvent drying or curing reaction, and the metal fine particles 7b are bound by the binder resin 7a. The porous metal fine particle binder 7 is preferably manufactured by subjecting it to electroless nickel plating and etching.
The predetermined pattern of the electromagnetic wave shielding layer 4 may be a mesh shape (lattice shape or net shape) or a stripe shape (stripe shape or parallel line group shape) that is usually employed for an electromagnetic wave shielding member. The line width and the inter-line pitch may be dimensions that are usually employed. For example, the line width is preferably 5 to 30 μm, the line pitch is 100 to 500 μm, the aperture ratio is 60 to 95%, and the mesh shape is preferably a square lattice from the viewpoint of light transmittance.
The thickness of the electromagnetic wave shielding layer 4 is as thin as possible within a range in which a desired conductivity and a predetermined film strength can be ensured, from the viewpoint of cost and further elimination of air bubbles at the time of adhering the adhesive thereon. preferable. The thickness is preferably about 1 to 20 μm, and more preferably about 3 to 10 μm.

ここで、金属微粒子結着体の空隙率は20〜80%であることが好ましく、30〜70%であることがより好ましい。空隙率が20%以上であれば、金属微粒子結着体において露出金属微粒子が少なくなって結着体内部における被めっき部位が少なくなることがなく、結着体内部へのめっき金属イオンの供給も容易である。一方、空隙率が80%以下であればめっき処理後の電磁波遮蔽層の強度が強い。
本発明の金属微粒子結着体において、金属微粒子、バインダー樹脂の構成比率は、金属微粒子100質量部に対し、バインダー樹脂が1〜50質量部であることが好ましく、3〜30質量部であることがより好ましい。
Here, the porosity of the metal fine particle binder is preferably 20 to 80%, and more preferably 30 to 70%. If the porosity is 20% or more, the exposed metal fine particles in the metal fine particle binder are not reduced, and the portion to be plated in the binder is not reduced, and the supply of plated metal ions to the inside of the binder is also possible. Easy. On the other hand, if the porosity is 80% or less, the strength of the electromagnetic wave shielding layer after plating is strong.
In the metal fine particle binder of the present invention, the constituent ratio of the metal fine particles and the binder resin is preferably 1 to 50 parts by mass, and preferably 3 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the metal fine particles. Is more preferable.

上記金属微粒子結着体の製造に用いる金属ペーストは、流動状態(液状)のバインダー樹脂組成物に金属微粒子を均一分散させたものであり、これを固化することにより金属微粒子結着体(層)が形成される。以下のようなものである。
金属微粒子としては、金、銀、白金、銅、鉄、錫、ニッケル、アルミニウムなどの金属粒子あるいは複合金属粒子が使用できる。これらは単独で用いてもよく、混合して用いてもよい。ここで、金、銀、ニッケルなどの金属はパターン印刷直後に通電可能な程度の導電性が発現するが、銅、鉄、アルミニウムなど空気中で酸化されやすい金属はパターン印刷後に電気化学処理や薬品処理などを行うことで通電可能な導電性を発現させることができる。特に銅粉の場合は表面の酸化被膜の抵抗が高く、結着体の抵抗も粒子の酸化被膜同士が接触しているため著しく高い。そのため、薬品処理などで表面の酸化被膜を除去することは必須であるが、この酸化被膜は酸性溶液に浸漬することで容易に除去できるため、塩酸、希硫酸等の酸浴あるいは、酸性のめっき浴などを通過させるだけでよい。この場合、金属析出により銅粉同士が結合されてしまえば、空気酸化による再絶縁化は進行しない。
金属微粒子の粒子サイズは、ペースト化できる程度に小さいのが好ましく、100μm以下の粒径が好ましいが、メッシュパターンの線幅よりは十分に小さいほうが好ましく、通常は10μm以下であることがより好ましい。また形状は球状、回転楕円体状、多面体状、塊状、鱗片状、円盤状、繊維状ないし針状など特に制限はなく、各種形状、粒径などを持った粒子を適宜混合して用いてもよい。なお、粒径は、球以外の形状の場合は、回転楕円体の場合は最大長径、多面体の場合は外接球の直径、あるいは最大の対角線長、繊維状ないし針状の場合は長手方向(長軸方向)の長さ等で評価する。
The metal paste used for producing the metal fine particle binder is obtained by uniformly dispersing metal fine particles in a fluid (liquid) binder resin composition, and solidifying the metal fine particle binder (layer). Is formed. It is as follows.
As the metal fine particles, metal particles such as gold, silver, platinum, copper, iron, tin, nickel, aluminum, or composite metal particles can be used. These may be used alone or in combination. Here, metals such as gold, silver, and nickel exhibit conductivity that can be energized immediately after pattern printing, but metals that are easily oxidized in the air, such as copper, iron, and aluminum, are subjected to electrochemical treatment and chemicals after pattern printing. Conductivity that can be energized can be developed by performing treatment or the like. In particular, in the case of copper powder, the resistance of the oxide film on the surface is high, and the resistance of the binder is extremely high because the oxide films of the particles are in contact with each other. Therefore, it is essential to remove the oxide film on the surface by chemical treatment, etc., but this oxide film can be easily removed by immersing it in an acidic solution. It is only necessary to pass a bath. In this case, if copper powders are bonded by metal deposition, re-insulation by air oxidation does not proceed.
The particle size of the metal fine particles is preferably small enough to make a paste, and preferably has a particle size of 100 μm or less, but is preferably sufficiently smaller than the line width of the mesh pattern, and more preferably 10 μm or less. The shape is not particularly limited, such as spherical, spheroid, polyhedral, lump, scale, disk, fiber, or needle shape, and particles having various shapes, particle sizes, and the like may be used by appropriately mixing them. Good. In addition, the particle diameter is the maximum long diameter in the case of a spheroid in the case of a shape other than a sphere, the diameter of a circumscribed sphere in the case of a polyhedron, or the maximum diagonal length, and the longitudinal direction (long) in the case of a fibrous or needle shape. Axis length) etc. are evaluated.

バインダー樹脂としては、金属微粒子および基材に接着性を有し、めっき液に対して安定した塗膜を保てる樹脂であればよく、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エチレン−酢酸ビニル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂等を用いることができる。バインダー樹脂に流動性を賦与し、そしてこれを固化する方法としては、代表的には、固体状のバインダー樹脂を溶剤に溶解又は分散せしめて流動状態にして、かかる溶剤を乾燥することにより固化せしめる方法、或いは未硬化状態において流動状態を呈する樹脂単量体又はプレポリマーを架橋乃至重合による硬化反応によって固化せしめる方法が挙げられる。
溶剤としては、バインダー樹脂を溶解するものであって、沸点が100〜250℃程度の有機溶剤を用いることができる。沸点が低すぎると、ペースト作製時あるいはパターン印刷時に溶剤が揮散してペースト性状等が変化して不都合が生じ、沸点が高すぎると、印刷後の乾燥に時間がかかりすぎる。
空隙率が20〜80%である金属微粒子結着体を得るためには、少なくとも金属微粒子100質量部に対し、バインダー樹脂が1〜50質量部とからなる固形分60〜90質量%の金属ペーストであることが好ましい。
The binder resin may be any resin that has adhesion to the metal fine particles and the base material and can maintain a stable coating film against the plating solution, such as acrylic resin, polyester resin, ethylene-vinyl acetate resin, urethane resin, phenol. Resins, epoxy resins, and the like can be used. As a method for imparting fluidity to the binder resin and solidifying the binder resin, the solid binder resin is typically dissolved or dispersed in a solvent to be in a fluid state, and the solvent is solidified by drying. Examples thereof include a method of solidifying a resin monomer or prepolymer that exhibits a fluid state in an uncured state by a curing reaction by crosslinking or polymerization.
As the solvent, an organic solvent which dissolves the binder resin and has a boiling point of about 100 to 250 ° C. can be used. If the boiling point is too low, the solvent is volatilized during paste preparation or pattern printing and the paste properties and the like change, resulting in inconvenience. If the boiling point is too high, drying after printing takes too much time.
In order to obtain a metal fine particle binder having a porosity of 20 to 80%, a metal paste having a solid content of 60 to 90% by mass and comprising 1 to 50 parts by mass of a binder resin with respect to at least 100 parts by mass of the metal fine particles. It is preferable that

金属ペーストを基材上にパターン状に印刷する印刷法は本発明の効果を特に制限するものではなく、金属ペーストの性状により適宜選択して用いればよい。
ナノメートルサイズの金属微粒子を用いる場合は一般に金属ペーストの粘度が低く、グラビア印刷等の凹版印刷、インクジェット印刷、フレキソ印刷などが適しており、サブミクロン〜ミクロン程度の金属微粒子を用いる場合は一般に金属ペーストの粘度が高く、グラビア印刷等の凹版印刷、フレキソ印刷、シルクスクリーン印刷やディスペンサーなどが適している。
印刷後、たとえば、金属ペーストが固体樹脂の溶剤溶液乃至分散液からなる場合は80〜150℃程度で熱風乾燥して、溶剤を揮散させることで、また、金属ペーストが固体樹脂のモノマー(単量体)乃至はプレポリマー(オリゴマー)の未硬化物からなる場合は紫外線照射、電子線照射、加熱等の適宜手段により硬化反応を生起せしめることによって、金属ペーストを固化せしめ、基材上にパターン状に形成された金属微粒子結着体を得る。
The printing method for printing the metal paste in a pattern on the substrate does not particularly limit the effect of the present invention, and may be appropriately selected depending on the properties of the metal paste.
When using metal fine particles of nanometer size, the viscosity of the metal paste is generally low, and intaglio printing such as gravure printing, ink jet printing, flexographic printing, etc. are suitable, and when using metal fine particles of submicron to micron, generally metal The paste has a high viscosity, and intaglio printing such as gravure printing, flexographic printing, silk screen printing, and dispenser are suitable.
After printing, for example, when the metal paste is made of a solid resin solvent solution or dispersion, it is dried with hot air at about 80 to 150 ° C. to volatilize the solvent. Body) or prepolymer (oligomer) uncured product, the metal paste is solidified by causing a curing reaction by appropriate means such as ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, heating, etc., and patterned on the substrate. A metal fine particle binder formed in the above is obtained.

本発明においては、上記の多孔質の金属微粒子結着体7を無電解ニッケルめっき処理することにより、ニッケル柱状結晶集合体層8(図2参照)で該金属微粒子結着体の表面を被覆し、好ましくは、該金属微粒子結着体の内部空隙の少なくとも一部をも充填する。
被めっき物である金属微粒子結着体表面に形成されたニッケル柱状結晶集合体層は、長手方向(柱の長さ方向)がめっき皮膜の厚さ方向に配向した多数の柱状結晶の集合体である。このような柱状結晶集合体であるゆえに、これをエッチング処理することにより、その表面が粗化して光拡散性の微凹凸面となり、黒色外観を呈することとなる。斯かる表面のエッチング処理としては、例えば、塩化第2鉄水溶液から成る腐蝕液にて、最表面層近傍のみをエッチングすることにより得られる。
かかる柱状結晶集合体は、無電解ニッケルめっき液処理により形成することができる。電解ニッケルめっき液処理、無電解銅めっき液処理など他のめっき液処理では柱状結晶集合体は形成されないため、エッチング処理しても黒色外観は得られない。このような柱状結晶化には、無電解ニッケルめっき液に含まれる次亜リン酸塩などに基づくリン(燐)の存在が必要なようである(ニッケル柱状結晶集合体層中にも1〜2質量%程度リンが含まれる)。
また、金属微粒子結着体の表面を被覆するニッケル柱状結晶集合体層の膜厚は、2〜5μm程度であることが好ましい。膜厚が2μm未満であると導電性向上効果が不十分である。また、膜厚が5μm以上であると導電性向上効果も飽和すると共に電磁波遮蔽層の基材からの突出高さが高くなるため、後工程で該電磁波遮蔽層上に接着剤層を介して各種層を積層する際に接着剤層中への気泡混入を生じ易くなる。
又、斯かるニッケル柱状結晶集合体層8は黒色外観を呈し、日光、電燈光等の外来光が金属光沢を有する電磁波遮蔽層4表面で反射することに起因する、表示画像の白化、コントラスト低下を防止する機能を有する。それ故、ニッケル柱状結晶集合体層8は電磁波遮蔽層4の画像観察者側の面、図1の如き層構成の画像表示装置用フィルターの場合では表面調整フィルター10側の面(図1で云うと上側の面)に形成する。前記の如き製造工程に従って製造すれば、自ずと此の様な位置関係が得られる。
In the present invention, the surface of the metal fine particle binder is coated with the nickel columnar crystal aggregate layer 8 (see FIG. 2) by subjecting the porous metal fine particle binder 7 to electroless nickel plating. Preferably, at least a part of the internal voids of the metal fine particle binder is also filled.
The nickel columnar crystal aggregate layer formed on the surface of the metal fine particle binder as the object to be plated is an aggregate of a large number of columnar crystals whose longitudinal direction (column length direction) is oriented in the thickness direction of the plating film. is there. Since it is such a columnar crystal aggregate, when it is etched, its surface is roughened to form a light diffusive fine uneven surface, and a black appearance is exhibited. Such a surface etching treatment can be obtained, for example, by etching only the vicinity of the outermost surface layer with a corrosive solution made of a ferric chloride aqueous solution.
Such columnar crystal aggregates can be formed by an electroless nickel plating solution treatment. Since columnar crystal aggregates are not formed by other plating solution treatments such as electrolytic nickel plating solution treatment and electroless copper plating solution treatment, a black appearance cannot be obtained even by etching treatment. Such columnar crystallization seems to require the presence of phosphorus based on hypophosphite contained in the electroless nickel plating solution (1-2 in the nickel columnar crystal aggregate layer). Contains about phosphorus by mass).
The thickness of the nickel columnar crystal aggregate layer covering the surface of the metal fine particle binder is preferably about 2 to 5 μm. When the film thickness is less than 2 μm, the effect of improving conductivity is insufficient. In addition, when the film thickness is 5 μm or more, the conductivity improving effect is saturated and the protrusion height of the electromagnetic wave shielding layer from the base material is increased. When the layers are laminated, bubbles are likely to be mixed into the adhesive layer.
Further, the nickel columnar crystal aggregate layer 8 has a black appearance, and white light of a display image and a decrease in contrast due to reflection of extraneous light such as sunlight and electric light from the surface of the electromagnetic wave shielding layer 4 having a metallic luster. It has the function to prevent. Therefore, the nickel columnar crystal aggregate layer 8 is a surface on the image observer side of the electromagnetic wave shielding layer 4, or a surface on the surface adjustment filter 10 side in the case of a filter for an image display device having a layer structure as shown in FIG. And the upper surface). Such a positional relationship can be naturally obtained by manufacturing according to the manufacturing process as described above.

図3は、本発明の別実施態様の無電解ニッケルめっき前の中間部材を示す模式的な断面図である。
当該別実施態様の中間部材は、表面側透明基材2上に電離放射線硬化性樹脂等に代表される液状の樹脂組成物から成るプライマー層9を形成し、その上に、金属ペーストを凹版印刷し、プライマー層を硬化させて、しかる後に版面から硬化(乃至固化)したプライマー層9及び電磁波遮蔽層4を構成する金属微粒子結着体7一緒に引き抜く、所謂「引き抜きプライマー法」を適用する中間部材である。
この「引き抜きプライマー法」を適用する中間部材におけるプライマー層9は、図3に示すように、金属微粒子結着体7が形成されている部分A(パターン状の電磁波遮蔽層4が形成されている部分に同じ)の厚さTAが、金属微粒子結着体7が形成されていない部分B(パターン状の電磁波遮蔽層が形成されていない部分(開口部)に同じ)の厚さTBよりも大きい。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an intermediate member before electroless nickel plating according to another embodiment of the present invention.
In the intermediate member of the other embodiment, a primer layer 9 made of a liquid resin composition typified by ionizing radiation curable resin is formed on the surface-side transparent substrate 2, and a metal paste is intaglio-printed thereon. Then, the primer layer is cured, and then the primer layer 9 cured (or solidified) from the plate surface and the metal fine particle binder 7 constituting the electromagnetic wave shielding layer 4 are extracted together, so-called “pulling primer method” is applied. It is a member.
As shown in FIG. 3, the primer layer 9 in the intermediate member to which this “pulling primer method” is applied is a portion A (patterned electromagnetic wave shielding layer 4 formed with the metal fine particle binder 7 formed thereon. the thickness T a of the same) in portions, the portion B where the metal fine particle binder body 7 is not formed (patterned electromagnetic shielding layer is not formed portion (opening) in the same) than the thickness T B Is also big.

プライマー層9は、表面側透明基材2上に密着性よく設けられる。そして、このプライマー層9上には金属微粒子結着体7の層が密着性よく設けられる。したがって、プライマー層9は、表面側透明基材2と金属微粒子結着体7の層の両方に対して密着性がよい材料であることが好ましく、また、当然のことながら透明であることが好ましい。代表的形態としては、未硬化状態において液状(流動性)の電離放射線重合性化合物を含む電離放射線硬化性組成物を塗工し、硬化(固体化)させる方法により設ける。
この電離放射線重合性化合物としては、電離放射線で架橋等の反応により重合硬化するモノマー(単量体)及び/又はプレポリマー(乃至はオリゴマー)が用いられる。
The primer layer 9 is provided on the surface side transparent substrate 2 with good adhesion. A layer of the metal fine particle binder 7 is provided on the primer layer 9 with good adhesion. Accordingly, the primer layer 9 is preferably a material having good adhesion to both the surface-side transparent base material 2 and the layer of the metal fine particle binder 7, and naturally, it is preferably transparent. . As a typical form, an ionizing radiation curable composition containing a liquid (fluid) ionizing radiation polymerizable compound in an uncured state is applied and cured (solidified).
As the ionizing radiation polymerizable compound, a monomer (monomer) and / or a prepolymer (or oligomer) that is polymerized and cured by a reaction such as crosslinking with ionizing radiation is used.

かかるモノマーとしては、ラジカル重合性モノマーとして、例えば、メチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレートなどの単官能(メタ)アクリレート類、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどの多官能(メタ)アクリレート類等の各種(メタ)アクリレートが挙げられる。なお、ここで(メタ)アクリレートとの表記は、アクリレート又はメタクリレートを意味する。カチオン重合性モノマーとして、例えば、3,4−エポキシシクロヘキセニルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレートなどの脂環式エポキシド類、ビスフェノールAジグリシジルエーテルなどグリシジルエーテル類、4−ヒドロキシブチルビニルエーテルなどビニルエーテル類、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタンなどオキセタン類等が挙げられる。
また、かかるプレポリマーとしては、ラジカル重合性プレポリマーとして、例えば、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート等の各種(メタ)アクリレートプレポリマー、不飽和ポリエステルプレポリマー等が挙げられる。その他、カチオン重合性プレポリマーとして、例えば、ノボラック系型エポキシ樹脂プレポリマー、芳香族ビニルエーテル系樹脂プレポリマー等が挙げられる。
これらモノマー、或いはプレポリマーは、要求される性能、塗布適性等に応じて、1種類単独で用いるほか、モノマーを2種類以上混合したり、プレポリマーを2種類以上混合したり、或いはモノマー1種類以上とプレポリマー1種類以上とを混合して用いたりすることができる。
Examples of such monomers include radically polymerizable monomers such as methyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, and dicyclopentenyl (meth) ) Monofunctional (meth) acrylates such as acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate And various (meth) acrylates such as polyfunctional (meth) acrylates such as pentaerythritol tri (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. Here, the expression (meth) acrylate means acrylate or methacrylate. Examples of the cationic polymerizable monomer include alicyclic epoxides such as 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexene carboxylate, glycidyl ethers such as bisphenol A diglycidyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether And vinyl ethers, and oxetanes such as 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane.
Examples of such prepolymers include radically polymerizable prepolymers such as various (meth) acrylate prepolymers such as urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, and polyester (meth) acrylate, and unsaturated polyester prepolymers. Is mentioned. Other examples of the cationic polymerizable prepolymer include novolac type epoxy resin prepolymer and aromatic vinyl ether type resin prepolymer.
These monomers or prepolymers can be used alone or in combination with two or more types of monomers, two or more types of prepolymers, or one type of monomer, depending on the required performance, coating suitability, etc. A mixture of the above and one or more prepolymers can be used.

電離放射線として、紫外線、又は可視光線を採用する場合には、通常は、光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、ラジカル重合性のモノマー又はプレポリマーの場合には、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンゾイン系等の化合物が、又カチオン重合系のモノマー又はプレポリマーの場合には、メタロセン系、芳香族スルホニウム系、芳香族ヨードニウム系等の化合物が用いられる。これら光重合開始剤は、上記モノマー及び/又はプレポリマーからなる組成物100質量部に対して、0.1〜5質量部程度添加する。
なお、電離放射線としては、紫外線、又は電子線が代表的なものであるが、この他、可視光線、X線、γ線等の電磁波、或いはα線等の荷電粒子線を用いることもできる。
When ultraviolet rays or visible rays are employed as the ionizing radiation, a photopolymerization initiator is usually added. As a photopolymerization initiator, in the case of a radical polymerizable monomer or prepolymer, a compound such as a benzophenone-based, thioxanthone-based, or benzoin-based compound, or in the case of a cationic polymerization-based monomer or prepolymer, a metallocene-based compound, Aromatic sulfonium-based and aromatic iodonium-based compounds are used. These photopolymerization initiators are added in an amount of about 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the composition comprising the monomer and / or prepolymer.
The ionizing radiation is typically ultraviolet rays or electron beams, but other than these, electromagnetic waves such as visible rays, X-rays and γ rays, or charged particle beams such as α rays can also be used.

また、電離放射線硬化性組成物は、密着性、耐久性改善、各種物性付与のために各種添加剤や変性樹脂を使用してもよい。該添加剤としては、例えば、熱安定剤、ラジカル捕捉剤、可塑剤、界面活性剤、帯電防止剤、酸化防止剤、体質顔料、難燃剤等が挙げられる。尚、吸收剤と粘着剤との反応による吸收剤劣化、吸收剤添加による粘着特性の低下等の諸般の事情により、前記表面側透明粘着剤層或は裏面側透明粘着剤層中には、紫外線吸收剤、ネオン光吸收剤、近赤外線吸收剤、或は調色剤(着色染料、着色顔料等の有彩色色素)の全部を含有させ得無い場合には、これら粘着剤そう中に含有させ無かった吸收剤を該プライマー層中に添加することが出来る。或は、これら吸收剤を前記表面側透明粘着剤層3、裏面側透明粘着剤層6、及びプライマー層9の3層に適宜分担させて含有させることも出来る。此の場合には、特定の層に全吸收剤が集中することによる、該特定層本来の機能の低下、或は該特定層と吸收剤との相互作用による問題(が若し存在する場合には)を解消することが出来る。勿論、前記表面側透明粘着剤層或は裏面側透明粘着剤層中の何れか1層又は2層中にのみ全吸收剤を添加可能な場合には、敢えてプライマー層中にこれら吸收剤を含有せしめる必要な無い。
この電離放射線硬化性組成物は、溶剤を含んでもよいが、その場合塗布後に乾燥工程が必要であるため、溶剤を含まないタイプ(ノンソルベントタイプ)であることが好ましい。
In addition, the ionizing radiation curable composition may use various additives and modified resins for improving adhesion, durability, and imparting various physical properties. Examples of the additive include a heat stabilizer, a radical scavenger, a plasticizer, a surfactant, an antistatic agent, an antioxidant, an extender pigment, and a flame retardant. The surface-side transparent adhesive layer or the back-side transparent adhesive layer contains ultraviolet rays due to various circumstances such as deterioration of the absorbent due to the reaction between the absorbent and the adhesive, and deterioration of the adhesive properties due to the addition of the absorbent. If all of the absorber, neon light absorber, near-infrared absorber, or toning agent (chromatic dyes such as coloring dyes and coloring pigments) cannot be contained, they should not be included in these adhesives. Absorbent can be added to the primer layer. Alternatively, these absorbents can be contained in the three layers of the front-side transparent adhesive layer 3, the back-side transparent adhesive layer 6, and the primer layer 9 as appropriate. In this case, when all the absorbents are concentrated in a specific layer, the original function of the specific layer is deteriorated, or a problem due to the interaction between the specific layer and the absorbent (if present). Can be resolved). Of course, when all the absorbents can be added only in one or two of the front side transparent adhesive layer or the back side transparent adhesive layer, the primer layer contains these absorbents. There is no need to let them go.
This ionizing radiation curable composition may contain a solvent, but in this case, since a drying step is required after coating, it is preferable that the composition does not contain a solvent (non-solvent type).

図1に示すような、画像表示装置用フィルターの製造方法としては、公知の各種の工程順序及び加工方法を適宜組合せればよく、特に制限は無い。代表的な製造方法の1例を例示すると、上述の方法により、裏面側透明基材5上に、前記金属ペーストをパターン状に印刷し、固化して金属微粒子7bがバインダー樹脂7aによって結着された金屬微粒子結着体7の表面に、無電解ニッケルめっき処理及びエッチング処理を施してニッケル柱状結晶集合体層8を被覆して成る電磁波遮蔽層4を形成し、電磁波遮蔽フィルター20を得る。
一方、表面側透明基材2上に、反射防止層等の表面調整層1を前述の如き公知の方法、材料によって設ける、表面調整フィルター10を得る。又、並行して、所望の吸收剤を適宜含有せしめた、表面側透明粘着剤層用の粘着剤組成物、及び裏表面側透明粘着剤層用の粘着剤組成物を用意する。次いで、電磁波遮蔽層4上に表面側透明粘着剤層用の粘着剤層形成用塗工液を塗布し、乾燥・硬化して表面側透明粘着剤層3を得る。次いで、該表面側透明粘着剤層の表面に該表面調整フィルター10を、其の表面側透明基材2の表面調整層非形成面側が電磁波遮蔽層と対峙する向きで、積層する。而かる後に、該裏面側透明基材5の電磁波遮蔽層非形成面側に該裏面側透明粘着剤層用の粘着剤層形成用塗工液を塗布し、乾燥・硬化して裏面側透明粘着剤層6を形成する。斯くして、図1の如き層構成の本発明の画像表示用フィルター得る。
粘着剤層形成用塗工液は、前記粘着剤組成物に、必要に応じ、適当な溶剤を所定の割合で加え、溶解又は分散させることにより、調製することができる。
As a method for manufacturing the filter for an image display device as shown in FIG. 1, various known process sequences and processing methods may be appropriately combined, and there is no particular limitation. As an example of a typical production method, the metal paste is printed in a pattern on the back side transparent base material 5 by the above-described method, and solidified to bind the metal fine particles 7b with the binder resin 7a. The electromagnetic shielding layer 20 is obtained by applying the electroless nickel plating process and the etching process to the surface of the gold alloy fine particle binder 7 to cover the nickel columnar crystal aggregate layer 8, thereby obtaining the electromagnetic shielding filter 20.
On the other hand, a surface adjustment filter 10 is obtained in which the surface adjustment layer 1 such as an antireflection layer is provided on the surface side transparent substrate 2 by the known methods and materials as described above. In parallel, a pressure-sensitive adhesive composition for the surface-side transparent pressure-sensitive adhesive layer and a pressure-sensitive adhesive composition for the back-surface-side transparent pressure-sensitive adhesive layer, each containing a desired absorbent, are prepared. Next, a coating liquid for forming a pressure-sensitive adhesive layer for the surface-side transparent pressure-sensitive adhesive layer is applied on the electromagnetic wave shielding layer 4, dried and cured, and the surface-side transparent pressure-sensitive adhesive layer 3 is obtained. Next, the surface adjustment filter 10 is laminated on the surface of the surface side transparent pressure-sensitive adhesive layer so that the surface adjustment layer non-formation surface side of the surface side transparent base material 2 faces the electromagnetic wave shielding layer. After that, the back side transparent adhesive 5 is coated with a coating solution for forming the back side transparent adhesive layer on the non-electromagnetic wave shielding layer non-forming side, dried and cured, and then back side transparent adhesive The agent layer 6 is formed. Thus, the image display filter of the present invention having the layer structure as shown in FIG. 1 is obtained.
The pressure-sensitive adhesive layer-forming coating solution can be prepared by adding an appropriate solvent at a predetermined ratio to the pressure-sensitive adhesive composition as necessary, and dissolving or dispersing the solvent.

溶剤としては、例えばヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素;トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素;塩化メチレン、塩化エチレンなどのハロゲン化炭化水素、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、1−メトキシ−2−プロパノールなどのアルコール;アセトン、メチルエチルケトン、2−ペンタノン、メチルイソブチルケトン、イソホロンなどのケトン;酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル;エチルセロソルブなどのセロソルブ系溶剤などが挙げられる。
また、ここで添加し得る各種添加剤としては、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、レベリング剤、消泡剤などが挙げられる。
塗工液の濃度、粘度については、コーティング可能な濃度、粘度であればよく、特に制限されない。
Examples of the solvent include aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and cyclohexane; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and ethylene chloride, methanol, ethanol, propanol, butanol, and 1-methoxy. Examples include alcohols such as 2-propanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, 2-pentanone, methyl isobutyl ketone, and isophorone; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; and cellosolv solvents such as ethyl cellosolve.
Moreover, as various additives which can be added here, antioxidant, a ultraviolet absorber, a light stabilizer, a leveling agent, an antifoamer etc. are mentioned, for example.
The concentration and viscosity of the coating solution are not particularly limited as long as the concentration and viscosity can be coated.

裏面側透明基材5及び電磁波遮蔽層4上に上記塗工液を塗工する方法としては、従来公知の方法、例えばバーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、コンマコート、グラビアコート法などを用いることができる。塗工し、塗膜を形成させた後、乾燥させることにより、粘着剤層が形成される。   As a method for coating the coating liquid on the back side transparent substrate 5 and the electromagnetic wave shielding layer 4, a conventionally known method such as a bar coating method, a knife coating method, a roll coating method, a blade coating method, a die coating method, A comma coat, a gravure coat method, etc. can be used. After applying and forming a coating film, an adhesive layer is formed by drying.

本発明の画像表示装置用フィルターは、プラズマディスプレイ(PDP)、ブラウン管ディスプレイ(CRT)、液晶ディスプレイ(LCD)などの画像表示装置用として好適であり、特にプラズマディスプレイ用として好適である。   The filter for an image display device of the present invention is suitable for an image display device such as a plasma display (PDP), a cathode ray tube display (CRT), or a liquid crystal display (LCD), and particularly suitable for a plasma display.

次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例によりなんら限定されるものではない。   EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited at all by these examples.

製造例1
100μm厚、500mm×500mmの大きさの2軸延伸ポリエチレンテレフタレート(PET)から成る表面側透明基材2の一方の表面上に、シルクスクリーン印刷法にて、バイロン200(東洋紡績(株)製)(ポリエステル系のバインダー樹脂7a)5質量部をDBE(デュポン社製;二塩基酸エステル)(溶剤)27.5質量部に溶解させた溶液に金屬微粒子7bとして粒径5μmの銀粉67.5質量部を均一分散させた金属ペーストを、格子状パターンに印刷した。このものを120℃で熱風乾燥してDBEを揮散させ、PET基材上に、線幅20μm、ピッチ300μm、厚み10μmの正方格子のパターンで空隙率が41%(水銀ポロシメーター((株)島津製作所製オートポアIV9520)にて測定)の金属微粒子結着体7が形成された中間部材を得た。
その中間部材の金属微粒子結着体層の厚みは10μm、表面抵抗は1.0Ω/□であった。
Production Example 1
Byron 200 (manufactured by Toyobo Co., Ltd.) by silk screen printing on one surface of a transparent substrate 2 made of biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) having a thickness of 100 μm and a size of 500 mm × 500 mm. (Polyester-based binder resin 7a) 57.5 parts by weight of DBE (manufactured by DuPont; dibasic acid ester) (solvent) 27.5 parts by weight of the solution was dissolved in 27.5 parts by weight of gold fine particles 7b and silver powder with a particle diameter of 5 μm 67.5 A metal paste having portions uniformly dispersed was printed in a lattice pattern. This was dried with hot air at 120 ° C. to evaporate DBE, and a porosity of 41% in a square lattice pattern with a line width of 20 μm, a pitch of 300 μm and a thickness of 10 μm on a PET substrate (mercury porosimeter (Shimadzu Corporation) An intermediate member on which the metal fine particle binder 7 measured by Autopore IV9520) was formed was obtained.
The thickness of the metal fine particle binder layer of the intermediate member was 10 μm, and the surface resistance was 1.0Ω / □.

製造例2
片面に易接着処理がされた幅1000mmで厚さ100μmの長尺ロール巻PETフィルムから成る表面側透明基材2を繰り出し、易接着処理面にプライマー層9形成用の未硬化で流動状態の電離放射線硬化性組成物を厚さ8μmとなるように塗布形成した。塗布方式は、通常のグラビアリバース法を採用し、電離放射線硬化性組成物としては、エポキシアクリレートプレポリマー40質量部、単官能モノマー(フェノキシエチルアクリレートからなる親水性でない単官能アクリレートモノマー混合物)53質量部、3官能モノマー(エチレンオキシド変性イソシアヌル酸トリアクリレート)7質量部、さらに光開始剤として1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(イルガキュア184(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ))3質量部添加したものを使用した。塗布後の電離放射線硬化性プライマー層は触ると流動性を示すものの、PETフィルム上から流れ落ちることはなかった。
一方で、線幅が20μmで線ピッチが300μm、版深10μmの正方格子状のメッシュパターンとなる凹部が形成された金属製の凹版ロールの版面に、金属微粒子7bとして平均粒径約2μmの鱗片状銀粒子93質量部、バインダー樹脂7aとして熱可塑性のポリエステルウレタン樹脂7質量部、溶剤としてブチルカルビトールアセテート25質量部からなる金属ペーストをピックアップロールで塗布し、ドクターブレードで凹部内以外の金属ペーストを掻き取って凹部内のみに金属ペーストを充填させた。なお、該凹部内に充填された金属ペースト表面にはメニスカス状の凹みを生じていた。
そして、金属ペーストを凹部内に充填させた状態の凹版ロールと、ニップロールとの間に、プライマー層が形成されたPETフィルムを供し、凹版ロールに対するニップロールの押圧力(付勢力)によって、電離放射線硬化性プライマー層を凹部内に存在する金属ペーストの該凹みに流入させ、金属ペーストと電離放射線硬化性プライマー層とを隙間なく密着させると共に、該プライマーの一部を該金属ペースト内部に侵入、混在せしめた。
Production Example 2
The surface-side transparent base material 2 made of a long roll-wrapped PET film having a width of 1000 mm and a thickness of 100 μm, which has been subjected to easy adhesion treatment on one side, is unrolled, and uncured and fluidized ionization for forming the primer layer 9 on the easy adhesion treatment surface. The radiation curable composition was applied and formed to a thickness of 8 μm. The application method employs a normal gravure reverse method, and the ionizing radiation curable composition includes 40 parts by mass of an epoxy acrylate prepolymer, 53 parts of a monofunctional monomer (non-hydrophilic monofunctional acrylate monomer mixture comprising phenoxyethyl acrylate). 3 parts by weight of trifunctional monomer (ethylene oxide modified isocyanuric acid triacrylate) and 1 part by weight of 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals)) as a photoinitiator are used. did. Although the ionizing radiation curable primer layer after application showed fluidity when touched, it did not flow down from the PET film.
On the other hand, a scale having an average particle diameter of about 2 μm as metal fine particles 7 b is formed on the plate surface of a metal intaglio roll formed with concave portions that form a square lattice mesh pattern having a line width of 20 μm, a line pitch of 300 μm, and a plate depth of 10 μm. A metal paste consisting of 93 parts by mass of silver particles, 7 parts by mass of thermoplastic polyester urethane resin as the binder resin 7a, and 25 parts by mass of butyl carbitol acetate as a solvent is applied with a pick-up roll, and a metal paste other than in the recesses with a doctor blade The metal paste was filled only in the recess. A meniscus-shaped dent was formed on the surface of the metal paste filled in the recess.
Then, a PET film with a primer layer is provided between the intaglio roll filled with the metal paste in the recess and the nip roll, and the ionizing radiation curing is performed by the pressing force (biasing force) of the nip roll against the intaglio roll. The primer layer is allowed to flow into the recess of the metal paste existing in the recess, and the metal paste and the ionizing radiation curable primer layer are brought into close contact with each other, and a part of the primer enters and mixes in the metal paste. It was.

その後、水銀灯からなるUVランプによって紫外線が照射され、電離放射線硬化性組成物からなるプライマー層が硬化(固化)する。プライマー層の硬化により、凹版ロールの凹部内の金属ペーストはプライマー層9と密着し、その後、フィルム及び硬化したプライマー層とが凹版ロールから剥離され、該プライマー層上には金属ペーストが転写形成される。このようにして得られた転写フィルムを、110℃の乾燥ゾーンを通過させて銀ペーストの溶剤を蒸発させて固化せしめ、プライマー層9上にメッシュパターンからなる金属微粒子結着体層7を形成した。このときの金属微粒子結着体層7の厚さ(導電材料層が形成されているメッシュパターン部分とそれ以外の部分との厚さの差)は9μmであり、版の凹部内の銀ペーストが高い転移率((転移した金属ペーストの高さ/版凹部深度)の比で定義した転移率は(9/10)×10=90%)で転移していた。また、断線や形状不良も見られなかった。
その中間部材の金属微粒子結着体層の厚みは9μm、表面抵抗は1.0Ω/□であった。
Thereafter, ultraviolet rays are irradiated by a UV lamp made of a mercury lamp, and the primer layer made of the ionizing radiation curable composition is cured (solidified). Due to the curing of the primer layer, the metal paste in the recesses of the intaglio roll comes into close contact with the primer layer 9, and then the film and the cured primer layer are peeled off from the intaglio roll, and the metal paste is transferred and formed on the primer layer. The The transfer film thus obtained was passed through a drying zone at 110 ° C. to evaporate the solvent of the silver paste and solidified to form a metal fine particle binder layer 7 having a mesh pattern on the primer layer 9. . The thickness of the metal fine particle binder layer 7 at this time (thickness difference between the mesh pattern portion where the conductive material layer is formed and the other portion) is 9 μm, and the silver paste in the concave portion of the plate is The transition was performed at a high transition rate (the transition rate defined by the ratio of (the height of the transferred metal paste / the depth of the plate recess)) (9/10) × 10 = 90%. Moreover, neither disconnection nor shape defect was seen.
The thickness of the metal fine particle binder layer of the intermediate member was 9 μm, and the surface resistance was 1.0Ω / □.

実施例1
(1)粘着剤組成物の調製
酸価6.8のアクリル系粘着剤(商品名:SK2094、綜研化学(株)製)に、近赤外線吸收剤としてセシウムタングステン酸化物(Cs0.33WO3)含有量18.5質量%のMIBK分散液(商品名:YMF−02、平均分散粒径800nm以下、住友金属鉱山(株)製)を10質量%添加し、ネオン光吸收剤としてテトラアザポルフィリン系色素(商品名TAP−2 山田化学株式会社製)を0.009重量%、調色劑として着色色素(商品名Plast red 8320 有本化学株式会社製)0.005質量%添加し、及び紫外線吸收剤としてベンゾトリアゾール系化合物を0.4質量%添加した。更にMIBKを40質量%添加し撹拌、混合する。これに硬化剤(商品名:E‐5XM、綜研化学(株)製)を添加して、表面側透明粘着剤層用の粘着剤組成物を調整した。又、該表面側透明粘着剤層から該近赤外線吸收剤以下の各種吸收剤を除いた組成物として、裏面側透明粘着剤層形成用の粘着剤組成物を調製した。
(2)電磁波遮蔽部材フィルターの製造
製造例1で作製した中間部材の金屬微粒子結着体7表面を、無電解ニッケルめっき液を用い、浴温60℃、処理時間35分間で無電解処理した。該めっき液は、酢酸2.8%、硫酸ニッケル6水和物8.8%、次亜燐酸ナトリウム1水和物7.1%、錯化剤9.2%、イオン交換水72.1%の混合物で、原液を250ml/Lになるように希釈して使用した。濃度は230ml/Lであった。その時にpHは6.5であった。
得られたリン1.5質量%含有ニッケル皮膜の膜厚(無電解ニッケルめっきによる導電性メッシュの厚みの増加)は、4.1μmであった。
その後、エッチング(腐蝕)液を用い、浴温25℃、処理時間30秒で化成処理した。該エッチング液は、塩化第2鉄38%、塩酸0.12%、イオン交換水61.88%の混合物で、原液を2倍希釈(500ml/L)で使用し、金屬微粒子結着体7表面に、最外面が光拡散性の微凹凸面を有するニッケル柱状結晶集合体層8を被覆形成した。そして、該金屬微粒子結着体7及び該ニッケル柱状結晶集合体層8とでメッシュパターン状の電磁波遮蔽層4を構成した。
エッチング前の電磁波遮蔽層4の外観色は灰色、エッチング後の電磁波遮蔽層4の外観色は黒色、エッチング後の電磁波遮蔽層4の表面抵抗は0.6Ω/□であった。
斯くして、電磁波遮蔽フィルター層20を得た。
(3)表面調整フィルターの製造
片面に易接着処理がされた幅1000mmで厚さ100μmの長尺ロール巻PETフィルムから成る裏面側透明基材5の一方の表面(画像表示装置の観察者側と対峙する面)上に、高屈折率層と低屈折率層とを此の順に各1層ずつ順次形成して、反射防止層兼硬質塗膜層を形成し、以って表面調整層1とした。該高屈折率層は、ジルコニア超微粒子をアクリレート系プレポリマーから成る紫外線硬化性樹脂中に分散させた組成物(JSR(株)製、商品名「KZ7973」)を用いた、厚さ3μmで屈折率1.69の硬化物層から成る。一方、該低屈折率樹脂層は、フッ素樹脂系の紫外線硬化性樹脂(JSR(株)製、商品名「TM086」)を用いた、厚さ100nmで屈折率1.41の硬化物層から成る。尚、斯かる反射防止層は分子が架橋構造を有し硬質な為、硬質塗膜層としての機能も兼用する。斯くして、表面調整フィルター10を得た。
(4)画像表示装置用フィルターの製造
(2)で製造した電磁波遮蔽部材フィルター20の電磁波遮蔽層4側に上記(1)で調製した表面側透明粘着剤層形成用の粘着剤組成物を乾燥後の厚さが25μmとなるように、マイヤーバーNo.16で塗布した。次いで、90℃で1分間熱乾乾燥して、近赤外線吸收剤、ネオン光吸收剤、調色剤、及び紫外線吸收剤を含有して成る表面側透明粘着剤層3とした。而かる後、(3)で製造した表面調整フィルター10を其の表面側透明基材2側が該表面側透明粘着剤層3と対峙する向きで載置し、ゴムローラーで加圧して、電磁波遮蔽フィルター20上に、表面側透明粘着剤層3を介して、表面調整フィルター10を積層した。
次いで、該電磁波遮蔽フィルター20の裏面側透明基材5側の面上に、上記(1)で調整した裏面側透明粘着剤層形成用粘着剤組成物を乾燥後の厚さが20μmとなる樣にマイヤーバーで塗布し、90°Cで1分間加熱乾燥して裏面側透明粘着剤層6とした。斯くして本発明の画像表示装置用フィルター100を製造した。
Example 1
(1) Preparation of pressure-sensitive adhesive composition Content of cesium tungsten oxide (Cs0.33WO3) as a near-infrared absorber in an acrylic pressure-sensitive adhesive having an acid value of 6.8 (trade name: SK2094, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 10% by mass of 18.5% by mass of MIBK dispersion (trade name: YMF-02, average dispersed particle size of 800 nm or less, manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.) was added, and a tetraazaporphyrin-based dye (neon light absorber) 0.009% by weight of a trade name TAP-2 Yamada Chemical Co., Ltd., and 0.005% by weight of a coloring pigment (trade name Plast red 8320 Arimoto Chemical Co., Ltd.) added as a toning glaze, and as an ultraviolet absorber. 0.4% by mass of a benzotriazole compound was added. Further, 40% by mass of MIBK is added and stirred and mixed. A curing agent (trade name: E-5XM, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) was added thereto to prepare a pressure-sensitive adhesive composition for the surface-side transparent pressure-sensitive adhesive layer. Moreover, the adhesive composition for back side transparent adhesive layer formation was prepared as a composition remove | excluding various absorbers below this near-infrared absorber from this surface side transparent adhesive layer.
(2) Manufacture of Electromagnetic Wave Shielding Member Filter The surface of the intermediate member gold fine particle binder 7 produced in Production Example 1 was electrolessly treated using an electroless nickel plating solution at a bath temperature of 60 ° C. for a treatment time of 35 minutes. The plating solution was 2.8% acetic acid, 8.8% nickel sulfate hexahydrate, 7.1% sodium hypophosphite monohydrate, 9.2% complexing agent, and 72.1% ion-exchanged water. The stock solution was diluted to 250 ml / L and used. The concentration was 230 ml / L. At that time, the pH was 6.5.
The film thickness of the obtained nickel film containing 1.5% by mass of phosphorus (increase in the thickness of the conductive mesh by electroless nickel plating) was 4.1 μm.
Thereafter, chemical conversion treatment was performed using an etching (corrosion) solution at a bath temperature of 25 ° C. and a treatment time of 30 seconds. The etching solution is a mixture of 38% ferric chloride, 0.12% hydrochloric acid, 61.88% ion-exchanged water, and the stock solution is used at a 2-fold dilution (500 ml / L). In addition, a nickel columnar crystal aggregate layer 8 having an outermost surface having light diffusive fine irregularities was formed. The mesh pattern-like electromagnetic wave shielding layer 4 was constituted by the gold-metal fine particle binder 7 and the nickel columnar crystal aggregate layer 8.
The appearance color of the electromagnetic wave shielding layer 4 before etching was gray, the appearance color of the electromagnetic wave shielding layer 4 after etching was black, and the surface resistance of the electromagnetic wave shielding layer 4 after etching was 0.6Ω / □.
Thus, the electromagnetic wave shielding filter layer 20 was obtained.
(3) Manufacture of surface adjustment filter One surface of the back-side transparent base material 5 made of a long roll-wrapped PET film having a width of 1000 mm and a thickness of 100 μm that has been subjected to easy adhesion treatment on one side (the observer side of the image display device and On the opposite surface), a high refractive index layer and a low refractive index layer are sequentially formed in this order one by one to form an antireflection layer and a hard coating layer. did. The high refractive index layer is refracted at a thickness of 3 μm using a composition (trade name “KZ7973” manufactured by JSR Corporation) in which ultrafine zirconia particles are dispersed in an ultraviolet curable resin made of an acrylate-based prepolymer. It consists of a cured product layer with a rate of 1.69. On the other hand, the low refractive index resin layer is made of a cured layer having a thickness of 100 nm and a refractive index of 1.41 using a fluororesin-based ultraviolet curable resin (trade name “TM086” manufactured by JSR Corporation). . In addition, since such an antireflection layer has a cross-linked structure and is hard, it also functions as a hard coating layer. Thus, the surface adjustment filter 10 was obtained.
(4) Manufacture of filter for image display device The adhesive composition for forming the surface-side transparent adhesive layer prepared in (1) above is dried on the electromagnetic wave shielding layer 4 side of the electromagnetic wave shielding member filter 20 produced in (2). The Meyer bar No. was adjusted so that the subsequent thickness would be 25 μm. 16 was applied. Subsequently, it heat-dried at 90 degreeC for 1 minute, and was set as the surface side transparent adhesive layer 3 containing a near-infrared absorber, a neon light absorber, a toning agent, and an ultraviolet absorber. After that, the surface adjustment filter 10 manufactured in (3) is placed so that the surface-side transparent base material 2 side faces the surface-side transparent adhesive layer 3, and is pressed with a rubber roller to shield the electromagnetic wave. On the filter 20, the surface adjustment filter 10 was laminated via the surface-side transparent adhesive layer 3.
Next, on the surface of the electromagnetic wave shielding filter 20 on the back side transparent base material 5 side, the thickness after drying the back side transparent adhesive layer forming pressure-sensitive adhesive composition prepared in (1) above becomes 20 μm. The back side transparent pressure-sensitive adhesive layer 6 was obtained by coating with a Meyer bar and heating and drying at 90 ° C. for 1 minute. Thus, the filter 100 for an image display device of the present invention was manufactured.

実施例2
実施例1の(2)において、製造例2で作製した中間部材を用いた以外は、実施例1と同樣にして、実施例2の画像表示装置用フィルター100を製造した。
Example 2
A filter 100 for an image display device of Example 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that the intermediate member produced in Production Example 2 was used in (2) of Example 1.

本発明によれば、近赤外線吸收機能等の所望の光学フィルター機能、高透明性、及び電磁波遮蔽機能を有すると共に、外来光入射環境下に於ける画像白化を防ぎ高コントラストの画像を得る画像表示装置用フィルターを提供することができる。
この画像表示装置用フィルターは、プラズマディスプレイ、ブラウン管(CRT)、液晶ディスプレイ(LCD)などの画像表示装置用として好適である。特にプラズマディスプレイ用として好適であり、本発明の画像表示装置用フィルターを前面に配したプラズマディスプレイは、周辺の電子機器に悪影響を及ぼすことがなく、かつ、透過色調が青色を示さない。また、高輝度であって、外光の映り込みがなく、視認性に優れる。
According to the present invention, an image display that has a desired optical filter function such as a near-infrared absorption function, high transparency, and an electromagnetic wave shielding function, and that prevents whitening of the image in an external light incident environment and obtains a high-contrast image. A filter for the device can be provided.
This filter for an image display device is suitable for an image display device such as a plasma display, a cathode ray tube (CRT), and a liquid crystal display (LCD). The plasma display is particularly suitable for a plasma display, and the plasma display having the filter for an image display device of the present invention disposed on the front surface does not adversely affect peripheral electronic devices and does not exhibit a blue transmission color tone. In addition, the brightness is high, there is no reflection of external light, and the visibility is excellent.

本発明の画像表示装置用フィルターを示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the filter for image display apparatuses of this invention. 本発明の画像表示装置用フィルターにおける電磁波遮蔽層を説明する模式図である。It is a schematic diagram explaining the electromagnetic wave shielding layer in the filter for image display apparatuses of this invention. 本発明の画像表示装置用フィルターにおける電磁波遮蔽層の無電解ニッケルめっき前の中間部材を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the intermediate member before electroless nickel plating of the electromagnetic wave shielding layer in the filter for image display apparatuses of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 表面調整層
2 表面側透明基材
3 表面側透明粘着剤層
4 電磁波遮蔽層
5 裏面側透明基材
6 裏面側透明粘着剤層
7 金属微粒子結着体
7a バインダー樹脂
7b 金属微粒子
8 ニッケル柱状結晶集合体層
9 プライマー層
10 表面調整フィルター
20 電磁波遮蔽フィルター
100 画像表示装置用フィルター
200 画像表示装置又は画像表示装置用基板
A パターン状導電体層が形成されている部分
A Aの厚さ
B パターン状導電体層が形成されていない部分
B Bの厚さ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Surface adjustment layer 2 Front surface side transparent base material 3 Front surface side transparent adhesive layer 4 Electromagnetic wave shielding layer 5 Back surface side transparent base material 6 Back surface side transparent adhesive layer 7 Metal particle binder 7a Binder resin 7b Metal particle 8 Nickel columnar crystal the thickness B pattern portion T a a the assembly layer 9 primer layer 10 surface conditioning filter 20 filter 100 for shielding electromagnetic image display apparatus filter 200 image display device or the image display device substrate a patterned conductor layer is formed Of portion T B B where no conductive layer is formed

Claims (7)

裏面側透明基材上に、パターン状の電磁波遮蔽層を有する電磁波遮蔽フィルターと、
該電磁波遮蔽フィルターの該電磁波遮蔽層上に、表面側透明粘着剤層を介して、表面側透明基材上に、反射防止層、防眩層、又は硬質塗膜層の何れかから選択された表面調整層を有する表面調整フィルターを、該表面側透明基材側が該電磁波遮蔽層を向くようにして積層し、
該電磁波遮蔽フィルターの裏面側透明基材上に裏面側透明粘着剤層を積層した層構成からなると共に、
前記電磁波遮蔽層が、金属微粒子をバインダー樹脂によって結着した金属微粒子結着体と、該金属微粒子結着体の表面を被覆するニッケル柱状結晶集合体層とからなり、表面被覆ニッケル柱状結晶集合体の最外面が光拡散性の微凹凸面を有し、
前記表面側透明粘着剤層又は裏面側透明粘着剤層の何れか1層又は2層中には、近赤外線吸収剤、ネオン光吸収剤、調色剤、又は紫外線吸収剤の中から選択される何れか1種以上の吸收剤を含有して成る、画像表示装置用フィルター。
On the back side transparent substrate, an electromagnetic wave shielding filter having a patterned electromagnetic wave shielding layer,
On the electromagnetic wave shielding layer of the electromagnetic wave shielding filter, the surface side transparent adhesive layer was interposed between the antireflection layer, the antiglare layer, and the hard coating layer. Laminating a surface adjustment filter having a surface adjustment layer so that the surface side transparent substrate side faces the electromagnetic wave shielding layer,
It consists of a layer structure in which a back side transparent adhesive layer is laminated on the back side transparent substrate of the electromagnetic wave shielding filter,
The electromagnetic wave shielding layer is composed of a metal fine particle binder obtained by binding metal fine particles with a binder resin, and a nickel columnar crystal aggregate layer covering the surface of the metal fine particle binder. The outermost surface has a light diffusive fine uneven surface,
In any one or two layers of the front surface side transparent adhesive layer or the back surface side transparent adhesive layer, it is selected from a near infrared absorber, a neon light absorber, a toning agent, or an ultraviolet absorber. A filter for an image display device, comprising at least one absorber.
前記裏面側透明基材と電磁波遮蔽層との間に、該裏面側透明基材上に形成された樹脂からなるプライマー層を有し、該プライマー層のうち前記電磁波遮蔽層が形成されている部分の厚さが、前記電磁波遮蔽層が形成されていない部分の厚さよりも大きくなっている請求項1に記載の画像表示装置用フィルター。   A portion having a primer layer made of a resin formed on the back side transparent base material between the back side transparent base material and the electromagnetic wave shielding layer, wherein the electromagnetic wave shielding layer is formed in the primer layer The image display device filter according to claim 1, wherein a thickness of the image display device is larger than a thickness of a portion where the electromagnetic wave shielding layer is not formed. ニッケル柱状結晶集合体層が、金属微粒子結着体の内部空隙の少なくとも一部をも充填している請求項1又は2に記載の画像表示装置用フィルター。   The filter for an image display device according to claim 1 or 2, wherein the nickel columnar crystal aggregate layer also fills at least part of the internal voids of the metal fine particle binder. ニッケル柱状結晶がリンを含むものである請求項1〜3のいずれかに記載の画像表示装置用フィルター。   The filter for an image display device according to claim 1, wherein the nickel columnar crystal contains phosphorus. ニッケル柱状結晶集合体層が、無電解ニッケルめっき法により形成されたものである請求項1〜4のいずれかに記載の画像表示装置用フィルター。   The image display device filter according to any one of claims 1 to 4, wherein the nickel columnar crystal aggregate layer is formed by an electroless nickel plating method. 前記画像表示装置がプラズマディスプレイである請求項1〜5のいずれかに記載の画像表示装置用フィルター。 The image display apparatus filter according to claim 1 wherein the image display device is a plasma display. 請求項1〜6のいずれかに記載の画像表示装置用フィルターを前面に貼付した画像表示装置。   The image display apparatus which stuck the filter for image display apparatuses in any one of Claims 1-6 on the front surface.
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