JP2008300393A - Electromagnetic wave shielding filter for display, composite filter and manufacturing method therefor - Google Patents
Electromagnetic wave shielding filter for display, composite filter and manufacturing method therefor Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008300393A JP2008300393A JP2007141540A JP2007141540A JP2008300393A JP 2008300393 A JP2008300393 A JP 2008300393A JP 2007141540 A JP2007141540 A JP 2007141540A JP 2007141540 A JP2007141540 A JP 2007141540A JP 2008300393 A JP2008300393 A JP 2008300393A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- electromagnetic wave
- conductive
- wave shielding
- conductive layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
Description
本発明は、PDP(プラズマディスプレイパネル)などのディスプレイから発生する電磁波を遮蔽(シールド)する電磁波遮蔽フィルタ、複合フィルタ及びその製造方法に関する。 The present invention relates to an electromagnetic wave shielding filter that shields (shields) electromagnetic waves generated from a display such as a plasma display panel (PDP), a composite filter, and a method for manufacturing the same.
近年、電気電子機器の機能高度化と利用増加に伴い、電磁気的なノイズ妨害(Electro Magnetic Interference;EMI)が増え、陰極線管(CRTという)、プラズマディスプレイパネル(PDPという)などのディスプレイでも電磁波が発生する。特に、プラズマディスプレイパネルは、データ電極と蛍光層を有するガラスと透明電極を有するガラスとの組合体であり、作動すると電磁波、及び近赤外線が大量に発生する。 In recent years, with the advancement of functions and increase in the use of electrical and electronic equipment, electromagnetic noise interference (EMI) has increased, and electromagnetic waves are also generated in displays such as cathode ray tubes (referred to as CRT) and plasma display panels (referred to as PDP). appear. In particular, the plasma display panel is a combination of a data electrode, a glass having a fluorescent layer, and a glass having a transparent electrode, and generates a large amount of electromagnetic waves and near infrared rays when operated.
通常、電磁波を遮蔽するためにディスプレイパネルの前面に、電磁波遮蔽用シートが設けられる。ディスプレイ前面から発生する電磁波の遮蔽性は、日本では30MHz〜1GHzにおいてVCCI(情報処理装置等電波障害自主規制協議会)が規定する家庭環境、住宅環境で使用する情報処理装置に適用される規格(クラスB)を達成することが必要である。さらに、ディスプレイの表示画像を視認しやすくするため、電磁波遮蔽用の金属メッシュ(ライン部)部分が見えにくく、また、メッシュパターン精度がよくメッシュの乱れがなく、適度な透明性(可視光透過性)を有することが必要である。
また、プラズマディスプレイ前面より発生する波長800〜1,100nmの近赤外線も、他のVTRなどの遠隔操作機器を誤作動させるので、遮蔽する必要がある。更に、プラズマディスプレイから放射する波長590nm付近の光(ネオン光)を遮断したり、画像の色相調整を行い色再現性を向上させる機能、更には外光の不要な反射を抑える機能等が求められる。
尚、本願明細書に於いては、広義の電磁波のうち、特に、赤外線帯域よりも低周波数の電磁波を「電磁波」と呼称し、赤外線、可視光線、及び紫外線と区別して用いる。
Usually, an electromagnetic wave shielding sheet is provided on the front surface of the display panel in order to shield electromagnetic waves. The shielding property of the electromagnetic wave generated from the front of the display is a standard applied to information processing devices used in home environments and residential environments specified by VCCI (Electromagnetic Interference Regulations for Information Processing Devices, etc.) at 30 MHz to 1 GHz in Japan ( It is necessary to achieve class B). Furthermore, in order to make it easy to see the display image on the display, the metal mesh (line part) for shielding electromagnetic waves is difficult to see, the mesh pattern accuracy is good, the mesh is not disturbed, and it has moderate transparency (visible light transmission) ).
In addition, near infrared rays having a wavelength of 800 to 1,100 nm generated from the front surface of the plasma display also cause other remote control devices such as VTRs to malfunction, and thus need to be shielded. Furthermore, there is a need for a function that blocks light (neon light) near a wavelength of 590 nm emitted from a plasma display, adjusts the hue of an image to improve color reproducibility, and further suppresses unnecessary reflection of external light. .
In the present specification, among electromagnetic waves in a broad sense, in particular, an electromagnetic wave having a frequency lower than the infrared band is referred to as an “electromagnetic wave”, and is used separately from infrared rays, visible rays, and ultraviolet rays.
特許文献1には、電磁波遮蔽用シートと、近赤外線吸収フィルタ、反射防止フィルタ等の複数の光学フィルタとを積層して、画像表示装置から発生する不要な電磁波及び特定波長の光を遮蔽し、且つ画像表示装置に必要とされる各種機能を付与することができる板状の複合フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面板として用いる複合フィルタが開示されている。
また、特許文献2には、透明基体と、導電性メッシュ層と、透明粘着材と、ハードコート性、反射防止性、防眩性、静電気防止性、防汚性、紫外線カット性、近赤外線カット性のうちの少なくとも1つの機能を有する機能性フィルムとを貼り合わせた積層体からなるディスプレイ用フィルタが開示されている。
このような複合フィルタにおいては、電磁波遮蔽性を良好なものとするため、電磁波遮蔽用シートの導電性メッシュ層を接地(アース)する必要が有る。そのために通常、導電性メッシュ層は、その周縁部に囲むように設けられた、開口部を形成しない額縁状の接地用導電層を有し、この額縁状の導電層から接地することが一般的である。
In
In such a composite filter, it is necessary to ground (ground) the conductive mesh layer of the electromagnetic wave shielding sheet in order to improve the electromagnetic wave shielding property. For this purpose, the conductive mesh layer generally has a frame-shaped grounding conductive layer which is provided so as to surround the peripheral portion thereof and does not form an opening, and is generally grounded from the frame-shaped conductive layer. It is.
前記複合フィルタのプラズマディスプレイパネル(PDP)の前面に設置する際の、導電性メッシュ層の配置方法としては、当該導電性メッシュ層を当該透明基材フィルムのPDP側の面に配置する方法(特許文献1の図9参照)と、当該導電性メッシュ層を当該透明基材フィルムの視聴者側の面に配置する方法(特許文献2の図2参照)がある。前者において、当該電磁波遮蔽用シートを含む複合フィルタを直接プラズマディスプレイパネルに貼付ける場合、当該導電性メッシュ層と当該プラズマディスプレイパネルの間に空間がないため、当該導電性メッシュ層の周縁部にアースを接地する為の領域をつくれず、当該導電性メッシュ層を接地することが困難である。一方、後者の場合、当該導電性メッシュ層の上に積層する反射防止層などの機能性フィルムを当該導電性メッシュ層よりもひとまわり小さくすることで、当該導電性メッシュ層の周縁部にアースを接地する為の領域(導通部)をつくることができる。したがって、当該複合フィルタを直接プラズマディスプレイパネルに貼付ける場合でも、当該導電性メッシュ層を容易に接地することができる。 As a method of arranging the conductive mesh layer when the composite filter is installed on the front surface of the plasma display panel (PDP), a method of arranging the conductive mesh layer on the PDP side surface of the transparent base film (patent) There are a method (see FIG. 9 of Patent Document 2) and a method of arranging the conductive mesh layer on the viewer-side surface of the transparent base film (see FIG. 2 of Patent Document 2). In the former case, when the composite filter including the electromagnetic wave shielding sheet is directly attached to the plasma display panel, since there is no space between the conductive mesh layer and the plasma display panel, the peripheral edge of the conductive mesh layer is grounded. It is difficult to ground the conductive mesh layer without creating a region for grounding. On the other hand, in the latter case, a functional film such as an antireflection layer laminated on the conductive mesh layer is made slightly smaller than the conductive mesh layer to ground the peripheral edge of the conductive mesh layer. An area (conductive part) for grounding can be created. Therefore, even when the composite filter is directly attached to the plasma display panel, the conductive mesh layer can be easily grounded.
また、特許文献3には、電磁波シールド材と、最表層の反射防止フィルムと、近赤外線カットフィルムとを積層一体化してなり、最裏層として粘着材層が設けられた電磁波シールド性光透過積層フィルムであって、該電磁波シールド材の縁部を該反射防止フィルムの縁部からはみ出させて該反射防止フィルムの縁部に沿って該反射防止フィルムの表面側に折り返し、該電磁波シールド材の折り返し部を導電性粘着テープで該反射防止フィルムの表面に留め付けてなる電磁波シールド性光透過積層フィルムが開示されている。しかしながら、各層を積層し貼り合わせる際の位置決めが難しく、また、導電性メッシュのはみ出し部を正確に折り返すことは困難であり、更に、メッシュ切れする恐れもある。 Patent Document 3 discloses an electromagnetic wave shielding light transmission laminate in which an electromagnetic wave shielding material, an outermost antireflection film, and a near infrared cut film are laminated and integrated, and an adhesive material layer is provided as the outermost layer. A film, the edge of the electromagnetic wave shielding material protruding from the edge of the antireflection film and folded back along the edge of the antireflection film to the surface side of the antireflection film, An electromagnetic wave shielding light-transmitting laminated film is disclosed in which a part is fastened to the surface of the antireflection film with a conductive adhesive tape. However, it is difficult to position each layer by laminating and bonding them, and it is difficult to accurately fold back the protruding portion of the conductive mesh, and the mesh may be broken.
上記実情に鑑み、本発明は、導電層が透明樹脂基材のディスプレイパネル側の面に配置され、さらに視聴者側から、当該導電層を容易に接地することができるディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタを提供することを目的とする。 In view of the above circumstances, the present invention provides an electromagnetic wave shielding filter for a display in which a conductive layer is disposed on the surface of the transparent resin base material on the display panel side, and the conductive layer can be easily grounded from the viewer side. The purpose is to do.
本発明者らは、鋭意検討の結果、導電性部材が、電磁波遮蔽層の導電層側の面から透明樹脂基材側の面に周り込む導通路を形成することにより、当該導通路を通して当該電磁波遮蔽層の当該透明樹脂基材側の面から当該導電層を容易に接地することができるという知見を見出し、本発明を完成させるに至った。
すなわち、本発明は、透明樹脂基材の一方の面に透視性導電層を少なくとも中央部に有する導電層を備えた電磁波遮蔽層の、当該導電層側の面に粘着剤層が形成され、当該導電層の周縁部の少なくとも一部に粘着剤層で被覆されていない接地用領域が設けられ、当該接地用領域において、当該導電層と接触する導電性部材が、前記電磁波遮蔽層の当該導電層側の面から当該透明樹脂基材側の面に周り込む導通路を形成していることを特徴とする。
As a result of intensive studies, the inventors of the present invention have formed a conductive path in which the conductive member wraps around the surface of the electromagnetic wave shielding layer from the conductive layer side surface to the transparent resin substrate side surface, whereby the electromagnetic wave passes through the conductive path. The inventors have found that the conductive layer can be easily grounded from the surface of the shielding layer on the transparent resin substrate side, and have completed the present invention.
That is, in the present invention, the pressure-sensitive adhesive layer is formed on the surface of the electromagnetic wave shielding layer including the conductive layer having a transparent conductive layer at least in the center on one surface of the transparent resin substrate, A grounding region that is not covered with an adhesive layer is provided on at least a part of the peripheral portion of the conductive layer, and the conductive member in contact with the conductive layer in the grounding region is the conductive layer of the electromagnetic wave shielding layer. It is characterized in that a conduction path is formed to wrap around from the surface on the side to the surface on the transparent resin substrate side.
本発明によれば、当該導電層と接触する当該導電性部材が、前記電磁波遮蔽層の当該導電層側の面から当該透明樹脂基材側の面に周り込む導通路を形成することにより、当該導通路を通して当該電磁波遮蔽層の当該透明樹脂基材側の面から当該導電層を容易に接地することができる。 According to the present invention, the conductive member in contact with the conductive layer forms a conduction path that goes around from the surface on the conductive layer side of the electromagnetic wave shielding layer to the surface on the transparent resin substrate side. The conductive layer can be easily grounded from the surface of the electromagnetic wave shielding layer on the transparent resin substrate side through the conduction path.
本発明に係るディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタは、前記導電性部材が、金属箔、金属板、金属メッシュ、導電性シート、又は導電性織布であることが好ましい。 In the electromagnetic wave shielding filter for display according to the present invention, the conductive member is preferably a metal foil, a metal plate, a metal mesh, a conductive sheet, or a conductive woven fabric.
本発明に係るディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタは、前記導電性部材が、前記電磁波遮蔽層の前記導電層側の面から前記透明樹脂基材側の面に周り込み、導電性接着剤層を介して当該電磁波遮蔽層に貼り合わされていることが好ましい。 In the electromagnetic wave shielding filter for display according to the present invention, the conductive member wraps around the surface of the electromagnetic wave shielding layer from the surface on the conductive layer side to the surface on the transparent resin base material side, and passes through the conductive adhesive layer. It is preferable to be bonded to the electromagnetic wave shielding layer.
本発明に係るディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタは、前記粘着剤層が、一般式MxWyOz(但し、M元素は、H、He、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、Iのうちから選択される1種類以上の元素、Wはタングステン、Oは酸素、0.001≦x/y≦1.1、2.2≦z/y≦3.0)で表される複合タングステン酸化物微粒子を含有していることが好ましい。 In the electromagnetic wave shielding filter for a display according to the present invention, the pressure-sensitive adhesive layer has a general formula MxWyOz (where M element is H, He, alkali metal, alkaline earth metal, rare earth element, Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, B, F, P, One or more elements selected from S, Se, Br, Te, Ti, Nb, V, Mo, Ta, Re, Be, Hf, Os, Bi, I, W is tungsten, O is oxygen, 0 It is preferable to contain composite tungsten oxide fine particles represented by the following: 0.001 ≦ x / y ≦ 1.1, 2.2 ≦ z / y ≦ 3.0).
本発明に係るディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタは、前記複合タングステン酸化物微粒子の平均分散粒径が800nm以下であることが、可視域の透過率が高く、ヘイズも小さくなる点から好ましい。 In the electromagnetic wave shielding filter for display according to the present invention, it is preferable that the average dispersed particle size of the composite tungsten oxide fine particles is 800 nm or less from the viewpoint of high transmittance in the visible region and low haze.
本発明に係るディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタは、前記複合タングステン酸化物微粒子が、六方晶、正方晶、立方晶のいずれか1種類以上の結晶構造を含むことが、光学特性の耐久性向上の点から好ましい。 In the electromagnetic wave shielding filter for display according to the present invention, the composite tungsten oxide fine particles include one or more crystal structures of hexagonal, tetragonal and cubic crystals from the viewpoint of improving the durability of optical characteristics. preferable.
本発明に係るディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタは、前記複合タングステン酸化物微粒子のM元素が、Cs(セシウム)元素であり、当該複合タングステン酸化物微粒子が六方晶の結晶構造を有することが、光学特性の耐久性向上の点から好ましい。 In the electromagnetic wave shielding filter for a display according to the present invention, the M element of the composite tungsten oxide fine particles is a Cs (cesium) element, and the composite tungsten oxide fine particles have a hexagonal crystal structure. It is preferable from the point of durability improvement.
本発明に係るディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタは、前記複合タングステン酸化物微粒子の表面が、Si、Ti、Zr、Alから選択される1種類以上の元素を含有する酸化物で被覆されていることが、光学特性の耐久性向上の点から好ましい。 In the electromagnetic wave shielding filter for a display according to the present invention, the surface of the composite tungsten oxide fine particles is coated with an oxide containing one or more elements selected from Si, Ti, Zr, and Al. It is preferable from the viewpoint of improving the durability of optical characteristics.
本発明に係るディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタは、前記粘着剤層が、ネオン光吸収剤及び/又は色補正色素を含有していることが好ましい。 In the electromagnetic wave shielding filter for display according to the present invention, the pressure-sensitive adhesive layer preferably contains a neon light absorber and / or a color correction dye.
本発明に係るディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタは、前記透視性導電層が導電性メッシュ層であり、当該導電性メッシュ層の透明樹脂基材側の面に黒化層が形成されており、当該黒化層が、ニッケルと銅と酸素を含む合金からなる黒化層(Ni−Cu−O黒化層)であることが、密着性に優れ、且つ外光吸収を行うのに十分な黒色度を有する点から好ましい。 In the electromagnetic wave shielding filter for display according to the present invention, the transparent conductive layer is a conductive mesh layer, and a blackened layer is formed on the surface of the conductive mesh layer on the transparent resin substrate side. The layer is a blackened layer (Ni-Cu-O blackened layer) made of an alloy containing nickel, copper and oxygen, and has excellent adhesion and sufficient blackness to absorb external light. It is preferable from the point.
本発明のディスプレイ用複合フィルタは、前記ディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタ、及び、反射防止機能、防眩機能、及び耐擦傷機能のいずれか一種もしくは二種以上の機能を有する一層又は二層以上の機能層を積層してなることを特徴とする。
このような複合フィルタは、上記電磁波遮蔽機能に加えて、種々の機能が付加されたディスプレイ用複合フィルタとして用いることができる。
The composite filter for display according to the present invention is the above-described electromagnetic wave shielding filter for display, and one or two or more functional layers having at least one of the antireflection function, the antiglare function, and the scratch resistance function. It is characterized by being laminated.
Such a composite filter can be used as a composite filter for display to which various functions are added in addition to the electromagnetic wave shielding function.
本発明に係るディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタの製造方法は、ディスプレイパネルの前面に設置される電磁波遮蔽フィルタの製造方法であって、
(i)透明樹脂基材の一方の面に、透視性導電層を少なくとも中央部に有する導電層が設けられた、電磁波遮蔽層を準備する工程、
(ii)前記電磁波遮蔽層の導電層側の面に、当該導電層の周縁部の、導電性部材と向き合う所定位置を露出させて粘着剤層を形成する工程、及び
(iii)前記導電層の少なくとも一側縁において、前記導電性部材を前記電磁波遮蔽層の当該導電層側の面から当該透明樹脂基材側の面に周り込ませ、導電性接着剤層を介して貼り合わせる工程を有することを特徴とする。
A method for manufacturing an electromagnetic wave shielding filter for a display according to the present invention is a method for producing an electromagnetic wave shielding filter installed on the front surface of a display panel,
(I) a step of preparing an electromagnetic wave shielding layer provided with a conductive layer having a transparent conductive layer at least in the center on one surface of the transparent resin substrate;
(Ii) forming a pressure-sensitive adhesive layer on a surface on the conductive layer side of the electromagnetic wave shielding layer by exposing a predetermined position of the peripheral portion of the conductive layer facing the conductive member; and (iii) of the conductive layer In at least one side edge, the conductive member has a step of passing from the surface on the conductive layer side of the electromagnetic wave shielding layer to the surface on the transparent resin base material side, and bonding through the conductive adhesive layer It is characterized by.
本発明に係るディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタの製造方法によれば、当該導電層と接触する当該導電性部材が、前記電磁波遮蔽層の当該導電層側の面から当該透明樹脂基材側の面に周り込む導通路を形成しているため、当該導通路を通して当該電磁波遮蔽層の当該透明樹脂基材側の面から当該導電層を容易に接地することができるディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタを得ることができる。 According to the method for manufacturing an electromagnetic wave shielding filter for a display according to the present invention, the conductive member in contact with the conductive layer surrounds the surface on the transparent resin substrate side from the surface on the conductive layer side of the electromagnetic wave shielding layer. Since the conduction path is formed, an electromagnetic wave shielding filter for display that can easily ground the conductive layer from the surface of the electromagnetic wave shielding layer on the transparent resin substrate side through the conduction path can be obtained.
本発明に係るディスプレイ用複合フィルタの製造方法の一態様においては、前記工程(i)において、透明樹脂基材の一方の面に、透視性導電層を少なくとも中央部に有する導電層が設けられた、電磁波遮蔽層の、当該透明樹脂基材の他方の面に反射防止機能、防眩機能、及び耐擦傷機能よりなる群から選択される1種以上の機能を有する一層又は二層以上の機能層が設けられた中間積層体を準備し、前記工程(ii)の後、前記工程(iii)において、前記導電層の少なくとも一側縁において、前記導電性部材を前記電磁波遮蔽層の当該導電層側の面から当該電磁波遮蔽層の当該透明樹脂基材側の面に積層した機能層の最表面に周り込ませ、導電性接着剤層を介して貼り合わせることを特徴とする。 In one aspect of the method for producing a composite filter for display according to the present invention, in the step (i), a conductive layer having a transparent conductive layer at least in the center is provided on one surface of the transparent resin substrate. One layer or two or more functional layers having one or more functions selected from the group consisting of an antireflection function, an antiglare function, and an abrasion resistance function on the other surface of the transparent resin substrate of the electromagnetic wave shielding layer An intermediate laminated body provided with a conductive layer is prepared, and after the step (ii), in the step (iii), at least one side edge of the conductive layer, the conductive member is placed on the conductive layer side of the electromagnetic wave shielding layer. The electromagnetic wave shielding layer is wrapped around the outermost surface of the functional layer laminated on the surface of the electromagnetic wave shielding layer on the transparent resin substrate side, and is bonded through a conductive adhesive layer.
上記態様の製造方法によれば、当該導電層と接触する当該導電性部材が、前記電磁波遮蔽層の当該導電層側の面から当該電磁波遮蔽層の当該透明樹脂基材側の面に積層した機能層の最表面に周り込む導通路を形成しているため、当該導通路を通して当該機能層の最表面から当該導電層を容易に接地することができるディスプレイ用複合フィルタを得ることができる。 According to the manufacturing method of the above aspect, the conductive member in contact with the conductive layer is laminated from the surface of the electromagnetic wave shielding layer on the conductive layer side to the surface of the electromagnetic wave shielding layer on the transparent resin substrate side. Since the conductive path that surrounds the outermost surface of the layer is formed, a composite filter for display that can easily ground the conductive layer from the outermost surface of the functional layer through the conductive path can be obtained.
本発明のディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタは、導電層と接触する導電性部材が、前記電磁波遮蔽層の当該導電層側の面から当該透明樹脂基材側の面に周り込む導通路を形成することにより、当該導通路を通して当該電磁波遮蔽層の当該透明樹脂基材側の面から当該導電層を容易に接地することができ、且つ、この状態での流通を容易に行うことができる。 The electromagnetic wave shielding filter for display according to the present invention is such that a conductive member in contact with the conductive layer forms a conduction path that goes around from the surface on the conductive layer side of the electromagnetic wave shielding layer to the surface on the transparent resin substrate side. The conductive layer can be easily grounded from the surface of the electromagnetic wave shielding layer on the transparent resin substrate side through the conduction path, and can be easily distributed in this state.
本発明のディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタの製造方法によれば、導電層と接触する導電性部材が、前記電磁波遮蔽層の当該導電層側の面から当該透明樹脂基材側の面に周り込む導通路を形成しているため、当該導通路を通して当該電磁波遮蔽層の当該透明樹脂基材側の面から当該導電層を容易に接地することができるディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタを得ることができる。 According to the method for manufacturing an electromagnetic wave shielding filter for a display of the present invention, a conductive path in which a conductive member in contact with a conductive layer wraps around the surface on the transparent resin substrate side from the surface on the conductive layer side of the electromagnetic wave shielding layer. Therefore, an electromagnetic wave shielding filter for display that can easily ground the conductive layer from the surface of the electromagnetic wave shielding layer on the transparent resin substrate side through the conduction path can be obtained.
本発明は、ディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタ、ディスプレイ用複合フィルタ、及びその製造方法を含むものである。以下、それぞれについて詳述する。尚、本発明において「ディスプレイパネル側の面」とは、ディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタを、ディスプレイパネルの前面に配置した際に、透明樹脂基材よりも当該ディスプレイパネル側にくる面をいう。また、「視聴者側の面」とは、当該透明樹脂基材よりも視聴者側にくる面をいう。尚、ディスプレイ用複合フィルタにおいても、同様である。 The present invention includes an electromagnetic wave shielding filter for display, a composite filter for display, and a manufacturing method thereof. Each will be described in detail below. In the present invention, the “surface on the display panel side” means a surface that comes closer to the display panel than the transparent resin base material when the electromagnetic wave shielding filter for display is arranged on the front surface of the display panel. The “viewer side surface” refers to a surface that is closer to the viewer side than the transparent resin base material. The same applies to the composite filter for display.
I.ディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタ
本発明のディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタは、透明樹脂基材の一方の面に透視性導電層を少なくとも中央部に有する導電層を備えた電磁波遮蔽層の、当該導電層側の面に粘着剤層が形成され、当該導電層の周縁部の少なくとも一部に粘着剤層で被覆されていない接地用領域が設けられ、当該接地用領域において、当該導電層と接触する導電性部材が、前記電磁波遮蔽層の当該導電層側の面から当該透明樹脂基材側の面に周り込む導通路を形成していることを特徴とする。
I. Electromagnetic wave shielding filter for display The electromagnetic wave shielding filter for display according to the present invention is an electromagnetic wave shielding layer having a conductive layer having a transparent conductive layer at least in the center on one surface of a transparent resin substrate, on the conductive layer side. An adhesive layer is formed on the surface of the conductive layer, and at least a part of the peripheral edge of the conductive layer is provided with a grounding region that is not covered with the adhesive layer, and the conductive region is in contact with the conductive layer in the grounding region. The member is characterized in that a conductive path is formed that extends from the surface on the conductive layer side of the electromagnetic wave shielding layer to the surface on the transparent resin substrate side.
本発明のディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタは、当該導電層と接触する導電性部材が、前記電磁波遮蔽層の当該導電層側の面から当該透明樹脂基材側の面に周り込む導通路を形成することにより、当該導通路を通して当該電磁波遮蔽層の当該透明樹脂基材側の面から当該導電層を容易に接地することができる。 In the electromagnetic wave shielding filter for display according to the present invention, the conductive member in contact with the conductive layer forms a conduction path that goes around from the surface of the electromagnetic wave shielding layer on the conductive layer side to the surface on the transparent resin substrate side. Thus, the conductive layer can be easily grounded from the surface of the electromagnetic wave shielding layer on the transparent resin substrate side through the conduction path.
本発明に係るディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタの層構成、及び導電層の接地(アース)方法について図面を用いて説明する。
本発明に係るディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタの一例の断面図を図1で概念的に示す。なお、図1の断面図において、説明の容易化のために、厚み方向(図の上下方向)の縮尺を面方向(図の左右方向)の縮尺よりも大幅に拡大誇張し、尚且つ当該電磁波遮蔽フィルタの厚み方向の縮尺をプラズマディスプレイパネル(以下PDPとも称呼)の厚み方向の縮尺よりも大幅に拡大して図示してある。本発明のディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタ1は、透明樹脂基材11の一方の面に導電層14を備えた電磁波遮蔽層から成る。当該導電層14の中央部のPDPの画像表示領域と対峙する領域は、透視性導電層の一形態である導電性メッシュ層とされており、且つ導電性メッシュ層の周縁部の領域はメッシュ非形成の導電層から成る(此の領域が接地用領域に対応する)。当該導電性メッシュ層14側の表面に粘着剤層20が当該導電性メッシュ層14の凹凸を平坦化するように形成されている。当該導電性メッシュ層14は、当該透明樹脂基材11側の面に黒化層13が形成されており、また、当該導電層14は、周縁部の接地用領域の一部15が露出している。また、図1に示すように、導電性部材16が、当該電磁波遮蔽層の当該導電性メッシュ層14周縁部の接地用領域15と接触し、且つ、当該電磁波遮蔽層の当該導電性メッシュ層14側の面から当該透明樹脂基材11側の面に周り込む導通路を形成している。なお、図1において図示していないが、当該導電性部材16と当該電磁波遮蔽層の間に、導電性接着剤層が形成されており、当該導電性部材16は、当該導電性接着剤層を介して当該電磁波遮蔽層に貼合わされている。また、当該導電性部材16の視聴者側の面に、ガスケット17が設けてある。これにより、当該導電性メッシュ層14は、当該導電性部材16を介し、当該ガスケット17からPDP本体に、容易に接地することができる。
ここで本発明におけるガスケットとは、スポンジ状又はゴム状の芯の外側を金属メッシュなどの導電性の材料で覆ったアース基材のことをいう。
本発明に係るディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタ1は、PDP40の前面に配置されれば、直接貼り付けられるものであっても、粘着剤層20を利用して別途光学機能等を有していても良い他の透明樹脂基材シートや硝子基板に貼り付けた上で、PDP40の前面に配置されても良い。
The layer configuration of the electromagnetic wave shielding filter for display according to the present invention and the grounding method of the conductive layer will be described with reference to the drawings.
A sectional view of an example of an electromagnetic wave shielding filter for display according to the present invention is conceptually shown in FIG. In the cross-sectional view of FIG. 1, for ease of explanation, the scale in the thickness direction (vertical direction in the figure) is greatly exaggerated from the scale in the plane direction (horizontal direction in the figure), and the electromagnetic wave The scale in the thickness direction of the shielding filter is shown to be greatly enlarged from the scale in the thickness direction of the plasma display panel (hereinafter also referred to as PDP). The display electromagnetic
Here, the gasket in the present invention refers to an earth base material in which the outside of a sponge-like or rubber-like core is covered with a conductive material such as a metal mesh.
The display electromagnetic
また、図2に示すように、電磁波遮蔽層の透明樹脂基材11側の面に反射防止層30等の機能層が積層されていてもよい。このようなディスプレイ用複合フィルタ2においては、導電性部材16を、当該電磁波遮蔽層の当該導電層14側の面から当該反射防止層30の表面(視聴者側)に周り込ませて、導通路を形成する。
Moreover, as shown in FIG. 2, functional layers, such as the
以下、本発明に用いられるディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタについて、導電性部材、電磁波遮蔽層、及び粘着剤層を順に説明する。 Hereinafter, the conductive member, the electromagnetic wave shielding layer, and the pressure-sensitive adhesive layer will be sequentially described with respect to the electromagnetic wave shielding filter for display used in the present invention.
1.導電性部材
本発明の導電性部材は、電磁波遮蔽層の接地用領域に於いて、導電層から透明樹脂基材側の面に周り込む導通路を形成するための部材である。また、本発明において、当該導電性部材は前記導電層とは独立した別部材である。
導電性部材は、導電性を有する物質であれば特に制限されるものではないが、導電性が良い点で金属が好ましい。導電性材料としては、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、鉄、ニッケル、クロムなどの金属、或いはこれらの金属の合金(例えば、ニッケル−クロム合金)等が挙げられる。
また、本発明に係る導電性部材は、配置のし易さの点から、金属箔、金属板、金属メッシュ、導電性シート、又は導電性織布であることが好ましく、特に、導電性シートが好ましい。尚、ここで、金属の層を厚みに応じ、100μm未満を箔(或いはフィルム)、100μm以上1000μm未満をシート、1000μm以上を板と呼称する。
1. Conductive Member The conductive member of the present invention is a member for forming a conduction path that extends from the conductive layer to the surface on the transparent resin substrate side in the grounding region of the electromagnetic wave shielding layer. In the present invention, the conductive member is a separate member independent of the conductive layer.
The conductive member is not particularly limited as long as it is a substance having conductivity, but a metal is preferable in terms of good conductivity. Examples of the conductive material include metals such as gold, silver, copper, aluminum, iron, nickel, and chromium, or alloys of these metals (for example, nickel-chromium alloy).
In addition, the conductive member according to the present invention is preferably a metal foil, a metal plate, a metal mesh, a conductive sheet, or a conductive woven fabric from the viewpoint of ease of arrangement. preferable. Here, depending on the thickness of the metal layer, a thickness of less than 100 μm is referred to as a foil (or film), a thickness of 100 μm or more and less than 1000 μm is referred to as a sheet, and a thickness of 1000 μm or more is referred to as a plate.
また、図1において図示していないが、前記導電層と前記導電性部材を導通させ、当該導電性部材を前記電磁波遮蔽層に固定するために、当該導電性部材と当該電磁波遮蔽層の間に導電性接着剤層を形成することが好ましい。当該導電性接着剤層は、当該導電性部材と当該電磁波遮蔽層を接着し、導通が可能であれば、その種類等は特に限定されるものではなく、例えば、接着剤層中に導電性微粒子を含有させることにより、導電性接着剤層を形成することができる。 Although not shown in FIG. 1, in order to connect the conductive layer and the conductive member and to fix the conductive member to the electromagnetic wave shielding layer, the conductive layer and the electromagnetic wave shielding layer are interposed between the conductive member and the electromagnetic wave shielding layer. It is preferable to form a conductive adhesive layer. The conductive adhesive layer is not particularly limited as long as the conductive member and the electromagnetic wave shielding layer are bonded to each other and conduction is possible. For example, the conductive fine particles are not limited to the conductive fine particles in the adhesive layer. By containing, a conductive adhesive layer can be formed.
導電性微粒子の具体例としては、金、銀、銅、アルミニウム、鉄、ニッケル、クロムなどの粉体を挙げることができる。 Specific examples of the conductive fine particles include powders such as gold, silver, copper, aluminum, iron, nickel, and chromium.
また、接着剤は、前記導電性微粒子を良好に分散させることができるものであれば特に限定されず、当該導電性接着剤層と隣接する層構成、及び導電性部材によって適宜選択して用いることができる。具体的には、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。また、本発明に用いられる導電性接着剤層は、紫外線硬化型であってもよく、また熱硬化型であってもよい。 The adhesive is not particularly limited as long as it can disperse the conductive fine particles satisfactorily, and is appropriately selected depending on the layer configuration adjacent to the conductive adhesive layer and the conductive member. Can do. Specifically, an acrylic resin, a polyester resin, a polyurethane resin, an epoxy resin, and the like can be given. The conductive adhesive layer used in the present invention may be an ultraviolet curable type or a thermosetting type.
また、本発明に用いられる導電性部材として、例えば、市販の導電性アルミニウムテープ(例、No.8091:製品番号、(株)スリオンテック製)、或いは市販の導電性銅箔テープ(例、No.8781:製品番号、(株)スリオンテック製)等を使用することもできる。 In addition, as the conductive member used in the present invention, for example, a commercially available conductive aluminum tape (eg, No. 8091: product number, manufactured by Sliontec Co., Ltd.) or a commercially available conductive copper foil tape (eg, No. 8781: product number, manufactured by Sliontec Co., Ltd.) and the like can also be used.
2.電磁波遮蔽層
本発明に係る電磁波遮蔽層は、透明樹脂基材の一面側に導電層を備えたものである。当該導電層は、中央部のディスプレイの画像表示領域に対峙する透視性導電層と、其の周縁部に位置する接地用領域(こちらは透視性、不透視性何れでも可能)から成る。
ここで、透視性導電層とは、当該透視性導電層を通して、ディスプレイパネルの表示画像を観賞できる可視光線透過性を有し、且つ、ディスプレイパネルから発生する電磁波を遮蔽できる導電性を有する層のことを意味する。透視性導電層としては、通常、後述の銅等の金属材料等の不透明性の導電性材料を用いて微細なメッシュパターン状に形成した導電性メッシュ層が用いられるが、ITO等の透明導電性材料を用いて非パターン状(開口部無しで全面被覆、ソリッド状)に形成した薄膜を用いることもできる。導電性メッシュ層を用いる場合には、外光反射を抑制するために、導電性メッシュ層の視聴者側の面を黒化処理することが好ましい。以下の説明においては、透視性導電層として導電性メッシュ層を用いた例を説明する。
2. Electromagnetic wave shielding layer The electromagnetic wave shielding layer according to the present invention comprises a conductive layer on one side of a transparent resin substrate. The conductive layer includes a transparent conductive layer facing the image display region of the central display, and a grounding region (which can be transparent or non-transparent) located at the peripheral edge thereof.
Here, the transparent conductive layer is a layer having a visible light transmittance through which the display image of the display panel can be viewed through the transparent conductive layer and a conductive layer capable of shielding electromagnetic waves generated from the display panel. Means that. As the transparent conductive layer, a conductive mesh layer formed in a fine mesh pattern using an opaque conductive material such as a metal material such as copper described later is usually used. It is also possible to use a thin film formed using a material in a non-pattern shape (covering the entire surface without an opening, solid). When using a conductive mesh layer, it is preferable to blacken the viewer-side surface of the conductive mesh layer in order to suppress external light reflection. In the following description, an example in which a conductive mesh layer is used as the transparent conductive layer will be described.
(導電性メッシュ層)
導電性メッシュ層14は、導電性を有することで電磁波遮蔽機能を担える層であり、またそれ自体は不透明性材料からなるが、多数の開口部が存在するメッシュ状の形状に加工することにより、電磁波遮蔽性能と光透過性を両立させている層である。
また、導電性メッシュ層14は、一般的には金属箔のエッチングで形成した物が代表的であるが、これ以外のものでも、電磁波シールド性能に於いては意義を有する。従って、本発明では、導電性メッシュ層の材料及び形成方法は特に限定されるものでは無く、従来公知の光透過性の電磁波遮蔽層に於ける各種導電性メッシュ層を適宜採用できるものである。例えば、印刷法やめっき法等を利用して透明樹脂基材上に最初からメッシュ状の形状で導電性メッシュ層を形成したもの、或いは、最初は透明樹脂基材上に全面に、蒸着、スパッタ、めっき等の1或いは2以上の物理的或いは無電解めっき等の化学的形成手法を用いて非パターン状の透視性導電層を形成後、エッチング加工等でメッシュ状の形状にして導電性メッシュ層としたもの等でも構わない。
(Conductive mesh layer)
The
The
導電性メッシュ層は、電磁波遮蔽性能を発現するに足る導電性を有する物質であれば、特に制限は無いが、通常は、導電性が良い点で金属層が好ましく、金属層は上記のように、蒸着、めっき、金属箔ラミネート等により形成することができる。金属層の金属材料としては、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、鉄、ニッケル、クロム等が挙げられる。また、金属層の金属は合金でも良く、金属層は単層でも多層でも良い。例えば、鉄の場合には、低炭素リムド鋼や低炭素アルミキルド鋼などの低炭素鋼、Ni−Fe合金、インバー合金、等が好ましい。一方、金属が銅の場合は、金属材料は銅や銅合金となり、銅箔としては圧延銅箔や電解銅箔があるが、薄さ及びその均一性、黒化層との密着性等の点からは、電解銅箔が好ましい。 The conductive mesh layer is not particularly limited as long as it is a substance having sufficient conductivity to exhibit electromagnetic wave shielding performance, but usually a metal layer is preferable in terms of good conductivity, and the metal layer is as described above. It can be formed by vapor deposition, plating, metal foil lamination or the like. Examples of the metal material for the metal layer include gold, silver, copper, aluminum, iron, nickel, and chromium. The metal of the metal layer may be an alloy, and the metal layer may be a single layer or a multilayer. For example, in the case of iron, low carbon steel such as low carbon rimmed steel and low carbon aluminum killed steel, Ni-Fe alloy, Invar alloy, and the like are preferable. On the other hand, when the metal is copper, the metal material is copper or a copper alloy. There are rolled copper foil and electrolytic copper foil as the copper foil, but the thinness and uniformity thereof, the adhesion with the blackened layer, etc. Is preferably an electrolytic copper foil.
なお、金属層による導電性メッシュ層の厚さは、1〜50μm程度、好ましくは2〜15μmである。厚さがこれより薄くなり過ぎると電気抵抗上昇により十分な電磁波遮蔽性能を得難くなり、厚さがこれより厚くなり過ぎると高精細なメッシュ形状が得難くなり、メッシュ形状の均一性が低下する。導電性メッシュ層の平坦化を行いやすく、平坦化を行った際に気泡の混入が少なく、透明性に優れた電磁波遮蔽フィルタを得やすい点からは、導電性メッシュ層の厚さは2〜10μm程度であることが好ましい。 In addition, the thickness of the electroconductive mesh layer by a metal layer is about 1-50 micrometers, Preferably it is 2-15 micrometers. If the thickness is too thin, it will be difficult to obtain sufficient electromagnetic shielding performance due to an increase in electrical resistance, and if the thickness is too thick, it will be difficult to obtain a high-definition mesh shape and the uniformity of the mesh shape will be reduced. . The conductive mesh layer has a thickness of 2 to 10 μm because it is easy to flatten the conductive mesh layer, and it is easy to obtain an electromagnetic wave shielding filter excellent in transparency when there is little air bubble mixing. It is preferable that it is a grade.
[メッシュの形状]
なお、導電性メッシュ層のメッシュ状としての形状は、任意で特に限定されないが、そのメッシュの開口部の形状として、正方形が代表的である。開口部の平面視形状は、例えば、正三角形等の三角形、正方形、長方形、菱形、台形等の四角形、六角形等の多角形、或いは、円形、楕円形等である。メッシュはこれら形状からなる複数の開口部を有し、開口部間は通常幅均一のライン状のライン部となり、通常は、開口部及びライン部は全面で同一形状同一サイズである。具体的サイズを例示すれば、開口率及びメッシュの非視認性の点で、開口部間のライン部の幅は5〜30μmが良い。また、開口部サイズは〔ライン間隔或いはラインピッチ〕−〔ライン幅〕であるが、この〔ライン間隔或いはラインピッチ〕で言うと100μm〜500μm、且つ開口率(開口部の面積の合計/メッシュ部の全面積)を50〜97%とするのが、光透過性と電磁波遮蔽性との両立性の点で好ましい。また、ラインピッチは100μm〜500μmの間でランダムでもかまわない。
なお、バイアス角度(メッシュのライン部と電磁波遮蔽層の外周辺との成す角度)は、ディスプレイの画素ピッチや発光特性を考慮して、モアレが出難い角度に適宜設定すれば良い。
[Mesh shape]
The shape of the conductive mesh layer as a mesh shape is not particularly limited, but a square shape is typical as the shape of the opening of the mesh. The planar view shape of the opening is, for example, a triangle such as a regular triangle, a square such as a square, a rectangle, a rhombus, or a trapezoid, a polygon such as a hexagon, a circle, an ellipse, or the like. The mesh has a plurality of openings having these shapes, and the openings are usually line-shaped line portions having a uniform width. Usually, the openings and the line portions have the same shape and the same size on the entire surface. As an example of a specific size, the width of the line portion between the openings is preferably 5 to 30 μm in terms of the aperture ratio and the invisibility of the mesh. The size of the opening is [line interval or line pitch] − [line width]. In terms of this [line interval or line pitch], the opening size is 100 μm to 500 μm, and the opening ratio (the total area of the openings / mesh portion) The total area) is preferably 50 to 97% from the viewpoint of compatibility between light transmittance and electromagnetic wave shielding properties. The line pitch may be random between 100 μm and 500 μm.
Note that the bias angle (the angle formed between the mesh line portion and the outer periphery of the electromagnetic wave shielding layer) may be appropriately set to an angle at which moire is difficult to occur in consideration of the pixel pitch of the display and the light emission characteristics.
[接地用領域とメッシュ領域]
また、導電性メッシュ層14は、図3の平面図で概念的に例示する導電性メッシュ層14のように、その平面方向に於いて、中央部のメッシュ領域141以外に周縁部に接地用領域142を備えた層とするのが、接地をとり易い点でより好ましい。当該接地用領域は画像表示を阻害しない為に、画像表示領域周縁部の一部又は全周に形成する。当該メッシュ領域とは電磁波遮蔽フィルタを適用するディスプレイの画像表示領域を全て覆うことが出来る領域である。当該接地用領域とは接地をとる為の領域である。当該画像表示領域とは、ディスプレイが実質的に画像を表示する領域(実質的画像表示領域)を少なくとも意味するが、ディスプレイを視聴者から見た場合にディスプレイの外枠体による枠の内側全体の領域も便宜上含めた意味としても良い。その理由は、当該枠の内側で且つ実質的画像表示領域の外側に黒い領域(縁取り)が存在する場合、そこは本来画像表示領域外だが、目に触れる以上は外観が実質的画像表示領域と異なるのは違和感が生じるからである。
なお、接地用領域は基本的にはメッシュは不要だが、接地用領域の反り防止等の目的から、開口部から成るメッシュが存在しても良い。
[Grounding area and mesh area]
In addition, the
The grounding region basically does not require a mesh, but a mesh composed of openings may be present for the purpose of preventing warpage of the grounding region.
[黒化処理]
黒化処理は上記導電性メッシュ層の面の光反射を防ぐためのものであり、黒化処理で形成された黒化処理面により、導電性メッシュ層面での外光反射による透視画像の黒レベルの低下を防いで、また、透視画像の明室コントラストを向上させて、ディスプレイの画像の視認性を向上するものである。黒化処理面は、導電性メッシュ層のライン部(線状部分)の全ての面に設けることが好ましいが、本発明では表裏両面のうち少なくとも視聴者側であると共に外光入射側の面を黒化処理面とすることが好ましい。表裏両面や、側面(両側或いは片側)が更に黒化処理されていても良い。黒化層は、少なくとも視聴側に設ければ良いが、ディスプレイ面側にも設ける場合には、ディスプレイから発生する迷光を抑えられるので、さらに、画像の視認性が向上する。
黒化処理としては、黒化層の金属メッキ層面を粗化するか、全可視光スペクトルに亘って光吸収性を付与する(黒化する)か、或いは両者を併用するか、何れかにより行なう。具体的に黒化処理としては、導電性メッシュ層にメッキ等で黒化層を付加的に設ける他、エッチング等で表面から内部に向かって当該表面を構成する層自体を黒化層に変化させても良い。
[Blackening treatment]
The blackening treatment is for preventing light reflection on the surface of the conductive mesh layer, and the black level of the fluoroscopic image due to reflection of external light on the surface of the conductive mesh layer by the blackening treatment surface formed by the blackening treatment. Is reduced, and the bright room contrast of the fluoroscopic image is improved, thereby improving the visibility of the image on the display. The blackening treatment surface is preferably provided on all surfaces of the line portion (linear portion) of the conductive mesh layer, but in the present invention, at least the viewer side and the surface on the outside light incident side of the front and back surfaces are provided. It is preferable to use a blackened surface. Both front and back surfaces and side surfaces (both sides or one side) may be further blackened. The blackening layer may be provided at least on the viewing side. However, when the blackening layer is also provided on the display surface side, stray light generated from the display can be suppressed, and the visibility of the image is further improved.
The blackening treatment is performed by either roughening the metal plating layer surface of the blackening layer, imparting light absorption over the entire visible light spectrum (blackening), or using both in combination. . Specifically, as the blackening treatment, a blackening layer is additionally provided on the conductive mesh layer by plating or the like, and the layer constituting the surface itself is changed from the surface to the inside by etching or the like to the blackening layer. May be.
本発明において黒化層は、黒等の暗色を呈し、密着性等の基本的物性を満足するものであれば良く、公知の黒化層を適宜採用し得る。
従って、黒化層としては、金属等の無機材料、黒着色樹脂等の有機材料等を用いることができ、例えば無機材料としては、金属、合金、金属酸化物、金属硫化物の金属化合物等の金属系の層として形成する。金属系の層の形成法としては、従来公知の各種黒化処理法を適宜採用できる。
In the present invention, the blackened layer is not particularly limited as long as it exhibits a dark color such as black and satisfies basic physical properties such as adhesion, and a known blackened layer can be appropriately employed.
Accordingly, as the blackening layer, an inorganic material such as a metal, an organic material such as a black colored resin, or the like can be used. It is formed as a metal-based layer. As a method for forming the metal layer, various conventionally known blackening methods can be appropriately employed.
本発明の黒化層としては、Ni−Cu−Oの3元素からなる化合物(以下、(Ni−Cu−O)化合物と称する)を用いることが、密着性に優れると共に、エッチング加工適正にも優れ、且つ外光吸収を行うのに十分な黒色度を有する点から好ましい。電磁波遮蔽層への外光を吸収させて、ディスプレイの画像の視認性を向上するために、直接又は他の層を介して透明樹脂基材上に黒化層を形成する。黒化層の形成方法は特に限定されないが、スパッタ法、真空蒸着法などの気相成膜によって好適に形成することができる。堆積速度が速く密着性にすぐれることから特にスパッタ法が好ましい。スパッタ法では、Ni−Cu(ニッケル−銅合金)をターゲットとし、所望量の酸素ガスを供給しながら高電圧をかけてイオン化したアルゴン原子をぶつけて、ターゲットをイオン化して弾き飛ばして透明樹脂基材上に堆積させて黒化層を形成する。本発明に係る黒化層は黒色度が高いため、外光を吸収して外光反射(ぎらつき感)を抑えることができる。 As the blackening layer of the present invention, using a compound composed of three elements of Ni—Cu—O (hereinafter referred to as (Ni—Cu—O) compound) is excellent in adhesion and suitable for etching processing. It is preferable from the viewpoint that it is excellent and has sufficient blackness to absorb external light. In order to absorb the external light to the electromagnetic wave shielding layer and improve the visibility of the image on the display, a blackening layer is formed on the transparent resin substrate directly or via another layer. Although the formation method of a blackening layer is not specifically limited, It can form suitably by vapor phase film-forming, such as a sputtering method and a vacuum evaporation method. Sputtering is particularly preferred because of its high deposition rate and excellent adhesion. In the sputtering method, Ni—Cu (nickel-copper alloy) is used as a target, an argon atom that is ionized by applying a high voltage while supplying a desired amount of oxygen gas is hit, and the target is ionized and blown away to form a transparent resin base. A blackened layer is formed by depositing on the material. Since the blackening layer according to the present invention has high blackness, it can absorb external light and suppress external light reflection (glare feeling).
黒化層の反射Y値としては10以下が好ましい。なお、反射Y値は色度計(CM−3600d ミノルタ製)を用いて観察視野角10度、観察光源D65にて測定する。 The reflection Y value of the blackened layer is preferably 10 or less. The reflection Y value is measured using a chromaticity meter (CM-3600d manufactured by Minolta) with an observation viewing angle of 10 degrees and an observation light source D65.
[防錆層]
導電性メッシュ層としては、必要に応じ適宜その他の層の形成、乃至は処理を施しても良い。例えば、錆びに対する耐久性が不十分な場合は、防錆層を設けると良い。
防錆層は、それで被覆する導電性メッシュ層よりも錆び難いものであれば、金属等の無機材料、樹脂等の有機材料、或いはこれらの組合せ等、特に限定されるものではない。また場合によっては、黒化層をも防錆層で被覆することで、黒化層の粒子の脱落や変形を防止し、黒化層の黒さを高めることもできる。従って、本発明においては、黒化層の脱落や変質防止の点から、黒化層上に防錆層が設けられることが好ましい。
[Rust prevention layer]
As the conductive mesh layer, other layers may be appropriately formed or processed as necessary. For example, when the durability against rust is insufficient, a rust prevention layer may be provided.
The rust preventive layer is not particularly limited as long as it is less likely to rust than the conductive mesh layer covered with it, such as an inorganic material such as metal, an organic material such as resin, or a combination thereof. In some cases, the blackened layer is also covered with a rust-preventing layer, so that the particles of the blackened layer can be prevented from falling off and deformed, and the blackness of the blackened layer can be increased. Therefore, in the present invention, it is preferable to provide a rust-preventing layer on the blackened layer from the viewpoint of preventing the blackened layer from dropping or preventing alteration.
防錆層は、従来公知のものを適宜採用すれば良く、例えば、クロム、亜鉛、ニッケル、スズ、銅等の金属乃至は合金、或いは金属酸化物の金属化合物の層等である。これらは、公知のめっき法等で形成できる。
なお、防錆層の厚さは通常0.001〜2μm程度、好ましくは0.01〜1μmである。
A conventionally well-known thing should just be employ | adopted for a rust prevention layer suitably, for example, is a metal thru | or alloys, such as chromium, zinc, nickel, tin, copper, or the layer of a metal compound of a metal oxide. These can be formed by a known plating method or the like.
In addition, the thickness of a rust prevention layer is about 0.001-2 micrometers normally, Preferably it is 0.01-1 micrometer.
(透明樹脂基材)
透明樹脂基材は電磁波遮蔽層を構成する一部の層であり、必要に応じて粘着剤層を介して導電性メッシュ層を積層するための基材となる層である。
透明樹脂基材は、機械的強度が弱い導電性メッシュ層を補強するための層である。従って、透明樹脂基材としては、機械的強度、光透過性を有すれば、その他、耐熱性等の性能を適宜勘案したものを用途に応じて選択すればよい。このような、透明樹脂基材の具体例としては、樹脂等の有機材料からなるシート(乃至フィルム。以下同様。)が挙げられる。透明樹脂基材の透明性は高いほどよいが、好ましくは可視光域380〜780nmにおける光線透過率が70%以上、より好ましくは80%以上となる光透過性が良い。なお、光透過率の測定は、分光光度計(例えば、(株)島津製作所製 UV−3100PC)を用い、室温、大気中で測定した値を用いることができる。
但し、透明樹脂基材よりもディスプレイパネル側の材料を日光等からの紫外線から保護する必要が有る場合は、透明樹脂基材中に紫外線吸収剤を添加する。紫外線吸収剤としては後述の紫外線吸収層のところで例示のものから適宜選択して用いる。
(Transparent resin base material)
The transparent resin base material is a part of the layer that constitutes the electromagnetic wave shielding layer, and is a layer that becomes a base material for laminating the conductive mesh layer through an adhesive layer as necessary.
The transparent resin substrate is a layer for reinforcing the conductive mesh layer having a low mechanical strength. Therefore, as the transparent resin base material, if it has mechanical strength and light transmittance, a material that appropriately considers performance such as heat resistance may be selected according to the intended use. As a specific example of such a transparent resin base material, a sheet (or film, the same applies hereinafter) made of an organic material such as a resin can be given. The higher the transparency of the transparent resin substrate, the better. However, the light transmittance in the visible light region of 380 to 780 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more. The light transmittance can be measured using a spectrophotometer (for example, UV-3100PC manufactured by Shimadzu Corporation) and a value measured in the air at room temperature.
However, when it is necessary to protect the material closer to the display panel than the transparent resin base material from ultraviolet rays from sunlight or the like, an ultraviolet absorber is added to the transparent resin base material. The ultraviolet absorber is appropriately selected from those exemplified in the ultraviolet absorbing layer described later.
透明樹脂基材の材料として用いる透明樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、テレフタル酸−イソフタル酸−エチレングリコール共重合体、テレフタル酸−シクロヘキサンジメタノール−エチレングリコール共重合体などのポリエステル系樹脂、ナイロン6などのポリアミド系樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、シクロオレフィン重合体などのポリオレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体などのスチレン系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。 Examples of the transparent resin used as the material for the transparent resin substrate include polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, terephthalic acid-isophthalic acid-ethylene glycol copolymer, terephthalic acid-cyclohexanedimethanol-ethylene glycol copolymer Polyester resins such as nylon 6, polyamide resins such as nylon 6, polyolefin resins such as polypropylene, polymethylpentene and cycloolefin polymers, acrylic resins such as polymethyl methacrylate, styrene such as polystyrene and styrene-acrylonitrile copolymers Resin, cellulose resin such as triacetyl cellulose, polycarbonate resin and the like.
なお、これらの樹脂は、単独、又は複数種類の混合樹脂(ポリマーアロイを含む)として用いられ、透明基材の層構成は、単層、又は2層以上の積層体として用いられる。また、樹脂フィルムの場合、1軸延伸や2軸延伸した延伸フィルムが機械的強度の点でより好ましい。 These resins are used alone or as a plurality of types of mixed resins (including polymer alloys), and the layer structure of the transparent substrate is used as a single layer or a laminate of two or more layers. In the case of a resin film, a uniaxially stretched or biaxially stretched film is more preferable in terms of mechanical strength.
透明樹脂基材の厚さは、基本的には用途に応じ選定すればよく、特に制限はないが、通常は12〜1000μm、好ましくは50〜500μm、より好ましくは50〜200μmである。このような厚み範囲ならば、機械的強度が十分で、反り、弛み、破断などを防ぎ、連続帯状で供給して加工する事も容易である。
なお、本発明では、透明樹脂基材としては、樹脂から成るシート(厚み100μm以上1000μm未満)、フィルム(厚み100μm未満)以外に板(厚み1000μm以上)も使用出来る。
The thickness of the transparent resin substrate may be basically selected according to the application and is not particularly limited, but is usually 12 to 1000 μm, preferably 50 to 500 μm, more preferably 50 to 200 μm. Within such a thickness range, the mechanical strength is sufficient, warping, loosening, breakage, etc. are prevented, and it is easy to supply and process in a continuous belt shape.
In the present invention, as the transparent resin substrate, a plate (thickness of 1000 μm or more) can be used in addition to a resin sheet (thickness of 100 μm or more and less than 1000 μm) or a film (thickness of less than 100 μm).
この様な点で、透明樹脂基材の形態としては樹脂板よりは透明樹脂フィルムが好ましい。該樹脂フィルムのなかでも特に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂フィルムが、透明性、耐熱性、コスト等の点で好ましく、より好ましくは2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが最適である。 In this respect, the transparent resin film is preferably a transparent resin film rather than a resin plate. Among these resin films, polyester resin films such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are preferable in terms of transparency, heat resistance, cost, and the like, and more preferably a biaxially stretched polyethylene terephthalate film.
また、透明樹脂基材の樹脂中には、更に必要に応じて適宜、公知の添加剤、例えば、後述の紫外線吸収剤の他、充填剤、可塑剤、帯電防止剤などを本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で加えることができる。 Further, in the resin of the transparent resin base material, a known additive, for example, a UV absorber described later, a filler, a plasticizer, an antistatic agent, and the like are appropriately added as necessary. It can be added without departing from the scope.
また、透明樹脂基材は、その表面に適宜、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー処理、予熱処理、除塵埃処理、蒸着処理、アルカリ処理、などの公知の易接着処理を行ってもよい。 The transparent resin base material is appropriately subjected to known easy adhesion treatment such as corona discharge treatment, plasma treatment, ozone treatment, flame treatment, primer treatment, preheat treatment, dust removal treatment, vapor deposition treatment, alkali treatment, etc. You may go.
(接着剤層)
接着剤層は図1の電磁波遮蔽層において図示していないが、接着剤層(又は粘着剤層)が用いられても良い。接着剤層は、導電性メッシュ層と透明樹脂基材とを接着することが可能な層であれば、その種類等は特に限定されるものではないが、若し、上記導電性メッシュ層を構成する金属箔と透明樹脂基材とを接着剤層を介して貼り合わせた後、金属箔をエッチングによりメッシュ状とする場合は、接着剤層も耐エッチング性を有することが好ましい。具体的には、ポリエステルウレタン、アクリルウレタン、ポリエーテルウレタン等のポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリビニルアルコール単独もしくはその部分鹸化品、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。また、本発明に用いられる接着剤層(又は粘着剤層)は、紫外線硬化型であってもよく、また熱硬化型であってもよい。特に、透明樹脂基材との密着性などの観点からポリウレタン樹脂、アクリル樹脂もしくはポリエステル樹脂が好ましい。
(Adhesive layer)
Although the adhesive layer is not shown in the electromagnetic wave shielding layer of FIG. 1, an adhesive layer (or a pressure-sensitive adhesive layer) may be used. The adhesive layer is not particularly limited as long as it is a layer that can bond the conductive mesh layer and the transparent resin base material, but it constitutes the conductive mesh layer. In the case where the metal foil and the transparent resin base material are bonded to each other via an adhesive layer, and then the metal foil is meshed by etching, the adhesive layer preferably has etching resistance. Specifically, polyurethane resins such as polyester urethane, acrylic urethane, polyether urethane, acrylic resin, polyester resin, polyvinyl alcohol alone or a partially saponified product thereof, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer , Polyimide resin, epoxy resin and the like. The adhesive layer (or pressure-sensitive adhesive layer) used in the present invention may be an ultraviolet curable type or a thermosetting type. In particular, a polyurethane resin, an acrylic resin, or a polyester resin is preferable from the viewpoint of adhesion to a transparent resin substrate.
接着剤層を介してドライラミネーション法等により透明樹脂基材と導電性メッシュ層を形成するための金属箔とを接着することができる。また、この接着剤層の膜厚が0.5μm〜50μmの範囲内、中でも1μm〜20μmであることが好ましい。これにより、透明樹脂基材と導電性メッシュ層とを強固に接着することができ、また、導電性メッシュ層を形成するエッチングの際に透明樹脂基材が塩化鉄等のエッチング液の影響を受けること等を防ぐことができるからである。 The transparent resin base material and the metal foil for forming the conductive mesh layer can be bonded by the dry lamination method or the like through the adhesive layer. Moreover, it is preferable that the film thickness of this adhesive bond layer is in the range of 0.5 μm to 50 μm, especially 1 μm to 20 μm. Thereby, a transparent resin base material and a conductive mesh layer can be firmly bonded, and the transparent resin base material is affected by an etching solution such as iron chloride at the time of etching to form the conductive mesh layer. This is because it can be prevented.
3.粘着剤層
本発明の電磁波遮蔽フィルタにおいて粘着剤層は、当該電磁波遮蔽フィルタのディスプレイパネルへの貼付面として機能する層である。
3. Adhesive Layer In the electromagnetic wave shielding filter of the present invention, the adhesive layer is a layer that functions as an attachment surface of the electromagnetic wave shielding filter to the display panel.
本発明に係る粘着剤層は、一般式MxWyOz(但し、M元素は、H、He、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、Iのうちから選択される1種類以上の元素、Wはタングステン、Oは酸素、0.001≦x/y≦1.1、2.2≦z/y≦3.0)で表
される複合タングステン酸化物微粒子を含有していることが、近赤外線吸収機能を確保する点から好ましい。
The pressure-sensitive adhesive layer according to the present invention has a general formula MxWyOz (where M element is H, He, alkali metal, alkaline earth metal, rare earth element, Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, B, F, P, S, Se, Br, Te, One or more elements selected from Ti, Nb, V, Mo, Ta, Re, Be, Hf, Os, Bi, I, W is tungsten, O is oxygen, 0.001 ≦ x / y ≦ 1 0.1, 2.2 ≦ z / y ≦ 3.0) is preferable from the viewpoint of ensuring a near infrared absorption function.
また、本発明に係る粘着剤層は、ネオン光吸収剤及び/又は色補正色素を含有することが、ネオン光吸収機能及び/又は色補正機能を1層で更に兼務することができるため、好ましい。 In addition, the pressure-sensitive adhesive layer according to the present invention preferably contains a neon light absorber and / or a color correction dye because the neon light absorption function and / or the color correction function can be further combined in one layer. .
(1)複合タングステン酸化物微粒子
前記一般式MxWyOz(但し、M元素は、H、He、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、Iのうちから選択される1種類以上の元素、Wはタングステン、Oは酸素、0.001≦x/y≦1.1、2.2≦z/y≦3.0)で示される複合タングステン酸化物微粒子は、本発明において近赤外線吸収剤として機能し、耐熱性、耐湿性、耐光性が高い。その上、前記複合タングステン酸化物微粒子は、ディスプレイ前面より発生する波長800〜1,100nmの近赤外線帯域全般を当該複合タングステン酸化物微粒子のみで吸収し得るので、更に劣化しやすい有機系近赤外線吸収剤を併用しなくても良い。従って、本発明のディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタによれば、長時間の使用、特に高温下や高湿下での長時間の使用によっても近赤外線吸収剤劣化に帰属される分光特性変化が起こり難い。また、複合タングステン酸化物微粒子は、有機色素に比べて、ガラス板から侵入するナトリウムイオン、或いは導電層乃至は黒化層から侵入する銅イオン、鉄イオン、ニッケルイオン、コバルトイオン等の重金属イオンによる劣化、変質が少ない。其の為、近赤外線吸収剤を使用する場合の様に、色素の劣化防止のために、ディスプレイ表面等のガラス基板、及び導電性メッシュ層等から隔離する必要性がなく、直接粘着剤層に含有させることができるため、積層工程数を減らすことができ生産効率に優れ、少ない積層数で厚みを薄くすることができる。
(1) Composite tungsten oxide fine particles The general formula MxWyOz (wherein M element is H, He, alkali metal, alkaline earth metal, rare earth element, Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, B, F, P, S, Se, Br, Te, One or more elements selected from Ti, Nb, V, Mo, Ta, Re, Be, Hf, Os, Bi, I, W is tungsten, O is oxygen, 0.001 ≦ x / y ≦ 1 .1, 2.2 ≦ z / y ≦ 3.0), the composite tungsten oxide fine particles function as a near infrared absorber in the present invention, and have high heat resistance, moisture resistance, and light resistance. In addition, since the composite tungsten oxide fine particles can absorb the entire near-infrared band with a wavelength of 800 to 1,100 nm generated from the front surface of the display only by the composite tungsten oxide fine particles, the organic near-infrared absorption which is more easily deteriorated. It is not necessary to use the agent in combination. Therefore, according to the electromagnetic wave shielding filter for display of the present invention, the spectral characteristic change attributable to the deterioration of the near-infrared absorber hardly occurs even when used for a long time, particularly for a long time under high temperature or high humidity. In addition, the composite tungsten oxide fine particles are formed by sodium ions penetrating from the glass plate or heavy metal ions such as copper ions, iron ions, nickel ions, cobalt ions penetrating from the conductive layer or the blackening layer as compared with the organic dye. Little deterioration and deterioration. Therefore, as in the case of using near-infrared absorbers, there is no need to separate from the glass substrate, such as the display surface, and the conductive mesh layer, etc. in order to prevent the deterioration of the pigment. Since it can be contained, the number of lamination steps can be reduced, the production efficiency is excellent, and the thickness can be reduced with a small number of laminations.
前記一般式MxWyOzで表記される複合タングステン酸化物微粒子は、六方晶、正方晶、立方晶の結晶構造を有する場合に耐久性に優れることから、当該六方晶、正方晶、立方晶から選ばれる1つ以上の結晶構造を含むことが好ましい。例えば、六方晶の結晶構造を持つ複合タングステン酸化物微粒子の場合であれば、好ましいM元素として、Cs、Rb、K、Tl、In、Ba、Li、Ca、Sr、Fe、Snの各元素から選択される1種類以上の元素を含む複合タングステン酸化物微粒子が挙げられる。中でも、M元素としては、耐久性の点から、Cs(セシウム)であることが好ましい。 The composite tungsten oxide fine particles represented by the general formula MxWyOz are selected from the hexagonal, tetragonal, and cubic crystals because they have excellent durability when they have a hexagonal, tetragonal, or cubic crystal structure. Preferably it contains more than one crystal structure. For example, in the case of composite tungsten oxide fine particles having a hexagonal crystal structure, preferable M elements include Cs, Rb, K, Tl, In, Ba, Li, Ca, Sr, Fe, and Sn. Examples thereof include composite tungsten oxide fine particles containing one or more selected elements. Among them, the M element is preferably Cs (cesium) from the viewpoint of durability.
このとき、添加されるM元素の添加量xは、0.001以上1.0以下が好ましく、更に好ましくは0.33付近が好ましい。これは六方晶の結晶構造から理論的に算出されるxの値が0.33であり、この前後の添加量で好ましい光学特性が得られるからである。一方、酸素の存在量zは、2.2以上3.0以下が好ましい。例えば、Cs0.33WO3、Rb0.33WO3、K0.33WO3、Ba0.33WO3などを挙げることができるが、x、zが上記の範囲に収まるものであれば、有用な近赤外線吸収特性を得ることができる。 At this time, the addition amount x of M element to be added is preferably 0.001 or more and 1.0 or less, and more preferably around 0.33. This is because the value of x calculated theoretically from the hexagonal crystal structure is 0.33, and preferable optical characteristics can be obtained with the addition amount before and after this value. On the other hand, the abundance z of oxygen is preferably 2.2 or more and 3.0 or less. For example, Cs 0.33 WO 3 , Rb 0.33 WO 3 , K 0.33 WO 3 , Ba 0.33 WO 3 and the like can be mentioned, provided that x and z fall within the above ranges. Useful near infrared absorption characteristics can be obtained.
このような複合タングステン酸化物微粒子は、各々単独で使用してもよいが、混合して使用することも好ましい。
また、上記複合タングステン酸化物微粒子の表面を、Si、Ti、Zr、Alのいずれか1種類以上の元素を含有する酸化物で被覆することが、耐候性をより向上させることができる点から、好ましい。
Such composite tungsten oxide fine particles may be used alone or in combination.
In addition, coating the surface of the composite tungsten oxide fine particles with an oxide containing one or more elements of Si, Ti, Zr, and Al can further improve the weather resistance. preferable.
また、複合タングステン酸化物微粒子の平均分散粒子径は、粘着剤層の透明性の点から800nm以下であることが好ましく、更に好ましくは200nm以下、特に好ましくは100nm以下である。なおここでの平均分散粒径は、体積平均粒径をいい、粒度分布・粒子径分布測定装置(例えば、日機装株式会社製、ナノトラック粒度分布測定装置)を用いて測定することができる。 Further, the average dispersed particle size of the composite tungsten oxide fine particles is preferably 800 nm or less, more preferably 200 nm or less, particularly preferably 100 nm or less, from the viewpoint of the transparency of the pressure-sensitive adhesive layer. Here, the average dispersed particle size refers to a volume average particle size, and can be measured using a particle size distribution / particle size distribution measuring device (for example, a nanotrack particle size distribution measuring device manufactured by Nikkiso Co., Ltd.).
複合タングステン酸化物微粒子の含有量は、特に限定されないが、粘着剤層中に、1〜25重量%であることが好ましい。含有量が1重量%より多ければ、十分な近赤外線吸収機能を発現でき、25重量%以下であれば、十分な量の可視光線を透過できる。 Although content of composite tungsten oxide microparticles | fine-particles is not specifically limited, It is preferable that it is 1-25 weight% in an adhesive layer. If the content is more than 1% by weight, a sufficient near-infrared absorbing function can be exhibited, and if it is 25% by weight or less, a sufficient amount of visible light can be transmitted.
(2)ネオン光吸収剤
ネオン光吸収機能は、PDPから放射されるネオン光即ちネオン原子の発光スペクトルを吸収するべく設置される。ネオン光吸収剤が含まれる場合には、少なくともPDPからのオレンジ色発光が抑制可能で、鮮やかな赤色を得ることができる。ネオン光の発光スペクトル帯域は波長550〜640nmの為、ネオン光吸収層として機能する場合の分光透過率は波長590nmにおいて50%以下、更に25%以下になるように設計することが好ましい。ネオン光吸収剤は、少なくとも550〜640nmの波長領域内に吸収極大を有する色素を用いることができる。当該色素の具体例としては、シアニン系、オキソノール系、メチン系、サブフタロシアニン系もしくはポルフィリン系等を挙げることができる。これらの中でもポルフィリン系が好ましい。その中でも特に、特許第3834479号公報に開示されるような、テトラアザポルフィリン系色素が、粘着剤層中でも分散性が良好で、且つ耐熱性、耐湿性、耐光性が良好な点から好ましい。
ネオン光吸収剤の含有量は、特に限定されないが、粘着剤層中に、0.05〜5重量%であることが好ましい。含有量が0.05重量%より多ければ、十分なネオン光吸収機能を発現でき、5重量%以下であれば、十分な量の可視光線を透過できる。
(2) Neon light absorbing agent The neon light absorbing function is installed to absorb neon light emitted from the PDP, that is, the emission spectrum of neon atoms. When a neon light absorber is included, at least orange light emission from the PDP can be suppressed, and a bright red color can be obtained. Since the emission spectrum band of neon light has a wavelength of 550 to 640 nm, the spectral transmittance when functioning as a neon light absorbing layer is preferably designed to be 50% or less, more preferably 25% or less at a wavelength of 590 nm. As the neon light absorber, a dye having an absorption maximum in a wavelength region of at least 550 to 640 nm can be used. Specific examples of the dye include cyanine, oxonol, methine, subphthalocyanine or porphyrin. Of these, porphyrins are preferred. Among them, a tetraazaporphyrin-based dye as disclosed in Japanese Patent No. 3834479 is particularly preferable from the viewpoints of good dispersibility in the pressure-sensitive adhesive layer and good heat resistance, moisture resistance, and light resistance.
Although content of a neon light absorber is not specifically limited, It is preferable that it is 0.05 to 5 weight% in an adhesive layer. If the content is more than 0.05% by weight, a sufficient neon light absorbing function can be exhibited, and if it is 5% by weight or less, a sufficient amount of visible light can be transmitted.
(3)色補正色素
色補正機能とは、PDPからの発光の色純度や色再現範囲、電源OFF時のディスプレイ色などの改善の為にディスプレイ用フィルタの色を調整するために含有するものである。各ディスプレイ毎に色補正機能の要求が異なるため、適宜調整して用いられる。
色補正色素として用いることのできる公知の色素としては、特開2000−275432号公報、特開2001−188121号公報、特開2001−350013号公報、特開2002−131530号公報等に記載の色素が好適に使用できる。更にこのほかにも、黄色光、赤色光、青色光等の可視光を吸収するアントラキノン系、ナフタレン系、アゾ系、フタロシアニン系、ピロメテン系、テトラアザポルフィリン系、スクアリリウム系、シアニン系等の色素を使用することができる。
色補正色素の含有量は、補正すべき色に合わせて適宜調整され、特に限定されない。通常、粘着剤層中に0.01〜10重量%程度含有する。
(3) Color correction pigment The color correction function is used to adjust the color of the display filter to improve the color purity of the light emitted from the PDP, the color reproduction range, and the display color when the power is turned off. is there. Since each display has a different color correction function requirement, the display is appropriately adjusted and used.
Examples of known dyes that can be used as color correction dyes include the dyes described in JP 2000-275432 A, JP 2001-188121 A, JP 2001-350013 A, JP 2002-131530 A, and the like. Can be suitably used. In addition, other dyes such as anthraquinone, naphthalene, azo, phthalocyanine, pyromethene, tetraazaporphyrin, squarylium, and cyanine that absorb visible light such as yellow light, red light, and blue light. Can be used.
The content of the color correction dye is appropriately adjusted according to the color to be corrected and is not particularly limited. Usually, it contains about 0.01 to 10% by weight in the pressure-sensitive adhesive layer.
(4)粘着剤
粘着剤とは、接着剤の1種をいい、接着の際に室温下(例えば、15〜40℃)で、単に適度な、通常、軽く手で押圧する程度の加圧のみにより、表面の粘着性のみで接着可能なものをいう。
本発明において用いられる粘着剤は、上記複合タングステン酸化物微粒子等を含有する場合、当該複合タングステン酸化物微粒子等を均一に分散し、且つ成膜性を与え、更に電磁波遮蔽フィルタの貼付面として機能する。粘着剤は、成膜性と透明性と粘着性と上記複合タングステン酸化物微粒子等の分散性を実現するものであれば特に限定されることなく、粘着剤層と隣接する層構成によって適宜選択して用いることができる。粘着剤層としての透明性は、高いほどよいが、好ましくは可視光域380〜780nmにおける光線透過率が70%以上、より好ましくは80%以上となる光透過性が良い。用いられる粘着剤や厚みを最適化することにより、本発明の粘着剤層は、耐衝撃層としても機能するものである。
(4) Pressure-sensitive adhesive Pressure-sensitive adhesive refers to one type of adhesive, and is only moderately pressured, usually lightly pressed by hand at room temperature (for example, 15 to 40 ° C.) during bonding. According to the above, it can be adhered only by the tackiness of the surface.
When the pressure-sensitive adhesive used in the present invention contains the composite tungsten oxide fine particles and the like, the composite tungsten oxide fine particles and the like are uniformly dispersed, and film-forming properties are imparted, and the adhesive surface of the electromagnetic wave shielding filter functions. To do. The pressure-sensitive adhesive is not particularly limited as long as it achieves film formability, transparency, pressure-sensitive adhesiveness, and dispersibility of the composite tungsten oxide fine particles, and is appropriately selected depending on the layer configuration adjacent to the pressure-sensitive adhesive layer. Can be used. The higher the transparency as the pressure-sensitive adhesive layer is, the better. However, the light transmittance in the visible light region of 380 to 780 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more. By optimizing the pressure-sensitive adhesive used and the thickness, the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention also functions as an impact resistant layer.
また、本発明に用いられる粘着剤は、前記複合タングステン酸化物微粒子を良好に分散させることができるものであることが好ましい。
具体的には、前記複合タングステン酸化物微粒子を樹脂に分散させて、膜厚25μmの塗膜を形成し、JIS K7136に準拠したヘイズ値を測定したときに、ヘイズ値が15以下となるような樹脂を選択し、ヘイズ値が5以下となる混合割合で用いられることが好ましい。当該ヘイズ値はより好ましくは3以下、特に好ましくは2以下である。複合タングステン酸化物微粒子を分散する際に分散を向上するための添加剤を用いる場合には、当該添加剤も合わせて上記ヘイズ値となるような混合割合で樹脂、添加剤が用いられることが好ましい。
The pressure-sensitive adhesive used in the present invention is preferably one that can favorably disperse the composite tungsten oxide fine particles.
Specifically, the composite tungsten oxide fine particles are dispersed in a resin to form a coating film having a film thickness of 25 μm, and when the haze value according to JIS K7136 is measured, the haze value is 15 or less. It is preferable that a resin is selected and used at a mixing ratio at which the haze value is 5 or less. The haze value is more preferably 3 or less, and particularly preferably 2 or less. In the case of using an additive for improving dispersion when dispersing the composite tungsten oxide fine particles, it is preferable that the resin and the additive are used in such a mixing ratio that the above haze value is obtained together with the additive. .
粘着剤としては、例えば、天然ゴム系、合成ゴム系、アクリル樹脂系(以後、アクリル系とも略称)、ポリビニルエーテル系、ウレタン樹脂系、シリコーン樹脂系等が挙げられる。合成ゴム系の具体例としては、スチレン−ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、ポリイソブチレンゴム、イソブチレン−イソプレンゴム、スチレン−イソプレンブロック共重合体、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、スチレン−エチレン−ブチレンブロック共重合体が挙げられる。シリコーン樹脂系の具体例としては、ジメチルポリシロキサン等が挙げられる。これらの粘着剤は、1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of the pressure-sensitive adhesive include natural rubber, synthetic rubber, acrylic resin (hereinafter also abbreviated as acrylic), polyvinyl ether, urethane resin, and silicone resin. Specific examples of synthetic rubbers include styrene-butadiene rubber, acrylonitrile-butadiene rubber, polyisobutylene rubber, isobutylene-isoprene rubber, styrene-isoprene block copolymer, styrene-butadiene block copolymer, styrene-ethylene-butylene block. A copolymer is mentioned. Specific examples of the silicone resin system include dimethylpolysiloxane. These pressure-sensitive adhesives can be used alone or in combination of two or more.
好適に用いられる粘着剤としては、アクリル系粘着剤が挙げられる。アクリル系粘着剤は、少なくとも(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーを含んで重合させたものである。炭素原子数1〜18程度のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーとカルボキシル基を有するモノマーとの共重合体や、炭素原子数1〜18程度のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーの2種以上を用いた共重合体であるのが一般的である。なお、本発明において(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸及び/又はメタクリル酸をいう。 An acrylic adhesive is mentioned as an adhesive suitably used. The acrylic pressure-sensitive adhesive is a polymer containing at least a (meth) acrylic acid alkyl ester monomer. A copolymer of a (meth) acrylic acid alkyl ester monomer having an alkyl group having about 1 to 18 carbon atoms and a monomer having a carboxyl group, or (meth) acrylic acid having an alkyl group having about 1 to 18 carbon atoms A copolymer using two or more kinds of alkyl ester monomers is generally used. In the present invention, (meth) acrylic acid means acrylic acid and / or methacrylic acid.
ここで使用される(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーの例としては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n-プロピル、(メタ)アクリル酸sec-プロピル、(メタ)アクリル酸n-ブチル、(メタ)アクリル酸sec-ブチル、(メタ)アクリル酸tert−ブチル、(メタ)アクリル酸イソアミル、(メタ)アクリル酸n-ヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸n-オクチル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ウンデシル及び(メタ)アクリル酸ラウリル等を挙げることができる。また、上記(メタ)アクリル酸アルキルエステルは、アクリル系粘着剤中に30〜99.5重量部の量で共重合されていることが好ましい。 Examples of (meth) acrylic acid alkyl ester monomers used herein include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, sec-propyl (meth) acrylate, N-butyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, Examples include n-octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, and lauryl (meth) acrylate. Moreover, it is preferable that the said (meth) acrylic-acid alkylester is copolymerized in the quantity of 30-99.5 weight part in the acrylic adhesive.
また、アクリル系粘着剤を形成するカルボキシル基を有するモノマーとしては、(メタ)アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、マレイン酸モノブチル及びβ-カルボキシエチルアクリレート等のカルボキシル基を含有するモノマーを挙げることができる。 Moreover, as a monomer which has a carboxyl group which forms an acrylic adhesive, monomers containing a carboxyl group such as (meth) acrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, monobutyl maleate and β-carboxyethyl acrylate are used. Can be mentioned.
アクリル系粘着剤の市販品としては、例えば、商品名:TU−41A(巴川製紙所製)、商品名:No.591、No.5915、No.5919M、CS9621、LA−50、LA−100、HJ−9210、No.595B(日東電工(株)製)、商品名:SKダインSK2094(綜研化学株式会社製)等が、ヘイズが低くなり、且つ、粘着力の点から、好適に用いられる。 As a commercial item of an acrylic adhesive, for example, trade name: TU-41A (manufactured by Yodogawa Paper Mill), trade name: No. 591, no. 5915, no. 5919M, CS9621, LA-50, LA-100, HJ-9210, No. 595B (manufactured by Nitto Denko Corporation), trade name: SK Dyne SK2094 (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) and the like are preferably used from the viewpoint of low haze and adhesive strength.
(5)その他の成分
本発明における粘着剤層には、所望に応じて、イソシアネート化合物等の架橋剤、粘着付与剤等が含まれていても良い。
また、粘着剤層が、電磁波遮蔽層の導電性メッシュ層に直接積層される実施形態の場合には、粘着剤層には、ベンゾトリアゾール等の酸化防止剤を配合することが好ましい。この場合、上記導電性メッシュ層との界面で、樹脂に含まれ得る酸成分によって導電性メッシュ層が酸化され、色変化が起きるのを防ぐことができる。
その他、粘着剤層には、複合タングステン酸化物微粒子の分散性を向上するための分散剤として各種分散剤や、各種界面活性剤、シランカップリング剤等が含まれていても良い。また、本発明の効果を損なわない限り、複合タングステン酸化物微粒子以外の近赤外線吸収剤を含んでいても良い。複合タングステン酸化物微粒子以外の近赤外線吸収剤としては、上記一般式で表される以外のタングステン酸化物などの無機系近赤外線吸収剤や、フタロシアニン系化合物、ジイモニウム化合物等の有機系近赤外線吸収剤から適宜選択して用いられる。
以上より、本発明の電磁波遮蔽フィルタを得ることができる。
(5) Other components The pressure-sensitive adhesive layer in the present invention may contain a crosslinking agent such as an isocyanate compound, a tackifier, and the like as desired.
In the embodiment in which the pressure-sensitive adhesive layer is directly laminated on the conductive mesh layer of the electromagnetic wave shielding layer, an antioxidant such as benzotriazole is preferably blended in the pressure-sensitive adhesive layer. In this case, it is possible to prevent the conductive mesh layer from being oxidized by an acid component that can be contained in the resin at the interface with the conductive mesh layer and causing a color change.
In addition, the pressure-sensitive adhesive layer may contain various dispersants, various surfactants, silane coupling agents, and the like as dispersants for improving the dispersibility of the composite tungsten oxide fine particles. Moreover, as long as the effect of the present invention is not impaired, a near infrared absorber other than the composite tungsten oxide fine particles may be included. As near infrared absorbers other than the composite tungsten oxide fine particles, inorganic near infrared absorbers such as tungsten oxides other than those represented by the above general formula, and organic near infrared absorbers such as phthalocyanine compounds and diimonium compounds Are appropriately selected and used.
From the above, the electromagnetic wave shielding filter of the present invention can be obtained.
II.ディスプレイ用複合フィルタ
本発明に係るディスプレイ用複合フィルタは、上記ディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタ、及び、反射防止機能、防眩機能、及び耐擦傷機能のいずれか一種もしくは二種以上の機能を有する一層又は二層以上の機能層を積層してなることを特徴とする。
このような複合フィルタは、電磁波遮蔽機能に加えて、種々の機能が付加された、厚みが薄い画像表示装置用前面板として用いることができる。
本発明に用いられる機能層は、反射防止機能、防眩機能、及び耐擦傷機能よりなる群から選択される1種以上の機能を有する層である。また、上記機能層は、単層の他、多層として形成してもよい。なお、上記機能層は、従来の複合フィルタに於いて公知のものを用いてもよい。
II. Composite filter for display The composite filter for display according to the present invention has one or two or more of the above-described electromagnetic wave shielding filter for display, and antireflection function, antiglare function, and scratch resistance function. It is characterized by being formed by laminating functional layers of at least layers.
Such a composite filter can be used as a thin front panel for an image display device to which various functions are added in addition to the electromagnetic wave shielding function.
The functional layer used in the present invention is a layer having one or more functions selected from the group consisting of an antireflection function, an antiglare function, and a scratch resistance function. The functional layer may be formed as a multilayer in addition to a single layer. As the functional layer, a known composite filter may be used.
以下、各機能層について順に説明する。
(1)防眩層
防眩層(Anti Glare層、略称してAG層)は、樹脂バインダ中にシリカなどの無機フィラーを添加した塗膜形成や、或いは賦形版等を用いた賦形加工により、層表面に外光を乱反射する微細凹凸を設けた層として形成することができる。樹脂バインダの樹脂としては、表面層として表面強度が望まれる関係上、硬化性アクリル樹脂や、後記のハードコート層同様に電離放射線硬化性樹脂等が好適に使用される。
Hereinafter, each functional layer will be described in order.
(1) Anti-glare layer Anti-glare layer (Anti Glare layer, abbreviated as AG layer) is a film formation in which an inorganic filler such as silica is added to a resin binder, or a shaping process using a shaping plate, etc. Thus, the layer surface can be formed as a layer provided with fine irregularities for irregularly reflecting external light. As the resin of the resin binder, a curable acrylic resin, an ionizing radiation curable resin, or the like is preferably used in the same manner as the hard coat layer described later because surface strength is desired as the surface layer.
(2)反射防止層
反射防止層(Anti Reflection層、略称してAR層)は、低屈折率層の単層、或いは、低屈折率層と高屈折率層とを、当該低屈折率層が最上層に位置する様に交互に積層した多層構成が一般的であり、蒸着やスパッタ等の乾式成膜法で、或いは塗工等の湿式成膜法も利用して形成することができる。なお、低屈折率層はケイ素酸化物、フッ化マグネシウム、フッ素含有樹脂等が用いられ、高屈折率層には、酸化チタン、硫化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ等が用いられる。尚、ここで高(低)屈折率層とは、当該層と隣接する層(例えば、低(高)屈折率層)と比較して当該層の屈折率が相対的に高(低)いという意味である。
反射防止層に更に耐擦傷機能を付与する場合には、後記する耐擦傷機能(ハードコート)層の項で記載した硬度の高い材料を適宜用いて形成する。
(2) Antireflective layer The antireflective layer (Anti Reflection layer, abbreviated as AR layer) is a single low refractive index layer or a low refractive index layer and a high refractive index layer. A multilayer structure in which layers are alternately stacked so as to be positioned at the uppermost layer is generally used, and can be formed by a dry film formation method such as vapor deposition or sputtering, or by using a wet film formation method such as coating. Note that silicon oxide, magnesium fluoride, fluorine-containing resin, or the like is used for the low refractive index layer, and titanium oxide, zinc sulfide, zirconium oxide, niobium oxide, or the like is used for the high refractive index layer. Here, the high (low) refractive index layer means that the refractive index of the layer is relatively high (low) compared to a layer adjacent to the layer (for example, a low (high) refractive index layer). Meaning.
When the antireflection layer is further provided with a scratch resistance function, the antireflection layer is appropriately formed using a material having high hardness described in the section of the scratch resistance function (hard coat) layer described later.
(3)耐擦傷機能層
耐擦傷機能(ハードコート)層は、JISK5600−5−4(1999)で規定される鉛筆硬度試験で「H」以上の硬度を示すものであることが好ましく、このような硬度と上記透明樹脂基材と同様な透明性を実現できるものであれば、材料は特に限定されない。
耐擦傷機能(ハードコート)層は、例えば、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等の多官能(メタ)アクリレートプレポリマー、或いは、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の3官能以上の多官能(メタ)アクリレートモノマーを単独で或いはこれらの中から2種以上選択して組み合わせて配合した電離放射線硬化性樹脂を用いた塗膜として形成することができる。また、電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤または光重合促進剤として増感剤を添加することができる。なおここで、(メタ)アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味する複合的表記である。耐擦傷機能(ハードコート)は上記材料を必要に応じて溶剤で希釈して上記透明樹脂基材上に塗工等の湿式成膜法により形成することができる。
(3) Scratch-resistant functional layer The scratch-resistant (hard coat) layer preferably exhibits a hardness of “H” or higher in a pencil hardness test specified by JISK5600-5-4 (1999). The material is not particularly limited as long as it can achieve the same hardness and the same transparency as the transparent resin substrate.
The scratch-resistant (hard coat) layer is, for example, a polyfunctional (meth) acrylate prepolymer such as polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, or trimethylolpropane tri (meth) acrylate. , Pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and other polyfunctional (meth) acrylate monomers having three or more functional groups, or a combination of two or more selected from these. It can be formed as a coating film using a curable resin. Further, when the ionizing radiation curable resin is used as an ultraviolet curable resin, a sensitizer can be added as a photopolymerization initiator or a photopolymerization accelerator. Here, (meth) acrylate is a composite notation meaning acrylate or methacrylate. The scratch resistance function (hard coat) can be formed by a wet film formation method such as coating on the transparent resin substrate by diluting the material with a solvent as necessary.
(4)その他の層
その他の層としては、例えば、ネオン光吸収層、色補正層、紫外線吸収層、防汚層等が挙げられる。しかしながら、ネオン光吸収層、色補正層は、生産効率の点から、単独の層として形成されるよりも、前述のように、粘着剤層など他の層にネオン光吸収剤や色補正色素を含有させて、ネオン光吸収層、色補正層を兼用する層とする方が好ましい。単独の層として形成される場合であっても、ネオン光吸収剤や色補正色素としては、上記「4.粘着剤層」において説明したものを用いることができる。
紫外線吸収層は、独立した層であっても良いし、他の機能層に紫外線吸収剤を含有させた、他の機能層と紫外線吸収層を兼ねる層であっても良い。紫外線吸収剤を含有させた透明樹脂基材としては、例えば、帝人(株)製 「テトロンフィルムHBタイプ」(商品名)が挙げられる。
紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物等の有機系化合物、微粒子状の酸化亜鉛、酸化セリウム等からなる無機系化合物からなるものが挙げられる。独立した層とする場合に用いられるバインダ樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂が挙げられる。
防汚層は、一般的に、撥水性、撥油性のコートで、シロキサン系、フッ素化アルキルシリル化合物などが適用できる。撥水性塗料として用いられるフッ素系或いはシリコーン系樹脂を好適に用いることができる。例えば、反射防止層の低屈折率層をSiO2により形成した場合には、フルオロシリケート系撥水性塗料が好ましく用いられる。
(4) Other layers Examples of other layers include a neon light absorption layer, a color correction layer, an ultraviolet absorption layer, and an antifouling layer. However, the neon light absorbing layer and the color correction layer are not formed as a single layer from the viewpoint of production efficiency, but as described above, the neon light absorbing layer and the color correction dye are applied to other layers such as an adhesive layer. It is preferable to contain it as a layer that also serves as a neon light absorption layer and a color correction layer. Even when it is formed as a single layer, the neon light absorber and the color correction pigment described in the above “4. Adhesive layer” can be used.
The ultraviolet absorbing layer may be an independent layer, or may be a layer that functions as an ultraviolet absorbing layer, in which another functional layer contains an ultraviolet absorber. Examples of the transparent resin base material containing an ultraviolet absorber include “Tetron Film HB Type” (trade name) manufactured by Teijin Limited.
Examples of the ultraviolet absorber include organic compounds such as benzotriazole compounds and benzophenone compounds, and inorganic compounds composed of fine zinc oxide, cerium oxide, and the like. Examples of the binder resin used in the case of an independent layer include resins such as a polyester resin, a polyurethane resin, an acrylic resin, and an epoxy resin.
The antifouling layer is generally a water-repellent or oil-repellent coat, and a siloxane-based, fluorinated alkylsilyl compound or the like can be applied. A fluorine-based or silicone-based resin used as a water-repellent paint can be preferably used. For example, when the low refractive index layer of the antireflection layer is formed of SiO 2 , a fluorosilicate water-repellent paint is preferably used.
III.ディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタの製造方法
本発明に係るディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタの製造方法は、ディスプレイパネルの前面に設置される電磁波遮蔽フィルタの製造方法であって、
(i)透明樹脂基材の一方の面に、透視性導電層を少なくとも中央部に有する導電層が設けられた、電磁波遮蔽層を準備する工程、
(ii)前記電磁波遮蔽層の導電層側の面に、当該導電層の周縁部の、導電性部材と向き合う所定位置を露出させて粘着剤層を形成する工程、及び
(iii)前記導電層の少なくとも一側縁において、前記導電性部材を前記電磁波遮蔽層の当該導電層側の面から当該透明樹脂基材側の面に周り込ませ、導電性接着剤層を介して貼り合わせる工程を有することを特徴とする。
III. Method for Producing Electromagnetic Wave Shielding Filter for Display A method for producing an electromagnetic wave shielding filter for display according to the present invention is a method for producing an electromagnetic wave shielding filter installed on the front surface of a display panel,
(I) a step of preparing an electromagnetic wave shielding layer provided with a conductive layer having a transparent conductive layer at least in the center on one surface of the transparent resin substrate;
(Ii) forming a pressure-sensitive adhesive layer on the surface of the electromagnetic wave shielding layer on the conductive layer side by exposing a predetermined position of the peripheral portion of the conductive layer facing the conductive member; and (iii) of the conductive layer In at least one side edge, the conductive member has a step of passing from the surface on the conductive layer side of the electromagnetic wave shielding layer to the surface on the transparent resin base material side, and bonding through the conductive adhesive layer It is characterized by.
本発明に係るディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタの製造方法によれば、当該導電層と接触する当該導電性部材が、前記電磁波遮蔽層の当該導電層側の面から当該透明樹脂基材側の面に周り込む導通路を形成しているため、当該導通路を通して当該電磁波遮蔽層の当該透明樹脂基材側の面から当該導電層を容易に接地することができるディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタを得ることができる。 According to the method for manufacturing an electromagnetic wave shielding filter for a display according to the present invention, the conductive member in contact with the conductive layer surrounds the surface on the transparent resin substrate side from the surface on the conductive layer side of the electromagnetic wave shielding layer. Since the conduction path is formed, an electromagnetic wave shielding filter for display that can easily ground the conductive layer from the surface of the electromagnetic wave shielding layer on the transparent resin substrate side through the conduction path can be obtained.
以下、各工程についてそれぞれ説明する。
(i)透明樹脂基材の一方の面に、透視性導電層を少なくとも中央部に有する導電層が設けられた、電磁波遮蔽層を準備する工程
本工程においては、先ず透明樹脂基材を用意し、この透明樹脂基材の一方の面に導電層を形成する。
尚、上記透明樹脂基材は、「2.電磁波遮蔽層」において説明したものを用いることができる。
透明樹脂基材の一方の面に導電層を設ける方法としては、特に限定されない。例えば、次の4つの方法が挙げられる。
(1)透明樹脂基材フィルムへ導電インキをパターン状に印刷し、形成された導電インキ層の上へ金属メッキする方法(例えば、特開2000−13088号公報)。
(2)透明樹脂基材フィルムへ、導電インキ又は化学メッキ触媒含有感光性塗布液を全面に塗布し、形成された塗布層をフォトリソグラフィー法でメッシュ状とした後に、当該メッシュの上へ金属メッキする方法(例えば、住友大阪セメント株式会社新材料事業部新規材料研究所新材料研究グループ、“光解像性化学メッキ触媒”、[online]、掲載年月日記載なし、住友大阪セメント株式会社、[平成15年1月7日検索]、インターネット〈URL:http://www.socnb.com/product/hproduct/display.html〉)。
(3)透明樹脂基材フィルムと金属箔とを接着剤を介して積層した後に、金属箔をフォトリソグラフィー法でメッシュ状とする方法(例えば、特開平11−145678号公報)。
(4)透明樹脂基材フィルムの一方の面へ、金属薄膜をスパッタ等により形成して導電処理層を形成し、その上に電解メッキにより金属メッキ層として金属層を形成した透明樹脂基材フィルムを準備し、当該金属メッキした透明樹脂基材フィルムの金属メッキ層及び導電処理層を、フォトリソグラフィー法でメッシュ状とする方法(例えば、特許第3502979号公報、特開2004−241761号公報)。
Hereinafter, each step will be described.
(I) Step of preparing an electromagnetic wave shielding layer provided with a conductive layer having a transparent conductive layer at least in the center on one surface of the transparent resin substrate. In this step, first, a transparent resin substrate is prepared. A conductive layer is formed on one surface of the transparent resin substrate.
As the transparent resin substrate, those described in “2. Electromagnetic wave shielding layer” can be used.
The method for providing the conductive layer on one surface of the transparent resin substrate is not particularly limited. For example, there are the following four methods.
(1) A method in which conductive ink is printed in a pattern on a transparent resin substrate film, and metal plating is performed on the formed conductive ink layer (for example, JP-A-2000-13088).
(2) A conductive ink or a chemical plating catalyst-containing photosensitive coating solution is applied to the entire surface of the transparent resin base film, and the formed coating layer is made into a mesh by photolithography, followed by metal plating on the mesh. (For example, Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd., New Materials Division, New Materials Research Laboratory, New Materials Research Group, “Photoresolvable Chemical Plating Catalyst”, [online], date not listed, Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd., [Search on January 7, 2003], Internet <URL: http://www.socnb.com/product/hproduct/display.html>).
(3) A method in which a transparent resin base film and a metal foil are laminated via an adhesive, and then the metal foil is meshed by a photolithography method (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-145678).
(4) A transparent resin substrate film in which a metal thin film is formed on one surface of a transparent resin substrate film by sputtering or the like to form a conductive treatment layer, and a metal layer is formed thereon as a metal plating layer by electrolytic plating. And the metal plating layer and the conductive treatment layer of the metal-plated transparent resin base film are made into a mesh shape by a photolithography method (for example, Japanese Patent No. 3502979, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-241761).
本発明に用いられる電磁波遮蔽層において、図1に示すように、透明樹脂基材側の面が黒化処理されている導電性メッシュ層を作製するには、金属箔を透明樹脂基材に積層する方法を用いる場合、金属箔を予め黒化処理し、黒化処理面を透明樹脂基材側に必要に応じて接着剤等を用いて貼り合わせるようにする。また、メッキ法を用いる場合、透明樹脂基材上に黒化層をメッキにより形成した上に、更に金属層をメッキにより形成する方法等が挙げられる。
斜めから観察する場合の画像の視認性が良い点、機能層形成時の気泡混入が少ない点、工程が短く歩留りが良い点、低コストが可能である点などの点から、導電性メッシュ層の厚みを5μm程度以下と薄くする場合には、上記(4)のメッキ法を用いることが好ましい。
In the electromagnetic wave shielding layer used in the present invention, as shown in FIG. 1, in order to produce a conductive mesh layer whose surface on the transparent resin base material side is blackened, a metal foil is laminated on the transparent resin base material. When using this method, the metal foil is blackened in advance, and the blackened surface is bonded to the transparent resin base material using an adhesive or the like as necessary. Moreover, when using a plating method, after forming the blackening layer by plating on a transparent resin base material, the method of forming a metal layer further by plating, etc. are mentioned.
From the viewpoints of image visibility when observing from an oblique direction, less bubble mixing during functional layer formation, short process, good yield, low cost, etc. When the thickness is reduced to about 5 μm or less, it is preferable to use the plating method (4).
尚、本工程において、「II.ディスプレイ用複合フィルタ」において説明した上記機能層を、当該透明樹脂基材のもう一方の面に塗工等の湿式成膜法やスパッタ等の乾式成膜法の手段により形成しても良い。 In this step, the functional layer described in “II. Composite filter for display” is applied to the other surface of the transparent resin substrate by a wet film formation method such as coating or a dry film formation method such as sputtering. It may be formed by means.
湿式成膜法を用いる場合、上記機能層の各層において述べたような構成材料を必要に応じて溶剤に希釈して層形成用塗工液を調製する。当該層形成用塗工液を、当該透明樹脂基材の一方の面にグラビアリバース法等の各種塗工法により塗工(例えば10g/m2)することにより形成することができる。
また、乾式成膜法を用いる場合、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVD、イオンプレーティング等による気相法が挙げられる。
When the wet film forming method is used, a constituent material as described in each layer of the functional layer is diluted with a solvent as necessary to prepare a layer forming coating solution. The layer-forming coating solution can be formed by coating (for example, 10 g / m 2 ) on one surface of the transparent resin substrate by various coating methods such as a gravure reverse method.
In the case of using a dry film forming method, a vapor phase method such as vacuum deposition, sputtering, plasma CVD, or ion plating can be used.
(ii)前記電磁波遮蔽層の導電層側の面に、当該導電層の周縁部の、導電性部材と向き合う所定位置を露出させて粘着剤層を形成する工程
本工程においては前記電磁波遮蔽層の導電層側の面に、当該導電層の周縁部の、前記導電性部材と向き合う位置を露出させて粘着剤層を形成する。
当該粘着剤層は、例えば、粘着剤と前述したような特定の複合タングステン酸化物微粒子、ネオン光吸収剤、色補正色素を必要に応じて含有する粘着剤層用塗工液を、前記導電層上に塗工する等の湿式成膜法により形成することができる。なお、上記粘着剤は、「3.粘着剤層」において説明したものを用いることができる。
尚、粘着剤層の形成は、少なくとも、前記導電層のうち、中央部の画像表示領域に対峙する透視性導電層(図1に示す代表的形態では、導電性メッシュ層)上に於いて行う。周縁部の接地用領域(図1に示す代表的形態では、メッシュ非形成の層)のうち、少なくとも導電性部材と接触させて接地する部分は、粘着剤を非形成とし、導電層を露出させる。
(Ii) A step of exposing a predetermined position of the peripheral portion of the conductive layer facing the conductive member on the surface on the conductive layer side of the electromagnetic wave shielding layer to form a pressure-sensitive adhesive layer In this step, A pressure-sensitive adhesive layer is formed on the surface on the conductive layer side by exposing the position of the peripheral portion of the conductive layer facing the conductive member.
The pressure-sensitive adhesive layer includes, for example, a pressure-sensitive adhesive layer coating liquid containing, as necessary, specific composite tungsten oxide fine particles, neon light absorbers, and color correction dyes as described above, and the conductive layer. It can be formed by a wet film-forming method such as coating on top. In addition, what was demonstrated in "3. Adhesive layer" can be used for the said adhesive.
The pressure-sensitive adhesive layer is formed at least on the transparent conductive layer (conductive mesh layer in the representative form shown in FIG. 1) facing the central image display region of the conductive layer. . Of the grounding region at the peripheral edge (in the typical form shown in FIG. 1, the non-mesh layer), at least a portion that is brought into contact with the conductive member and grounded is not formed with an adhesive and the conductive layer is exposed. .
粘着剤層は、当該導電層上に直接塗工する以外に、先ず、離型処理されたPETフィルムなどの離型シート上に、一旦、上記粘着剤層用塗工液を塗工、乾燥して形成し、而かる後当該粘着剤層を当該導電層上に接着し、当該離型シートを剥離除去する、所謂転写方式を採用しても良い。この場合、電磁波遮蔽層に貼り合わせられるまで、当該離型シート上に形成された粘着剤層を同様の離型シートを用いて上から保護しておくことが好ましい。 In addition to coating the adhesive layer directly on the conductive layer, first, the adhesive layer coating liquid is first coated and dried on a release sheet such as a PET film that has been subjected to a release treatment. Then, a so-called transfer method may be employed in which the pressure-sensitive adhesive layer is adhered onto the conductive layer and the release sheet is peeled and removed. In this case, it is preferable to protect the pressure-sensitive adhesive layer formed on the release sheet from above using the same release sheet until it is bonded to the electromagnetic wave shielding layer.
特に、前記電磁波遮蔽層の透視性導電層が導電性メッシュから成る場合は、当該導電性メッシュ層面上には当該メッシュの開口部(凹部)内を粘着剤で充填して、当該導電性メッシュ層の凹凸を平坦化し、且つ当該導電性メッシュ層の周縁部の一部を露出させるように、粘着剤層を設ける必要が有る。此の場合には、粘着剤層を間欠塗工する。尚、間欠塗工とは、導電性メッシュ層の周縁部の一部を露出させるために、粘着剤層は全面形成するのではなく、導電層のうち、透視性導電層上、及び必要に応じ、其の周縁部の接地用領域の設置に不使用部分の上にのみ、パターン状に形成する。間欠塗工ではいわゆる塗工法の他、転写を含めた印刷法でも良く、これらは公知の方法から適宜採用することができる。
当該粘着剤層は、当該導電性メッシュ層の凹凸内に空気が入らないように、凹凸部分を完全に埋めつつ、粘着剤層表面が平坦化するように塗工されることが、電磁波遮蔽フィルタの透明性を向上する点から好ましい。また、周縁部の接地用領域(図1に示す代表的形態では、メッシュ非形成の層)のうち、少なくとも導電性部材と接触させて接地する部分は、粘着剤を非形成とし、導電層を露出させる。
In particular, when the transparent conductive layer of the electromagnetic wave shielding layer is made of a conductive mesh, the conductive mesh layer is filled with an adhesive in the opening (concave portion) of the mesh on the surface of the conductive mesh layer. It is necessary to provide a pressure-sensitive adhesive layer so as to flatten the unevenness and to expose a part of the peripheral edge of the conductive mesh layer. In this case, the adhesive layer is intermittently applied. In addition, intermittent coating does not form the entire surface of the adhesive layer in order to expose a part of the peripheral edge of the conductive mesh layer, but on the transparent conductive layer of the conductive layer and as necessary. The pattern is formed only on the non-use portion for the installation of the grounding region at the peripheral edge. In intermittent coating, in addition to the so-called coating method, a printing method including transfer may be used, and these can be appropriately adopted from known methods.
The pressure-sensitive adhesive layer may be coated such that the surface of the pressure-sensitive adhesive layer is flattened while completely filling the uneven portion so that air does not enter the unevenness of the conductive mesh layer. It is preferable from the viewpoint of improving the transparency. In addition, at least a portion that is in contact with the conductive member and is grounded in the grounding region (the non-mesh layer in the typical form shown in FIG. 1) in the peripheral portion is not formed with an adhesive, and the conductive layer is not formed. Expose.
(iii)前記導電層の少なくとも一側縁において、前記導電性部材を前記電磁波遮蔽層の当該導電層側の面から当該透明樹脂基材側の面に周り込ませ、導電性接着剤層を介して貼り合わせる工程
本工程においては、前記導電層の少なくとも一側縁において、導電性部材を当該電磁波遮蔽層の当該導電層側の面から当該透明樹脂基材側の面に周り込ませ、導電性接着剤層を介して貼り合わせる。
上記導電性部材及び導電性接着剤層は、「1.導電性部材」において説明したものを用いることができる。
当該導電性部材の一方の面に導電性接着剤層を形成し、当該導電性部材の当該導電性接着剤層を形成した面を前記電磁波遮蔽層の当該導電層側の面に配置し、当該電磁波遮蔽層の端縁で折り曲げ、貼り合わせる。
また、当該導電性部材として、可撓性を有する導電性シートを用いる場合、予め当該導電性シートを電磁波遮蔽層の一側縁の形状に合わせて折り曲げ、当該電磁波遮蔽層に貼り合わせても良い。
(Iii) At least one side edge of the conductive layer, the conductive member is made to wrap around from the surface on the conductive layer side of the electromagnetic wave shielding layer to the surface on the transparent resin substrate side, and through the conductive adhesive layer In this step, in at least one side edge of the conductive layer, the conductive member is wrapped around from the surface of the electromagnetic wave shielding layer on the side of the conductive layer to the surface on the side of the transparent resin base material, so as to be conductive. Laminate through the adhesive layer.
As the conductive member and the conductive adhesive layer, those described in “1. Conductive member” can be used.
Forming a conductive adhesive layer on one surface of the conductive member, disposing the surface of the conductive member on which the conductive adhesive layer is formed on the surface of the electromagnetic wave shielding layer on the conductive layer side; Bend and bond at the edge of the electromagnetic shielding layer.
Further, when a flexible conductive sheet is used as the conductive member, the conductive sheet may be bent in advance according to the shape of one side edge of the electromagnetic wave shielding layer and bonded to the electromagnetic wave shielding layer. .
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。 The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has any configuration that has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and that exhibits the same effects. Are included in the technical scope.
以下、本発明について実施例を示して具体的に説明する。これらの記載により本発明を制限するものではない。尚、実施例中、部は特に特定しない限り重量部を表す。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. These descriptions do not limit the present invention. In the examples, parts represent parts by weight unless otherwise specified.
<実施例1> <Example 1>
(1)電磁波遮蔽層の製造
透明樹脂基材として、厚さ100μmで連続帯状の無着色透明な2軸延伸ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(A4300:商品名、東洋紡積社製)を用意した。 次に、このPET表面に真空スパッタ法によりニッケルと銅と酸素を含む合金からなる黒化層(Ni−Cu−O黒化層)を形成した。その上に銅蒸着を行い導電層を積層した。尚、シート抵抗は0.01Ω/□であった。
(1) Manufacture of electromagnetic wave shielding layer As a transparent resin base material, a continuous strip-shaped uncolored transparent biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film (A4300: trade name, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 100 μm was prepared. Next, a blackened layer (Ni—Cu—O blackened layer) made of an alloy containing nickel, copper and oxygen was formed on the PET surface by vacuum sputtering. Copper was deposited thereon to laminate a conductive layer. The sheet resistance was 0.01Ω / □.
次いで、上記積層体において、その導電層及び黒化層をフォトリソグラフィー法を利用したエッチングにより、開口部及びライン部とから成るメッシュ状領域から成る透視性導電層を使用するPDPの画像表示領域に対応させて形成し透視性導電層とし、及びメッシュ状領域の4周を囲繞する外縁部に額縁状のメッシュ非形成の接地用領域を有する導電性メッシュ層を形成した。メッシュ形状は開口部が正方形の正方格子であり、線幅は10μm、開口部の間口幅(正方形の辺長)は300μmとした。当該メッシュ形状を有する長方形領域1つがPDPの1画面分に対応する。斯かる長方形のメッシュ状領域が、連続帯状に30mm間隔で一方に配列し、又当該メッシュ状領域の配列の両側には各々幅15mmの余白部を形成し、周縁部の接地用領域の幅を15mmとした。
エッチングは、具体的には、カラーTVシャドウマスク用の製造ラインを利用して、上記積層体に対して、レジスト形成、マスキングからエッチングまでを一貫して行った。すなわち、上記積層体の透視性導電層面全面に感光性のエッチングレジストを塗布後、所望のメッシュパターンのマスクを密着露光し、現像、硬膜処理、ベーキングして、メッシュのライン部に相当する領域上にはレジスト層が残留し、開口部に相当する領域上にはレジスト層が無い様なパターンにレジスト層を加工した後、塩化第二鉄水溶液で、レジスト層非形成領域の導電層及び黒化層を、エッチング除去してメッシュ状の開口部を形成し、次いで、水洗、レジスト剥離、洗浄、乾燥を順次行った。
Next, in the laminated body, the conductive layer and the blackened layer are etched into the image display area of the PDP using the transparent conductive layer composed of the mesh-shaped area including the opening and the line by etching using a photolithography method. A transparent conductive layer was formed correspondingly, and a conductive mesh layer having a frame-shaped mesh-free grounding region on the outer edge surrounding the circumference of the mesh-shaped region was formed. The mesh shape was a square lattice having square openings, the line width was 10 μm, and the opening width (side length of the square) was 300 μm. One rectangular area having the mesh shape corresponds to one screen of the PDP. Such rectangular mesh-like areas are arranged on one side at intervals of 30 mm in the form of a continuous band, and margins having a width of 15 mm are formed on both sides of the arrangement of the mesh-like areas, and the width of the grounding area at the peripheral part is increased. It was 15 mm.
Specifically, the etching was performed consistently from resist formation, masking to etching on the laminate using a production line for a color TV shadow mask. That is, after a photosensitive etching resist is applied to the entire surface of the transparent conductive layer of the laminate, a mask having a desired mesh pattern is closely exposed, developed, hardened, and baked to obtain a region corresponding to a mesh line portion. After the resist layer is processed into a pattern in which the resist layer remains on the region corresponding to the opening and there is no resist layer, the conductive layer and the black in the resist layer non-formation region are washed with an aqueous ferric chloride solution. The chemical layer was removed by etching to form a mesh-shaped opening, followed by sequential washing with water, stripping of the resist, washing and drying.
(2)電磁波遮蔽層の透明樹脂基材側の面に防眩層を積層する工程
防眩層を、前記電磁波遮蔽層の前記透明樹脂基材の他方の面に形成した。具体的には、先ず、電離放射線硬化型樹脂として、ペンタエリスリトールトリアクリレートを70質量部(日本化薬(株)製、屈折率1.49)、イソシアヌル酸EO変性ジアクリレートを30質量部(東亜合成(株)製、屈折率1.51)、アクリル系ポリマー(三菱レイヨン(株)製、分子量75,000)を10.0質量部、光硬化開始剤である商品名イルガキュア184を5.0質量部(チバガイギ(株)製)配合してなる紫外線硬化型樹脂に、更に、透光性微粒子としてスチレンビーズを15.0質量部(綜研化学(株)製、粒径3.5μm、屈折率1.60)、レベリング剤として商品名「10−28」を0.01質量部(ザ・インクテック(株)製)、トルエンを127.5質量部、及び、シクロヘキサノン54.6質量部、を充分混合して塗布液とした。この塗布液を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、防眩層形成用の塗布液を調製した。次に、前記電磁波遮蔽層の透明樹脂基材側の面上に、当該塗布液を、膜厚7μmとなるように塗工した後、50℃のオーブンで加熱乾燥させ、N2雰囲気下でUV照射装置(フュージョンUVシステムジャパン(株)製)のHバルブを光源に用いて紫外線照射して硬化し(積算光量200mj)、防眩層を形成した。
(3)粘着剤層の形成
次に、上記防眩層形成済みで連続帯状の電磁波遮蔽層の導電性メッシュ層側の面に対して、各種光吸収剤を添加した粘着剤層を形成した。アクリル系粘着剤(綜研化学株式会社製、SKダイン2094)100重量部に対して、硬化剤(綜研化学株式会社製、E−5XM)0.25重量部、セシウム含有タングステン酸化物(Cs0.33WO3)含有量18.5重量%懸濁液(住友金属鉱山(株)製、YMF−02;平均分散粒径800nm以下)1.32重量部、ネオン光吸収剤(山田化学株式会社製、TAP−2;テトラアザポルフィリン系色素)0.045重量部、色補正色素(日本化薬株式会社、KAYASET RED A2G)0.3重量部を各々添加し、充分分散させて粘着剤層組成物を調製した。
次に、上記積層体の導電性メッシュ層側の面に対して、ダイコーターにより乾燥時の厚み25μmになるように塗布し、風速5m/secのドライエアーが当たるオーブンにて100℃で1分間乾燥して粘着剤層を形成し、連続帯状の状態で複合フィルタを得た。尚、粘着剤層の面には、更に再剥離可能な離型フィルムを貼り合わせて保護した。
また、粘着剤層の形成は、間欠塗工法によって、導電性メッシュ層の周縁部を囲繞する接地用領域は被覆せずメッシュ領域は被覆するように部分的に形成した。
次に、上記工程により製造した複合フィルタを、PDP1画面分の単位ごとに断裁、枚葉化した。このとき粘着部分の周りに当該導電性メッシュ層の接地用領域が剥き出しになるようにした。
(4)複合フィルタへの導電性部材の貼付け加工
前記複合フィルタの周縁部において、導電性部材として、アルミ箔の片面に導電性を有する粘着剤層が形成されている導電性アルミニウムテープ(No.8091:製品番号、(株)スリオンテック製)を用意し、当該複合フィルタの前記導電性メッシュ層側の面に配置し、当該複合フィルタの端縁で折り曲げ、当該複合フィルタの他方の面に向かって、即ちPDP前面に設置した際に、PDP側の面から視聴者側の面に向かって周り込ませる様に貼付けた。
(5)複合フィルタとPDPの貼合せ
枚葉貼合機(サンテック製)を用いて、PDPの視聴者側の面と前記複合フィルタの導電性メッシュ層側の面とを貼合せた。なお、この時、当該導電性メッシュ層は、当該導通路を通して当該防眩層の視聴者側の面から接地することができる状態になっている。
(2) Step of laminating an antiglare layer on the surface of the electromagnetic wave shielding layer on the transparent resin substrate side An antiglare layer was formed on the other surface of the transparent resin substrate of the electromagnetic wave shielding layer. Specifically, first, as an ionizing radiation curable resin, 70 parts by mass of pentaerythritol triacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., refractive index 1.49), 30 parts by mass of isocyanuric acid EO-modified diacrylate (Toa) 10.0 parts by mass of Synthetic Co., Ltd., refractive index 1.51), acrylic polymer (Mitsubishi Rayon Co., Ltd., molecular weight: 75,000), 5.0 of the trade name Irgacure 184 as a photocuring initiator In addition, 15.0 parts by mass of styrene beads (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., particle size 3.5 μm, refractive index) as an ultraviolet curable resin blended with parts by mass (Ciba Gaigi Co., Ltd.) 1.60), 0.01 part by mass (made by The Inktec Co., Ltd.) as a trade name “10-28” as a leveling agent, 127.5 parts by mass of toluene, and 54.6 parts by mass of cyclohexanone, And a coating solution was thoroughly mixed. This coating solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 30 μm to prepare a coating solution for forming an antiglare layer. Next, the coating solution is applied on the surface of the electromagnetic wave shielding layer on the transparent resin substrate side so as to have a film thickness of 7 μm, and then heated and dried in an oven at 50 ° C., and UV is applied in an N 2 atmosphere. Using an H bulb of an irradiation apparatus (manufactured by Fusion UV System Japan Co., Ltd.) as a light source, it was cured by ultraviolet irradiation (integrated light amount 200 mj) to form an antiglare layer.
(3) Formation of pressure-sensitive adhesive layer Next, a pressure-sensitive adhesive layer to which various light absorbers were added was formed on the surface of the continuous belt-shaped electromagnetic wave shielding layer on which the antiglare layer had been formed. 0.25 parts by weight of a curing agent (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., E-5XM), 100 parts by weight of an acrylic adhesive (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., SK Dyne 2094), cesium-containing tungsten oxide (Cs 0.33 WO3 ) 18.5 wt% suspension (manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd., YMF-02; average dispersed particle size 800 nm or less) 1.32 parts by weight, neon light absorber (manufactured by Yamada Chemical Co., Ltd., TAP- 2; 0.045 parts by weight of tetraazaporphyrin-based dye) and 0.3 parts by weight of color correction dye (Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYASET RED A2G) were added and dispersed sufficiently to prepare an adhesive layer composition. .
Next, it apply | coats with respect to the surface at the side of the electroconductive mesh layer of the said laminated body so that it may become thickness 25micrometer at the time of drying with a die coater, and it is 100 degreeC for 1 minute in the oven which hits dry air with a wind speed of 5 m / sec. The pressure-sensitive adhesive layer was formed by drying, and a composite filter was obtained in a continuous belt-like state. The surface of the pressure-sensitive adhesive layer was further protected by attaching a releasable release film.
The pressure-sensitive adhesive layer was partially formed by an intermittent coating method so as not to cover the grounding region surrounding the periphery of the conductive mesh layer but to cover the mesh region.
Next, the composite filter manufactured by the above process was cut into single sheets for each unit of one PDP screen. At this time, the grounding region of the conductive mesh layer was exposed around the adhesive portion.
(4) Adhesive processing of conductive member to composite filter In the peripheral portion of the composite filter, as a conductive member, a conductive aluminum tape having a conductive adhesive layer formed on one side of an aluminum foil (No. 8091: product number, manufactured by Sliontec Co., Ltd.), arranged on the surface of the composite filter on the side of the conductive mesh layer, bent at the edge of the composite filter, toward the other surface of the composite filter That is, when it was installed on the front surface of the PDP, it was pasted so as to go around from the surface on the PDP side toward the surface on the viewer side.
(5) Bonding of composite filter and PDP Using a single wafer bonding machine (manufactured by Suntec), the viewer side surface of the PDP and the conductive mesh layer side surface of the composite filter were bonded. At this time, the conductive mesh layer can be grounded from the viewer-side surface of the antiglare layer through the conduction path.
<実施例2>
実施例1の複合フィルタの製造において、導電性銅箔テープ(No.8701:製品番号、(株)スリオンテック製)を用いた以外は、前記実施例1と同様にして複合フィルタを得た。
<Example 2>
In the production of the composite filter of Example 1, a composite filter was obtained in the same manner as in Example 1 except that a conductive copper foil tape (No. 8701: product number, manufactured by Sliontec Co., Ltd.) was used.
<比較例1>
上記実施例1の電磁波遮蔽層の透明樹脂基材側の面に防眩層を積層する工程において調製した防眩層形成用塗布液を、透明樹脂基材の一方の面に膜厚7μmとなるように塗工した後、50℃のオーブンで加熱乾燥させ、N2雰囲気下でUV照射装置(フュージョンUVシステムジャパン(株)製)のHバルブを光源に用いて紫外線照射して硬化した(積算光量200mj)。
次に、前記透明樹脂基材の他方の面に、Ne光カット色素、調色色素、及びNIRカット色素を含有させたポリエステル系樹脂バインダを塗布し、乾燥後、さらに粘着剤TU−41A(巴川製紙所製)をラミネートした。この部材を粘着剤付き防眩シートとした。
また、上記実施例1の電磁波遮蔽層の透明樹脂基材側の面に、粘着剤TU−41A(巴川製紙所製)をラミネートした。この部材を粘着剤付き電磁波遮蔽シートとした。
上記電磁波遮蔽シートの導電性メッシュ層に額縁状の剥き出し部が存在するように、前記防眩シートを貼り付けた。なお、この時、額縁状の剥き出し部の導電層から直接接地することができる状態になっている。
<Comparative Example 1>
The coating solution for forming the antiglare layer prepared in the step of laminating the antiglare layer on the surface of the electromagnetic wave shielding layer of Example 1 on the transparent resin substrate side has a film thickness of 7 μm on one surface of the transparent resin substrate. After being coated in such a manner, it was heated and dried in an oven at 50 ° C., and was cured by irradiation with ultraviolet rays using an H bulb of a UV irradiation apparatus (manufactured by Fusion UV System Japan Co., Ltd.) as a light source in an N 2 atmosphere (integration). Light quantity 200 mj).
Next, a polyester resin binder containing Ne light cut dye, toning dye, and NIR cut dye is applied to the other surface of the transparent resin base material, and after drying, an adhesive TU-41A (Yodogawa) Laminate). This member was used as an antiglare sheet with an adhesive.
Further, an adhesive TU-41A (manufactured by Yodogawa Paper Mill) was laminated on the surface of the electromagnetic wave shielding layer of Example 1 on the side of the transparent resin substrate. This member was used as an electromagnetic wave shielding sheet with an adhesive.
The antiglare sheet was attached so that a frame-shaped exposed portion was present on the conductive mesh layer of the electromagnetic wave shielding sheet. At this time, it is in a state where it can be directly grounded from the conductive layer of the frame-shaped exposed portion.
〔評価方法〕
上記、各実施例、及び比較例に対して、以下の点を評価した。その結果を表1に記載する。なお、各実施例、及び比較例に対する、主要部材数についても表1に記載する。
<電磁波シールド性>
42インチ型のプラズマテレビ(パイオニア PDP−435HDL)に、作製した複合フィルタをセットし直し、防眩層側の面に周り込ませた導電性テープにガスケットが接触するようにした。電波暗室にてVCCIの10m法でクラスBが達成できるかを試験した。
〔Evaluation methods〕
The following points were evaluated with respect to the above examples and comparative examples. The results are listed in Table 1. In addition, it describes in Table 1 also about the number of main members with respect to each Example and a comparative example.
<Electromagnetic wave shielding>
The produced composite filter was reset on a 42-inch plasma television (Pioneer PDP-435HDL) so that the gasket was in contact with the conductive tape wrapped around the surface on the antiglare layer side. It was tested whether Class B could be achieved by the VCCI 10 m method in an anechoic chamber.
1 ディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタ
2 ディスプレイ用複合フィルタ
11 透明樹脂基材
13 黒化層
14 導電層(其の中央部が透視性導電層としての導電性メッシュ層)
15 導電性メッシュ層の周縁部の一部(接地用領域)
16 導電性部材
17ガスケット
20 粘着剤層
30 反射防止層
40 プラズマディスプレイパネル(PDP)
141 メッシュ領域
142 接地用領域
DESCRIPTION OF
15 Part of the periphery of the conductive mesh layer (grounding area)
16
141 Mesh area 142 Ground area
Claims (13)
(i)透明樹脂基材の一方の面に、透視性導電層を少なくとも中央部に有する導電層が設けられた、電磁波遮蔽層を準備する工程、
(ii)前記電磁波遮蔽層の導電層側の面に、当該導電層の周縁部の、導電性部材と向き合う所定位置を露出させて粘着剤層を形成する工程、及び
(iii)前記導電層の少なくとも一側縁において、前記導電性部材を前記電磁波遮蔽層の当該導電層側の面から当該透明樹脂基材側の面に周り込ませ、導電性接着剤層を介して貼り合わせる工程、
を有することを特徴とするディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタの製造方法。 A method of manufacturing an electromagnetic wave shielding filter installed on the front surface of a display panel,
(I) a step of preparing an electromagnetic wave shielding layer provided with a conductive layer having a transparent conductive layer at least in the center on one surface of the transparent resin substrate;
(Ii) forming a pressure-sensitive adhesive layer on the surface of the electromagnetic wave shielding layer on the conductive layer side by exposing a predetermined position of the peripheral portion of the conductive layer facing the conductive member; and (iii) of the conductive layer At least at one side edge, the step of causing the conductive member to wrap around from the surface on the conductive layer side of the electromagnetic wave shielding layer to the surface on the transparent resin base material side, and bonding through the conductive adhesive layer,
A method for producing an electromagnetic wave shielding filter for a display, comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007141540A JP2008300393A (en) | 2007-05-29 | 2007-05-29 | Electromagnetic wave shielding filter for display, composite filter and manufacturing method therefor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007141540A JP2008300393A (en) | 2007-05-29 | 2007-05-29 | Electromagnetic wave shielding filter for display, composite filter and manufacturing method therefor |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008300393A true JP2008300393A (en) | 2008-12-11 |
Family
ID=40173669
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007141540A Pending JP2008300393A (en) | 2007-05-29 | 2007-05-29 | Electromagnetic wave shielding filter for display, composite filter and manufacturing method therefor |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008300393A (en) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20160114597A (en) * | 2014-01-31 | 2016-10-05 | 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 | Conductive substrate, conductive substrate laminate, method for producing conductive substrate, and method for producing conductive substrate laminate |
WO2016208654A1 (en) * | 2015-06-26 | 2016-12-29 | 住友金属鉱山株式会社 | Laminate substrate, conductive substrate, method for manufacturing laminate substrate and method for manufacturing conductive substrate |
WO2017057139A1 (en) * | 2015-09-28 | 2017-04-06 | 住友金属鉱山株式会社 | Laminated body substrate, electrically conductive substrate, method for producing laminated body substrate and method for producing electrically conductive substrate |
WO2017065184A1 (en) * | 2015-10-16 | 2017-04-20 | 住友金属鉱山株式会社 | Laminate substrate, method for manufacturing laminate substrate, electroconductive substrate, and method for manufacturing electroconductive substrate |
JP2019192645A (en) * | 2019-06-14 | 2019-10-31 | 大日本印刷株式会社 | Sheet with conductor used for heating plate |
-
2007
- 2007-05-29 JP JP2007141540A patent/JP2008300393A/en active Pending
Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102461565B1 (en) * | 2014-01-31 | 2022-10-31 | 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 | Conductive substrate, conductive substrate laminate, method for producing conductive substrate, and method for producing conductive substrate laminate |
KR20160114597A (en) * | 2014-01-31 | 2016-10-05 | 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 | Conductive substrate, conductive substrate laminate, method for producing conductive substrate, and method for producing conductive substrate laminate |
US10649592B2 (en) | 2015-06-26 | 2020-05-12 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Conductive substrate and method for fabricating conductive substrate |
WO2016208654A1 (en) * | 2015-06-26 | 2016-12-29 | 住友金属鉱山株式会社 | Laminate substrate, conductive substrate, method for manufacturing laminate substrate and method for manufacturing conductive substrate |
JP2017013246A (en) * | 2015-06-26 | 2017-01-19 | 住友金属鉱山株式会社 | Laminate substrate, conductive substrate, method for producing laminate substrate, and method for producing conductive substrate |
KR102383919B1 (en) * | 2015-06-26 | 2022-04-08 | 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 | A laminate substrate, a conductive substrate, a method for manufacturing a laminate substrate, and a method for manufacturing a conductive substrate |
CN107709000B (en) * | 2015-06-26 | 2020-05-19 | 住友金属矿山股份有限公司 | Laminate substrate, conductive substrate, method for producing laminate substrate, and method for producing conductive substrate |
CN107709000A (en) * | 2015-06-26 | 2018-02-16 | 住友金属矿山股份有限公司 | It is laminated the manufacture method of structure base board, conductive board, the manufacture method for being laminated structure base board and conductive board |
KR20180022688A (en) * | 2015-06-26 | 2018-03-06 | 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 | LAMINATE SUBSTRATE, ELECTRONALLIC SUBSTRATE, LAMINATE SUBSTRATE PROCESS AND METHOD |
JP2017064939A (en) * | 2015-09-28 | 2017-04-06 | 住友金属鉱山株式会社 | Laminate substrate, conductive substrate, method for producing laminate substrate, and method for producing conductive substrate |
CN107921747A (en) * | 2015-09-28 | 2018-04-17 | 住友金属矿山股份有限公司 | Lamination structure base board, conductive board, the manufacture method of lamination structure base board, the manufacture method of conductive board |
WO2017057139A1 (en) * | 2015-09-28 | 2017-04-06 | 住友金属鉱山株式会社 | Laminated body substrate, electrically conductive substrate, method for producing laminated body substrate and method for producing electrically conductive substrate |
CN108136731A (en) * | 2015-10-16 | 2018-06-08 | 住友金属矿山株式会社 | Lamination structure base board, the manufacturing method of lamination structure base board, the manufacturing method of conductive board and conductive board |
KR20180066057A (en) * | 2015-10-16 | 2018-06-18 | 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 | LAYERED SUBSTRATE, METHOD OF MANUFACTURING LAMINATE SUBSTRATE |
JP2017074749A (en) * | 2015-10-16 | 2017-04-20 | 住友金属鉱山株式会社 | Laminate substrate, method for producing laminate substrate, conductive substrate, and method for producing conductive substrate |
TWI712506B (en) * | 2015-10-16 | 2020-12-11 | 日商住友金屬礦山股份有限公司 | Laminate substrate, method of manufacturing laminate substrate, conductive substrate, and method of manufacturing conductive substrate |
WO2017065184A1 (en) * | 2015-10-16 | 2017-04-20 | 住友金属鉱山株式会社 | Laminate substrate, method for manufacturing laminate substrate, electroconductive substrate, and method for manufacturing electroconductive substrate |
KR102430694B1 (en) * | 2015-10-16 | 2022-08-08 | 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 | Laminated body substrate, laminated substrate manufacturing method, conductive substrate and conductive substrate manufacturing method |
JP2019192645A (en) * | 2019-06-14 | 2019-10-31 | 大日本印刷株式会社 | Sheet with conductor used for heating plate |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8004763B2 (en) | PDP filter and manufacturing method thereof | |
JP4783721B2 (en) | Metal blackening method, electromagnetic wave shielding filter, composite filter, and display | |
WO2002086848A1 (en) | Electromagnetic wave shielding member and display using the same | |
JP2004140283A (en) | Thin electromagnetic wave shield layered product for display and method for manufacturing the same | |
JP2009031720A (en) | Composite filter for display | |
JP2007095971A (en) | Electromagnetic wave shielding sheet | |
JP2007324524A (en) | Composite filter | |
JP2008311565A (en) | Composite filter for display | |
JP2008300393A (en) | Electromagnetic wave shielding filter for display, composite filter and manufacturing method therefor | |
JP2010079145A (en) | Infrared absorbing laminate and optical filter | |
JP2007266239A (en) | Method of manufacturing sheet-like composite filter for plasma display and sheet-like composite filter for plasma display | |
JP2004333746A (en) | Optical filter | |
JP2008242231A (en) | Viewing angle control film and optical filter for display using same | |
JP2007264579A (en) | Optical filter for display and plasma display | |
JP2008009142A (en) | Composite filter | |
JP2008292745A (en) | Front glass filter for plasma display and method for manufacturing the filter | |
JP2008191395A (en) | Plasma display panel and near infrared ray absorption filter for same | |
JP2008209486A (en) | Composite filter for display | |
JP2010250047A (en) | Near-infrared absorbing film | |
JP5157218B2 (en) | Composite filter for display | |
WO2006057416A1 (en) | Optical filter | |
JP2007264578A (en) | Optical filter for display and plasma display | |
JP2009224591A (en) | Electromagnetic-wave shield filter, and picture display device | |
JP2004333743A (en) | Optical filter | |
JP2008282014A (en) | Filter and display apparatus having the same |