JP2009031720A - Composite filter for display - Google Patents

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JP2009031720A JP2007324314A JP2007324314A JP2009031720A JP 2009031720 A JP2009031720 A JP 2009031720A JP 2007324314 A JP2007324314 A JP 2007324314A JP 2007324314 A JP2007324314 A JP 2007324314A JP 2009031720 A JP2009031720 A JP 2009031720A
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Makoto Honda
本田  誠
Nobuo Naito
暢夫 内藤
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composite filter for a display, which is produced with excellent production efficiency by reducing the number of lamination processes, of which the number of stacked layers is few and the material cost is reduced, and in which near-infrared absorbing agent scarcely deteriorates even used for a long time under high temperature or high humidity conditions, while having at least respective functions of an electromagnetic shielding function to shield an electromagnetic wave mainly produced from a display such as a plasma display and a near-infrared absorbing function. <P>SOLUTION: The composite filter for the display is characterized in that it has a near-infrared absorbing layer containing a binder component and a transparent conductive layer stacked on one surface of a transparent glass substrate in this order, wherein the near-infrared absorbing layer contains composite tungsten oxide fine particles as the near-infrared absorbing agent. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、PDP(プラズマディスプレイパネル)などのディスプレイ(画像表示装置)の前面に配置する複合フィルタに関し、さらに詳しくは、ディスプレイから発生する電磁波を遮蔽(シールド)する電磁波遮蔽機能と共に、近赤外線吸収機能を有する、ディスプレイ用複合フィルタに関するものである。   The present invention relates to a composite filter disposed on the front surface of a display (image display device) such as a PDP (plasma display panel). More specifically, the present invention relates to an electromagnetic wave shielding function for shielding electromagnetic waves generated from a display, and near infrared absorption. The present invention relates to a composite filter for display having a function.

近年、電気電子機器の機能高度化と利用増加に伴い、電磁気的なノイズ妨害(Electro Magnetic Interference;EMI)が増え、陰極線管(CRTという)、プラズマディスプレイパネル(PDPという)などのディスプレイでも電磁波が発生する。プラズマディスプレイパネルは、データ電極と蛍光層を有するガラスと透明電極を有するガラスとの組合体であり、作動すると電磁波、及び近赤外線が大量に発生する。   In recent years, with the advancement of functions and increase in the use of electrical and electronic equipment, electromagnetic noise interference (EMI) has increased, and electromagnetic waves are also generated in displays such as cathode ray tubes (referred to as CRT) and plasma display panels (referred to as PDP). appear. The plasma display panel is a combination of a glass having a data electrode, a fluorescent layer, and a glass having a transparent electrode, and generates a large amount of electromagnetic waves and near infrared rays when operated.

通常、電磁波を遮蔽するためにプラズマディスプレイパネルの前面に、電磁波遮蔽用シートと硝子板との積層体が前面板として設けられる。ディスプレイ前面から発生する電磁波の遮蔽性は、日本では30MHz〜1GHzにおいてVCCI(情報処理装置等電波障害自主規制協議会)が規定する家庭環境、住宅環境で使用する情報処理装置に適用される規格(クラスB)を達成することが必要である。なお、本発明において単に電磁波と言った場合は、周波数が上記範囲を中心とするMHz〜GHz帯近辺の電磁波のことを言い、赤外線、可視光線、紫外線、X線等は含まないものとする(例えば、赤外線帯域の周波数の電磁波は赤外線と呼称する)。
また、プラズマディスプレイ前面より発生する波長800〜1,100nm帯域を含む近赤外線も、VTRの遠隔操作機器などの他の機器を誤作動させるので、遮蔽する必要がある。更に、プラズマディスプレイから放射する波長590nm付近の光(PDP内封入のネオン原子の発光。以下ネオン光とも呼称。)を遮断したり、画像の色相調整を行い色再現性を向上させる機能、更には外光の不要な反射を抑える機能等が求められる。
Usually, in order to shield electromagnetic waves, a laminate of an electromagnetic wave shielding sheet and a glass plate is provided as a front plate on the front surface of the plasma display panel. The shielding property of the electromagnetic wave generated from the front of the display is a standard applied to information processing devices used in home environments and residential environments specified by VCCI (Electromagnetic Interference Regulations for Information Processing Devices, etc.) at 30 MHz to 1 GHz in Japan ( It is necessary to achieve class B). In the present invention, the term “electromagnetic wave” refers to an electromagnetic wave having a frequency in the vicinity of the MHz to GHz band centered on the above range, and does not include infrared rays, visible rays, ultraviolet rays, X-rays, and the like ( For example, electromagnetic waves having a frequency in the infrared band are called infrared rays).
In addition, near infrared rays including a wavelength band of 800 to 1,100 nm generated from the front surface of the plasma display also cause malfunction of other devices such as a remote control device of the VTR, and thus need to be shielded. Furthermore, the function of improving the color reproducibility by blocking the light around the wavelength of 590 nm emitted from the plasma display (light emission of neon atoms enclosed in the PDP, hereinafter also referred to as neon light), adjusting the hue of the image, A function for suppressing unnecessary reflection of external light is required.

上記機能を実現するために、上記電磁波遮蔽用シートと、近赤外線吸収フィルタ、反射防止フィルタ等の複数の光学フィルタとを積層して、画像表示装置から発生する不要な電磁波及び特定波長の光を遮蔽し、且つ画像表示装置に必要とされる各種機能を付与することができる板状の複合フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面板として用いることが検討されている(特許文献1)。   In order to realize the above function, the electromagnetic wave shielding sheet and a plurality of optical filters such as a near-infrared absorption filter and an antireflection filter are laminated to prevent unnecessary electromagnetic waves and specific wavelength light generated from the image display device. It has been studied to use a plate-like composite filter that can shield and give various functions required for an image display device as a front plate of a plasma display panel (Patent Document 1).

特開2002−311843号公報JP 2002-311843 A 特開2005−181933号公報JP 2005-181933 A 特開2006−154516号公報JP 2006-154516 A

特許文献1には、電磁波遮蔽シートの基材と金属メッシュとの間の接着剤層や、金属メッシュの凹凸を平坦化する平坦化層や、或いはガラス基板との接着剤層に、可視光及び/又は近赤外の特定の波長を吸収する吸収剤が含有されている電磁波遮蔽シートが開示されている。このようにガラス基板、金属メッシュ層、或いは、金属メッシュ層と電磁波遮蔽シートの基材間の接着剤層に接触する箇所に有機系近赤外線吸収剤が含有されている場合には、当該近赤外線吸収剤が劣化しやすいという問題があった。これは、ガラス基板中に由来するナトリウムイオン等のアルカリ金属イオン、導電性メッシュに由来する銅等の金属原子(乃至金属イオン)、ウレタン系接着剤層に由来するウレタン結合と有機系色素とが反応する為であると考えられる。また、粘着剤層として機能するような従来用いていたアクリル系粘着剤層に、有機系近赤外線吸収剤(色素)を含有させると、当該近赤外線吸収剤とこれら隣接層(特に、当該粘着剤層中の極性官能基、或いは残留単量体)との反応による光学フィルタとしての分光特性の変化が促進するという問題が生じており、層構成の簡略化の為、粘着剤層中に近赤外線吸収剤を含有させ、且つ該層が金属メッシュ層或いは硝子層と接触する様な構成を実用化するのは困難であった。
また、特許文献2には、近赤外の特定の波長を吸収する吸収剤が含有されているPDP用途の電磁波シールド付き光学フィルタが開示されている。このような場合には、硝子基板とイモニウム系近赤外線吸収剤の接触を避けるために、硝子基板とイモニウム系近赤外線吸収剤との間に樹脂基材を挿入すると、硝子基板と樹脂基材とを接着するための接着剤が必要になるため、工程数が多くなり、材料費が増えるという問題があった。
In Patent Document 1, visible light and an adhesive layer between the base material of the electromagnetic wave shielding sheet and the metal mesh, a flattening layer for flattening the unevenness of the metal mesh, or an adhesive layer with the glass substrate are used. An electromagnetic wave shielding sheet containing an absorbent that absorbs a specific wavelength in the near infrared is disclosed. When the organic near-infrared absorber is contained in the glass substrate, the metal mesh layer, or the portion in contact with the adhesive layer between the metal mesh layer and the base material of the electromagnetic wave shielding sheet, the near infrared ray There was a problem that the absorbent was likely to deteriorate. This is because alkali metal ions such as sodium ions derived from the glass substrate, metal atoms (or metal ions) such as copper derived from the conductive mesh, urethane bonds derived from the urethane adhesive layer, and organic dyes This is thought to be due to the reaction. Further, when an organic near-infrared absorber (pigment) is contained in a conventionally used acrylic pressure-sensitive adhesive layer that functions as a pressure-sensitive adhesive layer, the near-infrared absorber and these adjacent layers (particularly the pressure-sensitive adhesive). There is a problem that the change in the spectral characteristics of the optical filter due to the reaction with the polar functional group or residual monomer in the layer is promoted. It has been difficult to put into practical use a configuration in which an absorbent is contained and the layer is in contact with a metal mesh layer or a glass layer.
Patent Document 2 discloses an optical filter with an electromagnetic wave shield for PDP use that contains an absorbent that absorbs a specific wavelength in the near infrared. In such a case, in order to avoid contact between the glass substrate and the immonium-based near infrared absorber, if a resin substrate is inserted between the glass substrate and the immonium-based near infrared absorber, the glass substrate and the resin substrate Since an adhesive for adhering is required, there are problems that the number of processes increases and the material cost increases.

一方、特許文献3には、耐候性に優れた複合タングステン酸化物微粒子を含む塗膜をプラズマディスプレイの表面側(反射防止層中、或いはPDP本体の前面硝子上)に用いたPDP用近赤外線吸収フィルタが記載されている。しかしながら、複合タングステン酸化物微粒子は顔料であるため、複合タングステン酸化物微粒子を分散させた層は着色する。従って、特許文献3に記載されているような近赤外線吸収フィルタをそのままディスプレイの前面に配置される場合のように、複合タングステン酸化物微粒子を分散させた層が、ディスプレイ前面に配置した際に表面(鑑賞者側)に配置される層として用いられると、ディスプレイを消している時にディスプレイ前面が複合タングステン酸化物微粒子の色で着色したように見える。更に、複合タングステン酸化物は屈折率2.3以上と高屈折率の為、最表面層に位置すると外来光の表面反射が増え画像コントラストが低下するため使用者に好まれないという問題がある。特許文献3には、複合タングステン酸化物微粒子が分散されている層を反射防止層の高屈折率層として用いることも記載されているが、この場合においても、最表面層となる反射防止層の低屈折率層は薄膜であるため、ディスプレイ前面に配置された場合にはディスプレイ前面が複合タングステン酸化物微粒子の色で着色したように見える。また、反射防止層のような比較的薄い膜として設けられる層に複合タングステン酸化物微粒子を含有させると、層における微粒子密度が高くなって、ヘイズが高くなるという問題も発生し易い。更に、屈折率を設計値に厳密に管理すべき反射防止層に複合タングステン酸化物の様な高屈折率(屈折率2.3以上)の物質を添加することは、反射防止層の屈折率変化に繋がる為、好ましく無い。特に反射防止層が低屈折率層のみからなる場合には、低屈折率特性の発現自体が困難となる。   On the other hand, Patent Document 3 discloses a near infrared absorption for PDP in which a coating film containing composite tungsten oxide fine particles having excellent weather resistance is used on the surface side of the plasma display (in the antireflection layer or on the front glass of the PDP main body). A filter is described. However, since the composite tungsten oxide fine particles are pigments, the layer in which the composite tungsten oxide fine particles are dispersed is colored. Therefore, when the near-infrared absorption filter as described in Patent Document 3 is disposed on the front surface of the display as it is, the layer in which the composite tungsten oxide fine particles are dispersed is disposed on the front surface of the display. When used as a layer placed on the viewer side, the front of the display appears to be colored with the color of the composite tungsten oxide particles when the display is turned off. Furthermore, since the composite tungsten oxide has a refractive index of 2.3 or higher and has a high refractive index, there is a problem that when it is located on the outermost surface layer, the surface reflection of extraneous light increases and the image contrast decreases, which is not preferred by the user. Patent Document 3 also describes that a layer in which composite tungsten oxide fine particles are dispersed is used as the high refractive index layer of the antireflection layer, but in this case as well, the antireflection layer serving as the outermost surface layer is used. Since the low refractive index layer is a thin film, when it is disposed on the front surface of the display, the front surface of the display appears to be colored with the color of the composite tungsten oxide fine particles. In addition, when composite tungsten oxide fine particles are contained in a layer provided as a relatively thin film such as an antireflection layer, a problem that the fine particle density in the layer increases and haze increases easily occurs. Furthermore, the addition of a material having a high refractive index (refractive index of 2.3 or more) such as a composite tungsten oxide to the antireflection layer whose refractive index should be strictly controlled to the design value can cause a change in the refractive index of the antireflection layer. This is not preferable. In particular, when the antireflection layer comprises only a low refractive index layer, it is difficult to express the low refractive index characteristics.

本発明は上記問題点を解消するためになされたものであり、積層工程数を減らして生産効率に優れ、少ない積層数で、材料費も低減でき、ディスプレイ消灯時の着色も目立たず、且つ、ディスプレイ前面に配置され、長時間の使用、特に高温下や高湿下での長時間の使用によっても近赤外線吸収剤の劣化に帰属されるフィルタの色ムラが起こり難い、電磁波遮蔽機能及び近赤外線吸収機能の各機能を少なくとも有するディスプレイ用複合フィルタを提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and is excellent in production efficiency by reducing the number of lamination processes, with a small number of laminations, material costs can be reduced, coloring when the display is turned off is inconspicuous, and Located on the front of the display, the filter is less likely to cause color unevenness due to deterioration of the near-infrared absorber even when used for a long time, especially at high temperatures and high humidity. An object of the present invention is to provide a composite filter for display having at least each function of the absorption function.

本発明に係るディスプレイ用複合フィルタは、透明硝子基材の片面に、バインダー成分を含有する近赤外線吸収層、及び透視性導電層がこの順序で積層され、且つ、当該近赤外線吸収層は、近赤外線吸収剤として、一般式MxWyOz(但し、M元素は、H、He、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、Iのうちから選択される1種類以上の元素、Wはタングステン、Oは酸素、0.001≦x/y≦1.1、2.2≦z/y≦3.0)で表される複合タングステン酸化物微粒子を含有していることを特徴とする。   In the composite filter for display according to the present invention, a near-infrared absorbing layer containing a binder component and a transparent conductive layer are laminated in this order on one side of a transparent glass substrate. As an infrared absorber, general formula MxWyOz (where M element is H, He, alkali metal, alkaline earth metal, rare earth element, Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, B, F, P, S, Se, Br, Te, Ti, Nb, One or more elements selected from V, Mo, Ta, Re, Be, Hf, Os, Bi, and I, W is tungsten, O is oxygen, 0.001 ≦ x / y ≦ 1.1, 2 .2 ≦ z / y ≦ 3.0) Characterized in that it contains the numeric oxide particles.

本発明に係るディスプレイ用複合フィルタは、1つの透明硝子基材とその両面を用いて、少ない層構成で、電磁波遮蔽機能及び近赤外線吸収機能をはじめとする各種機能を複合化するように設計されている。
本発明において近赤外線吸収剤として用いられる前記複合タングステン酸化物微粒子は、耐熱性、耐湿性、耐光性が高く、又硝子基材或いは透視性導電層と直接接触する層に添加しても硝子に由来するナトリウムイオン、或いは透視性導電層に由来する銅等の金属原子(乃至金属イオン)による色素の劣化も無い。その上、前記複合タングステン酸化物微粒子は、ディスプレイ前面より発生する波長800〜1,100nmの近赤外線帯域全般を当該複合タングステン酸化物微粒子のみで吸収し得るので、更に劣化しやすいイモニウム系近赤外線吸収剤を併用しなくても良い。従って、本発明のディスプレイ用複合フィルタによれば、長時間の使用、特に高温下や高湿下での長時間の使用によっても、近赤外線吸収剤の劣化に帰属されるフィルタの色ムラが起こり難い。また、近赤外線吸収剤の劣化防止のために、ディスプレイ表面等の硝子基材、透視性導電層、或いは光学フィルタ基材間の接着剤層等の有機系近赤外線吸収剤の劣化の原因となる層等から近赤外線吸収層を隔離する必要性がない。そのため、本発明に係るディスプレイ用複合フィルタは、フィルタの色ムラや複合タングステン酸化物微粒子による着色がないことにより外観に優れ、電磁波遮蔽機能及び近赤外線吸収機能の各機能を有しながら、積層工程数を減らして生産効率に優れ、少ない積層数で、材料費も低減できる構成を実用化可能となった。
また、反射防止層のような比較的薄い膜として設けられる層に複合タングステン酸化物微粒子を含有させると、層における微粒子密度が高くなって、ヘイズが高くなるという問題も発生するが、本発明のようにバインダー成分を含む層に含有させると反射防止層に比べて層が厚いため、ヘイズが高くなることを抑制できるというメリットもある。
The composite filter for display according to the present invention is designed to combine various functions including an electromagnetic wave shielding function and a near-infrared absorption function with a small number of layers using one transparent glass substrate and both surfaces thereof. ing.
The composite tungsten oxide fine particles used as a near-infrared absorber in the present invention have high heat resistance, moisture resistance, and light resistance, and can be added to a glass even when added to a glass substrate or a layer in direct contact with a transparent conductive layer. There is no deterioration of the pigment due to metal ions (or metal ions) such as copper ions derived from sodium ions derived from the transparent conductive layer. In addition, since the composite tungsten oxide fine particles can absorb the entire near-infrared band having a wavelength of 800 to 1,100 nm generated from the front surface of the display only by the composite tungsten oxide fine particles, the iminium-based near infrared absorption that is more easily deteriorated. It is not necessary to use the agent in combination. Therefore, according to the composite filter for display of the present invention, color unevenness of the filter attributed to the deterioration of the near-infrared absorber occurs even when used for a long time, particularly for a long time under high temperature or high humidity. hard. In addition, in order to prevent deterioration of the near-infrared absorber, it causes deterioration of organic near-infrared absorbers such as a glass substrate such as a display surface, a transparent conductive layer, or an adhesive layer between optical filter substrates. There is no need to isolate the near-infrared absorbing layer from the layer or the like. Therefore, the composite filter for display according to the present invention is excellent in appearance due to no color unevenness of the filter or coloring due to the composite tungsten oxide fine particles, and has a function of shielding electromagnetic waves and a function of absorbing near infrared rays, and a lamination process. It has become possible to put to practical use a structure that can reduce the number of materials, has excellent production efficiency, and can reduce material costs with a small number of layers.
In addition, when the composite tungsten oxide fine particles are contained in a layer provided as a relatively thin film such as an antireflection layer, there is a problem that the fine particle density in the layer increases and haze increases. Thus, when it is made to contain in the layer containing a binder component, since a layer is thick compared with an antireflection layer, there also exists a merit that it can suppress that haze becomes high.

本発明に係るディスプレイ用複合フィルタにおいては、前記透視性導電層が導電性メッシュ層であることが、電磁波遮蔽性能と光透過性能を両立させる点から好ましい。   In the composite filter for display according to the present invention, it is preferable that the transparent conductive layer is a conductive mesh layer from the viewpoint of achieving both electromagnetic shielding performance and light transmission performance.

本発明に係るディスプレイ用複合フィルタにおいては、前記導電性メッシュ層は、周縁部の一部を露出されていることが好ましい。このような実施形態の場合、接地のための剥離工程等を必要とせず、複合フィルタの貼付加工、導電性メッシュ層の凹凸の平坦化、及び当該導電性メッシュ層周縁の接地用領域の確保を一つの工程で同時に行うことができるため、更に工程数を減らすことができ、生産性が向上する。   In the composite filter for display according to the present invention, it is preferable that a part of the peripheral edge of the conductive mesh layer is exposed. In the case of such an embodiment, a stripping process for grounding is not required, and a composite filter sticking process, planarization of the unevenness of the conductive mesh layer, and securing of a grounding region around the periphery of the conductive mesh layer are ensured. Since the steps can be performed simultaneously in one step, the number of steps can be further reduced and productivity is improved.

本発明に係るディスプレイ用複合フィルタにおいては、前記透明硝子基材のディスプレイ側の面に、前記近赤外線吸収層が積層されており、当該透明硝子基材の観察者側の面に、防眩機能が付与されていることが、外来光の鏡面反射による背景の映り込みを抑えることにより外観及び光学特性を向上できる点から好ましい。   In the composite filter for display according to the present invention, the near-infrared absorbing layer is laminated on the display side surface of the transparent glass substrate, and the antiglare function is provided on the viewer side surface of the transparent glass substrate. It is preferable from the point that appearance and optical characteristics can be improved by suppressing reflection of the background due to specular reflection of external light.

本発明に係るディスプレイ用複合フィルタにおいては、前記透明硝子基材の観察者側の面に前記近赤外線吸収層を介し、透明樹脂基材の一面側に透視性導電層を備えた電磁波遮蔽シートの当該透視性導電層を透明硝子基材に向き合わせて積層し、当該電磁波遮蔽シートの当該透明樹脂基材側の表面に、防眩機能及び/又は反射防止機能を有する表面保護層が形成されていることが、外来光の鏡面反射による背景の映り込みや表面の反射を抑えることにより外観及び光学特性を向上できる点から好ましい。   In the composite filter for display according to the present invention, an electromagnetic wave shielding sheet comprising a transparent conductive layer on one surface side of the transparent resin substrate via the near-infrared absorbing layer on the viewer-side surface of the transparent glass substrate. The transparent conductive layer is laminated facing the transparent glass substrate, and a surface protective layer having an antiglare function and / or an antireflection function is formed on the surface of the electromagnetic shielding sheet on the transparent resin substrate side. It is preferable that the appearance and optical characteristics can be improved by suppressing the reflection of the background and the reflection of the surface due to the specular reflection of external light.

本発明に係るディスプレイ用複合フィルタにおいては、前記表面保護層及び/又は近赤外線吸収層には、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。このような実施形態の場合、日光や照明光による光吸収剤の変質や劣化を防ぐことができる。また、本発明に係るディスプレイ用複合フィルタにおいては、前記近赤外線吸収層は、ネオン光吸収剤及び/又は色補正色素を更に含有することが好ましい。上記構成により、各機能層と基材からなる機能フィルタを貼り合わせる工程を減らすことができるため、生産効率に優れる。また、積層数が少なくなるので厚みが減り、材料費も低減できる。
また、本発明のような層構造を有する場合には、層数削減により界面反射を抑えることができるというメリットがある。
In the composite filter for display according to the present invention, the surface protective layer and / or the near-infrared absorbing layer preferably contains an ultraviolet absorber. In the case of such an embodiment, alteration or deterioration of the light absorber due to sunlight or illumination light can be prevented. Moreover, in the composite filter for display which concerns on this invention, it is preferable that the said near-infrared absorption layer further contains a neon light absorber and / or a color correction pigment | dye. With the above configuration, it is possible to reduce the step of attaching the functional filter composed of each functional layer and the base material, and thus the production efficiency is excellent. Further, since the number of stacked layers is reduced, the thickness is reduced and the material cost can be reduced.
Moreover, when it has a layer structure like this invention, there exists a merit that interface reflection can be suppressed by the number of layers reduction.

本発明に係るディスプレイ用複合フィルタにおいては、前記透明硝子基材の観察者側の面に前記近赤外線吸収層を介し、透明樹脂基材の一面側に透視性導電層を備えた電磁波遮蔽シートの当該透視性導電層を透明硝子基材に向き合わせて積層し、前記透視性導電層の周縁部の少なくとも一部に近赤外線吸収層で被覆されていない接地用領域を設け、当該接地用領域において、前記透明硝子基材と前記透視性導電層の間に、当該透視性導電層と接触する導電性部材が介在し、当該導電性部材が、当該透明硝子基材の視聴者側の面からディスプレイパネル側の面に周り込む導通路を形成することにより、当該導通路を通して当該透明硝子基材のディスプレイパネル側の面から透視性導電層を容易に接地することができる。   In the composite filter for display according to the present invention, an electromagnetic wave shielding sheet comprising a transparent conductive layer on one surface side of the transparent resin substrate via the near-infrared absorbing layer on the viewer-side surface of the transparent glass substrate. Laminating the transparent conductive layer facing the transparent glass substrate, providing a grounding region not covered with a near-infrared absorbing layer on at least a part of the peripheral edge of the transparent conductive layer, A conductive member that contacts the transparent conductive layer is interposed between the transparent glass substrate and the transparent conductive layer, and the conductive member is displayed from the viewer side of the transparent glass substrate. By forming a conduction path that wraps around the panel side surface, the transparent conductive layer can be easily grounded from the display panel side surface of the transparent glass substrate through the conduction path.

本発明に係るディスプレイ用複合フィルタにおいては、前記複合タングステン酸化物微粒子の平均分散粒径が800nm以下であることが、可視域の透過率が高く、ヘイズも小さくなる点から好ましい。   In the composite filter for display according to the present invention, the average dispersed particle size of the composite tungsten oxide fine particles is preferably 800 nm or less from the viewpoint of high transmittance in the visible region and low haze.

本発明に係るディスプレイ用複合フィルタにおいては、前記複合タングステン酸化物微粒子が、六方晶、正方晶、立方晶のいずれか1種類以上の結晶構造を含むことが、光学特性の耐久性向上の点から好ましい。   In the composite filter for display according to the present invention, the composite tungsten oxide fine particles include one or more crystal structures of hexagonal crystal, tetragonal crystal, and cubic crystal from the viewpoint of improving the durability of optical characteristics. preferable.

本発明に係るディスプレイ用複合フィルタにおいては、前記複合タングステン酸化物微粒子を表す一般式MxWyOzにおいて、M元素がCs(セシウム)であり、該複合タングステン酸化物微粒子が六方晶の結晶構造を有することが、光学特性の耐久性向上の点から好ましい。   In the composite filter for display according to the present invention, in the general formula MxWyOz representing the composite tungsten oxide fine particles, the M element is Cs (cesium), and the composite tungsten oxide fine particles have a hexagonal crystal structure. From the viewpoint of improving the durability of the optical characteristics.

本発明に係るディスプレイ用複合フィルタにおいては、前記複合タングステン酸化物微粒子の表面が、Si、Ti、Zr、Alから選択される1種類以上の元素を含有する酸化物で被覆されていることが、光学特性の耐久性向上の点から好ましい。   In the composite filter for display according to the present invention, the surface of the composite tungsten oxide fine particles is coated with an oxide containing one or more elements selected from Si, Ti, Zr, and Al. It is preferable from the viewpoint of improving the durability of optical characteristics.

本発明のディスプレイ用複合フィルタは、電磁波遮蔽機能及び近赤外線吸収機能の各機能を少なくとも有しながら、積層工程数を減らして生産効率に優れ、少ない積層数で、材料費も低減でき、また、層数削減により界面反射を抑えることができるという効果を奏する。更に、本発明のディスプレイ用複合フィルタは、長時間の使用、特に高温下や高湿下での長時間の使用によっても近赤外線吸収剤が劣化しにくいという効果を奏する。   The composite filter for display of the present invention has at least each function of an electromagnetic wave shielding function and a near-infrared absorbing function, while reducing the number of laminating steps and being excellent in production efficiency. There is an effect that interface reflection can be suppressed by reducing the number of layers. Furthermore, the composite filter for display of the present invention has an effect that the near-infrared absorbent is not easily deteriorated even when used for a long time, particularly for a long time under high temperature or high humidity.

以下において本発明を詳しく説明する。なお、本発明において「透明硝子基材」とは、前面板(PDPパネル本体とは別個に外付けする板状フィルタ)を構成する硝子板及びPDPパネル本体を構成する観察者側の硝子板の両方を意味している。また、透明硝子基材が前面板を構成する硝子板である場合において「ディスプレイパネル側の面」とは、ディスプレイ用複合フィルタを、ディスプレイパネルの前面に配置した際に、当該ディスプレイパネルと向き合う側の面をいう。「観察者側の面」とは、上記「ディスプレイパネル側の面」とは逆側となる面をいう。   The present invention is described in detail below. In the present invention, the “transparent glass substrate” means a glass plate constituting a front plate (a plate-like filter externally attached separately from the PDP panel main body) and a glass plate on the observer side constituting the PDP panel main body. It means both. In addition, when the transparent glass substrate is a glass plate constituting the front plate, the “surface on the display panel side” means the side facing the display panel when the composite filter for display is arranged on the front side of the display panel. Of the face. The “observer side surface” means a surface opposite to the “display panel side surface”.

本発明に係るディスプレイ用複合フィルタは、透明硝子基材の片面に、バインダー成分を含有する近赤外線吸収層、及び透視性導電層がこの順序で積層され、且つ、当該近赤外線吸収層は、近赤外線吸収剤として、一般式MxWyOz(但し、M元素は、H、He、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、Iのうちから選択される1種類以上の元素、Wはタングステン、Oは酸素、0.001≦x/y≦1.1、2.2≦z/y≦3.0)で表される複合タングステン酸化物微粒子を含有していることを特徴とする。   In the composite filter for display according to the present invention, a near-infrared absorbing layer containing a binder component and a transparent conductive layer are laminated in this order on one side of a transparent glass substrate. As an infrared absorber, general formula MxWyOz (where M element is H, He, alkali metal, alkaline earth metal, rare earth element, Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, B, F, P, S, Se, Br, Te, Ti, Nb, One or more elements selected from V, Mo, Ta, Re, Be, Hf, Os, Bi, and I, W is tungsten, O is oxygen, 0.001 ≦ x / y ≦ 1.1, 2 .2 ≦ z / y ≦ 3.0) Characterized in that it contains the numeric oxide particles.

<複合フィルタの層構成>
本発明に係るディスプレイ用複合フィルタの層構成について図面を用いて説明する。
本発明による複合フィルタの一例の断面図を図1で概念的に示す。なお、図1以下の断面図において、説明の容易化のために、厚み方向(図の上下方向)を面方向(図の左右方向)の縮尺よりも大幅に拡大誇張して図示してある。図1に示す複合フィルタ1は、本発明に係る複合フィルタの好適な実施形態のうちの第一の実施形態であり、透明硝子基材10のPDP60側の面に、透明硝子基材10に近い側から、バインダー成分を含有する近赤外線吸収層20及び透視性導電層50がこの順序で積層された構成である。ここで、近赤外線吸収層20は、バインダー成分及び一般式MxWyOz(但し、M元素は、H、He、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、Iのうちから選択される1種類以上の元素、Wはタングステン、Oは酸素、0.001≦x/y≦1.1、2.2≦z/y≦3.0)で表される複合タングステン酸化物微粒子を含有している。
<Layer structure of composite filter>
The layer structure of the composite filter for display according to the present invention will be described with reference to the drawings.
A sectional view of an example of a composite filter according to the present invention is conceptually shown in FIG. In the cross-sectional views of FIG. 1 and subsequent figures, for ease of explanation, the thickness direction (vertical direction in the figure) is greatly enlarged and exaggerated from the scale in the plane direction (horizontal direction in the figure). A composite filter 1 shown in FIG. 1 is a first embodiment of preferred embodiments of a composite filter according to the present invention, and is close to the transparent glass substrate 10 on the surface of the transparent glass substrate 10 on the PDP 60 side. From the side, the near-infrared absorbing layer 20 containing the binder component and the transparent conductive layer 50 are laminated in this order. Here, the near-infrared absorbing layer 20 is composed of a binder component and a general formula MxWyOz (where the M element is H, He, alkali metal, alkaline earth metal, rare earth element, Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, B, F, P, S, Se, One or more elements selected from Br, Te, Ti, Nb, V, Mo, Ta, Re, Be, Hf, Os, Bi, I, W is tungsten, O is oxygen, 0.001 ≦ x Composite tungsten oxide fine particles represented by /y≦1.1, 2.2 ≦ z / y ≦ 3.0).

図2は、本発明に係る複合フィルタの好適な実施形態のうちの第二の実施形態であり、透明硝子基材10のPDP60側の面に、近赤外線吸収層20が形成されており、当該近赤外線吸収層20の表面に、透明樹脂基材12の片面に透視性導電層50の一形態である導電性メッシュ層16を備えた電磁波遮蔽シートの当該導電性メッシュ16側の面が積層されている。また、当該導電性メッシュ層16は、PDP60側の面とは反対側の面が黒化処理されて黒化層13を有する。
尚、導電性メッシュ層は、機械的強度が弱いため独立した層として存在することが困難である。そのため、導電性メッシュ層は、通常、透明基材(透明樹脂基材又は透明硝子基材)の表面に導電層を積層し、当該導電層をエッチングによりメッシュ形状とすることで形成される。次いで、当該導電性メッシュ層を積層した透明基材は、当該導電性メッシュ層側の面又は当該透明基材側の面が透明硝子基材上に積層される。
FIG. 2 is a second embodiment of the preferred embodiment of the composite filter according to the present invention, in which a near-infrared absorbing layer 20 is formed on the surface of the transparent glass substrate 10 on the PDP 60 side. On the surface of the near-infrared absorbing layer 20, the surface on the conductive mesh 16 side of the electromagnetic shielding sheet provided with the conductive mesh layer 16 that is one form of the transparent conductive layer 50 on one surface of the transparent resin base material 12 is laminated. ing. Further, the conductive mesh layer 16 has a blackened layer 13 by blackening the surface opposite to the surface on the PDP 60 side.
The conductive mesh layer is difficult to exist as an independent layer because of its low mechanical strength. Therefore, the conductive mesh layer is usually formed by laminating a conductive layer on the surface of a transparent substrate (transparent resin substrate or transparent glass substrate) and forming the conductive layer into a mesh shape by etching. Next, in the transparent substrate on which the conductive mesh layer is laminated, the surface on the conductive mesh layer side or the surface on the transparent substrate side is laminated on the transparent glass substrate.

図3は、本発明に係る複合フィルタの好適な実施形態のうちの第三の実施形態であり、透明硝子基材10のPDP60側の面に、透明硝子基材10に近い側から、近赤外線吸収層20及び透視性導電層50がこの順序で積層され、透明硝子基材10の観察者70側の面には、防眩層30が形成されている。   FIG. 3 shows a third embodiment of the preferred embodiment of the composite filter according to the present invention. From the side near the transparent glass substrate 10 to the surface on the PDP 60 side of the transparent glass substrate 10, a near infrared ray is shown. The absorption layer 20 and the transparent conductive layer 50 are laminated in this order, and the antiglare layer 30 is formed on the surface of the transparent glass substrate 10 on the viewer 70 side.

図4は、本発明に係る複合フィルタの好適な実施形態のうちの第四の実施形態であり、透明硝子基材10のPDP60側の面に、透明硝子基材10に近い側から、近赤外線吸収層20及び透視性導電層50がこの順序で積層され、透明硝子基材10の観察者70側の面には、防眩層30又は反射防止層40が形成されている。   FIG. 4 shows a fourth embodiment of the preferred embodiment of the composite filter according to the present invention. From the side close to the transparent glass substrate 10 on the surface on the PDP 60 side of the transparent glass substrate 10, a near infrared ray is shown. The absorption layer 20 and the transparent conductive layer 50 are laminated in this order, and the antiglare layer 30 or the antireflection layer 40 is formed on the surface of the transparent glass substrate 10 on the viewer 70 side.

図5は、本発明に係る複合フィルタの好適な実施形態のうちの第五の実施形態であり、透明硝子基材11のPDP60側の面に、透明硝子基材11に近い側から、近赤外線吸収層20及び透視性導電層50がこの順序で積層され、透明硝子基材11の観察者70側の面は、防眩機能を有するように粗面化処理されている。   FIG. 5 shows a fifth embodiment of the preferred embodiment of the composite filter according to the present invention. From the side near the transparent glass substrate 11 to the surface on the PDP 60 side of the transparent glass substrate 11, a near infrared ray is shown. The absorbing layer 20 and the transparent conductive layer 50 are laminated in this order, and the surface on the viewer 70 side of the transparent glass substrate 11 is roughened so as to have an antiglare function.

図6は、本発明に係る複合フィルタの好適な実施形態のうちの第六の実施形態であり、電磁波遮蔽シートの透明樹脂基材12側の観察者側の面に防眩層30が積層され、当該電磁波遮蔽シートのPDP60側の面に透視性導電層50の一形態である導電性メッシュ層16が形成されている。当該導電性メッシュ層16側の表面に近赤外線吸収層20が当該導電性メッシュ層16の凹凸を平坦化するように形成されており、当該近赤外線吸収層20のPDP60側の面に透明硝子基材10が貼り付けられている。前記電磁波遮蔽シートにおける導電性メッシュ層16は、前記透明樹脂基材12側の面に黒化層13が形成されており、また、当該導電性メッシュ層16は、周縁部の接地用領域の一部15が露出している。また、前記透明硝子基材10の一側縁に導電性部材17が配置されており、図6に示すように、当該導電性部材17が当該透視性導電層16周縁部の接地用領域15と接触し、当該透明硝子基材10の観察者側の面からPDP60側の面に沿って導通路を形成している。また、導電性部材17のPDP60側の面に、ガスケット18が設けてある。これにより、当該ガスケット18からPDP本体に、容易にアースを取ることができる。また、当該導電性部材17のPDP側の面から直接PDP本体に、アースを取ることもできる。尚、本発明において用いられる導電性部材17は、導電性を有する物質であれば特に制限されるものではないが、導電性が良い点で金属が好ましい。   FIG. 6 is a sixth embodiment among the preferred embodiments of the composite filter according to the present invention, in which an antiglare layer 30 is laminated on the surface on the observer side of the transparent resin substrate 12 side of the electromagnetic wave shielding sheet. A conductive mesh layer 16 that is one form of the transparent conductive layer 50 is formed on the surface of the electromagnetic wave shielding sheet on the PDP 60 side. A near-infrared absorbing layer 20 is formed on the surface of the conductive mesh layer 16 so as to flatten the unevenness of the conductive mesh layer 16, and a transparent glass substrate is formed on the surface of the near-infrared absorbing layer 20 on the PDP 60 side. The material 10 is affixed. The conductive mesh layer 16 in the electromagnetic wave shielding sheet has a blackened layer 13 formed on the surface on the transparent resin base material 12 side, and the conductive mesh layer 16 is a part of the grounding region in the peripheral portion. The part 15 is exposed. Further, a conductive member 17 is disposed on one side edge of the transparent glass substrate 10, and the conductive member 17 is connected to the grounding region 15 at the peripheral portion of the transparent conductive layer 16 as shown in FIG. 6. In contact with each other, a conductive path is formed along the surface on the PDP 60 side from the surface on the observer side of the transparent glass substrate 10. A gasket 18 is provided on the surface of the conductive member 17 on the PDP 60 side. Thereby, it is possible to easily ground the gasket 18 to the PDP main body. Further, the PDP main body can be grounded directly from the surface of the conductive member 17 on the PDP side. The conductive member 17 used in the present invention is not particularly limited as long as it is a substance having conductivity, but a metal is preferable in terms of good conductivity.

図7は、本発明に係る複合フィルタの好適な実施形態のうちの第七の実施形態であり、電磁波遮蔽シートの透明樹脂基材12側の観察者側の面に防眩層30が積層され、当該電磁波遮蔽シートのPDP60側の面に透視性導電層50の一形態である導電性メッシュ層16が形成されており、当該導電性メッシュ層16は、前記透明樹脂基材12側の面に黒化層13を有する。また、当該導電性メッシュ層16の表面に、近赤外線吸収層20が当該導電性メッシュ層16の凹凸を平坦化するように形成され、当該近赤外線吸収層20が複合フィルタの貼付面となり、例えば、当該複合フィルタをPDP60の前面(観察者側)に直接貼り付けることが可能である。
なお、上記実施形態によるディスプレイ用複合フィルタは、前記複合タングステン酸化物微粒子を分散させた層をPDP前面貼付時に観察者側から見て電磁波遮蔽シートの裏側になるように配置したため、当該ディスプレイ用複合フィルタ表面は複合タングステン酸化物微粒子の色味を帯びず、PDP前面に配置されてPDPを消している場合にPDP前面が着色したように見えて使用者に好まれないという従来の問題を解消できる。且つ、複合タングステン酸化物微粒子の高屈折率に起因する表面の外光反射による画像コントラスト低下及び外光映り込みと云う従来の問題もまた解消できる。
FIG. 7 shows a seventh embodiment of the preferred embodiments of the composite filter according to the present invention, in which an antiglare layer 30 is laminated on the surface on the observer side of the transparent resin substrate 12 side of the electromagnetic wave shielding sheet. The conductive mesh layer 16 that is one form of the transparent conductive layer 50 is formed on the surface of the electromagnetic wave shielding sheet on the PDP 60 side, and the conductive mesh layer 16 is formed on the surface of the transparent resin substrate 12 side. A blackening layer 13 is provided. Further, the near infrared absorption layer 20 is formed on the surface of the conductive mesh layer 16 so as to flatten the unevenness of the conductive mesh layer 16, and the near infrared absorption layer 20 becomes a sticking surface of the composite filter. The composite filter can be directly attached to the front surface (observer side) of the PDP 60.
In the composite filter for display according to the above embodiment, the layer in which the composite tungsten oxide fine particles are dispersed is disposed so as to be on the back side of the electromagnetic wave shielding sheet when viewed from the observer side when the PDP front surface is applied. The surface of the filter does not take on the color of the composite tungsten oxide fine particles, and when the PDP is placed on the front surface of the PDP and the PDP is turned off, the conventional problem that the front surface of the PDP appears to be colored and is not preferred by the user can be solved. . In addition, conventional problems such as image contrast reduction and external light reflection due to external light reflection on the surface due to the high refractive index of the composite tungsten oxide fine particles can also be solved.

本発明のディスプレイ用複合フィルタによれば、1つの前面板を構成する硝子板とその両面を用いて、電磁波遮蔽機能以外に、近赤外線吸収機能、反射防止機能、防眩機能、及び/又は耐擦傷機能等の各種機能を複合化するように設計することができる。そのため、光学機能発現部分は、従来のように、各個に透明基材を有し合計で複数(2乃至3層程度)の透明基材を有する積層構成をとらない。従って、従来複数含まれていた光学フィルタの透明基材やそれらを貼り合わせるための接着剤層を減らすことができる。その結果、本発明のディスプレイ用複合フィルタは、材料費が低減できる。また、本発明のような層構成を有する場合には、層数削減により界面反射を抑えることができるというメリットがある。
また、本発明において透明基材として用いられる前記透明硝子基材は、耐熱性、耐擦傷性に優れ、また、安価であるというメリットがある。
According to the composite filter for display of the present invention, the near-infrared absorbing function, the antireflection function, the antiglare function, and / or the anti-glare function, in addition to the electromagnetic wave shielding function, using the glass plate constituting both front plates and both surfaces thereof. It can be designed to combine various functions such as an abrasion function. Therefore, the optical function developing part does not take a laminated structure having a plurality of transparent substrates (about 2 to 3 layers) in total, each having a transparent substrate. Therefore, the transparent base material of the optical filter which was conventionally contained two or more and the adhesive bond layer for bonding them together can be reduced. As a result, the composite filter for display of the present invention can reduce the material cost. Moreover, when it has a layer structure like this invention, there exists a merit that interface reflection can be suppressed by the number of layers reduction.
In addition, the transparent glass substrate used as a transparent substrate in the present invention is advantageous in that it has excellent heat resistance and scratch resistance and is inexpensive.

本発明において近赤外線吸収剤として用いられる前記複合タングステン酸化物微粒子は、耐熱性、耐湿性、耐光性が高い。また、従来の有機系近赤外線吸収色素を劣化させる要因となっていたディスプレイ前面板等の硝子基材、透視性導電層、或いは光学フィルタ基材間の接着剤層と接触する層に含有させても、これらの層等との反応による特性劣化を生じ難い。その上、前記複合タングステン酸化物微粒子は、ディスプレイ前面より発生する波長800〜1,100nmの近赤外線帯域全般を当該複合タングステン酸化物微粒子のみで吸収し得るので、更に劣化しやすいイモニウム系近赤外線吸収剤を併用しなくても良い。従って、本発明のディスプレイ用複合フィルタによれば、長時間の使用、特に高温下や高湿下での長時間の使用によっても、近赤外線吸収剤の劣化に帰属されるフィルタの色ムラが起こり難い。また、近赤外線吸収剤の劣化防止のために、ディスプレイ表面等のガラス基材、透視性導電層、或いは、光学フィルタ基材間の接着剤層等から近赤外線吸収層を隔離する必要性がない。そのため、本発明に係るディスプレイ用複合フィルタのような外観に優れ、電磁波遮蔽機能、近赤外線吸収機能及び表面保護機能の各機能を有しながら、積層工程数を減らして生産効率に優れ、少ない積層数で、材料費も低減できる構成を実用化可能となった。
また、反射防止層のような比較的薄い膜として設けられる層に複合タングステン酸化物微粒子を含有させると、層における微粒子密度が高くなって、ヘイズが高くなるという問題も発生するが、本発明のようにバインダー成分を含む層に含有させると反射防止層に比べて層が厚いため、ヘイズが高くなることを抑制できるというメリットもある。
以下、本発明に用いられる複合フィルタについて、透明硝子基材、近赤外線吸収層、透視性導電層及び表面保護層を順に説明する。
The composite tungsten oxide fine particles used as a near-infrared absorber in the present invention have high heat resistance, moisture resistance, and light resistance. In addition, it is contained in a layer that comes into contact with an adhesive layer between a glass substrate, a transparent conductive layer, or an optical filter substrate, such as a display front plate, which has been a cause of deterioration of conventional organic near-infrared absorbing dyes. However, it is difficult to cause characteristic deterioration due to reaction with these layers. In addition, since the composite tungsten oxide fine particles can absorb the entire near-infrared band having a wavelength of 800 to 1,100 nm generated from the front surface of the display only by the composite tungsten oxide fine particles, the iminium-based near infrared absorption that is more easily deteriorated. It is not necessary to use the agent in combination. Therefore, according to the composite filter for display of the present invention, color unevenness of the filter attributed to the deterioration of the near-infrared absorber occurs even when used for a long time, particularly for a long time under high temperature or high humidity. hard. In addition, there is no need to isolate the near-infrared absorbing layer from a glass substrate such as a display surface, a transparent conductive layer, or an adhesive layer between optical filter substrates in order to prevent deterioration of the near-infrared absorbing agent. . Therefore, it is excellent in appearance like the composite filter for display according to the present invention, and has each function of electromagnetic wave shielding function, near infrared ray absorption function and surface protection function, while reducing the number of laminating processes, and is excellent in production efficiency, and less laminating. The configuration that can reduce the material cost can be put into practical use.
In addition, when the composite tungsten oxide fine particles are contained in a layer provided as a relatively thin film such as an antireflection layer, there is a problem that the fine particle density in the layer increases and haze increases. Thus, when it contains in the layer containing a binder component, since a layer is thick compared with an antireflection layer, there also exists a merit that it can suppress that haze becomes high.
Hereinafter, the transparent glass substrate, the near-infrared absorbing layer, the transparent conductive layer, and the surface protective layer will be described in order for the composite filter used in the present invention.

1.透明硝子基材
透明硝子基材は複合フィルタの支持体であり、必要に応じて防眩機能を有するように一方の表面が粗面化処理されていてもよい。
透明硝子基材は、機械的強度が弱い近赤外線吸収層を補強するための支持体であり、機械的強度、光透過性を有すれば、その他耐熱性等の性能を適宜勘案したものを用途に応じて選択すればよい。透明硝子基材の透明性は高いほどよいが、好ましくは可視光域380〜780nmにおける光線透過率が70%以上、より好ましくは80%以上となる光透過性が良い。なお、光透過率の測定は、分光光度計(例えば、(株)島津製作所製 UV‐3100PC)を用い、室温、大気中で測定した値を用いることができる。
1. Transparent glass substrate The transparent glass substrate is a support for the composite filter, and one surface may be roughened so as to have an antiglare function if necessary.
Transparent glass substrate is a support to reinforce the near-infrared absorbing layer with weak mechanical strength. If it has mechanical strength and light transmittance, it can be used with appropriate consideration of performance such as heat resistance. You may select according to. The higher the transparency of the transparent glass substrate, the better, but the light transmittance is preferably 70% or more, more preferably 80% or more in the visible light region of 380 to 780 nm. In addition, the light transmittance can be measured using a spectrophotometer (for example, UV-3100PC manufactured by Shimadzu Corporation) and a value measured in the air at room temperature.

透明硝子基材の材料として用いる硝子としては、例えば、石英ガラス、カリガラス、ホウケイ酸ガラス、ソーダライムガラスなどがあるが、安価なソーダライムガラス(青板ガラス)がよく用いられる。   Examples of the glass used as the material for the transparent glass substrate include quartz glass, potash glass, borosilicate glass, and soda lime glass, but inexpensive soda lime glass (blue plate glass) is often used.

透明硝子基材の厚さは、基本的には用途に応じ選定すればよく、特に制限はないが、通常は1mm〜5mm程度が好適である。1mm未満の厚みとなると機械的強度が不足して反りや弛み、破断などが起こり、5mmを超える厚みとなると過剰性能でコスト高となる。   The thickness of the transparent glass substrate may be basically selected according to the application and is not particularly limited, but is usually preferably about 1 mm to 5 mm. When the thickness is less than 1 mm, the mechanical strength is insufficient and warping, slackening, breakage, and the like occur, and when the thickness exceeds 5 mm, excessive performance increases the cost.

2.近赤外線吸収層
本発明に係る近赤外線吸収層は、近赤外線吸収機能を有する層であり、バインダー成分及び一般式MxWyOz(但し、M元素は、H、He、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、Iのうちから選択される1種類以上の元素、Wはタングステン、Oは酸素、0.001≦x/y≦1.1、2.2≦z/y≦3.0)で表される複合タングステン酸化物微粒子を含有し、更に後述の紫外線吸収剤等の他の成分を含有していても良いものである。
また、当該近赤外線吸収層に、前記透明硝子基材と後述する透視性導電層とを貼り合わせ可能な接着性に加え、剥離後に当該透明硝子基材の再利用を可能とする(リワーク性ともいう)再剥離性を付与した場合には、当該近赤外線吸収層を、粘着剤層として用いることができる。従って、当該近赤外線吸収層を上記の形態で用いる場合、更に別途粘着剤層等の接着するための層が不要であり、更に生産効率が高くなる。
2. Near-infrared absorbing layer The near-infrared absorbing layer according to the present invention is a layer having a near-infrared absorbing function, and includes a binder component and a general formula MxWyOz (where M element is H, He, alkali metal, alkaline earth metal, rare earth) Element, Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, One or more elements selected from Pb, Sb, B, F, P, S, Se, Br, Te, Ti, Nb, V, Mo, Ta, Re, Be, Hf, Os, Bi, I , W is tungsten, O is oxygen, and contains composite tungsten oxide fine particles represented by 0.001 ≦ x / y ≦ 1.1, 2.2 ≦ z / y ≦ 3.0). It may contain other components such as an absorbent.
In addition to the adhesiveness that allows the transparent glass substrate and a transparent conductive layer to be described later to be bonded to the near-infrared absorbing layer, the transparent glass substrate can be reused after peeling (also known as reworkability). When the re-peelability is imparted, the near-infrared absorbing layer can be used as an adhesive layer. Therefore, when the near-infrared absorbing layer is used in the above-described form, a separate layer such as a pressure-sensitive adhesive layer is not necessary, and the production efficiency is further increased.

本発明に係る近赤外線吸収層においては、近赤外線吸収層中に複合タングステン酸化物微粒子が分散されて、複合フィルタに必要な透明性と、近赤外線吸収機能を確保している。
また、近赤外線吸収層には、上記複合タングステン酸化物微粒子及びバインダー成分の他に、紫外線吸収剤、ネオン光吸収材、色補正色素などの光学的機能を調節する成分を含有させてもよい。
In the near-infrared absorbing layer according to the present invention, composite tungsten oxide fine particles are dispersed in the near-infrared absorbing layer to ensure the transparency required for the composite filter and the near-infrared absorbing function.
In addition to the composite tungsten oxide fine particles and the binder component, the near-infrared absorption layer may contain components that adjust optical functions such as an ultraviolet absorber, a neon light absorber, and a color correction dye.

(1)複合タングステン酸化物微粒子
前記一般式MxWyOz(但し、M元素は、H、He、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、Iのうちから選択される1種類以上の元素、Wはタングステン、Oは酸素、0.001≦x/y≦1.1、2.2≦z/y≦3.0)で示される複合タングステン酸化物微粒子は、本発明において近赤外線吸収剤として機能する。従って本発明にかかる近赤外線吸収層は、プラズマディスプレイパネルがキセノンガス放電を利用して発光する際に生じる近赤外線領域、即ち、800nm〜1,100nmの波長域を吸収するものであり、該帯域の近赤外線の透過率が10%以下、更に5%以下であることが好ましい。
(1) Composite tungsten oxide fine particles The general formula MxWyOz (wherein M element is H, He, alkali metal, alkaline earth metal, rare earth element, Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, B, F, P, S, Se, Br, Te, One or more elements selected from Ti, Nb, V, Mo, Ta, Re, Be, Hf, Os, Bi, I, W is tungsten, O is oxygen, 0.001 ≦ x / y ≦ 1 ., 1.2 ≦ z / y ≦ 3.0), the composite tungsten oxide fine particles function as a near infrared absorber in the present invention. Therefore, the near-infrared absorbing layer according to the present invention absorbs the near-infrared region generated when the plasma display panel emits light using xenon gas discharge, that is, the wavelength region of 800 nm to 1,100 nm. The near-infrared transmittance is preferably 10% or less, more preferably 5% or less.

前記一般式MxWyOzで表記される複合タングステン酸化物微粒子は、六方晶、正方晶、立方晶の結晶構造を有する場合に耐久性に優れることから、該六方晶、正方晶、立方晶から選ばれる1つ以上の結晶構造を含むことが好ましい。例えば、六方晶の結晶構造を持つ複合タングステン酸化物微粒子の場合であれば、好ましいM元素として、Cs、Rb、Li、K、Ba、Ca、Sr、Fe、Tl、In、Snの各元素から選択される1種類以上の元素を含む複合タングステン酸化物微粒子が挙げられる。中でも、M元素としては、耐久性の点から、Cs(セシウム)であることが好ましい。   The composite tungsten oxide fine particles represented by the general formula MxWyOz is excellent in durability when it has a hexagonal, tetragonal or cubic crystal structure, and is therefore selected from the hexagonal, tetragonal and cubic crystals. Preferably it contains more than one crystal structure. For example, in the case of composite tungsten oxide fine particles having a hexagonal crystal structure, preferable M elements include Cs, Rb, Li, K, Ba, Ca, Sr, Fe, Tl, In, and Sn. Examples thereof include composite tungsten oxide fine particles containing one or more selected elements. Among them, the M element is preferably Cs (cesium) from the viewpoint of durability.

このとき、添加されるM元素の添加量xは、0.001以上1.0以下が好ましく、更に好ましくは0.33付近が好ましい。これは六方晶の結晶構造から理論的に算出されるxの値が0.33であり、この前後の添加量で好ましい光学特性が得られるからである。一方、酸素の存在量zは、2.2以上3.0以下が好ましい。例えば、Cs0.33WO、Rb0.33WO、K0.33WO、Ba0.33WOなどを挙げることができるが、x、zが上記の範囲に収まるものであれば、有用な近赤外線吸収特性を得ることができる。 At this time, the addition amount x of M element to be added is preferably 0.001 or more and 1.0 or less, and more preferably around 0.33. This is because the value of x calculated theoretically from the hexagonal crystal structure is 0.33, and preferable optical characteristics can be obtained with the addition amount before and after this value. On the other hand, the abundance z of oxygen is preferably 2.2 or more and 3.0 or less. For example, Cs 0.33 WO 3 , Rb 0.33 WO 3 , K 0.33 WO 3 , Ba 0.33 WO 3 and the like can be mentioned, provided that x and z fall within the above ranges. Useful near infrared absorption characteristics can be obtained.

このような複合タングステン酸化物微粒子は、各々単独で使用してもよいが、混合して使用することも好ましい。
また、上記複合タングステン酸化物微粒子の表面を、Si、Ti、Zr、Alのいずれか1種類以上の元素を含有する酸化物で被覆することが、耐候性をより向上させることができる点から、好ましい。
Such composite tungsten oxide fine particles may be used alone or in combination.
In addition, coating the surface of the composite tungsten oxide fine particles with an oxide containing one or more elements of Si, Ti, Zr, and Al can further improve the weather resistance. preferable.

また、複合タングステン酸化物微粒子の平均分散粒子径は、近赤外線吸収層の透明性の点から800nm以下であることが好ましく、更に好ましくは200nm以下、特に好ましくは100nm以下である。尚、ここでの平均分散粒径は、体積平均粒径をいい、粒度分布・粒子径分布測定装置(例えば、日機装株式会社製、ナノトラック粒度分布測定装置)を用いて測定することができる。   The average dispersed particle size of the composite tungsten oxide fine particles is preferably 800 nm or less, more preferably 200 nm or less, particularly preferably 100 nm or less, from the viewpoint of transparency of the near-infrared absorbing layer. Here, the average dispersed particle size refers to a volume average particle size, and can be measured using a particle size distribution / particle size distribution measuring device (for example, Nanotrack particle size distribution measuring device manufactured by Nikkiso Co., Ltd.).

複合タングステン酸化物微粒子の含有量は、特に限定されないが、近赤外線吸収層中に、1〜25重量%であることが好ましい。含有量が1重量%より多ければ、十分な近赤外線吸収機能を発現でき、25重量%以下であれば、十分な量の可視光線を透過できる。   Although content of composite tungsten oxide microparticles | fine-particles is not specifically limited, It is preferable that it is 1-25 weight% in a near-infrared absorption layer. If the content is more than 1% by weight, a sufficient near-infrared absorbing function can be exhibited, and if it is 25% by weight or less, a sufficient amount of visible light can be transmitted.

(2)バインダー成分
本発明の近赤外線吸収層において、前記複合タングステン酸化物微粒子と共に用いられるバインダー成分は、前記複合タングステン酸化物微粒子を均一に分散し、且つ、当該近赤外線吸収層に成膜性や、基材に対する密着性を付与するために、必須成分として配合される。特に、当該近赤外線吸収層に粘着剤層としての機能を持たせる場合には、バインダーとして粘着剤を用いる。
また、本発明の近赤外線吸収層で使用するバインダー成分は透明性を有する必要がある。バインダー成分の透明性は、人が透明と感じる程度であれば特に制限はないが、JIS K7136に準拠した曇度(ヘイズ)が5以下のものが好ましく、3以下が特に好ましい。
バインダー成分は、前記複合タングステン酸化物微粒子を分散可能であれば有機材料であってもよいし、無機材料であってもよい。
有機材料としては、それ自体は重合反応性のない非重合性樹脂、電離放射線硬化性樹脂、又は熱硬化性樹脂等の重合反応性樹脂のいずれを用いても良い。
非重合性樹脂としては、例えば、(メタ)アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、フッ素系樹脂、珪素系樹脂、ポリカーボネート樹脂あるいはポリエステル系樹脂等を用いることができるが、中でも(メタ)アクリル系樹脂が透明性に優れるため、特に好ましい。ここで、(メタ)アクリル系樹脂とは、アクリル系樹脂及び/又はメタクリル系樹脂をいう。以下同様の略称表記法を用いる。
上記アクリル系樹脂は、少なくとも(メタ)アクリル酸及びこれらの誘導体の(メタ)アクリル系単量体から誘導される繰り返し単位を有する重合体である。
(2) Binder component In the near-infrared absorbing layer of the present invention, the binder component used together with the composite tungsten oxide fine particles uniformly disperses the composite tungsten oxide fine particles and forms a film on the near-infrared absorbing layer. Or, in order to impart adhesion to the substrate, it is blended as an essential component. In particular, when the near infrared absorbing layer has a function as an adhesive layer, an adhesive is used as a binder.
In addition, the binder component used in the near infrared absorption layer of the present invention needs to have transparency. The transparency of the binder component is not particularly limited as long as it is transparent to humans, but the haze according to JIS K7136 is preferably 5 or less, and particularly preferably 3 or less.
The binder component may be an organic material or an inorganic material as long as the composite tungsten oxide fine particles can be dispersed.
As the organic material, any of a non-polymerizable resin having no polymerization reactivity per se, an ionizing radiation curable resin, or a polymerization reactive resin such as a thermosetting resin may be used.
As the non-polymerizable resin, for example, (meth) acrylic resin, urethane resin, fluorine resin, silicon resin, polycarbonate resin, or polyester resin can be used. Since it is excellent in transparency, it is especially preferable. Here, the (meth) acrylic resin refers to an acrylic resin and / or a methacrylic resin. Hereinafter, similar abbreviations are used.
The acrylic resin is a polymer having a repeating unit derived from at least (meth) acrylic acid and a (meth) acrylic monomer of these derivatives.

上記(メタ)アクリル系単量体としては、(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマー等の(メタ)アクリル酸エステルモノマー、及び(メタ)アクリル酸等が挙げられる。
(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーの例としては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n−プロピル、(メタ)アクリル酸sec‐プロピル、(メタ)アクリル酸n‐ブチル、(メタ)アクリル酸sec‐ブチル、(メタ)アクリル酸tert‐ブチル、(メタ)アクリル酸イソアミル、(メタ)アクリル酸n‐ヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸n‐オクチル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸2‐エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ウンデシル及び(メタ)アクリル酸ラウリル等を挙げることができる。
Examples of the (meth) acrylic monomer include (meth) acrylic acid ester monomers such as (meth) acrylic acid alkyl ester monomers, and (meth) acrylic acid.
Examples of (meth) acrylic acid alkyl ester monomers include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, sec-propyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid. n-butyl, sec-butyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid Examples thereof include n-octyl, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, and lauryl (meth) acrylate.

更に、本発明で用いられるアクリル系樹脂には、上記の他に、他の官能基を有するモノマーが共重合されていても良い。他の官能基を有するモノマーの例としては、(メタ)アクリル酸2‐ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2‐ヒドロキシプロピル及びアリルアルコール等の水酸基を含有するモノマー;(メタ)アクリルアミド、N‐メチル(メタ)アクリルアミド及びN‐エチル(メタ)アクリルアミド等のアミド基を含有するモノマー;N‐メチロール(メタ)アクリルアミド及びジメチロール(メタ)アクリルアミド等のアミド基とメチロール基とを含有するモノマー;アミノメチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート及びビニルピリジン等のアミノ基を含有するモノマーのような官能基を有するモノマー;アリルグリシジルエーテル、(メタ)アクリル酸グリシジルエーテルなどのエポキシ基含有モノマーなどが挙げられる。   Furthermore, in addition to the above, the acrylic resin used in the present invention may be copolymerized with a monomer having another functional group. Examples of monomers having other functional groups include monomers containing hydroxyl groups such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate and allyl alcohol; (meth) acrylamide, N-methyl Monomers containing amide groups such as (meth) acrylamide and N-ethyl (meth) acrylamide; Monomers containing amide groups and methylol groups such as N-methylol (meth) acrylamide and dimethylol (meth) acrylamide; Monomers having functional groups such as monomers containing amino groups such as (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate and vinylpyridine; epoxy group-containing monomers such as allyl glycidyl ether and (meth) acrylic acid glycidyl ether It is below.

上記アクリル系樹脂の分子量は1,000〜500,000、更に10,000〜100,000が好ましい。   The molecular weight of the acrylic resin is preferably 1,000 to 500,000, more preferably 10,000 to 100,000.

電離放射線硬化性樹脂としては、上記非重合性樹脂の化学骨格に、重合性官能基として、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、(メタ)アクリロイルオキシ基等のエチレン性二重結合含有基で代表されるラジカル重合性不飽和基、或いはエポキシ基等のカチオン重合性官能基を導入した樹脂や、上記重合性官能基を1分子あたり2つ以上有する多官能のモノマー又はオリゴマー(プレポリマーとも云う)を混合した組成物が用いられる。
ラジカル重合性オリゴマーとしては、例えば、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート等の各種(メタ)アクリレートオリゴマー、不飽和ポリエステルオリゴマー等が挙げられる。
カチオン重合性オリゴマーとしては、例えば、ノボラック型エポキシ樹脂オリゴマー、ビスフェノール型エポキシ樹脂オリゴマー、芳香族ビニルエーテル系樹脂オリゴマー等が挙げられる。
多官能のモノマー又はオリゴマーのうち、2官能モノマーとしては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキサンジオール等のアルキレングリコールのジ(メタ)アクリレート類;ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリアルキレングリコールのジ(メタ)アクリレート類を挙げることができる。
3官能モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート等の3価以上の多価アルコールのトリ(メタ)アクリレート類を挙げることができる。
4官能以上の多官能モノマーとしては、例えば、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等を挙げることができる。
電離放射線として紫外線、或いは可視光線を用いる場合には光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、ラジカル重合性のモノマー又はオリゴマーの場合には、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンゾイン系等の化合物が、また、カチオン重合系のモノマー又はオリゴマーの場合には、メタロセン系、芳香族スルホニウム系、芳香族ヨードニウム系等の化合物が用いられる。これら光重合開始剤は、上記モノマー及び/又はオリゴマーからなる組成物100重量部に対して0.1〜5重量部程度添加する。
尚、電離放射線としては、紫外線又は電子線が代表的なものであるが、この他、可視光線、X線、γ線等の電磁波、或いはα線等の荷電粒子線を用いることもできる。
The ionizing radiation curable resin is represented by a group containing ethylenic double bonds such as vinyl group, (meth) acryloyl group, (meth) acryloyloxy group as a polymerizable functional group in the chemical skeleton of the non-polymerizable resin. Resin having a cationically polymerizable functional group introduced, such as a radically polymerizable unsaturated group or an epoxy group, or a polyfunctional monomer or oligomer having two or more polymerizable functional groups per molecule (also referred to as a prepolymer) Is used.
Examples of the radical polymerizable oligomer include various (meth) acrylate oligomers such as urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, and polyester (meth) acrylate, and unsaturated polyester oligomers.
Examples of the cationic polymerizable oligomer include novolac type epoxy resin oligomers, bisphenol type epoxy resin oligomers, and aromatic vinyl ether resin oligomers.
Among the polyfunctional monomers or oligomers, examples of the bifunctional monomer include di (meth) acrylates of alkylene glycol such as ethylene glycol, propylene glycol, and hexanediol; dialkylene glycol di (meth) acrylate such as polyethylene glycol and polypropylene glycol ( Mention may be made of (meth) acrylates.
Examples of the trifunctional monomer include tri (meth) acrylates of trihydric or higher polyhydric alcohols such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate and pentaerythritol tri (meth) acrylate.
Examples of the tetrafunctional or higher polyfunctional monomer include pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate.
When ultraviolet rays or visible rays are used as the ionizing radiation, a photopolymerization initiator is added. Photopolymerization initiators include compounds such as benzophenone, thioxanthone, and benzoin in the case of radically polymerizable monomers or oligomers, and metallocenes, aromatics in the case of cationic polymerization monomers or oligomers. Group sulfonium-based and aromatic iodonium-based compounds are used. These photopolymerization initiators are added in an amount of about 0.1 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the composition comprising the monomer and / or oligomer.
In addition, as the ionizing radiation, ultraviolet rays or electron beams are typical, but in addition, electromagnetic waves such as visible rays, X-rays and γ rays, or charged particle beams such as α rays can also be used.

また、熱硬化性樹脂としては、上記非重合性樹脂の化学骨格に、グリシジル基等のエポキシ含有基、或いは上記ラジカル重合性不飽和基を導入した熱硬化性樹脂や、上記非重合性樹脂に、エポキシ含有基、或いは上記ラジカル重合性不飽和基を1分子あたり2つ以上有する多官能のエポキシ樹脂を混合した組成物が用いられる。或いは、アクリルポリオール、ポリエステルポリオール等のポリオール化合物から成る主剤と、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等のイソシアネート系化合物とから成る硬化剤とを反応させてなる所謂2液硬化型ウレタン樹脂を用いることも出来る。   In addition, as the thermosetting resin, a thermosetting resin in which an epoxy-containing group such as a glycidyl group or the radically polymerizable unsaturated group is introduced into the chemical skeleton of the nonpolymerizable resin, or the nonpolymerizable resin is used. , An epoxy-containing group, or a composition obtained by mixing a polyfunctional epoxy resin having two or more radical polymerizable unsaturated groups per molecule is used. Alternatively, a so-called two-component curable urethane resin obtained by reacting a main agent composed of a polyol compound such as acrylic polyol or polyester polyol with a curing agent composed of an isocyanate compound such as hexamethylene diisocyanate or isophorone diisocyanate can also be used. .

有機バインダー樹脂の総配合量は、近赤外線吸収層全体の固形分に対して40〜99重量%、更に50〜98重量%であることが好ましい。   The total amount of the organic binder resin is preferably 40 to 99% by weight, more preferably 50 to 98% by weight, based on the solid content of the entire near-infrared absorbing layer.

一方、無機材料としては、可視光領域での光線透過率の高い成分であれば限定されるものではなく、例えば公知のオルガノポリシロキサン又は水ガラス(珪酸ナトリウムの濃水溶液)を用いることができる。
前記オルガノポリシロキサンとしては、例えば、(1)ゾルゲル反応等によりクロロまたはアルコキシシラン等を加水分解、重縮合して大きな強度を発揮するオルガノポリシロキサン、(2)撥水性や撥油性に優れた反応性シリコーンを架橋したオルガノポリシロキサン等を挙げることができる。
On the other hand, the inorganic material is not limited as long as it has a high light transmittance in the visible light region. For example, a known organopolysiloxane or water glass (concentrated aqueous solution of sodium silicate) can be used.
Examples of the organopolysiloxane include: (1) organopolysiloxane that exhibits high strength by hydrolyzing and polycondensing chloro or alkoxysilane by sol-gel reaction or the like, and (2) a reaction having excellent water repellency and oil repellency. And organopolysiloxanes obtained by crosslinking a functional silicone.

上記の(1)の場合、一般式YSiX4−n(n=1〜3)で表される珪素化合物の1種または2種以上の加水分解縮合物、共加水分解縮合物が主体となる。上記一般式でYはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基、または、エポキシ基を挙げることができ、Xはハロゲン、メトキシル基、エトキシル基、または、アセチル基を挙げることができる。 If the above (1), the general formula Y n SiX 4-n 1, two or more hydrolyzable condensate of (n = 1 to 3) a silicon compound represented by the cohydrolysis condensate and mainly Become. In the above general formula, Y can include an alkyl group, a fluoroalkyl group, a vinyl group, an amino group, or an epoxy group, and X can include a halogen, a methoxyl group, an ethoxyl group, or an acetyl group.

具体的には、メチルトリクロルシラン、メチルトリブロムシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチルトリt‐ブトキシシラン;エチルトリクロルシラン、エチルトリブロムシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリt‐ブトキシシラン;n‐プロピルトリクロルシラン、n‐プロピルトリブロムシラン、n‐プロピルトリメトキシシラン、n‐プロピルトリエトキシシラン、n‐プロピルトリイソプロポキシシラン、n‐プロピルトリt‐ブトキシシラン;n‐ヘキシルトリクロルシラン、n‐ヘキシルトリブロムシラン、n‐ヘキシルトリメトキシシラン、n‐ヘキシルトリエトキシシラン、n‐ヘキシルトリイソプロポキシシラン、n‐ヘキシルトリt‐ブトキシシラン;n‐デシルトリクロルシラン、n‐デシルトリブロムシラン、n‐デシルトリメトキシシラン、n‐デシルトリエトキシシラン、n‐デシルトリイソプロポキシシラン、n‐デシルトリt‐ブトキシシラン;n‐オクタデシルトリクロルシラン、n‐オクタデシルトリブロムシラン、n‐オクタデシルトリメトキシシラン、n‐オクタデシルトリエトキシシラン、n‐オクタデシルトリイソプロポキシシラン、n‐オクタデシルトリt‐ブトキシシラン;フェニルトリクロルシラン、フェニルトリブロムシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリt‐ブトキシシラン;テトラクロルシラン、テトラブロムシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラブトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン;ジメチルジクロルシラン、ジメチルジブロムシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン;ジフェニルジクロルシラン、ジフェニルジブロムシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン;フェニルメチルジクロルシラン、フェニルメチルジブロムシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン;トリクロルヒドロシラン、トリブロムヒドロシラン、トリメトキシヒドロシラン、トリエトキシヒドロシラン、トリイソプロポキシヒドロシラン、トリt‐ブトキシヒドロシラン;ビニルトリクロルシラン、ビニルトリブロムシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリt‐ブトキシシラン;トリフルオロプロピルトリクロルシラン、トリフルオロプロピルトリブロムシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリt‐ブトキシシラン;γ‐グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ‐グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ‐グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ‐グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ‐グリシドキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ‐グリシドキシプロピルトリt‐ブトキシシラン;γ‐メタアクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ‐メタアクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ‐メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ‐メタアクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ‐メタアクリロキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ‐メタアクリロキシプロピルトリt‐ブトキシシラン;γ‐アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ‐アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ‐アミノプロピルトリメトキシシラン、γ‐アミノプロピルトリエトキシシラン、γ‐アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、γ‐アミノプロピルトリt‐ブトキシシラン;γ‐メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ‐メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ‐メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ‐メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ‐メルカプトプロピルトリイソプロポキシシラン、γ‐メルカプトプロピルトリt‐ブトキシシラン;β‐(3,4‐エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β‐(3,4‐エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン;および、それらの部分加水分解物;および、それらの混合物を使用することができる。   Specifically, methyltrichlorosilane, methyltribromosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltriisopropoxysilane, methyltri-t-butoxysilane; ethyltrichlorosilane, ethyltribromosilane, ethyltrimethoxysilane, Ethyltriethoxysilane, ethyltriisopropoxysilane, ethyltrit-butoxysilane; n-propyltrichlorosilane, n-propyltribromosilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, n-propyltriisopropoxy Silane, n-propyltri-t-butoxysilane; n-hexyltrichlorosilane, n-hexyltribromosilane, n-hexyltrimethoxysilane, n-hexyltriethoxysilane, n-hex Lutriisopropoxysilane, n-hexyltri-t-butoxysilane; n-decyltrichlorosilane, n-decyltribromosilane, n-decyltrimethoxysilane, n-decyltriethoxysilane, n-decyltriisopropoxysilane, n- Decyltri-t-butoxysilane; n-octadecyltrichlorosilane, n-octadecyltribromosilane, n-octadecyltrimethoxysilane, n-octadecyltriethoxysilane, n-octadecyltriisopropoxysilane, n-octadecyltrit-butoxysilane; Phenyltrichlorosilane, phenyltribromosilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriisopropoxysilane, phenyltri-t-butoxysilane; tetrachlorosilane Tetrabromosilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrabutoxysilane, dimethoxydiethoxysilane; dimethyldichlorosilane, dimethyldibromosilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane; diphenyldichlorosilane, diphenyldibromosilane, Diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane; phenylmethyldichlorosilane, phenylmethyldibromosilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane; trichlorohydrosilane, tribromohydrosilane, trimethoxyhydrosilane, triethoxyhydrosilane, triisopropoxy Hydrosilane, tri-t-butoxyhydrosilane; vinyltrichlorosilane, vinyltribromosilane, vinyltri Methoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, vinyltri-t-butoxysilane; trifluoropropyltrichlorosilane, trifluoropropyltribromosilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, trifluoropropyltriethoxysilane, trifluoropropyl Triisopropoxysilane, trifluoropropyltri-t-butoxysilane; γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxy Propyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriisopropoxysilane, γ-glycidoxypropyltri-t-butoxysilane; γ-methacryloxypropylmethyldimethyl Xysilane, γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriisopropoxysilane, γ-methacryloxypropyl Tri-t-butoxysilane; γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriisopropoxysilane, γ- Aminopropyltri-t-butoxysilane; γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrieth Xysilane, γ-mercaptopropyltriisopropoxysilane, γ-mercaptopropyltri-t-butoxysilane; β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane And partial hydrolysates thereof; and mixtures thereof can be used.

また、バインダーとして、特にフルオロアルキル基を含有するポリシロキサンが好ましく用いることができ、具体的には、下記のフルオロアルキルシランの1種または2種以上の加水分解縮合物、共加水分解縮合物が挙げられ、一般にフッ素系シランカップリング剤として知られたものを使用することができる。
CF(CF)CHCHSi(OCH)
CF(CF)CHCHSi(OCH)
CF(CF)CHCHSi(OCH)
CF(CF)CHCHSi(OCH)
(CF)CF(CF)CHCHSi(OCH)
(CF)CF(CF)CHCHSi(OCH)
(CF)CF(CF)CHCHSi(OCH)
CF(C)CSi(OCH)
CF(CF)(C)CSi(OCH)
CF(CF)(C)CSi(OCH)
CF(CF)(C)CSi(OCH)
CF(CF)CHCHSiCH(OCH)
CF(CF)CHCHSiCH(OCH)
CF(CF)CHCHSiCH(OCH)
CF(CF)CHCHSiCH(OCH)
(CF)CF(CF)CHCHSiCH(OCH)
(CF)CF(CF)CHCHSiCH(OCH)
(CF)CF(CF)CHCHSiCH(OCH)
CF(C)CSiCH(OCH)
CF(CF)(C)CSiCH(OCH)
CF(CF)(C)CSiCH(OCH)
CF(CF)(C)CSiCH(OCH)
CF(CF)CHCHSi(OCHCH)
CF(CF)CHCHSi(OCHCH)
CF(CF)CHCHSi(OCHCH)
CF(CF)CHCHSi(OCHCH)
CF(CF)SON(C)CCHSi(OCH)
As the binder, polysiloxane containing a fluoroalkyl group can be preferably used. Specifically, one or more of the following hydrocondensation condensates and cohydrolysis condensates of fluoroalkylsilanes can be used. And those generally known as fluorine-based silane coupling agents can be used.
CF 3 (CF 2 ) 3 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3
CF 3 (CF 2 ) 5 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3
CF 3 (CF 2 ) 7 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3
CF 3 (CF 2 ) 9 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3
(CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 4 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3
(CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 6 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3
(CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 8 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3
CF 3 (C 6 H 4) C 2 H 4 Si (OCH 3) 3
CF 3 (CF 2 ) 3 (C 6 H 4 ) C 2 H 4 Si (OCH 3 ) 3
CF 3 (CF 2 ) 5 (C 6 H 4 ) C 2 H 4 Si (OCH 3 ) 3
CF 3 (CF 2 ) 7 (C 6 H 4 ) C 2 H 4 Si (OCH 3 ) 3
CF 3 (CF 2 ) 3 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3 ) 2
CF 3 (CF 2 ) 5 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3 ) 2
CF 3 (CF 2 ) 7 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3 ) 2
CF 3 (CF 2 ) 9 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3 ) 2
(CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 4 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3 ) 2
(CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 6 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3 ) 2
(CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 8 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3 ) 2
CF 3 (C 6 H 4) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3) 2
CF 3 (CF 2) 3 ( C 6 H 4) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3) 2
CF 3 (CF 2) 5 ( C 6 H 4) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3) 2
CF 3 (CF 2) 7 ( C 6 H 4) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3) 2
CF 3 (CF 2 ) 3 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3 ) 3
CF 3 (CF 2 ) 5 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3 ) 3
CF 3 (CF 2 ) 7 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3 ) 3
CF 3 (CF 2 ) 9 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3 ) 3
CF 3 (CF 2 ) 7 SO 2 N (C 2 H 5 ) C 2 H 4 CH 2 Si (OCH 3 ) 3

上記のようなフルオロアルキル基を含有するポリシロキサンをバインダーとして用いることにより、光触媒含有層の非光照射部の撥水性が大きく向上し、ブラックマトリックス用塗料や着色層用塗料の付着を妨げる機能を発現する。
また、上記の(2)の反応性シリコーンとしては、下記化学式(1)で表される骨格をもつ化合物を挙げることができる。
By using a polysiloxane containing a fluoroalkyl group as described above as a binder, the water repellency of the non-light-irradiated part of the photocatalyst-containing layer is greatly improved, and the function of preventing the adhesion of the black matrix paint or the colored layer paint To express.
Examples of the reactive silicone (2) include compounds having a skeleton represented by the following chemical formula (1).

Figure 2009031720
Figure 2009031720

ただし、nは2以上の整数である。R,Rはそれぞれ炭素数1〜10の置換もしくは非置換のアルキル、アルケニル、アリールあるいはシアノアルキル基である。モル比で全体の40%以下がビニル、フェニル、ハロゲン化フェニルである。また、R,Rがメチル基のものが表面エネルギーが最も小さくなるので好ましく、モル比でメチル基が60%以上であることが好ましい。また、鎖末端もしくは側鎖には、分子鎖中に少なくとも1個以上の水酸基等の反応性基を有する。
また、上記のオルガノポリシロキサンとともに、ジメチルポリシロキサンのような架橋反応をしない安定なオルガノシリコン化合物をバインダーに混合してもよい。
However, n is an integer of 2 or more. R 1 and R 2 are each a substituted or unsubstituted alkyl, alkenyl, aryl or cyanoalkyl group having 1 to 10 carbon atoms. In a molar ratio, 40% or less is vinyl, phenyl, or phenyl halide. In addition, it is preferable that R 1 and R 2 are methyl groups since the surface energy is the smallest, and it is preferable that the methyl groups are 60% or more in molar ratio. In addition, the chain end or side chain has at least one reactive group such as a hydroxyl group in the molecular chain.
In addition to the above organopolysiloxane, a stable organosilicon compound that does not undergo a crosslinking reaction, such as dimethylpolysiloxane, may be mixed in the binder.

前記水ガラスとは、一般的に珪酸ナトリウムNaO・nSiO(n=2〜4)が水に溶けた粘度の高い溶液である。一般的な水ガラスの製造方法としては、珪砂と炭酸ナトリウムまたは水酸化ナトリウムを混合し、1,100℃以上で溶融することでガラス状の塊(カレットと称す)を得て、このカレットをオートクレーブで加圧下(5〜7kgf/cm×数時間)にて水に溶解後、濾過して得る方法(乾式法)と、珪砂または珪酸白土と水酸化ナトリウムを混合後、オートクレーブで溶解後濾過して得る方法(湿式法)がある。 The water glass is generally a high viscosity solution in which sodium silicate Na 2 O.nSiO 2 (n = 2 to 4) is dissolved in water. As a general method for producing water glass, silica sand and sodium carbonate or sodium hydroxide are mixed and melted at 1,100 ° C. or higher to obtain a glassy lump (called cullet), and this cullet is autoclaved. The method obtained by dissolving in water under pressure under pressure (5-7 kgf / cm 2 × several hours) (dry method), mixing silica sand or silicate clay and sodium hydroxide, dissolving in an autoclave and filtering (Wet method).

本発明において近赤外線吸収層に用いられる粘着剤は、上記複合タングステン酸化物微粒子等を均一に分散し、且つ成膜性を与え、更にディスプレイパネルの前面や他の光学フィルタに接合可能な貼付面としての機能を近赤外線吸収層に付与するものであれば特に限定されるものではなく、従来公知の各種粘着剤を適宜選択して用いることができる。   In the present invention, the adhesive used for the near-infrared absorbing layer uniformly disperses the composite tungsten oxide fine particles and the like, imparts film-forming properties, and can be bonded to the front surface of the display panel or other optical filters. As long as the function is given to the near-infrared absorbing layer, it is not particularly limited, and various conventionally known pressure-sensitive adhesives can be appropriately selected and used.

(3)ネオン光吸収剤
ネオン光吸収剤は、プラズマディスプレイパネルから放射されるネオン光即ちネオン原子の発光スペクトルを吸収するべく含有される。ネオン光吸収剤が含まれる場合には、少なくともディスプレイからのオレンジ色発光が抑制可能で、鮮やかな赤色を得ることができる。ネオン光の発光スペクトル帯域は波長550〜640nmの為、ネオン光吸収層として機能する場合の分光透過率は波長550nmにおいて50%以下、更に25%以下になるように設計することが好ましい。ネオン光吸収剤は、少なくとも550〜640nmの波長領域内に吸収極大を有する色素を用いることができる。該色素の具体例としては、シアニン系、オキソノール系、メチン系、サブフタロシアニン系もしくはポルフィリン系等を挙げることができる。これらの中でもポルフィリン系が好ましい。その中でも特に、特許第3834479号公報に開示されるような、テトラアザポルフィリン系色素が、近赤外線吸収層中でも分散性が良好で、且つ耐熱性、耐湿性、耐光性が良好な点から好ましい。
ネオン光吸収剤の含有量は、特に限定されないが、近赤外線吸収層中に、0.05〜5重量%であることが好ましい。含有量が0.05重量%より多ければ、十分なネオン光吸収機能を発現でき、5重量%以下であれば、十分な量の可視光線を透過できる。
(3) Neon light absorber The neon light absorber is contained to absorb neon light emitted from the plasma display panel, that is, the emission spectrum of neon atoms. When a neon light absorber is included, at least orange light emission from the display can be suppressed, and a bright red color can be obtained. Since the emission spectrum band of neon light has a wavelength of 550 to 640 nm, it is preferable that the spectral transmittance when functioning as a neon light absorbing layer is designed to be 50% or less and further 25% or less at a wavelength of 550 nm. As the neon light absorber, a dye having an absorption maximum in a wavelength region of at least 550 to 640 nm can be used. Specific examples of the dye include cyanine, oxonol, methine, subphthalocyanine or porphyrin. Of these, porphyrins are preferred. Among them, a tetraazaporphyrin-based dye as disclosed in Japanese Patent No. 3834479 is particularly preferable from the viewpoint of good dispersibility in the near-infrared absorbing layer and good heat resistance, moisture resistance, and light resistance.
Although content of a neon light absorber is not specifically limited, It is preferable that it is 0.05 to 5 weight% in a near-infrared absorption layer. If the content is more than 0.05% by weight, a sufficient neon light absorbing function can be exhibited, and if it is 5% by weight or less, a sufficient amount of visible light can be transmitted.

(4)色補正色素
また、色補正色素とは、パネルからの発光の色純度や色再現範囲、電源OFF時のディスプレイ色などの改善の為にディスプレイ用フィルタの色を調整するために含有される。各ディスプレイ毎に色補正機能の要求が異なるため、適宜調整して用いられる。
色補正色素として用いることのできる公知の色素としては、特開2000−275432号公報、特開2001−188121号公報、特開2001−350013号公報、特開2002−131530号公報等に記載の色素が好適に使用できる。更にこのほかにも、黄色光、赤色光、青色光等の可視光を吸収するアントラキノン系、ナフタレン系、アゾ系、フタロシアニン系、ピロメテン系、テトラアザポルフィリン系、スクアリリウム系、シアニン系等の色素を使用することができる。
色補正色素の含有量は、補正すべき色に合わせて適宜調整され、特に限定されない。通常、近赤外線吸収層中に0.01〜10重量%程度含有する。
(4) Color correction dyes Color correction dyes are included to adjust the color of the display filter to improve the color purity of the light emitted from the panel, the color reproduction range, and the display color when the power is turned off. The Since each display has a different color correction function requirement, the display is appropriately adjusted and used.
Examples of known dyes that can be used as color correction dyes include the dyes described in JP 2000-275432 A, JP 2001-188121 A, JP 2001-350013 A, JP 2002-131530 A, and the like. Can be suitably used. In addition, other dyes such as anthraquinone, naphthalene, azo, phthalocyanine, pyromethene, tetraazaporphyrin, squarylium, and cyanine that absorb visible light such as yellow light, red light, and blue light. Can be used.
The content of the color correction dye is appropriately adjusted according to the color to be corrected and is not particularly limited. Usually, it contains about 0.01 to 10 weight% in a near-infrared absorption layer.

(5)その他の成分
本発明における近赤外線吸収層には、所望に応じて、イソシアネート化合物等の架橋剤、粘着付与剤等が含まれていても良い。
その他、近赤外線吸収層には、複合タングステン酸化物微粒子の分散性を向上するための分散剤として各種分散剤や、各種界面活性剤、シランカップリング剤等が含まれていても良い。
また、本発明の効果を損なわない限り、複合タングステン酸化物微粒子以外の近赤外線吸収剤を含んでいても良い。複合タングステン酸化物微粒子以外の近赤外線吸収剤としては、上記一般式で表される以外のタングステン酸化物などの無機系近赤外線吸収剤から適宜選択して用いられる。
(5) Other components The near-infrared absorbing layer in the present invention may contain a cross-linking agent such as an isocyanate compound, a tackifier, and the like, if desired.
In addition, the near-infrared absorbing layer may contain various dispersants, various surfactants, silane coupling agents, and the like as dispersants for improving the dispersibility of the composite tungsten oxide fine particles.
Moreover, as long as the effect of the present invention is not impaired, a near infrared absorber other than the composite tungsten oxide fine particles may be included. The near infrared absorber other than the composite tungsten oxide fine particles is appropriately selected from inorganic near infrared absorbers such as tungsten oxides other than those represented by the above general formula.

(6)近赤外線吸収層の形成
近赤外線吸収層は、前述した特定の複合タングステン酸化物微粒子とバインダー成分とを少なくとも含有する近赤外線吸収層用塗工液を、例えば、上記第一の実施形態(図1参照)においては透視性導電層上に塗工する等の湿式成膜法により形成することができる。
近赤外線吸収層用塗工液は、前記特定の複合タングステン酸化物微粒子の分散を良好にするために、前記特定の複合タングステン酸化物微粒子を、必要に応じて界面活性剤やシランカップリング剤を用いて、予め適宜溶剤中に分散させて複合タングステン酸化物微粒子分散液とした後、当該分散液とバインダー成分と必要に応じて更に溶剤及び/又は粘着剤を混合することにより、微粒子の分散状態を均一で良好にすることが好ましい。
(6) Formation of near-infrared absorbing layer The near-infrared absorbing layer is a coating solution for the near-infrared absorbing layer containing at least the specific composite tungsten oxide fine particles and the binder component described above, for example, the first embodiment. (See FIG. 1), it can be formed by a wet film-forming method such as coating on the transparent conductive layer.
In order to improve the dispersion of the specific composite tungsten oxide fine particles, the near-infrared absorbing layer coating solution may contain a surfactant or a silane coupling agent as necessary. The composite tungsten oxide fine particle dispersion is prepared by appropriately dispersing in advance in advance, and then the fine particles are dispersed by mixing the dispersion, the binder component and, if necessary, a solvent and / or an adhesive. Is preferably uniform and good.

また、後述の導電性メッシュ層面上に、当該導電性メッシュ層の凹凸を平坦化し、且つ当該導電性メッシュ層の周縁部の一部を露出させるように、近赤外線吸収層を設ける場合には、当該近赤外線吸収層を間欠塗工又は間欠貼合する。導電性メッシュ層の周縁部の一部を露出させるために、近赤外線吸収層は全面形成するのではなく、パターン状に形成する。
当該近赤外線吸収層は、導電性メッシュ層の凹凸内に空気が入らないように、凹凸部分を完全に埋めつつ、近赤外線吸収層表面が平坦化するように塗工又は貼合されることが、複合フィルタの透明性を向上させる点から好ましい。また、露出させる導電性メッシュ層の周縁部の一部としては、後述する接地用領域として用いられる部分とすれば充分である。中でも近赤外線吸収層は、前記導電性メッシュ層の周縁部4辺全てを露出させるように設けられることが好ましい。
Further, on the conductive mesh layer surface described later, when providing a near infrared absorption layer so as to flatten the irregularities of the conductive mesh layer and expose a part of the peripheral edge of the conductive mesh layer, The near-infrared absorbing layer is intermittently applied or intermittently bonded. In order to expose a part of the peripheral edge of the conductive mesh layer, the near-infrared absorbing layer is not formed on the entire surface but is formed in a pattern.
The near-infrared absorbing layer may be coated or bonded so that the near-infrared absorbing layer surface is flattened while completely filling the uneven portion so that air does not enter the unevenness of the conductive mesh layer. From the viewpoint of improving the transparency of the composite filter. Further, as a part of the peripheral portion of the conductive mesh layer to be exposed, a portion used as a grounding region described later is sufficient. Especially, it is preferable that a near-infrared absorption layer is provided so that all the 4 edge parts of the said electroconductive mesh layer may be exposed.

3.透視性導電層
透視性導電層とは、当該透視性導電層を通して、PDPの表示画像を観賞できる光透過性を有し、且つ、PDPから発生する電磁波を遮蔽できる導電性を有する層のことを意味する。また、透視性導電層は機械的強度が弱いため独立した層として存在することが困難であり、通常、当該透視性導電層は、透明樹脂基材の表面に積層される。
透視性導電層としては、酸化錫、インジウム‐錫系酸化物(ITO)、アンチモンドープ錫系酸化物、又は銀(Ag)単層からなる薄膜、或いはインジウム‐錫系酸化物と銀を積層した透明導電性材料を用いて全面に亘って非パターン状(ソリッド状)に形成した薄膜、或いは銅、銅合金、アルミニウムその他の金属材料等の不透明性の導電性材料を微細なメッシュパターン状に形成して透明性を付与した導電性メッシュ層を用いることができる。本発明では、透視性導電層の材料及び形成方法は特に限定されるものではなく、従来公知の透視性導電層を適宜採用できるものである。透明基材へ導電インキをパターン状に印刷したものを用いても良い。
また、透視性導電層として導電性メッシュ層を用いる場合には、外光反射を抑制するために、導電性メッシュ層の観察者側の面を黒化処理することが好ましい。以下の説明においては、透視性導電層として導電性メッシュ層を用いた例を説明する。
3. Transparent conductive layer The transparent conductive layer is a layer having light transparency through which the display image of the PDP can be viewed through the transparent conductive layer, and having conductivity that can shield electromagnetic waves generated from the PDP. means. Moreover, since the transparent conductive layer has a low mechanical strength, it is difficult to exist as an independent layer. Usually, the transparent conductive layer is laminated on the surface of the transparent resin substrate.
As the transparent conductive layer, tin oxide, indium-tin oxide (ITO), antimony-doped tin oxide, or a thin film made of silver (Ag) single layer, or indium-tin oxide and silver were laminated. A thin film formed in a non-pattern (solid form) over the entire surface using a transparent conductive material, or an opaque conductive material such as copper, copper alloy, aluminum or other metal material is formed in a fine mesh pattern. Thus, a conductive mesh layer imparted with transparency can be used. In the present invention, the material and forming method of the transparent conductive layer are not particularly limited, and a conventionally known transparent conductive layer can be appropriately employed. You may use what printed the conductive ink in the pattern form on the transparent base material.
Further, when a conductive mesh layer is used as the transparent conductive layer, it is preferable to blacken the surface of the conductive mesh layer on the viewer side in order to suppress external light reflection. In the following description, an example in which a conductive mesh layer is used as the transparent conductive layer will be described.

(1)導電性メッシュ層
導電性メッシュ層16は、導電性を有することで電磁波遮蔽機能を担える層であり、またそれ自体は不透明性材料からなるが、多数の開口部が存在するメッシュ状の形状に加工することにより、電磁波遮蔽性能と光透過性を両立させている層である。
また、導電性メッシュ層16は、一般的には金属箔のエッチングで形成した物が代表的であるが、これ以外のものでも、電磁波シールド性能に於いては意義を有する。従って、本発明では、導電性メッシュ層の材料及び形成方法は特に限定されるものでは無く、従来公知の各種導電性メッシュ層を適宜採用できるものである。例えば、印刷法やめっき法等を利用して透明樹脂基材上に最初からメッシュ状の形状で導電性メッシュ層を形成したもの、或いは、最初は透明樹脂基材上に全面に、蒸着、スパッタ、めっき等の1或いは2以上の物理的或いは無電解めっき等の化学的形成手法を用いて非パターン状の透視性導電層を形成後、エッチング加工等でメッシュ状の形状にして導電性メッシュ層としたもの等でも構わない。
(1) Conductive Mesh Layer The conductive mesh layer 16 is a layer that can have an electromagnetic wave shielding function by being electrically conductive, and is itself made of an opaque material, but has a mesh shape with a large number of openings. By processing it into a shape, it is a layer that achieves both electromagnetic shielding performance and light transmittance.
The conductive mesh layer 16 is typically formed by etching a metal foil, but other conductive mesh layers 16 are also significant in electromagnetic shielding performance. Therefore, in this invention, the material and formation method of a conductive mesh layer are not specifically limited, Conventionally well-known various conductive mesh layers can be employ | adopted suitably. For example, a conductive mesh layer formed in a mesh shape from the beginning on a transparent resin substrate using a printing method, a plating method, or the like, or initially, vapor deposition, sputtering on the entire surface of the transparent resin substrate After forming a non-patterned transparent conductive layer using one or more chemical forming methods such as plating or physical or electroless plating, the conductive mesh layer is formed into a mesh shape by etching or the like It does not matter even if it is.

導電性メッシュ層は、電磁波遮蔽性能を発現するに足る導電性を有する物質であれば、特に制限は無いが、通常は、導電性が良い点で金属層が好ましく、金属層は上記のように、蒸着、めっき、金属箔ラミネート等により形成することができる。金属層の金属材料としては、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、鉄、ニッケル、クロム等が挙げられる。また、金属層の金属は合金でも良く、金属層は単層でも多層でも良い。例えば、鉄の場合には、低炭素リムド鋼や低炭素アルミキルド鋼などの低炭素鋼、Ni−Fe合金、インバー合金、等が好ましい。一方、金属が銅の場合は、金属材料は銅や銅合金となり、銅箔としては圧延銅箔や電解銅箔があるが、薄さ及びその均一性、黒化層との密着性等の点からは、電解銅箔が好ましい。   The conductive mesh layer is not particularly limited as long as it is a substance having sufficient conductivity to exhibit electromagnetic wave shielding performance, but usually a metal layer is preferable in terms of good conductivity, and the metal layer is as described above. It can be formed by vapor deposition, plating, metal foil lamination or the like. Examples of the metal material for the metal layer include gold, silver, copper, aluminum, iron, nickel, and chromium. The metal of the metal layer may be an alloy, and the metal layer may be a single layer or a multilayer. For example, in the case of iron, low carbon steel such as low carbon rimmed steel and low carbon aluminum killed steel, Ni-Fe alloy, Invar alloy, and the like are preferable. On the other hand, when the metal is copper, the metal material is copper or a copper alloy. There are rolled copper foil and electrolytic copper foil as the copper foil, but the thinness and uniformity thereof, the adhesion with the blackened layer, etc. Is preferably an electrolytic copper foil.

なお、金属層による導電性メッシュ層の厚さは、1〜50μm程度、好ましくは2〜15μmである。厚さがこれより薄くなり過ぎると電気抵抗上昇により十分な電磁波遮蔽性能を得難くなり、厚さがこれより厚くなり過ぎると高精細なメッシュ形状が得難くなり、メッシュ形状の均一性が低下する。導電性メッシュ層の平坦化を行いやすく、平坦化を行った際に気泡の混入が少なく、透明性に優れた複合フィルタを得やすい点からは、導電性メッシュ層の厚さは2〜10μm程度であることが好ましい。   In addition, the thickness of the electroconductive mesh layer by a metal layer is about 1-50 micrometers, Preferably it is 2-15 micrometers. If the thickness is too thin, it will be difficult to obtain sufficient electromagnetic shielding performance due to an increase in electrical resistance, and if the thickness is too thick, it will be difficult to obtain a high-definition mesh shape and the uniformity of the mesh shape will be reduced. . The conductive mesh layer has a thickness of about 2 to 10 μm because it is easy to flatten the conductive mesh layer, and it is easy to obtain a composite filter with less air bubbles and excellent transparency when flattened. It is preferable that

[メッシュの形状]
また、導電性メッシュ層のメッシュ状としての形状は、任意で特に限定されないが、そのメッシュの開口部の形状として、正方形が代表的である。開口部の平面視形状は、例えば、正三角形等の三角形、正方形、長方形、菱形、台形等の四角形、六角形等の多角形、或いは、円形、楕円形等である。メッシュはこれら形状からなる複数の開口部を有し、開口部間は通常幅均一のライン状のライン部となり、通常は、開口部及びライン部は全面で同一形状同一サイズである。具体的サイズを例示すれば、開口率及びメッシュの非視認性の点で、開口部間のライン部の幅は5〜30μmが良い。また、開口部サイズは〔ライン間隔或いはラインピッチ〕−〔ライン幅〕であるが、この〔ライン間隔或いはラインピッチ〕で言うと100μm〜500μm、且つ開口率(開口部の面積の合計/メッシュ部の全面積)を50〜97%とするのが、光透過性と電磁波遮蔽性との両立性の点で好ましい。また、ラインピッチは100μm〜500μmの間でランダムでもかまわない。
なお、バイアス角度(メッシュのライン部と導電性メッシュ層の外周辺との成す角度)は、PDPの画素ピッチや発光特性を考慮して、モアレが出難い角度に適宜設定すれば良い。
[Mesh shape]
In addition, the shape of the conductive mesh layer as a mesh shape is not particularly limited, but a square shape is typical as the shape of the opening of the mesh. The plan view shape of the opening is, for example, a triangle such as a regular triangle, a square such as a square, a rectangle, a rhombus, or a trapezoid, a polygon such as a hexagon, a circle, an ellipse, or the like. The mesh has a plurality of openings having these shapes, and the openings are usually line-shaped line portions having a uniform width. Usually, the openings and the line portions have the same shape and the same size on the entire surface. As an example of a specific size, the width of the line portion between the openings is preferably 5 to 30 μm in terms of the aperture ratio and the invisibility of the mesh. The size of the opening is [line interval or line pitch] − [line width]. In terms of this [line interval or line pitch], the opening size is 100 μm to 500 μm, and the opening ratio (the total area of the openings / mesh portion) The total area) is preferably 50 to 97% from the viewpoint of compatibility between light transmittance and electromagnetic wave shielding properties. The line pitch may be random between 100 μm and 500 μm.
Note that the bias angle (the angle formed between the mesh line portion and the outer periphery of the conductive mesh layer) may be appropriately set to an angle at which moire is difficult to occur in consideration of the pixel pitch and light emission characteristics of the PDP.

[接地用領域とメッシュ領域]
また、導電性メッシュ層16は、図8の平面図で概念的に例示する導電性メッシュ層16のように、その平面方向に於いて、中央部のメッシュ領域161以外に周縁部に接地用領域162を備えた層とするのが、接地をとり易い点でより好ましい。当該接地用領域は画像表示を阻害しない為に、画像表示領域周縁部の一部又は全周に形成する。当該メッシュ領域とは複合フィルタを適用するPDPの画像表示領域を全て覆うことが出来る領域である。当該接地用領域とは接地をとる為の領域である。当該画像表示領域とは、PDPが実質的に画像を表示する領域(実質的画像表示領域)を少なくとも意味するが、PDPを観察者から見た場合にPDPの外枠体による枠の内側全体の領域も便宜上含めた意味としても良い。その理由は、当該枠の内側で且つ実質的画像表示領域の外側に黒い領域(縁取り)が存在する場合、そこは本来画像表示領域外だが、目に触れる以上は外観が実質的画像表示領域と異なるのは違和感が生じるからである。
なお、接地用領域は基本的にはメッシュは不要だが、接地用領域の反り防止等の目的から、開口部から成るメッシュが存在しても良い。
[Grounding area and mesh area]
In addition, the conductive mesh layer 16 has a grounding region other than the central mesh region 161 in the planar direction, like the conductive mesh layer 16 conceptually illustrated in the plan view of FIG. The layer provided with 162 is more preferable in terms of easy grounding. The grounding area is formed on a part or all of the periphery of the image display area so as not to disturb the image display. The mesh area is an area that can cover the entire image display area of the PDP to which the composite filter is applied. The grounding area is an area for grounding. The image display area means at least an area in which the PDP substantially displays an image (substantially image display area). When the PDP is viewed from an observer, the entire inner side of the frame by the outer frame body of the PDP is used. An area may be included for convenience. The reason is that if a black area (border) exists inside the frame and outside the substantial image display area, it is outside the image display area, but the appearance is substantially the image display area as long as it is touched. The difference is that a sense of incongruity occurs.
The grounding region basically does not require a mesh, but a mesh composed of openings may be present for the purpose of preventing warpage of the grounding region.

[黒化処理]
黒化処理は上記導電性メッシュ層の面の光反射を防ぐためのものであり、黒化処理で形成された黒化処理面により、導電性メッシュ層面での外光反射による透視画像の黒レベルの低下を防ぎ、また、透視画像の明室コントラストを向上させて、PDPの画像の視認性を向上するものである。黒化処理面は、導電性メッシュ層のライン部(線状部分)の全ての面に設けることが好ましいが、本発明では表裏両面のうち少なくとも観察者側であると共に外光入射側の面を黒化処理面とすることが好ましい。表裏両面や、側面(両側或いは片側)が更に黒化処理されていても良い。黒化層は、少なくとも観察者側に設ければ良いが、PDP面側にも設ける場合には、PDPから発生する迷光を抑えられるので、さらに、画像の視認性が向上する。
黒化処理としては、黒化層の金属メッキ層面を粗化するか、全可視光スペクトルに亘って光吸収性を付与する(黒化する)か、或いは両者を併用するか、何れかにより行なう。具体的に黒化処理としては、導電性メッシュ層にメッキ等で黒化層を付加的に設ける他、エッチング等で表面から内部に向かって当該表面を構成する層自体を黒化層に変化させても良い。
[Blackening treatment]
The blackening treatment is for preventing light reflection on the surface of the conductive mesh layer, and the black level of the fluoroscopic image due to reflection of external light on the surface of the conductive mesh layer by the blackening treatment surface formed by the blackening treatment. In addition, the visibility of a PDP image is improved by improving the bright room contrast of a fluoroscopic image. The blackening treatment surface is preferably provided on all surfaces of the line portion (linear portion) of the conductive mesh layer. However, in the present invention, at least the observer side and the surface on the outside light incident side of the front and back surfaces are provided. It is preferable to use a blackened surface. Both front and back surfaces and side surfaces (both sides or one side) may be further blackened. The blackening layer may be provided at least on the viewer side. However, when the blackening layer is also provided on the PDP surface side, stray light generated from the PDP can be suppressed, so that the visibility of the image is further improved.
The blackening treatment is performed by either roughening the metal plating layer surface of the blackening layer, imparting light absorption over the entire visible light spectrum (blackening), or using both in combination. . Specifically, as the blackening treatment, a blackening layer is additionally provided on the conductive mesh layer by plating or the like, and the layer constituting the surface itself is changed from the surface to the inside by etching or the like to the blackening layer. May be.

本発明において黒化層は、黒等の暗色を呈し、密着性等の基本的物性を満足するものであれば良く、公知の黒化層を適宜採用し得る。
従って、黒化層としては、金属等の無機材料、黒着色樹脂等の有機材料等を用いることができ、例えば無機材料としては、金属、合金、金属酸化物、金属硫化物の金属化合物等の金属系の層として形成する。金属系の層の形成法としては、従来公知の各種黒化処理法を適宜採用できる。
In the present invention, the blackened layer is not particularly limited as long as it exhibits a dark color such as black and satisfies basic physical properties such as adhesion, and a known blackened layer can be appropriately employed.
Therefore, as the blackening layer, an inorganic material such as a metal, an organic material such as a black colored resin, or the like can be used. For example, as the inorganic material, a metal compound such as a metal, an alloy, a metal oxide, or a metal sulfide is used. It is formed as a metal-based layer. As a method for forming the metal layer, various conventionally known blackening methods can be appropriately employed.

本発明の黒化層としては、Ni−Cu−Oの3元素からなる化合物(以下、(Ni−Cu−O)化合物と称する)を用いることが、密着性に優れると共に、エッチング加工適正にも優れ、且つ外光吸収を行うのに十分な黒色度を有する点から好ましい。透視性導電層への外光を吸収させて、ディスプレイの画像の視認性を向上するために、直接又は他の層を介して透明樹脂基材上に黒化層を形成する。黒化層の形成方法は特に限定されないが、スパッタ法、真空蒸着法などの気相成膜によって好適に形成することができる。堆積速度が速く密着性にすぐれることから特にスパッタ法が好ましい。スパッタ法では、Ni−Cu(ニッケル−銅合金)をターゲットとし、所望量の酸素ガスを供給しながら高電圧をかけてイオン化したアルゴン原子をぶつけて、ターゲットをイオン化して弾き飛ばして透明樹脂基材上に堆積させて黒化層を形成する。本発明に係る黒化層は黒色度が高いため、外光を吸収して外光反射(ぎらつき感)を抑えることができる。   As the blackening layer of the present invention, using a compound composed of three elements of Ni—Cu—O (hereinafter referred to as (Ni—Cu—O) compound) is excellent in adhesion and suitable for etching processing. It is preferable from the viewpoint that it is excellent and has sufficient blackness to absorb external light. In order to absorb external light to the transparent conductive layer and improve the visibility of the display image, a blackened layer is formed on the transparent resin substrate directly or via another layer. Although the formation method of a blackening layer is not specifically limited, It can form suitably by vapor phase film-forming, such as a sputtering method and a vacuum evaporation method. Sputtering is particularly preferred because of its high deposition rate and excellent adhesion. In the sputtering method, Ni—Cu (nickel-copper alloy) is used as a target, an argon atom that is ionized by applying a high voltage while supplying a desired amount of oxygen gas is hit, and the target is ionized and blown away to form a transparent resin base. A blackened layer is formed by depositing on the material. Since the blackening layer according to the present invention has high blackness, it can absorb external light and suppress external light reflection (glare feeling).

黒化層の反射Y値としては10以下が好ましい。なお、反射Y値は色度計(CM−3600d ミノルタ製)を用いて観察視野角10度、観察光源D65にて測定する。   The reflection Y value of the blackened layer is preferably 10 or less. The reflection Y value is measured using a chromaticity meter (CM-3600d manufactured by Minolta) with an observation viewing angle of 10 degrees and an observation light source D65.

[防錆層]
導電性メッシュ層としては、必要に応じ適宜その他の層の形成、乃至は処理を施しても良い。例えば、錆びに対する耐久性が不十分な場合は、防錆層を設けると良い。
防錆層は、それで被覆する導電性メッシュ層よりも錆び難いものであれば、金属等の無機材料、樹脂等の有機材料、或いはこれらの組合せ等、特に限定されるものではない。また場合によっては、黒化層をも防錆層で被覆することで、黒化層の粒子の脱落や変形を防止し、黒化層の黒さを高めることもできる。従って、本発明においては、黒化層の脱落や変質防止の点から、黒化層上に防錆層が設けられることが好ましい。
[Rust prevention layer]
As the conductive mesh layer, other layers may be appropriately formed or processed as necessary. For example, when the durability against rust is insufficient, a rust prevention layer may be provided.
The rust preventive layer is not particularly limited as long as it is less likely to rust than the conductive mesh layer covered with it, such as an inorganic material such as metal, an organic material such as resin, or a combination thereof. In some cases, the blackened layer is also covered with a rust-preventing layer, so that the particles of the blackened layer can be prevented from falling off and deformed, and the blackness of the blackened layer can be increased. Therefore, in the present invention, it is preferable to provide a rust-preventing layer on the blackened layer from the viewpoint of preventing the blackened layer from dropping or preventing alteration.

防錆層は、従来公知のものを適宜採用すれば良く、例えば、クロム、亜鉛、ニッケル、スズ、銅等の金属乃至は合金、或いは金属酸化物の金属化合物の層等である。これらは、公知のめっき法等で形成できる。
なお、防錆層の厚さは通常0.001〜2μm程度、好ましくは0.01〜1μmである。
A conventionally well-known thing should just be employ | adopted for a rust prevention layer suitably, for example, is a metal thru | or alloys, such as chromium, zinc, nickel, tin, copper, or the layer of a metal compound of a metal oxide. These can be formed by a known plating method or the like.
In addition, the thickness of a rust prevention layer is about 0.001-2 micrometers normally, Preferably it is 0.01-1 micrometer.

(2)透明樹脂基材
透明樹脂基材は、機械的強度が弱い導電性メッシュ層を補強するための層である。従って、透明樹脂基材としては、機械的強度、光透過性を有すれば、その他、耐熱性等の性能を適宜勘案したものを用途に応じて選択すればよい。このような、透明樹脂基材の具体例としては、樹脂等の有機材料からなるシート(乃至フィルム。以下同様。)が挙げられる。透明樹脂基材の透明性は高いほどよいが、好ましくは可視光域380〜780nmにおける光線透過率が70%以上、より好ましくは80%以上となる光透過性が良い。なお、光透過率の測定は、分光光度計(例えば、(株)島津製作所製 UV−3100PC)を用い、室温、大気中で測定した値を用いることができる。
(2) Transparent resin base material A transparent resin base material is a layer for reinforcing the electroconductive mesh layer with weak mechanical strength. Therefore, as the transparent resin base material, if it has mechanical strength and light transmittance, a material that appropriately considers performance such as heat resistance may be selected according to the intended use. As a specific example of such a transparent resin base material, a sheet (or film, the same applies hereinafter) made of an organic material such as a resin can be given. The higher the transparency of the transparent resin substrate, the better. However, the light transmittance in the visible light region of 380 to 780 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more. The light transmittance can be measured using a spectrophotometer (for example, UV-3100PC manufactured by Shimadzu Corporation) and a value measured in the air at room temperature.

透明樹脂基材の材料として用いる透明樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、テレフタル酸−イソフタル酸−エチレングリコール共重合体、テレフタル酸−シクロヘキサンジメタノール−エチレングリコール共重合体などのポリエステル系樹脂、ナイロン6などのポリアミド系樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、シクロオレフィン重合体などのポリオレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体などのスチレン系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。   Examples of the transparent resin used as the material for the transparent resin substrate include polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, terephthalic acid-isophthalic acid-ethylene glycol copolymer, terephthalic acid-cyclohexanedimethanol-ethylene glycol copolymer Polyester resins such as nylon 6, polyamide resins such as nylon 6, polyolefin resins such as polypropylene, polymethylpentene and cycloolefin polymers, acrylic resins such as polymethyl methacrylate, styrene such as polystyrene and styrene-acrylonitrile copolymers Resin, cellulose resin such as triacetyl cellulose, polycarbonate resin and the like.

なお、これらの樹脂は、単独、又は複数種類の混合樹脂(ポリマーアロイを含む)として用いられ、透明樹脂基材の層構成は、単層、又は2層以上の積層体として用いられる。また、樹脂フィルムの場合、1軸延伸や2軸延伸した延伸フィルムが機械的強度の点でより好ましい。   These resins are used alone or as a plurality of types of mixed resins (including polymer alloys), and the layer structure of the transparent resin substrate is used as a single layer or a laminate of two or more layers. In the case of a resin film, a uniaxially stretched or biaxially stretched film is more preferable in terms of mechanical strength.

透明樹脂基材の厚さは、基本的には用途に応じ選定すればよく、特に制限はないが、通常は12〜1000μm、好ましくは50〜500μm、より好ましくは50〜200μmである。このような厚み範囲ならば、機械的強度が十分で、反り、弛み、破断などを防ぎ、連続帯状で供給して加工する事も容易である。
なお、本発明では、透明樹脂基材としては、樹脂から成るシート(厚み100μm以上1000μm未満)、フィルム(厚み100μm未満)以外に板(厚み1000μm以上)も使用出来る。
The thickness of the transparent resin substrate may be basically selected according to the application and is not particularly limited, but is usually 12 to 1000 μm, preferably 50 to 500 μm, more preferably 50 to 200 μm. Within such a thickness range, the mechanical strength is sufficient, warping, loosening, breakage, etc. are prevented, and it is easy to supply and process in a continuous belt shape.
In the present invention, as the transparent resin substrate, a plate (thickness of 1000 μm or more) can be used in addition to a resin sheet (thickness of 100 μm or more and less than 1000 μm) or a film (thickness of less than 100 μm).

この様な点で、透明樹脂基材の形態としては樹脂板よりは透明樹脂フィルムが好ましい。該樹脂フィルムのなかでも特に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂フィルムが、透明性、耐熱性、コスト等の点で好ましく、より好ましくは2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが最適である。   In this respect, the transparent resin film is preferably a transparent resin film rather than a resin plate. Among these resin films, polyester resin films such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are preferable in terms of transparency, heat resistance, cost, and the like, and more preferably a biaxially stretched polyethylene terephthalate film.

また、透明樹脂基材の樹脂中には、更に必要に応じて適宜、公知の添加剤、例えば、後述の紫外線吸収剤の他、充填剤、可塑剤、帯電防止剤などを本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で加えることができる。   Further, in the resin of the transparent resin base material, a known additive, for example, a UV absorber described later, a filler, a plasticizer, an antistatic agent, and the like are appropriately added as necessary. It can be added without departing from the scope.

また、透明樹脂基材は、その表面に適宜、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー処理、予熱処理、除塵埃処理、蒸着処理、アルカリ処理、などの公知の易接着処理を行ってもよい。   The transparent resin base material is appropriately subjected to known easy adhesion treatment such as corona discharge treatment, plasma treatment, ozone treatment, flame treatment, primer treatment, preheat treatment, dust removal treatment, vapor deposition treatment, alkali treatment, etc. You may go.

(3)接着剤層
接着剤層は図2において図示していないが、導電性メッシュ層16と透明樹脂基材12の間に接着剤層(又は粘着剤層)が用いられても良い。接着剤層は、導電性メッシュ層と透明樹脂基材とを接着することが可能な層であれば、その種類等は特に限定されるものではないが、若し、上記導電性メッシュ層を構成する金属箔と透明樹脂基材とを接着剤層を介して貼り合わせた後、金属箔をエッチングによりメッシュ状とする場合は、接着剤層も耐エッチング性を有することが好ましい。具体的には、ポリエステルウレタン、アクリルウレタン、ポリエーテルウレタン等のポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリビニルアルコール単独もしくはその部分鹸化品、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。また、本発明に用いられる接着剤層(又は粘着剤層)は、紫外線硬化型であってもよく、また熱硬化型であってもよい。特に、透明樹脂基材との密着性などの観点からポリウレタン樹脂、アクリル樹脂もしくはポリエステル樹脂が好ましい。
(3) Adhesive Layer Although the adhesive layer is not shown in FIG. 2, an adhesive layer (or pressure-sensitive adhesive layer) may be used between the conductive mesh layer 16 and the transparent resin substrate 12. The adhesive layer is not particularly limited as long as it is a layer that can bond the conductive mesh layer and the transparent resin base material, but it constitutes the conductive mesh layer. In the case where the metal foil and the transparent resin base material are bonded to each other via an adhesive layer, and then the metal foil is meshed by etching, the adhesive layer preferably has etching resistance. Specifically, polyurethane resins such as polyester urethane, acrylic urethane, polyether urethane, acrylic resin, polyester resin, polyvinyl alcohol alone or a partially saponified product thereof, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer , Polyimide resin, epoxy resin and the like. The adhesive layer (or pressure-sensitive adhesive layer) used in the present invention may be an ultraviolet curable type or a thermosetting type. In particular, a polyurethane resin, an acrylic resin, or a polyester resin is preferable from the viewpoint of adhesion to a transparent resin substrate.

接着剤層を介してドライラミネーション法等により透明樹脂基材と導電性メッシュ層を形成するための金属箔とを接着することができる。また、この接着剤層の膜厚が0.5μm〜50μmの範囲内、中でも1μm〜20μmであることが好ましい。これにより、透明樹脂基材と導電性メッシュ層とを強固に接着することができ、また、導電性メッシュ層を形成するエッチングの際に透明樹脂基材が塩化鉄等のエッチング液の影響を受けること等を防ぐことができるからである。   The transparent resin base material and the metal foil for forming the conductive mesh layer can be bonded by the dry lamination method or the like through the adhesive layer. Moreover, it is preferable that the film thickness of this adhesive bond layer is in the range of 0.5 μm to 50 μm, especially 1 μm to 20 μm. Thereby, a transparent resin base material and a conductive mesh layer can be firmly bonded, and the transparent resin base material is affected by an etching solution such as iron chloride at the time of etching to form the conductive mesh layer. This is because it can be prevented.

4.表面保護層
本発明に用いられる表面保護層は、ガラス表面での外来光の鏡面反射による背景の映り込み、画像の白化、及び画像コントラスト低下を低減するために、透明硝子基材の表面を保護する層であり、反射防止機能及び/又は防眩機能を有するものである。後者の防眩機能を発現する方法は、曇りガラスのように光を散乱もしくは拡散させて外来光による背景像を暈す手法が挙げられる。また、前者の反射防止機能を発現する方法は、低屈折率である単層を表面に設けるか、或いは屈折率の高い材料と低い材料を交互に積層し、最表面が低屈折率層となるように多層化(マルチコート)し、各層界面での反射光を干渉によって相殺することで、表面の反射を抑え、良好な反射防止効果を得る手法が挙げられる。表面保護層は単層の他、多層として形成してもよい。但し、本発明の2層以上の表面保護層間には基材は介在しない。
4). Surface Protective Layer The surface protective layer used in the present invention protects the surface of the transparent glass substrate in order to reduce background reflection, image whitening, and image contrast degradation due to specular reflection of extraneous light on the glass surface. And a layer having an antireflection function and / or an antiglare function. The latter method of exhibiting the antiglare function includes a method of scattering or diffusing light like a frosted glass to make a background image by extraneous light. In addition, the former method of exhibiting the antireflection function is to provide a single layer having a low refractive index on the surface, or alternately stack a material having a high refractive index and a material having a low refractive index so that the outermost surface is a low refractive index layer. In this way, there is a method of obtaining a good antireflection effect by suppressing the reflection of the surface by making multilayers (multi-coating) and canceling the reflected light at the interface of each layer by interference. The surface protective layer may be formed as a multilayer in addition to a single layer. However, no substrate is interposed between two or more surface protective layers of the present invention.

(1)防眩層
防眩層(Anti Glare層、略称してAG層)は、防眩機能を有する層であり、外来光を散乱もしくは拡散させるために、所望の微細な凹凸形状を光の入射面に付与する粗面化処理が機能付与手段の基本である。基材表面を直接粗面化処理する方法としては、サンドブラスト法やエンボス法等により微細な凹凸を形成する方法が挙げられる。一方、層形成により粗面化処理する方法としては、基体表面に放射線、熱の何れかもしくは組み合わせにより硬化する樹脂バインダー中に、光拡散性粒子としてシリカなどの無機フィラーや、樹脂粒子などの有機フィラーを含有させた塗膜により粗面化層を設ける方法、及び基体表面に海島構造による多孔質膜を形成する方法等を挙げることができる。樹脂バインダーの樹脂としては、表面層として表面強度が望まれる関係上、硬化性アクリル樹脂や、電離放射線硬化性樹脂等が好適に使用される。
防眩層の厚みは特に限定されるものではないが、0.07μm以上20μm以下が好ましい。
(1) Anti-glare layer Anti-glare layer (Anti Glare layer, abbreviated as AG layer) is a layer having an anti-glare function, and in order to scatter or diffuse extraneous light, a desired fine uneven shape is formed. The roughening treatment applied to the incident surface is the basis of the function providing means. Examples of the method for directly roughening the surface of the substrate include a method of forming fine irregularities by a sandblasting method, an embossing method, or the like. On the other hand, as a method of roughening by layer formation, an inorganic filler such as silica as a light diffusing particle or an organic material such as a resin particle in a resin binder that is cured by radiation or heat or a combination on a substrate surface. Examples thereof include a method of providing a roughened layer with a coating film containing a filler and a method of forming a porous film having a sea-island structure on the surface of a substrate. As the resin of the resin binder, a curable acrylic resin, an ionizing radiation curable resin, or the like is preferably used because surface strength is desired as the surface layer.
The thickness of the antiglare layer is not particularly limited, but is preferably 0.07 μm or more and 20 μm or less.

(2)反射防止層
反射防止層(Anti Reflection層、略称してAR層)は、低屈折率層の単層、或いは、低屈折率層と高屈折率層とを、該低屈折率層が最上層に位置する様に交互に積層した多層構成が一般的であり、蒸着やスパッタ等の乾式成膜法で、或いは塗工等の湿式成膜法も利用して形成することができる。なお、低屈折率層はケイ素酸化物、フッ化マグネシウム、フッ素含有樹脂等が用いられ、高屈折率層には、酸化チタン、硫化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ等が用いられる。尚、ここで高(低)屈折率層とは、該層と隣接する層(例えば、透明硝子基材、或いは低(高)屈折率層)と比較して該層の屈折率が相対的に高(低)いという意味である。
(2) Antireflective layer The antireflective layer (Anti Reflection layer, abbreviated as AR layer) is a single low refractive index layer or a low refractive index layer and a high refractive index layer. A multilayer structure in which layers are alternately stacked so as to be positioned at the uppermost layer is generally used, and can be formed by a dry film formation method such as vapor deposition or sputtering, or by using a wet film formation method such as coating. Note that silicon oxide, magnesium fluoride, fluorine-containing resin, or the like is used for the low refractive index layer, and titanium oxide, zinc sulfide, zirconium oxide, niobium oxide, or the like is used for the high refractive index layer. Here, the high (low) refractive index layer means that the refractive index of the layer is relatively higher than that of a layer adjacent to the layer (for example, a transparent glass substrate or a low (high) refractive index layer). It means high (low).

反射防止効果を向上させるためには、低屈折率層の屈折率は、1.45以下であることが好ましい。これらの特徴を有する材料としては、例えばLiF(屈折率n=1.4)、MgF(屈折率n=1.4)、3NaF・AlF(屈折率n=1.4)、AlF(屈折率n=1.4)、NaAlF(屈折率n=1.33)、SiO(屈折率n=1.45)等の無機材料を微粒子化し、アクリル系樹脂やエポキシ系樹脂等に含有させた無機系低反射材料、フッ素系・シリコーン系の有機化合物、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、放射線硬化型樹脂等の有機低反射材料を挙げることができる。
また、低屈折率層には、空隙を有する微粒子を用いても良い。空隙を有する微粒子とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び/又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、塗膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び/又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。空隙を有する微粒子は、無機物、有機物のいずれでもあってよく、例えば、金属、金属酸化物、樹脂からなるものが挙げられ、好ましくは、酸化珪素(シリカ)微粒子が挙げられる。
In order to improve the antireflection effect, the refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.45 or less. Examples of the material having these characteristics include LiF (refractive index n = 1.4), MgF 2 (refractive index n = 1.4), 3NaF · AlF 3 (refractive index n = 1.4), AlF 3 ( Inorganic materials such as refractive index n = 1.4), Na 3 AlF 6 (refractive index n = 1.33), SiO 2 (refractive index n = 1.45) are made into fine particles, acrylic resin, epoxy resin, etc. Inorganic low-reflective materials, fluorine-based / silicone-based organic compounds, thermoplastic resins, thermosetting resins, radiation-curable resins, and the like can be used.
Further, fine particles having voids may be used for the low refractive index layer. The fine particles having voids form a structure in which fine particles are filled with gas and / or a porous structure containing gas, and are in inverse proportion to the gas occupancy ratio in the fine particles compared to the original refractive index of the fine particles. It means fine particles having a reduced refractive index. The present invention also includes fine particles capable of forming a nanoporous structure inside and / or at least part of the surface depending on the form, structure, aggregation state, and dispersion state of the fine particles inside the coating film. It is. The fine particles having voids may be either inorganic or organic, and examples thereof include metals, metal oxides, and resins, and preferably silicon oxide (silica) fine particles.

さらに、5〜30nmのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に分散したゾルとフッ素系の皮膜形成剤を混合した材料を使用することもできる。該5〜30nmのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に分散したゾルは、ケイ酸アルカリ塩中のアルカリ金属イオンをイオン交換等で脱アルカリする方法や、ケイ酸アルカリ塩を鉱酸で中和する方法等で知られた活性ケイ酸を縮合して得られる公知のシリカゾル、アルコキシシランを有機溶媒中で塩基性触媒の存在下に加水分解と縮合することにより得られる公知のシリカゾル、さらには上記の水性シリカゾル中の水を蒸留法等により有機溶剤に置換することにより得られる有機溶剤系のシリカゾル(オルガノシリカゾル)が用いられる。これらのシリカゾルは水系及び有機溶剤系のどちらでも使用することができる。有機溶剤系シリカゾルの製造に際し、完全に水を有機溶剤に置換する必要はない。前記シリカゾルはSiOとして0.5〜50質量%濃度の固形分を含有する。シリカゾル中のシリカ超微粒子の構造は球状、針状、板状等様々なものが使用可能である。また、皮膜形成剤としては、アルコキシシラン、金属アルコキシドや金属塩の加水分解物や、ポリシロキサンをフッ素変性したものなどを用いることができる。低屈折率層の好ましい態様によれば、「空隙を有する微粒子」を利用することが好ましい。 Furthermore, a material in which a sol obtained by dispersing ultrafine silica particles of 5 to 30 nm in water or an organic solvent and a fluorine-based film forming agent can be used. The sol in which the ultrafine silica particles of 5 to 30 nm are dispersed in water or an organic solvent is obtained by a method of dealkalizing alkali metal ions in alkali silicate salt by ion exchange or the like, or neutralizing alkali silicate salt with mineral acid. A known silica sol obtained by condensing active silicic acid known by the method, etc., a known silica sol obtained by condensing alkoxysilane with hydrolysis in an organic solvent in the presence of a basic catalyst, and the above-mentioned An organic solvent-based silica sol (organosilica sol) obtained by substituting water in the aqueous silica sol with an organic solvent by a distillation method or the like is used. These silica sols can be used in both aqueous and organic solvent systems. In producing the organic solvent-based silica sol, it is not necessary to completely replace water with the organic solvent. The silica sol contains solids 0.5 to 50 wt% concentration as SiO 2. Various structures such as a spherical shape, a needle shape, and a plate shape can be used for the structure of the ultrafine silica particles in the silica sol. As the film forming agent, alkoxysilane, metal alkoxide, hydrolyzate of metal salt, or fluorine-modified polysiloxane can be used. According to a preferred embodiment of the low refractive index layer, “fine particles having voids” are preferably used.

低屈折率層は、上記で述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーティング、ロールコーティングや印刷等によるウェットコーティング法で、高屈折率層上に塗膜を形成し乾燥後、熱や放射線(紫外線の場合は上述の光重合開始剤を使用する)等により硬化させることによって得ることができる。あるいは、低屈折率層は、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVD、イオンプレーティング等による気相法で高屈折率層上に形成してもよい。   The low-refractive index layer is prepared by diluting the above-described materials in, for example, a solvent, and forming a coating film on the high-refractive index layer by a wet coating method such as spin coating, roll coating, or printing. In the case of ultraviolet rays, it can be obtained by curing with the above-described photopolymerization initiator. Alternatively, the low refractive index layer may be formed on the high refractive index layer by a vapor phase method such as vacuum deposition, sputtering, plasma CVD, or ion plating.

高屈折率層の形成は、屈折率を高くするために高屈折率のバインダー樹脂を使用するか、高い屈折率を有する超微粒子をバインダー樹脂に添加することによって行なうか、あるいはこれらを併用することによって行なう。高屈折率層の屈折率は1.55〜2.70の範囲にあることが好ましい。   The high refractive index layer is formed by using a binder resin having a high refractive index in order to increase the refractive index, adding ultrafine particles having a high refractive index to the binder resin, or using these in combination. To do. The refractive index of the high refractive index layer is preferably in the range of 1.55 to 2.70.

高屈折率層に用いる樹脂については、透明なものであれば任意の樹脂が使用可能であり、熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、放射線(紫外線を含む)硬化型樹脂などを用いることができる。熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を用いることができ、これらの樹脂に、必要に応じて架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を加えることができる。   As the resin used for the high refractive index layer, any resin can be used as long as it is transparent, and a thermosetting resin, a thermoplastic resin, a radiation (including ultraviolet) curable resin, or the like can be used. Thermosetting resins include phenolic resin, melamine resin, polyurethane resin, urea resin, diallyl phthalate resin, guanamine resin, unsaturated polyester resin, aminoalkyd resin, melamine-urea co-condensation resin, silicon resin, polysiloxane resin, etc. A curing agent such as a crosslinking agent and a polymerization initiator, a polymerization accelerator, a solvent, a viscosity modifier and the like can be added to these resins as necessary.

高い屈折率を有する超微粒子としては、例えば、紫外線遮蔽の効果をも得ることができる、ZnO(屈折率n=1.9)、TiO(屈折率n=2.3〜2.7)、CeO(屈折率n=1.95)の微粒子、また、帯電防止効果が付与されて埃の付着を防止することもできる、アンチモンがドープされたSnO(屈折率n=1.95)又はITO(屈折率n=1.95)の微粒子が挙げられる。その他の微粒子としては、Al(屈折率n=1.63)、La(屈折率n=1.95)、ZrO(屈折率n=2.05)、Y(屈折率n=1.87)等を挙げることができる。これらの微粒子は単独又は混合して使用され、有機溶剤又は水に分散したコロイド状になったものが分散性の点において良好であり、その粒径としては、1〜100nm、塗膜の透明性から好ましくは、5〜20nmであることが望ましい。
高屈折率層を設けるには、上記で述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーティング、ロールコーティング、印刷等の方法で基体上に塗布し乾燥後、熱や放射線(紫外線の場合は上述の光重合開始剤を使用する)等により硬化させればよい。
反射防止層の厚みは特に限定されるものではないが、通常、反射防止すべき可視光線の波長(380nm〜780nm)の1/4程度(95〜195nm)である。
As the ultrafine particles having a high refractive index, for example, ZnO (refractive index n = 1.9), TiO 2 (refractive index n = 2.3 to 2.7), which can also obtain an ultraviolet shielding effect, Fine particles of CeO 2 (refractive index n = 1.95), antimony-doped SnO 2 (refractive index n = 1.95) or antistatic effect, which can prevent dust adhesion. Examples thereof include fine particles of ITO (refractive index n = 1.95). Other fine particles include Al 2 O 3 (refractive index n = 1.63), La 2 O 3 (refractive index n = 1.95), ZrO 2 (refractive index n = 2.05), Y 2 O 3. (Refractive index n = 1.87). These fine particles are used singly or in combination, and those in the form of a colloid dispersed in an organic solvent or water are good in terms of dispersibility, and the particle size is 1 to 100 nm, the transparency of the coating film To preferably 5 to 20 nm.
In order to provide a high refractive index layer, the above-described material is diluted with a solvent, for example, applied onto a substrate by a method such as spin coating, roll coating, or printing, dried, and then subjected to heat or radiation (in the case of ultraviolet rays, the above-mentioned The photopolymerization initiator may be used for curing.
The thickness of the antireflection layer is not particularly limited, but is usually about 1/4 (95 to 195 nm) of the wavelength of visible light (380 to 780 nm) to be prevented from being reflected.

本発明における表面保護層は、上述のように防眩機能及び/又は反射防止機能を有するものであり、適宜、紫外線遮蔽機能や防汚染機能等を付与してもよい。
(3)紫外線吸収層
本発明において、紫外線吸収層は、紫外線吸収剤を含有することで紫外線吸収機能を付与される層であり、上記本発明に係る近赤外線吸収層に含有される光吸収剤の劣化を防止するために、上記近赤外線吸収層中に含ませるか、近赤外線吸収層よりも観察者側に配置される層であることが好ましい。また、透明硝子基材の一方の面に表面保護層を設ける関係上、表面保護層形成面側に、紫外線吸収剤を含む該紫外線吸収層を形成する場合には、独立した層であっても良いし、該紫外線吸収層と表面保護層とを兼用してこれを表面保護層とする形態としても良い。
勿論、硝子基材中に紫外線吸収剤を添加することも可能である。但し、使用可能な紫外線吸収剤の制約(高温の溶融硝子中で変質、劣化し無いだけの耐熱性必要)、製造原価の高騰等の点であまり推奨は出来無い。
The surface protective layer in the present invention has an antiglare function and / or an antireflection function as described above, and may be appropriately provided with an ultraviolet shielding function, an antifouling function, or the like.
(3) Ultraviolet absorbing layer In the present invention, the ultraviolet absorbing layer is a layer to which an ultraviolet absorbing function is imparted by containing an ultraviolet absorber, and is included in the near infrared absorbing layer according to the present invention. In order to prevent the deterioration, it is preferable that the layer be included in the near-infrared absorbing layer or be disposed closer to the viewer than the near-infrared absorbing layer. In addition, in order to provide a surface protective layer on one surface of the transparent glass substrate, when the ultraviolet absorbing layer containing an ultraviolet absorber is formed on the surface protective layer forming surface side, an independent layer may be used. Alternatively, the ultraviolet absorbing layer and the surface protective layer may be used as a surface protective layer.
Of course, it is also possible to add an ultraviolet absorber to the glass substrate. However, it cannot be recommended much in terms of restrictions on usable UV absorbers (necessary heat resistance that does not deteriorate or deteriorate in high-temperature molten glass), and manufacturing costs rise.

紫外線吸収剤としては、可視光線領域に於いて透明性が高く、且つ紫外線領域(波長380nm以下)に於いて十分な吸収性を有する物質が選択される。例えば、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン等の有機系化合物、微粒子状の酸化亜鉛、酸化セリウム等からなる無機系化合物からなる公知の化合物を用いることができる。
また、独立した紫外線吸収層とする場合は、このような紫外線吸収剤をバインダー樹脂に添加した組成物を公知の方法で塗布形成すれば良い。該バインダー樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂や、エポキシ、アクリレート、メタアクリレート等の単量体、プレポリマー等から成る熱硬化型樹脂或いは電離放射線硬化型樹脂、2液硬化型ウレタン樹脂等の硬化性樹脂などが挙げられる。
また、市販の紫外線カットフィルタ、例えば、富士写真フィルム社製の「シャープカットフィルターSC‐38」(商品名)、「同SC‐39」、「同SC‐40」、三菱レーヨン社製の「アクリプレン」(商品名)等を用いることもできる。
紫外線吸収層の厚みは特に限定されるものではないが、1.0μm以上30μm以下が好ましく、より好ましくは10μm以上20μm以下である。
As the ultraviolet absorber, a substance having high transparency in the visible light region and sufficient absorption in the ultraviolet region (wavelength of 380 nm or less) is selected. For example, a known compound made of an organic compound such as benzotriazole or benzophenone, an inorganic compound made of finely divided zinc oxide, cerium oxide or the like can be used.
When an independent ultraviolet absorbing layer is formed, a composition obtained by adding such an ultraviolet absorbent to a binder resin may be applied and formed by a known method. Examples of the binder resin include thermoplastic resins such as polyester resins, polyurethane resins, and acrylic resins, thermosetting resins or ionizing radiation curable resins made of monomers such as epoxy, acrylate, and methacrylate, and prepolymers. Examples thereof include curable resins such as liquid curable urethane resins.
Also, commercially available UV cut filters such as “Sharp Cut Filter SC-38” (trade name), “SC-39”, “SC-40” manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., “Acryprene” manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd. (Product name) or the like can also be used.
Although the thickness of an ultraviolet absorption layer is not specifically limited, 1.0 micrometer or more and 30 micrometers or less are preferable, More preferably, they are 10 micrometers or more and 20 micrometers or less.

(4)その他の機能層
また表面保護層は、複合フィルタを使用する際に、その観察者(鑑賞者)側の表面に不用意な接触や環境からの汚染が原因でごみや汚染物質が付着するのを防止し、あるいは付着しても除去しやすくするために防汚染層や帯電防止層が形成されても良い。防汚染機能を付与するためには例えば、フッ素系コート剤、シリコン系コート剤、シリコン・フッ素系コート剤等が使用され、中でもシリコン・フッ素系コート剤が好ましく適用される。これらの防汚染層としての厚さは好ましくは100nm以下で、より好ましくは10nm以下であり、更に好ましくは5nm以下である。これらの防汚染層の厚さが100nmを超えると防汚染性の初期値は優れているが、耐久性において劣るものとなる。防汚染性とその耐久性のバランスから5nm以下が最も好ましい。
防汚染層を独立した層として設ける場合は、防眩層や反射防止層等の表面保護層の最表面に設けることが好ましい。
(4) Other functional layers In addition, when a composite filter is used, the surface protective layer adheres to the surface on the viewer (viewer) side due to inadvertent contact or contamination from the environment. In order to prevent this, or to make it easy to remove even if it adheres, a contamination-preventing layer or an antistatic layer may be formed. For example, a fluorine-based coating agent, a silicon-based coating agent, a silicon / fluorine-based coating agent, or the like is used for imparting the anti-contamination function, and among these, a silicon / fluorine-based coating agent is preferably applied. The thickness of these antifouling layers is preferably 100 nm or less, more preferably 10 nm or less, and even more preferably 5 nm or less. When the thickness of these antifouling layers exceeds 100 nm, the initial value of antifouling properties is excellent, but the durability is inferior. 5 nm or less is the most preferable from the balance of antifouling property and its durability.
When providing an antifouling layer as an independent layer, it is preferable to provide it on the outermost surface of a surface protective layer such as an antiglare layer or an antireflection layer.

また、本発明に用いられる表面保護層は、1層で複数の機能を兼ねる層として形成されることが好ましい。
例えば、防眩機能に加えて、更に外来光の鏡面反射防止機能を有していても良い。具体例として、防眩層を反射防止層とする場合は、表面保護層において最上層にある防眩層を前記の反射防止層のところで述べたような手法により、その直下の層よりも低屈折率化すれば良い。
Moreover, it is preferable that the surface protective layer used in the present invention is formed as a single layer having a plurality of functions.
For example, in addition to the antiglare function, it may further have a function of preventing specular reflection of extraneous light. As a specific example, when the antiglare layer is an antireflection layer, the uppermost antiglare layer in the surface protective layer is made to have a lower refractive index than the layer immediately below it by the method described in the above antireflection layer. What is necessary is to rate.

本発明に係る複合フィルタにおいて、防眩機能及び/又は反射防止機能を有する表面保護層の他に、更に防汚染層、ネオン光吸収層、紫外線吸収層等のその他の機能層を独立して設ける場合には、できるだけ少ない層数で多機能を実現する観点から、図3に示す防眩層30又は反射防止層40の観察者70側(位置Aとする)、防眩層30又は反射防止層40と透明硝子基材10との間(位置Bとする)、又は近赤外線吸収層20の透明硝子基材10側(位置Cとする)から任意に選ばれる1箇所以上に、各位置ごとに1層のみ付加的な機能層を設けるのが好ましく、特に、位置A又は位置Bのうちの1箇所又は両方の位置に各々1層のみ設けることが好ましい。但し、本発明の2層以上の層間には透明硝子基材10以外の基材は介在しない。また、これらのその他の機能層はその機能発現の観点から、防汚染層は位置Aに設けられることが好ましい。また、防眩層30、反射防止層40及び/又は近赤外線吸収層20は紫外線吸収剤を含有し、紫外線吸収機能を併せもつことが好ましい。   In the composite filter according to the present invention, in addition to the surface protective layer having an antiglare function and / or an antireflection function, other functional layers such as an antifouling layer, a neon light absorbing layer, and an ultraviolet absorbing layer are independently provided. In this case, from the viewpoint of realizing multiple functions with as few layers as possible, the anti-glare layer 30 or the anti-reflection layer 40 shown in FIG. 3 on the viewer 70 side (referred to as position A), the anti-glare layer 30 or the anti-reflection layer. 40 and the transparent glass substrate 10 (referred to as position B), or at least one place arbitrarily selected from the transparent glass substrate 10 side (referred to as position C) of the near-infrared absorbing layer 20 for each position. It is preferable to provide only one additional functional layer, and it is particularly preferable to provide only one layer at one or both of position A or position B. However, no substrate other than the transparent glass substrate 10 is interposed between two or more layers of the present invention. These other functional layers are preferably provided at the position A from the viewpoint of expressing their functions. Moreover, it is preferable that the anti-glare layer 30, the antireflection layer 40, and / or the near-infrared absorption layer 20 contain an ultraviolet absorber and also have an ultraviolet absorption function.

5.ディスプレイ用複合フィルタの特性
以上、各層を例示して説明したが、本発明のディスプレイ用複合フィルタは、代表的な用途であるプラズマディスプレイパネルの前面に適用される場合には、プラズマディスプレイパネルがキセノンガス放電を利用して発光する際に生じる近赤外線領域、即ち、800〜1100nmの波長域における光透過率が30%以下、更に20%以下、特に10%以下であることが好ましい。
また、本発明のディスプレイ用複合フィルタは、代表的な用途であるプラズマディスプレイパネルの前面に適用される場合には、プラズマディスプレイパネルがキセノンガス放電を利用して発光する際、ネオン原子が励起された後、基底状態に戻るときに発光するネオン光、即ち、570〜610nmの波長域における光線透過率が50%以下、更に30%以下であることが好ましい。
また、本発明のディスプレイ用複合フィルタは、可視光領域、即ち、380〜780nmの波長域で、充分な光線透過率、すなわち可視光透過率30%以上、更に40%以上を有することが望ましい。
なお、本発明における光透過率は、JIS−Z8701に準拠して分光光度計(例えば、品番:UV−3100PC、会社名:株式会社島津製作所)にて測定することができる。
5). Characteristics of Composite Filter for Display As described above, each layer has been described as an example. However, when the composite filter for display of the present invention is applied to the front surface of a plasma display panel which is a typical application, the plasma display panel is xenon. It is preferable that the light transmittance in the near infrared region generated when emitting light using gas discharge, that is, in the wavelength region of 800 to 1100 nm, is 30% or less, more preferably 20% or less, and particularly preferably 10% or less.
In addition, when the composite filter for display of the present invention is applied to the front surface of a plasma display panel, which is a typical application, neon atoms are excited when the plasma display panel emits light using xenon gas discharge. Thereafter, the neon light emitted when returning to the ground state, that is, the light transmittance in the wavelength region of 570 to 610 nm is preferably 50% or less, more preferably 30% or less.
The composite filter for display of the present invention desirably has a sufficient light transmittance, that is, a visible light transmittance of 30% or more, and more preferably 40% or more in a visible light region, that is, a wavelength region of 380 to 780 nm.
In addition, the light transmittance in this invention can be measured with a spectrophotometer (for example, product number: UV-3100PC, company name: Shimadzu Corporation) based on JIS-Z8701.

本発明のディスプレイ用複合フィルタは、優れた光学フィルタ機能の耐久性を有し、高温高湿下での長時間の使用によっても光吸収剤の劣化に帰属される分光特性の変化が起こり難い。具体的には、作製した複合フィルタの初期状態と、当該複合フィルタの常環境(23℃、湿度10%以下)、耐熱環境(80℃、湿度10%以下)、耐湿熱環境(60℃95%RH)の3条件下にて1000時間経過後との分光特性(透過率T、色度(x、y))を比較して、いずれも、380nm〜800nmでの透過率変化ΔTが20%以下、更に10%以下であり、かつ800nm〜1000nmでの透過率変化ΔTは10%以下、更に5%以下であることが好ましい。また、複合フィルタの色度(x、y)の変化ΔxおよびΔyは、いずれも0.01以下、更に好ましくは0.007以下であることが好ましい。   The composite filter for display of the present invention has excellent optical filter function durability, and the spectral characteristics attributed to the deterioration of the light absorber hardly occur even when used for a long time under high temperature and high humidity. Specifically, the initial state of the produced composite filter, the normal environment of the composite filter (23 ° C., humidity 10% or less), the heat resistant environment (80 ° C., humidity 10% or less), and the moisture and heat resistant environment (60 ° C. 95%) Comparison of spectral characteristics (transmittance T, chromaticity (x, y)) after 1000 hours under three conditions (RH), the transmittance change ΔT at 380 nm to 800 nm is 20% or less. Further, it is preferably 10% or less, and the transmittance change ΔT at 800 nm to 1000 nm is preferably 10% or less, and more preferably 5% or less. Further, the changes Δx and Δy of the chromaticity (x, y) of the composite filter are both 0.01 or less, more preferably 0.007 or less.

本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has any configuration that has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and that exhibits the same effects. Are included in the technical scope.

以下、実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する。これらの記載により本発明を制限するものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. These descriptions do not limit the present invention.

<実施例1>
(導電性メッシュ層の形成)
透明樹脂基材として、厚さ100μmで連続帯状の無着色透明な2軸延伸ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(A4300:商品名、東洋紡績(株)製)を用意した。次に、このPET表面に銅蒸着を行い金属層を積層した。その上に真空スパッタ法によりニッケルと銅と酸素を含む合金からなる黒化層(Ni−Cu−O黒化層)を形成した。尚、シート抵抗は0.01Ω/□であった。
次いで、上記積層体において、その金属層及び黒化層をフォトリソグラフィー法を利用したエッチングにより、開口部及びライン部とから成るメッシュ状領域から成る透視性導電層を使用するPDPの画像表示領域に対応させて形成し透視性導電層とし、及びメッシュ状領域の4周を囲繞する外縁部に額縁状のメッシュ非形成の接地用領域を有する導電性メッシュ層を形成した。メッシュ形状は開口部が正方形の正方格子であり、線幅は10μm、開口部の間口幅(正方形の辺長)は290μmとした。該メッシュ形状を有する長方形領域1つがPDPの1画面分に対応する。斯かる長方形のメッシュ状領域が、連続帯状に30mm間隔で一方に配列し、又該メッシュ状領域の配列の両側には各々幅15mmの余白部を形成し、周縁部の接地用領域の幅を15mmとした。
エッチングは、具体的には、カラーTVシャドウマスク用の製造ラインを利用して、上記積層体に対して、レジスト形成、マスキングからエッチングまでを一貫して行った。すなわち、上記積層体の透視性導電層面全面に感光性のエッチングレジストを塗布後、所望のメッシュパターンのマスクを密着露光し、現像、硬膜処理、ベーキングして、メッシュのライン部に相当する領域上にはレジスト層が残留し、開口部に相当する領域上にはレジスト層が無い様なパターンにレジスト層を加工した後、塩化第二鉄水溶液で、レジスト層非形成領域の金属層及び黒化層を、エッチング除去してメッシュ状の開口部を形成し、次いで、水洗、レジスト剥離、洗浄、乾燥を順次行った。
<Example 1>
(Formation of conductive mesh layer)
As a transparent resin base material, a continuous belt-like uncolored transparent biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film (A4300: trade name, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 100 μm was prepared. Next, copper deposition was performed on this PET surface to laminate a metal layer. A blackening layer (Ni—Cu—O blackening layer) made of an alloy containing nickel, copper and oxygen was formed thereon by vacuum sputtering. The sheet resistance was 0.01Ω / □.
Next, in the laminate, the metal layer and the blackened layer are etched into a PDP image display area using a transparent conductive layer composed of a mesh-shaped area including an opening and a line by etching using a photolithography method. A transparent conductive layer was formed correspondingly, and a conductive mesh layer having a frame-shaped mesh-free grounding region on the outer edge surrounding the circumference of the mesh-shaped region was formed. The mesh shape was a square lattice having square openings, the line width was 10 μm, and the opening width (side length of the square) was 290 μm. One rectangular area having the mesh shape corresponds to one screen of the PDP. Such rectangular mesh-like areas are arranged on one side at intervals of 30 mm in the form of a continuous band, and margins having a width of 15 mm are respectively formed on both sides of the arrangement of the mesh-like areas, and the width of the grounding area at the peripheral part is increased. It was 15 mm.
Specifically, the etching was performed consistently from resist formation, masking to etching on the laminate using a production line for a color TV shadow mask. That is, after a photosensitive etching resist is applied to the entire surface of the transparent conductive layer of the laminate, a mask having a desired mesh pattern is closely exposed, developed, hardened, and baked to obtain a region corresponding to a mesh line portion. After the resist layer is processed into a pattern in which the resist layer remains on the area corresponding to the opening and the resist layer does not exist, the aqueous solution of ferric chloride is used to form the metal layer and black in the resist layer non-formation area. The chemical layer was removed by etching to form a mesh-shaped opening, followed by sequential washing with water, stripping of the resist, washing and drying.

(近赤外線吸収層(粘着剤層)の形成)
次に、上記連続帯状の積層体の導電性メッシュ層側の面に対して、各種光吸収剤を添加した近赤外線吸収層(粘着剤層)を形成した。アクリル系粘着剤(綜研化学(株)製、SKダイン2094)100重量部に対して、硬化剤(綜研化学(株)製、E−5XM)0.25重量部、セシウム含有タングステン酸化物(Cs0.33WO3)含有量18.5重量%懸濁液(住友金属鉱山(株)製、YMF−02;平均分散粒径800nm以下)11.32重量部、ネオン光吸収剤(山田化学株式会社製、TAP−2;テトラアザポルフィリン系色素)0.045重量部、色補正色素(日本化薬(株)製、KAYASET RED A2G)0.3重量部を各々添加し、充分分散させて近赤外線吸収層組成物を調製した。
そして、上記積層体の導電性メッシュ層側の面に対して、ダイコーターにより乾燥時の厚みが25μmになるように塗布し、風速5m/secのドライエアーが当たるオーブンにて100℃で1分間乾燥して近赤外線吸収層を形成して、連続帯状の状態で上記積層体に近赤外線吸収層が積層されているシートを得た。尚、近赤外線吸収層の面には、更に再剥離可能な離型フィルムを貼り合わせて保護した。
また、近赤外線吸収層の形成は、間欠塗工法によって、導電性メッシュ層の接地用領域は被覆せずメッシュ領域は被覆するように部分的にパターン状に形成した。
(ガラス板への貼合)
上記積層体に近赤外線吸収層が積層されているシートをガラス板と同サイズに切り出した。近赤外線吸収層の面上の離型フィルムを剥がし、ガラス面に貼合し、複合フィルタを作製した。
(Formation of near-infrared absorbing layer (adhesive layer))
Next, a near-infrared absorbing layer (adhesive layer) to which various light absorbers were added was formed on the surface on the conductive mesh layer side of the continuous band-shaped laminate. 0.25 parts by weight of a curing agent (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., E-5XM) and cesium-containing tungsten oxide (Cs0) with respect to 100 parts by weight of an acrylic adhesive (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., SK Dyne 2094) .33WO3) content 18.5 wt% suspension (manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd., YMF-02; average dispersed particle size 800 nm or less) 11.32 parts by weight, neon light absorber (manufactured by Yamada Chemical Co., Ltd., TAP-2: tetraazaporphyrin-based dye) 0.045 parts by weight, color correction dye (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYASET RED A2G) 0.3 parts by weight are added and dispersed sufficiently, and a near-infrared absorbing layer A composition was prepared.
And it apply | coated so that the thickness at the time of drying may be set to 25 micrometers with the die coater with respect to the surface at the side of the conductive mesh layer of the said laminated body, and it is 100 degreeC for 1 minute in the oven which hits dry air with a wind speed of 5 m / sec. It dried and formed the near-infrared absorption layer, and obtained the sheet | seat by which the near-infrared absorption layer was laminated | stacked on the said laminated body in the continuous belt-like state. The surface of the near-infrared absorbing layer was further protected by attaching a releasable release film.
In addition, the near-infrared absorbing layer was formed in a partial pattern by an intermittent coating method so that the ground area of the conductive mesh layer was not covered but the mesh area was covered.
(Lamination on glass plate)
A sheet in which the near-infrared absorbing layer was laminated on the laminate was cut out to the same size as the glass plate. The release film on the surface of the near infrared absorbing layer was peeled off and bonded to the glass surface to produce a composite filter.

[複合フィルタの評価]
作製したディスプレイ用複合フィルタの800〜1100nmの波長域における光線透過率は10%以下、また、可視光透過率は47%であった。なお、本発明における光線透過率は、JIS−Z8701に準拠して分光光度計(島津製作所製、UV−3100PC)にて測定した。
[Compound filter evaluation]
The produced composite filter for display had a light transmittance of 10% or less and a visible light transmittance of 47% in the wavelength region of 800 to 1100 nm. In addition, the light transmittance in this invention was measured with the spectrophotometer (The Shimadzu Corporation make, UV-3100PC) based on JIS-Z8701.

更に、作製したディスプレイ用複合フィルタの初期状態、および当該複合フィルタの常環境(23℃、湿度10%以下)、耐熱環境(80℃、湿度10%以下)、耐湿熱環境(60℃95%RH)の3条件下にて1000時間経過後の分光特性(透過率T、色度(x、y))を、分光光度計(島津製作所製、UV−3100PC)を用いて測定した。初期状態と、上記3条件下で1000時間経過後の透過率T、及び色度(x、y)の測定値から、透過率変化ΔT、及び色度(x、y)の値の差Δx及びΔyを求めた。   Furthermore, the initial state of the produced composite filter for display, and the normal environment (23 ° C., humidity 10% or less), heat-resistant environment (80 ° C., humidity 10% or less), and heat-resistant environment (60 ° C. 95% RH) of the composite filter. ) Was measured using a spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation, UV-3100PC) after 1000 hours. From the initial state and the measured values of transmittance T and chromaticity (x, y) after 1000 hours under the above three conditions, the difference Δx in transmittance change ΔT and chromaticity (x, y) values Δy was determined.

その結果、初期状態と当該複合フィルタの常環境(23℃、湿度10%以下)、耐熱環境(80℃、湿度10%以下)、耐湿熱環境(60℃95%RH)条件下で1000時間経過後との比較において、いずれも、380nm〜800nmでの透過率変化ΔTが9%以下であり、かつ800nm〜1000nmでの透過率変化ΔTは3%以下であった。また、フィルタの色度(x、y)の変化ΔxおよびΔyは、いずれも0.004以下であった。   As a result, 1000 hours passed under the initial conditions and the normal environment of the composite filter (23 ° C., humidity 10% or less), heat resistant environment (80 ° C., humidity 10% or less), and heat and humidity resistant environment (60 ° C. 95% RH). In all comparisons, the transmittance change ΔT at 380 nm to 800 nm was 9% or less, and the transmittance change ΔT at 800 nm to 1000 nm was 3% or less. Further, the changes Δx and Δy of the chromaticity (x, y) of the filter were both 0.004 or less.

<実施例2>
ガラス表面をサンドブラスト処理で粗面化し、粗面化していない面に上記実施例1の積層体に近赤外線吸収層が積層されているシートを貼合した以外は実施例1と同様に複合フィルタを作製した。
<Example 2>
A composite filter was prepared in the same manner as in Example 1 except that the glass surface was roughened by sandblasting and a sheet in which the near-infrared absorbing layer was laminated on the laminate of Example 1 was bonded to a non-roughened surface. Produced.

得られた複合フィルタを実施例1と同様にして評価を行った。その結果、作製した複合フィルタの800〜1100nmの波長域における光線透過率は10%以下、また、可視光透過率は47%であった。
また、初期状態と当該複合フィルタの常環境(23℃、湿度10%以下)、耐熱環境(80℃、湿度10%以下)、耐湿熱環境(60℃95%RH)条件下で1000時間経過後との比較において、いずれも、380nm〜800nmでの透過率変化ΔTが9%以下であり、かつ800nm〜1000nmでの透過率変化ΔTは3%以下であった。また、フィルタの色度(x、y)の変化ΔxおよびΔyは、いずれも0.004以下であった。
The obtained composite filter was evaluated in the same manner as in Example 1. As a result, the produced composite filter had a light transmittance of 10% or less and a visible light transmittance of 47% in the wavelength region of 800 to 1100 nm.
In addition, after 1000 hours in the initial state and the normal environment of the composite filter (23 ° C., humidity 10% or less), heat-resistant environment (80 ° C., humidity 10% or less), and humidity-heat resistant environment (60 ° C. 95% RH) In any case, the transmittance change ΔT at 380 nm to 800 nm was 9% or less, and the transmittance change ΔT at 800 nm to 1000 nm was 3% or less. Further, the changes Δx and Δy of the chromaticity (x, y) of the filter were both 0.004 or less.

<実施例3>
(ガラス面に防眩層を積層する工程)
防眩層を、透明樹脂基材に形成した。具体的には、先ず、電離放射線硬化型樹脂として、ペンタエリスリトールトリアクリレートを70質量部(日本化薬(株)製、屈折率1.49)、イソシアヌル酸EO変性ジアクリレートを30質量部(東亞合成(株)製、屈折率1.51)、アクリル系ポリマー(三菱レイヨン(株)製、分子量75,000)を10.0質量部、光硬化開始剤である商品名イルガキュア184を5.0質量部(チバガイギ(株)製)配合してなる紫外線硬化型樹脂に、更に、透光性微粒子としてスチレンビーズを15.0質量部(綜研化学(株)製、粒径3.5μm、屈折率1.60)、レベリング剤として商品名「10−28」を0.01質量部(ザ・インクテック(株)製)、トルエンを127.5質量部、及び、シクロヘキサノン54.6質量部、を充分混合して塗布液とした。この塗布液を孔径30μmのポリプロピレン製フィルタでろ過して、防眩層形成用の塗布液を調製した。次に、透明樹脂基材の面上に、該塗布液を、膜厚7μmとなるように塗工した後、50℃のオーブンで加熱乾燥させ、N雰囲気下でUV照射装置(フュージョンUVシステムジャパン(株)製)のHバルブを光源に用いて紫外線照射して硬化し(積算光量200mJ)、防眩層を形成した。実施例1で作製した複合フィルタのガラス面に上記防眩層フィルムを透明粘着剤(商品名:TU−41A 巴川製紙所製)を用いて貼合し、複合フィルタを作製した。
<Example 3>
(Process of laminating an antiglare layer on the glass surface)
An antiglare layer was formed on the transparent resin substrate. Specifically, first, as an ionizing radiation curable resin, 70 parts by mass of pentaerythritol triacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., refractive index 1.49) and 30 parts by mass of isocyanuric acid EO-modified diacrylate (Toago) 10.0 parts by mass of Synthetic Co., Ltd., refractive index 1.51), acrylic polymer (Mitsubishi Rayon Co., Ltd., molecular weight: 75,000), 5.0 of the trade name Irgacure 184 as a photocuring initiator In addition, 15.0 parts by mass of styrene beads (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., particle size 3.5 μm, refractive index) as an ultraviolet curable resin blended with parts by mass (Ciba Gaigi Co., Ltd.) 1.60), 0.01 part by mass (made by The Inktec Co., Ltd.) as a trade name “10-28” as a leveling agent, 127.5 parts by mass of toluene, and 54.6 parts by mass of cyclohexanone, And a coating solution was thoroughly mixed. This coating solution was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 30 μm to prepare a coating solution for forming an antiglare layer. Next, after coating the coating solution on the surface of the transparent resin substrate so as to have a film thickness of 7 μm, the coating solution is dried by heating in an oven at 50 ° C., and a UV irradiation apparatus (fusion UV system) in an N 2 atmosphere. Using an H bulb manufactured by Japan Co., Ltd. as a light source, it was cured by irradiation with ultraviolet rays (integrated light amount 200 mJ) to form an antiglare layer. The antiglare layer film was bonded to the glass surface of the composite filter prepared in Example 1 using a transparent adhesive (trade name: TU-41A manufactured by Yodogawa Paper Mill) to prepare a composite filter.

得られた複合フィルタを実施例1と同様にして評価を行った。その結果、作製した複合フィルタの800〜1100nmの波長域における光線透過率は10%以下、また、可視光透過率は47%であった。
また、初期状態と当該複合フィルタの常環境(23℃、湿度10%以下)、耐熱環境(80℃、湿度10%以下)、耐湿熱環境(60℃95%RH)条件下で1000時間経過後との比較において、いずれも、380nm〜800nmでの透過率変化ΔTが9%以下であり、かつ800nm〜1000nmでの透過率変化ΔTは3%以下であった。また、フィルタの色度(x、y)の変化ΔxおよびΔyは、いずれも0.004以下であった。
The obtained composite filter was evaluated in the same manner as in Example 1. As a result, the produced composite filter had a light transmittance of 10% or less and a visible light transmittance of 47% in the wavelength region of 800 to 1100 nm.
In addition, after 1000 hours in the initial state and the normal environment of the composite filter (23 ° C., humidity 10% or less), heat-resistant environment (80 ° C., humidity 10% or less), and humidity-heat resistant environment (60 ° C. 95% RH) In any case, the transmittance change ΔT at 380 nm to 800 nm was 9% or less, and the transmittance change ΔT at 800 nm to 1000 nm was 3% or less. Further, the changes Δx and Δy of the chromaticity (x, y) of the filter were both 0.004 or less.

<比較例1>
実施例1の近赤外線吸収層形成において、セシウム含有タングステン酸化物(Cs0.33WO)含有量18.5重量%懸濁液(住友金属鉱山(株)製、YMF−02)1.32重量部を用いる代わりに、ジイモニウム系色素である、商品名IRG−022(日本化薬(株)製)0.534質量部と、フタロシアニン系NIR吸収色素である、商品名エクスカラーIR−12A 0.298質量部、商品名エクスカラーIR−14 0.158質量部(以上、日本触媒株式会社製)を使用した以外は実施例1と同様に複合フィルタを作製した。
<Comparative Example 1>
In the formation of the near-infrared absorption layer of Example 1, a cesium-containing tungsten oxide (Cs 0.33 WO 3 ) content 18.5 wt% suspension (Sumitomo Metal Mining Co., Ltd., YMF-02) 1.32 Instead of using parts by weight, 0.534 parts by mass of a trade name IRG-022 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), which is a diimmonium dye, and a trade name EXCOLOR IR-12A 0, which is a phthalocyanine NIR absorbing dye. A composite filter was produced in the same manner as in Example 1, except that 298 parts by mass and 0.158 parts by mass of the trade name EXCOLOR IR-14 (the above, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) were used.

得られた比較例1の複合フィルタを実施例1と同様にして評価を行った。その結果、作製した複合フィルタの800〜1100nmの波長域における光線透過率は7%であった。また、可視光透過率は63%であった。
また、初期状態と当該複合フィルタの常環境(23℃、湿度10%以下)条件下で1000時間経過後との比較において、380nm〜800nmでの透過率変化ΔTが1%以下であり、かつ800nm〜1000nmでの透過率変化ΔTは1%以下であった。また、フィルタの色度(x、y)の変化ΔxおよびΔyは、いずれも0.001以下であった。
また、初期状態と耐熱環境(80℃、湿度10%以下)条件下で1000時間経過後との比較において、380nm〜800nmでの透過率変化ΔTが12%超過であり、かつ800nm〜1000nmでの透過率変化ΔTは15%超過であった。また、フィルタの色度(x、y)の変化ΔxおよびΔyは0.03以上であった。
また、初期状態と耐湿熱環境(60℃95%RH)条件下で1000時間経過後との比較において、380nm〜800nmでの透過率変化ΔTが10%超過であり、かつ800nm〜1000nmでの透過率変化ΔTは8%超過であった。また、フィルタの色度(x、y)の変化ΔxおよびΔyは0.02以上であった。
The obtained composite filter of Comparative Example 1 was evaluated in the same manner as in Example 1. As a result, the light transmittance in the wavelength range of 800 to 1100 nm of the produced composite filter was 7%. The visible light transmittance was 63%.
Further, in a comparison between the initial state and the normal environment (23 ° C., humidity 10% or less) of the composite filter after 1000 hours, the transmittance change ΔT at 380 nm to 800 nm is 1% or less and 800 nm. The transmittance change ΔT at ˜1000 nm was 1% or less. Further, the changes Δx and Δy of the chromaticity (x, y) of the filter were both 0.001 or less.
Further, in comparison between the initial state and the heat resistant environment (80 ° C., humidity 10% or less) after 1000 hours, the transmittance change ΔT at 380 nm to 800 nm exceeds 12%, and at 800 nm to 1000 nm. The transmittance change ΔT was over 15%. Further, the changes Δx and Δy of the chromaticity (x, y) of the filter were 0.03 or more.
In addition, the transmittance change ΔT at 380 nm to 800 nm exceeds 10% and the transmission at 800 nm to 1000 nm is compared between the initial state and after 1000 hours under conditions of moisture and heat resistance (60 ° C. and 95% RH). The rate change ΔT was over 8%. Further, the changes Δx and Δy of the chromaticity (x, y) of the filter were 0.02 or more.

本発明に係るディスプレイ用複合フィルタの一例を模式的に示した断面図である。It is sectional drawing which showed typically an example of the composite filter for a display which concerns on this invention. 本発明に係るディスプレイ用複合フィルタの他の一例を模式的に示した断面図である。It is sectional drawing which showed typically another example of the composite filter for a display which concerns on this invention. 本発明に係るディスプレイ用複合フィルタの他の一例を模式的に示した断面図である。It is sectional drawing which showed typically another example of the composite filter for a display which concerns on this invention. 本発明に係るディスプレイ用複合フィルタの他の一例を模式的に示した断面図である。It is sectional drawing which showed typically another example of the composite filter for a display which concerns on this invention. 本発明に係るディスプレイ用複合フィルタの他の一例を模式的に示した断面図である。It is sectional drawing which showed typically another example of the composite filter for a display which concerns on this invention. 本発明に係るディスプレイ用複合フィルタの他の一例を模式的に示した断面図である。It is sectional drawing which showed typically another example of the composite filter for a display which concerns on this invention. 本発明に係るディスプレイ用複合フィルタの他の一例を模式的に示した断面図である。It is sectional drawing which showed typically another example of the composite filter for a display which concerns on this invention. 本発明に用いられる透視性導電層の一例の平面図である。It is a top view of an example of a see-through conductive layer used for the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 ディスプレイ用複合フィルタ
10 透明硝子基材
12 透明樹脂基材
13 黒化層
16 導電性メッシュ層
17 導電性部材
18 ガスケット
20 近赤外線吸収層(粘着剤層)
30 防眩層
40 反射防止層
50 透視性導電層
60 プラズマディスプレイ
70 観察者側
161 メッシュ領域
162 接地用領域
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Composite filter for display 10 Transparent glass base material 12 Transparent resin base material 13 Blackening layer 16 Conductive mesh layer 17 Conductive member 18 Gasket 20 Near-infrared absorption layer (adhesive layer)
30 Antiglare layer 40 Antireflection layer 50 Transparent conductive layer 60 Plasma display 70 Observer side 161 Mesh area 162 Grounding area

Claims (12)

透明硝子基材の片面に、バインダー成分を含有する近赤外線吸収層、及び透視性導電層がこの順序で積層され、且つ、当該近赤外線吸収層は、近赤外線吸収剤として、一般式MxWyOz(但し、M元素は、H、He、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、Iのうちから選択される1種類以上の元素、Wはタングステン、Oは酸素、0.001≦x/y≦1.1、2.2≦z/y≦3.0)で表される複合タングステン酸化物微粒子を含有していることを特徴とするディスプレイ用複合フィルタ。   A near-infrared absorbing layer containing a binder component and a transparent conductive layer are laminated in this order on one side of the transparent glass substrate, and the near-infrared absorbing layer has a general formula MxWyOz (however, , M elements are H, He, alkali metals, alkaline earth metals, rare earth elements, Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, B, F, P, S, Se, Br, Te, Ti, Nb, V, Mo, Ta, Re, Be, One or more elements selected from Hf, Os, Bi, and I, W is tungsten, O is oxygen, 0.001 ≦ x / y ≦ 1.1, 2.2 ≦ z / y ≦ 3.0 It contains composite tungsten oxide fine particles represented by Display for the composite filter to. 前記透視性導電層が導電性メッシュ層であることを特徴とする、請求項1に記載のディスプレイ用複合フィルタ。   The composite filter for display according to claim 1, wherein the transparent conductive layer is a conductive mesh layer. 前記導電性メッシュ層は、周縁部の一部が露出していることを特徴とする、請求項2に記載のディスプレイ用複合フィルタ。   The composite filter for display according to claim 2, wherein a part of a peripheral edge of the conductive mesh layer is exposed. 前記透明硝子基材のディスプレイパネル側の面に、前記近赤外線吸収層が積層されており、当該透明硝子基材の観察者側の面に、防眩機能が付与されていることを特徴とする、請求項1に記載のディスプレイ用複合フィルタ。   The near-infrared absorbing layer is laminated on the surface of the transparent glass substrate on the display panel side, and an anti-glare function is imparted to the surface on the observer side of the transparent glass substrate. The composite filter for display according to claim 1. 前記透明硝子基材の観察者側の面に前記近赤外線吸収層を介し、透明樹脂基材の一面側に透視性導電層を備えた電磁波遮蔽シートの当該透視性導電層を透明硝子基材に向き合わせて積層し、当該電磁波遮蔽シートの当該透明樹脂基材側の表面に、防眩機能及び/又は反射防止機能を有する表面保護層が積層されてなることを特徴とする、請求項1乃至4のいずれか一項に記載のディスプレイ用複合フィルタ。   The transparent conductive substrate of the electromagnetic wave shielding sheet provided with a transparent conductive layer on one surface side of the transparent resin substrate through the near-infrared absorbing layer on the surface of the transparent glass substrate on the viewer side is used as the transparent glass substrate. A surface protective layer having an antiglare function and / or an antireflection function is laminated on the surface of the electromagnetic wave shielding sheet on the transparent resin substrate side of the electromagnetic wave shielding sheet. 5. The composite filter for display according to any one of 4 above. 前記表面保護層及び/又は近赤外線吸収層に紫外線吸収剤を含有することを特徴とする、請求項1乃至5のいずれか一項に記載のディスプレイ用複合フィルタ。   The composite filter for display according to any one of claims 1 to 5, wherein the surface protective layer and / or the near-infrared absorbing layer contains an ultraviolet absorber. 前記透明硝子基材の観察者側の面に前記近赤外線吸収層を介し、透明樹脂基材の一面側に透視性導電層を備えた電磁波遮蔽シートの当該透視性導電層を透明硝子基材に向き合わせて積層し、前記透視性導電層の周縁部の少なくとも一部に近赤外線吸収層で被覆されていない接地用領域を設け、当該接地用領域において、前記透明硝子基材と前記透視性導電層の間に、当該透視性導電層と接触する導電性部材が介在し、当該導電性部材が、当該透明硝子基材の観察者側の面からディスプレイパネル側の面に周り込む導通路を形成していることを特徴とする、請求項1乃至6のいずれか一項に記載のディスプレイ用複合フィルタ。   The transparent conductive substrate of the electromagnetic wave shielding sheet provided with a transparent conductive layer on one surface side of the transparent resin substrate through the near-infrared absorbing layer on the surface of the transparent glass substrate on the viewer side is used as the transparent glass substrate. A grounding region that is laminated so as to face each other and is not covered with a near-infrared absorbing layer is provided on at least a part of the peripheral portion of the transparent conductive layer, and the transparent glass substrate and the transparent conductive material are provided in the grounding region. A conductive member that contacts the transparent conductive layer is interposed between the layers, and the conductive member forms a conduction path that extends from the surface on the viewer side of the transparent glass substrate to the surface on the display panel side. The composite filter for display according to claim 1, wherein the composite filter is for display. 前記近赤外線吸収層は、ネオン光吸収剤及び/又は色補正色素を更に含有することを特徴とする、請求項1乃至7のいずれか一項に記載のディスプレイ用複合フィルタ。   The composite filter for display according to any one of claims 1 to 7, wherein the near-infrared absorbing layer further contains a neon light absorber and / or a color correction pigment. 前記複合タングステン酸化物微粒子の平均分散粒径が800nm以下であることを特徴とする、請求項1乃至8のいずれか一項に記載のディスプレイ用複合フィルタ。   The composite filter for display according to any one of claims 1 to 8, wherein an average dispersed particle size of the composite tungsten oxide fine particles is 800 nm or less. 前記複合タングステン酸化物微粒子が、六方晶、正方晶、立方晶のいずれか1種類以上の結晶構造を含むことを特徴とする、請求項1乃至9のいずれか一項に記載のディスプレイ用複合フィルタ。   The composite filter for a display according to any one of claims 1 to 9, wherein the composite tungsten oxide fine particles include one or more crystal structures of hexagonal, tetragonal, and cubic crystals. . 前記複合タングステン酸化物微粒子を表す一般式MxWyOzにおいて、M元素がCs(セシウム)であり、該複合タングステン酸化物微粒子が六方晶の結晶構造を有することを特徴とする、請求項1乃至10のいずれか一項に記載のディスプレイ用複合フィルタ。   11. The general formula MxWyOz representing the composite tungsten oxide fine particles, wherein the M element is Cs (cesium), and the composite tungsten oxide fine particles have a hexagonal crystal structure. A composite filter for display according to claim 1. 前記複合タングステン酸化物微粒子の表面が、Si、Ti、Zr、Alから選択される1種類以上の元素を含有する酸化物で被覆されていることを特徴とする、請求項1乃至11のいずれか一項に記載のディスプレイ用複合フィルタ。   The surface of the composite tungsten oxide fine particles is coated with an oxide containing one or more elements selected from Si, Ti, Zr, and Al. The composite filter for display according to one item.
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