JP2008216780A - 表示素子の製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】基板を均一な厚みにすることが可能な表示素子の製造方法を提供することである。
【解決手段】この表示素子(液晶セル1)の製造方法は、ガラス基板10に設けられた複数のセル領域10aの外周部をそれぞれ取り囲むとともに、互いに所定の方向に所定の間隔を隔てて複数のシール材30を配置する工程と、ガラス基板10の周縁部近傍に外周シール材50を配置する工程と、ガラス基板10の周縁部側に位置するセル領域10aのシール材30と外周シール材50との間に、ガラス基板10の周縁部側に位置するセル領域10aのシール材30から所定の方向と同じ方向に所定の間隔と実質的に同じ間隔を隔てて内周シール材60を配置する工程と、ガラス基板10とガラス基板20とを貼り合わせる工程と、ガラス基板10およびガラス基板20の少なくともいずれか一方の外表面を研磨する工程とを備えている。
【選択図】図5

Description

本発明は、表示素子の製造方法に関し、特に、2つの基板を貼り合わせる工程を備えた表示素子の製造方法に関する。
従来、2つの基板を貼り合わせる工程を備えた表示素子の製造方法が知られている(たとえば、特許文献1参照)。
上記特許文献1には、一方のマザーガラス(第1の基板)に設けられた複数の素子領域の外周部をそれぞれ取り囲むように、互いに所定の間隔を隔てて複数の製品シール材(第1シール材)を配置する工程と、一方のマザーガラスの周縁部近傍に内部シール材(第2シール材)および仮止めシール材を配置する工程と、一方のマザーガラスと他方のマザーガラス(第2の基板)とを貼り合わせる工程と、一方および他方のマザーガラスの外表面を研磨する工程とを備えた表示素子の製造方法が開示されている。上記特許文献1では、一方のマザーガラスの周縁部近傍に位置する素子領域の製品シール材から内部シール材および仮止めシール材までの距離が、製品シール材から隣接する製品シール材までの距離と異なるように、一方のマザーガラスの周縁部近傍に内部シール材および仮止めシール材が配置される。
特開2003−43501号公報
しかしながら、上記特許文献1に開示された表示素子の製造方法では、一方のマザーガラスの周縁部近傍に位置する素子領域の製品シール材から横方向に隣接する内部シール材までの距離が、製品シール材から横方向に隣接する製品シール材までの距離と異なるので、一方のマザーガラスと他方のマザーガラスとを貼り合わせた後に一方および他方のマザーガラスに垂直方向の押圧力が加えられた場合、一方および他方のマザーガラスの周縁部近傍(最外部)に位置する素子領域の製品シール材と、一方および他方のマザーガラスの周縁部(最外部)以外に位置する素子領域の製品シール材とに、押圧力を均一に分散させるのが困難である。このため、一方のマザーガラスと他方のマザーガラスとを貼り合わせる際の押圧力により、一方および他方のマザーガラスの周縁部近傍が撓むので、一方および他方のマザーガラスを均一な厚みに貼り合わせるのが困難であるという不都合がある。この場合に、一方および他方のマザーガラスの表面を化学研磨する場合には、化学研磨では一方および他方のマザーガラスの表面を所定の厚み分だけ均一に研磨するので、貼り合わせ時の一方および他方のマザーガラスの周縁部近傍の撓みに起因して、一方および他方のマザーガラスを均一な厚みにするのが困難であるという問題点がある。
また、一方および他方のマザーガラスの表面を機械研磨する場合には、研磨機による押圧力を均一に分散させるのが困難であるので、研磨機による押圧力により一方および他方のマザーガラスの周縁部近傍が撓む。このため、一方および他方のマザーガラス(第1の基板および第2の基板)を均一な厚みに研磨するのが困難であるという問題点がある。
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、この発明の1つの目的は、基板を均一な厚みにすることが可能な表示素子の製造方法を提供することである。
課題を解決するための手段および発明の効果
上記目的を達成するために、この発明の一の局面における表示素子の製造方法は、第1の基板および第2の基板の少なくとも一方に設けられた複数の素子領域の外周部近傍をそれぞれ取り囲むように、互いに所定の方向に所定の間隔を隔てて複数の第1シール材を配置する工程と、第1の基板および第2の基板の少なくとも一方の周縁部近傍に第2シール材を配置する工程と、第1の基板および第2の基板の少なくとも一方の周縁部側に位置する素子領域の第1シール材が配置される領域と第2シール材が配置される領域との間に、第1の基板および第2の基板の少なくとも一方の周縁部側に位置する素子領域の第1シール材が配置される領域から所定の方向と同じ方向に所定の間隔と実質的に同じ間隔を隔てて第3シール材を配置する工程と、第1の基板と第2の基板とを貼り合わせる工程と、第1の基板および第2の基板の少なくともいずれか一方の外表面を研磨する工程とを備えている。
この発明の一の局面による表示素子の製造方法では、上記のように、第1の基板および第2の基板の少なくとも一方の周縁部側に位置する素子領域の第1シール材が配置される領域と第2シール材が配置される領域との間に、第1の基板および第2の基板の少なくとも一方の周縁部側に位置する素子領域の第1シール材が配置される領域から、第1シール材同士が所定の間隔を隔てて隣接する所定の方向と同じ方向に上記所定の間隔と実質的に同じ間隔を隔てて第3シール材を配置する工程と、第1の基板と第2の基板とを貼り合わせる工程とを設けることによって、第1の基板と第2の基板とを貼り合わせた状態で、第1の基板および第2の基板の少なくとも一方の周縁部側に位置する素子領域の第1シール材から所定の方向に隣接する第3シール材までの距離を、第1シール材から所定の方向に隣接する第1シール材までの距離と実質的に同じ距離にすることができる。これにより、第1の基板と第2の基板とを貼り合わせた後に第1の基板および第2の基板に垂直方向の押圧力が加えられた場合、第1の基板および第2の基板の周縁部近傍に位置する素子領域の第1シール材と、第1の基板および第2の基板の周縁部以外に位置する素子領域の第1シール材とに、押圧力を均一に分散させることができる。このため、第1の基板と第2の基板とを貼り合わせる際の押圧力により、第1の基板および第2の基板の周縁部近傍が撓むのを抑制することができるので、第1の基板および第2の基板を均一な厚みに貼り合わせることができる。これにより、第1の基板および第2の基板を化学研磨する場合には、化学研磨では第1の基板および第2の基板の表面を所定の厚み分だけ均一に研磨するので、第1の基板および第2の基板を均一な厚みにすることができる。また、第1の基板および第2の基板を機械研磨する場合には、研磨機による押圧力を均一に分散させることができるので、研磨機による押圧力により第1の基板および第2の基板の周縁部近傍が撓むのを抑制することができる。これらの結果、第1の基板および第2の基板を均一な厚みにすることができる。
上記一の局面による表示素子の製造方法において、好ましくは、第1シール材は、第1の方向に延びる第1部分と、第1の方向と交差する第2の方向に延びる第2部分とを含み、互いに所定の間隔を隔てて複数の第1シール材を配置する工程は、第1シール材の第1部分を、隣接する第1シール材の第1部分から第2の方向に第1の間隔を隔てて配置するとともに、第1シール材の第2部分を、隣接する第1シール材の第2部分から第1の方向に第2の間隔を隔てて配置する工程を含み、第1シール材が配置される領域から所定の間隔と実質的に同じ間隔を隔てて第3シール材を配置する工程は、第1の基板および第2の基板の少なくとも一方の周縁部側に位置する素子領域の第1シール材の第1部分から第2の方向に第1の間隔と実質的に同じ間隔を隔てて、第3シール材の第3部分を配置するとともに、第1シール材の第2部分から第1の方向に第2の間隔と実質的に同じ間隔を隔てて第3シール材の第4部分を配置する工程を含む。このように構成すれば、第1の基板と第2の基板とを貼り合わせた状態で、第1の基板および第2の基板の少なくとも一方の周縁部側に位置する素子領域の第1シール材の第1部分から第3シール材の第3部分までの第2の方向の距離を、第1シール材の第1部分から隣接する第1シール材の第1部分までの第2の方向の距離と実質的に同じ距離にすることができるとともに、第1の基板および第2の基板の少なくとも一方の周縁部側に位置する素子領域の第1シール材の第2部分から第3シール材の第4部分までの第1の方向の距離を、第1シール材の第2部分から隣接する第1シール材の第2部分までの第1の方向の距離と実質的に同じ距離にすることができる。これにより、第1の基板と第2の基板とを貼り合わせた後に第1の基板および第2の基板に垂直方向の押圧力が加えられた場合、第1の基板および第2の基板の周縁部近傍に位置する素子領域の第1シール材の第1部分および第2部分の両方と、第1の基板および第2の基板の周縁部以外に位置する素子領域の第1シール材の第1部分および第2部分の両方とに、押圧力をより均一に分散させることができる。その結果、第1の基板と第2の基板とを貼り合わせる際の押圧力、および、第1の基板および第2の基板を機械研磨する際の研磨機による押圧力により、第1の基板および第2の基板の周縁部近傍が撓むのをより抑制することができるので、第1の基板および第2の基板をより均一な厚みにすることができる。
上記第1シール材が第1部分および第2部分を含む表示素子の製造方法において、好ましくは、第3シール材の第3部分および第4部分を配置する工程は、第1シール材の第1部分と実質的に平行に延びるように第3シール材の第3部分を配置するとともに、第1シール材の第2部分と実質的に平行に延びるように第3シール材の第4部分を配置する工程を含む。このように構成すれば、第1の基板と第2の基板とを貼り合わせた状態で、第1の基板および第2の基板の少なくとも一方の周縁部側に位置する素子領域の第1シール材の第1部分から第3シール材の第3部分までの第2の方向の距離を、容易に一定にすることができるとともに、第1の基板および第2の基板の少なくとも一方の周縁部側に位置する素子領域の第1シール材の第2部分から第3シール材の第4部分までの第1の方向の距離を、容易に一定にすることができる。これにより、第1の基板と第2の基板とを貼り合わせた後に第1の基板および第2の基板に垂直方向の押圧力が加えられた場合、第1の基板および第2の基板の周縁部近傍に位置する素子領域の第1シール材の第1部分および第2部分と、第1の基板および第2の基板の周縁部以外に位置する素子領域の第1シール材の第1部分および第2部分とに、容易に、押圧力をより均一に分散させることができる。
上記一の局面による表示素子の製造方法において、好ましくは、第3シール材を配置する工程は、第1の基板および第2の基板の少なくとも一方の周縁部側に位置する素子領域の外側から素子領域に向かって第3シール材を塗布する工程と、第1の基板および第2の基板の少なくとも一方の周縁部側に位置する素子領域に沿って第3シール材を塗布する工程とを含む。このように構成すれば、ノズルなどを用いて第3シール材を塗布する場合、前回の塗布から所定の時間以上経過することに起因して、ノズルの先端部分にシール材の玉状の液溜まりが形成された場合にも、素子領域の外側に位置する開始位置のみにおいて第3シール材の塗布量を多くすることができるとともに、素子領域の近傍において第3シール材の塗布量が多くなるのを抑制することができる。これにより、素子領域の近傍において第3シール材の塗布が開始される場合と異なり、素子領域内に第3シール材が塗布されるという不都合が発生するのを抑制することができる。
上記一の局面による表示素子の製造方法において、好ましくは、第2シール材を配置する工程は、第2シール材を、第1開口部を有するとともに、第1開口部側の端部が外側に突出するように配置する工程を含む。このように構成すれば、第2シール材の第1開口部を塞ぐように封止材を配置する場合、第2シール材の第1開口部と封止材との接着面積を大きくすることができるので、第2シール材の第1開口部と封止材との間から水分などが浸入するのをより抑制することができる。
上記一の局面による表示素子の製造方法において、好ましくは、第2シール材を配置する工程は、第1の基板または第2の基板の少なくともコーナー部近傍に第1開口部を有するように第2シール材を配置する工程を含む。このように構成すれば、第1の基板と第2の基板とを貼り合わせる際に、第1の基板および第2の基板の少なくともコーナー部近傍において、第2シール材の内側の空気を、第2シール材の第1開口部を介して外側に排出することができる。これにより、第1の基板または第2の基板が第2シール材から剥がれるのを抑制することができるとともに、第2シール材が切れるのを抑制することができる。なお、第1の基板または第2の基板の少なくともコーナー部近傍に第1開口部を有しないように第2シール材を配置する場合、第1の基板と第2の基板とを貼り合わせる際に、第1の基板および第2の基板の少なくともコーナー部近傍において、第2シール材の内側の空気が外側に排出されず空気圧が高くなる場合がある。この場合、第1の基板と第2の基板との間隔が大きくなるので、第2シール材が第1の基板または第2の基板と接触しにくくなる。そして、第2シール材と第1の基板または第2の基板との接着強度が小さくなるので、研磨工程などで第1の基板または第2の基板が第2シール材から剥がれる場合がある。また、第2シール材の内側の空気圧が高くなる場合、空気を外側に排出するために第2シール材が切れる(開口する)場合がある。本発明では、コーナー部近傍の第2シール材の第1開口部により、これらの不都合が発生するのを抑制することができる。
上記第2シール材を配置する工程が、第1の基板または第2の基板の少なくともコーナー部近傍に第1開口部を有するように第2シール材を配置する工程を含む表示素子の製造方法において、好ましくは、第1の基板または第2の基板の少なくともコーナー部近傍に第1開口部を有するように第2シール材を配置する工程は、第1の基板または第2の基板のコーナー部近傍の第1端面側、および、第1端面と交差する第2端面側に、それぞれ、第1開口部を有するように第2シール材を配置する工程を含む。このように構成すれば、第1の基板と第2の基板とを貼り合わせる際に、第1の基板および第2の基板の少なくともコーナー部近傍において、第2シール材の内側の空気を、第1の基板または第2の基板の第1端面側および第2端面側の2つの方向から第2シール材の第1開口部を介して外側に排出することができるので、第2シール材の内側の空気を外側に、より排出しやすくすることができる。
上記第2シール材を配置する工程が、第1開口部を有するように第2シール材を配置する工程を含む表示素子の製造方法において、好ましくは、第1の基板および第2の基板の少なくともいずれか一方の外表面を研磨する工程に先立って、第2シール材の第1開口部を塞ぐように、第1の基板および第2の基板の周縁部に封止材を配置する工程をさらに備える。このように構成すれば、研磨時に、第2シール材の第1開口部と封止材との間から水分などが浸入するのを抑制することができる。
上記一の局面による表示素子の製造方法において、好ましくは、第1の基板と第2の基板とを貼り合わせる工程に先立って、第1の基板および第2の基板の少なくともいずれか一方に、第2シール材と接触しないように、接着材を配置する工程をさらに備える。このように構成すれば、第1の基板と第2の基板とを貼り合わせた状態で、接着材が第2シール材と混ざるのを抑制することができるので、接着材および第2シール材が硬化しにくくなるのを抑制することができる。また、第2シール材と接触しないように、接着材を配置する工程を設けることによって、第2シール材および接着材の厚みを均一にすることができるので、第1の基板と第2の基板とを貼り合わせる際に、第1の基板および第2の基板をより均一な厚みに貼り合わせることができる。
上記一の局面による表示素子の製造方法において、好ましくは、第1シール材を配置する工程は、第2開口部を有するとともに、素子領域の外周部近傍を取り囲むように第1シール材を配置する工程を含み、第3シール材を配置する工程は、少なくとも、第1の基板および第2の基板の少なくとも一方の周縁部側に位置する素子領域の第1シール材の第2開口部に対応する領域に第3シール材を配置する工程を含む。このように構成すれば、第2シール材の開口部などから水分などが浸入した場合にも、第3シール材により、第1シール材の第2開口部に水分などが浸入するのを抑制することができる。
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
図1は、本発明の一実施形態による液晶セル(表示素子)の製造方法を用いて作製される液晶セルの構成を示した断面図である。図2は、本発明の一実施形態による液晶セルの製造方法を用いて作製される液晶セルの構成を示した底面図である。図1および図2を参照して、本発明の一実施形態による液晶セル(表示素子)の製造方法を用いて作製される液晶セル1の構造について説明する。
本実施形態による液晶セル1では、図1に示すように、約0.4mmの厚みを有するガラス基板10と、ガラス基板10に対向するように配置される約0.4mmの厚みを有するガラス基板20と、ガラス基板10および20の間に配置されるとともに、ガラス基板10のセル領域10a(図2参照)およびガラス基板20のセル領域20a(図2参照)の外周部近傍を取り囲むように配置されるシール材30と、シール材30の内側の領域に封入される液晶40とを備えている。なお、液晶セル1は、本発明の「表示素子」の一例である。また、ガラス基板10は、本発明の「第1の基板」の一例であり、ガラス基板20は、本発明の「第2の基板」の一例である。また、セル領域10aおよび20aは、本発明の「素子領域」の一例であり、シール材30は、本発明の「第1シール材」の一例である。
ガラス基板10の液晶40側の表面(下面)上には、配向膜11が形成されている。ガラス基板20の液晶40側の表面(上面)上には、複数のTFT(Thin Film Transistor:薄膜トランジスタ)21が配置されている。また、ガラス基板20の液晶40側の表面(上面)上には、複数のTFT21を覆うように、絶縁膜22が形成されている。また、絶縁膜22の液晶40側の表面(上面)上には、配向膜23が形成されている。
また、シール材30は、図2に示すように、A方向に延びる部分30aと、A方向に直交(交差)するB方向に延びる部分30bとを有する。また、シール材30のB方向に延びる部分30bには、開口部30cが形成されている。なお、A方向は、本発明の「所定の方向」および「第1の方向」の一例であり、B方向は、本発明の「所定の方向」および「第2の方向」の一例である。また、A方向に延びる部分30aは、本発明の「第1部分」の一例であり、B方向に延びる部分30bは、本発明の「第2部分」の一例である。また、開口部30cは、本発明の「第2開口部」の一例である。
図3〜図9は、本発明の一実施形態による液晶セルの製造方法を説明するための図である。次に、図3〜図9を参照して、本発明の一実施形態による液晶セルの製造方法について説明する。
まず、図3に示すように、マトリクス状に配置された複数のセル領域10aを有するとともに、約0.7mmの厚みを有するガラス基板10を準備する。
そして、図4に示すように、ガラス基板10の複数のセル領域10a上に配向膜11を形成する。
その後、図5に示すように、ガラス基板10の複数のセル領域10aの外周部近傍をそれぞれ取り囲むように、ノズル(図示せず)を用いて樹脂を塗布することにより、複数のシール材30を配置する。
ここで、本実施形態では、複数のシール材30を配置する場合、互いに所定の間隔を隔てて、複数のシール材30を配置する。具体的には、シール材30のA方向に延びる部分30aを、B方向に隣接するシール材30のA方向に延びる部分30aからB方向に間隔W1(=約1.4mm)を隔てて配置する。また、シール材30のB方向に延びる部分30bを、A方向に隣接するシール材30のB方向に延びる部分30bからA方向に間隔W2(=約3.4mm)を隔てて、かつ、開口部30cを有するように配置する。なお、間隔W1は、本発明の「第1の間隔」の一例であり、間隔W2は、本発明の「第2の間隔」の一例である。
その後、ガラス基板10の周縁部近傍に、ノズルを用いて樹脂を塗布することにより、外周シール材50を配置する。なお、本実施形態では、外周シール材50は、シール材30と同じ樹脂からなる。また、外周シール材50は、本発明の「第2シール材」の一例である。
本実施形態では、外周シール材50を配置する場合、ガラス基板10のコーナー部近傍の端面10b側、および、端面10bに直交(交差)する端面10c側に、それぞれ、開口部50aを有するように、外周シール材50を配置する。また、ガラス基板10のコーナー部近傍以外の部分にも開口部50aを有するように、外周シール材50を配置する。なお、端面10bは、本発明の「第1端面」の一例であり、端面10cは、本発明の「第2端面」の一例である。また、開口部50aは、本発明の「第1開口部」の一例である。
また、本実施形態では、開口部50aを有するように外周シール材50を配置する場合、開口部50a側の端部50bが外側に向かって突出するように、外周シール材50を配置する。また、外周シール材50を配置する場合、所定の領域にガラス基板10の内側に向かって凹んだ凹部50cを有するように、外周シール材50を配置する。
その後、ガラス基板10の周縁部側に位置するセル領域10aのシール材30と外周シール材50との間に、ガラス基板10の周縁部側に位置するセル領域10aのシール材30から間隔W1およびW2と実質的に同じ間隔を隔てて、ノズルを用いて樹脂を塗布することにより、内周シール材60を配置する。なお、本実施形態では、内周シール材60は、シール材30および外周シール材50と同じ樹脂からなる。また、内周シール材60は、本発明の「第3シール材」の一例である。
本実施形態では、内周シール材60を配置する場合、ガラス基板10の周縁部側に位置するセル領域10aのシール材30のA方向に延びる部分30aからB方向に間隔W3(=約1.4mm)を隔てて、シール材30のA方向に延びる部分30aと実質的に平行に、内周シール材60のA方向に延びる部分60aを配置する。また、ガラス基板10の周縁部側に位置するセル領域10aのシール材30のB方向に延びる部分30bからA方向に間隔W4(=約3.4mm)を隔てて、シール材30のB方向に延びる部分30bと実質的に平行に、内周シール材60のB方向に延びる部分60bを配置する。なお、A方向に延びる部分60aは、本発明の「第3部分」の一例であり、B方向に延びる部分60bは、本発明の「第4部分」の一例である。また、間隔W3は、本発明の「第1の間隔と実質的に同じ間隔」の一例であり、間隔W4は、本発明の「第2の間隔と実質的に同じ間隔」の一例である。
また、本実施形態では、内周シール材60のA方向に延びる部分60aを塗布する場合、ガラス基板10の周縁部側(外側)に位置する開始位置60cからセル領域10aに向かって内周シール材60を塗布した後、セル領域10a(シール材30のA方向に延びる部分30a)に沿って内周シール材60を塗布する。これにより、前回の塗布から所定の時間以上経過することに起因して、ノズルの先端部分に樹脂の玉状の液溜まりが形成された場合にも、図5の矢印Cに示すように、セル領域10aの外側に位置する開始位置60cのみにおいて内周シール材60の塗布量を多くすることが可能である。これにより、セル領域10aの近傍において内周シール材60の塗布量が多くなるのを抑制することが可能であるので、セル領域10aの近傍において内周シール材60の塗布が開始される場合と異なり、セル領域10a内に内周シール材60が塗布されるという不都合が発生するのを抑制することが可能である。
また、本実施形態では、内周シール材60を配置する場合、少なくともシール材30の開口部30cに対応する領域に内周シール材60を配置する。
その後、90℃の温度で約10分間熱処理を行うことにより、シール材30、外周シール材50および内周シール材60を仮硬化させる。これにより、後述するガラス基板10とガラス基板20との貼り合わせ工程などにおいて、シール材30、外周シール材50および内周シール材60が垂れたり、変形したりするのを抑制することが可能である。
次に、図6に示すように、複数のTFT21および絶縁膜22(図1参照)が形成されるとともに、複数のセル領域20aを有する約0.7mmの厚みを有するガラス基板20を準備する。そして、ガラス基板20の複数のセル領域20aの下面上に、配向膜23(図1参照)を形成した後、ガラス基板10(図1参照)と通電するためのAuからなるコンタクト部(図示せず)を形成する。
その後、本実施形態では、ガラス基板20の下面上に、UV硬化型の仮止め接着材70を塗布する。このとき、ガラス基板10(図5参照)に塗布された外周シール材50(図5参照)と接触しないように、ガラス基板10に形成された外周シール材50の凹部50c(図5参照)に対応するガラス基板20の部分に、仮止め接着材70を塗布する。なお、仮止め接着材70は、本発明の「接着材」の一例である。
その後、図7に示すように、ガラス基板10のセル領域10aとガラス基板20のセル領域20aとが一致するように、ガラス基板10とガラス基板20とを貼り合わせる。そして、UV照射を行うことにより、仮止め接着材70を硬化して、ガラス基板10とガラス基板20との仮止めを行う。その後、ガラス基板10および20に約4900Nの垂直方向の荷重を均一に負荷しながら、約150℃の温度で約35分間の熱処理を2回行う。これにより、ガラス基板10および20の厚みを均一にするとともに、ガラス基板10とガラス基板20とのギャップ(間隔)を均一にする。
そして、ガラス基板10および20を、約150℃の温度で約15分間の熱処理を4回行うことによって、シール材30、外周シール材50および内周シール材60を硬化する。
そして、図8に示すように、ガラス基板10および20の周縁部に封止材80を塗布する。このとき、外周シール材50の端部50bと隣接する端部50bとの間の領域(開口部50a)に入り込むように、封止材80を塗布し硬化する。これにより、封止材80により、外周シール材50の複数の開口部50aが塞がれる。
その後、図9に示すように、研磨機90を用いて、ガラス基板10および20の表面を研磨する。具体的には、ガラス基板10および20を研磨機90の上定盤90aと下定盤90bとの間に配置する。そして、グリーンカーボンなどの研磨剤を用いて、ガラス基板10の下面およびガラス基板20の上面を粗研磨する。これにより、ガラス基板10および20を、それぞれ、約0.4μmの厚みにする。その後、酸化セリウムなどの研磨剤を用いて、ガラス基板10の下面およびガラス基板20の上面を微細研磨(鏡面研磨)する。そして、超純水などを用いて、ガラス基板10および20を洗浄する。
その後、シール材30(図8参照)とシール材30との間、および、シール材30と内周シール材60(図8参照)との間で、ガラス基板10および20を分割する。
そして、シール材30の開口部30c(図2参照)から液晶40を注入し、開口部30cを封止材により封止することにより、図1および図2に示した液晶セル1が形成される。
本実施形態では、上記のように、シール材30のA方向に延びる部分30aを、隣接するシール材30のA方向に延びる部分30aからB方向に間隔W1(=約1.4mm)を隔てて配置するとともに、シール材30のB方向に延びる部分30bを、隣接するシール材30のB方向に延びる部分30bからA方向に間隔W2(=約3.4mm)を隔てて配置する工程と、ガラス基板10の周縁部側に位置するセル領域10aのシール材30のA方向に延びる部分30aからB方向に間隔W3(=約1.4mm)を隔てて、内周シール材60のA方向に延びる部分60aを配置するとともに、シール材30のB方向に延びる部分30bからA方向に間隔W4(=約3.4mm)を隔てて内周シール材60のB方向に延びる部分60bを配置する工程とを設けることによって、ガラス基板10の周縁部側に位置するセル領域10aのシール材30のA方向に延びる部分30aから内周シール材60のA方向に延びる部分60aまでのB方向の距離(間隔W3)を、シール材30のA方向に延びる部分30aから隣接するシール材30のA方向に延びる部分30aまでのB方向の距離(間隔W1)と実質的に同じ距離にすることができるとともに、ガラス基板10の周縁部側に位置するセル領域10aのシール材30のB方向に延びる部分30bから内周シール材60のB方向に延びる部分60bまでのA方向の距離(間隔W4)を、シール材30のB方向に延びる部分30bから隣接するシール材30のB方向に延びる部分30bまでのA方向の距離(間隔W2)と実質的に同じ距離にすることができる。
これにより、ガラス基板10とガラス基板20とを貼り合わせた後にガラス基板10およびガラス基板20に垂直方向の押圧力が加えられた場合、ガラス基板10およびガラス基板20の周縁部近傍に位置するセル領域10aのシール材30のA方向に延びる部分30aおよびB方向に延びる部分30bと、ガラス基板10およびガラス基板20の周縁部以外に位置するセル領域10aのシール材30のA方向に延びる部分30aおよびB方向に延びる部分30bとに、押圧力を均一に分散させることができる。このため、ガラス基板10とガラス基板20とを貼り合わせる際の押圧力により、ガラス基板10およびガラス基板20の周縁部近傍が撓むのを抑制することができるので、ガラス基板10およびガラス基板20を均一な厚みに貼り合わせることができる。また、ガラス基板10およびガラス基板20を研磨機90を用いて研磨する場合、研磨機90による押圧力を均一に分散させることができるので、研磨機90による押圧力によりガラス基板10およびガラス基板20の周縁部近傍が撓むのを抑制することができる。これらの結果、ガラス基板10およびガラス基板20を均一な厚みにすることができる。
また、本実施形態では、外周シール材50を、開口部50aを有するとともに、開口部50a側の端部50bが外側に突出するように配置することによって、外周シール材50の開口部50aを塞ぐように封止材80を配置する際に、外周シール材50の開口部50aと封止材80との接着面積を大きくすることができる。これにより、研磨工程および洗浄工程などにおいて、外周シール材50の開口部50aと封止材80との間から水分などが浸入するのをより抑制することができる。
また、本実施形態では、ガラス基板10の少なくともコーナー部近傍に開口部50aを有するように外周シール材50を配置することによって、ガラス基板10とガラス基板20とを貼り合わせる際に、ガラス基板10およびガラス基板20の少なくともコーナー部近傍において、外周シール材50の内側の空気を、外周シール材50の開口部50aを介して外側に排出することができる。これにより、ガラス基板20が外周シール材50から剥がれるのを抑制することができるとともに、外周シール材50が切れるのを抑制することができる。なお、ガラス基板10の少なくともコーナー部近傍に開口部50aを有しないように外周シール材50を配置する場合、ガラス基板10とガラス基板20とを貼り合わせる際に、ガラス基板10およびガラス基板20の少なくともコーナー部近傍において、外周シール材50の内側の空気が外側に排出されず空気圧が高くなる場合がある。この場合、ガラス基板10とガラス基板20との(ギャップ)間隔が大きくなるので、外周シール材50がガラス基板20と接触しにくくなる。そして、外周シール材50とガラス基板20との接着強度が小さくなるので、研磨工程などでガラス基板20が外周シール材50から剥がれる場合がある。また、外周シール材50の内側の空気圧が高くなる場合、空気を外側に排出するために外周シール材50が切れる(開口する)場合がある。本実施形態では、コーナー部近傍の外周シール材50の開口部50aにより、これらの不都合が発生するのを抑制することができる。
また、本実施形態では、外周シール材50と接触しないように、ガラス基板10に形成された外周シール材50の凹部50cに対応するガラス基板20の部分に、仮止め接着材70を塗布することによって、ガラス基板10とガラス基板20とを貼り合わせた状態で、仮止め接着材70が外周シール材50と混ざるのを抑制することができるので、仮止め接着材70および外周シール材50が硬化しにくくなるのを抑制することができる。また、外周シール材50と接触しないように、仮止め接着材70を塗布することによって、外周シール材50および仮止め接着材70の厚みを均一にすることができるので、ガラス基板10とガラス基板20とを貼り合わせる際に、ガラス基板10およびガラス基板20をより均一な厚みに貼り合わせることができる。
また、本実施形態では、少なくともシール材30の開口部30cに対応する領域に内周シール材60を配置することによって、研磨工程および洗浄工程などにおいて、外周シール材50の開口部50aから水分などが浸入した場合にも、内周シール材60により、シール材30の開口部30cに水分などが浸入するのを抑制することができる。
なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。
たとえば、上記実施形態では、内周シール材を、シール材のA方向側およびB方向側にそれぞれ配置した例を示したが、本発明はこれに限らず、内周シール材を、シール材のA方向またはB方向のいずれか一方側のみに配置してもよい。
また、上記実施形態では、第1の基板および第2の基板として、ガラス基板を用いた例を示したが、本発明はこれに限らず、第1の基板および第2の基板として、ガラス以外の材質からなる基板を用いてもよい。
また、上記実施形態では、ガラス基板に、シール材を配置した後、外周シール材を配置し、その後、内周シール材を配置した例を示したが、本発明はこれに限らず、シール材、外周シール材および内周シール材を、上記実施形態とは異なる順番で配置してもよい。
また、上記実施形態では、シール材、外周シール材および内周シール材を1つのガラス基板に形成した例を示したが、本発明はこれに限らず、シール材、外周シール材および内周シール材を2つのガラス基板に分けて形成してもよい。
また、上記実施形態では、シール材、外周シール材および内周シール材と仮止め接着材とを異なるガラス基板に形成した例を示したが、本発明はこれに限らず、シール材、外周シール材および内周シール材と仮止め接着材とを1つのガラス基板に形成してもよい。
また、上記実施形態では、シール材、外周シール材および内周シール材を、ノズルを用いて樹脂を塗布することにより形成した例を示したが、本発明はこれに限らず、シール材、外周シール材および内周シール材を、スクリーン印刷などの他の方法により形成してもよい。
また、上記実施形態では、内周シール材のA方向に延びる部分を、シール材のA方向に延びる部分から、シール材と隣接するシール材とのB方向の間隔W1と実質的に同じ間隔W3を隔てて配置するとともに、内周シール材のB方向に延びる部分を、シール材のB方向に延びる部分から、シール材と隣接するシール材とのA方向の間隔W2と実質的に同じ間隔W4を隔てて配置した例を示したが、本発明はこれに限らず、内周シール材のA方向に延びる部分およびB方向に延びる部分を、シール材と隣接するシール材との間隔W1またはW2と実質的に同じ間隔W3またはW4を隔てて配置してもよい。
また、上記実施形態では、ガラス基板のコーナー部近傍に2つの開口部を有するように、外周シール材を配置した例を示したが、本発明はこれに限らず、ガラス基板のコーナー部近傍に1つの開口部を有するように、外周シール材を配置してもよい。
また、上記実施形態では、シール材に、液晶を注入する開口部を設けた例を示したが、本発明はこれに限らず、液晶滴下法により液晶を注入する場合は、シール材に開口部を設けなくてもよい。
本発明の一実施形態による液晶セル(表示素子)の製造方法を用いて作製される液晶セルの構成を示した断面図である。 本発明の一実施形態による液晶セルの製造方法を用いて作製される液晶セルの構成を示した底面図である。 本発明の一実施形態による液晶セルの製造方法を説明するための平面図である。 本発明の一実施形態による液晶セルの製造方法を説明するための平面図である。 本発明の一実施形態による液晶セルの製造方法を説明するための平面図である。 本発明の一実施形態による液晶セルの製造方法を説明するための平面図である。 本発明の一実施形態による液晶セルの製造方法を説明するための平面図である。 本発明の一実施形態による液晶セルの製造方法を説明するための平面図である。 本発明の一実施形態による液晶セルの製造方法を説明するための側面図である。
符号の説明
1 液晶セル(表示素子)
10 ガラス基板(第1の基板)
10a、20a セル領域(素子領域)
10b 端面(第1端面)
10c 端面(第2端面)
20 ガラス基板(第2の基板)
30 シール材(第1シール材)
30a A方向に延びる部分(第1部分)
30b B方向に延びる部分(第2部分)
30c 開口部(第2開口部)
50 外周シール材(第2シール材)
50a 開口部(第1開口部)
50b 端部
60 内周シール材(第3シール材)
60a A方向に延びる部分(第3部分)
60b B方向に延びる部分(第4部分)
70 仮止め接着材(接着材)
80 封止材
W1 間隔(第1の間隔)
W2 間隔(第2の間隔)
W3 間隔(第1の間隔と実質的に同じ間隔)
W4 間隔(第2の間隔と実質的に同じ間隔)

Claims (10)

  1. 第1の基板および第2の基板の少なくとも一方に設けられた複数の素子領域の外周部近傍をそれぞれ取り囲むように、互いに所定の方向に所定の間隔を隔てて複数の第1シール材を配置する工程と、
    前記第1の基板および第2の基板の少なくとも一方の周縁部近傍に第2シール材を配置する工程と、
    前記第1の基板および第2の基板の少なくとも一方の周縁部側に位置する前記素子領域の前記第1シール材が配置される領域と前記第2シール材が配置される領域との間に、前記第1の基板および第2の基板の少なくとも一方の周縁部側に位置する前記素子領域の前記第1シール材が配置される領域から前記所定の方向と同じ方向に前記所定の間隔と実質的に同じ間隔を隔てて第3シール材を配置する工程と、
    前記第1の基板と前記第2の基板とを貼り合わせる工程と、
    前記第1の基板および前記第2の基板の少なくともいずれか一方の外表面を研磨する工程とを備えた、表示素子の製造方法。
  2. 前記第1シール材は、第1の方向に延びる第1部分と、前記第1の方向と交差する第2の方向に延びる第2部分とを含み、
    前記互いに所定の間隔を隔てて複数の第1シール材を配置する工程は、前記第1シール材の第1部分を、隣接する前記第1シール材の第1部分から前記第2の方向に第1の間隔を隔てて配置するとともに、前記第1シール材の第2部分を、隣接する前記第1シール材の第2部分から前記第1の方向に第2の間隔を隔てて配置する工程を含み、
    前記第1シール材が配置される領域から前記所定の間隔と実質的に同じ間隔を隔てて第3シール材を配置する工程は、前記第1の基板および第2の基板の少なくとも一方の周縁部側に位置する前記素子領域の前記第1シール材の第1部分から前記第2の方向に前記第1の間隔と実質的に同じ間隔を隔てて、前記第3シール材の第3部分を配置するとともに、前記第1シール材の第2部分から前記第1の方向に前記第2の間隔と実質的に同じ間隔を隔てて前記第3シール材の第4部分を配置する工程を含む、請求項1に記載の表示素子の製造方法。
  3. 前記第3シール材の第3部分および第4部分を配置する工程は、前記第1シール材の第1部分と実質的に平行に延びるように前記第3シール材の第3部分を配置するとともに、前記第1シール材の第2部分と実質的に平行に延びるように前記第3シール材の第4部分を配置する工程を含む、請求項2に記載の表示素子の製造方法。
  4. 前記第3シール材を配置する工程は、
    前記第1の基板および第2の基板の少なくとも一方の周縁部側に位置する前記素子領域の外側から前記素子領域に向かって前記第3シール材を塗布する工程と、
    前記第1の基板および第2の基板の少なくとも一方の周縁部側に位置する前記素子領域に沿って前記第3シール材を塗布する工程とを含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載の表示素子の製造方法。
  5. 前記第2シール材を配置する工程は、前記第2シール材を、第1開口部を有するとともに、前記第1開口部側の端部が外側に突出するように配置する工程を含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載の表示素子の製造方法。
  6. 前記第2シール材を配置する工程は、前記第1の基板または前記第2の基板の少なくともコーナー部近傍に第1開口部を有するように前記第2シール材を配置する工程を含む、請求項1〜5のいずれか1項に記載の表示素子の製造方法。
  7. 前記第1の基板または前記第2の基板の少なくともコーナー部近傍に第1開口部を有するように前記第2シール材を配置する工程は、前記第1の基板または前記第2の基板のコーナー部近傍の第1端面側、および、前記第1端面と交差する第2端面側に、それぞれ、前記第1開口部を有するように前記第2シール材を配置する工程を含む、請求項6に記載の表示素子の製造方法。
  8. 前記第1の基板および第2の基板の少なくともいずれか一方の外表面を研磨する工程に先立って、前記第2シール材の第1開口部を塞ぐように、前記第1の基板および前記第2の基板の周縁部に封止材を配置する工程をさらに備える、請求項5〜7のいずれか1項に記載の表示素子の製造方法。
  9. 前記第1の基板と第2の基板とを貼り合わせる工程に先立って、前記第1の基板および前記第2の基板の少なくともいずれか一方に、前記第2シール材と接触しないように、接着材を配置する工程をさらに備える、請求項1〜8のいずれか1項に記載の表示素子の製造方法。
  10. 前記第1シール材を配置する工程は、第2開口部を有するとともに、前記素子領域の外周部近傍を取り囲むように前記第1シール材を配置する工程を含み、
    前記第3シール材を配置する工程は、少なくとも、前記第1の基板および第2の基板の少なくとも一方の周縁部側に位置する前記素子領域の前記第1シール材の第2開口部に対応する領域に前記第3シール材を配置する工程を含む、請求項1〜9のいずれか1項に記載の表示素子の製造方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011257563A (ja) * 2010-06-08 2011-12-22 Toshiba Mobile Display Co Ltd 液晶表示装置の製造方法
JP2011257564A (ja) * 2010-06-08 2011-12-22 Toshiba Mobile Display Co Ltd 液晶表示装置の製造方法
CN103885224A (zh) * 2012-12-19 2014-06-25 株式会社日本显示器 液晶显示装置的制造方法及母板
CN107479241A (zh) * 2017-09-29 2017-12-15 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及其制造方法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011257563A (ja) * 2010-06-08 2011-12-22 Toshiba Mobile Display Co Ltd 液晶表示装置の製造方法
JP2011257564A (ja) * 2010-06-08 2011-12-22 Toshiba Mobile Display Co Ltd 液晶表示装置の製造方法
US8524096B2 (en) 2010-06-08 2013-09-03 Japan Display Central Inc. Method of manufacturing liquid crystal display device
US8551350B2 (en) 2010-06-08 2013-10-08 Japan Display Central Inc. Method of manufacturing liquid crystal display device
CN103885224A (zh) * 2012-12-19 2014-06-25 株式会社日本显示器 液晶显示装置的制造方法及母板
JP2014119675A (ja) * 2012-12-19 2014-06-30 Japan Display Inc 液晶表示装置の製造方法及びマザー基板
CN107479241A (zh) * 2017-09-29 2017-12-15 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及其制造方法
CN107479241B (zh) * 2017-09-29 2020-04-28 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及其制造方法

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