JP2008211225A - 半導体パッケージ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】複数の半導体パッケージに対応するサイズのガラス基板9上の透明接着層8上には、下面に光電変換デバイス領域2を有するシリコン基板1が相互に離間して接着されている。この場合、シリコン基板1の下面周辺部およびその周囲には接続用配線7がシリコン1の接続パッド3に接続されて設けられている。そして、絶縁膜6、再配線11、柱状電極12、封止膜13および半田ボール14を形成した後に、シリコン基板1間において切断し、光電変換デバイス領域2を備えた半導体パッケージを複数個得る。
【選択図】 図14
Description
また、EPROM、CCDおよび他の光ICデバイス用の集積回路ダイであって、金属化されたバイアが貫通する基板を有し、この集積回路ダイは、この基板の第1の表面に取着し、金属化されたバイアと電気的に接続し、接着性ビートをこのダイの周りの基板に塗り、このビートが、ダイの側面、ダイの上側の第1の表面の周辺部、およびボンディングワイヤを覆い、透明な封入材料の層を、ビートで形成されたキャビティ内のダイに堆積させ、この封入材料を硬化し、パッケージの外側表面を形成しているものもある(例えば、特許文献2参照。)。
そこで、この発明は、スルーホール導通部を有せず、薄型化することができる半導体パッケージおよびその製造方法を提供することを目的とする。
また、この発明は、複数の半導体パッケージを一括して製造することができる半導体パッケージの製造方法を提供することを目的とする。
有するとともに該デバイス領域の周囲に設けられ、該デバイス領域に接続される複数の接続パッドを有する半導体基板と、該半導体基板の前記一の面側に設けられた透明性を有する支持基板と、前記透明性を有する支持基板上に設けられた透明接着層と、前記半導体基板の前記一の面に対向する他の面側にのみ設けられた複数の外部電極と、前記複数の接続パッドと前記各外部電極とを電気的に接続する接続手段とを具備し、前記接続手段は、一端部が前記各接続パッドに電気的に接続され、他端部側が前記半導体基板の周縁より外側に延出され、前記デバイス領域に重ならないように設けられた複数の接続用配線と、一端部が前記各接続用配線の他端部に電気的に接続され、他端部側が前記半導体基板の前記他の面側に延出されて前記各外部電極に電気的に接続された再配線と、前記半導体基板の上面を覆う領域と周囲部を覆う領域を有する絶縁膜と、を有し、前記半導体基板の周囲部における前記透明接着層上に形成され、且つ前記接続用配線に対応する部分に開口部を有し、前記再配線は、前記開口部を介して接続されることを特徴とするものである。
請求項2記載の発明は、一の面に複数の光電変換デバイスが形成されたデバイス領域を有するとともに該デバイス領域の周囲に設けられ、該デバイス領域に接続される複数の接続パッドを有する半導体基板と、該半導体基板の前記一の面側に設けられた透明性を有する支持基板と、前記デバイス領域と前記透明性を有する支持基板との間に設けられた封止膜と、前記半導体基板の前記一の面に対向する他の面側にのみ設けられた複数の外部電極と、前記複数の接続パッドと前記各外部電極とを電気的に接続する接続手段とを具備し、前記接続手段は、一端部が前記各接続パッドに電気的に接続され、他端部側が前記半導体基板の周縁より外側に延出され、前記デバイス領域に重ならないように設けられた複数の接続用配線と、一端部が前記各接続用配線の他端部に電気的に接続され、他端部側が前記半導体基板の前記他の面側に延出されて前記各外部電極に電気的に接続された再配線と、前記半導体基板の上面を覆う領域と周囲部を覆う領域を有する絶縁膜と、を有し、前記半導体基板の周囲部における前記透明性を有する支持基板上に形成され、且つ前記接続用配線に対応する部分に開口部を有し、前記再配線は、前記開口部を介して接続されることを特徴とするものである。
請求項3記載の発明は、請求項1または2に記載の発明において、前記接続用配線はめっきにより形成された金属層を含むことを特徴とするものである。
請求項4記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記接続用配線は前記半導体基板の一の面に密着する部分を有することを特徴とするものである。
請求項5記載の発明は、請求項2に記載の発明において、前記接続用配線は前記透明性を有する支持基板に密着して形成されていることを特徴とするものである。
請求項6記載の発明は、請求項1または2に記載の発明において、前記接続パッドと前記接続用配線との間に突起状の接続電極を有することを特徴とするものである。
請求項7記載の発明は、請求項1または2に記載の発明において、前記半導体基板の周囲に延出された前記接続用配線を含む前記半導体基板の他の面と前記再配線との間に絶縁膜が設けられていることを特徴とするものである。
請求項8記載の発明は、請求項1または2に記載の発明において、前記接続手段は、前記透明性を有する支持基板の前記半導体基板との対向面に設けられ、一端部が前記接続パッドに接続され、他端部が前記半導体基板の周囲に延出された前記接続用配線と、該接続用配線の他端部上に設けられた柱状電極とを有し、前記柱状電極に前記再配線が接続されていることを特徴とするものである。
請求項9記載の発明は、請求項8に記載の発明において、前記半導体基板の周囲に延出された前記接続用配線および前記柱状電極を含む前記半導体基板の他の面と前記再配線との間に絶縁膜が設けられていることを特徴とするものである。
請求項10記載の発明は、請求項1または2に記載の発明において、前記再配線の他端部に設けられた接続パッド部上に前記外部電極が設けられ、該外部電極を除いて前記再配線を含む前記半導体基板の他の面側を覆うように絶縁膜が設けられていることを特徴とするものである。
請求項11記載の発明は、請求項1または2に記載の発明において、前記外部電極は柱状であり、該柱状の外部電極上に半田ボールが設けられていることを特徴とするものである。
請求項12記載の発明は、請求項1または2に記載の発明において、前記透明性を有する支持基板はガラス基板であることを特徴とするものである。
図1はこの発明の第1実施形態としての半導体パッケージの断面図を示したものである。この半導体パッケージは、シリコン基板(半導体基板)1を備えている。シリコン基板1の下面中央部にはCCDやフォトダイオード、フォトトランジスタ等の素子を含む光電変換デバイス領域2が設けられている。
図16はこの発明の実施例2としての半導体パッケージの断面図を示したものである。この半導体パッケージの主たる特徴は、シリコン基板1の接続パッド3上に設けられた下地金属層30上に設けられたバンプ電極(接続電極)31をガラス基板9上に設けられた下地金属層7aおよび上層金属層7bからなる接続用配線7の一端部上に接続し、シリコン基板1とガラス基板9との間に透明なエポキシ系樹脂等からなる透明封止膜32を設け、接続用配線7の他端部上に設けられた柱状電極33上に下地金属層11aおよび上層金属層11bからなる再配線11を接続し、シリコン基板1の周囲における接続用配線7および柱状電極33をエポキシ系樹脂等からなる封止膜(絶縁膜)34で覆ったことである。
上記各実施形態では、再配線11の接続パッド部上に設けられた柱状電極12上に半田ボール14を設けているが、これに限定されるものではない。例えば、図24に示すこの発明の他の実施形態のように、再配線11を含む絶縁膜6の上面全体に、再配線11の接続パッド部に対応する部分に開口部41を有する絶縁膜42をパターン形成し、開口部42内およびその上に半田ボール14を再配線11の接続パッド部に接続させて形成するようにしてもよい。
2 光電変換デバイス領域
3 接続パッド
4 絶縁膜
6 絶縁膜
7 接続用配線
8 透明接着層
9 ガラス基板
11 再配線
12 柱状電極
13 封止膜
14 半田ボール
31 バンプ電極
32 封止膜
33 柱状電極
34 封止膜
Claims (12)
- 一の面に複数の光電変換デバイスが形成されたデバイス領域を有するとともに該デバイス領域の周囲に設けられ、該デバイス領域に接続される複数の接続パッドを有する半導体基板と、該半導体基板の前記一の面側に設けられた透明性を有する支持基板と、前記透明性を有する支持基板上に設けられた透明接着層と、前記半導体基板の前記一の面に対向する他の面側にのみ設けられた複数の外部電極と、前記複数の接続パッドと前記各外部電極とを電気的に接続する接続手段とを具備し、前記接続手段は、一端部が前記各接続パッドに電気的に接続され、他端部側が前記半導体基板の周縁より外側に延出され、前記デバイス領域に重ならないように設けられた複数の接続用配線と、一端部が前記各接続用配線の他端部に電気的に接続され、他端部側が前記半導体基板の前記他の面側に延出されて前記各外部電極に電気的に接続された再配線と、前記半導体基板の上面を覆う領域と周囲部を覆う領域を有する絶縁膜と、を有し、前記半導体基板の周囲部における前記透明接着層上に形成され、且つ前記接続用配線に対応する部分に開口部を有し、前記再配線は、前記開口部を介して接続されることを特徴とする半導体パッケージ。
- 一の面に複数の光電変換デバイスが形成されたデバイス領域を有するとともに該デバイス領域の周囲に設けられ、該デバイス領域に接続される複数の接続パッドを有する半導体基板と、該半導体基板の前記一の面側に設けられた透明性を有する支持基板と、前記デバイス領域と前記透明性を有する支持基板との間に設けられた封止膜と、前記半導体基板の前記一の面に対向する他の面側にのみ設けられた複数の外部電極と、前記複数の接続パッドと前記各外部電極とを電気的に接続する接続手段とを具備し、前記接続手段は、一端部が前記各接続パッドに電気的に接続され、他端部側が前記半導体基板の周縁より外側に延出され、前記デバイス領域に重ならないように設けられた複数の接続用配線と、一端部が前記各接続用配線の他端部に電気的に接続され、他端部側が前記半導体基板の前記他の面側に延出されて前記各外部電極に電気的に接続された再配線と、前記半導体基板の上面を覆う領域と周囲部を覆う領域を有する絶縁膜と、を有し、前記半導体基板の周囲部における前記透明性を有する支持基板上に形成され、且つ前記接続用配線に対応する部分に開口部を有し、前記再配線は、前記開口部を介して接続されることを特徴とする半導体パッケージ。
- 請求項1または2に記載の発明において、前記接続用配線はめっきにより形成された金属層を含むことを特徴とする半導体パッケージ。
- 請求項1に記載の発明において、前記接続用配線は前記半導体基板の一の面に密着する部分を有することを特徴とする半導体パッケージ。
- 請求項2に記載の発明において、前記接続用配線は前記透明性を有する支持基板に密着して形成されていることを特徴とする半導体パッケージ。
- 請求項1または2に記載の発明において、前記接続パッドと前記接続用配線との間に突起状の接続電極を有することを特徴とする半導体パッケージ。
- 請求項1または2に記載の発明において、前記半導体基板の周囲に延出された前記接続用配線を含む前記半導体基板の他の面と前記再配線との間に絶縁膜が設けられていることを特徴とする半導体パッケージ。
- 請求項1または2に記載の発明において、前記接続手段は、前記透明性を有する支持基板の前記半導体基板との対向面に設けられ、一端部が前記接続パッドに接続され、他端部が前記半導体基板の周囲に延出された前記接続用配線と、該接続用配線の他端部上に設けられた柱状電極とを有し、前記柱状電極に前記再配線が接続されていることを特徴とする半導体パッケージ。
- 請求項8に記載の発明において、前記半導体基板の周囲に延出された前記接続用配線および前記柱状電極を含む前記半導体基板の他の面と前記再配線との間に絶縁膜が設けられていることを特徴とする半導体パッケージ。
- 請求項1または2に記載の発明において、前記再配線の他端部に設けられた接続パッド部上に前記外部電極が設けられ、該外部電極を除いて前記再配線を含む前記半導体基板の他の面側を覆うように絶縁膜が設けられていることを特徴とする半導体パッケージ。
- 請求項1または2に記載の発明において、前記外部電極は柱状であり、該柱状の外部電極上に半田ボールが設けられていることを特徴とする半導体パッケージ。
- 請求項1または2に記載の発明において、前記透明性を有する支持基板はガラス基板であることを特徴とする半導体パッケージ。
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