JP2008233471A - 平面型光回路における電極端子の接続構造 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】平面型光回路の電極端子191の開口部181に、基板301上に形成された配線331と、配線331につながる電極321とから成る配線基板311であって、基板301の上面から電極321の上面までの高さがtである配線基板311の電極321が、粒子径φの導電粒子211を有する導電膜210を介して電気的に接続され、電極端子191の開口幅が配線基板311の電極321の幅よりも広く、かつ、絶縁膜168の上面から電極端子191の開口部181の上面までの深さdが、0≦d≦t−φとなるよう電極端子191を形成する。
【選択図】図1
Description
近年、平面基板上に形成された光導波路と、その上面に形成された電気配線からなる平面型光回路が数多く開発されている。特に、石英系光導波路は伝搬損失が低く、安定性が高く、長期信頼性に優れており、石英系平面型光回路は実用的な光部品として数多くの光モジュールに使用されている。このような電気配線を有する平面型光回路の例としては、熱光学効果を利用した光スイッチや可変光減衰器などがあげられる。
近年、液晶表示装置の分野では、回路素子と電極端子が形成された液晶回路基板と、この液晶回路基板の電極端子に接続するための電極が形成された樹脂フィルムをベースとする配線基板を接続する方法として、異方性導電膜を用いる方法が採用されている。図16(a)に、その接続方法を示す。液晶回路基板971の上面に電極端子972が形成され、配線基板962の基板961上面に電極963が形成され、両者は導電粒子967と接着剤968を含む異方性導電膜966を介して接続されている(下記特許文献3を参照)。
また、例えば、電極端子972と電極963の間に導電粒子を挟むための突起電極を用いた接続方法が開発されている(下記特許文献6を参照)。
第1に、図16に示す異方性導電膜966を用いて電極端子972と配線基板962の電極963を接続する接続構造では、電極端子972と配線基板962の電極963を、液晶回路基板971に対して突出させるのが一般的である(上記特許文献3を参照)。
平面基板上に形成されたクラッドと、該クラッドの中に形成され、該クラッドよりも屈折率が高いコアとから成る平面型光回路であって、前記クラッドの上面に電気配線と、該電気配線につながる電極端子とが形成され、該電極端子の全部もしくは一部の領域を開口部とし、前記電極端子の開口部を除く領域が絶縁膜で覆われた平面型光回路において、
前記平面型光回路の電極端子の開口部に、基板上に形成された配線と、該配線につながる電極とから成る配線基板であって、前記基板の上面から前記電極の上面までの高さがtである配線基板の電極が、粒子径φの導電粒子を有する導電膜を介して電気的に接続され、
前記電極端子の開口幅が前記配線基板の電極の幅よりも広く、かつ、前記絶縁膜の上面から前記電極端子の開口部の上面までの深さdが、0≦d≦t−φとなるよう電極端子が形成されている
ことを特徴とする。
前記平面型光回路の電極端子の開口幅をw、前記配線基板の電極の幅をLとした時、w≧L+2φとなるよう電極端子が形成されている
ことを特徴とする。
前記平面型光回路の電極端子の硬度及び前記配線基板の電極の硬度が前記導電粒子の硬度よりも高く、かつ、前記電極端子の開口部の上面と、前記配線基板の電極の上面との間隔が、前記導電粒子の粒子径より小さい
ことを特徴とする。
前記平面型光回路の電極端子の硬度又は前記配線基板の電極の硬度が、前記導電粒子の硬度よりも低く、かつ、前記電極端子の開口部の上面と、前記配線基板の電極の上面との間隔が、前記導電粒子の粒子径より小さい
ことを特徴とする。
前記平面型光回路の電極端子が所定の間隔を隔てて複数形成された
ことを特徴とする。
前記配線基板の電極と、前記平面型光回路の電極端子とが、第1から第N(Nは3以上の整数)まで所定の間隔を隔てて複数配置され、
前記配線基板の第n(1≦n≦N)の電極に接続される前記平面型光回路の第nの電極端子の開口幅をw(n)とした時、前記平面型光回路の第m(1≦m≦N−1)の電極端子の中心位置と第m+1の電極端子の中心位置の間隔が、前記配線基板の電極を前記平面型光回路の電極端子に接続する前の、前記配線基板の第mの電極の中心位置と第m+1の電極の中心位置の間隔と等しく、かつ、前記平面型光回路の第mの電極端子の開口幅w(m)と第m+1の電極端子の開口幅w(m+1)のいずれか一方が、他方よりも広い
ことを特徴とする。
前記配線基板の電極の幅をL、電極間の隙間の幅をSとしたとき、前記配線基板の電極が、第1の電極から第N(Nは3以上の整数)の電極まで一定間隔L+Sを隔てて複数配置され、
前記配線基板の第n(1≦n≦N)の電極に接続される前記平面型光回路の第nの電極端子の開口幅をw(n)とした時、第1から第Nの電極端子のうち、最も真ん中に近い第mの電極端子の開口幅がw(n)の中で最小であり、かつ、w(m)≧L+2φを満たし、第mから第1の電極端子に向かうにつれ電極端子の開口幅が次第に広くなり、第mから第Nの電極端子に向かうにつれ電極端子の開口幅が次第に広くなる
ことを特徴とする。
前記平面型光回路の電極端子が、第1から第N(Nは3以上の整数)まで所定の間隔を隔てて複数配置され、
前記配線基板の電極の幅をL、電極間の隙間の幅をSとしたとき、前記配線基板の電極が、第1の電極から第Nの電極まで一定間隔L+Sを隔てて複数配置され、
前記平面基板の反りの曲率をRとすると、前記平面型光回路の第1から第Nの電極端子のうち、第mの電極端子の中心位置を基準として、前記平面型光回路の第n(1≦n≦N)の電極端子の中心位置が、x(n)=R・arcsin((L+S)・(n−m)/R)に配置されている
ことを特徴とする。
前記コアとクラッドからなる光導波路は、石英系光導波路である
ことを特徴とする。
第3の発明及び第4の発明によれば、第1の発明又は第2の発明の効果に加え、平面型光回路の電極端子と配線基板の電極との導通をさらに良くすることができる。
第6の発明によれば、第5の発明の効果に加え、平面型光回路の電極端子を一定ピッチに配置したまま、配線基板の膨張・収縮による電極の位置ずれが生じたとしても、電極端子と配線基板の電極を電気的に接続することができる。
第8の発明によれば、第5の発明の効果に加え、平面基板に反りが生じたとしても、電極端子の位置と配線基板の電極の位置を合わせることができる。
以上のことから、本発明により、配線基板を平面型光回路の電極端子に低抵抗で高信頼に接続できる技術が確立され、従来の平面型光回路モジュールの大きさを大幅に小型化することができる。
図1に、本発明の第1実施形態における平面型光回路の電極端子の接続構造を示す。平面基板161上に、コア(図示せず)が埋め込まれたクラッド401と、クラッド401の上面に電気配線171と、電気配線171につながれた電極端子191が形成され、電極端子191の一部の領域を開口部181とし、開口部181を除く電極端子191の残りの領域と、その周辺のクラッド401及び電気配線171が絶縁膜168で覆われている。ここでは、電極端子191と開口部181は四角形に形成したが、形状は任意である。
図3に、本発明の第2実施形態における平面型光回路の電極端子の接続構造を示す。平面基板161上に、コア(図示せず)が埋め込まれたクラッド401と、クラッド401の上面に、電気配線171(図1参照)につながれた電極端子191が形成され、電極端子191の一部の領域を開口部181とし、開口部181を除く電極端子191の残りの領域と、その周辺のクラッド401及び電気配線171(図1参照)が絶縁膜168で覆われている。
図4に、本発明の第3実施形態における平面型光回路の電極端子の接続構造を示す。平面基板161上に、コア(図示せず)が埋め込まれたクラッド401と、クラッド401の上面に、電気配線171(図1参照)につながれた電極端子191が形成され、電極端子191の一部の領域を開口部181とし、開口部181を除く電極端子191の残りの領域と、その周辺のクラッド401及び電気配線171(図1参照)が絶縁膜168で覆われている。
図5に、本発明の第4実施形態における平面型光回路の電極端子の接続構造を示す。平面基板161上に、コア(図示せず)が埋め込まれたクラッド401と、クラッド401の上面に、電気配線171(図1参照)につながれた電極端子191が形成され、電極端子191の一部の領域を開口部181とし、開口部181を除く電極端子191の残りの領域と、その周辺のクラッド401及び電気配線171(図1参照)が絶縁膜168で覆われている。そして、電極端子191の開口部181に、配線基板311の電極321を、粒子径φの導電粒子211を含有する導電膜201を介して電気的に接続している。配線基板311の基板301の上面から電極321の上面までの高さはtである。
図6に、本発明の第5実施形態における平面型光回路の電極端子の接続構造を示す。平面基板161上に、コア(図示せず)が埋め込まれたクラッド401と、クラッド401の上面に、電気配線171(図1参照)につながれた電極端子191が形成され、電極端子191の一部の領域を開口部181とし、開口部181を除く電極端子191の残りの領域と、その周辺のクラッド401及び電気配線171(図1参照)が絶縁膜168で覆われている。そして、電極端子191の開口部181に、配線基板311の電極321を、粒子径φの導電粒子211を含有する導電膜201を介して電気的に接続している。配線基板311の基板301の上面から電極321の上面までの高さはtである。
図7に、本発明の第6実施形態における平面型光回路の電極端子の接続構造を示す。平面基板161上に、コア(図示せず)が埋め込まれたクラッド401と、クラッド401の上面に、電気配線171(図1参照)につながれた複数の電極端子191,192が形成され、電極端子191,192の一部の領域を開口部181,182とし、開口部181,182を除く電極端子191,192の残りの領域と、その周辺のクラッド401及び電気配線171(図1参照)が絶縁膜168で覆われている。
図8に、本発明の第7実施形態における平面型光回路の電極端子の接続構造を示す。平面基板161上に、コア(図示せず)が埋め込まれたクラッド401と、クラッド401の上面に、電気配線171(図1参照)につながれた第1〜第3(N=3)の電極端子191〜193が形成され、第1〜第3の電極端子191〜193の一部の領域を開口部181〜183とし、開口部181〜183を除く第1〜第3の電極端子191〜193の残りの領域と、その周辺のクラッド401及び電気配線171(図1参照)が絶縁膜168で覆われている。
図9に、本発明の第8実施形態における平面型光回路の電極端子を示す。この電極端子191〜198は、第1から第N(Nは3以上の整数)まで一定間隔L+Sを隔てて電極(図示せず)が複数配置された配線基板(図示せず)と接続するよう設計してある。ここで、Lは配線基板の電極の幅、Sは電極間の隙間の幅であり、N=8とする。
図10に、本発明の第9実施形態における平面型光回路の電極端子を示す。第8の実施形態では、一定の間隔L+Sを隔てて配置された第1〜第8の電極端子191〜198の幅を、電極端子191〜198ごとに変化させたが、本実施形態では、電極端子191〜198の幅は一定にし、開口幅のみを変化させた。
図11に、本発明の第10実施形態における平面型光回路の電極端子を示す。この電極端子191〜195は、第1から第5(N=5)まで所定の間隔を隔てて複数配置されている。また、配線基板311の電極321〜325の幅をL、電極321〜325間の隙間の幅をSとしたとき、配線基板311の電極321〜325が、第1の電極321から第5(N=5)の電極325まで一定間隔L+Sを隔てて複数配置されている。
以上のような平面型光回路の電極端子の接続構造において、実際の光回路に適用する場合を説明する。
図12(a)は平面基板上に形成された導波路型光スイッチ・アッテネータの構成図である。本回路は、入力導波路101、102と、2個の3dB光カプラ111、121と、2個の光カプラを結ぶ光遅延導波路131、132と、出力導波路103、104とからなるマッハツェンダ干渉計の構成を有し、一方の光遅延導波路132の一部に、屈折率調整手段141を備えている。
また、屈折率調整手段として、薄膜ヒータを用いた熱光学効果を利用したが、電気光学効果、磁気光学効果など、その他の手段を用いても良い。
103,104 出力導波路
111 光カプラ
121 光カプラ
131,132 光遅延導波路
141 ヒータ
151,152 溝
161 平面基板
162 下部クラッドガラススート
163 コアガラススート
164 下部クラッドガラス
165 コアガラス
166 エッチングマスク
167 上部クラッドガラス
168 絶縁膜
171〜178 電気配線
181〜188 電極端子の開口部
191〜198 電極端子
201 導電膜
211 導電粒子
221 導電粒子の核
231 導電粒子の膜
241 接着剤
301 基板
311 配線基板
321〜325 電極
331 配線
341 カバー
401 クラッド
431〜433 光スイッチ・可変光減衰器
901,902 入力導波路
903,904 出力導波路
911 光カプラ
921 光カプラ
931,932 光遅延導波路
941 屈折率調整手段
951 平面型光回路
952 電気配線基板
953 電極
954 配線
955 ボンディングワイヤ
956 パッケージ
957 光ファイバアレイ
958 電気コネクタ
959 電極端子
961 基板
962 配線基板
963 電極
964 配線
965 カバー
966 異方性導電膜
967 導電粒子
968 接着剤
971 液晶回路基板
972 電極端子
Claims (9)
- 平面基板上に形成されたクラッドと、該クラッドの中に形成され、該クラッドよりも屈折率が高いコアとから成る平面型光回路であって、前記クラッドの上面に電気配線と、該電気配線につながる電極端子とが形成され、該電極端子の全部もしくは一部の領域を開口部とし、前記電極端子の開口部を除く領域が絶縁膜で覆われた平面型光回路において、
前記平面型光回路の電極端子の開口部に、基板上に形成された配線と、該配線につながる電極とから成る配線基板であって、前記基板の上面から前記電極の上面までの高さがtである配線基板の電極が、粒子径φの導電粒子を有する導電膜を介して電気的に接続され、
前記電極端子の開口幅が前記配線基板の電極の幅よりも広く、かつ、前記絶縁膜の上面から前記電極端子の開口部の上面までの深さdが、0≦d≦t−φとなるよう電極端子が形成されている
ことを特徴とする平面型光回路における電極端子の接続構造。 - 請求項1に記載の平面型光回路における電極端子の接続構造において、
前記平面型光回路の電極端子の開口幅をw、前記配線基板の電極の幅をLとした時、w≧L+2φとなるよう電極端子が形成されている
ことを特徴とする平面型光回路における電極端子の接続構造。 - 請求項1又は請求項2に記載の平面型光回路における電極端子の接続構造において、
前記平面型光回路の電極端子の硬度及び前記配線基板の電極の硬度が前記導電粒子の硬度よりも高く、かつ、前記電極端子の開口部の上面と、前記配線基板の電極の上面との間隔が、前記導電粒子の粒子径より小さい
ことを特徴とする平面型光回路における電極端子の接続構造。 - 請求項1又は請求項2に記載の平面型光回路における電極端子の接続構造において、
前記平面型光回路の電極端子の硬度又は前記配線基板の電極の硬度が、前記導電粒子の硬度よりも低く、かつ、前記電極端子の開口部の上面と、前記配線基板の電極の上面との間隔が、前記導電粒子の粒子径より小さい
ことを特徴とする平面型光回路における電極端子の接続構造。 - 請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の平面型光回路における電極端子の接続構造において、
前記平面型光回路の電極端子が所定の間隔を隔てて複数形成された
ことを特徴とする平面型光回路における電極端子の接続構造。 - 請求項5に記載の平面型光回路における電極端子の接続構造において、
前記配線基板の電極と、前記平面型光回路の電極端子とが、第1から第N(Nは3以上の整数)まで所定の間隔を隔てて複数配置され、
前記配線基板の第n(1≦n≦N)の電極に接続される前記平面型光回路の第nの電極端子の開口幅をw(n)とした時、前記平面型光回路の第m(1≦m≦N−1)の電極端子の中心位置と第m+1の電極端子の中心位置の間隔が、前記配線基板の電極を前記平面型光回路の電極端子に接続する前の、前記配線基板の第mの電極の中心位置と第m+1の電極の中心位置の間隔と等しく、かつ、前記平面型光回路の第mの電極端子の開口幅w(m)と第m+1の電極端子の開口幅w(m+1)のいずれか一方が、他方よりも広い
ことを特徴とする平面型光回路における電極端子の接続構造。 - 請求項5に記載の平面型光回路における電極端子の接続構造において、
前記配線基板の電極の幅をL、電極間の隙間の幅をSとしたとき、前記配線基板の電極が、第1の電極から第N(Nは3以上の整数)の電極まで一定間隔L+Sを隔てて複数配置され、
前記配線基板の第n(1≦n≦N)の電極に接続される前記平面型光回路の第nの電極端子の開口幅をw(n)とした時、第1から第Nの電極端子のうち、最も真ん中に近い第mの電極端子の開口幅がw(n)の中で最小であり、かつ、w(m)≧L+2φを満たし、第mから第1の電極端子に向かうにつれ電極端子の開口幅が次第に広くなり、第mから第Nの電極端子に向かうにつれ電極端子の開口幅が次第に広くなる
ことを特徴とする平面型光回路における電極端子の接続構造。 - 請求項5に記載の平面型光回路における電極端子の接続構造において、
前記平面型光回路の電極端子が、第1から第N(Nは3以上の整数)まで所定の間隔を隔てて複数配置され、
前記配線基板の電極の幅をL、電極間の隙間の幅をSとしたとき、前記配線基板の電極が、第1の電極から第Nの電極まで一定間隔L+Sを隔てて複数配置され、
前記平面基板の反りの曲率をRとすると、前記平面型光回路の第1から第Nの電極端子のうち、第mの電極端子の中心位置を基準として、前記平面型光回路の第n(1≦n≦N)の電極端子の中心位置が、x(n)=R・arcsin((L+S)・(n−m)/R)に配置されている
ことを特徴とする平面型光回路における電極端子の接続構造。 - 請求項1乃至請求項8のいずれかに記載の平面型光回路における電極端子の接続構造において、
前記コアとクラッドからなる光導波路は、石英系光導波路である
ことを特徴とする平面型光回路における電極端子の接続構造。
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