JP2008235677A - 半導体集積回路及び入出力セルの信号端子設計方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】信号端子を有する入出力セルを備えた半導体集積回路において、前記入出力セルの信号端子が接続用配線ヴィアを介して内部回路に接続される場合に、そのヴィアの原子の移動に起因するオープン不良を有効に防止する。
【解決手段】入力/出力セル2の信号端子3Aは、複数層(例えば4層)の導電層で形成される。その複数層の導電層の隣接する導電層同士は、ヴィアで接続される。前記複数層の導電層のうち、最大径のヴィア6−3で接続される導電層(例えば第4層の導電層)3−4では、その導電層3−4の幅が前記最大径のヴィア6−3を1個だけ配置できる幅に設定される。従って、接続用配線4から入力/出力セル2の入力端子3Aに原子が移動することが抑制され、前記接続用配線4に形成されるヴィア(図示なし)のオープン不良が有効に防止される。
【選択図】図1
【解決手段】入力/出力セル2の信号端子3Aは、複数層(例えば4層)の導電層で形成される。その複数層の導電層の隣接する導電層同士は、ヴィアで接続される。前記複数層の導電層のうち、最大径のヴィア6−3で接続される導電層(例えば第4層の導電層)3−4では、その導電層3−4の幅が前記最大径のヴィア6−3を1個だけ配置できる幅に設定される。従って、接続用配線4から入力/出力セル2の入力端子3Aに原子が移動することが抑制され、前記接続用配線4に形成されるヴィア(図示なし)のオープン不良が有効に防止される。
【選択図】図1
Description
本発明は、スタンダード・セル方式を適用して作られる半導体集積回路に関し、特に入出力セルの信号端子の構造に関するものである。
従来、スタンダード・セル方式を適用して作られる半導体集積回路では、図9(a)にその一部を示すように、半導体チップCの内部に信号処理回路等を含む内部回路Iが配置されると共に、半導体チップCの外周囲に多数個の入出力セル30が並行して配置される。前記多数個の入出力セル30の各々と内部回路Iとは、接続用配線31にて接続される。また、多数個の入出力セル30への信号の入力又は多数個の入出力セル30からの信号の出力は、各入出力セル30の外周囲に配置した電極バンプ32を介して信号の授受が行われる。
前記各入出力セル30と接続用配線31との接続は、図9(b)に拡大詳示するように、入出力セル30の内部回路I側の端部に1個以上(同図では3個)の信号端子30aが並んで形成されており、これ等の信号端子30aに前記接続用配線31が接続される。前記入出力セル30の各信号端子30aの幅は、接続用配線31の幅と比較して、広く形成されている。このように、信号端子30aの幅を広い形状とすることにより、接続用配線31との接続の自由度が向上するという利点を有しており、この構成は例えば特許文献1に開示されている。
一方、半導体集積回路においては、微細化の進展及び配線材料の変遷と共に新たな問題が発生している。この問題は、図10に示すように、幅の広い配線40から分岐する細い分岐配線41にヴィア42が配置された場合には、そのような構成の半導体集積回路の熱処理時などにおいて、図10に矢印で示すように、細い分岐配線41から幅の広い配線40に向かって分岐配線41の多数の原子が移動し、更には、ヴィア42を構成する多数の原子も幅の広い配線40に向かって移動し、この原子の移動に起因して、ヴィア42と細い分岐配線41との接続が不良となって、この両者が切断気味となり、ヴィア42のオープン不良が引き起こされる可能性があるという問題である。このヴィア42のオープン不良が生じると、ヴィア42から細い分岐配線41から幅の広い配線40に向かうべき電流又はその逆方向に流れるべき電流が流れ難く又は遮断されることになり、正常動作に支障を来す。このような原子の移動に起因する現象は、非特許文献1に説明されており、微細化における課題として取り上げられている。
特許第2707585号公報
Norio OKADA, et al., "Thermal Stress of 140nm-width Cu damascene interconnects " IEEE International Interconnect Technology Conference 2002、Fig.9参照
本発明者は、前記図9(a)の半導体チップCにおける入出力セル30の信号端子30aと接続用配線31との接続構造に着目し、この接続構造が、図11に示すように、まさしく図10に示した原子の移動に起因してヴィアのオープン不良が引き起こされる構造であることを見い出した。即ち、図11において、接続用配線31が図10における細い分岐配線41に対応し、信号端子30aが図10における幅の広い配線40に対応し、前記接続用配線31にヴィア32を配置すると、このヴィア32が図10におけるヴィア42に対応するので、図11に示した接続用配線31に形成するヴィア32のオープン不良が発生する可能性が高くなることが判ったのである。
前記のオープン不良の現象による歩留まりの低下を回避する方法として提案されるのは、例えば、図12に示すように、ヴィア32の個数を2個以上(同図では2個)に増やすことにより、原子の移動に起因するヴィアのオープン不良の確率を低減させる方法や、図13に示すように、接続用配線31に形成するヴィア32を、信号端子(幅の広い配線)30aから遠ざけて配置することにより、原子の移動を低減させる方法などである。
しかしながら、前記の何れの提案例も、ヴィア32や配線のレイアウト設計制約となる。半導体チップCの内部の信号配線は極めて密集して配線が行われるため、このようなレイアウト設計制約があると、半導体チップCの面積増大を引き起こし、半導体集積回路のコストアップにつながるという課題がある。
上述した特許文献1には、ヴィアに関して特に注意を払われていない。しかし、微細化が進んでいる現在では、レイアウト設計においてヴィアに着目した設計を行うことは極めて重要になってきている。微細化は今後も進展し、この原子の移動に起因するヴィアのオープン不良の問題は、今後、更に深刻な問題になると思われる。
本発明は、前記の課題に着目し、その目的は、信号端子を有する入出力セルを備えた半導体集積回路において、入出力セルの信号端子とこの信号端子に接続される接続用配線との接続構造を、図10に示したように原子の移動に起因してヴィアのオープン不良が生じる構造とは異なる構造として、ヴィアのオープン不良を有効に防止することとする。
前記の目的を達成するため、本発明では、入出力セルの信号端子を複数層の導電層で構成する場合に、その各導電層の幅を接続用配線の幅と比較して、広くならないように構成する。
具体的に、請求項1記載の発明の半導体集積回路は、1個以上の信号端子を有し、前記信号端子を経て信号を入力、出力又は入出力する機能を有する入力/出力セルと、前記入力/出力セルの前記信号端子を内部回路に接続する接続用配線とを具備し、前記入力/出力セルの信号端子は、複数層の導電層よりなり、前記複数層の導電層では、隣接する導電層同士が1個又は複数個のヴィアで接続され、前記複数層の導電層のうち最も広い幅を持つ最広幅導電層は、その幅が、前記ヴィアのうち最も大きな径を持つ最大径ヴィアを1個だけ配置できる幅に設定されていることを特徴とする。
請求項2記載の発明は、前記請求項1記載の半導体集積回路において、前記複数層の導電層を構成する各導電層は、相互に同一幅を有することを特徴とする。
請求項3記載の発明は、前記請求項1記載の半導体集積回路において、前記複数層の導電層のうち少なくとも2つの電電層は、相互に異なる幅を有することを特徴とする。
請求項4記載の発明は、前記請求項1記載の半導体集積回路において、前記最広幅導電層は、前記複数層の導電層のうち最上層に位置する導電層であり、この最上層に位置する導電層の厚さは、前記複数層の電電層の中で最も厚く、前記最大径ヴィアは、前記最上層に位置する導電層とその1層下の導電層とを接続するヴィアであることを特徴とする。
請求項5記載の発明は、前記請求項1記載の半導体集積回路において、前記最広幅導電層の幅は、前記最大径ヴィアの径の2倍の値よりも小さいことを特徴とする。
請求項6記載の発明は、前記請求項1記載の半導体集積回路において、前記最広幅導電層の幅は、前記最大径ヴィアの径よりも広いことを特徴とする。
請求項7記載の発明は、前記請求項1記載の半導体集積回路において、前記最広幅導電層の幅は、前記最大径ヴィアの径に等しいことを特徴とする。
請求項8記載の発明は、前記請求項1記載の半導体集積回路において、前記最広幅導電層の幅は、前記最大径ヴィアの径よりも狭いことを特徴とする。
請求項9記載の発明は、前記請求項1記載の半導体集積回路において、前記複数層の導電層において隣接する導電層同士を接続するヴィアは、各導電層の長さ方向に1個又は複数個配置されることを特徴とする。
請求項10記載の発明は、前記請求項1記載の半導体集積回路において、前記最大径ヴィア以外のヴィアは、このヴィアが接続される導電層の幅方向に複数個配置されることを特徴とする。
請求項11記載の発明は、前記請求項3記載の半導体集積回路において、前記最大径ヴィアが接続されない導電層のうち、何れか一層又は複数層の導電層は、前記最広幅導電層の幅よりも狭い幅を持つ狭幅導電層であることを特徴とする。
請求項12記載の発明は、前記請求項11記載の半導体集積回路において、前記狭幅導電層の幅は、この狭幅導電層に接続されるヴィアの径の2倍の値よりも小さいことを特徴とする。
請求項13記載の発明は、前記請求項11記載の半導体集積回路において、前記狭幅導電層の幅は、この狭幅導電層に接続されるヴィアの径よりも広いことを特徴とする。
請求項14記載の発明は、前記請求項11記載の半導体集積回路において、前記狭幅導電層の幅は、この狭幅導電層に接続されるヴィアの径に等しいことを特徴とする。
請求項15記載の発明は、前記請求項11記載の半導体集積回路において、前記狭幅導電層の幅は、この狭幅導電層に接続されるヴィアの径よりも狭いことを特徴とする。
請求項16記載の発明の入力/出力セルの信号端子設計方法は、入力/出力セルの信号端子として使用する複数の導電層を決定する工程と、前記複数の導電層の隣接する導電層同士を接続する複数のヴィアのうち径が最も大きいヴィアの径を求める工程と、前記最大径ヴィアが接続される導電層の幅を、前記最大径ヴィアが1個だけ接続できる幅に設定する工程とを有することを特徴とする。
請求項17記載の発明は、前記請求項16記載の入力/出力セルの信号端子設計方法において、前記複数の導電層の隣接する導電層間を流れる電流を見積もる工程と、前記見積もった電流を流すことができるヴィアの個数を算出する工程と、前記複数層の導電層の各導電層の長さを、前記算出された個数のヴィアを覆うことができる長さに設定する工程とを有することを特徴とする。
従って、請求項1〜17記載の発明では、入力/出力セルの信号端子が複数層の導電層で構成され、その各導電層のうち最も幅が広い最広幅導電層の幅でさえ、最大径ヴィアが1個だけ配置できる幅に留められて、その最広幅導電層の幅が狭く制限されている。従って、複数の導電層のうち何れの導電層に接続用配線が接続されても、この接続構造は図10に示した原子の移動に起因するヴィアのオープン不良が生じる構造ではなくなるので、接続用配線から信号端子である何れかの導電層への原子の移動がなくなる又は少なくなる。その結果、接続用配線にヴィアを自由に配置することができるので、ヴィアや配線のレイアウト設計制約が発生しない。よって、半導体チップの面積増大を抑制できて、半導体集積回路のコストアップを抑えることができる。
以上説明したように、請求項1〜17記載の発明によれば、入力/出力セルにおいて、ヴィアから接続用配線を経て信号端子に流れる原子の移動を有効に抑制でき、これにより、ヴィアや配線のレイアウト設計制約を発生させずに、接続用配線にヴィアを自由に配置することができるので、半導体チップの面積増大を抑制できて、半導体集積回路のコストアップを抑えることができる。
以下、図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。
(第1の実施形態)
図1は本発明の第1の実施形態の半導体集積回路における平面図である。
図1は本発明の第1の実施形態の半導体集積回路における平面図である。
同図(a)において、半導体チップ1は、スタンダード・セル方式を適用して作られる半導体集積回路である。前記半導体チップ1の内部には、信号処理回路等を含む内部回路2が配置されると共に、半導体チップ1の外周囲には、多数個の入力/出力セルSが並行して配置される。前記多数個の入力/出力セルSの各々と内部回路1とは、接続用配線4によって接続される。また、多数個の入力/出力セルSへの信号の入力又は多数個の入力/出力セルSからの信号の外部出力は、各入力/出力セルSの外周囲に配置した電極バンプ10を介して信号の授受が行われる。前記各入力/出力セルSは、何れも、信号の入力機能び出力機能の双方を備えた入出力用だけでなく、信号の入力機能のみ又は信号の出力機能のみを備えていても良く、以下、入力セル、出力セル又は入出力セルを総称して入力/出力セルと呼ぶ。
前記各入力/出力セルSと接続用配線4との詳細な接続構造を説明する。図1(b)に拡大詳示するように、入力/出力セルSの内部回路2側の端部には、1個以上(同図では3個)の信号端子3Aが並んで形成されており、これ等の信号端子3Aには前記接続用配線4が接続される。
前記入力/出力セルSの各信号端子3Aの構造を図2に示す。図2は、図1のA−A’線断面図、すなわち、信号端子3Aの長さ方向(入力/出力セルSから接続用配線4を経て内部回路2に至る方向)の断面図を示している。この図2において、信号端子3Aは、複数層(同図では4層)の導電層で構成されている。下層から順に第1、第2及び第3の導電層3−1、3−2、3−3は同一の膜厚t0に形成され、最上層の第4の導電層3−4は前記膜厚t0よりも厚い膜厚t1(t1>t0)に形成されて、この膜厚t1が最も厚い。尚、本実施形態では、複数種の膜厚を採用しているが、全ての導電層で同一膜厚の構成としても良い。
前記複数層の導電層3−1〜3−4は、全体として同一の信号端子3Aとして使用する関係上、図2に示すように、第1の導電層3−1と第2の導電層3−2とは信号端子3Aの長さ方向に4個配置された第1のヴィア6−1で接続され、第2の導電層3−2と第3の導電層3−3とは信号端子3Aの長さ方向に4個配置された第2のヴィア6−2で接続され、第3の導電層3−3と第4の導電層3−4とは信号端子3Aの長さ方向に2個配置された第3のヴィア6−3で接続されている。隣接する2つの導電層同士を電気的に良好に接続するために、膜厚の厚い第4の導電層3−4を第3の導電層3−3に接続する第3のヴィア6−3の径r1は、第4の導電層3−4の膜厚に比例して大径に設定される。従って、第3のヴィア6−3の径r1は、第1及び第2のヴィア6−1、6−2の径r2よりも大きく(r1>r2)、第3のヴィア6−3が最大径ヴィアとなっている。
尚、図2では、第1〜第3のヴィア6−1〜6−3を信号端子3Aの長さ方向に複数個配置したが、複数個に限定されず、1個でも良い。また、図2において、7は半導体基板である。
図2に記載したように、複数層の導電層を用いた信号端子3Aでは、その何れの導電層を用いても接続用配線4を接続できるので、設計自由度が向上する。同図では、破線で示す接続用配線4を第3の導電層3−3に接続している。
ここで、本実施形態では、原子の移動に起因するヴィアのオープン不良を有効に防止するために、信号端子3Aを構成する導電層3−1〜3−4の幅をできるだけ狭くする構成を採用する。但し、あまりに狭くすると、隣接する導電層同士を接続する第1〜第3のヴィア6−1〜6−3を配置することができなくなるため、導電層の幅は、最大でも、信号端子3Aを構成する第1〜第3のヴィア6−1〜6−3のうち最も径が大きいヴィアが1個だけ配置できる幅に留める。以下、図3を用いて具体的に説明する。
図3(a)は、前記図1のB−B’線断面図、即ち、信号端子3Aをその幅方向から見た図を示す。同図から判るように、信号端子3Aを構成する第1〜第3のヴィア6−1〜6−3のうち最も径の大きい最大径ヴィアは第3のヴィア6−3であるので、信号端子3Aを構成する複数層の導電層3−1〜3−4のうち、最大径ヴィア6−3が接続される第3及び第4の導電層3−3、3−4が最広幅導電層となり、この最広幅導電層3−3、3−4の幅Wcを、最大径ヴィア6−3が1個だけ接続できる幅に設定する。尚、図3(a)では、最広幅導電層は第3及び第4の導電層3−3、3−4だけでなく、第1及び第2の導電層3−1、3−2も最広幅導電層に設定しており、第1〜第4の導電層3−1〜3−4の幅を同一幅Wcに統一している。
このように、最広幅導電層の幅Wcを最大径ヴィア(第3のヴィア6−3)が1個だけ配置できる幅に設定される構成は、図1からも判る。
ここで、最広幅導電層の幅Wcを最大径ヴィア(第3のヴィア6−3)が1個だけ配置できる幅に設定する構成とは、換言すれば、最広幅導電層の幅Wcが、最大径ヴィア(第3のヴィア6−3)の径Wvの2倍の値未満の値(Wc<2・Wv)に制限されることを意味する。従って、最広幅導電層の幅Wcは、この制限値(W<2・Wv)を満たす限り、最大径ヴィアの径Wvとの関係では、同図(a)に示すように最大径ヴィアの径Wvよりも広い幅であっても良いし、同図(b)に示すように最大径ヴィアの径Wvと等幅であっても良いし、同図(c)に示すように最大径ヴィアの径Wvよりも狭い幅であっても良い。
尚、図1及び図2において、第3のヴィア(最大径ヴィア)6−3を信号端子3Aの長さ方向に複数個(同図では2個)配置する理由は、次の通りである。すなわち、信号端子3Aの性能として要求される電流能力に基づいて、第4の導電層3−4と第3の導電層3−3との間に流れる電流量を計算により見積もることが可能であるので、この電流量を流せるためには、最大径Wvを有する第3のヴィア6−3が2個以上必要である場合があるからである。
以上説明したように信号端子3Aを図1〜図3の構成とすることにより、従来の課題を解決できる理由を以下に説明する。図4、及びこの図のC−C’線断面図を示す図5に示すように、信号端子3Aの例えば第3の導電層3−3に接続用配線4が接続される場合を考える。この場合、信号端子3Aの幅(即ち、各導電層3−1〜3−4の幅Wc)が接続用配線4の幅とほぼ等しくなるように狭く設定されているので、図11のように細い分岐配線と幅の広い配線とが接続される構成とは異なる構成となっている。従って、図10で示したような原子の移動、すなわち、接続用配線4から信号端子3Aに向かって原子が移動する現象は生じ難い。このため、図12のようにヴィア32を複数個配置する必要や、図13のようにヴィア32を信号端子30aよりも遠ざける必要がないので、図4のように接続用配線4に生成するヴィア8を自由に配置できて、例えばヴィア8を信号端子3Aの近傍に配置することが可能となる。図4及び図5では、信号端子3Aは、第3の導電層3−3から、この導電層3−3と同層に形成された接続用配線4を介して内部回路(図示せず)の所定信号端子(図示せず)に接続されたり、前記第3層の接続用配線4に形成した1個のみのヴィア8及び第4層目に形成された接続用配線9を経て前記内部回路の他の所定信号端子(図示せす)に接続される。
よって、本実施形態では、複数層の導電層のうち何れの導電層にも接続用配線を接続できるという設計自由度を維持しつつ、原子の移動に起因するヴィア8のオープン不良を有効に防止できる。しかも、ヴィア8のオープン不良の防止に際して、半導体チップ1の内部のヴィアや配線の設計自由度を制限せず、それ等の設計自由度を向上できるので、半導体チップ1の面積増大を抑制して、半導体集積回路のコストアップを抑えることが可能である。
(第2の実施形態)
次に、本発明の第2の実施形態を説明する。
次に、本発明の第2の実施形態を説明する。
図6は、本発明の第2の実施形態の半導体集積回路を示し、前記図1のB−B’線断面に相当する断面図(即ち、信号端子3Aの幅方向の断面図)を示している。前記第1の実施形態での図3(a)と異なる点は、第1及び第2のヴィア(最大径ヴィア以外のヴィア)6−1、6−2が、信号端子3Aの幅方向に複数個(同図では2個)配置されている点である。
前記図3(a)の例では、第1のヴィア6−1及び第2のヴィア6−2は、信号端子3Aの幅方向に1個しか配置されていないが、第1のヴィア6−1及び第2のヴィア6−2の径は、第3のヴィア(最大径ヴィア)6−3の径よりも小さいので、図6に示すように、信号端子3Aの幅方向に複数個配置可能であれば、そのような構成にしても良いことを示している。
従って、本実施形態では、第1及び第2のヴィア6−1、6−2に流れる電流を更に分散させることができるので、ヴィアの更なる信頼性の向上を期待することができる。
(第3の実施形態)
続いて、本発明の第3の実施形態を説明する。
続いて、本発明の第3の実施形態を説明する。
図7(a)は、本発明の第3の実施形態の半導体集積回路を示し、図1のB−B’線断面に相当する断面図(即ち、信号端子3Aの幅方向の断面図)を示している。前記第1の実施形態での図3と異なる点は、最広幅導電層を第3及び第4の導電層6−3、6−4のみとし、第1及び第2の導電層(最広幅導電層以外の導電層)6−1、6−2の幅を、第3及び第4の導電層(最広幅導電層)6−3、6−4よりも狭く形成した点である。
すなわち、前記図3では、第1及び第2の導電層6−1、6−2も、第3及び第4の導電層6−3、6−4と同じ幅に設定されているが、第1及び第2の導電層6−1、6−2に接続されるヴィア(最大径ヴィア以外のヴィア)の径は小さいので、図7(a)に示すように、第1及び第2の導電層6−1、6−2の幅Wsは、第3及び第4の導電層(最広幅導電層)6−3、6−4の幅Wcとは異なって狭く(Ws<Wc)設定されていて、第1及び第2の導電層6−1、6−2は最広幅導電層6−3、6−4よりも狭い幅を持つ狭幅導電層となっている。この狭幅導電層6−1、6−2の幅Wsは、この狭幅導電層に接続される第1のヴィア6−1を1個だけ配置できる幅に設定され、換言すれば、狭幅導電層6−1、6−2の幅Wsは、第1のヴィア6−1の径Wxの2倍の値よりも小さく(Ws<2・Wx)設定されている。
このように、各導電層3−1〜3−4がヴィアを通して良好に接続されている限り、導電層別にその幅を変更する構成にすることが可能である。この構成では、例えば接続用配線4が第2の導電層3−2に接続されたときに、その接続用配線4に形成されるヴィア(図示せず)の原子の移動に起因するオープン不良を有効に防止することができ、更なる信頼性の向上を期待できる効果を奏する。
尚、図7(a)では、第1及び第2の導電層6−1、6−2の幅Wsは、この両導電層同士を接続する第1のヴィア6−1の径よりも広い幅に設定したが、その他、例えば同図(b)に示すようにヴィア6−1の径と等しい幅に設定したり、同図(c)に示すようにヴィア6−1の径よりも狭い幅に設定しても良いのは、図3(b)、(c)の場合と同様である。
(第4の実施形態)
更に、本発明の第4の実施形態を説明する。
更に、本発明の第4の実施形態を説明する。
本実施形態は、以上説明してきた入力/出力セルの信号端子の設計方法に関する。
入力/出力セルの信号端子は、図8に示すような手順で設計する。具体的には、先ず、ステップS1にて信号端子として複数の導電層を何層で使用するかを決定し、次に、ステップS2にて前記複数の導電層のうち隣接する導電層同士を接続するヴィアの中で最も大きなヴィアの径を求める。そして、ステップS3にて前記複数の導電層の幅を、最大でも、前記最大径のヴィアを1個だけ配置できる幅に設定する。
その後は、導電層の長さを設定する。即ち、ステップS4にて、先ず、隣接する導電層間に流れる電流を見積もり、次に、ステップS5にて前記電流を流すことができるヴィアの個数を算出する。そして、ステップS6にて、各導電層の長さを前記算出されたヴィアの個数分を覆うことができる長さに設定する。
以上述べてきたように、本発明によれば、入力/出力セルに備える信号端子と、この信号端子を内部回路に接続する接続用配線との接続構造を、原子の移動を抑制できる構造としたので、前記接続用配線に配置するヴィアのオープン不良を有効に防止しつつ、そのヴィアや配線のレイアウト設計制約が発生しないようにでき、よって、面積増大を抑制できる半導体チップや、コストアップを抑えた半導体集積回路として、有用である。
1 半導体チップ
2 内部回路
S 入力/出力セル
3A 信号端子
3−1 第1の導電層
3−2 第2の導電層
3−3 第3の導電層(最広幅導電層)
3−4 第4の導電層(最広幅導電層)
4 接続用配線
6−1 第1のヴィア
6−2 第2のヴィア
6−3 第3のヴィア(最大径ヴィア)
8 ヴィア
9 第4層の接続用配線
2 内部回路
S 入力/出力セル
3A 信号端子
3−1 第1の導電層
3−2 第2の導電層
3−3 第3の導電層(最広幅導電層)
3−4 第4の導電層(最広幅導電層)
4 接続用配線
6−1 第1のヴィア
6−2 第2のヴィア
6−3 第3のヴィア(最大径ヴィア)
8 ヴィア
9 第4層の接続用配線
Claims (17)
- 1個以上の信号端子を有し、前記信号端子を経て信号を入力、出力又は入出力する機能を有する入力/出力セルと、
前記入力/出力セルの前記信号端子を内部回路に接続する接続用配線とを具備し、
前記入力/出力セルの信号端子は、複数層の導電層よりなり、
前記複数層の導電層では、隣接する導電層同士が1個又は複数個のヴィアで接続され、
前記複数層の導電層のうち最も広い幅を持つ最広幅導電層は、その幅が、前記ヴィアのうち最も大きな径を持つ最大径ヴィアを1個だけ配置できる幅に設定されている
ことを特徴とする半導体集積回路。 - 前記請求項1記載の半導体集積回路において、
前記複数層の導電層を構成する各導電層は、相互に同一幅を有する
ことを特徴とする半導体集積回路。 - 前記請求項1記載の半導体集積回路において、
前記複数層の導電層のうち少なくとも2つの電電層は、相互に異なる幅を有する
ことを特徴とする半導体集積回路。 - 前記請求項1記載の半導体集積回路において、
前記最広幅導電層は、前記複数層の導電層のうち最上層に位置する導電層であり、この最上層に位置する導電層の厚さは、前記複数層の電電層の中で最も厚く、
前記最大径ヴィアは、前記最上層に位置する導電層とその1層下の導電層とを接続するヴィアである
ことを特徴とする半導体集積回路。 - 前記請求項1記載の半導体集積回路において、
前記最広幅導電層の幅は、前記最大径ヴィアの径の2倍の値よりも小さい
ことを特徴とする半導体集積回路。 - 前記請求項1記載の半導体集積回路において、
前記最広幅導電層の幅は、前記最大径ヴィアの径よりも広い
ことを特徴とする半導体集積回路。 - 前記請求項1記載の半導体集積回路において、
前記最広幅導電層の幅は、前記最大径ヴィアの径に等しい
ことを特徴とする半導体集積回路。 - 前記請求項1記載の半導体集積回路において、
前記最広幅導電層の幅は、前記最大径ヴィアの径よりも狭い
ことを特徴とする半導体集積回路。 - 前記請求項1記載の半導体集積回路において、
前記複数層の導電層において隣接する導電層同士を接続するヴィアは、各導電層の長さ方向に1個又は複数個配置される
ことを特徴とする半導体集積回路。 - 前記請求項1記載の半導体集積回路において、
前記最大径ヴィア以外のヴィアは、このヴィアが接続される導電層の幅方向に複数個配置される
ことを特徴とする半導体集積回路。 - 前記請求項3記載の半導体集積回路において、
前記最大径ヴィアが接続されない導電層のうち、何れか一層又は複数層の導電層は、前記最広幅導電層の幅よりも狭い幅を持つ狭幅導電層である
ことを特徴とする半導体集積回路。 - 前記請求項11記載の半導体集積回路において、
前記狭幅導電層の幅は、この狭幅導電層に接続されるヴィアの径の2倍の値よりも小さい
ことを特徴とする半導体集積回路。 - 前記請求項11記載の半導体集積回路において、
前記狭幅導電層の幅は、この狭幅導電層に接続されるヴィアの径よりも広い
ことを特徴とする半導体集積回路。 - 前記請求項11記載の半導体集積回路において、
前記狭幅導電層の幅は、この狭幅導電層に接続されるヴィアの径に等しい
ことを特徴とする半導体集積回路。 - 前記請求項11記載の半導体集積回路において、
前記狭幅導電層の幅は、この狭幅導電層に接続されるヴィアの径よりも狭い
ことを特徴とする半導体集積回路。 - 入力/出力セルの信号端子として使用する複数の導電層を決定する工程と、
前記複数の導電層の隣接する導電層同士を接続する複数のヴィアのうち径が最も大きいヴィアの径を求める工程と、
前記最大径ヴィアが接続される導電層の幅を、前記最大径ヴィアが1個だけ接続できる幅に設定する工程とを有する
ことを特徴とする入力/出力セルの信号端子設計方法。 - 前記請求項16記載の入力/出力セルの信号端子設計方法において、
前記複数の導電層の隣接する導電層間を流れる電流を見積もる工程と、
前記見積もった電流を流すことができるヴィアの個数を算出する工程と、
前記複数層の導電層の各導電層の長さを、前記算出された個数のヴィアを覆うことができる長さに設定する工程とを有する
ことを特徴とする入力/出力セルの信号端子設計方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2007074828A JP2008235677A (ja) | 2007-03-22 | 2007-03-22 | 半導体集積回路及び入出力セルの信号端子設計方法 |
US12/048,956 US20080230918A1 (en) | 2007-03-22 | 2008-03-14 | Semiconductor integrated circuit and design method of signal terminals on input/output cell |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2007074828A JP2008235677A (ja) | 2007-03-22 | 2007-03-22 | 半導体集積回路及び入出力セルの信号端子設計方法 |
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JP2007012773A (ja) * | 2005-06-29 | 2007-01-18 | Nec Electronics Corp | 多層配線を有する半導体装置 |
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2008
- 2008-03-14 US US12/048,956 patent/US20080230918A1/en not_active Abandoned
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