JP2010080654A - Method of manufacturing composite filter - Google Patents

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Yoichiro Ohashi
洋一郎 大橋
Takehiro Yamashita
雄大 山下
Yasuko Sone
康子 曽根
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a composite filter that reduces the increase of haze by preventing the mixing of air bubbles into an adhesive layer without increasing a burden of equipment. <P>SOLUTION: The method of manufacturing a composite filter has (A) a step of preparing a continuous belt-like electromagnetic wave shield sheet which has at least a conductive mesh layer in one surface of a first transparent resin base sheet; (B) a step of preparing a continuous belt-like optical filter with an adhesive layer in one surface of a second transparent resin base sheet to which an optical function is imparted; (C) a step of heating at least the adhesive layer of the continuous belt-like optical filter; (D) a step of obtaining a continuous belt-like composite sheet by cooling at least the adhesive layer of the continuous belt-like optical filter and bonding the surface of the adhesive layer side of the continuous belt-like optical filter to the surface of the conductive mesh layer side of the continuous belt-like electromagnetic wave shield sheet; and (E) a step of dividing the continuous belt-like composite sheet. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、PDP(プラズマディスプレイパネル)などのディスプレイ(画像表示装置)から発生する電磁波を遮蔽(シールド)する電磁波遮蔽シートと光学フィルタとを含んでなる複合フィルタの製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing a composite filter including an electromagnetic wave shielding sheet that shields (shields) electromagnetic waves generated from a display (image display device) such as a PDP (plasma display panel) and an optical filter.

近年、電気電子機器の機能高度化と増加利用に伴い、電磁気的なノイズ妨害(Electro Magnetic Interference;EMI)が増え、陰極線管(CRTという)、プラズマディスプレイパネル(PDPという)などのディスプレイでも電磁波が発生する。この電磁波をシールドするために、ディスプレイ前面に配置する電磁波遮蔽シートが知られている。このような用途に用いる電磁波遮蔽シートでは、電磁波シールド性能と共に光透過性も要求される。そこで、基材に樹脂フィルムやガラス板等の透明基材を用い、この透明基材上に、銅などの金属から成る導電性メッシュ層を形成することにより、光透過性を付与した電磁波遮蔽シートが知られている。   In recent years, with the advancement of functions and increasing use of electrical and electronic equipment, electromagnetic noise interference (EMI) has increased, and electromagnetic waves are also generated in displays such as cathode ray tubes (referred to as CRT) and plasma display panels (referred to as PDP). appear. In order to shield this electromagnetic wave, an electromagnetic wave shielding sheet disposed on the front surface of the display is known. In the electromagnetic wave shielding sheet used for such applications, light transmittance is also required in addition to the electromagnetic wave shielding performance. Therefore, an electromagnetic wave shielding sheet provided with light transmittance by forming a conductive mesh layer made of a metal such as copper on the transparent substrate using a transparent substrate such as a resin film or a glass plate as the substrate. It has been known.

また、ディスプレイ前面より発生する波長800〜1,100nmの近赤外線も、他のVTRなどの機器を誤作動させるので、遮蔽する必要がある。更に、画像表示装置から発生する特定波長の不要な光を遮蔽したり、画像表示装置に必要とされる各種機能を付与したりする機能が求められる場合がある。   In addition, near infrared rays having a wavelength of 800 to 1,100 nm generated from the front of the display also cause other devices such as VTRs to malfunction, and need to be shielded. Further, there is a case where a function for shielding unnecessary light having a specific wavelength generated from the image display device or providing various functions necessary for the image display device is required.

上記機能を実現するために、上記電磁波遮蔽シートと、近赤外線吸収フィルタ、反射防止フィルタ等の複数の光学フィルタとを積層して、画像表示装置から発生する不要な電磁波及び特定波長の光を遮蔽し、且つ画像表示装置に必要とされる各種機能を付与することができる板状の複合フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面板として用いることが検討されている。例えば、電磁波遮蔽シートの導電性メッシュ層側の面に、粘着剤層(接着剤層)を介して、光学フィルタ(機能性フィルム)を貼り合せた構成の複合フィルタがある(特許文献1)。
しかしながら、上記電磁波遮蔽シートと光学フィルタを積層する工程では、上記電磁波遮蔽シートの開口部が凹んでいるため、粘着剤(接着剤)を用いて直接光学フィルタを積層すると、メッシュ開口部内を埋めた粘着剤中に気泡が混入し、該気泡によって画像光が散乱し、ヘイズ(曇価)が上がるという問題があった。
一方、オートクレーブ等を用いて加圧雰囲気下で加熱ラミネート加工をすることにより、得られる複合フィルタの気泡の問題を解消することができるが、その場合は工程数が増え、また、設備負担が増加するという問題がある。
In order to realize the above function, the electromagnetic wave shielding sheet and a plurality of optical filters such as a near-infrared absorption filter and an antireflection filter are laminated to shield unnecessary electromagnetic waves generated from the image display device and light of a specific wavelength. However, it has been studied to use a plate-like composite filter capable of providing various functions required for the image display device as a front plate of the plasma display panel. For example, there is a composite filter having a configuration in which an optical filter (functional film) is bonded to the surface of the electromagnetic shielding sheet on the conductive mesh layer side through an adhesive layer (adhesive layer) (Patent Document 1).
However, in the step of laminating the electromagnetic wave shielding sheet and the optical filter, since the opening of the electromagnetic wave shielding sheet is recessed, when the optical filter is laminated directly using an adhesive (adhesive), the inside of the mesh opening is filled. There was a problem that bubbles were mixed in the pressure-sensitive adhesive, image light was scattered by the bubbles, and haze (cloudiness value) was increased.
On the other hand, the problem of air bubbles in the resulting composite filter can be solved by heating and laminating under a pressurized atmosphere using an autoclave, etc., but in that case, the number of processes increases and the equipment burden increases. There is a problem of doing.

特開2005−277438号公報JP 2005-277438 A

本発明は上記問題点を鑑みてなされたものであり、設備負担を増加させずに、粘着剤層(接着剤層)中への気泡の混入を防ぎ、ヘイズの上昇を抑制することができる複合フィルタの製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and is a composite that can prevent bubbles from entering into the pressure-sensitive adhesive layer (adhesive layer) and suppress an increase in haze without increasing the equipment burden. It aims at providing the manufacturing method of a filter.

本発明者らは、鋭意検討の結果、電磁波遮蔽シートの導電性メッシュ層側の面に、光学フィルタの被着面を向けて、粘着剤層を介して貼り合せる前に、粘着剤層中に含まれる気体を追い出すことにより、上記課題が解決されるという知見を見出し、本発明を完成させるに至った。
すなわち、本発明に係る複合フィルタの製造方法は、
(A)第一の透明樹脂基材シートの一方の面に、導電性メッシュ層を少なくとも有する連続帯状の電磁波遮蔽シートを準備する工程と、
(B)光学機能を付与した第二の透明樹脂基材シートの一方の面に、粘着剤層を有する連続帯状の光学フィルタを準備する工程と、
(C)前記連続帯状の光学フィルタの少なくとも粘着剤層を加熱する工程と、
(D)前記連続帯状の光学フィルタの少なくとも粘着剤層を冷却するとともに、該連続帯状の光学フィルタの粘着剤層側の面を、前記連続帯状の電磁波遮蔽シートの導電性メッシュ層側の面に向けて貼り合わせ、連続帯状の複合シートを得る工程と、
(E)前記連続帯状の複合シートを枚葉化する工程とを有することを特徴とする。
As a result of intensive studies, the present inventors turned the adhesive surface of the optical filter to the surface on the side of the conductive mesh layer of the electromagnetic wave shielding sheet, and bonded the adhesive layer through the adhesive layer. The inventors have found that the above problem can be solved by expelling the contained gas, and have completed the present invention.
That is, the method for manufacturing a composite filter according to the present invention includes:
(A) preparing a continuous band-shaped electromagnetic shielding sheet having at least a conductive mesh layer on one surface of the first transparent resin substrate sheet;
(B) A step of preparing a continuous band-shaped optical filter having an adhesive layer on one surface of the second transparent resin base sheet provided with an optical function;
(C) heating at least the pressure-sensitive adhesive layer of the continuous belt-shaped optical filter;
(D) While cooling at least the pressure-sensitive adhesive layer of the continuous band-shaped optical filter, the surface of the continuous band-shaped optical filter on the pressure-sensitive adhesive layer side is the surface on the conductive mesh layer side of the continuous band-shaped electromagnetic wave shielding sheet. Pasting together to obtain a continuous strip-shaped composite sheet,
(E) A step of forming the continuous strip-shaped composite sheet into sheets.

上記本発明に係る複合フィルタの製造方法によれば、電磁波遮蔽シートの導電性メッシュ層側の面に、光学フィルタの被着面を向けて、粘着剤層を介して貼り合せる前に、該粘着剤層を適度な温度範囲で加熱することにより、該粘着剤層中に含まれる気体を追い出すとともに、該粘着剤層の粘度を下げて、粘着性を高めることができる。次いで、高温に温められた該粘着剤層を冷却することにより、該粘着剤層の粘着性を保持しつつ、該粘着剤層中から気体が発生しないように、又積層体の端縁から粘着剤が漏出しないように制御することができる。従って、該粘着剤層を高温に温めた後、適度な温度に冷却しながら、電磁波遮蔽シートの導電性メッシュ層側の面に、光学フィルタの被着面を向けて貼り合せることにより、該電磁波遮蔽シートと該光学フィルタとの密着性を良好にするとともに、該粘着剤層中に気泡が混入せず、ヘイズの上昇を抑制することができる。また、従来、粘着剤層中への気泡の混入を防ぐために用いられていた、ラミネート後にオートクレーブ等を用いた加圧雰囲気下に置く工程が不要なため、設備負担を削減することができる。   According to the method for manufacturing a composite filter according to the present invention, the adhesive filter surface is attached to the surface of the electromagnetic wave shielding sheet on the conductive mesh layer side, and the adhesion surface of the optical filter is bonded through the adhesive layer. By heating the adhesive layer in an appropriate temperature range, the gas contained in the adhesive layer can be expelled and the viscosity of the adhesive layer can be lowered to increase the adhesiveness. Next, by cooling the pressure-sensitive adhesive layer warmed to a high temperature, the pressure-sensitive adhesive layer is maintained so that no gas is generated from the pressure-sensitive adhesive layer, and the pressure-sensitive adhesive layer is bonded from the edge of the laminate. It can control so that an agent may not leak. Accordingly, after the pressure-sensitive adhesive layer is heated to a high temperature and then cooled to an appropriate temperature, the electromagnetic wave shielding sheet is bonded to the surface on the conductive mesh layer side so that the surface to be attached of the optical filter faces, thereby While improving the adhesiveness of a shielding sheet and this optical filter, a bubble is not mixed in this adhesive layer, but the raise of a haze can be suppressed. In addition, since it is not necessary to place in a pressurized atmosphere using an autoclave after lamination, which has been conventionally used to prevent air bubbles from being mixed into the pressure-sensitive adhesive layer, it is possible to reduce the equipment burden.

本発明に係る複合フィルタの製造方法においては、前記電磁波遮蔽シートが、前記第一の透明樹脂基材シートと、前記導電性メッシュ層との間に、プライマー層を有し、前記プライマー層のうち前記導電性メッシュ層が形成されている部分の厚さは、前記導電性メッシュ層が形成されていない部分の厚さよりも厚くなっているとともに、前記導電性メッシュ層は、前記第一の透明樹脂基材シート表面と平行な仮想面で切断した断面積が、該第一の透明樹脂基材シートからの距離xの減少関数S(x)になっていることが好ましい。
上記導電性メッシュ層は、上記第一の透明樹脂基材シート表面と平行な仮想面で切断した断面積が該透明樹脂基材シートからの距離xの減少関数S(x)になっているので、該導電性メッシュ層上から、光学フィルタの粘着剤層側の面を向けてラミネートする際に、該導電性メッシュ層と該粘着剤層との間の気泡が抜けやすく、該粘着剤層中に気泡が残留しにくくすることができる。
In the method for producing a composite filter according to the present invention, the electromagnetic wave shielding sheet has a primer layer between the first transparent resin base sheet and the conductive mesh layer, The thickness of the portion where the conductive mesh layer is formed is thicker than the thickness of the portion where the conductive mesh layer is not formed, and the conductive mesh layer is the first transparent resin. It is preferable that the cross-sectional area cut | disconnected by the virtual surface parallel to the base material sheet surface is the decreasing function S (x) of the distance x from this 1st transparent resin base material sheet.
In the conductive mesh layer, the cross-sectional area cut by a virtual plane parallel to the surface of the first transparent resin base sheet is a decreasing function S (x) of the distance x from the transparent resin base sheet. The air bubbles between the conductive mesh layer and the pressure-sensitive adhesive layer are easily removed when laminating the surface of the optical filter on the pressure-sensitive adhesive layer side from the conductive mesh layer. It is possible to make it difficult for bubbles to remain.

本発明に係る複合フィルタの製造方法においては、前記プライマー層と前記導電性メッシュ層との界面が交互に入り組んでいるか、及び/又は、前記プライマー層と前記導電性メッシュ層との界面近傍には、該プライマー層に含まれるプライマー成分と該導電性メッシュ層を構成する導電性組成物とが混合する領域が存在するか、及び/又は、前記導電性メッシュ層を構成する導電性組成物中に、前記プライマー層に含まれるプライマー成分が存在することが好ましい。
上記電磁波遮蔽シートの第一の透明樹脂基材シート上のプライマー層と導電性メッシュ層との界面が単純な境界面構造になっていないため、両層の密着性は向上している。また、該電磁波遮蔽シートの製造時において、版面内に充填された導電性組成物の透明樹脂基材シートへの転移(転写)が高い転移率のもとで確実に行われるので、該導電性組成物の転写不良に基づく断線、形状不良、低密着性等の不具合が生じない電磁波遮蔽シートとすることができる。
In the method for producing a composite filter according to the present invention, the interface between the primer layer and the conductive mesh layer is interleaved and / or in the vicinity of the interface between the primer layer and the conductive mesh layer. A region where the primer component contained in the primer layer and the conductive composition constituting the conductive mesh layer are mixed, and / or in the conductive composition constituting the conductive mesh layer The primer component contained in the primer layer is preferably present.
Since the interface between the primer layer and the conductive mesh layer on the first transparent resin base sheet of the electromagnetic wave shielding sheet is not a simple interface structure, the adhesion between both layers is improved. Further, when the electromagnetic wave shielding sheet is produced, since the transfer (transfer) of the conductive composition filled in the plate surface to the transparent resin base sheet is reliably performed under a high transfer rate, the conductivity It can be set as the electromagnetic wave shielding sheet which does not produce malfunctions, such as a disconnection based on the transfer defect of a composition, a shape defect, and low adhesiveness.

本発明の複合フィルタの製造方法は、電磁波遮蔽シートの導電性メッシュ層側の面に、光学フィルタの被着面を向けて、粘着剤層を介して貼り合せる前に、該粘着剤層を特定の温度範囲で加熱することにより、該粘着剤層中に含まれる気体を追い出すとともに、該粘着剤層の粘度を下げて、粘着性を高めることができる。次いで、高温に温められた該粘着剤層を特定の温度範囲で冷却することにより、該粘着剤層の粘着性を保持しつつ、該粘着剤層中から気体が発生しないように制御することができる。従って、該粘着剤層を高温に温めた後、適度な温度に冷却しながら、電磁波遮蔽シートの導電性メッシュ層側の面に、光学フィルタの基材側の面を向けて貼り合せることにより、該電磁波遮蔽シートと該光学フィルタとの密着性を良好にするとともに、該粘着剤層中に気泡が混入せず、ヘイズの上昇を抑制することができる。また、従来、粘着剤層中への気泡の混入を防ぐために用いられていた、オートクレーブ等を用いた真空雰囲気下で加熱ラミネートする工程が不要なため、設備負担を削減することができる。   The method for producing a composite filter according to the present invention specifies the adhesive layer before attaching the optical filter to the surface on the conductive mesh layer side of the electromagnetic wave shielding sheet and bonding the adhesive layer through the adhesive layer. By heating in this temperature range, the gas contained in the pressure-sensitive adhesive layer can be expelled and the viscosity of the pressure-sensitive adhesive layer can be lowered to increase the pressure-sensitive adhesiveness. Next, by cooling the pressure-sensitive adhesive layer heated to a high temperature in a specific temperature range, it is possible to control the pressure-sensitive adhesive layer so that no gas is generated while maintaining the pressure-sensitive adhesive layer. it can. Therefore, by heating the pressure-sensitive adhesive layer to a high temperature and then cooling it to an appropriate temperature, the surface of the electromagnetic wave shielding sheet on the side of the conductive mesh layer is bonded to the surface on the base side of the optical filter, While improving the adhesiveness of this electromagnetic wave shielding sheet and this optical filter, a bubble is not mixed in this adhesive layer, but the raise of a haze can be suppressed. Moreover, since the process of heating and laminating in a vacuum atmosphere using an autoclave or the like, which has been conventionally used for preventing air bubbles from being mixed into the pressure-sensitive adhesive layer, is unnecessary, the equipment burden can be reduced.

本発明に係る複合フィルタの製造方法は、(A)第一の透明樹脂基材シートの一方の面に、導電性メッシュ層を少なくとも有する連続帯状の電磁波遮蔽シートを準備する工程と、(B)光学機能を付与した第二の透明樹脂基材シートの一方の面に、粘着剤層を有する連続帯状の光学フィルタを準備する工程と、(C)前記連続帯状の光学フィルタの少なくとも粘着剤層を加熱する工程と、(D)前記連続帯状の光学フィルタの少なくとも粘着剤層を冷却するとともに、該連続帯状の光学フィルタの粘着剤層側の面を、前記連続帯状の電磁波遮蔽シートの導電性メッシュ層側の面に向けて貼り合わせ、連続帯状の複合シートを得る工程と、(E)前記連続帯状の複合シートを枚葉化する工程とを有することを特徴とする。   The method for producing a composite filter according to the present invention includes (A) a step of preparing a continuous band-shaped electromagnetic wave shielding sheet having at least a conductive mesh layer on one surface of a first transparent resin base sheet, and (B). A step of preparing a continuous band-shaped optical filter having an adhesive layer on one surface of the second transparent resin substrate sheet imparted with an optical function; and (C) at least an adhesive layer of the continuous band-shaped optical filter. A step of heating; (D) cooling at least the pressure-sensitive adhesive layer of the continuous band-shaped optical filter, and the surface of the continuous band-shaped optical filter on the pressure-sensitive adhesive layer side is electrically conductive mesh of the continuous band-shaped electromagnetic wave shielding sheet It is characterized by having a step of obtaining a continuous strip-shaped composite sheet by laminating toward the layer-side surface, and a step (E) of making the continuous strip-shaped composite sheet into a single sheet.

以下、本発明の複合フィルタの製造方法について説明する。
(A)連続帯状の電磁波遮蔽シートを準備する工程
工程(A)は、第一の透明樹脂基材シートの一方の面に、導電性メッシュ層を少なくとも有する連続帯状の電磁波遮蔽シートを準備する工程である。
本工程においては、先ず、第一の透明樹脂基材シート(以下、単に「透明樹脂基材シート」ともいう)を用意し、この透明樹脂基材シートの一方の面に、導電性メッシュ層を形成する。導電性メッシュ層を形成する方法は、特に限定されず、例えば、以下の4つの方法が挙げられる。
(1)導電性インキ組成物をメッシュパターンで転写体に凹版印刷し、転写体上のメッシュパターンを透明樹脂基材シート上に転写し、該透明樹脂基材シート上のメッシュパターンに金属層を電気めっきする方法(例えば、特開2000−13088号公報、特開2001−102792号公報、PCT/JP2008/60427明細書)。
(2)透明樹脂基材シートへ、導電インキ又は化学メッキ触媒含有感光性塗布液を全面に塗布し、該塗布層をフォトリソグラフィー法でメッシュ状とした後に、該メッシュの上へ金属メッキする方法(例えば、住友大阪セメント株式会社新材料事業部新規材料研究所新材料研究グループ、‘‘光解像性化学メッキ触媒’’、[online]、掲載年月日記載なし、住友大阪セメント株式会社、[平成15年1月7日検索]、インターネット〈URL:http://www.socnb.com/product/hproduct/display.html〉)。
(3)透明樹脂基材シートと金属箔とを必要に応じて接着剤を用いて積層した後に、金属箔をフォトリソグラフィー法でメッシュ状とする方法(例えば、特開平11−145678号公報)。
(4)透明樹脂基材シートの一方の面へ、金属薄膜をスパッタ等により形成して導電処理層を形成し、その上に電解メッキにより金属メッキ層として金属層を形成した透明樹脂基材シートを準備し、該金属メッキした透明樹脂基材シートの金属メッキ層及び導電処理層を、フォトリソグラフィー法でメッシュ状とする方法(例えば、特許第3502979号公報、特開2004−241761号公報)。
Hereinafter, the manufacturing method of the composite filter of this invention is demonstrated.
(A) Step of preparing a continuous belt-shaped electromagnetic shielding sheet Step (A) is a step of preparing a continuous strip of electromagnetic shielding sheet having at least a conductive mesh layer on one surface of the first transparent resin substrate sheet. It is.
In this step, first, a first transparent resin base sheet (hereinafter also simply referred to as “transparent resin base sheet”) is prepared, and a conductive mesh layer is formed on one surface of the transparent resin base sheet. Form. The method for forming the conductive mesh layer is not particularly limited, and examples thereof include the following four methods.
(1) Intaglio printing the conductive ink composition on a transfer body with a mesh pattern, transferring the mesh pattern on the transfer body onto a transparent resin base sheet, and applying a metal layer to the mesh pattern on the transparent resin base sheet A method of electroplating (for example, JP 2000-13088 A, JP 2001-102792 A, PCT / JP2008 / 60427).
(2) A method in which a conductive ink or a photosensitive coating solution containing a chemical plating catalyst is applied to the entire surface of a transparent resin base sheet, the coating layer is meshed by a photolithography method, and then metal plating is performed on the mesh. (For example, Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd., New Materials Division, New Materials Research Institute, New Materials Research Group, “Photoresolvable Chemical Plating Catalyst”, [online], date not listed, Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd., [Search on January 7, 2003], Internet <URL: http://www.socnb.com/product/hproduct/display.html>).
(3) A method in which a transparent resin base sheet and a metal foil are laminated using an adhesive as necessary, and then the metal foil is meshed by a photolithography method (for example, JP-A-11-145678).
(4) A transparent resin substrate sheet in which a metal thin film is formed on one surface of the transparent resin substrate sheet by sputtering or the like to form a conductive treatment layer, and a metal layer is formed thereon as a metal plating layer by electrolytic plating. In which the metal plating layer and the conductive treatment layer of the transparent resin base sheet subjected to metal plating are formed into a mesh by a photolithography method (for example, Japanese Patent No. 3502979, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-241761).

本発明においては、上記透明樹脂基材シートの一方の面に上記導電性メッシュ層を形成する前に、プライマー層を形成してもよい。該透明樹脂基材シートの一面に、該プライマー層を形成する方法としては、例えば、湿式成膜法を用いる場合、プライマー層用樹脂組成物を連続帯状の透明樹脂基材シートの一方の面にグラビアリバース法等の各種塗工法により塗工(例えば10g/m)することにより形成することができる。 In the present invention, a primer layer may be formed before forming the conductive mesh layer on one surface of the transparent resin substrate sheet. As a method for forming the primer layer on one surface of the transparent resin substrate sheet, for example, when using a wet film forming method, the primer layer resin composition is applied to one surface of the continuous transparent resin substrate sheet. It can be formed by coating (for example, 10 g / m 2 ) by various coating methods such as a gravure reverse method.

以下、本発明に用いられる電磁波遮蔽シートについて、第一の透明樹脂基材シートから順に説明する。
(第一の透明樹脂基材シート)
第一の透明樹脂基材シートは、機械的強度が弱いメッシュ層を補強するための層である。従って、機械的強度と共に光透過性を有すれば、その他、耐熱性等も適宜勘案した上で、用途に応じたものを選択使用すれば良い。透明樹脂基材シートの具体例としては、樹脂等の有機材料からなるシート(乃至フィルム。以下同様。)である。
Hereinafter, the electromagnetic wave shielding sheet used in the present invention will be described in order from the first transparent resin base sheet.
(First transparent resin base sheet)
The first transparent resin base sheet is a layer for reinforcing a mesh layer having a low mechanical strength. Therefore, as long as it has light transmission as well as mechanical strength, it may be selected and used depending on the application, taking into account heat resistance and the like as appropriate. A specific example of the transparent resin base sheet is a sheet (or a film; the same applies hereinafter) made of an organic material such as a resin.

上記有機材料からなるシートとして用いる透明樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、テレフタル酸−イソフタル酸−エチレングリコール共重合体、テレフタル酸−シクロヘキサンジメタノール−エチレングリコール共重合体などのポリエステル系樹脂、ナイロン6などのポリアミド系樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリシクロオレフィンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体などのスチレン系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、イミド系樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。   Examples of the transparent resin used as the sheet made of the organic material include polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, terephthalic acid-isophthalic acid-ethylene glycol copolymer, and terephthalic acid-cyclohexanedimethanol-ethylene glycol copolymer. Polyester resins such as nylon 6, polyamide resins such as nylon 6, polyolefin resins such as polypropylene, polymethylpentene, and polycycloolefin, acrylic resins such as polymethyl methacrylate, styrene such as polystyrene and styrene-acrylonitrile copolymer Examples of the resin include cellulose resins such as triacetyl cellulose, imide resins, and polycarbonate resins.

なお、これら樹脂は、樹脂材料としては、単独、又は複数種類の混合樹脂(ポリマーアロイを含む)として用いられ、また層としては、単層、又は2層以上の積層体として用いられる。また、樹脂シートの場合、1軸延伸や2軸延伸した延伸シートが機械的強度の点でより好ましい。
また、これら樹脂中には、必要に応じて適宜、紫外線吸収剤、充填剤、可塑剤、帯電防止剤、赤外線吸収剤、色素(着色染料、着色顔料)、体質顔料、光拡散剤などの添加剤を加えても良い。
These resins are used as a resin material alone or as a plurality of types of mixed resins (including polymer alloys), and as a layer, a single layer or a laminate of two or more layers is used. In the case of a resin sheet, a uniaxially stretched or biaxially stretched sheet is more preferable in terms of mechanical strength.
In addition, ultraviolet resins, fillers, plasticizers, antistatic agents, infrared absorbers, dyes (colored dyes, colored pigments), extender pigments, light diffusing agents, and the like are added to these resins as necessary. An agent may be added.

なお、透明樹脂基材シートの厚さは、用途に応じたものとすれば良く特に制限は無く、透明樹脂から成る場合は、通常12〜500μm程度であるが、好ましくは50〜125μmである。上記未満の厚さとなると機械的強度が不足して反りや弛み、破断などが起こり、上記を超える厚さとなると過剰性能でコスト高となる上、薄型化が難しくなる。
また、電磁波遮蔽シートを連続的に製造し生産性を向上できる点では、透明樹脂基材シートは、複合シートを枚葉化する工程に至る前の段階においては、連続帯状のシートの形態で取り扱うのが好ましい。
The thickness of the transparent resin base sheet is not particularly limited as long as it depends on the application, and when it is made of a transparent resin, it is usually about 12 to 500 μm, preferably 50 to 125 μm. If the thickness is less than the above, the mechanical strength is insufficient and warping, slackening, breakage or the like occurs, and if the thickness exceeds the above, the cost is increased due to excessive performance and it is difficult to reduce the thickness.
In addition, the transparent resin base material sheet is handled in the form of a continuous belt-like sheet in the stage before the step of making the composite sheet into a single sheet in that the electromagnetic wave shielding sheet can be continuously produced and productivity can be improved. Is preferred.

この様な点で、透明樹脂基材シートとしては、中でも特に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂シートが、透明性、耐熱性、コスト等の点で好ましく、より好ましくは2軸延伸ポリエチレンテレフタレートシートが最適である。なお、透明樹脂基材の透明性は高いほどよいが、好ましくは可視光線透過率で80%以上となる光透過性が良い。
なお、樹脂シート等の透明樹脂基材シートは、適宜その表面に、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム(Flame)処理、プライマー処理、予熱処理、除塵埃処理、蒸着処理、アルカリ処理、などの公知の易接着処理を行ってもよい。
In this respect, as the transparent resin base sheet, in particular, polyester resin sheets such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are preferable in terms of transparency, heat resistance, cost, and more preferably biaxial stretching. Polyethylene terephthalate sheet is most suitable. In addition, although the transparency of a transparent resin base material is so good that it is good, Preferably the light transmittance which becomes 80% or more by visible light transmittance | permeability is good.
In addition, a transparent resin base sheet such as a resin sheet is appropriately subjected to corona discharge treatment, plasma treatment, ozone treatment, flame treatment, primer treatment, preheat treatment, dust removal treatment, vapor deposition treatment, alkali treatment, You may perform well-known easy-adhesion processing, such as.

(プライマー層)
本発明においては、特に、後述の特定の凹版印刷法を用いて導電性組成物(インキ乃至ペースト)から成る導電性メッシュ層を形成する場合に用いられるものである。該プライマー層は、透明樹脂基材シートと導電性メッシュ層との密着性を向上させるためという従来公知慣用の単なる易接着性プライマーの機能以外に、後述の如くの本発明固有の且つ新規な作用を有し、且つ新規な層構造、形態を有する。該プライマー層は、透明樹脂基材シートと導電性メッシュ層の両方に対して密着性がよい材料であることが好ましく、また、ディスプレイ装置の前面設置用としては、透明であることが好ましい。例えば、熱可塑性樹脂や電離放射線硬化性樹脂を塗工してなる層であることが好ましい。また、密着性、耐久性改善、各種物性付与のために各種添加剤や変性樹脂を使用してもよい。
(Primer layer)
In the present invention, it is particularly used when a conductive mesh layer made of a conductive composition (ink or paste) is formed using a specific intaglio printing method described later. The primer layer has a unique and novel function unique to the present invention as described below, in addition to the function of a conventionally known and commonly used simple adhesive primer for improving the adhesion between the transparent resin base sheet and the conductive mesh layer. And has a novel layer structure and form. The primer layer is preferably a material having good adhesion to both the transparent resin base sheet and the conductive mesh layer, and is preferably transparent for installation on the front surface of the display device. For example, a layer formed by coating a thermoplastic resin or an ionizing radiation curable resin is preferable. Various additives and modified resins may be used to improve adhesion, durability, and impart various physical properties.

熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート(PMMA)等のアクリル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂等が挙げられる。   Examples of the thermoplastic resin include acrylic resins such as polymethyl methacrylate (PMMA), vinyl chloride-vinyl acetate copolymers, polyester resins, and polyolefin resins.

電離放射線硬化性樹脂としては、電離放射線で架橋等の反応により重合硬化するモノマー(単量体)、或いはプレポリマーやオリゴマーが用いられる。モノマーとしては、例えば、ラジカル重合性モノマー、及びカチオン重合性モノマーが挙げられる。ラジカル重合性モノマーとしては、例えば、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の各種(メタ)アクリレート等が挙げられる。カチオン重合性モノマーとしては、例えば、3,4−エポキシシクロヘキセニルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレートなどの脂環式エポキシド類、ビスフェノールAジグリシジルエーテルなどグリシジルエーテル類、4−ヒドロキシブチルビニルエーテルなどビニルエーテル類、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタンなどオキセタン類等が挙げられる。また、プレポリマー(乃至はオリゴマー)としては、例えば、ラジカル重合性プレポリマー、具体的には、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、トリアジン(メタ)アクリレート等の各種(メタ)アクリレートプレポリマー、不飽和ポリエステルプレポリマー等が挙げられる。その他、カチオン重合性プレポリマー、例えば、ノボラック系型エポキシ樹脂プレポリマー、芳香族ビニルエーテル系樹脂プレポリマー等、或いはポリチオール系プレポリマー、例えば、トリメチロールプロパントリチオグリコレートプレポリマー、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレートプレポリマー等が挙げられる。ここで、(メタ)アクリレートとは、アクリレート及び/又はメタクリレートを意味する。   As the ionizing radiation curable resin, a monomer (monomer) that is polymerized and cured by a reaction such as crosslinking with ionizing radiation, or a prepolymer or an oligomer is used. Examples of the monomer include a radical polymerizable monomer and a cationic polymerizable monomer. Examples of the radical polymerizable monomer include various (meth) acrylates such as 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. Examples of the cationic polymerizable monomer include alicyclic epoxides such as 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexenecarboxylate, glycidyl ethers such as bisphenol A diglycidyl ether, 4-hydroxybutyl, and the like. Examples include vinyl ethers such as vinyl ether and oxetanes such as 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane. In addition, as the prepolymer (or oligomer), for example, a radical polymerizable prepolymer, specifically, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, triazine (meth) acrylate, and the like. Examples include various (meth) acrylate prepolymers and unsaturated polyester prepolymers. In addition, cationic polymerizable prepolymers such as novolac epoxy resin prepolymers, aromatic vinyl ether resin prepolymers, or polythiol prepolymers such as trimethylolpropane trithioglycolate prepolymer, pentaerythritol tetrathioglycol A rate prepolymer etc. are mentioned. Here, (meth) acrylate means acrylate and / or methacrylate.

これらモノマー、或いはプレポリマーは、要求される性能、塗布適性等に応じて、1種類単独で用いる他、モノマーを2種類以上混合したり、プレポリマーを2種類以上混合したり、或いはモノマー1種類以上とプレポリマー1種類以上とを混合して用いたりすることができる。   These monomers or prepolymers may be used alone or in combination of two or more types of monomers, two or more types of prepolymers, or one type of monomer, depending on the required performance, coating suitability, etc. A mixture of the above and one or more prepolymers can be used.

電離放射線として紫外線或いは可視光線を用いる場合は、光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、ラジカル重合性のモノマー又はプレポリマーの場合には、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンゾイン系等の化合物が、また、カチオン重合系のモノマー又はプレポリマーの場合には、メタロセン系、芳香族スルホニウム系、芳香族ヨードニウム系等の化合物が用いられる。これら光重合開始剤は、上記モノマー及び/又はプレポリマーからなる組成物100重量部に対して0.1〜5重量部程度添加する。   When ultraviolet rays or visible rays are used as the ionizing radiation, a photopolymerization initiator is added. As the photopolymerization initiator, in the case of a radical polymerizable monomer or prepolymer, a compound such as benzophenone, thioxanthone, or benzoin is used, and in the case of a cationic polymerization monomer or prepolymer, a metallocene is used. , Aromatic sulfonium-based and aromatic iodonium-based compounds are used. These photopolymerization initiators are added in an amount of about 0.1 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the composition comprising the monomer and / or prepolymer.

なお、電離放射線としては、紫外線又は電子線が代表的なものであるが、この他、可視光線、X線、γ線等の電磁波、或いはα線、各種イオン線等の荷電粒子線を用いることもできる。   The ionizing radiation is typically ultraviolet rays or electron beams, but in addition, electromagnetic waves such as visible rays, X rays and γ rays, or charged particle rays such as α rays and various ion rays are used. You can also.

また、必要に応じて適宜添加剤を添加する。該添加剤としては、例えば、熱安定剤、ラジカル捕捉剤、可塑剤、界面活性剤、帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、色素(着色染料、着色顔料)、体質顔料、光拡散剤等が挙げられる。   Moreover, an additive is suitably added as needed. Examples of the additive include a heat stabilizer, a radical scavenger, a plasticizer, a surfactant, an antistatic agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, a dye (colored dye, colored pigment), and an extender pigment. And a light diffusing agent.

本発明で用いられるプライマー層は、流動状態と硬化状態の2つの状態を保持することができる。プライマー層は、塗工後においては流動性を保持できる状態で透明樹脂基材シート上に設けられており、その後、プライマー層上に導電性組成物層が転写形成される際においては短時間で流動状態から硬化状態に変化させることができるものであることが必要である。具体的には、凹版面内の導電性組成物層上部の凹み内に流動状態のプライマー層が流入し、該凹み内が充填され、該プライマー層と該導電性組成物層との間に隙間がない状態となる。この状態で、版面に圧力を加えることにより、該版面と該プライマー層とが圧着し、その後、該プライマー層を硬化させる。これにより、従来生じるおそれがあった該プライマー層と該導電性組成物層との間の隙間の発生をなくすことができ、該隙間の存在による転写不良、密着不良の問題が生じない。   The primer layer used in the present invention can maintain two states, a fluid state and a cured state. The primer layer is provided on the transparent resin substrate sheet in a state where the fluidity can be maintained after coating, and after that, when the conductive composition layer is transferred and formed on the primer layer, the primer layer is formed in a short time. It is necessary to be able to change from a fluid state to a cured state. Specifically, the primer layer in a fluid state flows into a recess at the upper part of the conductive composition layer in the intaglio plate surface, and the inside of the recess is filled, and there is a gap between the primer layer and the conductive composition layer. There is no state. In this state, by applying pressure to the plate surface, the plate surface and the primer layer are pressure-bonded, and then the primer layer is cured. As a result, it is possible to eliminate the occurrence of a gap between the primer layer and the conductive composition layer, which may have occurred in the past, and the problem of poor transfer and poor adhesion due to the existence of the gap does not occur.

なお、本明細書で言う「流動性」又は「流動状態」とは、プライマー層を導電性組成物が充填された版面に圧着する際の圧力によって流動(変形)する性質又は状態をいい、水のように低粘度である必要はない。また、必ずしもNewton粘性である必要もなく、ティキソトロピー性或いはダイラタンシー性のような非Newton粘性を有していてもよい。
流動状態になっているプライマー層の粘度は、通常、1mPa・s〜100000mPa・sの範囲内であり、好ましくは、50mPa・s〜2000mPa・sの範囲内である。
As used herein, “fluidity” or “fluid state” refers to a property or state that flows (deforms) by pressure when the primer layer is pressure-bonded to a printing plate filled with a conductive composition. It is not necessary to have a low viscosity. Further, it is not always necessary to have Newtonian viscosity, and it may have non-Newtonian viscosity such as thixotropic property or dilatancy property.
The viscosity of the primer layer in a fluid state is usually in the range of 1 mPa · s to 100,000 mPa · s, and preferably in the range of 50 mPa · s to 2000 mPa · s.

上記プライマー層の流動状態は、プライマー層用樹脂組成物として電離放射線硬化性樹脂を用いた場合には、電離放射線硬化性を持ったインキを透明樹脂基材シート上に塗布するだけで得られる。電離放射線硬化型インキは、一般に上記の電離放射線硬化性を持つモノマーやオリゴマーからなり、必要に応じて、更に、光重合開始剤(紫外線硬化、或いは光硬化の場合)、各種添加剤等を含み、電離放射線で硬化させるまでは流動性を示す。該インキは溶剤を含んでもよいが、その場合、塗布後に乾燥工程が必要であるため、インキは溶剤を含まないタイプ(いわゆるノンソルベントタイプ)であることが好ましい。   When the ionizing radiation curable resin is used as the primer layer resin composition, the primer layer can be obtained by simply applying an ionizing radiation curable ink on the transparent resin base sheet. The ionizing radiation curable ink is generally composed of the above-mentioned monomer or oligomer having ionizing radiation curability, and further contains a photopolymerization initiator (in the case of ultraviolet curing or photocuring), various additives, and the like as necessary. It exhibits fluidity until cured with ionizing radiation. The ink may contain a solvent. In this case, since a drying step is necessary after coating, the ink is preferably of a type that does not contain a solvent (so-called non-solvent type).

また、プライマー層用樹脂組成物として熱可塑性樹脂組成物を用いた場合には、透明樹脂基材シート上に熱可塑性樹脂組成物を塗布し、流動状態になる程度(例えば、50℃〜200℃程度)に加熱して生じさせることができる。こうした流動状態のプライマー層を、導電性組成物が充填された凹版の版面に圧着した後、冷却することで硬化させて該導電性組成物を転写すれば、該導電性組成物層と該プライマー層との間に空隙がない状態で転写することができる。ここで、透明樹脂基材シート上に熱可塑性樹脂組成物を塗布する方法としては、熱可塑性樹脂組成物の溶液を塗布後乾燥する方法や、ホットメルト状態の樹脂を塗布する方法がある。また、透明樹脂基材シート上に塗布された熱可塑性樹脂組成物の加熱は、導電性組成物が充填された版面に接触する前に行ってもよく、版面に圧着する際に加熱ロール等を用いて圧着と加熱を同時に行ってもよいが、いずれにおいても、導電性組成物層をプライマー層に転移させる際にはプライマー層の流動性がなくなる程度まで冷却されている必要がある。   Moreover, when a thermoplastic resin composition is used as the resin composition for the primer layer, the thermoplastic resin composition is applied on the transparent resin substrate sheet and becomes a fluid state (for example, 50 ° C to 200 ° C). To a certain extent). If the primer layer in such a fluid state is pressure-bonded to the intaglio plate surface filled with the conductive composition and then cured by cooling to transfer the conductive composition, the conductive composition layer and the primer Transfer can be performed without any gap between the layers. Here, as a method of applying the thermoplastic resin composition on the transparent resin base sheet, there are a method of applying a solution of the thermoplastic resin composition and then drying, and a method of applying a resin in a hot melt state. The thermoplastic resin composition coated on the transparent resin base sheet may be heated before contacting the plate surface filled with the conductive composition, and a heating roll or the like may be used for pressure bonding to the plate surface. However, in any case, when the conductive composition layer is transferred to the primer layer, the primer layer needs to be cooled to such an extent that the fluidity of the primer layer is lost.

プライマー層の厚さは特に限定されないが、通常は硬化後の厚さで1μm〜100μm程度となるように形成される。また、図1に示すように、導電性メッシュ層3が形成されていない部分(メッシュ開口部)のプライマー層2の厚さ(TB)は、通常は、導電性メッシュ層3とプライマー層2との合計値(総厚、図1で言うと導電性メッシュ層3の頂部と透明樹脂基材シート1の表面との高度差)の1〜50%程度である。なお、導電性組成物層がプライマー層2上に転写され、さらに該導電性組成物層を硬化させて電磁波遮蔽シートを製造した後におけるプライマー層は、図1に示すように、導電性メッシュ層3が形成されている部分Aの厚さTAが、導電性メッシュ層3が形成されていない部分Bの厚さTBよりも厚い。そして、該プライマー層2において、厚さの厚い部分Aのサイドエッジ5,5は、厚さの薄い部分Bの側に導電性メッシュ層3が回り込んだ形態になっている。   Although the thickness of a primer layer is not specifically limited, Usually, it forms so that it may become about 1 micrometer-100 micrometers by the thickness after hardening. In addition, as shown in FIG. 1, the thickness (TB) of the primer layer 2 in the portion where the conductive mesh layer 3 is not formed (mesh opening) is normally set to be equal to that of the conductive mesh layer 3 and the primer layer 2. 1 (total thickness, altitude difference between the top of the conductive mesh layer 3 and the surface of the transparent resin base sheet 1 in FIG. 1) is about 1 to 50%. The primer layer after the conductive composition layer is transferred onto the primer layer 2 and the conductive composition layer is further cured to produce an electromagnetic wave shielding sheet is formed as shown in FIG. The thickness TA of the portion A where 3 is formed is thicker than the thickness TB of the portion B where the conductive mesh layer 3 is not formed. In the primer layer 2, the side edges 5, 5 of the thick part A are in a form in which the conductive mesh layer 3 wraps around the thin part B.

図1に示す形態は、硬化させる前の流動状態のプライマー層2と導電性メッシュ層3を構成する導電性組成物15を充填した所定のパターンの賦形用の凹版面とを圧着し、該プライマー層2と導電性組成物15とを空隙なく密着させた後に、該プライマー層2を硬化し、又は該プライマー層2と導電性組成物15とを同時硬化し、その後に該凹版から該透明樹脂基材シート及び硬化したプライマー層とを離型すると共に版凹部内の導電性組成物を該硬化したプライマー層上に転移(転写)せしめたことによって生じたものである。具体的には、導電性組成物15を凹部内に充填した凹版の版面において、該凹部内以外の余分な導電性組成物がドクターブレードによって掻き取られる。その際、該凹部内の導電性組成物15の上部には、図8の拡大図で示したような凹み6が生じやすく、該凹み6を有した版面に流動状態のプライマー層2が流入し、該凹み6内が充填され、透明樹脂基材シート1と導電性組成物15との間に該プライマー層2が隙間なく満たされる。該プライマー層2が未硬化の状態で、該プライマー層2を充填した版面に圧力を加えることにより、該版面と該プライマー層2とが圧着し、その結果、図1に示すような形態になる。
尚、プライマー層2は、導電性メッシュ層3の直下、即ち導電性メッシュ層3が形成されている部分Aのみでは無く、導電性メッシュ層3が形成されていない部分Bも含めた透明樹脂基材シート1の全面に亘って形成することが好ましい(但し、導電性メッシュ層3のパターンを形成不要の領域上にはプライマー層2は不必須でも可)。プライマー層2を導電性メッシュ層3が形成されていない透明樹脂基材シート1の全面に形成することにより、プライマー層2が導電性メッシュ層3の下のみに存在して開口部には存在しない場合に比べて、導電性メッシュ層3の透明樹脂基材シート1からの剥離が起こり難いという効果がある。
In the form shown in FIG. 1, the primer layer 2 in a fluidized state before curing and the intaglio surface for shaping with a predetermined pattern filled with the conductive composition 15 constituting the conductive mesh layer 3 are pressure-bonded, After adhering the primer layer 2 and the conductive composition 15 without gaps, the primer layer 2 is cured, or the primer layer 2 and the conductive composition 15 are simultaneously cured, and then the transparent from the intaglio This is caused by releasing the resin base sheet and the cured primer layer and transferring (transferring) the conductive composition in the plate recess onto the cured primer layer. Specifically, on the plate surface of the intaglio plate in which the conductive composition 15 is filled in the recess, the excess conductive composition other than the recess is scraped off by the doctor blade. At that time, the depression 6 as shown in the enlarged view of FIG. 8 is likely to be formed on the upper portion of the conductive composition 15 in the depression, and the primer layer 2 in a fluid state flows into the plate surface having the depression 6. The inside of the dent 6 is filled, and the primer layer 2 is filled between the transparent resin base sheet 1 and the conductive composition 15 without any gap. When the primer layer 2 is in an uncured state, pressure is applied to the plate surface filled with the primer layer 2 so that the plate surface and the primer layer 2 are pressure-bonded, resulting in the form shown in FIG. .
The primer layer 2 is a transparent resin group including not only the portion A where the conductive mesh layer 3 is formed, but also the portion B where the conductive mesh layer 3 is not formed. It is preferable to form over the entire surface of the material sheet 1 (however, the primer layer 2 may be indispensable on a region where the pattern of the conductive mesh layer 3 is not required). By forming the primer layer 2 on the entire surface of the transparent resin base sheet 1 on which the conductive mesh layer 3 is not formed, the primer layer 2 exists only under the conductive mesh layer 3 and does not exist in the opening. Compared to the case, there is an effect that peeling of the conductive mesh layer 3 from the transparent resin base sheet 1 hardly occurs.

(導電性メッシュ層)
導電性メッシュ層3は、導電性を有することで電磁波遮蔽機能を担える層であり、またそれ自体は不透明性材料からなるが、多数の開口部が存在するメッシュ状の形状に加工することにより、電磁波遮蔽性能と光透過性を両立させている層である。
(Conductive mesh layer)
The conductive mesh layer 3 is a layer that can have an electromagnetic wave shielding function by having conductivity, and is itself made of an opaque material, but by processing into a mesh-like shape having a large number of openings, It is a layer that achieves both electromagnetic shielding performance and light transmittance.

また、導電性メッシュ層3の厚さは、1〜50μm程度、好ましくは2〜15μmである。厚さがこれより薄くなり過ぎると電気抵抗上昇により十分な電磁波シールド性能を得難くなり、厚さがこれより厚くなり過ぎると高精細なメッシュ形状が得難くなり、メッシュ形状の均一性が低下する。   The thickness of the conductive mesh layer 3 is about 1 to 50 μm, preferably 2 to 15 μm. If the thickness is too thin, it will be difficult to obtain sufficient electromagnetic shielding performance due to an increase in electrical resistance, and if the thickness is too thick, it will be difficult to obtain a high-definition mesh shape, which will reduce the uniformity of the mesh shape. .

[メッシュ形状]
導電性メッシュ層3のメッシュ(網目乃至格子)としての形状は、任意で特に限定されないが、そのメッシュの開口部の形状として、正方形が代表的である。開口部の平面視形状は、例えば、正三角形等の三角形、正方形、長方形、菱形、台形等の四角形、六角形、等の多角形、或いは、円形、楕円形などである。メッシュはこれら形状からなる複数の開口部を有し、通常、開口部間は幅均一のライン状のライン部となり、開口部及びライン部は全面で同一形状同一サイズである。具体的サイズを例示すれば、開口率及びメッシュの非視認性の点で、開口部間のライン部の幅は5〜100μmが良い。また、開口部サイズは〔ライン間隔或いはラインピッチ〕−〔ライン幅〕であるが、この〔ライン間隔或いはラインピッチ〕で言うと100μm〜500μm、且つ開口率(開口部の面積の合計/メッシュ部の全面積)を60〜97%とするのが、光透過性と電磁波遮蔽性との両立性の点で好ましい。
なお、バイアス角度(メッシュのライン部と電磁波遮蔽シートの外周辺との成す角度)は、ディスプレイの画素ピッチや発光特性を考慮して、モアレが出難い角度に適宜設定すれば良い。
[Mesh shape]
The shape of the conductive mesh layer 3 as a mesh (mesh or lattice) is not particularly limited, but a square is typical as the shape of the opening of the mesh. The plan view shape of the opening is, for example, a triangle such as a regular triangle, a square such as a square, a rectangle, a rhombus, or a trapezoid, a polygon such as a hexagon, a circle, an ellipse, or the like. The mesh has a plurality of openings having these shapes, and generally, the openings are line-like line portions having a uniform width, and the openings and the line portions have the same shape and the same size over the entire surface. As an example of a specific size, the width of the line part between the openings is preferably 5 to 100 μm in terms of the aperture ratio and the invisibility of the mesh. The size of the opening is [line interval or line pitch] − [line width]. In terms of this [line interval or line pitch], the opening size is 100 μm to 500 μm, and the opening ratio (the total area of the openings / mesh portion) Is preferably 60 to 97% from the viewpoint of compatibility between light transmittance and electromagnetic wave shielding properties.
Note that the bias angle (the angle formed between the mesh line portion and the outer periphery of the electromagnetic wave shielding sheet) may be appropriately set to an angle at which moire is difficult to occur in consideration of the pixel pitch of the display and the light emission characteristics.

なお、導電性メッシュ層3は電磁波遮蔽シートの全面にわたってメッシュ状領域としても良いが、光透過性が必要な部分をメッシュ状として、その他の部分(例えば4辺全周囲を額縁状に囲う様な)非メッシュ状としても良い。非メッシュ状領域は、前記メッシュ状領域以外の部分であり、光透過性が面として必要でない領域であって、通常接地用領域として利用される。なお、非メッシュ状領域の具体的な大きさは使われ方によるが、額縁状でアース部や外枠とする場合、額縁の幅は15〜100mm程度で、なかでも30〜40mmとするのが一般的である。   The conductive mesh layer 3 may be a mesh region over the entire surface of the electromagnetic wave shielding sheet. However, a portion that requires light transmission is formed into a mesh shape, and other portions (for example, all four sides are surrounded in a frame shape). ) It may be non-mesh. The non-mesh region is a portion other than the mesh region and is a region where light transmittance is not necessary as a surface, and is normally used as a grounding region. Although the specific size of the non-mesh area depends on how it is used, when the frame is in the shape of a ground or outer frame, the width of the frame is about 15 to 100 mm, especially 30 to 40 mm. It is common.

導電性メッシュ層3は、電磁波シールド性能を発現するに足る導電性を有する物質であれば、特に制限は無く、例えば、金属層や導電性組成物が挙げられる。
金属層は、蒸着、めっき、金属箔ラミネート等により形成することができる。金属層乃至は金属箔の金属材料としては、例えば、金、銀、白金、銅、鉄、アルミニウム、ニッケル、クロム等が挙げられる。また金属層の金属は合金でも良く、金属層は単層でも多層でも良い。例えば、鉄の場合には、低炭素リムド鋼や低炭素アルミキルド鋼などの低炭素鋼、Ni−Fe合金、インバー合金、等が好ましい。一方、金属が銅の場合は、金属材料は銅や銅合金となり、銅箔としては圧延銅箔や電解銅箔があるが、薄さ及びその均一性等の点からは、電解銅箔が好ましい。アルミニウムとしては、エッチング(腐蝕)加工時のライン部の端縁の輪郭線の直線性を高める為には、エッチング加工を行う側に厚みが3〜13Åのアルミニウム酸化物の皮膜を形成しておくことが好ましい。
導電性組成物は、凹版の凹部内に充填する時点では流動性を有し、所望のパターンに形成し、硬化せしめた以降の時点で所望の導電性を発現するものであれば特に限定はなく、各種材料、形態のものが使用可能である。代表的なものは、導電性粉末と樹脂とを含み、さらに必要に応じて該樹脂を溶解乃至分散する溶剤乃至分散剤を含んだ流動性を有するインキ又はペースト状の材料を挙げることができる。該導電性組成物からなる導電性メッシュ層3は、導電性組成物を乾燥ないし硬化させた後の固形物からなる塗膜のことである。
以下、上記導電性組成物からなる導電性メッシュ層3について、更に詳しく説明する。
The conductive mesh layer 3 is not particularly limited as long as it is a substance having sufficient conductivity to exhibit electromagnetic wave shielding performance, and examples thereof include a metal layer and a conductive composition.
The metal layer can be formed by vapor deposition, plating, metal foil lamination, or the like. Examples of the metal material of the metal layer or metal foil include gold, silver, platinum, copper, iron, aluminum, nickel, and chromium. The metal of the metal layer may be an alloy, and the metal layer may be a single layer or multiple layers. For example, in the case of iron, low carbon steel such as low carbon rimmed steel and low carbon aluminum killed steel, Ni-Fe alloy, Invar alloy, and the like are preferable. On the other hand, when the metal is copper, the metal material is copper or a copper alloy, and there are rolled copper foil and electrolytic copper foil as the copper foil. From the viewpoint of thinness and uniformity, the electrolytic copper foil is preferable. . As aluminum, in order to enhance the linearity of the contour line of the edge of the line portion during etching (corrosion) processing, an aluminum oxide film having a thickness of 3 to 13 mm is formed on the etching processing side. It is preferable.
The conductive composition is not particularly limited as long as it has fluidity at the time of filling in the recesses of the intaglio, and exhibits desired conductivity at a time after being formed into a desired pattern and cured. Various materials and forms can be used. A typical example is an ink or paste-like material having fluidity containing a conductive powder and a resin, and further containing a solvent or a dispersant for dissolving or dispersing the resin as necessary. The conductive mesh layer 3 made of the conductive composition is a coating film made of a solid after the conductive composition is dried or cured.
Hereinafter, the conductive mesh layer 3 made of the conductive composition will be described in more detail.

導電性組成物の粘度は、例えば後述するように、プライマー層2中のプライマー成分が導電性組成物中に侵入して増粘させたり、プライマー層2と導電性組成物とを同時硬化させたりする場合等、その製造工程との関係で好ましい粘度の大小を一概には言えないが、使用可能な範囲としては、通常、数百mPa・s〜数百万mPa・sの範囲内であり、好ましくは、数千mPa・s〜数万mPa・sの範囲内である。   For example, as described later, the viscosity of the conductive composition is such that the primer component in the primer layer 2 penetrates into the conductive composition to increase the viscosity, or the primer layer 2 and the conductive composition are simultaneously cured. However, it is generally not possible to say the magnitude of the preferred viscosity in relation to the production process, but the usable range is usually in the range of several hundred mPa · s to several million mPa · s, Preferably, it is in the range of several thousand mPa · s to tens of thousands mPa · s.

導電性組成物を構成するバインダー樹脂としては、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂、熱可塑性樹脂のいずれも使用可能である。熱硬化性樹脂としては、例えば、メラミン樹脂、ポリエステル−メラミン樹脂、エポキシ−メラミン樹脂、ポリイミド樹脂、熱硬化型アクリル樹脂、熱硬化型ポリウレタン樹脂、熱硬化型ポリエステル樹脂等の樹脂を挙げることができ、電離放射線硬化性樹脂としては、プライマー層用の材料として前記したものを挙げることができ、熱可塑性樹脂としては、熱可塑性ポリエステル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、熱可塑性ポリウレタン樹脂等の樹脂を挙げることができる。なお、熱硬化性樹脂を使用する場合、必要に応じて硬化触媒を添加してもよい。光硬化性樹脂等の電離放射線硬化性樹脂を用いる場合は、必要に応じて重合開始剤を添加してもよい。   As the binder resin constituting the conductive composition, any of thermosetting resins, ionizing radiation curable resins, and thermoplastic resins can be used. Examples of the thermosetting resin include resins such as melamine resin, polyester-melamine resin, epoxy-melamine resin, polyimide resin, thermosetting acrylic resin, thermosetting polyurethane resin, and thermosetting polyester resin. Examples of the ionizing radiation curable resin include those described above as materials for the primer layer. Examples of the thermoplastic resin include thermoplastic polyester resin, polyvinyl butyral resin, acrylic resin, phenol resin, thermoplastic polyurethane resin, and the like. Can be mentioned. In addition, when using a thermosetting resin, you may add a curing catalyst as needed. When using an ionizing radiation curable resin such as a photocurable resin, a polymerization initiator may be added as necessary.

また、凹版の凹部への充填に適した流動性を得るために、これら樹脂は通常、溶剤或いは分散剤に溶けたワニスとして使用する。溶剤或いは分散剤の種類には特に制限はなく、一般的に印刷インキに用いられる溶剤或いは分散剤を使用できる。溶剤或いは分散剤の含有量は通常、10重量%〜70重量%程度であるが、必要な流動性が得られる範囲でなるべく少ないほうが好ましい。また、光硬化性樹脂等の電離放射線硬化性樹脂を用いる場合には、もともと流動性があるため、必ずしも溶剤或いは分散剤を必要としない。   Further, in order to obtain fluidity suitable for filling the recesses of the intaglio, these resins are usually used as a varnish dissolved in a solvent or a dispersant. There is no restriction | limiting in particular in the kind of solvent or a dispersing agent, The solvent or dispersing agent generally used for printing ink can be used. The content of the solvent or dispersant is usually about 10% to 70% by weight, but it is preferably as small as possible within a range where necessary fluidity can be obtained. In addition, when an ionizing radiation curable resin such as a photocurable resin is used, it is inherently fluid and does not necessarily require a solvent or a dispersant.

また、導電性組成物を構成する導電性粉末としては、金、銀、白金、銅、錫、パラジウム、ニッケル、アルミニウム等の低抵抗率金属粉末、或いは芯材粒子としての低抵抗率金属以外の材料からなる粉末(上記低抵抗率金属以外の金属粉末、アクリル樹脂、メラミン樹脂等の樹脂粉末、シリカ、アルミナ、硫酸バリウム、ゼオライト等の無機粉末)の表面に被覆材料として金や銀等の低抵抗率金属をめっきしてなる粉末、グラファイト、カーボンブラック等の導電性炭素の粉末を好ましく挙げることができる。また、導電性セラミックス、或いは導電性有機高分子の粉末も使用できる。形状も球状、回転楕円体状、多面体状、切頭多面体形状、鱗片状、円盤状、繊維状(乃至針状)等から選ぶことができる。これらの材料や形状は適宜混合して用いてもよい。導電性粉末の大きさは種類に応じて任意に選択されるので一概に特定できないが、例えば、鱗片状の銀粉末の場合には粉末の平均粒子径が0.1〜10μm程度のものを用いることができ、カーボンブラック粉末の場合には平均粒子径が0.01〜1μm程度のものを用いることができる。   In addition, as the conductive powder constituting the conductive composition, other than the low resistivity metal powder such as gold, silver, platinum, copper, tin, palladium, nickel, aluminum, or the low resistivity metal as the core particle The surface of the powder made of material (metal powder other than the above low resistivity metal, resin powder such as acrylic resin, melamine resin, inorganic powder such as silica, alumina, barium sulfate, zeolite, etc.) is coated with a low amount of gold or silver as a coating material. Preferable examples include powder obtained by plating a resistivity metal, and powder of conductive carbon such as graphite and carbon black. Also, conductive ceramics or conductive organic polymer powders can be used. The shape can also be selected from spherical, spheroid, polyhedral, truncated polyhedral, scaly, disk-shaped, fibrous (or needle-shaped), and the like. These materials and shapes may be appropriately mixed and used. Since the size of the conductive powder is arbitrarily selected according to the type, it cannot be specified unconditionally. For example, in the case of scale-like silver powder, the powder having an average particle diameter of about 0.1 to 10 μm is used. In the case of carbon black powder, those having an average particle diameter of about 0.01 to 1 μm can be used.

導電性組成物中の導電性粉末の含有量は、導電性粉末の導電性や粉末の形態に応じて任意に選択されるが、例えば導電性組成物の全固形分に対して、導電性粉末を40〜99重量%の範囲で含有させることができる。なお、本願において、平均粒子径というときは、粒度分布径、又はTEM観察で測定した値を指している。また、多面体状、繊維状等の非球面形状の場合は、通常、外接球の直径、対角線長、或いは最長辺の辺長をもって粒径を定義する。   The content of the conductive powder in the conductive composition is arbitrarily selected according to the conductivity of the conductive powder and the form of the powder. For example, the conductive powder is based on the total solid content of the conductive composition. Can be contained in the range of 40 to 99% by weight. In the present application, the average particle diameter refers to a particle size distribution diameter or a value measured by TEM observation. In the case of an aspherical shape such as a polyhedral shape or a fibrous shape, the particle diameter is usually defined by the diameter of the circumscribed sphere, the diagonal length, or the side length of the longest side.

また、導電性組成物には、品質向上等を目的に適当な添加物を加えてもよい。例えば、カーボンブラックはそれ自体が黒色であるので必要ないが、黒色顔料や黒色染料を必要に応じて所定量添加することで、電磁波遮蔽シートを構成したときの外光反射を防止してコントラストを向上させ、視認性を向上させることができる。また、後述する金属層の金属光沢による透明樹脂基材裏面の反射防止、色ムラ、金属色等の抑制のためには、こうした黒色顔料や黒色染料を含有させることが望ましい。黒色顔料としては、導電性粉末としても機能するカーボンブラック、Fe、CuO−Cr、CuOFe−Mn、CoO−Fe−Cr等が挙げられるが、その種類や形状は特に制限はなく、バインダー樹脂中に分散容易な平均粒子径0.1μm以下の着色力の大きな黒色顔料又は黒色染料が好ましい。なお、カーボンブラックを用いる場合には、チャンネルブラック、ファーネスブラック又はランプブラック等の色材用カーボンブラックや、導電性カーボンブラック、アセチレンブラック等を挙げることができ、中でも平均粒子径が20nm以下のものが好ましく用いられる。また、黒色染料としては、アニリンブラック等の染料を用いることができる。また、導電性組成物の流動性や安定性を改善するために、導電性や、プライマー層2との密着性に悪影響を与えない限りにおいて、適宜フィラーや増粘剤、界面活性剤、酸化防止剤等を添加してもよい。 Further, an appropriate additive may be added to the conductive composition for the purpose of improving the quality. For example, carbon black is not necessary because it is black in itself, but by adding a predetermined amount of black pigment or black dye as needed, it prevents reflection of external light when an electromagnetic wave shielding sheet is configured, thereby improving contrast. The visibility can be improved. Further, in order to prevent reflection on the back surface of the transparent resin substrate due to the metallic luster of the metal layer, which will be described later, and to suppress color unevenness, metal color, etc., it is desirable to contain such a black pigment or black dye. Examples of black pigments include carbon blacks which also functions as a conductive powder, Fe 3 O 4, CuO- Cr 2 O 3, CuOFe 3 O 4 -Mn 2 O 3, CoO-Fe 2 O 3 -Cr 2 O 3 and the like The type and shape are not particularly limited, and a black pigment or black dye having an average particle diameter of 0.1 μm or less that is easily dispersed in the binder resin and having a large coloring power is preferable. In addition, when using carbon black, carbon black for coloring materials such as channel black, furnace black or lamp black, conductive carbon black, acetylene black and the like can be mentioned, and among them, the average particle diameter is 20 nm or less. Is preferably used. As the black dye, a dye such as aniline black can be used. In addition, in order to improve the fluidity and stability of the conductive composition, as long as the conductivity and adhesion to the primer layer 2 are not adversely affected, fillers, thickeners, surfactants, and antioxidants are appropriately used. An agent or the like may be added.

導電性メッシュ層3の形成は、金属層を用いる場合には、該金属箔を所定のメッシュ形状にエッチング加工して形成する。又導電性組成物を用いる場合には、印刷方法、特に好適には後述の如きプライマー層を用いた特定の凹版印刷によりメッシュ状に形成する。以下、後者の形成法について説明する。先ず、所定のメッシュ状のパターンで凹部が形成された板状又は円筒状の版(凹版)の版面に導電性組成物を塗布した後、該凹部内以外に付着した導電性組成物を掻き取って凹部内に導電性組成物を充填する。次に、流動性を保持したプライマー層2を一方の面に形成した透明樹脂基材シート1を準備する。更に詳述すると、該凹版として所定のパターンからなる凹部を有する版面が形成されているとともに、その版面の表面と平行な仮想面で切断した凹部の開口断面積がその表面からの距離xの減少関数S(x)になっている、板状又は円筒状の版を準備する。次に、該版面に、硬化後に導電性メッシュ層3を形成できる導電性組成物を塗布した後、該凹部内以外に付着した導電性組成物をドクターブレードで掻き取って、該凹部内に導電性組成物を充填する。次に、該透明樹脂基材シート1のプライマー層2側と、導電性組成物を凹部内に充填した版面とを圧着することにより、導電性組成物とプライマー層2とを隙間なく密着させ、その状態でプライマー層2の流動性をなくした(硬化させた)後、導電性組成物をプライマー層2上に転写し、所定のメッシュ状のパターンからなる導電性組成物層を該プライマー層上に形成する。なお、導電性組成物層をプライマー層2上に転写した後においては、該導電性組成物に硬化処理(例えば、乾燥処理、紫外線・電子線照射処理、加熱処理、冷却処理等)を行って導電性メッシュ層3が形成される。   When the metal layer is used, the conductive mesh layer 3 is formed by etching the metal foil into a predetermined mesh shape. When the conductive composition is used, it is formed into a mesh by a printing method, particularly preferably by specific intaglio printing using a primer layer as described later. Hereinafter, the latter forming method will be described. First, after applying a conductive composition to the plate surface of a plate-like or cylindrical plate (intaglio plate) in which concave portions are formed in a predetermined mesh pattern, the conductive composition adhering outside the concave portions is scraped off. The conductive composition is filled in the recess. Next, the transparent resin base material sheet 1 in which the primer layer 2 retaining fluidity is formed on one surface is prepared. More specifically, a plate surface having a concave portion having a predetermined pattern is formed as the intaglio plate, and the opening cross-sectional area of the concave portion cut by a virtual plane parallel to the surface of the plate surface is reduced by the distance x from the surface. A plate-shaped or cylindrical plate having a function S (x) is prepared. Next, a conductive composition capable of forming the conductive mesh layer 3 after curing is applied to the plate surface, and then the conductive composition adhering to other than the inside of the concave portion is scraped off with a doctor blade, and the conductive portion is conductive in the concave portion. The active composition is filled. Next, the primer layer 2 side of the transparent resin substrate sheet 1 and the plate surface filled with the conductive composition in the recesses are pressure-bonded to bring the conductive composition and the primer layer 2 into close contact with each other without gaps, In this state, the flowability of the primer layer 2 is eliminated (cured), and then the conductive composition is transferred onto the primer layer 2 so that the conductive composition layer having a predetermined mesh pattern is formed on the primer layer. To form. In addition, after transferring the conductive composition layer onto the primer layer 2, the conductive composition is subjected to curing treatment (for example, drying treatment, ultraviolet ray / electron beam irradiation treatment, heat treatment, cooling treatment, etc.). A conductive mesh layer 3 is formed.

本発明においては、上記したように、ドクターブレードによって凹部内以外の余分な導電性組成物が掻き取られる際に、凹部内の導電性組成物の上部に不可避的に生じる望まれ無い凹み6内に、流動性を保持したプライマー層2が充填され、導電性組成物とプライマー層2とを隙間なく密着した状態でプライマー層2を硬化させるので、プライマー層2上に導電性組成物を転写不良なく転移することができる。
また、該導電性組成物の転移性を改善できるため、通常のグラビア印刷等の凹版を利用する方法に比べ、転移後の該導電性組成物の厚さを厚くすることができる。従って、メッシュパターンを厚くすることで、電磁波シールドに必要な導電性を確保することができる。
In the present invention, as described above, when excessive conductive composition other than the inside of the recess is scraped off by the doctor blade, the inside of the undesired recess 6 inevitably generated on the upper portion of the conductive composition in the recess. In addition, the primer layer 2 that retains fluidity is filled and the primer layer 2 is cured in a state where the conductive composition and the primer layer 2 are in close contact with each other without gaps, so that the conductive composition is poorly transferred onto the primer layer 2. Can be transferred.
Moreover, since the transferability of the conductive composition can be improved, the thickness of the conductive composition after transfer can be increased as compared with a method using intaglio such as normal gravure printing. Therefore, by increasing the mesh pattern, it is possible to ensure the conductivity necessary for the electromagnetic wave shield.

上記においては、導電性組成物として、主に導電性粉末と樹脂とで構成されたものについて説明した。該導電性組成物は、それ自体が導電性メッシュ層3になるものであるが、本発明においては他の導電性組成物を適用してもよい。例えば、有機金属化合物のゾル(分散液)を導電性組成物として用い、転写工程の前後で加熱固化し、さらに必要に応じて焼成し、導電性の金属ないし金属化合物からなる導電性メッシュ層3としてもよい。また、例えば、ポリチオフェン等の公知の導電性樹脂を導電性組成物として用い、それ自体を導電性メッシュ層3としてもよい。   In the above, what was mainly comprised with electroconductive powder and resin was demonstrated as an electroconductive composition. The conductive composition itself becomes the conductive mesh layer 3, but other conductive compositions may be applied in the present invention. For example, a conductive mesh layer 3 made of a conductive metal or metal compound is prepared by using a sol (dispersion liquid) of an organometallic compound as a conductive composition, heated and solidified before and after the transfer step, and further fired as necessary. It is good. Further, for example, a known conductive resin such as polythiophene may be used as the conductive composition, and the conductive mesh layer 3 itself may be used.

[導電性メッシュ層の形態]
図2は、透明樹脂基材シート1と平行な仮想面で切断した導電性メッシュ層3の断面積の説明図である。本発明において、転写後の導電性メッシュ層3は、透明樹脂基材シート1の表面と平行な仮想面Pで切断した断面積がその透明樹脂基材シート1からの距離xの減少関数S(x)になっている。透明樹脂基材シート1からの距離xとは、図2(B)に示すように、プライマー層2の表面ではなく、プライマー層2を除いた透明樹脂基材シート1の表面から、該透明樹脂基材シート1から遠ざかる方向(図2(B)でいうと上方)に向かって測った距離をいう。その断面積は、導電性メッシュ層3のライン方向の所定長さyの範囲における断面積で比較する。実際には、例えば、図2(A)に示すように、電磁波遮蔽シートから所定長さy(例えば50μm)の範囲で切り出した測定試料片20を研磨用硬化樹脂に埋め込み、図2(B)に示すように、硬化後に透明樹脂基材シート1と平行になるように研磨し、その仮想面Pでの断面積を顕微鏡で測定して評価する。
[Form of conductive mesh layer]
FIG. 2 is an explanatory diagram of a cross-sectional area of the conductive mesh layer 3 cut along a virtual plane parallel to the transparent resin base sheet 1. In the present invention, the conductive mesh layer 3 after the transfer has a cross-sectional area cut along a virtual plane P parallel to the surface of the transparent resin base sheet 1 and a decreasing function S () of the distance x from the transparent resin base sheet 1 x). As shown in FIG. 2B, the distance x from the transparent resin substrate sheet 1 is not the surface of the primer layer 2 but the surface of the transparent resin substrate sheet 1 excluding the primer layer 2. The distance measured toward the direction away from the base material sheet 1 (upward in FIG. 2B). The cross-sectional area is compared with the cross-sectional area in the range of the predetermined length y in the line direction of the conductive mesh layer 3. Actually, for example, as shown in FIG. 2 (A), the measurement sample piece 20 cut out from the electromagnetic wave shielding sheet within a predetermined length y (for example, 50 μm) is embedded in the hardened resin for polishing, and FIG. 2 (B). As shown in Fig. 2, after being cured, it is polished so as to be parallel to the transparent resin substrate sheet 1, and the cross-sectional area at the virtual plane P is measured and evaluated with a microscope.

図3は、導電性組成物を充填する版面53の凹部54の空間形状を示す斜視図である。上述した導電性メッシュ層3の断面形状は、導電性組成物を充填する版面53の凹部54の空間形状と同じである。すなわち、導電性組成物を充填する凹版52は、所定のパターンからなる凹部54を有する版面53を有するとともに、その版面53の表面と平行な仮想面Pで切断した凹部54の開口断面積がその表面からの距離xの減少関数S(x)になっている。表面からの距離xとは、図3に示すように、版面53の表面から、該版の内部(図2(B)でいうと上方)に向かって測った距離をいう。したがって、その版面53の凹部54に導電性組成物が充填され、その導電性組成物がプライマー層2上に導電性メッシュ層3として高い転写率で転写されることによって、導電性メッシュ層3は、凹部54の開口断面形状と同じ断面形状でプライマー層2上に転写される。   FIG. 3 is a perspective view showing a spatial shape of the concave portion 54 of the plate surface 53 filled with the conductive composition. The cross-sectional shape of the conductive mesh layer 3 described above is the same as the space shape of the concave portion 54 of the printing plate 53 filled with the conductive composition. That is, the intaglio plate 52 filled with the conductive composition has a plate surface 53 having a concave portion 54 having a predetermined pattern, and the opening cross-sectional area of the concave portion 54 cut by a virtual plane P parallel to the surface of the plate surface 53 It is a decreasing function S (x) of the distance x from the surface. The distance x from the surface means a distance measured from the surface of the plate surface 53 toward the inside of the plate (upward in FIG. 2B) as shown in FIG. Therefore, the concave portion 54 of the plate surface 53 is filled with the conductive composition, and the conductive composition is transferred onto the primer layer 2 as the conductive mesh layer 3 at a high transfer rate. Then, it is transferred onto the primer layer 2 with the same sectional shape as the opening sectional shape of the recess 54.

図4は、導電性メッシュ層3の断面形状の具体例である。導電性メッシュ層3のライン方向に直交する断面形状としては、図4に示すように、台形(4角形)、3角形、多角形(台形形態の5角形、6角形等)、半楕円形、放物線形、正弦曲線形、及びそれらに類似する形状から選択されるいずれかを挙げることができる。これらの各形状は、いずれも、透明樹脂基材シート1と平行な仮想面Pで切断した断面積がその透明樹脂基材シート1からの距離xの減少関数S(x)になっている。   FIG. 4 is a specific example of the cross-sectional shape of the conductive mesh layer 3. As shown in FIG. 4, the cross-sectional shape perpendicular to the line direction of the conductive mesh layer 3 is trapezoidal (tetragonal), triangular, polygonal (pentagonal pentagon, hexagon, etc.), semi-elliptical, Any one selected from a parabolic shape, a sinusoidal shape, and similar shapes can be cited. Each of these shapes has a decreasing function S (x) of the distance x from the transparent resin substrate sheet 1 as a cross-sectional area cut along a virtual plane P parallel to the transparent resin substrate sheet 1.

例えば、図4(A)に示す台形においては、底辺側の両角α,α’の角度が20°〜85°で、上辺側の両角β,β’の角度が95°〜160°である台形を例示できる。また、図4(B)に示す3角形においては、底辺側の両角α,α’の角度が20°〜75°で、頂部の角度βが30°〜140°である3角形を例示できる。また、図4(C)に示す5角形においては、底辺側の両角α,α’の角度が20°〜85°で、頂部の角度βが30°〜170°で、その間の両角γ,γ’の角度が105°〜170°である5角形を例示できる。また、図4(D)に示す6角形においては、底辺側の両角α,α’の角度が20°〜85°で、上辺側の両角の角度β,β’が95°〜160°で、その間の両角の角度γ,γ’が105°〜170°である6角形を例示できる。また、図4(E)に示す半楕円形においては、断面の水平方向座標をx、鉛直方向座標をyとした際に、x/a+y/b=1、の式で表される半楕円形を例示できる。楕円の扁平度は、b/aで評価するとした場合、1/5≦b/a≦5/1程度である。また、図4(F)に示す放物線形においては、断面の水平方向座標をx、鉛直方向座標をyと仮定した際に、y=ax、の式で表される放物線形を例示できる。また、図4(G)に示す正弦曲線形においては、断面の水平方向座標をx、鉛直方向座標をyとした際に、y=asinbx、の式で表される曲線を例示できる。 For example, in the trapezoid shown in FIG. 4A, a trapezoid in which the angles α and α ′ on the bottom side are 20 ° to 85 ° and the angles β and β ′ on the top side are 95 ° to 160 °. Can be illustrated. In addition, in the triangle shown in FIG. 4B, a triangle having both the base side angles α and α ′ of 20 ° to 75 ° and the apex angle β of 30 ° to 140 ° can be exemplified. Further, in the pentagon shown in FIG. 4C, the angles α and α ′ on the base side are 20 ° to 85 ° and the angle β on the top is 30 ° to 170 °. A pentagon having an angle of '105 ° to 170 ° can be exemplified. Further, in the hexagon shown in FIG. 4D, the angles of the base side angles α, α ′ are 20 ° to 85 °, and the angles β, β ′ of the upper side angles are 95 ° to 160 °, An example is a hexagon in which the angles γ and γ ′ between the two angles are 105 ° to 170 °. Table In the semi-elliptical shown in FIG. 4 (E), the horizontal coordinate of the cross-section x, a vertical coordinate upon the y, x 2 / a 2 + y 2 / b 2 = 1, by the formula The semi-elliptical shape can be illustrated. The flatness of the ellipse is about 1/5 ≦ b / a ≦ 5/1 when evaluated by b / a. In addition, in the parabola shown in FIG. 4F, when the horizontal coordinate of the cross section is assumed to be x, and the vertical coordinate is assumed to be y, a parabola represented by the equation y = ax 2 can be exemplified. In addition, in the sinusoidal shape shown in FIG. 4G, a curve represented by the equation y = asinbx can be exemplified when the horizontal coordinate of the cross section is x and the vertical coordinate is y.

本発明においは、図4に示した断面形状の具体例に限定されるものではなく、その他の角度を有する断面形状であってもよい。また、αとα’、βとβ’、γとγ’は、それぞれ同じ角度であってもよいし、異なる角度であってもよい。また、図4に示した以外の断面形状の例としては、双曲線、双曲線正弦(又は余弦)曲線、正規分布曲線、楕円函数曲線、ベッセル関数曲線、サイクロイド曲線等(の一部)を挙げることができる。   The present invention is not limited to the specific example of the cross-sectional shape shown in FIG. 4 and may have a cross-sectional shape having other angles. Also, α and α ′, β and β ′, and γ and γ ′ may be the same angle or different angles. Examples of cross-sectional shapes other than those shown in FIG. 4 include hyperbola, hyperbolic sine (or cosine) curve, normal distribution curve, elliptic function curve, Bessel function curve, cycloid curve, etc. it can.

上記の断面形状を有する導電性メッシュ層3は、該導電性メッシュ層3上から、後述する粘着剤層を有する光学フィルタをラミネートする際に、該導電性メッシュ層3と該粘着剤層との間の気泡が抜けやすく、該粘着剤層中に気泡が残留しにくいという効果を有する。   When the conductive mesh layer 3 having the above-described cross-sectional shape is laminated on the conductive mesh layer 3 with an optical filter having an adhesive layer to be described later, the conductive mesh layer 3 and the adhesive layer There is an effect that the air bubbles are easily removed and the air bubbles hardly remain in the pressure-sensitive adhesive layer.

また、本発明においては、導電性メッシュ層3の基底部のライン幅Wと、導電性メッシュ層3の基底部からの高さHの比(H/W:アスペクト比、図2(B)及び図4(A)を参照)が0.2以上であることが好ましい。導電性メッシュ層3のアスペクト比(H/W)を0.2以上とすることにより、断面に占める導電性組成物の割合が大きくなるので、導電性メッシュ層3の導電性を高めることができ、電磁波遮蔽シートの電磁波遮蔽性をより向上させることができるという利点がある。導電性メッシュ層3のアスペクト比が0.2未満の場合には、断面に占める導電性組成物の割合が相対的に小さくなるので、十分な導電性を導電性メッシュ層3に持たせることがでず、電磁波遮蔽シートの電磁波遮蔽性が劣る場合がある。また、導電性と透過視認性の両立の観点からは、導電性メッシュ層3のアスペクト比(H/W)のより好ましい値は0.4以上である。なお、導電性メッシュ層3のアスペクト比(H/W)の上限は特に限定されないが、本方式における転移性の観点からは、例えば2.0未満を挙げることができる。   In the present invention, the ratio of the line width W of the base portion of the conductive mesh layer 3 to the height H from the base portion of the conductive mesh layer 3 (H / W: aspect ratio, FIG. (See FIG. 4A) is preferably 0.2 or more. By setting the aspect ratio (H / W) of the conductive mesh layer 3 to 0.2 or more, the ratio of the conductive composition in the cross section increases, so that the conductivity of the conductive mesh layer 3 can be increased. There is an advantage that the electromagnetic wave shielding property of the electromagnetic wave shielding sheet can be further improved. When the aspect ratio of the conductive mesh layer 3 is less than 0.2, the ratio of the conductive composition in the cross section is relatively small, so that the conductive mesh layer 3 can have sufficient conductivity. In addition, the electromagnetic shielding properties of the electromagnetic shielding sheet may be inferior. From the viewpoint of achieving both conductivity and transmission visibility, a more preferable value of the aspect ratio (H / W) of the conductive mesh layer 3 is 0.4 or more. In addition, although the upper limit of the aspect ratio (H / W) of the electroconductive mesh layer 3 is not specifically limited, For example, less than 2.0 can be mentioned from the viewpoint of the transferability in this system.

なお、導電性メッシュ層3の基底部のライン幅Wとは、プライマー層2の平坦表面と、プライマー層2上に突出する導電性メッシュ層3の輪郭との間の2つの交点間の距離のことである。また、導電性メッシュ層3の基底部からの高さHとは、前記の交点から、導電性メッシュ層3の頂部までの高さ(透明樹脂基材シート1の法線方向の距離)である。   The line width W of the base portion of the conductive mesh layer 3 is the distance between two intersections between the flat surface of the primer layer 2 and the contour of the conductive mesh layer 3 protruding on the primer layer 2. That is. Further, the height H from the base of the conductive mesh layer 3 is the height from the intersection point to the top of the conductive mesh layer 3 (distance in the normal direction of the transparent resin base sheet 1). .

[メッシュパターン断面形態]
次に、プライマー層2上に形成された導電性メッシュ層3のメッシュパターン形態について説明する。以下、その形態を「メッシュパターン19」ともいう。図5〜図7は、メッシュパターン19(19A〜19C)の第1形態〜第3形態を示す模式断面図である。本発明において、メッシュパターン19は、プライマー層2と、プライマー層2上に所定のパターンで形成された導電性メッシュ層3とで構成されている。該メッシュパターン19A〜19Cは、いずれにおいても、導電性メッシュ層3が形成されている部分のプライマー層2の厚さTAが、導電性メッシュ層3が形成されていない部分のプライマー層2の厚さTBよりも厚くなっている。こうした形態は、平坦面からなるプライマー層2上に導電性メッシュ層3が形成されている場合に比べ、プライマー層2と導電性メッシュ層3との密着性に優れるという形態由来の効果がある。また、こうした形態は、上述のようにその製法に起因するものであって、凹版面上でドクターブレードによって凹部内以外の余分な導電性組成物が掻き取られた際に、該凹部内の導電性組成物の上部には凹み6が生じやすく、該凹み6を有した状態で版面にプライマー層2を圧着することにより、流動性のあるプライマー層2が該凹み6内に充填され、硬化後に剥離することによって生じたものである。第1形態のメッシュパターン19Aは、プライマー層2が導電性メッシュ層3(導電性組成物15)に空隙なく密着し、導電性メッシュ層3(導電性組成物15)の転移不良に基づく断線、形状不良、低密着性等の不具合が生じない電磁波遮蔽シートとすることができる。
[Mesh pattern cross section]
Next, the mesh pattern form of the conductive mesh layer 3 formed on the primer layer 2 will be described. Hereinafter, the form is also referred to as “mesh pattern 19”. 5 to 7 are schematic cross-sectional views showing first to third forms of the mesh pattern 19 (19A to 19C). In the present invention, the mesh pattern 19 includes the primer layer 2 and the conductive mesh layer 3 formed in a predetermined pattern on the primer layer 2. In any of the mesh patterns 19A to 19C, the thickness TA of the primer layer 2 where the conductive mesh layer 3 is formed is equal to the thickness of the primer layer 2 where the conductive mesh layer 3 is not formed. It is thicker than TB. Such a form has an effect derived from the form that the adhesion between the primer layer 2 and the conductive mesh layer 3 is excellent as compared with the case where the conductive mesh layer 3 is formed on the primer layer 2 having a flat surface. Further, such a form is caused by the manufacturing method as described above, and when the excess conductive composition other than the inside of the concave portion is scraped off by the doctor blade on the intaglio plate surface, A dent 6 tends to be formed on the upper part of the adhesive composition, and the primer layer 2 having fluidity is filled in the dent 6 by press-bonding the primer layer 2 to the plate surface with the dent 6, and after curing, This is caused by peeling. The mesh pattern 19A of the first form is such that the primer layer 2 is in close contact with the conductive mesh layer 3 (conductive composition 15) without voids, and the disconnection is based on poor transfer of the conductive mesh layer 3 (conductive composition 15). It can be set as the electromagnetic wave shielding sheet which does not produce defects, such as a shape defect and low adhesiveness.

第1形態のメッシュパターン19Aは、図5に示すように、プライマー層2と導電性メッシュ層3との界面12が、プライマー層2側と導電性メッシュ層3側とに交互に入り組んだ形態である。この形態において、該界面12が、プライマー層2を構成する樹脂と導電性メッシュ層3を構成する樹脂又はフィラーとの界面であるように構成されていてもよい。この場合の「フィラー」とは、任意の粉末であり、導電性粉末であっても非導電性粉末であっても構わない。例えば、導電性組成物が導電性粉末とバインダー樹脂とで構成されている場合には、該界面12は、導電性メッシュ層3中の導電性粉末とプライマー層2を構成する樹脂とが入り組んだ態様で形成される。このときの入り組みの程度は、導電性粉末の形状や大きさに依存する。また、例えば、導電性組成物がフィラーを含まず、導電性樹脂や導電性化合物を含有する場合には、プライマー層2を凹部内に圧着する際の圧力等によって、プライマー層2と導電性メッシュ層3との界面が入り組んだ形態になっている。なお、該第1形態のメッシュパターン19Aにおいて、入り組んだ界面12は、全体(包絡面形状乃至は入り組んだ凹凸を平滑化した仮想曲面)としては中央が高い山型の断面形態となっている。   As shown in FIG. 5, the mesh pattern 19A of the first form is such that the interface 12 between the primer layer 2 and the conductive mesh layer 3 is alternately arranged on the primer layer 2 side and the conductive mesh layer 3 side. is there. In this embodiment, the interface 12 may be configured to be an interface between the resin constituting the primer layer 2 and the resin or filler constituting the conductive mesh layer 3. The “filler” in this case is an arbitrary powder and may be a conductive powder or a non-conductive powder. For example, when the conductive composition is composed of a conductive powder and a binder resin, the interface 12 is complicated by the conductive powder in the conductive mesh layer 3 and the resin constituting the primer layer 2. Formed in a manner. The degree of intricacy at this time depends on the shape and size of the conductive powder. In addition, for example, when the conductive composition does not contain a filler and contains a conductive resin or a conductive compound, the primer layer 2 and the conductive mesh are caused by the pressure when the primer layer 2 is pressure-bonded into the recess. The interface with the layer 3 is intricate. In the mesh pattern 19A of the first form, the complicated interface 12 has a mountain-shaped cross-sectional shape with a high center as a whole (an envelope surface or a virtual curved surface obtained by smoothing complicated irregularities).

上記第1形態のメッシュパターン19Aは、そもそも平坦面でない山型のプライマー層2上に導電性メッシュ層3が形成されていることを以ってしても密着性がよいのに加え、上記のように界面12が入り組んだ形態になっているので、所謂投錨効果により、プライマー層2と導電性メッシュ層3との密着性が著しく高くなっている。さらに、該メッシュパターン19Aを形成する際にも、版凹部内に充填された導電性組成物がプライマー層2上に極めて高い転移率(ほぼ100%)で転写されるという格別の効果も備えている。   The mesh pattern 19A of the first form has good adhesion even if the conductive mesh layer 3 is formed on the mountain-shaped primer layer 2 which is not a flat surface in the first place, Thus, since the interface 12 is in a complicated form, the adhesion between the primer layer 2 and the conductive mesh layer 3 is remarkably increased due to the so-called anchoring effect. Furthermore, when forming the mesh pattern 19A, the conductive composition filled in the plate recess is transferred to the primer layer 2 with a very high transfer rate (approximately 100%). Yes.

第2形態のメッシュパターン19Bは、図6に示すように、プライマー層2と導電性メッシュ層3との界面12の近傍に、プライマー層2に含まれるプライマー成分と、導電性メッシュ層を構成する成分とが混合する領域14が存在している形態である。図6では界面12を明確に表現しているが、実際の混合領域14では、該界面12は明確には現れておらず、明瞭でない曖昧な界面が現れる。また、図6では混合領域14は、界面12を上下に挟むように存在する。この場合は、プライマー層2中のプライマー成分(例えば溶剤など)と導電性メッシュ層3中の任意の成分(例えばモノマー成分など)とが両層内に相互に侵入する場合である。なお、混合領域14が界面12の上側に存在しても下側に存在してもよい。混合領域14が界面12の上側に存在する場合としては、プライマー層2中のプライマー成分が導電性メッシュ層3内に侵入し、導電性メッシュ層3中の任意の成分がプライマー層2内に侵入しない場合であり、一方、混合領域14が界面12の下側に存在する場合としては、導電性メッシュ層3中の任意の成分がプライマー層2内に侵入し、プライマー層2中のプライマー成分が導電性メッシュ層3内に侵入しない場合である。なお、混合領域14の厚さ(図6の上下方向の厚さ)は特に限定されない。   As shown in FIG. 6, the mesh pattern 19B of the second form constitutes a conductive mesh layer and a primer component contained in the primer layer 2 in the vicinity of the interface 12 between the primer layer 2 and the conductive mesh layer 3. It is the form where the area | region 14 with which a component mixes exists. Although the interface 12 is clearly expressed in FIG. 6, in the actual mixed region 14, the interface 12 does not appear clearly, and an unclear and ambiguous interface appears. In FIG. 6, the mixed region 14 exists so as to sandwich the interface 12 vertically. In this case, a primer component (for example, a solvent) in the primer layer 2 and an arbitrary component (for example, a monomer component) in the conductive mesh layer 3 penetrate into each other. Note that the mixed region 14 may exist above or below the interface 12. In the case where the mixed region 14 exists above the interface 12, the primer component in the primer layer 2 penetrates into the conductive mesh layer 3, and any component in the conductive mesh layer 3 penetrates into the primer layer 2. On the other hand, when the mixed region 14 exists below the interface 12, any component in the conductive mesh layer 3 enters the primer layer 2, and the primer component in the primer layer 2 This is a case where the conductive mesh layer 3 does not enter. The thickness of the mixed region 14 (the thickness in the vertical direction in FIG. 6) is not particularly limited.

上記第2形態のメッシュパターン19Bも上記第1形態の場合と同様、そもそも平坦面でない山型のプライマー層2上に導電性メッシュ層3が形成されていることを以ってしても密着性がよいのに加え、上記のように界面12近傍に混合領域14を有するので、プライマー層2と導電性メッシュ層3との密着性が著しく高くなっている。さらに、該メッシュパターン19Bを形成する際にも、版凹部内に充填された導電性組成物がプライマー層2上に極めて高い転移率(ほぼ100%)で転写されるという格別の効果も備えている。   As in the case of the first embodiment, the mesh pattern 19B of the second embodiment also has adhesion even if the conductive mesh layer 3 is formed on the mountain-shaped primer layer 2 that is not a flat surface. In addition, since the mixed region 14 is provided in the vicinity of the interface 12 as described above, the adhesion between the primer layer 2 and the conductive mesh layer 3 is remarkably enhanced. Furthermore, when forming the mesh pattern 19B, the conductive composition filled in the plate recess is transferred to the primer layer 2 with an extremely high transfer rate (approximately 100%). Yes.

第3形態のメッシュパターン19Cは、図7に示すように、導電性メッシュ層3を構成する導電性組成物中に、プライマー層2に含まれるプライマー成分16が存在している形態である。図7ではプライマー成分16が界面12付近で多く、頂部に向かって少なくなっている態様を模式的に表しているが、こうした態様には特に限定されず、要するに、プライマー成分16が導電性メッシュ層3内に存在していればよい。プライマー成分16は、導電性メッシュ層3の頂部から検出される程度に導電性メッシュ層3内に侵入していてもよいし、界面12近傍で検出される程度であってもよい。なお、第3形態において、特に、プライマー成分16が導電性メッシュ層3内に存在している領域が界面12の近傍に局在化している場合が、第2形態において混合領域14が界面12の上側にのみ存在する形態に相当するといえる。   As shown in FIG. 7, the mesh pattern 19 </ b> C of the third form is a form in which the primer component 16 included in the primer layer 2 is present in the conductive composition constituting the conductive mesh layer 3. FIG. 7 schematically shows an aspect in which the primer component 16 is large near the interface 12 and decreases toward the top, but is not particularly limited to such an aspect. In short, the primer component 16 includes the conductive mesh layer. 3 only needs to be present. The primer component 16 may penetrate into the conductive mesh layer 3 to the extent that it is detected from the top of the conductive mesh layer 3 or may be detected to the vicinity of the interface 12. In the third embodiment, in particular, when the region where the primer component 16 is present in the conductive mesh layer 3 is localized in the vicinity of the interface 12, the mixed region 14 is the interface 12 in the second embodiment. It can be said that it corresponds to a form existing only on the upper side.

上記第3形態のメッシュパターン19Cも上記第1及び第2形態の場合と同様、そもそも平坦面でない山型のプライマー層2上に導電性メッシュ層3が形成されていることを以ってしても密着性がよいのに加え、上記のようにプライマー成分16が導電性メッシュ層3に存在する程度に侵入しているので、プライマー層2と導電性メッシュ層3との密着性が著しく高くなっている。さらに、こうしたメッシュパターン19Cを形成する際にも、版凹部内に充填された導電性組成物がプライマー層2上に極めて高い転移率(ほぼ100%)で転写されるという格別の効果も備えている。   As in the case of the first and second forms, the mesh pattern 19C of the third form is formed by forming the conductive mesh layer 3 on the mountain-shaped primer layer 2 that is not a flat surface. In addition to the good adhesion, the primer component 16 penetrates to the extent that it exists in the conductive mesh layer 3 as described above, so the adhesion between the primer layer 2 and the conductive mesh layer 3 is remarkably increased. ing. Furthermore, when forming such a mesh pattern 19C, the conductive composition filled in the plate recess is transferred to the primer layer 2 with an extremely high transfer rate (approximately 100%). Yes.

本発明においては、上記の第1〜第3形態のメッシュパターン19の特徴を少なくとも1つ有しているが、それらの特徴を2つ以上有していてもよく、3つの全てを有していてもよい。   In the present invention, at least one of the features of the mesh pattern 19 of the first to third embodiments described above is included, but two or more of these features may be included, and all three are included. May be.

(導電性組成物層上に形成される金属層)
導電性組成物層から成る導電性メッシュ層上に形成される金属層は、該導電性メッシュ層3のみでは所望の導電率に不足する場合に、導電率を更に向上せしめるために、必要に応じ形成するものである。通常、導電性メッシュ層3上にめっきにより形成される。めっきの方法としては、電解めっき、無電解めっき等の方法があるが、電気めっきは無電解めっきに比べて通電量を増やすことでめっき速度を数倍に上げることができ、生産性を著しく向上させることができるため好ましい。
(Metal layer formed on the conductive composition layer)
If the metal layer formed on the conductive mesh layer made of the conductive composition layer is insufficient for the desired conductivity only with the conductive mesh layer 3, it is necessary to further improve the conductivity. To form. Usually, it is formed on the conductive mesh layer 3 by plating. As plating methods, there are methods such as electrolytic plating, electroless plating, etc. Electroplating can increase the plating speed several times by increasing the amount of current compared to electroless plating, which significantly improves productivity. It is preferable because it can be used.

電解めっきの場合、導電性メッシュ層3への給電は導電性メッシュ層3が形成された面に接触させた通電ロール等の電極から行われるが、導電性メッシュ層3が電解めっき可能な程度の導電性(例えば、100Ω/□以下)を有するので、電解めっきを問題なく行うことができる。金属層を構成する材料としては、導電性が高く容易にめっき可能な、銅、銀、金、クロム、ニッケル、錫を挙げることができる。金属層は導電性メッシュ層3に比べると一般的に体積抵抗率が1桁以上小さいため、導電性メッシュ層単体で電磁波遮蔽性を確保する場合に比べて、必要な導電材料の量を減らせるという利点がある。   In the case of electrolytic plating, power feeding to the conductive mesh layer 3 is performed from an electrode such as a current-carrying roll brought into contact with the surface on which the conductive mesh layer 3 is formed. Since it has conductivity (for example, 100Ω / □ or less), electrolytic plating can be performed without any problem. Examples of the material constituting the metal layer include copper, silver, gold, chromium, nickel, and tin, which are highly conductive and can be easily plated. Since the metal layer generally has a volume resistivity smaller than that of the conductive mesh layer 3 by one digit or more, the amount of necessary conductive material can be reduced compared to the case where the conductive mesh layer alone secures electromagnetic wave shielding. There is an advantage.

なお、金属層を形成した後においては、必要に応じて、その金属層を黒化処理したり、保護層を設けたりしてもよい。黒化処理は、例えば黒化ニッケルめっき、銅−コバルト合金めっき等の処理を例示でき、また、保護層は、例えばアクリル系の光硬化性樹脂を用いて形成することができる。   Note that after the metal layer is formed, the metal layer may be blackened or a protective layer may be provided as necessary. Examples of the blackening treatment include blackening nickel plating and copper-cobalt alloy plating, and the protective layer can be formed using, for example, an acrylic photocurable resin.

(B)連続帯状の光学フィルタを準備する工程
工程(B)は、光学機能を付与した第二の透明樹脂基材シートの一方の面に粘着剤層を有する連続帯状の光学フィルタを準備する工程である。
本工程においては、先ず、光学機能を付与した第二の透明樹脂基材シート(以下、単に「透明樹脂基材シート」ともいう)を用意し、この透明樹脂基材シートの一方の面に、粘着剤層を設ける。
(B) The process of preparing a continuous strip-shaped optical filter The process (B) is a process of preparing a continuous strip-shaped optical filter having an adhesive layer on one surface of the second transparent resin base sheet provided with an optical function. It is.
In this step, first, a second transparent resin base sheet provided with an optical function (hereinafter, also simply referred to as “transparent resin base sheet”) is prepared, and on one surface of the transparent resin base sheet, An adhesive layer is provided.

上記透明樹脂基材シートに、機能を付与する方法としては、第二の透明樹脂基材シートの一方の面又は両面に光学機能層を積層する方法、或いは第二の透明樹脂基材シート中に光学機能を有する材料を添加する方法が有る。斯かる光学機能層を積層する方法としては、湿式成膜法と乾式成膜法とが有る。例えば、湿式成膜法を用いる場合、後述する各種の光学機能を持った各層の構成材料を必要に応じて溶剤に希釈して層形成用塗工液を調製する。該層形成用塗工液を、連続帯状の透明樹脂基材シートの一方の面にグラビアリバース法等の各種塗工法により塗工(例えば10g/m)することにより形成することができる。又、乾式成膜法としては、例えば、各種光学機能を持った材料を真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、化学気相堆積法(CVD;chemical vapor deposition)、電解又は無電解めっき、熔射等の方法により連続帯状の透明樹脂基材シートの一方の面に積層する。
斯かる光学機能を有する材料を添加する方法としては、例えば、第二の透明樹脂基材シートを構成する樹脂材料成分と光学機能を有する材料とを混合し、適宜分散乃至は溶解した組成物を公知の適宜方法により成膜して第二の透明樹脂基材シートとすることができる。
As a method of imparting a function to the transparent resin substrate sheet, a method of laminating an optical functional layer on one surface or both surfaces of the second transparent resin substrate sheet, or in the second transparent resin substrate sheet There is a method of adding a material having an optical function. As a method of laminating such optical functional layers, there are a wet film forming method and a dry film forming method. For example, when the wet film-forming method is used, a layer-forming coating solution is prepared by diluting a constituent material of each layer having various optical functions, which will be described later, with a solvent as necessary. The layer-forming coating solution can be formed by coating (for example, 10 g / m 2 ) on one surface of a continuous belt-shaped transparent resin substrate sheet by various coating methods such as a gravure reverse method. Examples of dry film forming methods include, for example, vacuum evaporation, sputtering, ion plating, chemical vapor deposition (CVD), electrolysis or electroless plating, thermal spraying, and the like, of materials having various optical functions. Is laminated on one surface of the continuous strip-shaped transparent resin substrate sheet by the above method.
As a method of adding such a material having an optical function, for example, a resin material component constituting the second transparent resin base sheet and a material having an optical function are mixed, and a composition that is appropriately dispersed or dissolved is mixed. It can form into a 2nd transparent resin base material sheet | seat by a well-known appropriate method.

また、上記透明樹脂基材シートの一方の面、即ち被着面に、粘着剤層を設ける方法としては、特に限定されず、粘着剤層を種々の塗工方法を用いて直接塗工する方法と、予め別途シート状に成型された粘着剤層を貼り合わせる方法が挙げられる。本発明においてはいずれも好適な方法として用いることができる。塗工を行う方法としては、ロールコータ、ダイコータ、ブレードコータ、コンマコータ、スクリーン印刷等が挙げられる。貼り合わせる方法としては、後述の(D)工程で説明するのと同様な貼り合わせ方法を用いることができる。
また、形成された粘着剤層は塗着機能を有するため、実際に電磁波遮蔽シートと貼り合わせるまでの間は、不用意な接着の防止のため、シリコーン処理した易剥離性のPETフィルム等の一時的な保護膜(離型シート或いはセパレータと呼称される)を積層しておくことが好ましい。
Moreover, it does not specifically limit as a method of providing an adhesive layer in the one surface of the said transparent resin base material sheet, ie, a to-be-adhered surface, The method of coating an adhesive layer directly using various coating methods And a method in which a pressure-sensitive adhesive layer separately molded into a sheet is pasted together. Any method can be used in the present invention. Examples of the coating method include a roll coater, a die coater, a blade coater, a comma coater, and screen printing. As a bonding method, a bonding method similar to that described in the later-described step (D) can be used.
Further, since the formed pressure-sensitive adhesive layer has a coating function, until it is actually bonded to the electromagnetic wave shielding sheet, a temporary treatment such as a silicone-treated easy-peelable PET film or the like is used to prevent inadvertent adhesion. It is preferable to laminate a protective film (referred to as a release sheet or a separator).

以下、本発明に用いられる光学フィルタについて、第二の透明樹脂基材シートから順に説明する。
(第二の透明樹脂基材シート)
光学フィルタに用いられる第二の透明樹脂基材シートとしては、電磁波遮蔽シートに用いられる第一の透明樹脂基材シートにおいて記載したのと同様の透明樹脂基材シートを用いることができる。
Hereinafter, the optical filter used in the present invention will be described in order from the second transparent resin base sheet.
(Second transparent resin base sheet)
As a 2nd transparent resin base material sheet used for an optical filter, the transparent resin base material sheet similar to having described in the 1st transparent resin base material sheet used for an electromagnetic wave shielding sheet can be used.

(光学機能)
本発明の光学フィルタを構成する機能は特に限定されないが、近赤外線吸収、紫外線吸収、ネオン光吸収、色調調整(着色)、防眩、及び反射防止等が有る。又本発明の光学フィルタは、必要に応じて、光学機能に加えて、光学以外の其の他機能を付与しても良い。其の他機能としては、耐擦傷機能、帯電防止機能、防汚機能、耐衝撃機能、視野角規制機能、抗菌機能、防黴機能等が挙げられる。斯かる其の他機能も、第二の透明樹脂基材シートに独立した層を積層したり、内部に添加したりして付与する。斯かる光学機能或いは其の他機能を機能層の積層で実現する場合、該機能層は1層でも2層以上でもよく、各層が複数の異なる機能を兼ね備えていても良い。また、各機能層間に、それぞれ粘着剤層が設けられていても良い。
(Optical function)
Although the function which comprises the optical filter of this invention is not specifically limited, There exist near-infrared absorption, ultraviolet absorption, neon light absorption, color tone adjustment (coloring), anti-glare, antireflection, etc. In addition to the optical function, the optical filter of the present invention may have other functions other than the optical function as necessary. Other functions include an abrasion resistance function, an antistatic function, an antifouling function, an impact resistance function, a viewing angle regulation function, an antibacterial function, an antifungal function, and the like. Such other functions are also imparted by laminating an independent layer on the second transparent resin base sheet or adding it to the inside. When such an optical function or other functions are realized by stacking functional layers, the functional layer may be one layer or two or more layers, and each layer may have a plurality of different functions. An adhesive layer may be provided between each functional layer.

以下、各機能について、これを機能層の積層により付与する形態を例示して説明する。例えば、近赤外線吸収層等というのは、第二の透明樹脂基材シートに積層される近赤外線吸収機能を付与された層を意味する。
(1)近赤外線吸収層
近赤外線吸収層としては、近赤外線吸収色素をバインダー樹脂へ含有させて上記透明樹脂基材シート上に塗工等の湿式成膜法により形成することができる。近赤外線吸収色素としては、光学フィルタが代表的な用途であるプラズマディスプレイパネルの前面に適用される場合、プラズマディスプレイパネルはキセノンガス放電を利用して発光する際に生じる近赤外線領域、即ち、800nm〜1100nmの波長域を吸収するもの、該帯域の近赤外線の透過率が20%以下、更に10%以下であることが好ましい。同時に近赤外線吸収層は、可視光領域、即ち、380nm〜780nmの波長域で、十分な光線透過率を有することが望ましい。近赤外線吸収色素としては、具体的には、ポリメチン系化合物、シアニン系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、イモニウム系化合物、ジイモニウム系化合物、アミニウム系化合物、ピリリウム系化合物、セリリウム系化合物、スクワリリウム系化合物、銅錯体類、ニッケル錯体類、ジチオール系金属錯体類の有機系近赤外線吸収色素、酸化スズ、酸化インジウム、6塩化タングステン、セシウム含有酸化タングステン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化鉄、等の粒子から成る無機系近赤外線吸収色素を1種、又は2種以上を併用することができる。また、バインダー樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂が用いられる。又バインダー樹脂の乾燥、硬化方式としては、溶液(又はエマルジョン)からの溶媒(又は分散媒)の乾燥による乾燥固化方式、熱、紫外線、電子線などのエネルギーによる重合、架橋反応を利用した硬化方式、或いは樹脂中の水酸基、エポキシ基等の官能基と硬化剤中のイソシアネート基などとの架橋、重合等の反応を利用した硬化方式などが適用できる。
或いは、近赤外線吸収層は、アルミニウム、金、銀、銅、酸化インジウム錫(ITO)、或いは上記無機系近赤外線吸収色素等の近赤外線吸収性能を有する物質を、真空蒸着、スパッタリング、化学気相堆積法等の乾式成膜法にて、第二の透明樹脂基材シート表面に積層することによっても形成出来る。但し、本発明の用途に於いては、可視光線も十分透過せしめる必要がある為、これら層の厚みは可視光線を十分透過し得る厚みとする。材料にもよるが、一般的には、可視光線の最短波長の380nm未満とする。
Hereinafter, each function will be described by exemplifying a form in which this function is provided by stacking functional layers. For example, the near-infrared absorbing layer or the like means a layer provided with a near-infrared absorbing function that is laminated on the second transparent resin base sheet.
(1) Near-infrared absorption layer As a near-infrared absorption layer, a near-infrared absorption pigment | dye can be contained in binder resin and it can form by wet film-forming methods, such as coating, on the said transparent resin base material sheet. As the near-infrared absorbing dye, when an optical filter is applied to the front surface of a plasma display panel, which is a typical application, the plasma display panel generates a near-infrared region, that is, 800 nm generated when light is emitted using a xenon gas discharge. It is preferable that the near-infrared transmittance of the wavelength region of ˜1100 nm is 20% or less, more preferably 10% or less. At the same time, it is desirable that the near-infrared absorbing layer has a sufficient light transmittance in the visible light region, that is, in the wavelength region of 380 nm to 780 nm. Specific examples of near-infrared absorbing dyes include polymethine compounds, cyanine compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, naphthoquinone compounds, anthraquinone compounds, imonium compounds, diimonium compounds, aminium compounds, pyrylium. Compounds, cerium compounds, squarylium compounds, copper complexes, nickel complexes, dithiol metal complexes organic near infrared absorbing dyes, tin oxide, indium oxide, tungsten hexachloride, cesium-containing tungsten oxide, aluminum oxide, One or two or more inorganic near-infrared absorbing dyes composed of particles such as zinc oxide and iron oxide can be used in combination. As the binder resin, a resin such as a polyester resin, a polyurethane resin, an acrylic resin, or an epoxy resin is used. The binder resin can be dried and cured by drying and solidifying by drying a solvent (or dispersion medium) from a solution (or emulsion), polymerization by energy such as heat, ultraviolet rays and electron beams, and a curing method using a crosslinking reaction. Alternatively, a curing method using a reaction such as crosslinking or polymerization between a functional group such as a hydroxyl group or an epoxy group in a resin and an isocyanate group in a curing agent can be applied.
Alternatively, the near-infrared absorption layer may be formed by vacuum deposition, sputtering, chemical vapor deposition of a material having near-infrared absorption performance such as aluminum, gold, silver, copper, indium tin oxide (ITO), or the above-described inorganic near-infrared absorbing dye. It can also be formed by laminating on the surface of the second transparent resin substrate sheet by a dry film forming method such as a deposition method. However, in the application of the present invention, since it is necessary to transmit visible light sufficiently, the thickness of these layers is set to a thickness capable of transmitting visible light sufficiently. Although it depends on the material, it is generally less than 380 nm which is the shortest wavelength of visible light.

(2)紫外線吸収層
紫外線吸収層としては、例えば、紫外線吸収剤をバインダー樹脂に分散させて形成することができる。紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン等の有機系化合物、微粒子状の酸化亜鉛、酸化セリウム等からなる無機系化合物からなるものが挙げられる。該バインダー樹脂としては、上記近赤外線吸収層で挙げたような樹脂を用いることができる。
(2) Ultraviolet absorbing layer The ultraviolet absorbing layer can be formed, for example, by dispersing an ultraviolet absorber in a binder resin. Examples of the ultraviolet absorber include organic compounds such as benzotriazole and benzophenone, and inorganic compounds composed of particulate zinc oxide, cerium oxide, and the like. As the binder resin, the resins mentioned in the near infrared absorption layer can be used.

(3)防眩層
防眩層(Anti Glare層、略称してAG層)は、バインダー樹脂中にシリカなどの無機フィラーを添加した塗膜形成や、或いは賦形版等を用いた賦形加工により、層表面に外光を乱反射する微細凹凸を設けた層として形成することができる。バインダー樹脂としては、表面層として表面強度が望まれる関係上、硬化性アクリル樹脂や、後記のハードコート層同様に電離放射線硬化性樹脂等が好適に使用される。
(3) Anti-glare layer Anti-glare layer (Anti Glare layer, abbreviated as AG layer) is formed by coating with an inorganic filler such as silica in a binder resin, or by shaping using a shaping plate Thus, the layer surface can be formed as a layer provided with fine irregularities for irregularly reflecting external light. As the binder resin, a curable acrylic resin, an ionizing radiation curable resin, or the like is preferably used in the same manner as the hard coat layer described later because surface strength is desired as the surface layer.

(4)反射防止層
反射防止層(Anti Reflection層、略称してAR層)は、低屈折率層の単層、或いは、低屈折率層と高屈折率層とを、該低屈折率層が最上層に位置する様に交互に積層した多層構成が一般的であり、蒸着やスパッタ等の乾式成膜法で、或いは塗工等の湿式成膜法も利用して形成することができる。なお、低屈折率層はケイ素酸化物、フッ化マグネシウム、フッ化アルミニウム、氷晶石、フッ素含有樹脂等が用いられ、高屈折率層には、酸化チタン、硫化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ等が用いられる。尚、ここで高(低)屈折率層とは、該層と隣接する層(例えば、低(高)屈折率層)と比較して該層の屈折率が相対的に高(低)いという意味である。
反射防止層に更に耐擦傷機能を付与する場合には、後記する耐擦傷機能(ハードコート)層の項で記載した硬度の高い材料を適宜用いて形成する。
(4) Antireflective layer The antireflective layer (Anti Reflection layer, abbreviated as AR layer) is a low refractive index layer or a low refractive index layer and a high refractive index layer. A multilayer structure in which layers are alternately stacked so as to be positioned at the uppermost layer is generally used, and can be formed by a dry film formation method such as vapor deposition or sputtering, or by using a wet film formation method such as coating. The low refractive index layer is made of silicon oxide, magnesium fluoride, aluminum fluoride, cryolite, fluorine-containing resin, etc., and the high refractive index layer is made of titanium oxide, zinc sulfide, zirconium oxide, niobium oxide, etc. Is used. Here, the high (low) refractive index layer means that the refractive index of the layer is relatively high (low) compared to a layer adjacent to the layer (for example, a low (high) refractive index layer). Meaning.
When the antireflection layer is further provided with a scratch resistance function, the antireflection layer is appropriately formed using a material having high hardness described in the section of the scratch resistance function (hard coat) layer described later.

(5)耐擦傷機能層
耐擦傷機能(ハードコート)層は、JISK5600−5−4(1999)で規定される鉛筆硬度試験(500g荷重)で「H」以上の硬度を示すものであることが好ましく、このような硬度と上記透明樹脂基材と同様な透明性を実現できるものであれば、材料は特に限定されない。
耐擦傷機能(ハードコート)層は、例えば、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等の多官能(メタ)アクリレートプレポリマー、或いは、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の3官能以上の多官能(メタ)アクリレートモノマーを単独で或いはこれらの中から2種以上選択して組み合わせて配合した電離放射線硬化性樹脂を用いた塗膜として形成することができる。また、電離放射線硬化性樹脂を紫外線硬化性樹脂として使用する場合には、光重合開始剤または光重合促進剤として増感剤を添加することができる。耐擦傷機能(ハードコート)は上記材料を必要に応じて溶剤で希釈して上記透明樹脂基材シート上に塗工等の湿式成膜法により形成することができる。
(5) Scratch-resistant functional layer The scratch-resistant (hard coat) layer has a hardness of “H” or higher in a pencil hardness test (500 g load) defined by JISK5600-5-4 (1999). The material is not particularly limited as long as such hardness and transparency similar to the transparent resin substrate can be realized.
The scratch-resistant layer (hard coat) layer is, for example, a polyfunctional (meth) acrylate prepolymer such as polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, or trimethylolpropane tri (meth) acrylate. , Pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and other polyfunctional (meth) acrylate monomers such as tri- or more functional compounds, either alone or in combination of two or more of these It can be formed as a coating film using a curable resin. Further, when an ionizing radiation curable resin is used as an ultraviolet curable resin, a sensitizer can be added as a photopolymerization initiator or a photopolymerization accelerator. The scratch resistance function (hard coat) can be formed by a wet film formation method such as coating on the transparent resin substrate sheet by diluting the material with a solvent as necessary.

(6)その他の層
その他の層としては、例えば、ネオン光吸収層、色調調整層、防汚層等が挙げられる。しかしながら、ネオン光吸収層、色調調整層は、生産効率の点から、単独の層として形成されるよりも、前述した近赤外線吸収層にネオン光吸収色素や色調調整色素を含有させて、兼用する層とする方が好ましい。
ネオン光吸収色素としては、シアニン系、オキソノール系、メチン系、サブフタロシアニン系もしくはポルフィリン系等を挙げることができる。
色調調整色素として用いることのできる公知の色素としては、特開2000−275432号公報、特開2001−188121号公報、特開2001−350013号公報、特開2002−131530号公報等に記載の色素が好適に使用できる。更にこのほかにも、黄色光、赤色光、青色光等の可視光を吸収するアントラキノン系、ナフタレン系、アゾ系、フタロシアニン系、ピロメテン系、テトラアザポルフィリン系、スクアリリウム系、シアニン系等の色素を使用することができる。
防汚層は、一般的に、撥水性、撥油性のコートで、シロキサン系、フッ素化アルキルシリル化合物などが適用できる。撥水性塗料として用いられるフッ素系或いはシリコーン系樹脂を好適に用いることができる。例えば、反射防止層の低屈折率層をSiOにより形成した場合には、フルオロシリケート系撥水性塗料が好ましく用いられる。
(6) Other layers Examples of other layers include a neon light absorbing layer, a color tone adjusting layer, and an antifouling layer. However, from the viewpoint of production efficiency, the neon light absorbing layer and the color tone adjusting layer are combined with the above-mentioned near infrared absorbing layer containing the neon light absorbing dye and the color tone adjusting dye, rather than being formed as a single layer. A layer is preferred.
Examples of the neon light absorbing dye include cyanine, oxonol, methine, subphthalocyanine or porphyrin.
Examples of known dyes that can be used as the color tone adjusting dyes include the dyes described in JP 2000-275432 A, JP 2001-188121 A, JP 2001-350013 A, JP 2002-131530 A, and the like. Can be suitably used. In addition, other dyes such as anthraquinone, naphthalene, azo, phthalocyanine, pyromethene, tetraazaporphyrin, squarylium, and cyanine that absorb visible light such as yellow light, red light, and blue light. Can be used.
The antifouling layer is generally a water-repellent or oil-repellent coat, and a siloxane-based, fluorinated alkylsilyl compound or the like can be applied. A fluorine-based or silicone-based resin used as a water-repellent paint can be preferably used. For example, when the low refractive index layer of the antireflection layer is formed of SiO 2 , a fluorosilicate water-repellent paint is preferably used.

(粘着剤層)
本発明に用いられる粘着剤層は、電磁波遮蔽シートの導電性メッシュ層の凹凸を埋めつつ、上記光学フィルタと該電磁波遮蔽シートとを貼り合せるために、該光学フィルタの被着面に設けられる。
(Adhesive layer)
The pressure-sensitive adhesive layer used in the present invention is provided on the adhesion surface of the optical filter in order to bond the optical filter and the electromagnetic wave shielding sheet while filling the unevenness of the conductive mesh layer of the electromagnetic wave shielding sheet.

(1)粘着剤
粘着剤とは、接着剤の1種をいい、接着の際に室温下(例えば、15〜40℃)で、単に適度な、通常、軽く手で押圧する程度の加圧のみにより、表面の粘着性のみで接着可能なものをいう。
本発明において用いられる粘着剤は、成膜性と透明性と粘着性を実現するものであれば特に限定されるものではなく、従来公知の各種粘着剤を適宜選択して用いることができる。粘着剤層としての透明性は、高いほどよいが、好ましくは可視光域380〜780nmにおける光線透過率が70%以上、より好ましくは80%以上となる光透過性が良い。更に、用いられる粘着剤や厚みを最適化することにより、本発明の粘着剤層は、耐衝撃層としても機能するものである。
(1) Pressure-sensitive adhesive Pressure-sensitive adhesive refers to one type of adhesive, and is only moderately pressured, usually lightly pressed by hand at room temperature (for example, 15 to 40 ° C.) during bonding. According to the above, it can be adhered only by the tackiness of the surface.
The pressure-sensitive adhesive used in the present invention is not particularly limited as long as it achieves film forming properties, transparency, and pressure-sensitive adhesive properties, and various conventionally known pressure-sensitive adhesives can be appropriately selected and used. The higher the transparency as the pressure-sensitive adhesive layer is, the better. However, the light transmittance in the visible light region of 380 to 780 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more. Furthermore, the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention also functions as an impact resistant layer by optimizing the pressure-sensitive adhesive and thickness used.

粘着剤としては、例えば、天然ゴム系、合成ゴム系、アクリル樹脂系(以後、アクリル系とも略称)、シリコーン樹脂系、ポリエステル樹脂系等が挙げられる。合成ゴム系の具体例としては、スチレン−ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、ポリイソブチレンゴムが挙げられる。これらの粘着剤は、1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of the adhesive include natural rubber, synthetic rubber, acrylic resin (hereinafter also abbreviated as acrylic), silicone resin, polyester resin, and the like. Specific examples of synthetic rubbers include styrene-butadiene rubber, acrylonitrile-butadiene rubber, and polyisobutylene rubber. These pressure-sensitive adhesives can be used alone or in combination of two or more.

好適に用いられる粘着剤としては、アクリル系粘着剤が挙げられる。アクリル系粘着剤は、少なくとも(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーを含んで重合させたものである。炭素原子数1〜18程度のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーとカルボキシル基を有するモノマーとの共重合体や、炭素原子数1〜18程度のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーの2種以上を用いた共重合体であるのが一般的である。ここで、(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸及び/又はメタクリル酸を意味する。   An acrylic adhesive is mentioned as an adhesive suitably used. The acrylic pressure-sensitive adhesive is a polymer containing at least a (meth) acrylic acid alkyl ester monomer. A copolymer of a (meth) acrylic acid alkyl ester monomer having an alkyl group having about 1 to 18 carbon atoms and a monomer having a carboxyl group, or (meth) acrylic acid having an alkyl group having about 1 to 18 carbon atoms A copolymer using two or more kinds of alkyl ester monomers is generally used. Here, (meth) acrylic acid means acrylic acid and / or methacrylic acid.

ここで使用される(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーの例としては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n-プロピル、(メタ)アクリル酸n-ブチル等を挙げることができる。   Examples of (meth) acrylic acid alkyl ester monomers used here include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, etc. Can be mentioned.

(2)その他の成分
本発明における粘着剤層には、所望に応じて、イソシアネート化合物等の架橋剤、粘着付与剤等が含まれていても良い。その他、粘着剤層には、ベンゾトリアゾール系化合物の様な酸化防止剤、各種界面活性剤、シランカップリング剤等が含まれていても良い。
(2) Other components The pressure-sensitive adhesive layer in the present invention may contain a crosslinking agent such as an isocyanate compound, a tackifier, and the like as desired. In addition, the pressure-sensitive adhesive layer may contain an antioxidant such as a benzotriazole-based compound, various surfactants, a silane coupling agent, and the like.

(C)粘着剤層を加熱する工程
工程(C)は、前記連続帯状の光学フィルタの少なくとも粘着剤層を加熱する工程である。加熱時の温度は、通常、60〜100℃、好ましくは90〜100℃である。
粘着剤層を上記温度範囲で加熱する方法としては、上記光学フィルタを、加熱ロール表面、或いは加熱炉内を通過させる方法が挙げられる。加熱ロールを用いる場合、該加熱ロールの表面温度は、70〜105℃であることが好ましく、更に、90〜100℃であることが好ましい。また、加熱炉を用いる場合、該加熱炉の温度は、70〜110℃に設定することが好ましく、更に、90〜100℃に設定することが好ましい。
また、加熱ロールの材質は特に限定されないが、該加熱ロールの表面温度を70〜105℃とする点から、鉄、銅等の金属であることが好ましい。斯かる金属ロールは、内部を中空にして、そこに加熱水蒸気、熱水等の加熱媒体を循環させたり、赤外線を照射したり、或いは交流磁場による誘導加熱を利用したりして、所望の温度に加熱する。
(C) Step of heating the pressure-sensitive adhesive layer Step (C) is a step of heating at least the pressure-sensitive adhesive layer of the continuous band-shaped optical filter. The temperature at the time of a heating is 60-100 degreeC normally, Preferably it is 90-100 degreeC.
Examples of the method of heating the pressure-sensitive adhesive layer in the above temperature range include a method of allowing the optical filter to pass through the surface of a heating roll or a heating furnace. When using a heating roll, the surface temperature of the heating roll is preferably 70 to 105 ° C, and more preferably 90 to 100 ° C. Moreover, when using a heating furnace, it is preferable to set the temperature of this heating furnace to 70-110 degreeC, and also it is preferable to set to 90-100 degreeC.
Moreover, although the material of a heating roll is not specifically limited, From the point which makes the surface temperature of this heating roll 70-105 degreeC, it is preferable that they are metals, such as iron and copper. Such a metal roll has a desired temperature by making the inside hollow and circulating a heating medium such as heated steam and hot water, irradiating infrared rays, or using induction heating by an alternating magnetic field. Heat to.

本工程において、光学フィルタの粘着剤層を60〜100℃で加熱することにより、該粘着剤層中に含まれる気体を追い出すとともに、該粘着剤層の粘度を下げて、粘着性を高めると共に導電性メッシュ層の凹部内への流入及びそこに存在する空気との置換を促進することができる。該粘着剤層の加熱温度が60℃未満の場合、該粘着剤層中に含まれる気体を十分に追い出すことができず、該粘着剤層中への気泡の混入を招く。該粘着剤層の加熱温度が100℃超過の場合、基材温度が軟化点を超える場合があり、最悪の場合は基材及び/又は粘着剤に熱ダメージを与える事がある。
また、粘着剤層を上記温度範囲で加熱することにより、該粘着剤層の粘度を150,000〜200,000cps(未測定の為推定)の範囲内とすることができる。
In this step, by heating the pressure-sensitive adhesive layer of the optical filter at 60 to 100 ° C., the gas contained in the pressure-sensitive adhesive layer is expelled, the viscosity of the pressure-sensitive adhesive layer is lowered, the adhesiveness is increased and the conductivity is increased. It is possible to facilitate the inflow of the conductive mesh layer into the recess and the replacement with the air present therein. When the heating temperature of the pressure-sensitive adhesive layer is less than 60 ° C., the gas contained in the pressure-sensitive adhesive layer cannot be sufficiently expelled, and bubbles are mixed into the pressure-sensitive adhesive layer. When the heating temperature of the pressure-sensitive adhesive layer exceeds 100 ° C., the substrate temperature may exceed the softening point, and in the worst case, the substrate and / or the pressure-sensitive adhesive may be thermally damaged.
In addition, by heating the pressure-sensitive adhesive layer in the above temperature range, the viscosity of the pressure-sensitive adhesive layer can be set within the range of 150,000 to 200,000 cps (estimated because of no measurement).

(D)粘着剤層を冷却しながら、該粘着剤層を介して貼り合せて、連続帯状の複合シートを得る工程
工程(D)は、前記連続帯状の光学フィルタの少なくとも粘着剤層を冷却しながら、該連続帯状の光学フィルタの粘着剤層側の面を、前記連続帯状の電磁波遮蔽シートの導電性メッシュ層側の面に向けて貼り合わせ、連続帯状の複合シートを得る工程である。
斯かる冷却時の温度は、通常、40〜55℃、好ましくは42〜48℃である。
斯かる冷却は、該粘着剤層と該導電性メッシュ層とが接触した時点及びそれ以降の適宜時点に開始され、適宜期間持続される。例えば、冷却開始時点は、該粘着剤層と該導電性メッシュ層とが接触した瞬間、或いは該粘着剤層と該導電性メッシュ層とが接触した以降ある程度間隔を空けた時点のいずれの場合も有り得る。冷却時間も、通常、数秒から数分の間になる。具体的な冷却開始時点及び冷却時間は、実際の加工機の構造と状態、積層する各材料等の種類等の状況に応じ適宜冷却開始時点を設定する。
上記粘着剤層を上記温度範囲で冷却することにより、該粘着剤層の粘着性を保持しつつ、該粘着剤層の不要な流動、積層体の端縁部から漏出することを防ぎ、又該粘着剤層中から新たに気体が発生しないように制御することができる。該粘着剤層の冷却温度が40℃未満の場合、該粘着剤層が該導電性メッシュ層の凹部内に十分流入する前に該粘着剤層の粘度が高くなり、電磁波遮蔽シートと光学フィルタとの密着性が不充分となる。該粘着剤層の冷却温度が55℃超過の場合、該粘着剤層中から気体が発生し続け、該粘着剤層中への気泡の混入を招く。
また、粘着剤層を上記温度範囲で冷却することにより、該粘着剤層の粘度を250,000〜300,000cps(未測定の為推定)の範囲内とすることができる。
(D) A step of obtaining a continuous band-shaped composite sheet by bonding the adhesive layer through the pressure-sensitive adhesive layer while cooling the pressure-sensitive adhesive layer. In step (D), at least the pressure-sensitive adhesive layer of the continuous band-shaped optical filter is cooled. On the other hand, the adhesive layer side surface of the continuous band-shaped optical filter is bonded to the conductive mesh layer side surface of the continuous band-shaped electromagnetic wave shielding sheet to obtain a continuous band-shaped composite sheet.
The temperature at the time of such cooling is 40-55 degreeC normally, Preferably it is 42-48 degreeC.
Such cooling is started at the time when the pressure-sensitive adhesive layer and the conductive mesh layer are in contact with each other and at an appropriate time thereafter, and is maintained for an appropriate period of time. For example, the cooling start time is either the moment when the pressure-sensitive adhesive layer and the conductive mesh layer are in contact with each other or the time when the pressure-sensitive adhesive layer and the conductive mesh layer are in contact with each other at a certain interval. It is possible. The cooling time is also usually between a few seconds and a few minutes. The specific cooling start time and cooling time are appropriately set according to the actual structure and state of the processing machine, the type of each material to be laminated, and the like.
By cooling the pressure-sensitive adhesive layer in the above temperature range, it is possible to prevent unnecessary flow of the pressure-sensitive adhesive layer and leakage from the edge of the laminate, while maintaining the pressure-sensitive adhesive layer. It can be controlled so that no new gas is generated from the pressure-sensitive adhesive layer. When the cooling temperature of the pressure-sensitive adhesive layer is lower than 40 ° C., the viscosity of the pressure-sensitive adhesive layer becomes high before the pressure-sensitive adhesive layer sufficiently flows into the recesses of the conductive mesh layer, and the electromagnetic wave shielding sheet, the optical filter, Inadequate adhesion. When the cooling temperature of the pressure-sensitive adhesive layer exceeds 55 ° C., gas continues to be generated from the pressure-sensitive adhesive layer, and bubbles are mixed into the pressure-sensitive adhesive layer.
In addition, by cooling the pressure-sensitive adhesive layer in the above temperature range, the viscosity of the pressure-sensitive adhesive layer can be set within the range of 250,000 to 300,000 cps (estimated because of no measurement).

前記連続帯状の電磁波遮蔽シートと、前記連続帯状の光学フィルタとを粘着剤層を介して貼り合わせる方法としては、特に限定されない。   The method for bonding the continuous band-shaped electromagnetic wave shielding sheet and the continuous band-shaped optical filter via an adhesive layer is not particularly limited.

ラミネーター(積層貼着機)は、ロール式、平板式等、光学フィルタ及び電磁波遮蔽シートに対して加圧することができるものであればかまわないが、電磁波遮蔽シート及び光学フィルタをロールから巻き出して、貼り合わせ後に再度ロールに巻き取る方式(「ロール・ツー・ロール加工方式」とも呼称する)に対応すること及び粘着剤層への気泡の混入を防ぐことが容易である点や、連続生産が可能な点からロール式ラミネーターを用いることが好ましい。
積層時の加圧は特に限定されないが、例えばロール式ラミネーターを用いる場合、線圧で1〜20kgf/cmが好ましい。また、積層時の貼合ロール(冷却ロール)の表面温度は、
40〜50℃であることが好ましく、更に、42〜48℃であることが好ましい。
また、貼合ロールの材質は特に限定されないが、2つのロールが両方とも金属製の場合、シートが滑りやすくなるため、少なくとも一方のロールの表面はゴム製(芯は金属)であることが好ましい。
The laminator (lamination sticking machine) may be a roll type, a flat plate type, etc., as long as it can pressurize the optical filter and the electromagnetic wave shielding sheet, but unwinds the electromagnetic wave shielding sheet and the optical filter from the roll. It is easy to cope with the method of winding again on the roll after bonding (also referred to as “roll-to-roll processing method”) and to prevent air bubbles from being mixed into the adhesive layer. It is preferable to use a roll-type laminator from the possible point.
Although the pressurization at the time of lamination is not particularly limited, for example, when a roll laminator is used, the linear pressure is preferably 1 to 20 kgf / cm. Moreover, the surface temperature of the bonding roll (cooling roll) at the time of lamination | stacking is
It is preferably 40 to 50 ° C, and more preferably 42 to 48 ° C.
Moreover, although the material of a bonding roll is not specifically limited, Since a sheet | seat becomes slippery when both two rolls are metal, it is preferable that the surface of at least one roll is rubber | gum (a core is metal). .

図9は、ラミネーターを用いた電磁波遮蔽シートと光学フィルタの積層工程の一例である。ラミネーターの第1給紙部61に電磁波遮蔽シートを巻き取ったものを配置し、且つ第2給紙部62に離型フィルム/(粘着剤層側)光学フィルタからなる積層シートを巻き取ったものを配置する。次いで第1給紙部61から、電磁波遮蔽シートを繰り出しながら、一方、第2給紙部62から離型フィルム/光学フィルタからなる積層シートを繰り出すと同時に離型フィルムを巻取りロール63に巻取る。次に、粘着剤層が表面に露出した該光学フィルタの粘着剤層非形成側の面を表面温度100℃の鉄製(表面フッ素樹脂被覆)の加熱ロール64を通過させた後、電磁波遮蔽シートと光学フィルタを表面温度45℃の貼合ロール(冷却ロール)65で、約10kgf/cmのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール66に巻き取って、電磁波遮蔽シート/粘着剤層/光学フィルタからなる積層シートを得る。尚、此の時のラミネーター周囲の雰囲気温度は23℃である。該積層工程終了後は、巻取りロール66は雰囲気中に放置され、熱伝導による自然冷却によって、積層直後の45℃から雰囲気温度(室温)の23℃に迄冷却されて熱平衡に至る。   FIG. 9 is an example of a lamination process of an electromagnetic wave shielding sheet and an optical filter using a laminator. A sheet in which an electromagnetic wave shielding sheet is wound around the first sheet feeding unit 61 of the laminator, and a laminated sheet composed of a release film / (adhesive layer side) optical filter is wound on the second sheet feeding unit 62 Place. Next, while feeding out the electromagnetic wave shielding sheet from the first paper feeding unit 61, on the other hand, the laminated sheet composed of the release film / optical filter is fed out from the second paper feeding unit 62 and at the same time, the release film is taken up on the take-up roll 63. . Next, the surface of the optical filter with the pressure-sensitive adhesive layer exposed on the surface of the optical filter on which the pressure-sensitive adhesive layer is not formed is passed through a heating roll 64 made of iron (coated with a surface fluororesin) having a surface temperature of 100 ° C. The optical filter is laminated with a laminating roll (cooling roll) 65 having a surface temperature of 45 ° C. with a laminating pressure of about 10 kgf / cm, wound around the take-up roll 66, and from the electromagnetic wave shielding sheet / adhesive layer / optical filter. A laminated sheet is obtained. The ambient temperature around the laminator at this time is 23 ° C. After the lamination step is completed, the winding roll 66 is left in the atmosphere, and is cooled from 45 ° C. immediately after the lamination to 23 ° C. of the ambient temperature (room temperature) by natural cooling by heat conduction to reach thermal equilibrium.

(E)前記連続帯状の複合シートを枚葉化する工程
上記複合シートは、連続帯状のままで流通されても良いが、最終的には、ディスプレイ1台分のディスプレイ用複合フィルタとして枚葉化する。複合フィルタの枚葉化手段は特に限定されず、各種、フィルタ用の切断手段を用いることができる。
(E) Step of making the continuous strip-shaped composite sheet into single sheets The composite sheet may be distributed in the form of a continuous strip, but finally it is made into a single sheet as a composite filter for display for one display. To do. The single filter means of the composite filter is not particularly limited, and various types of filter cutting means can be used.

上記工程を含む本発明の複合フィルタの製造方法によれば、電磁波遮蔽シートの導電性メッシュ層側の面に、光学フィルタの基材側の被着面を向けて、粘着剤層を介して貼り合せる前に、該光学フィルタの粘着剤層を上記特定の温度範囲で加熱することにより、該粘着剤層中に含まれる気体を追い出すとともに、該粘着剤層の粘度を下げて、粘着性を高めることができる。次いで、高温に温められた該粘着剤層を上記特定の温度範囲で冷却することにより、該粘着剤層の粘着性を保持しつつ、該粘着剤層中から気体が発生しないように制御することができる。従って、該粘着剤層を高温に温めた後、適度な温度に冷却しながら、電磁波遮蔽シートの導電性メッシュ層側の面に、光学フィルタの被着面を向けて貼り合せるため、該電磁波遮蔽シートと該光学フィルタとの密着性を良好にするとともに、該粘着剤層中に気泡が混入せず、ヘイズの上昇を抑制することができる。また、従来、粘着剤層中への気泡の混入を防ぐために用いられていた、オートクレーブ等を用いた真空雰囲気下で加熱ラミネートする工程が不要なため、設備負担を削減することができる。   According to the method for producing a composite filter of the present invention including the above-described steps, the surface of the electromagnetic wave shielding sheet on the conductive mesh layer side is directed through the pressure-sensitive adhesive layer with the adherence surface on the substrate side of the optical filter facing the surface. Before combining, heating the pressure-sensitive adhesive layer of the optical filter in the specific temperature range expels the gas contained in the pressure-sensitive adhesive layer and lowers the viscosity of the pressure-sensitive adhesive layer to increase the adhesiveness. be able to. Next, by cooling the pressure-sensitive adhesive layer heated to a high temperature within the above specific temperature range, control is performed so that gas is not generated from the pressure-sensitive adhesive layer while maintaining the pressure-sensitive adhesive layer. Can do. Therefore, after the pressure-sensitive adhesive layer is heated to a high temperature, the electromagnetic wave shielding sheet is bonded to the surface of the electromagnetic shielding sheet facing the conductive mesh layer while being cooled to an appropriate temperature. While improving the adhesiveness of a sheet | seat and this optical filter, a bubble is not mixed in this adhesive layer, but the raise of a haze can be suppressed. Moreover, since the process of heating and laminating in a vacuum atmosphere using an autoclave or the like, which has been conventionally used for preventing air bubbles from being mixed into the pressure-sensitive adhesive layer, is unnecessary, the equipment burden can be reduced.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has any configuration that has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and that exhibits the same effects. Are included in the technical scope.

本発明の電磁波遮蔽シートの一部を拡大して示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which expands and shows a part of electromagnetic wave shielding sheet of this invention. 透明樹脂基材シートと平行な仮想面で切断した導電性メッシュ層の断面積の説明図である。It is explanatory drawing of the cross-sectional area of the electroconductive mesh layer cut | disconnected by the virtual surface parallel to a transparent resin base material sheet. 導電性組成物を充填する版面の凹部の空間形状を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the space shape of the recessed part of the printing plate filled with an electroconductive composition. 導電性メッシュ層の断面形状の具体例である。It is a specific example of the cross-sectional shape of a conductive mesh layer. 第1形態における導電性メッシュ層を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the electroconductive mesh layer in a 1st form. 第2形態における導電性メッシュ層を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the electroconductive mesh layer in a 2nd form. 第3形態における導電性メッシュ層を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the electroconductive mesh layer in a 3rd form. 本発明の導電性メッシュ層を形成する工程において、凹部内の導電性組成物の凹みにプライマー層を充填し、該導電性組成物が転写する形態を示す模式図である。In the process of forming the electroconductive mesh layer of this invention, it is a schematic diagram which shows the form which fills the dent of the electroconductive composition in a recessed part with a primer layer, and this electroconductive composition transfers. 本発明の複合フィルタの製造方法のうち、電磁波遮蔽シートと光学フィルタの積層工程の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the lamination | stacking process of an electromagnetic wave shielding sheet and an optical filter among the manufacturing methods of the composite filter of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 透明樹脂基材シート(第一の透明樹脂基材シート)
2 プライマー層
3 導電性メッシュ層
3’ 導電性組成物層
5 サイドエッジ
6 凹み
12 プライマー層と導電性メッシュ層との界面
14 混合領域
15 導電性組成物
16 プライマー成分
19A、19B、19C メッシュパターン
20 測定試料片
52 凹版
53 版面
54 凹部
61 第1給紙部
62 第2給紙部
63 離型フィルム巻取りロール
64 加熱ロール
65 貼合ロール(冷却ロール)
66 巻取りロール
A 導電性メッシュ層が形成されている部分
TA Aの厚さ
B 導電性メッシュ層が形成されていない部分
TB Bの厚さ
1 Transparent resin base sheet (first transparent resin base sheet)
2 Primer layer 3 Conductive mesh layer 3 ′ Conductive composition layer 5 Side edge 6 Recess 12 Interface between primer layer and conductive mesh layer 14 Mixed region 15 Conductive composition 16 Primer component 19A, 19B, 19C Mesh pattern 20 Measurement sample piece 52 Intaglio plate 53 Plate surface 54 Recess portion 61 First paper feed portion 62 Second paper feed portion 63 Release film winding roll 64 Heating roll 65 Bonding roll (cooling roll)
66 Winding roll A A portion where the conductive mesh layer is formed TA A thickness B A portion where the conductive mesh layer is not formed TB B thickness

Claims (3)

(A)第一の透明樹脂基材シートの一方の面に、導電性メッシュ層を少なくとも有する連続帯状の電磁波遮蔽シートを準備する工程と、
(B)光学機能を付与した第二の透明樹脂基材シートの一方の面に、粘着剤層を有する連続帯状の光学フィルタを準備する工程と、
(C)前記連続帯状の光学フィルタの少なくとも粘着剤層を加熱する工程と、
(D)前記連続帯状の光学フィルタの少なくとも粘着剤層を冷却するとともに、該連続帯状の光学フィルタの粘着剤層側の面を、前記連続帯状の電磁波遮蔽シートの導電性メッシュ層側の面に向けて貼り合わせ、連続帯状の複合シートを得る工程と、
(E)前記連続帯状の複合シートを枚葉化する工程とを有する複合フィルタの製造方法。
(A) preparing a continuous band-shaped electromagnetic shielding sheet having at least a conductive mesh layer on one surface of the first transparent resin substrate sheet;
(B) A step of preparing a continuous band-shaped optical filter having an adhesive layer on one surface of the second transparent resin base sheet provided with an optical function;
(C) heating at least the pressure-sensitive adhesive layer of the continuous belt-shaped optical filter;
(D) While cooling at least the pressure-sensitive adhesive layer of the continuous band-shaped optical filter, the surface of the continuous band-shaped optical filter on the pressure-sensitive adhesive layer side is the surface on the conductive mesh layer side of the continuous band-shaped electromagnetic wave shielding sheet. Pasting together to obtain a continuous strip-shaped composite sheet,
(E) The manufacturing method of the composite filter which has the process of making the said continuous strip-shaped composite sheet into a sheet.
前記電磁波遮蔽シートが、前記第一の透明樹脂基材シートと、前記導電性メッシュ層との間に、プライマー層を有し、
前記プライマー層のうち前記導電性メッシュ層が形成されている部分の厚さは、前記導電性メッシュ層が形成されていない部分の厚さよりも厚くなっているとともに、
前記導電性メッシュ層は、前記第一の透明樹脂基材シート表面と平行な仮想面で切断した断面積が、該第一の透明樹脂基材シートからの距離xの減少関数S(x)になっている、請求項1に記載の複合フィルタの製造方法。
The electromagnetic wave shielding sheet has a primer layer between the first transparent resin substrate sheet and the conductive mesh layer,
The thickness of the portion of the primer layer where the conductive mesh layer is formed is thicker than the thickness of the portion where the conductive mesh layer is not formed,
In the conductive mesh layer, the cross-sectional area cut by a virtual plane parallel to the surface of the first transparent resin base sheet is a decreasing function S (x) of the distance x from the first transparent resin base sheet. The method for manufacturing a composite filter according to claim 1.
前記プライマー層と前記導電性メッシュ層との界面が交互に入り組んでいるか、及び/又は、前記プライマー層と前記導電性メッシュ層との界面近傍には、該プライマー層に含まれるプライマー成分と該導電性メッシュ層を構成する導電性組成物とが混合する領域が存在するか、及び/又は、前記導電性メッシュ層を構成する導電性組成物中に、前記プライマー層に含まれるプライマー成分が存在する、請求項2に記載の複合フィルタの製造方法。   The interface between the primer layer and the conductive mesh layer is interleaved and / or in the vicinity of the interface between the primer layer and the conductive mesh layer, the primer component contained in the primer layer and the conductive layer There is a region where the conductive composition constituting the conductive mesh layer is mixed and / or the primer component contained in the primer layer is present in the conductive composition constituting the conductive mesh layer. The manufacturing method of the composite filter of Claim 2.
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