JP2008239536A - レゾルシンジエステル系化合物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】(a)実質的に水と不混和性の有機溶媒中、塩基性化合物の存在下でレゾルシンとカルボン酸ハライドを−20℃〜50℃で反応させる工程(エステル化反応工程)(b)エステル化工程で副生する塩基性物質とハロゲン化水素との塩を、水との接触により水相に抽出除去する工程(水洗工程)(c)105℃〜140℃で熱処理する工程(オリゴマー分解工程)(d)前記(c)で得られた反応混合物を水と接触させて生成物を析出させ、固液分離操作および乾燥により生成物を固体として得る工程(単離工程)からなるレゾルシンジエステル系化合物の製造方法。
【選択図】なし
Description
即ち本発明は、[1](a)実質的に水と不混和性の有機溶媒中、塩基性化合物の存在下でレゾルシンと一般式(1)で表されるカルボン酸ハライドを−20℃〜50℃で反応させる工程、
(b)前記(a)工程で副生する塩基性物質とハロゲン化水素との塩を、水との接触により水相に抽出除去する工程、
(c)105℃〜140℃で熱処理する工程、
(d)前記(c)で得られた反応混合物を水と接触させて生成物を析出させ、固液分離操作および乾燥により生成物を固体として得る工程、
からなる一般式(2)
で表されるレゾルシンジエステル系化合物の製造方法。
[2]工程(b)で使用する水の量が、エステル化反応液に対して0.05重量倍〜10重量倍であり、且つ、抽出除去操作を2回〜5回分割して実施する事を特徴とする[1]記載の製造方法。
[3]一般式(2)で表される化合物中に、下記一般式(3)で表される化合物が0〜30%含まれても良い事を特徴とする[1]〜[2]に記載の製造方法。
本発明に使用される一般式(1)で表されるカルボン酸ハライドにおいて、Rは炭素数1〜16の脂肪族基あるいは2価の芳香族基を表す。炭素数1〜16の脂肪族基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、ブチレン基、イソブチレン基、オクチレン基、2−エチルヘキシレン基等の直鎖または分岐鎖のアルキレン基、エチレニル基、ブチレニル基、オクチレニル基等の直鎖または分岐鎖のアルケニル基、これらのアルキレン基又はアルケニル基の水素原子がヒドロキシル基又はアミノ基等で置換されたアルキレン基またはアルケニレン基、シクロヘキシル基等の脂環式基が挙げられる。一方、2価の芳香族基としては、置換されていても良いフェニレン基あるいは置換されていても良いナフチレン基、ビフェニル基、ジフェニルエーテル基等が挙げられる。これらの中でも入手の容易さ等を考慮すれば、炭素数2〜10のアルキレン基およびフェニレン基が望ましく、特にエチレン基、ブチレン基又はオクチレン基が好ましい。
また抽出液については、必要に応じて原料や副生物の回収を行うことができる。
本発明におけるオリゴマー分解とは工程(c)で得られた反応液を熱処理する事である。
レゾルシン330.6g(3.0mol)をメチルイソブチルケトン(以下、MIBKと略)330gに溶解し、30.6重量%のNaOH水溶液80.1g(0.612mol)を添加し部分中和した。その後、10℃に冷却し、10℃〜15℃を維持しながら塩化アジポイル(以下、ADCと略)54.9g(0.30mol)を1時間かけて滴下しつつエステル化反応を行い、同温度で1時間熟成を行なった。次いで、100gの蒸留水を添加し水洗/分液操作を3回実施した。その後、昇温しつつ減圧下(40torr前後)で共沸脱水を行なった。凡そ3時間後に内温が65℃に達した時点で共沸脱水を終了した。系内水分濃度は0.3%であった。その後、昇温しつつ減圧下(30torr)でMIBKを留去した。凡そ2時間後に内温が120℃に達した時点でMIBK留去を終了した。この時系内MIBK濃度は5重量%であった。同温度で2時間熟成しオリゴマー分解を行った後に、5℃に冷却した1620gの水中に30分かけて排出し、結晶を析出させた。ヌッチェでの減圧濾過により結晶を濾取し、1620gの水で洗浄した後に60℃/15時間、減圧乾燥し84.8gの白色〜淡黄色粉体を得た(粗収率85.7%/ADC)。HPLCにて分析した結果、アジピン酸ビス(3−ヒドロキシフェニル)エステルが84.0重量%、オリゴマー(二量体)が8.4重量%、原料レゾルシンが2.8重量%であった。
レゾルシン330.6g(3.0mol)をMIBK330gに溶解し、30.6重量%のNaOH水溶液80.1g(0.612mol)を添加し部分中和した。その後、10℃に冷却し、10℃〜15℃を維持しながら塩化アジポイル(以下、ADCと略)54.9g(0.30mol)を1時間かけて滴下しつつエステル化反応を行い、同温度で1時間熟成を行なった。その後、昇温しつつ減圧下(40torr前後)で共沸脱水を行なった。凡そ3時間後に内温が65℃に達した時点で共沸脱水を終了した。系内水分濃度は0.25%であった。その後、昇温しつつ減圧下(30torr)でMIBKを留去した。凡そ2時間後に内温が120℃に達した時点でMIBK留去を終了した。この時系内MIBK濃度は5重量%であった。同温度で2時間熟成しオリゴマー分解を行った後の反応液を滴下ロートに移液し、5℃に冷却した1620gの水中に排出し晶析を行なった。途中、食塩の結晶が目詰まりし滴下が止まる現象が観られたので時折、ガラス棒で滴下ロート内の反応液をかき混ぜながら滴下を継続した。ヌッチェでの減圧濾過により結晶を濾取し、1620gの水で洗浄した後に60℃/15時間、減圧乾燥し87.8gの白色〜淡黄色粉体を得た(粗収率88.7%/ADC)。一方、濾過により得られた濾液にSUS304材質およびSUS316L材質のテストピースを浸漬し20℃/1ヶ月および70℃/一ヶ月の材質試験を実施した。その結果、SUS304では全面に孔食が観られ、且つ隙間腐食も観られた。一方、SUS316Lでは、一部に孔食が観られ、且つ隙間腐食も観られた。
一方、実施例の如く、水洗工程を導入に塩を除去した場合には、SUS材質に腐食が観られておらず、背粒設計上の制約はないと言える。
尚、HPLCの分析条件は下記の通りである。
1.アジピン酸ビス(3−ヒドロキシフェニル)エステル、RSの分析
カラム : YMC社 A−312 ODS
カラム温度: 40℃
溶離液 : メタノール/水=7/3(リン酸でpH=3に調整)
検出 : UV(254nm)
2.オリゴマーの分析
カラム : YMC社 A−312 ODS
カラム温度: 40℃
溶離液 : アセトニトリル/水=8/2(酢酸でpH=3.5に調整)
検出 : UV(254nm)
Claims (3)
- (a)実質的に水と不混和性の有機溶媒中、塩基性化合物の存在下でレゾルシンと一般式(1)で表されるカルボン酸ハライドを−20℃〜50℃で反応させる工程、
(b)前記工程(a)で副生する塩基性物質とハロゲン化水素との塩を、水との接触により水相に抽出除去する工程、
(c)105℃〜140℃で熱処理する工程、
(d)前記(c)で得られた反応混合物を水と接触させて生成物を析出させ、固液分離操作および乾燥により生成物を固体として得る工程、
からなる一般式(2)
で表されるレゾルシンジエステル系化合物の製造方法。 - 工程(b)で使用する水の量が、エステル化反応液に対して0.05重量倍〜10重量倍であり、且つ、抽出除去操作を2回〜5回分割して実施する事を特徴とする請求項1記載の製造方法。
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63284291A (ja) * | 1987-05-18 | 1988-11-21 | Canon Inc | 高分子液晶組成物および液晶素子 |
JP2003064027A (ja) * | 2001-08-29 | 2003-03-05 | Daicel Chem Ind Ltd | 環式骨格を有するメタクリル酸エステルの製造法 |
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JP2006525887A (ja) * | 2003-05-09 | 2006-11-16 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 感熱性記録材料 |
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JP2003064027A (ja) * | 2001-08-29 | 2003-03-05 | Daicel Chem Ind Ltd | 環式骨格を有するメタクリル酸エステルの製造法 |
JP2006525887A (ja) * | 2003-05-09 | 2006-11-16 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 感熱性記録材料 |
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