JP2009044005A - Electromagnetic wave shielding member for plasma display and method for manufacturing same - Google Patents

Electromagnetic wave shielding member for plasma display and method for manufacturing same Download PDF

Info

Publication number
JP2009044005A
JP2009044005A JP2007208385A JP2007208385A JP2009044005A JP 2009044005 A JP2009044005 A JP 2009044005A JP 2007208385 A JP2007208385 A JP 2007208385A JP 2007208385 A JP2007208385 A JP 2007208385A JP 2009044005 A JP2009044005 A JP 2009044005A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
primer layer
transparent substrate
electromagnetic wave
wave shielding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2007208385A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yusuke Sato
勇輔 佐藤
Yuichi Miyazaki
祐一 宮崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2007208385A priority Critical patent/JP2009044005A/en
Publication of JP2009044005A publication Critical patent/JP2009044005A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electromagnetic wave shielding member for a plasma display in which a pattern having conductivity is formed by transferring conductive pastes, etc., on a transparent substrate, and in which an electromagnetic wave shielding pattern is formed with precision without causing troubles such as pattern breakage owing to the transition failure of the conductive pastes, etc., defective form, and low adhesion, and curls are suppressed and no troubles are caused in subsequent processes. <P>SOLUTION: The electromagnetic wave shielding member for a plasma display is characterized in that a primer layer is made of ionizing radiation hardened resin, the part of the primer layer at which a conductive layer is formed is thicker than the part at which no conductive layer is formed, and on the surface of the transparent substrate on which the primer layer is not formed, a curl preventing layer is formed and thereby the curl value of the electromagnetic shielding member is ≤20 mm. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、所定のパターンで形成された導電性を有する層によって電磁波を遮蔽するプラズマディスプレイ用電磁波シールド部材に関する。   The present invention relates to an electromagnetic wave shielding member for a plasma display that shields electromagnetic waves with a conductive layer formed in a predetermined pattern.

テレビ(ビジョン)やパーソナルコンピュータのモニター等のディスプレイ装置のうち、大画面ディスプレイ装置の分野で注目されているプラズマディスプレイ装置は、発光にプラズマ放電を利用するため、30MHz〜1GHz帯域の不要な電磁波が外部に漏洩して他の機器(例えば、遠隔制御機器、情報処理装置等)に影響を与えるおそれがある。そのため、プラズマディスプレイ装置に用いられるプラズマディスプレイパネルの前面側(観察者側)に、漏洩する電磁波をシールドするためのフィルム状の電磁波シールド材を設けるのが一般的である。   Among display devices such as televisions (visions) and personal computer monitors, plasma display devices that are attracting attention in the field of large-screen display devices use plasma discharge for light emission, and therefore generate unnecessary electromagnetic waves in the 30 MHz to 1 GHz band. There is a risk of leaking outside and affecting other devices (for example, remote control devices, information processing devices, etc.). Therefore, it is common to provide a film-like electromagnetic shielding material for shielding electromagnetic waves that leak from the front side (observer side) of the plasma display panel used in the plasma display device.

プラズマディスプレイの前面などに用いることができる電磁波シールド部材料としては、銀スパッタ薄膜、銅メッシュなどがあるが、銀スパッタ薄膜はコストが高く、また全面を被覆しているため透明性に劣る。銅メッシュは開口部分があるため透明性は高いが、銅箔をフォトリソグラフィー法でエッチングしてメッシュ形状を作成するため、捨てる材料が多く低コスト化が難しい。
近年、透明基材の上に導電性ペーストや無電解めっきの触媒を含むインキをパターン印刷し、その上に銅をめっきで析出させ細線パターンを形成した電磁波シールド部材などが提案されている(特許文献1〜3)。
Examples of the electromagnetic wave shielding material that can be used for the front surface of a plasma display include a silver sputtered thin film and a copper mesh. However, the silver sputtered thin film is expensive and has poor transparency because it covers the entire surface. Since the copper mesh has an opening, the transparency is high, but the copper foil is etched by a photolithography method to create a mesh shape.
In recent years, an electromagnetic wave shielding member has been proposed in which an ink containing a conductive paste or an electroless plating catalyst is printed on a transparent substrate and copper is deposited on the transparent substrate to form a fine line pattern (patent) Literatures 1-3).

このようなパターン印刷で用いられるインキは、印刷精度を高めるために、通常はチキソトロピー性を有した高粘度のインキが用いられ、スクリーン印刷(特許文献1)などの方法が用いられる。しかしながらスクリーン印刷では、ロール・トウ・ロールでの精度良い印刷は難しく、また版自体を強い張力で張るため、大面積にした場合の版周辺部の精度が悪いという問題があった。
また、このようなインキをグラビア印刷(特許文献2、3)のような凹部を持つ版を用いる方法にて微細パターンで印刷しようとすると、印刷できないことはないがインキの転移性が悪くインキ抜けなどが多発し、安定したパターンが形成できないという問題があった。これは、凹版上にインキを塗布し、余分なインキをドクターブレードで掻き取った後の凹部内のインキがその上部に凹みを生じることが原因である。この凹みは、凹版上に透明基材を圧着して透明基材上に凹部内のインキを転写する際に、透明基材とインキとの密着を妨げ、透明基材上に、インキの未転写部が発生したり、密着性に劣る転写不良が発生して、電磁波シールド特性を低下させる。
Ink used in such pattern printing is usually a high-viscosity ink having thixotropy in order to increase printing accuracy, and a method such as screen printing (Patent Document 1) is used. However, with screen printing, it is difficult to print with roll-to-roll, and the plate itself is stretched with a strong tension, so that there is a problem that the accuracy of the periphery of the plate is poor when the area is large.
In addition, when trying to print such an ink with a fine pattern by a method using a plate having a concave portion as in gravure printing (Patent Documents 2 and 3), the ink cannot be printed but the ink transferability is poor and the ink is missing. There was a problem that a stable pattern could not be formed. This is because the ink in the recess after applying ink on the intaglio and scraping off excess ink with a doctor blade causes a dent in the upper part. This depression prevents the adhesion of the transparent substrate and the ink when the transparent substrate is pressed onto the intaglio plate and the ink in the recess is transferred onto the transparent substrate, and the ink is not transferred onto the transparent substrate. Part or a transfer failure inferior in adhesiveness occurs, and the electromagnetic shielding characteristics are deteriorated.

この凹版印刷におけるインキの転移(転写)不良の問題の解決について検討した本発明者らは、UV、EBなど電離放射線で硬化する液状の樹脂用組成物をプライマーとして透明基材上に塗布し、このプライマー塗布面を、ペーストを充填した凹版面に対向して重ねた状態で電離放射線を照射しプライマーを硬化させることで、ペーストが基材上にほぼ全転移することを見出した。この方法を用いれば、導電材や触媒を含むペーストを、効率的に精度よく基材上に印刷することができる。
しかしながら、この際、電離放射線硬化性プライマーの硬化時の収縮によりプライマー層がカールして(反りを生じて)、電磁波シールド部材がプライマー層側が凹面に彎曲する様な向きでカールするという問題が発生することがわかった。また、電磁波シールド部材の製造がめっき浴などのウェットプロセスを含む場合、水分の乾燥後に電離放射線硬化樹脂が収縮してプライマー層がカールし、電磁波シールド部材がカールすることがあるということもわかった。これら電磁波シールド部材のカールは、その程度が大きいと、プラズマディスプレイパネルへの貼着など、電磁波シールド部材使用の後工程に大きな不都合を起こす。
The present inventors who examined the solution of the problem of ink transfer (transfer) failure in intaglio printing applied a liquid resin composition that is cured by ionizing radiation such as UV and EB as a primer on a transparent substrate, It was found that the paste was almost completely transferred onto the substrate by irradiating ionizing radiation with the primer-coated surface facing the intaglio surface filled with the paste and curing the primer. By using this method, a paste containing a conductive material and a catalyst can be efficiently and accurately printed on the substrate.
However, at this time, the primer layer curls due to the shrinkage of the ionizing radiation curable primer during curing (causes warping), and the electromagnetic wave shielding member curls in such a direction that the primer layer side is bent into a concave surface. I found out that It was also found that when the production of the electromagnetic shielding member includes a wet process such as a plating bath, the ionizing radiation curable resin shrinks after moisture drying, the primer layer curls, and the electromagnetic shielding member may curl. . If the degree of curling of these electromagnetic wave shielding members is large, a great inconvenience is caused in the subsequent process of using the electromagnetic wave shielding member such as sticking to a plasma display panel.

特開平11−170420号公報JP 11-170420 A 特開平2001−102792号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2001-102792 特開平11−174174号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-174174

本発明の目的は、導電性ペースト等を透明基材上に転写して導電性を有するパターンを形成するプラズマディスプレイ用電磁波シールド部材であって、導電性ペースト等の転移不良に基づくパターンの断線、形状不良や低密着性等の不具合が起こることなく、精度よく電磁波シールドパターンが作製され、かつ、カールが抑えられて後工程に不具合を起さないプラズマディスプレイ用電磁波シールド部材を提供することにある。   An object of the present invention is an electromagnetic wave shielding member for a plasma display that forms a pattern having conductivity by transferring a conductive paste or the like onto a transparent substrate, and the pattern breakage based on a transfer defect such as the conductive paste, To provide an electromagnetic wave shielding member for a plasma display in which an electromagnetic wave shielding pattern is accurately produced without causing defects such as shape defects and low adhesion, and curling is suppressed and no trouble occurs in a subsequent process. .

本発明者らは、上記目的達成のための検討を行った結果、透明基材と、プライマー層と、導電層と、を有するプラズマディスプレイ用電磁波シールド部材であって、プライマー層が特定の形状を有し、さらに、プライマー層が形成されていない側の透明基材面にカール防止層を有する電磁波シールド部材が、上記課題を解決することを見出し、本発明を完成した。   As a result of investigations for achieving the above object, the inventors of the present invention are an electromagnetic wave shielding member for a plasma display having a transparent substrate, a primer layer, and a conductive layer, and the primer layer has a specific shape. Further, the present inventors have found that an electromagnetic wave shielding member having an anti-curl layer on the transparent substrate surface on the side where the primer layer is not formed solves the above problems, and has completed the present invention.

すなわち本発明は、透明基材と、該透明基材の一方の面に形成されたプライマー層と、該プライマー層上に所定のパターンで形成された導電層と、を有するプラズマディスプレイ用電磁波シールド部材であって、前記プライマー層は電離放射線硬化性樹脂の硬化物からなり、前記プライマー層のうち前記導電層が形成されている部分の厚さは、前記導電層が形成されていない部分の厚さよりも大きくなっており、前記透明基材のプライマー層が形成されていない面に、硬化収縮性を有する組成物を塗工および硬化してなる層(カール防止層)が形成されていることにより、該電磁波シールド部材のカール値が20mm以下となっていることを特徴とするプラズマディスプレイ用電磁波シールド部材を提供するものである。   That is, the present invention relates to an electromagnetic wave shielding member for a plasma display, comprising a transparent substrate, a primer layer formed on one surface of the transparent substrate, and a conductive layer formed in a predetermined pattern on the primer layer. The primer layer is made of a cured product of an ionizing radiation curable resin, and the thickness of the portion of the primer layer where the conductive layer is formed is greater than the thickness of the portion where the conductive layer is not formed. The surface of the transparent substrate on which the primer layer is not formed is formed by coating and curing a composition having curing shrinkage (an anti-curl layer), The curl value of the electromagnetic wave shielding member is 20 mm or less, and an electromagnetic wave shielding member for plasma display is provided.

ここで、透明基材上に設けられたプライマー層のうち、導電層が形成されている部分の厚さは導電層が形成されていない部分の厚さよりも大きいとは、導電層の凹みを充填するようにプライマー層が設けられていることを意味する。こうした形態からなるプライマー層は、電磁波シールド部材の製造時に、ドクターブレードで掻き取った後の版の凹部内の導電性ペースト等の上部の凹みに充填されることに基づいて形成されたものであり、プライマー層が導電性ペースト等に空隙なく密着して、導電性ペースト等の転写不良に基づく断線や形状不良、低密着性等の不具合が生じない電磁波シールド部材が提供される。   Here, in the primer layer provided on the transparent substrate, the thickness of the portion where the conductive layer is formed is larger than the thickness of the portion where the conductive layer is not formed. This means that a primer layer is provided. The primer layer having such a form is formed on the basis of being filled in an upper recess such as a conductive paste in a recess of a plate after scraping with a doctor blade at the time of manufacturing an electromagnetic shielding member. Thus, an electromagnetic wave shielding member is provided in which the primer layer adheres to the conductive paste or the like without a gap, and defects such as disconnection, shape failure, and low adhesion due to transfer failure of the conductive paste or the like do not occur.

本発明の電磁波シールド部材が有するプライマー層の形態によれば、版面上に於いて生じた導電層の凹みを充填するようにプライマー層が設けられているので、導電性ペースト等の転移不良に基づくパターンの断線や形状不良、低密着性等の不具合が生じないプラズマディスプレイ用電磁波シールド部材を提供することができる。さらに、カール防止層を有することでカールが抑えられているので、製造上やアセンブリ上の不具合を起こさないプラズマディスプレイ用電磁波シールド部材が提供される。   According to the form of the primer layer of the electromagnetic wave shielding member of the present invention, since the primer layer is provided so as to fill the dent of the conductive layer generated on the plate surface, it is based on poor transfer of the conductive paste or the like. It is possible to provide an electromagnetic wave shielding member for plasma display that does not cause defects such as pattern disconnection, shape defect, and low adhesion. Furthermore, since curling is suppressed by having the anti-curl layer, there is provided an electromagnetic wave shielding member for plasma display that does not cause problems in manufacturing and assembly.

本発明の電磁波シールド部材の一例を図1〜図3に示す。図1は、電磁波シールド部材の平面図であり、図2は図1におけるA−A’断面の拡大図である。また図3は図2の一部を更に拡大したプライマー層の形状を表す模式的な断面図である。本発明の電磁波シールド部材10は、透明基材1と、透明基材1の片面に形成された特定の形状のプライマー層2と、該プライマー層上に所定のパターンで形成された導電層(導電性材料層3、触媒層3’および金属層4から構成される層であり、下記のように3つの態様がある。)とを有し、透明基材のもう一つの面にカール防止層5を有するものである。また必要に応じて、保護層6を有しても良い。
ここで、「所定のパターン」とは、電磁波シールド部材の電磁波遮蔽パターンとして一般的な、メッシュ状又はストライプ状のパターンである。
また、本発明の電磁波シールド部材10の導電層の3つの態様は以下のとおりである。
第1の導電層は、導電性微粒子とバインダー樹脂からなる導電性材料層3であり、第2の導電層は、該導電性材料層3の表面に更に金属層4が形成されているものであり、第3の導電層は、無電解めっき触媒と担体とバインダー樹脂からなる触媒層3’の表面に金属層4が形成されているものである。
以下、本発明の電磁波シールド部材の構成を詳しく説明する。
An example of the electromagnetic wave shielding member of the present invention is shown in FIGS. FIG. 1 is a plan view of an electromagnetic wave shielding member, and FIG. 2 is an enlarged view of the AA ′ cross section in FIG. 1. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing the shape of the primer layer further enlarging a part of FIG. The electromagnetic wave shielding member 10 of the present invention includes a transparent substrate 1, a primer layer 2 having a specific shape formed on one side of the transparent substrate 1, and a conductive layer (conductive) formed in a predetermined pattern on the primer layer. And the anti-curl layer 5 on the other surface of the transparent substrate. It is what has. Moreover, you may have the protective layer 6 as needed.
Here, the “predetermined pattern” is a mesh-like or stripe-like pattern that is common as an electromagnetic wave shielding pattern of the electromagnetic wave shielding member.
Moreover, the three aspects of the conductive layer of the electromagnetic wave shielding member 10 of the present invention are as follows.
The first conductive layer is a conductive material layer 3 made of conductive fine particles and a binder resin, and the second conductive layer is one in which a metal layer 4 is further formed on the surface of the conductive material layer 3. In the third conductive layer, a metal layer 4 is formed on the surface of a catalyst layer 3 ′ made of an electroless plating catalyst, a carrier, and a binder resin.
Hereinafter, the configuration of the electromagnetic wave shielding member of the present invention will be described in detail.

(透明基材)
透明基材1は、電磁波シールド部材10の基材であり、所望の透明性、機械的強度、プライマー層2との接着性等の要求適性を勘案の上各種材料の各種厚みのものを選択すればよい。材料としては樹脂、硝子等が、厚み形態としてはフィルム(乃至はシート)、或いは板の形態で用いられる。通常は、樹脂製の透明フィルムが好ましく用いられる。
そうした透明フィルムとしては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂等をベースとするフィルムが好ましいが、これに限定されない。フィルムの材料としては、具体的には、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロース等のセルロース樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸ブチル共重合体等のアクリル系樹脂(「(メタ)アクリル酸」は、アクリル酸又はメタクリルを意味する)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル樹脂、ポリエチレンやポリプロピレン、環状ポリオレフィン、トリメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等の含ハロゲン樹脂、ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン共重合体等のスチレン系樹脂、ポリエーテルサルホン、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、(メタ)アクリロニトリル樹脂等が使用できる。なかでも、二軸延伸PETフィルムが透明性、耐久性に優れ、しかもその後の工程で電離放射線照射処理を経た場合でも熱変形等しない耐熱性を有する点で好適である。
(Transparent substrate)
The transparent base material 1 is a base material for the electromagnetic wave shielding member 10 and is selected from various thicknesses of various materials in consideration of required transparency such as desired transparency, mechanical strength, and adhesion to the primer layer 2. That's fine. Resin, glass or the like is used as the material, and a film (or sheet) or plate is used as the thickness. Usually, a resin transparent film is preferably used.
Such a transparent film is preferably a film based on acrylic resin, polyester resin or the like, but is not limited thereto. Specific examples of the film material include cellulose resins such as triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, and acetate butyrate cellulose, poly (meth) methyl acrylate, methyl (meth) acrylate-butyl (meth) acrylate Acrylic resins such as coalescence (“(meth) acrylic acid” means acrylic acid or methacrylic), polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene, polypropylene, cyclic polyolefin, trimethyl Polyolefin resins such as pentene, halogen-containing resins such as polyvinyl chloride and polyvinylidene chloride, styrene resins such as polystyrene and acrylonitrile-styrene copolymers, polyethersulfone, polyurethane resins, polycarbonate DOO resins, polyamide resins, polysulfone resins, polyether resins, polyether ketone resins, (meth) acrylonitrile resins can be used. Among them, the biaxially stretched PET film is preferable in that it has excellent transparency and durability, and has heat resistance that does not cause thermal deformation even when it is subjected to ionizing radiation irradiation treatment in the subsequent steps.

透明基材1は、ロール(巻取)から巻き出して使用する帯状の長尺フィルムであってもよいし、所定の大きさからなる枚葉フィルムであってもよい。透明基材1の厚さは、通常は10μm〜5000μm程度が好ましいが、これに限定されない。透明基材1の光透過率としては、100%のものが理想であるが、透過率80%以上のものを選択することが好ましい。
透明基材の表面には、必要に応じて、後述するプライマー層と基材との密着性を改善するために易接着層を設けたり、コロナ放電処理、プラズマ処理、火炎処理などの表面処理を行ってもよい。該易接着層としては、該透明基材1とプライマー層2との両方に接着性のある樹脂から構成する。易接着層の樹脂としては、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、塩素化ポリプロピレン等の樹脂の中から適宜選択する。
The transparent substrate 1 may be a strip-like long film that is used by being unwound from a roll (winding), or may be a sheet film having a predetermined size. The thickness of the transparent substrate 1 is usually preferably about 10 μm to 5000 μm, but is not limited thereto. The light transmittance of the transparent substrate 1 is ideally 100%, but it is preferable to select a light transmittance of 80% or more.
If necessary, the surface of the transparent substrate may be provided with an easy-adhesion layer to improve the adhesion between the primer layer and the substrate, which will be described later, or may be subjected to surface treatment such as corona discharge treatment, plasma treatment, or flame treatment. You may go. The easy-adhesion layer is composed of a resin having adhesiveness to both the transparent substrate 1 and the primer layer 2. The resin for the easy adhesion layer is appropriately selected from resins such as urethane resin, epoxy resin, polyester resin, acrylic resin, and chlorinated polypropylene.

(プライマー層)
プライマー層2は、透明基材1上に密着性よく設けられる。そして、このプライマー層2上には導電性材料層3又は触媒層3’が密着性よく設けられる。したがって、プライマー層2は、透明基材1と導電性材料層3又は触媒層3’の両方に対して密着性がよい材料であることが好ましく、また、当然のことながら透明であることが好ましい。本発明では、電離放射線重合性化合物を含む電離放射線硬化性組成物を塗工、硬化してなる層が用いられる。
該電離放射線重合性化合物としては、電離放射線照射で架橋等の反応により重合硬化するモノマー及び/又はプレポリマーが用いられる。
かかるモノマー(單量体とも云う)としては、ラジカル重合性モノマーとして、例えば、メチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレートなどの単官能(メタ)アクリレート類、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどの多官能(メタ)アクリレート類等の各種(メタ)アクリレートが挙げられ、カチオン重合性モノマーとして、例えば、3,4−エポキシシクロヘキセニルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレートなどの脂環式エポキシド類、ビスフェノールAジグリシジルエーテルなどグリシジルエーテル類、4−ヒドロキシブチルビニルエーテルなどビニルエーテル類、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタンなどオキセタン類等が挙げられる。
また、かかるプレポリマー(オリゴマーとも云う)としては、ラジカル重合性プレポリマーとして、例えば、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート等の各種(メタ)アクリレートプレポリマー、不飽和ポリエステルプレポリマー等が挙げられる。その他、カチオン重合性プレポリマーとして、例えば、ノボラック系型エポキシ樹脂プレポリマー、芳香族ビニルエーテル系樹脂プレポリマー等が挙げられる。
これらモノマー、或いはプレポリマーは、要求される性能、塗布適性等に応じて、1種類単独で用いる他、モノマーを2種類以上混合したり、プレポリマーを2種類以上混合したり、或いはモノマー1種類以上とプレポリマー1種類以上とを混合して用いたりすることができる。
なお、電離放射線としては、紫外線(UV)、又は電子線(EB)が代表的なものであるが、此の他、可視光線、X線、γ線等の電磁波、或いはα線等の荷電粒子線を用いることもできる。
(Primer layer)
The primer layer 2 is provided on the transparent substrate 1 with good adhesion. On the primer layer 2, the conductive material layer 3 or the catalyst layer 3 'is provided with good adhesion. Therefore, the primer layer 2 is preferably a material having good adhesion to both the transparent substrate 1 and the conductive material layer 3 or the catalyst layer 3 ′, and of course, it is preferably transparent. . In the present invention, a layer formed by coating and curing an ionizing radiation curable composition containing an ionizing radiation polymerizable compound is used.
As the ionizing radiation polymerizable compound, a monomer and / or a prepolymer that is polymerized and cured by a reaction such as crosslinking upon irradiation with ionizing radiation is used.
Examples of such a monomer (also referred to as a trimer) include radically polymerizable monomers such as methyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, and isobornyl (meth). Monofunctional (meth) acrylates such as acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, tri Various (meth) acrylates such as polyfunctional (meth) acrylates such as methylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate Examples of cationic polymerizable monomers include alicyclic epoxides such as 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexenecarboxylate, glycidyl ethers such as bisphenol A diglycidyl ether, 4-hydroxybutyl, and the like. Examples include vinyl ethers such as vinyl ether and oxetanes such as 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane.
Such prepolymers (also referred to as oligomers) include radically polymerizable prepolymers such as various (meth) acrylate prepolymers such as urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, and the like. And saturated polyester prepolymers. Other examples of the cationic polymerizable prepolymer include novolac type epoxy resin prepolymer and aromatic vinyl ether type resin prepolymer.
These monomers or prepolymers may be used alone or in combination of two or more types of monomers, two or more types of prepolymers, or one type of monomer, depending on the required performance, coating suitability, etc. A mixture of the above and one or more prepolymers can be used.
The ionizing radiation is typically ultraviolet (UV) or electron beam (EB), but other than this, electromagnetic waves such as visible light, X-rays and γ-rays, or charged particles such as α-rays. Lines can also be used.

電離放射線として紫外線、又は可視光線を用いる場合には、通常、光重合開始剤を添加する。電離放射線として電子線等其の他のものを用いる場合には、該光重合開始剤は不要である。光重合開始剤としては、ラジカル重合性のモノマー又はプレポリマーの場合には、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンゾイン系等の化合物が、又カチオン重合系のモノマー又はプレポリマーの場合には、メタロセン系、芳香族スルホニウム系、芳香族ヨードニウム系等の化合物が用いられる。これら光重合開始剤は、上記モノマー及び/又はプレポリマーからなる組成物100質量部に対して、0.1〜5質量部程度添加する。   When ultraviolet rays or visible rays are used as the ionizing radiation, a photopolymerization initiator is usually added. When other things such as an electron beam are used as the ionizing radiation, the photopolymerization initiator is unnecessary. As a photopolymerization initiator, in the case of a radical polymerizable monomer or prepolymer, a compound such as a benzophenone-based, thioxanthone-based, or benzoin-based compound, or in the case of a cationic polymerization-based monomer or prepolymer, a metallocene-based compound, Aromatic sulfonium-based and aromatic iodonium-based compounds are used. These photopolymerization initiators are added in an amount of about 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the composition comprising the monomer and / or prepolymer.

また、電離放射線硬化性組成物は、密着性、耐久性改善、各種物性付与のために各種添加剤や変性樹脂を使用してもよい。該添加剤としては、例えば、熱安定剤、ラジカル捕捉剤、可塑剤、界面活性剤、酸化防止剤、紫外線吸收剤、赤外線吸收剤、色素(着色染料、着色顔料)、体質顔料等が挙げられる。
当該電離放射線硬化性組成物は、溶剤を含んでもよいが、その場合塗布後に乾燥工程が必要であるため、溶剤を含まないタイプ(いわゆるノンソルベントタイプ)であることが好ましい。
In addition, the ionizing radiation curable composition may use various additives and modified resins for improving adhesion, durability, and imparting various physical properties. Examples of the additive include a heat stabilizer, a radical scavenger, a plasticizer, a surfactant, an antioxidant, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, a dye (colored dye, colored pigment), and an extender. .
The ionizing radiation curable composition may contain a solvent, but in that case, since a drying step is necessary after coating, it is preferable that the composition does not contain a solvent (so-called non-solvent type).

本発明においては、電離放射線硬化性プライマー層2と該プライマー層の状態(流動状態と硬化状態)を適切に利用する点に特徴がある。具体的には、電離放射線硬化性プライマー層は、塗工後において流動性のある状態(液状)で透明基材1上に設けられており、電離放射線硬化性プライマー層を硬化させ、非流動性の固体化とした後、導電性ペースト又は触媒ペーストを転写させる。したがって、電離放射線硬化性プライマー層は短時間で流動状態から硬化状態に変化し、プライマー層2を形成することができるものであることが必要である。このようにしてプライマー層2を透明基材1上に形成することにより、プライマー層2上に導電性ペースト又は触媒ペーストを転写する際に、その導電性ペースト層又は触媒ペースト層とプライマー層2との間に空隙がない状態で転写することができるので、従来生じるおそれがあった導電性ペースト層又は触媒ペースト層とプライマー層2との間の隙間の発生をなくすことができ、その隙間の存在による転写不良、密着不良の問題が生じない。   The present invention is characterized in that the ionizing radiation curable primer layer 2 and the state (flow state and cured state) of the primer layer are appropriately used. Specifically, the ionizing radiation curable primer layer is provided on the transparent substrate 1 in a fluid state (liquid state) after coating, and the ionizing radiation curable primer layer is cured to be non-flowable. After solidifying, the conductive paste or the catalyst paste is transferred. Therefore, the ionizing radiation curable primer layer needs to be able to change from the fluidized state to the cured state in a short time to form the primer layer 2. By forming the primer layer 2 on the transparent substrate 1 in this way, when transferring the conductive paste or catalyst paste onto the primer layer 2, the conductive paste layer or catalyst paste layer and the primer layer 2 Since there is no gap between the conductive paste layer or the catalyst paste layer and the primer layer 2, which may have occurred in the past, it is possible to eliminate the gap, and the existence of the gap. The problem of transfer failure and contact failure due to the ink does not occur.

なお、本明細書でいう「流動性」又は「流動状態」とは、電離放射線硬化性プライマー層を導電性ペースト又は触媒ペーストが充填された版面に圧着する際の圧力によって流動(変形)する性質又は状態をいい、水のように低粘度である必要はない。塗工に適した粘度に調整され、透明基材上に塗布後に流動(変形)すればよく、電離放射線硬化性プライマー層は圧着時において流動(変形)する温度になっていればよい。この場合軟化状態と言い換えてもよい。
また、導電ペースト層は未硬化の状態を表し、これが硬化したものを導電性材料層と呼ぶ。また、触媒ペースト層は未効果の状態を表し、これが硬化したものを触媒層と呼ぶ。また、プライマー層形成用の、電離放射線硬化性組成物からなる未硬化の状態の層を電離放射線硬化性プライマー層と呼ぶ。
As used herein, the term “fluidity” or “fluid state” refers to the property of flowing (deforming) by pressure when the ionizing radiation curable primer layer is pressure-bonded to a plate surface filled with a conductive paste or a catalyst paste. Or it refers to the condition and does not need to be as low as water. The viscosity may be adjusted to be suitable for coating, and may flow (deform) after application on the transparent substrate, and the ionizing radiation-curable primer layer may be at a temperature at which it flows (deforms) during pressure bonding. In this case, it may be called a softened state.
Further, the conductive paste layer represents an uncured state, and the cured one is called a conductive material layer. Further, the catalyst paste layer represents an ineffective state, and the cured product is called a catalyst layer. An uncured layer made of an ionizing radiation curable composition for forming a primer layer is called an ionizing radiation curable primer layer.

本発明の電磁波シールド部材におけるプライマー層2の形状を図3に示す。導電性材料層3又は触媒層3’が形成されている部分A(導電層が形成されている部分に同じ)の厚さTAが、導電性材料層3又は触媒層3’が形成されていない部分B(導電層が形成されていない部分に同じ)の厚さTBよりも大きい。
図3に示す形態は、電離放射線硬化性プライマー層を、凹版内の導電性ペースト又は触媒ペーストに圧着後、電離放射線硬化性プライマー層を硬化させたのち、導電性ペースト又は触媒ペーストを転写したことよって生じたものである。また上記形態は導電層が形成されたのち、接触等による導電層の破損を防ぐという効果も有する。
プライマー層の厚み(図3のTB)は、好ましくは1〜100μm、より好ましくは、1〜50μmである。TBが小さいと、導電性ペースト又は触媒ペーストの転移性が悪くなる傾向にあり、大きいと透明性やカールの問題が生じ易くなる。
The shape of the primer layer 2 in the electromagnetic wave shielding member of the present invention is shown in FIG. The thickness T A of the portion A where the conductive material layer 3 or the catalyst layer 3 ′ is formed (same as the portion where the conductive layer is formed) is the same as the thickness T A of the conductive material layer 3 or the catalyst layer 3 ′. greater than the thickness T B of the portion without B (same as the portion where the conductive layer is not formed).
In the embodiment shown in FIG. 3, after the ionizing radiation curable primer layer is pressure-bonded to the conductive paste or catalyst paste in the intaglio, the ionizing radiation curable primer layer is cured, and then the conductive paste or catalyst paste is transferred. Therefore, it was generated. Moreover, the said form also has the effect of preventing the damage of a conductive layer by contact etc. after a conductive layer is formed.
The thickness of the primer layer (T B in FIG. 3) is preferably 1 to 100 μm, more preferably 1 to 50 μm. If T B is small, the transferability of the conductive paste or the catalyst paste tends to deteriorate, and if it is large, problems of transparency and curling tend to occur.

(導電性材料層)
本発明の電磁波シールド部材の導電層の第1及び第2の態様においては、導電性材料層3が、プライマー層2上に、所定のパターンで設けられている。該パターンは、電磁波シールド部材に通常採用されるメッシュ状であってもストライプ状であってもよく、その線幅と線間ピッチも通常採用されている寸法であればよい。例えば、線幅は5〜30μmとすることができ、線間ピッチは100〜500μmとすることができる。またメッシュやストライプ形状の電磁遮蔽パターンとは別に、それと導通を保ちつつ隣接した全ベタ等の接地パターンが設けられる場合もある。
この導電性材料層3は、導電性微粒子とバインダー樹脂を含む導電性ペーストを出発物質として、後述する製造方法によりプライマー層2上に所定のパターンで形成することができる。
(Conductive material layer)
In the first and second aspects of the conductive layer of the electromagnetic wave shielding member of the present invention, the conductive material layer 3 is provided on the primer layer 2 in a predetermined pattern. The pattern may be a mesh shape or a stripe shape that is usually employed for the electromagnetic wave shielding member, and the line width and the pitch between the lines may be dimensions that are usually employed. For example, the line width can be 5 to 30 μm, and the line-to-line pitch can be 100 to 500 μm. In addition to the electromagnetic shielding pattern having a mesh or stripe shape, there may be a case where a grounding pattern such as all adjacent solids is provided while maintaining electrical continuity therewith.
The conductive material layer 3 can be formed in a predetermined pattern on the primer layer 2 by a manufacturing method described later using a conductive paste containing conductive fine particles and a binder resin as a starting material.

導電性ペーストを構成するバインダー樹脂としては、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂、熱可塑性樹脂のいずれも使用可能である。熱硬化性樹脂としては、例えば、ポリエステル−メラミン樹脂、メラミン樹脂、エポキシ−メラミン樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、熱硬化性アクリル樹脂、熱硬化性ポリウレタン樹脂等の樹脂を挙げることができ、電離放射線硬化性樹脂としては、プライマーの材料として前記した物を挙げることができ、熱可塑性樹脂としては、熱可塑性ポリエステル樹脂、ポリビニルブチラール、熱可塑性アクリル樹脂、熱可塑性ポリウレタン樹脂等の樹脂を挙げることができる。なお、熱硬化性樹脂を使用する場合、必要に応じて硬化触媒を添加してもよい。電離放射線硬化性樹脂を用いる場合は必要に応じて重合開始剤を添加してもよい。
また、版の凹部への充填に適した流動性を得るために、これら樹脂は通常、溶剤に溶けたワニスとして使用する。溶剤の種類には特に制限はなく、一般的に印刷インキに用いられる溶剤を使用できる。溶剤の含有量は通常、10wt%〜70wt%程度であるが、必要な流動性が得られる範囲でなるべく少ないほうが好ましい。また、電離放射線硬化性樹脂を用いる場合には、もともと流動性があるため、必ずしも溶剤を必要としない。
As the binder resin constituting the conductive paste, any of thermosetting resin, ionizing radiation curable resin, and thermoplastic resin can be used. Examples of the thermosetting resin include resins such as polyester-melamine resin, melamine resin, epoxy-melamine resin, phenol resin, polyimide resin, thermosetting acrylic resin, thermosetting polyurethane resin, and ionizing radiation. Examples of the curable resin include the above-described materials as the primer material, and examples of the thermoplastic resin include resins such as thermoplastic polyester resin, polyvinyl butyral, thermoplastic acrylic resin, and thermoplastic polyurethane resin. . In addition, when using a thermosetting resin, you may add a curing catalyst as needed. When using an ionizing radiation curable resin, a polymerization initiator may be added as necessary.
Further, in order to obtain fluidity suitable for filling the concave portion of the plate, these resins are usually used as a varnish dissolved in a solvent. There is no restriction | limiting in particular in the kind of solvent, The solvent generally used for printing ink can be used. The content of the solvent is usually about 10 wt% to 70 wt%, but it is preferably as small as possible within a range where necessary fluidity can be obtained. In addition, when an ionizing radiation curable resin is used, a solvent is not necessarily required because it is inherently fluid.

導電性ペーストを構成する導電性微粒子としては、金、銀、白金、銅、錫、ニッケル、アルミニウムなどの低抵抗率金属粒子、表面が金や銀などの低抵抗率金属でめっきされた粒子(高抵抗率金属粒子、樹脂粒子、無機粒子)、グラファイト粒子、カーボンブラック粒子等を好ましく挙げることができ、形状も球状、回転楕円体状、多面体状、鱗片状、円盤状、繊維状等から選ぶことができる。これらの材料や形状は適宜混合して用いても良い。導電性微粒子の大きさは種類に応じて任意に選択されるので一概に特定できないが、例えば、鱗片状の銀粒子の場合には粒子の平均粒子径が0.1〜10μm程度のものを用いることができ、カーボンブラック粒子の場合には平均粒子径が0.01〜1μm程度のものを用いることができる。導電性ペースト中の導電性微粒子の含有量は、導電性微粒子の導電性や粒子の形態に応じて任意に選択されるが、例えば導電性ペーストの固形分100重量部のうち、導電性微粒子を40〜99重量部の範囲で含有させることができる。なお、本願において、平均粒子径というときは、粒度分布径、またはTEM(透過型電子顕微鏡)観察で測定した値を指している。   The conductive fine particles constituting the conductive paste include low resistivity metal particles such as gold, silver, platinum, copper, tin, nickel and aluminum, and particles whose surfaces are plated with a low resistivity metal such as gold and silver ( High resistivity metal particles, resin particles, inorganic particles), graphite particles, carbon black particles, etc. can be preferably mentioned, and the shape is also selected from spherical, spheroid, polyhedral, scaly, disk, fiber, etc. be able to. These materials and shapes may be appropriately mixed and used. The size of the conductive fine particles is arbitrarily selected depending on the type and thus cannot be specified unconditionally. For example, in the case of flaky silver particles, those having an average particle diameter of about 0.1 to 10 μm are used. In the case of carbon black particles, those having an average particle diameter of about 0.01 to 1 μm can be used. The content of the conductive fine particles in the conductive paste is arbitrarily selected according to the conductivity of the conductive fine particles and the form of the particles. For example, out of 100 parts by weight of the solid content of the conductive paste, It can be contained in the range of 40 to 99 parts by weight. In the present application, the average particle diameter refers to a particle size distribution diameter or a value measured by TEM (transmission electron microscope) observation.

また、導電性ペーストには、品質向上等を目的に適当な添加物を加えてもよい。例えば、カーボンブラックはそれ自体が黒色であるので必要ないが、黒色顔料や黒色染料を必要に応じて所定量添加することで、電磁波シールドパネルを構成したときのコントラストを向上させ、視認性を向上させることができる。また、後述する金属めっき層の金属光沢による透明基板裏面の反射防止、色ムラ、金属色等の抑制のためには、こうした黒色顔料や黒色染料を含有させることが望ましい。黒色顔料としては、導電性粉末としても機能するカーボンブラック、Fe34、CuO−Cr23、CuO−Fe34−Mn23、CoO−Fe23−Cr23等が挙げられるが、その種類や形状は特に制限はなく、バインダー樹脂中に分散容易な平均粒子径0.1μm以下の着色力の大きな黒色顔料又は黒色染料が好ましい。なお、カーボンブラックを用いる場合には、チャンネルブラック、ファーネスブラック又はランプブラック等の色材用カーボンブラックや、導電性カーボンブラック、アセチレンブラック等を挙げることができ、中でも平均粒子径が20nm以下のものが好ましく用いられる。また、黒色染料としては、アニリンブラック等の染料を用いることができる。
また、導電性ペーストの流動性や安定性を改善するために、導電性や、プライマー層との密着性に悪影響を与えない限りにおいて適宜フィラーや増粘剤、界面活性剤、酸化防止剤などを添加してもよい。
Moreover, you may add an appropriate additive to an electrically conductive paste for the purpose of quality improvement. For example, carbon black is not necessary because it is black in itself, but by adding a predetermined amount of black pigment or black dye as necessary, the contrast when an electromagnetic wave shield panel is constructed is improved and visibility is improved. Can be made. Further, in order to prevent reflection on the back surface of the transparent substrate due to the metallic luster of the metal plating layer, which will be described later, and to suppress color unevenness, metal color, etc., it is desirable to contain such a black pigment or black dye. As black pigments, carbon black, Fe 3 O 4 , CuO—Cr 2 O 3 , CuO—Fe 3 O 4 —Mn 2 O 3 , CoO—Fe 2 O 3 —Cr 2 O 3 which also function as conductive powder The type and shape are not particularly limited, and a black pigment or black dye having a large coloring power with an average particle diameter of 0.1 μm or less that can be easily dispersed in the binder resin is preferable. In addition, when using carbon black, carbon black for coloring materials such as channel black, furnace black or lamp black, conductive carbon black, acetylene black and the like can be mentioned, and among them, the average particle diameter is 20 nm or less. Is preferably used. As the black dye, a dye such as aniline black can be used.
Also, in order to improve the fluidity and stability of the conductive paste, fillers, thickeners, surfactants, antioxidants, etc. are appropriately added as long as they do not adversely affect the conductivity and adhesion with the primer layer. It may be added.

(触媒層)
本発明の電磁波シールド部材の導電層の第3の態様においては、上記導電性材料層3の代わりに、触媒層3’が、プライマー層2上に、所定のパターンで設けられる。該パターンの形状、その線幅、線間ピッチ等の寸法は、上記導電性材料層3の場合と同様である。
この触媒層3’は、無電解メッキ触媒とバインダーを含む触媒ペーストを出発物質として、後述する製造方法によりプライマー層2上に所定のパターンで形成することができる。
(Catalyst layer)
In the third aspect of the conductive layer of the electromagnetic wave shielding member of the present invention, a catalyst layer 3 ′ is provided on the primer layer 2 in a predetermined pattern instead of the conductive material layer 3. The shape of the pattern, its line width, inter-line pitch and other dimensions are the same as in the case of the conductive material layer 3.
The catalyst layer 3 ′ can be formed in a predetermined pattern on the primer layer 2 by a manufacturing method described later using a catalyst paste containing an electroless plating catalyst and a binder as a starting material.

触媒ペーストを構成する無電解メッキ触媒としては、パラジウム、金、銀、白金等の貴金属超微粒子が使用できる。これらの粒子はペーストへ直接添加してもよいが、一般に高価であるため、通常は別の粒子表面に担持させた状態で用いることが多い。
無電解メッキ触媒担持体としては、触媒機能を妨げず、担体表面から触媒微粒子が容易に脱落しないようなものであれば特に制限はなく、例えば、微細アルミナゲル、シリカゲル、ゼオライト等を用いることができる。担持させる方法としては、コロイドの表面吸着を利用する方法、メカノケミカル反応を利用したもの、蒸着やスパッタリング等の物理的方法などが例示されるが、方式は限定されない。
触媒ペースト中に添加される結合剤(バインダー)としては,後工程であるめっき液への耐性があれば特に制限はないが、例えばエチルセルロース、ニトロセルロース等のセルロース誘導体系、アクリル系、酢酸ビニル系、PVA系、ポリエステル、ポリウレタン等を用いることができる。これらは単独で用いてもよく、混合して用いてもよい。
触媒ペーストに使用する溶剤はバインダーを良好に溶解できれば特に制限はないが、印刷する際の揮発などの影響を避けるためには比較的高沸点の溶剤が好ましく、例えば第3石油類の溶剤などが例示できる。
また、触媒ペーストの粘度は通常数百mPa・s〜数十万mPa・s程度の範囲のものが用いられ、擬粘性流動(チキソトロピー性)を有するものが、ペーストの分離沈降や、転移後のパターン形状の安定性を保つ点で好ましく、通常はシリカゲル等の微粒子を分散させたペーストはチキソトロピー性を発現するので使用に適している。
触媒ペーストは、メッキ皮膜の金属光沢による透明基板裏面の反射防止および色ムラや金属色の抑制のため、黒色顔料を含有させてもよい。この場合の黒色顔料としては、ペースト中に分散容易な粒子径0.1μm以下の着色力の大きな黒色顔料が好ましい。例えば、カーボンブラック、Fe34、CuO−Cr23、CuO−Fe34−Mn23、CoO−Fe23−Cr23などが使用可能であり、このうち、特に、カーボンブラックが好ましい。
As an electroless plating catalyst constituting the catalyst paste, ultrafine noble metal particles such as palladium, gold, silver and platinum can be used. Although these particles may be added directly to the paste, they are generally expensive and are usually used in the state of being supported on the surface of another particle.
The electroless plating catalyst carrier is not particularly limited as long as it does not interfere with the catalyst function and the catalyst fine particles do not easily fall off from the support surface. For example, fine alumina gel, silica gel, zeolite, or the like may be used. it can. Examples of the supporting method include a method using colloidal surface adsorption, a method using a mechanochemical reaction, a physical method such as vapor deposition and sputtering, and the method is not limited.
The binder (binder) added to the catalyst paste is not particularly limited as long as it has resistance to the plating solution, which is a subsequent process. For example, cellulose derivatives such as ethyl cellulose and nitrocellulose, acrylics, and vinyl acetates. , PVA, polyester, polyurethane and the like can be used. These may be used alone or in combination.
The solvent used in the catalyst paste is not particularly limited as long as it can dissolve the binder well. However, a solvent having a relatively high boiling point is preferable in order to avoid the influence of volatilization at the time of printing. It can be illustrated.
The viscosity of the catalyst paste is usually in the range of several hundred mPa · s to several hundred thousand mPa · s, and the one having pseudo-viscous flow (thixotropic property) It is preferable from the viewpoint of maintaining the stability of the pattern shape. Usually, a paste in which fine particles such as silica gel are dispersed is suitable for use since it exhibits thixotropic properties.
The catalyst paste may contain a black pigment in order to prevent reflection on the back surface of the transparent substrate due to the metallic luster of the plating film and to suppress color unevenness and metal color. The black pigment in this case is preferably a black pigment having a large coloring power and having a particle diameter of 0.1 μm or less that can be easily dispersed in the paste. For example, carbon black, Fe 3 O 4 , CuO—Cr 2 O 3 , CuO—Fe 3 O 4 —Mn 2 O 3 , CoO—Fe 2 O 3 —Cr 2 O 3 and the like can be used. In particular, carbon black is preferable.

(金属層)
本発明の電磁波シールド材の導電層の第1の態様において、導電性材料層3のみでは所望の導電率に不足する場合に、導電率を更に向上せしめるために、金属層4を、必要に応じ形成することができ(本発明の導電層の第2の態様)、導電性材料層3上にめっきにより形成される。尚、斯かるめっきによる金屬層は導電性材料層3の表面にのみ堆積させることも出來るが、導電性材料層3を、内部に微小空隙を有する多孔質構造にしておき、該内部空隙内にも金屬層を析出させ、導電性微粒子間をめっき析出した金屬により連結させることも出來る。
めっきの方法としては電気めっき、無電解めっきなどの方法があるが、電気めっきは無電解めっきに比べて通電量を増やすことでめっき速度を数倍に上げることができ、生産性を著しく向上させることができるため好ましい。
電気めっきの場合、導電性材料層3への給電は導電性材料層3が形成された面に接触させた通電ロール等の電極から行われるが、導電性材料層3が電気めっき可能な程度の導電性(例えば、100Ω/□以下)を有するので、電気めっきを問題なく行うことができる。金属層4を構成する材料としては、導電性が高く容易にめっき可能な、銅、銀、金、クロム、ニッケル等を挙げることができる。
金属層は導電性材料層3に比べると一般的に体積抵抗率が1桁以上小さいため、導電層単体で電磁波シールド性を確保する場合に比べて、必要な導電性材料の量を減らせるという利点がある。
(Metal layer)
In the first aspect of the conductive layer of the electromagnetic wave shielding material of the present invention, if the conductive material layer 3 alone is insufficient for the desired conductivity, the metal layer 4 is added as necessary in order to further improve the conductivity. It can be formed (second embodiment of the conductive layer of the present invention), and is formed on the conductive material layer 3 by plating. It is noted that the metal layer formed by such plating can be deposited only on the surface of the conductive material layer 3, but the conductive material layer 3 is made to have a porous structure having minute voids therein, It is also possible to deposit a gold layer and connect the conductive fine particles with a plated metal plate.
There are electroplating and electroless plating methods as plating methods, but electroplating can increase the plating rate several times by increasing the amount of electricity compared to electroless plating, which significantly improves productivity. This is preferable.
In the case of electroplating, power supply to the conductive material layer 3 is performed from an electrode such as a current-carrying roll brought into contact with the surface on which the conductive material layer 3 is formed. The conductive material layer 3 can be electroplated. Since it has conductivity (for example, 100Ω / □ or less), electroplating can be performed without any problem. Examples of the material constituting the metal layer 4 include copper, silver, gold, chromium, nickel and the like, which have high conductivity and can be easily plated.
Since the metal layer generally has a volume resistivity smaller than that of the conductive material layer 3 by one digit or more, the amount of the conductive material required can be reduced as compared with the case where the conductive layer alone secures electromagnetic wave shielding properties. There are advantages.

本発明の電磁波シールド材の導電層の第3の態様においては、触媒層3’上に無電解めっき等により、金属層4が形成される。
無電解めっきには、一般的な無電解めっき液が使用可能であり、使用できる金属としては金、銀、銅、ニッケル、スズ、亜鉛、コバルトから一種以上を選んで使用でき、導電性の面からは金、銀、銅、ニッケル等が好ましい。例えば無電解銅めっき浴、無電解ニッケル−リンめっき浴、無電解ニッケル−ホウ素めっき浴などが使用可能である。
無電解めっきは触媒ペーストが印刷された部分にのみ析出するので、導電性パターンを精度よく作成することができる。
また、通常、無電解めっきは金属析出に時間がかかるため、無電解めっきで必要最小限の導電性を確保した後、電解めっきによって必要な導電性を付与しても良い。一般的なめっきを使用することができ、金、銀、銅、ニッケル、スズ、亜鉛、コバルト等から選んで使用でき、導電性の面からは金、銀、銅、ニッケル等が好ましい。
In the third aspect of the conductive layer of the electromagnetic wave shielding material of the present invention, the metal layer 4 is formed on the catalyst layer 3 ′ by electroless plating or the like.
For electroless plating, a general electroless plating solution can be used. As the metal that can be used, one or more of gold, silver, copper, nickel, tin, zinc, and cobalt can be used. Is preferably gold, silver, copper, nickel or the like. For example, an electroless copper plating bath, an electroless nickel-phosphorous plating bath, an electroless nickel-boron plating bath, or the like can be used.
Since electroless plating is deposited only on the portion where the catalyst paste is printed, a conductive pattern can be created with high accuracy.
In addition, since electroless plating usually takes time for metal deposition, the necessary conductivity may be imparted by electroplating after ensuring the necessary minimum conductivity by electroless plating. General plating can be used, and gold, silver, copper, nickel, tin, zinc, cobalt and the like can be selected and used, and gold, silver, copper, nickel and the like are preferable from the viewpoint of conductivity.

なお、金属層4を形成した後においては、必要に応じて、その金属層4を黒化処理したり、保護層を設けてもよい。黒化処理は、例えば黒化ニッケルめっき、銅−コバルト合金めっき等により黒色の金屬、合金、乃至金屬化合物から成る黒色層(黒化層)を積層する処理が代表的である。其の他、黒色顔料を含有する樹脂塗料の塗工処理、或いは金屬層表面を酸化して黒色酸化物とする酸化処理、金屬層表面の腐蝕による粗面化処理等を例示でき、また、保護層は、例えばアクリル系の光硬化性樹脂を用いて形成することができる。   In addition, after forming the metal layer 4, the metal layer 4 may be blackened or a protective layer may be provided as necessary. A typical example of the blackening process is a process of laminating a black layer (blackened layer) made of a black metallurgy, an alloy, or a metallurgy compound by blackened nickel plating, copper-cobalt alloy plating, or the like. Other examples include coating treatment of resin paints containing black pigments, oxidation treatment of the surface of the metal layer to black oxide, surface roughening by corrosion of the surface of the surface of the metal layer, and protection. The layer can be formed using, for example, an acrylic photocurable resin.

(カール防止層)
上記のように、本発明においてはプライマー層を形成するために、電離放射線重合性化合物を含有する電離放射線硬化性組成物を使用する。しかしながら該組成物からなる電離放射線硬化性プライマー層を硬化してプライマー層を形成する際、硬化収縮することで電磁波シールド部材が、該プライマー層側が凹面となる樣に彎曲してカールするという問題がある。また、プライマー層を形成する電離放射線硬化性樹脂の中に親水性の高い成分が含まれる場合、めっき浴などの水溶液を通過する工程があると、乾燥後に該樹脂が収縮して電磁波シールド部材にカールが発生する場合が多い。このような電磁波シールド部材のカールが強いと、後工程においてしわやムラなどの不具合が生じ、またプラズマディスプレイの大型パネルなどにおいては他の部材との貼りあわせなどアセンブリ時に不具合が発生する。したがって、電磁波シールド部材のカールを抑える必要がある。
(Anti-curl layer)
As described above, in the present invention, an ionizing radiation curable composition containing an ionizing radiation polymerizable compound is used to form a primer layer. However, when the ionizing radiation curable primer layer made of the composition is cured to form the primer layer, there is a problem that the electromagnetic wave shielding member is bent and curled into a ridge having a concave surface on the primer layer side due to curing shrinkage. is there. In addition, when the ionizing radiation curable resin forming the primer layer contains a highly hydrophilic component, if there is a step of passing an aqueous solution such as a plating bath, the resin shrinks after drying and becomes an electromagnetic shielding member. Curling often occurs. If the curl of such an electromagnetic wave shielding member is strong, problems such as wrinkles and unevenness occur in a later process, and problems such as bonding with other members occur in a large panel of a plasma display. Therefore, it is necessary to suppress curling of the electromagnetic wave shielding member.

本発明は、透明基材のプライマー層が形成されていない面にカール防止層が形成されることにより、電磁波シールド部材のカール値が20mm以下となっていることを特徴とし、より好ましくは該カール値が10mm以下となっていることである。ここで、電磁波シールド部材のカール値とは、100mm四方の正方形に切り出した電磁波シールド部材のサンプルを水に浸し乾燥させ、水平な台の上にカールした内側面を上に向け静置した際の、四隅の浮き(台からの高さ)の平均をいう。   The present invention is characterized in that the curl value of the electromagnetic wave shielding member is 20 mm or less by forming an anti-curl layer on the surface of the transparent substrate where the primer layer is not formed, more preferably the curl The value is 10 mm or less. Here, the curl value of the electromagnetic wave shielding member means that the sample of the electromagnetic wave shielding member cut into a square of 100 mm square is dipped in water and dried, and is left to stand with the curled inner surface facing upward on a horizontal table. The average of the four corners (height from the table).

カール防止層は、硬化収縮性を有する組成物を塗工および硬化することで形成される。前記硬化収縮性を有する組成物は透明で、硬化により収縮する性質を有するものであれば特に制限されずに使用することができ、カール防止層としては、電離放射線硬化性樹脂や熱硬化性樹脂を使用することができる。なお、電離放射線硬化性樹脂を用いる場合は必要に応じて重合開始剤を添加してもよく、熱硬化性樹脂を使用する場合は必要に応じて硬化触媒を添加してもよい。   The anti-curl layer is formed by applying and curing a composition having cure shrinkage. The composition having curing shrinkage can be used without particular limitation as long as it is transparent and has a property of shrinking by curing. As an anti-curl layer, an ionizing radiation curable resin or a thermosetting resin can be used. Can be used. In addition, when using ionizing radiation curable resin, a polymerization initiator may be added as needed, and when using a thermosetting resin, you may add a curing catalyst as needed.

電離放射線硬化性樹脂は、プライマー層の説明で例示したモノマーやプレポリマーを重合して得られる樹脂が挙げられる。熱硬化性樹脂の具体例としては、例えば、ポリエステル−メラミン樹脂、メラミン樹脂、エポキシ−メラミン樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、熱硬化性アクリル樹脂、熱硬化性ポリウレタン樹脂等の樹脂が挙げられる。   Examples of the ionizing radiation curable resin include resins obtained by polymerizing monomers and prepolymers exemplified in the description of the primer layer. Specific examples of the thermosetting resin include resins such as polyester-melamine resin, melamine resin, epoxy-melamine resin, phenol resin, polyimide resin, thermosetting acrylic resin, and thermosetting polyurethane resin.

カール防止層の厚みは目的に合わせて適宜決定できるが、通常、1〜100μm、より好ましくは1〜50μmである。カール防止層の厚みが1μmを下回ると、カール防止効果が得られにくく、100μmを上回ると、透明性が悪くなる傾向がある。   The thickness of the anti-curl layer can be appropriately determined according to the purpose, but is usually 1 to 100 μm, more preferably 1 to 50 μm. When the thickness of the anti-curl layer is less than 1 μm, it is difficult to obtain an anti-curl effect, and when it exceeds 100 μm, the transparency tends to deteriorate.

また、プライマー層形成後にプライマー層の熱収縮や水分吸収による収縮が生じる場合は、プライマー層と同様の性質を有するカール防止層を形成することでカールを防ぐことが可能である。上記のように、プライマー層と同様の性質を有するカール防止層を形成することで、優れたカール防止効果が得られることから、好ましくは、プライマー層の形成に用いる電離放射線硬化性組成物を用いて、プライマー層と同じ厚みのカール防止層を形成することが好ましい。また、特に透明性が必要な際は、プライマー層の形成に使用する電離放射線硬化性組成物よりも収縮率が高い硬化収縮性を有する組成物を用いて、プライマー層よりも薄いカール防止層を形成してもよい。   In addition, when the primer layer shrinks due to heat shrinkage or moisture absorption after the primer layer is formed, curling can be prevented by forming an anti-curl layer having the same properties as the primer layer. As described above, since an excellent anti-curl effect can be obtained by forming an anti-curl layer having the same properties as the primer layer, it is preferable to use an ionizing radiation curable composition used for forming the primer layer. Thus, it is preferable to form an anti-curl layer having the same thickness as the primer layer. In addition, when transparency is particularly required, a curl-preventing layer thinner than the primer layer is formed using a composition having a curing shrinkage having a higher shrinkage rate than the ionizing radiation curable composition used for forming the primer layer. It may be formed.

また、後述するようにカール防止層の形成段階は特に限定されず、目的に応じて適宜決定できる。したがって、プライマー層形成後のカールした透明基材にカール防止層を形成してもよく、また、透明基材にカール防止層を設けたものに、プライマー層を形成しても良い。   Further, as will be described later, the formation stage of the anti-curl layer is not particularly limited, and can be appropriately determined according to the purpose. Therefore, the curl prevention layer may be formed on the curled transparent substrate after the primer layer is formed, or the primer layer may be formed on the transparent substrate provided with the curl prevention layer.

次に、本発明の電磁波シールド部材の製造方法について説明する。
(電磁波シールド部材の製造方法)
本発明の電磁波シールド部材の製造方法を、透明基材のプライマー層側とカール防止層側の工程に分けて説明する。
Next, the manufacturing method of the electromagnetic wave shielding member of this invention is demonstrated.
(Method for manufacturing electromagnetic shielding member)
The method for producing an electromagnetic wave shielding member of the present invention will be described by dividing it into steps on the primer layer side and the curl prevention layer side of the transparent substrate.

透明基材のプライマー層側の形成方法を其の代表的な例で示すと、以下のとおりである。すなわち、(a)透明基材上に、光重合開始剤を含むプライマー層形成用の電離放射線硬化性組成物を塗布して、未硬化で液状の電離放射線硬化性プライマー層を形成する工程、(b)所定のパターンで凹部が形成された板状又は円筒状版面に、導電性ペーストまたは触媒ペーストを塗布し、凹部以外の該ペーストを掻取って、該ペーストを版面の凹部内に充填する工程、(c)上記(a)工程で得られた電離放射線硬化性プライマー層を有する透明基材を、該電離放射線硬化性プライマー層が、上記(b)工程で得られた導電性ペースト又は触媒ペーストが充填されてなる版面の凹部側に対面するように圧着させ、次いで該電離放射線硬化性プライマー層を、電離放射線として紫外線を照射する事により硬化させてプライマー層を形成する工程、(d)当該透明基材及び硬化したプライマー層とを上記版面から剥がして、上記凹部内の導電性ペースト又は触媒ペーストを、上記プライマー層上に転写させる工程、及び(e)プライマー層上に転写されてなる所定パターンで形成された導電性ペースト層または触媒ペースト層を硬化および/または乾燥させて導電性材料層又は触媒層を形成する工程、および(f)必要に応じて導電性材料層にめっき処理を施して、金属層を形成する工程、もしくは触媒層にめっき処理を施して、金属層を形成する工程を含むものである。   A typical example of the method for forming the transparent substrate on the primer layer side is as follows. (A) A step of applying an ionizing radiation curable composition for forming a primer layer containing a photopolymerization initiator on a transparent substrate to form an uncured and liquid ionizing radiation curable primer layer; b) A step of applying a conductive paste or a catalyst paste to a plate-like or cylindrical plate surface in which concave portions are formed in a predetermined pattern, scraping off the paste other than the concave portions, and filling the paste into the concave portions of the plate surface (C) The conductive paste or catalyst paste obtained in the step (b) is prepared from the transparent substrate having the ionizing radiation curable primer layer obtained in the step (a). Pressure is applied so as to face the concave side of the plate surface filled with, and then the ionizing radiation curable primer layer is cured by irradiating ultraviolet rays as ionizing radiation to form a primer layer. (D) a step of peeling the transparent substrate and the cured primer layer from the plate surface, and transferring the conductive paste or catalyst paste in the concave portion onto the primer layer; and (e) on the primer layer. A step of curing and / or drying a conductive paste layer or a catalyst paste layer formed in a predetermined pattern transferred to a conductive material layer or a catalyst layer, and (f) a conductive material as required It includes a step of plating the layer to form a metal layer, or a step of plating the catalyst layer to form a metal layer.

この(a)工程は、透明基材上にプライマー層形成用の電離放射線硬化性組成物を塗布して、電離放射線硬化性プライマー層を形成する工程である。
当該(a)工程で用いるプライマー層形成用の電離放射線硬化性組成物は、前述したとおりであり、電離放射線重合性化合物を必須とし、特に電離放射線として紫外線或いは可視光線を用いる場合には、更に光重合開始剤を含む組成物である。
透明基材上に、上記電離放射線硬化性組成物を塗布する方法については特に制限はなく、各種コーティング方式が使用でき、例えばグラビアコート、コンマコート、ダイコート、ロールコート等の各種方式から適宜選ぶことができる。
該プライマー層用樹脂組成物が溶媒を含む場合には、塗布後、乾燥処理を行うが、溶媒を含まないノンソルベントタイプである場合には、乾燥処理は不要である。
このようにして形成された電離放射線硬化性プライマー層は、後述する圧着時に流動性を保持した状態であることが肝要である。
The step (a) is a step of forming an ionizing radiation curable primer layer by applying an ionizing radiation curable composition for forming a primer layer on a transparent substrate.
The ionizing radiation curable composition for forming the primer layer used in the step (a) is as described above, and an ionizing radiation polymerizable compound is essential, and particularly when ultraviolet rays or visible rays are used as ionizing radiation, It is a composition containing a photoinitiator.
There is no particular limitation on the method for applying the ionizing radiation curable composition on the transparent substrate, and various coating methods can be used. For example, an appropriate method can be selected from various methods such as gravure coating, comma coating, die coating, and roll coating. Can do.
When the primer layer resin composition contains a solvent, a drying process is performed after coating. However, when the primer layer resin composition is a non-solvent type containing no solvent, the drying process is unnecessary.
It is important that the ionizing radiation curable primer layer formed in this way is in a state of maintaining fluidity at the time of pressure bonding described later.

((b)工程)
この(b)工程は、所定のパターンで凹部が形成された板状又は円筒状版面に、導電性ペーストまたは触媒ペーストを充填する工程である。
具体的には、メッシュ状又はストライプ状の所定のパターンで凹部が形成された板状又は円筒状の版面上に、導電性ペーストまたは触媒ペーストを塗布した後、その凹部内以外に付着した導電性ペーストまたは触媒ペーストを掻き取って凹部内に導電性ペーストまたは触媒ペーストを充填する工程である。この導電性ペーストまたは触媒ペーストについては、前述で説明したとおりである。凹部以外に付着した導電層形成用材料の掻き取りは、例えばドクターブレードなどで行うことができる。
((B) Process)
This step (b) is a step of filling a plate-like or cylindrical plate surface in which concave portions are formed in a predetermined pattern with a conductive paste or a catalyst paste.
Specifically, after applying a conductive paste or a catalyst paste on a plate-like or cylindrical plate surface in which recesses are formed in a predetermined pattern of mesh or stripe, the conductive material adhered outside the recesses This is a step of scraping off the paste or catalyst paste and filling the conductive paste or catalyst paste into the recesses. This conductive paste or catalyst paste is as described above. The conductive layer forming material adhered to other than the recesses can be scraped off with, for example, a doctor blade.

((c)工程)
この(c)工程は、上記(a)工程で得られた電離放射線硬化性プライマー層を有する透明基材を、該電離放射線硬化性プライマー層が、上記(b)工程で得られた導電性ペーストまたは触媒ペーストが充填されてなる版面の凹部側に対面するように圧着させ、次いで該電離放射線硬化性プライマー層を電離放射線の照射により硬化させてプライマー層を形成する工程である。
当該(c)工程においては、まず、導電性ペーストまたは触媒ペーストが充填された版面の凹部側に、電離放射線硬化性プライマー層を有する透明基材を、該電離放射線硬化性プライマー層が対面するように圧着させる。この圧着は、例えば付勢圧力の調整手段を備えたニップロールで行うことができる。該圧着操作により、凹部内の導電性ペーストまたは触媒ペーストと、流動性が保持された電離放射線硬化性プライマー層とを空隙なく密着させることができる。
次いで、透明基材側から、上記電離放射線硬化性プライマー層に、電離放射線を照射することにより、該電離放射線硬化性プライマー層を硬化させて、プライマー層を形成させる。電離放射線の照射量は、電離放射線量で通常10〜5000mJ/cm2程度、好ましくは100〜500mJ/cm2である。
(Step (c))
In this step (c), the transparent substrate having the ionizing radiation curable primer layer obtained in the step (a) is used as the conductive paste obtained by the ionizing radiation curable primer layer in the step (b). Alternatively, it is a step of forming a primer layer by press-bonding so as to face the concave side of the plate surface filled with the catalyst paste, and then curing the ionizing radiation-curable primer layer by irradiation with ionizing radiation.
In the step (c), first, the ionizing radiation curable primer layer faces the transparent substrate having the ionizing radiation curable primer layer on the concave side of the plate surface filled with the conductive paste or the catalyst paste. Crimp to. This crimping can be performed, for example, with a nip roll provided with a biasing pressure adjusting means. By this crimping operation, the conductive paste or catalyst paste in the recess and the ionizing radiation curable primer layer having fluidity can be brought into close contact with each other without a gap.
Next, the ionizing radiation curable primer layer is cured by irradiating the ionizing radiation curable primer layer from the transparent substrate side to form the primer layer. The dose of ionizing radiation is usually about 10 to 5000 mJ / cm 2 , preferably 100 to 500 mJ / cm 2 in terms of ionizing radiation.

((d)工程)
この(d)工程は、上記(c)工程で電離放射線硬化性プライマー層を硬化させてプライマー層を形成後、透明基材及び硬化してこれと接着一体化したプライマー層とを版面から剥がして、凹部内の導電性ペーストまたは触媒ペーストを、上記硬化したプライマー層上に転写させる工程である。
当該(d)工程において、透明基材を版面から剥がすと、電離放射線硬化性プライマー層が硬化されていることから、それに密着した導電性ペーストまたは触媒ペーストは凹部内から離れてプライマー層上にきれいに転写される。
((D) step)
In the step (d), the ionizing radiation curable primer layer is cured in the step (c) to form a primer layer, and then the transparent substrate and the primer layer which is cured and integrated with the transparent substrate are peeled off from the plate surface. In this step, the conductive paste or catalyst paste in the recess is transferred onto the cured primer layer.
In the step (d), when the transparent substrate is peeled off from the plate surface, the ionizing radiation curable primer layer is cured. Transcribed.

((e)工程)
この(e)工程は、プライマー層上に転写されてなる所定パターンで形成された導電性ペーストまたは触媒ペーストを硬化および/または乾燥させ、導電性材料層または触媒層を形成する工程である。
上記導電性ペーストまたは触媒ペーストの硬化、乾燥は、バインダー樹脂の種類にもよるが、通常50〜150℃程度、好ましくは70〜120℃の温度で熱処理することにより行われる。
(Step (e))
This step (e) is a step of forming a conductive material layer or catalyst layer by curing and / or drying a conductive paste or catalyst paste formed in a predetermined pattern transferred onto the primer layer.
Although hardening and drying of the said electrically conductive paste or catalyst paste are based on the kind of binder resin, it is normally performed by heat-processing at the temperature of about 50-150 degreeC, Preferably it is 70-120 degreeC.

((f)工程)
本発明の電磁波シールド部材の導電層の第1の態様において、前記のようにして形成された導電材料層のみでは、所望の導電率に不足する場合、導電率をさらに向上させるために、必要に応じ、該導電材料層にめっき処理を施して、金属層を形成する(本発明の電磁波シールド部材の導電層の第2の態様)
めっき処理としては、電気めっき処理、無電解めっき処理のいずれも用いることができるが、前述で説明したように電気めっき処理が好ましい。電気めっき処理及び無電解めっき処理については、前述で説明したとおりである。
本発明の電磁波シールド部材の導電層の第3の態様においては、触媒層3’上に無電解めっき等により、金属層4が形成される。前述のように、無電解めっきは金属析出に時間がかかるため、無電解めっきで必要最小限の導電性を確保した後、電解めっきによって必要な導電性を付与してもよい。
めっき処理後は、必要に応じ、他の処理、例えば金属層の黒化処理や防錆処理、あるいは保護層の形成を経たのち、そのまま巻き取られてもよいし、所定の寸法に切断されて枚葉シートとしてもよい。
((F) Process)
In the first aspect of the conductive layer of the electromagnetic wave shielding member of the present invention, if only the conductive material layer formed as described above is insufficient for the desired conductivity, it is necessary to further improve the conductivity. Accordingly, the conductive material layer is plated to form a metal layer (second aspect of the conductive layer of the electromagnetic wave shielding member of the present invention).
As the plating treatment, either electroplating treatment or electroless plating treatment can be used, but as described above, electroplating treatment is preferable. The electroplating process and the electroless plating process are as described above.
In the third aspect of the conductive layer of the electromagnetic wave shielding member of the present invention, the metal layer 4 is formed on the catalyst layer 3 ′ by electroless plating or the like. As described above, since electroless plating takes time for metal deposition, the necessary conductivity may be imparted by electroplating after ensuring the necessary minimum conductivity by electroless plating.
After the plating treatment, it may be wound up as it is after being subjected to other treatments, for example, blackening treatment or rust prevention treatment of the metal layer, or formation of the protective layer, if necessary, or cut to a predetermined size. It may be a sheet.

透明基材のカール防止層側の工程は以下のとおりである。すなわち、目的の厚さになるように重合性モノマーや重合性プレポリマーを含む硬化収縮性を有する組成物を透明基材に塗工し硬化させればよい。   The process on the curl prevention layer side of the transparent substrate is as follows. That is, a composition having a curing shrinkage containing a polymerizable monomer and a polymerizable prepolymer so as to have a target thickness may be applied to a transparent substrate and cured.

カール防止層を形成する段階は特に制限はなく、目的に応じて適宜決定できる。例えば、前記(a)工程(透明基材上にプライマー層形成用の電離放射線硬化性組成物を塗布して、電離放射線硬化性プライマー層を形成する工程)の前に予め透明基材にカール防止層を形成しておいてもよく、前記(e)工程(プライマー層上に転写されてなる所定パターンで形成された導電性ペースト層または触媒ペースト層を硬化させて導電性材料層または触媒層を形成する工程)の後に、カール防止層を形成してもよい。(a)工程の前にカール防止層を形成する方法は、導電層を形成した後の製造工程が少なくなるため、衝撃等による導電層の破損を避けることができる点で好ましい。また、(e)工程の後にカール防止層を形成する方法は、プライマー層の硬化収縮に合わせてカールを必要十分な程度に相殺する樣に調整する適切な対応ができる点で好ましい。   The step of forming the anti-curl layer is not particularly limited and can be appropriately determined according to the purpose. For example, before the step (a) (the step of applying an ionizing radiation curable composition for forming a primer layer on a transparent substrate to form an ionizing radiation curable primer layer), the curling of the transparent substrate in advance is prevented. The step (e) (the conductive paste layer or catalyst paste layer formed in a predetermined pattern transferred onto the primer layer is cured to form a conductive material layer or catalyst layer. An anti-curl layer may be formed after the forming step. The method of forming the anti-curl layer before the step (a) is preferable in that the number of manufacturing steps after the formation of the conductive layer is reduced, so that damage to the conductive layer due to impact or the like can be avoided. Further, the method of forming the anti-curl layer after the step (e) is preferable in that an appropriate measure can be made to adjust the curl to a necessary and sufficient level in accordance with the curing shrinkage of the primer layer.

以上のようにして、本発明の電磁波シールド部材を製造することができる。
なお、こうして得られた電磁波シールド部材に光学調整層を設けて光学フィルタとして利用することができる。光学調整層としては、従来公知のものをそのまま用いればよく、例えば近赤外線吸収層、ネオン光吸収層、紫外線吸収層、反射防止層、防眩層等の光学的機能を付与する層、或いはハードコート層、防汚層、帯電防止層等の其の他機能を付与する層を挙げることができる。こうした電磁波シールド部材又は電磁波シールド部材を有する光学フィルタをプラズマディスプレイパネルに装着することにより、プラズマディスプレイ装置とすることができる。
As described above, the electromagnetic wave shielding member of the present invention can be manufactured.
The electromagnetic wave shielding member obtained in this way can be used as an optical filter by providing an optical adjustment layer. As the optical adjustment layer, a conventionally known layer may be used as it is. For example, a layer imparting optical functions such as a near infrared absorption layer, a neon light absorption layer, an ultraviolet absorption layer, an antireflection layer, an antiglare layer, or a hard layer. Examples include layers that provide other functions such as a coat layer, an antifouling layer, and an antistatic layer. By mounting such an electromagnetic wave shielding member or an optical filter having an electromagnetic wave shielding member on the plasma display panel, a plasma display device can be obtained.

次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。   EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited at all by these examples.

(カールの評価方法)
実施例および比較例で得られた電磁波シールド部材を100mm四方の正方形に切り出し、これを水平な台の上にカール面を上にして静置した。このときの正方形の四隅の浮きの量(台からの高さ)の平均値をカール値とした。尚、此の時の環境雰囲気は、気温23℃、相対湿度50%とした。
(Curl evaluation method)
The electromagnetic wave shielding members obtained in Examples and Comparative Examples were cut into 100 mm squares and left standing on a horizontal table with the curled surface facing up. The average value of the floating amount (height from the table) at the four corners of the square at this time was defined as the curl value. The environmental atmosphere at this time was set to a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%.

製造例1(導電性ペーストの調製)
導電性微粒子として平均粒径約2μmの鱗片状銀粒子93質量部、バインダー樹脂として熱可塑性のポリエステルウレタン樹脂7質量部、溶剤としてブチルカルビトールアセテート25質量部を配合し、十分に攪拌混合した後、3本ロールで混練りして導電性ペーストを作製した。
Production Example 1 (Preparation of conductive paste)
After blending 93 parts by mass of flaky silver particles having an average particle diameter of about 2 μm as conductive fine particles, 7 parts by mass of thermoplastic polyester urethane resin as binder resin, and 25 parts by mass of butyl carbitol acetate as solvent, the mixture is sufficiently stirred and mixed. A conductive paste was prepared by kneading with three rolls.

実施例1
先ず、透明基材として、片面に易接着処理がされた幅1000mmで厚さ100μmの長尺ロール巻ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用いた。供給部にセットしたPETフィルムを繰り出し、易接着処理面にプライマー層用の未硬化で液状の電離放射線硬化性組成物を厚さ20μmとなるように塗布形成した。塗布方式は、通常のグラビアリバース法を採用し、電離放射線硬化性組成物としては、エポキシアクリレート40質量部、単官能モノマー53質量部(親水性のモノマーを含まない)、3官能モノマー7質量部、さらに光開始剤として1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(イルガキュア184(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ))3質量部添加したものを使用した。塗布後の電離放射線硬化性プライマー層は触ると流動性を示すものの、PETフィルム上から流れ落ちることはなかった。
次に、電離放射線硬化性プライマー層が形成されたPETフィルムを転写工程を行う凹版ロールに供するが、それに先だって、線幅が20μmで線ピッチが300μm、版深10μmの格子状のメッシュパターンとなる凹部が形成された凹版ロールの版面に、製造例1で調製した導電性ペーストをピックアップロールで塗布し、ドクターブレードで凹部内以外の導電性ペーストを掻き取って凹部内のみに導電性ペーストを充填させた。導電性ペーストを凹部内に充填させた状態の凹版ロールと、ニップロールとの間に、プライマー層が形成されたPETフィルムを供し、凹版ロールに対するニップロールの押圧力(付勢力)によって、電離放射線硬化性プライマー層を凹版の凹部内に存在する導電性ペースト上部の凹みに流入させ、導電性ペーストと電離放射線硬化性プライマー層とを隙間なく密着させた。
Example 1
First, as a transparent substrate, a long roll-wound polyethylene terephthalate (PET) film having a width of 1000 mm and a thickness of 100 μm subjected to easy adhesion treatment on one side was used. The PET film set in the supply unit was drawn out, and an uncured and liquid ionizing radiation curable composition for the primer layer was applied and formed on the easy adhesion treatment surface so as to have a thickness of 20 μm. The application method employs a normal gravure reverse method, and the ionizing radiation curable composition is 40 parts by weight of epoxy acrylate, 53 parts by weight of a monofunctional monomer (not including a hydrophilic monomer), and 7 parts by weight of a trifunctional monomer. Furthermore, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals)) 3 parts by mass was added as a photoinitiator. Although the ionizing radiation curable primer layer after application showed fluidity when touched, it did not flow down from the PET film.
Next, the PET film on which the ionizing radiation curable primer layer is formed is subjected to an intaglio roll that performs a transfer process. Prior to that, a grid-like mesh pattern having a line width of 20 μm, a line pitch of 300 μm, and a plate depth of 10 μm is obtained. The conductive paste prepared in Production Example 1 is applied to the plate surface of the intaglio roll formed with the concave portion with a pick-up roll, and the conductive paste other than the concave portion is scraped off with a doctor blade to fill the conductive paste only in the concave portion. I let you. A PET film on which a primer layer is formed is provided between the intaglio roll filled with the conductive paste in the recess and the nip roll, and the ionizing radiation curable by the pressing force (biasing force) of the nip roll against the intaglio roll. The primer layer was caused to flow into the recess above the conductive paste existing in the recess of the intaglio, and the conductive paste and the ionizing radiation curable primer layer were brought into close contact with each other without any gap.

次いで行われる転写工程は以下の通りである。先ず、電離放射線硬化性プライマー層が形成されたPETフィルムを、そのプライマー層が凹版ロールの版面側に対向した状態で、凹版ロールとニップロールとの間に挟む。その凹版ロールとニップロールとの間でPETフィルムのプライマー層は版面に押し付けられる。プライマー層は流動性を有しているので、版面に押し付けられたプライマー層は、導電性ペーストが充填した凹部内にも流入し、凹部内で生じた導電性ペーストの凹みを充填する。こうして電離放射線硬化性プライマー層は導電性ペーストに対して隙間なく密着した状態となる。その後、さらに凹版ロールが回転してUVランプによって紫外線が照射され、電離放射線硬化性組成物からなるプライマー層が硬化する。プライマー層の硬化により、凹版ロールの凹部内の導電性ペーストはプライマー層と密着し、その後、出口側のニップロールによって該フィルム及び硬化して該フィルムと接着一体化したプライマー層とが凹版ロールから剥離され、該プライマー層上には導電性ペーストが転写形成される。このようにして得られた転写フィルムを、110℃の乾燥ゾーンを通過させて銀ペーストの溶剤を蒸発させ、プライマー層上にメッシュパターンからなる導電材料層を形成した。このときの導電材料層の厚さ(導電材料層が形成されているメッシュパターン部分とそれ以外の部分との厚さの差)は約9μmであり、版の凹部内の銀ペーストが高い転移率で転移していた。また、断線や形状不良も見られなかった。
次に、透明基材の、導電材料層、プライマー層が形成されていない面に、プライマー層形成に用いた電離放射線硬化性組成物を厚さ10μmとなるように塗布し、紫外線を照射してカール防止層を形成し、電磁波シールド部材を作成した。
得られた電磁波シールド部材のカール値は1mmであった。
Next, the transfer process performed is as follows. First, a PET film on which an ionizing radiation curable primer layer is formed is sandwiched between an intaglio roll and a nip roll with the primer layer facing the plate surface side of the intaglio roll. Between the intaglio roll and the nip roll, the primer layer of the PET film is pressed against the plate surface. Since the primer layer has fluidity, the primer layer pressed against the plate surface also flows into the recess filled with the conductive paste, and fills the recess of the conductive paste generated in the recess. Thus, the ionizing radiation curable primer layer is in close contact with the conductive paste without any gap. Thereafter, the intaglio roll is further rotated and irradiated with ultraviolet rays by a UV lamp, and the primer layer made of the ionizing radiation curable composition is cured. Due to the curing of the primer layer, the conductive paste in the recesses of the intaglio roll is brought into close contact with the primer layer, and then the film is cured by the nip roll on the outlet side and the primer layer that is bonded and integrated with the film is peeled off from the intaglio roll. A conductive paste is transferred and formed on the primer layer. The transfer film thus obtained was passed through a drying zone at 110 ° C. to evaporate the solvent of the silver paste, thereby forming a conductive material layer having a mesh pattern on the primer layer. The thickness of the conductive material layer at this time (thickness difference between the mesh pattern portion where the conductive material layer is formed and the other portions) is about 9 μm, and the silver paste in the concave portion of the plate has a high transition rate. Had been transferred. Moreover, neither disconnection nor shape defect was seen.
Next, the surface of the transparent substrate on which the conductive material layer and the primer layer are not formed is coated with the ionizing radiation curable composition used for forming the primer layer so as to have a thickness of 10 μm and irradiated with ultraviolet rays. An anti-curl layer was formed to produce an electromagnetic wave shielding member.
The curl value of the obtained electromagnetic wave shielding member was 1 mm.

比較例1
実施例1における、カール防止層を形成する前のPETフィルム(導電材料層およびプライマー層が形成されたPETフィルム)をサンプルとして、同様のカール値を測定したところ、25mmであった。
Comparative Example 1
When the same curl value was measured using the PET film before forming the anti-curl layer in Example 1 (PET film on which the conductive material layer and the primer layer were formed) as a sample, it was 25 mm.

本発明によれば、導電性ペースト等の転移不良に基づくパターンの断線、形状不良や低密着性等の不具合が起こることなく、精度よく電磁波シールドパターンが作製され、かつ、カールが抑えられて後工程に不具合を起さないプラズマディスプレイ用電磁波シールド部材を提供される。   According to the present invention, an electromagnetic wave shielding pattern can be accurately produced without causing problems such as disconnection of a pattern due to poor transfer, such as a conductive paste, shape failure, and low adhesion, and curling can be suppressed later. An electromagnetic wave shielding member for a plasma display that does not cause problems in the process is provided.

本発明の電磁波シールド部材の一例を示す模式的な平面図である。It is a typical top view which shows an example of the electromagnetic wave shielding member of this invention. 図1におけるA−A’断面の拡大図である。It is an enlarged view of the A-A 'cross section in FIG. 図2の一部をさらに拡大して示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which expands and shows a part of FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1 透明基材
2 プライマー層
3 導電性材料層(3’ 触媒層)
4 金属層
5 カール防止層
6 保護層
7 電磁波遮蔽パターン部
10 電磁波シールド部材
1 Transparent substrate 2 Primer layer 3 Conductive material layer (3 'catalyst layer)
4 Metal layer 5 Anti-curl layer 6 Protective layer 7 Electromagnetic wave shielding pattern 10 Electromagnetic wave shielding member

Claims (9)

透明基材と、該透明基材の一方の面に形成されたプライマー層と、該プライマー層上に所定のパターンで形成された導電層と、を有するプラズマディスプレイ用電磁波シールド部材であって、
前記プライマー層は電離放射線硬化性樹脂の硬化物からなり、
前記プライマー層のうち前記導電層が形成されている部分の厚さは、前記導電層が形成されていない部分の厚さよりも大きくなっており、
前記透明基材のプライマー層が形成されていない面に、硬化収縮性を有する組成物を塗工および硬化してなる層(カール防止層)が形成されていることにより、該電磁波シールド部材のカール値が20mm以下となっていることを特徴とするプラズマディスプレイ用電磁波シールド部材。
An electromagnetic wave shielding member for plasma display having a transparent substrate, a primer layer formed on one surface of the transparent substrate, and a conductive layer formed in a predetermined pattern on the primer layer,
The primer layer is made of a cured product of ionizing radiation curable resin,
Of the primer layer, the thickness of the portion where the conductive layer is formed is larger than the thickness of the portion where the conductive layer is not formed,
A curl of the electromagnetic wave shielding member is formed by forming a layer (anti-curl layer) formed by coating and curing a composition having curing shrinkage on the surface of the transparent substrate on which the primer layer is not formed. An electromagnetic wave shielding member for a plasma display, characterized in that the value is 20 mm or less.
前記導電層が、導電性微粒子とバインダー樹脂からなる導電性材料層、又は該導電性材料層の表面に更に金属層が形成されているもの、又は無電解めっき触媒と担体とバインダー樹脂からなる触媒層の表面に金属層が形成されているもの、のいずれかである請求項1に記載のプラズマディスプレイ用電磁波シールド部材。   The conductive layer is a conductive material layer composed of conductive fine particles and a binder resin, or a metal layer further formed on the surface of the conductive material layer, or a catalyst composed of an electroless plating catalyst, a carrier and a binder resin. The electromagnetic wave shielding member for a plasma display according to claim 1, wherein the surface of the layer is any one of which a metal layer is formed. カール防止層形成用の硬化収縮性を有する組成物が、プライマー層形成用の電離放射線硬化性組成物と同じものであることを特徴とする請求項1または2に記載のプラズマディスプレイ用電磁波シールド部材。   3. The electromagnetic wave shielding member for plasma display according to claim 1, wherein the curling shrinkable composition for forming the anti-curl layer is the same as the ionizing radiation curable composition for forming the primer layer. . 透明基材と、該透明基材の一方の面に形成されたプライマー層と、該プライマー層上に所定のパターンで形成された導電性材料層と、該透明基材のプライマー層が形成されていない面に形成されたカール防止層と、を有する請求項1〜3のいずれかに記載の電磁波シールド部材の製造方法であって、
透明基材のプライマー層側の形成方法が、
(a)透明基材上に、光重合開始剤を含むプライマー層形成用の未硬化液状の電離放射線硬化性組成物を塗布して、電離放射線硬化性プライマー層を形成する工程と、
(b)所定のパターンで凹部が形成された板状又は円筒状版面に、導電性ペーストを充填する工程と、
(c)上記(a)工程で得られた電離放射線硬化性プライマー層を有する透明基材を、該電離放射線硬化性プライマー層が、上記(b)工程で得られた導電性ペーストが充填されてなる版面の凹部側に対面するように圧着させ、次いで該電離放射線硬化性プライマー層を電離放射線の照射により硬化させてプライマー層を形成する工程と、
(d)上記透明基材及び上記硬化したプライマー層とを上記版面から剥がして、上記凹部内の導電性ペーストを、上記プライマー層上に転写させる工程と、
(e)プライマー層上に転写されてなる所定パターンで形成された導電性ペースト層を硬化および/または乾燥させて導電性材料層を形成する工程を含み、
カール防止層の形成方法が、
透明基材面に、硬化収縮性を有する組成物を塗工し、硬化させる工程を含むことを特徴とするプラズマディスプレイ用電磁波シールド部材の製造方法。
A transparent substrate, a primer layer formed on one surface of the transparent substrate, a conductive material layer formed in a predetermined pattern on the primer layer, and a primer layer of the transparent substrate are formed An anti-curl layer formed on a non-curled surface, and the method for producing an electromagnetic wave shielding member according to claim 1,
The forming method on the primer layer side of the transparent substrate is
(A) Applying an uncured liquid ionizing radiation curable composition for forming a primer layer containing a photopolymerization initiator on a transparent substrate to form an ionizing radiation curable primer layer;
(B) a step of filling a conductive paste in a plate-like or cylindrical plate surface in which concave portions are formed in a predetermined pattern;
(C) The transparent substrate having the ionizing radiation curable primer layer obtained in the step (a) is filled with the conductive paste obtained in the step (b). Pressure-bonding so as to face the concave side of the plate surface, and then curing the ionizing radiation-curable primer layer by irradiation with ionizing radiation to form a primer layer;
(D) peeling off the transparent substrate and the cured primer layer from the plate surface, and transferring the conductive paste in the recesses onto the primer layer;
(E) including a step of curing and / or drying a conductive paste layer formed in a predetermined pattern transferred onto the primer layer to form a conductive material layer;
The method of forming the anti-curl layer is
The manufacturing method of the electromagnetic wave shielding member for plasma displays characterized by including the process of applying the composition which has hardening shrinkage | contraction property to a transparent base-material surface, and making it harden | cure.
請求項4の工程に加えて、さらに
(f)導電性材料層にめっき処理を施して金属層を形成する工程を含むことを特徴とするプラズマディスプレイ用電磁波シールド部材の製造方法。
In addition to the process of Claim 4, the manufacturing method of the electromagnetic wave shielding member for plasma displays characterized by including the process of forming a metal layer by further plating (f) a conductive material layer.
透明基材と、該透明基材の一方の面に形成されたプライマー層と、該プライマー層上に所定のパターンで形成された触媒層と、該触媒層の表面に形成された金属層と、該透明基材のプライマー層が形成されていない面に形成されたカール防止層と、を有する請求項1〜3のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用電磁波シールド部材の製造方法であって、
透明基材のプライマー層側の形成方法が、
(a’)透明基材上に、光重合開始剤を含むプライマー層形成用の未硬化液状の電離放射線硬化性組成物を塗布して、電離放射線硬化性プライマー層を形成する工程と、
(b’)所定のパターンで凹部が形成された板状又は円筒状版面に、触媒ペーストを充填する工程と、
(c’)上記(a’)工程で得られた電離放射線硬化性プライマー層を有する透明基材を、該電離放射線硬化性プライマー層が、上記(b’)工程で得られた触媒ペーストが充填されてなる版面の凹部側に対面するように圧着させ、次いで該電離放射線硬化性プライマー層を電離放射線の照射により硬化させてプライマー層を形成する工程と、
(d’)上記透明基材及び上記硬化したプライマー層とを上記版面から剥がして、上記凹部内の触媒ペーストを、上記プライマー層上に転写させる工程と、
(e’)プライマー層上に転写されてなる所定パターンで形成された触媒ペースト層を硬化および/または乾燥させて触媒層を形成する工程と、
(f’)触媒層にめっき処理を施して、金属層を形成する工程を含み、
カール防止層の形成方法が、
透明基材面に、硬化収縮性を有する組成物を塗工し、硬化させる工程を含むことを特徴とするプラズマディスプレイ用電磁波シールド部材の製造方法。
A transparent substrate, a primer layer formed on one surface of the transparent substrate, a catalyst layer formed in a predetermined pattern on the primer layer, a metal layer formed on the surface of the catalyst layer, An anti-curl layer formed on a surface of the transparent substrate on which no primer layer is formed, and the method for producing an electromagnetic wave shielding member for plasma display according to any one of claims 1 to 3,
The forming method on the primer layer side of the transparent substrate is
(A ′) applying an uncured liquid ionizing radiation curable composition for primer layer formation containing a photopolymerization initiator on a transparent substrate to form an ionizing radiation curable primer layer;
(B ′) a step of filling a catalyst paste with a plate-like or cylindrical plate surface in which recesses are formed in a predetermined pattern;
(C ′) The transparent substrate having the ionizing radiation curable primer layer obtained in the step (a ′) is filled with the catalyst paste obtained in the step (b ′). Pressure-bonding so as to face the concave side of the plate surface formed, and then curing the ionizing radiation-curable primer layer by irradiation with ionizing radiation to form a primer layer;
(D ′) peeling off the transparent substrate and the cured primer layer from the plate surface, and transferring the catalyst paste in the recesses onto the primer layer;
(E ′) a step of curing and / or drying a catalyst paste layer formed in a predetermined pattern transferred onto the primer layer to form a catalyst layer;
(F ′) including a step of plating the catalyst layer to form a metal layer;
The method of forming the anti-curl layer is
The manufacturing method of the electromagnetic wave shielding member for plasma displays characterized by including the process of applying the composition which has hardening shrinkage | contraction property to a transparent base-material surface, and making it harden | cure.
透明基材面に、硬化収縮性を有する組成物を塗工し、硬化させる工程が、
透明基材上に、電離放射線硬化性プライマー層を形成する工程の前であることを特徴とする請求項4〜6のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用電磁波シールド部材の製造方法。
The process of applying and curing a composition having curing shrinkage on the transparent substrate surface,
The method for producing an electromagnetic wave shielding member for plasma display according to any one of claims 4 to 6, wherein the method is before the step of forming an ionizing radiation curable primer layer on a transparent substrate.
透明基材面に、硬化収縮性を有する組成物を塗工し、硬化させる工程が、
透明基材上に、プライマー層が形成された後であることを特徴とする請求項4〜6のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用電磁波シールド部材の製造方法。
The process of applying and curing a composition having curing shrinkage on the transparent substrate surface,
The method for producing an electromagnetic wave shielding member for plasma display according to any one of claims 4 to 6, wherein the primer layer is formed on the transparent substrate.
請求項4〜8のいずれかに記載の方法で製造されたプラズマディスプレイ用電磁波シールド部材。   The electromagnetic wave shielding member for plasma displays manufactured by the method in any one of Claims 4-8.
JP2007208385A 2007-08-09 2007-08-09 Electromagnetic wave shielding member for plasma display and method for manufacturing same Withdrawn JP2009044005A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007208385A JP2009044005A (en) 2007-08-09 2007-08-09 Electromagnetic wave shielding member for plasma display and method for manufacturing same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007208385A JP2009044005A (en) 2007-08-09 2007-08-09 Electromagnetic wave shielding member for plasma display and method for manufacturing same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009044005A true JP2009044005A (en) 2009-02-26

Family

ID=40444407

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007208385A Withdrawn JP2009044005A (en) 2007-08-09 2007-08-09 Electromagnetic wave shielding member for plasma display and method for manufacturing same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009044005A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013028114A (en) * 2011-07-29 2013-02-07 Toda Kogyo Corp Method of manufacturing sheet for thermoforming, sheet for thermoforming, and molded article
JP2015076526A (en) * 2013-10-09 2015-04-20 旭化成せんい株式会社 Noise suppression sheet
JP2015195072A (en) * 2014-03-28 2015-11-05 株式会社神戸製鋼所 GROUND LAYER COATING SUBSTRATE USED FOR Ni PLATING TREATMENT, Ni PLATING LAYER CONTAINING LAMINATE, AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM
JP2019217726A (en) * 2018-06-22 2019-12-26 昭和電工パッケージング株式会社 Packaging material for molding and molding case

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013028114A (en) * 2011-07-29 2013-02-07 Toda Kogyo Corp Method of manufacturing sheet for thermoforming, sheet for thermoforming, and molded article
JP2015076526A (en) * 2013-10-09 2015-04-20 旭化成せんい株式会社 Noise suppression sheet
JP2015195072A (en) * 2014-03-28 2015-11-05 株式会社神戸製鋼所 GROUND LAYER COATING SUBSTRATE USED FOR Ni PLATING TREATMENT, Ni PLATING LAYER CONTAINING LAMINATE, AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM
JP2019217726A (en) * 2018-06-22 2019-12-26 昭和電工パッケージング株式会社 Packaging material for molding and molding case

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5093301B2 (en) Electromagnetic wave shielding material and manufacturing method thereof
JP2009200312A (en) Electromagnetic shielding material, its manufacturing method, and filter for display
JP2009044005A (en) Electromagnetic wave shielding member for plasma display and method for manufacturing same
JP5151516B2 (en) Electromagnetic shielding material
JP5163081B2 (en) Plating pattern member manufacturing method
JP5003514B2 (en) Electromagnetic shielding member
JP2009088071A (en) Electromagnetic shielding material and manufacturing method thereof, and filter for display
JP2012169353A (en) Optical sheet, and front filter for plasma display using the sheet
JP2009038110A (en) Electromagnetic wave shield member for plasma display, and manufacturing method thereof
JP5169340B2 (en) Front filter for display device
JP2010197847A (en) Composite optical filter
JP2010080826A (en) Electromagnetic shield member
JP5119851B2 (en) Electromagnetic shielding member
JP2009218423A (en) Front filter for display apparatus
JP5104103B2 (en) Electromagnetic wave shielding material, manufacturing method thereof, and filter for display
JP2010134301A (en) Image display apparatus
JP2010080654A (en) Method of manufacturing composite filter
JP2009054631A (en) Electromagnetic wave shielding member for plasma display
JP2006120907A (en) Electromagnetic wave shielding material and its producing method
JP2011176176A (en) Filter for display and image display device using the same
JP2011077068A (en) Electromagnetic wave shielding material
JP2010080692A (en) Electromagnetic wave shield filter
JP5092607B2 (en) Electromagnetic wave shielding member and manufacturing method thereof
JP2011134869A (en) Electromagnetic shielding material
JP2009044086A (en) Electromagnetic wave shielding material, manufacturing method thereof, and filter for display

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20101102