JP2008198725A - 波長可変光源 - Google Patents

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Abstract

【課題】簡易な構成で精度の高い可変波長光を出力することができる波長可変光源を提供すること。
【解決手段】利得素子12と波長可変反射器18とを有し、低反射ミラー13とHR膜18とによって形成されたレーザ共振器20内にエタロン15とビームスプリッタ16とを備えた波長可変光源1であって、レーザ共振器20内に設けられ共振波長の位相を変化させる位相調整素子17と、ビームスプリッタ16によってモニタされた入射光の値PD1をもとに位相調整素子17を調整して共振波長の位相を調整するとともに、入射光の値PD1に対する反射光の値PD2の比である値PD2/PD1をもとに波長可変反射器18を調整して共振波長を変化させて所望の共振波長にロックする波長ロック制御部C1と、を備える。
【選択図】 図1

Description

この発明は、可変共振波長の波長ロックが可能な波長可変光源に関するものである。
従来から、可変波長のレーザ光を出力させる波長可変光源があるが、1つの利得素子のみを用い、該利得素子の外部に可変波長ロック機能を持たせて所望の共振波長のレーザ光を出力させる波長可変光源が注目されている(特許文献1,2参照)。特許文献1では、波長可変ミラーを用いた波長選択と利得素子に対する電流制御による位相調整とを行って所望の共振波長にロックするものが記載されている。また、特許文献2には、共振器内にエタロンなどの波長選択素子を設けずに所望の共振器波長にロックするものが記載されている。
WO 2005/041372明細書 米国特許2002/0172239明細書 特開2004−191729号公報
しかしながら、上述した従来の波長可変光源では、利得素子のパワー制御と共振波長の位相調整とをともに電流制御で行っていたため、パワー制御と位相調整とを分離して行うことができず、精度の高い波長ロック制御を行うことができなかったという問題点があった。なお、波長可変光源では、絶対波長を選択するエタロンなどの波長選択素子を用いて選択する波長精度を高める必要がある。
この発明は、上記に鑑みてなされたものであって、簡易な構成で精度の高い可変波長光を出力することができる波長可変光源を提供することを目的とする。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、この発明にかかる波長可変光源は、共振器出力側端面を形成した利得素子と、共振器反射側端面を形成し共振波長を変化させて所望の共振波長を特定する波長可変反射器とを有し、前記共振器出力側端面と前記共振器反射側端面とによって形成された共振器内に前記共振波長を選択する波長選択素子と、前記利得素子側からの入射光および前記波長可変反射器側からの反射光をモニタするビームスプリッタとを備えた波長可変光源であって、前記共振器内に設けられ前記共振波長の位相を変化させる位相調整素子と、前記ビームスプリッタによってモニタされた前記入射光の値をもとに前記位相調整素子を調整して前記共振波長の位相を調整するとともに、前記入射光に対する前記反射光の比の値をもとに前記波長可変反射器を調整して前記共振波長を変化させて所望の共振波長にロックする波長ロック制御部と、を備えたことを特徴とする。
また、この発明にかかる波長可変光源は、上記の発明において、前記利得素子の光路長と、前記利得素子と前記波長選択素子との間の光路長と、前記波長選択素子と前記波長可変反射器との間の光路長とを加算した総光路長が前記波長選択素子の光路長のほぼ整数倍となるように形成するとともに、前記位相調整素子の調整値を前記共振波長に対応する所定値に設定し、前記波長ロック制御部は、前記ビームスプリッタによってモニタされた前記入射光に対する前記反射光の比の値をもとに前記波長可変反射器のみを調整して前記共振波長を変化させて所望の共振波長にロックすることを特徴とする。
また、この発明にかかる波長可変光源は、上記の発明において、前記位相調整素子は、前記波長可変反射器と一体形成されたことを特徴とする。
また、この発明にかかる波長可変光源は、上記の発明において、前記位相調整素子および前記波長可変反射器は、光導波路構造で形成したことを特徴とする。
また、この発明にかかる波長可変光源は、上記の発明において、前記波長選択素子および前記波長可変反射器は、エタロンであり、前記位相調整素子は液晶を前後の透明電極を持つ光学ガラス板内に充填した光位相シフターで、前記波長可変反射器は、エタロンのキャビティ内に液晶を充填し、前記波長ロック制御部は、該液晶への印加交流電圧を変化させることによって該液晶の実質的屈折率を変化させることを特徴とする。
また、この発明にかかる波長可変光源は、上記の発明において、前記波長ロック制御部は、前記位相調整素子による位相調整と前記波長可変反射器による波長調整とを繰り返すことによって前記所望の共振波長にロックすることを特徴とする。
この発明にかかる波長可変光源は、共振器内に共振波長の位相を変化させる位相調整素子を設け、波長ロック制御部が、ビームスプリッタによってモニタされた入射光の値をもとに前記位相調整素子を調整して前記共振波長の位相を調整するとともに、前記入射光に対する反射光の比の値をもとに波長可変反射器を調整して前記共振波長を変化させて所望の共振波長にロックするようにしているので、所望の共振波長を得るための位相調整と波長調整とによる波長ロック制御と、利得素子に対するパワー制御とを分離して行うことができ、簡易な構成で精度の高い可変波長光を出力することができる。
以下、添付図面を参照して、この発明に係る波長可変光源の好適な実施の形態について説明する。なお、実施の形態により、この発明が限定されるものではない。また、図面の記載において、同一部分又は相当する部分には同一の符号を付している。
(実施の形態1)
図1は、この発明の実施の形態1である波長可変光源の概要構成を示す模式図である。図1において、この波長可変光源1は、波長可変光源1を外装するパッケージ10内の熱電クーラー(TEC)11上に、光を発生するとともに発生した光を増幅する利得素子12を有し、利得素子12の後端側に、順次、集光レンズM3、エタロン15、ビームスプリッタ16、位相調整素子17、および波長可変反射器18が直線状に配置されている。なお、利息素子12の後端側から出射される光が斜め出力である場合、利得素子12の後端側の配置は屈曲したものとなる。
利得素子12は、前端(出力)側に低反射ミラー13が設けられるとともに、後端(反射)側にAR膜14が形成されている。また、波長可変反射器18の後端には、HR膜19が設けられている。集光レンズM3は、利得素子12から出力される光を、波長可変反射器18側にコリメート光として出力する。エタロン15は、ファブリペロエタロンであり、周期的な所望の共振波長のみを狭い波長域で選択的に透過させる波長フィルタである。ビームスプリッタ16は、利得素子12側から出力された光の一部を受光素子31側に反射するとともに、波長可変反射器18側から反射された光の一部を受光素子32側に反射する。位相調整素子17と波長可変反射器18とは、一体形成されたバルク型のフィルタであり、それぞれ透明電極間に液晶が充填され、この液晶に印加する交流電圧を変化させることによって、各液晶の屈折率を変化させ、これによって、位相調整素子17は、光路長を変化させて位相調整を行うとともに、波長可変反射器18は、透過波長を変化させる波長調整を行う(特許文献3参照)。この波長可変反射器18による透過波長特性は、上述したエタロン15の選択波長幅に比べて広い分布をもつ。なお、位相調整素子17と波長可変反射器18とは、共通の透明電極を用いることができる。この共通の透明電極は、たとえば接地側として用いればよい。
利得素子12の低反射ミラー13と波長可変反射器18のHR膜19との間は、レーザ共振器20を形成し、このレーザ共振器20で発振した所望の共振波長のレーザ光は、低反射ミラー13から出力され、出力されたレーザ光をコリメート光に変換する集光レンズM2、アイソレータ21、アイソレータ21から出力されたレーザ光を偏波保持ファイバ22の端部に集光させる集光レンズM1、偏波保持ファイバ22を介して外部に出力される。なお、集光レンズM2とアイソレータ21とは、TEC11上に設けられ、レンズM1と偏波保持ファイバ22の端部は、パッケージ10の外部に設けられた保持部23内に設けられる。もちろんアイソレータ21はパッケージ外の集光レンズM1の前、あるいは偏波保持ファイバ22の前に配置してもよい。
上述したように、ビームスプリッタ16の近傍には、利得素子12側から入射した光を検出する受光素子31と、波長可変反射器18側から反射された光を検出する受光素子32とが設けられる。パッケージ10の外部に設けられた波長ロック制御部C1は、受光素子31,32からそれぞれ入力される受光出力PD1,PD2をもとに、交流電圧源33の印加交流電圧を制御して位相調整素子17による位相調整を行うとともに、交流電圧源34の印加交流電圧を制御して波長可変反射器18による波長調整を行う。なお、位相調整素子17および波長可変反射器18に入力される各初期印加交流電圧は、テーブル35内に保持された共振波長と印加交流電圧との関係をもとに決定される。
一方、利得素子12には、電流源36から電流が印加され、出力制御部C2が電流制御を行うことによって、この波長可変光源1から出力されるレーザ光のパワー制御がなされる。
ここで、図2に示したフローチャートを参照して、波長ロック制御部C1による共振波長のロック処理について説明する。図2において、まず、波長ロック制御部C1は、テーブル35内に保持された、位相調整素子17および波長可変反射器18に対するそれぞれの波長と印加交流電圧との関係をもとに、ロックすべき波長の初期印加交流電圧をそれぞれ位相調整素子17および波長可変反射器18に印加する(ステップS101)。
その後、受光素子31の出力PD1をモニタし、この出力PD1が最大となるように位相調整素子17に対する印加交流電圧を調整する位相調整処理を行う(ステップS102)。すなわち、共振の位相条件を調整する。その後、出力PD1および受光素子32の出力PD2をモニタし、その除算値PD2/PD1が最大となるように波長可変反射器18に対する印加交流電圧を調整する波長調整を行う(ステップS103)。すなわち、共振の振幅条件を調整する。ここでは、波長可変反射器18からの反射光が最大となるように調整する。
その後、ステップS102に移行し、ステップS102およびステップS103の処理を繰り返し行うことによって、所望の共振波長にロックする波長ロック制御を連続して行う。
ここで、図3〜図7を参照して、具体的な波長ロック制御について説明する。なお、図3〜図7では、周波数で表示しているが、波長は周波数と一対一に対応しており、波長で表示したものと同じ意味である。図3は、図2に示したステップS101による初期設定の一例を示す図である。図3では、まず、位相調整素子17の屈折率を1.5002に初期設定するとともに、波長可変反射器18の屈折率を1.52389に初期設定している。この粗調整によって、周波数1.93575E+14Hzで反射率が0.9375程度の利得を得ている。
その後、ステップS102に対応して、図4に示すように、出力PD1をモニタして、この出力PD1が最大となるように、位相調整素子17の屈折率を調整する。ここでは、位相調整素子17の屈折率を1.5002から1.4985に変更している。これによって、共振波長の位相条件がさらに適合し、反射率が0.9625程度に上がった利得を得ている。
さらに、ステップS103に対応して、図5に示すように、出力PD1と出力PD2とをモニタし、除算値PD2/PD1が最大となるように、波長可変反射器18の屈折率を調整する。ここでは、波長可変反射器18の屈折率を1.52389から1.52394に変更している。換言すれば、図5の右上図の波長調整曲線のピークとエタロン特性のピークとが合致するような調整を行う。これによって、共振波長の振幅条件がさらに適合し、反射率が0.9875程度に上昇した利得が得られている。
図6は、図5の状態に対してさらにステップS102の処理を行ったものである。具体的には、出力PD1のモニタ結果によって、位相調整素子17の屈折率を1.4985から1.49967に変更している。これによって、共振波長の位相条件がさらに適合し、反射率が0.988程度以上に保持された利得が得られている。
さらに、図7は、図6の状態に対してステップS103の処理を行ったものである。具体的には、出力PD1と出力PD2とのモニタ結果によって、波長可変反射器18の屈折率を1.52394から1.52395に変更している。これによって、共振波長の振幅条件がさらに適合し、反射率が0.99程度に上昇した利得が得られている。この状態によって、共振波長がほぼロックした状態となる。
この実施の形態1では、利得素子12と波長可変反射器18とによって形成されるレーザ共振器20内に位相調整素子17を挿入し、波長可変反射器18による振幅条件の調整のみならず、位相調整素子17による位相条件の調整を、利得素子12に対するパワー制御とは別個に行うようにしているので、パワー制御から独立した精度の高い波長ロック制御を行うことができる。
(実施の形態2)
つぎに、この発明の実施の形態2について説明する。この実施の形態2では、位相調整素子17による位相調整を簡易に行えるように、レーザ共振器20内の配置を制限している。その他の構成は、実施の形態1と同じである。
図8は、この発明の実施の形態2である波長可変光源のレーザ共振器内の配置状態を示す図である。図8において、この実施の形態2の波長可変光源では、利得素子12と、利得素子12とエタロン15との間の空間SP1と、エタロン15と、エタロン15と位相調整素子17との間の空間SP2との各光路長の加算値が、エタロン15の光路長の整数倍になるように配置される。
ここで、空間SP2の物理長を調整して加算値がエタロン15の光路長の整数倍にすることを考える。図8に示すように、エタロン15の物理長は、2mmであり屈折率が1.5であるため、光路長は3mmである。一方、利得素子の物理長は1mmであり屈折率が3.1であるため、光路長は3.1mmとなる。また、空間SP1は、物理長が4mmであり屈折率が1であるため、光路長は4mmとなる。したがって、利得素子12と空間SP1とエタロン15とを加算した光路長は、10.1mmとなる。ここで、エタロン15の光路長は、3mmであるので、その整数倍は、たとえば12mm,15mm,…となる。図8では、総光路長が15mmになるように、空間SP2の光路長=物理長を4.9mmに設定している。なお、上述した説明では、利得素子12,空間SP1,エタロン15,空間SP2の総光路長がエタロン15の光路長の整数倍に設定するようにしたが、総光路長からエタロン15の光路長を除いた値を総光路長としても同じである。
このような光路長の設定を行っておくと、反射鏡によって形成される共振器内の定在波はその個数のみが変化し、著しい形状変化が抑制され、位相調整素子17に対する位相調整が容易になる。すなわち、位相調整素子17に対する初期位相調整を行っておくことによって波長変化させるときに、大きな位相調整変化を行わなくても位相条件が合致した状態を得ることができる。
図9は、この実施の形態2による波長ロック制御部による波長ロック制御処理手順を示すフローチャートである。図9に示すように、まず、波長ロック制御部C1は、ステップS101と同様に、テーブル35内に保持された、位相調整素子17および波長可変反射器18に対するそれぞれの波長と印加交流電圧との関係をもとに、ロックすべき波長の初期印加交流電圧をそれぞれ位相調整素子17および波長可変反射器18に印加する(ステップS201)。
その後、受光素子31の出力PD1および受光素子32の出力PD2をモニタし、その除算値PD2/PD1が最大となるように波長可変反射器18に対する印加交流電圧を調整する波長調整を行い(ステップS202)、このステップS202の波長調整処理を繰り返す。この場合、出力PD1が最大となるように位相調整素子17に対する印加交流電圧を調整する位相調整処理は行わない。ほぼステップS201による位相調整処理によって、位相条件が合致した状態になっているからである。
ここで、図10〜図12を参照して、この実施の形態2による波長ロック制御の一例を説明する。図10において、位相調整素子17による位相調整は、図7に示した屈折率1.4967で位相条件がロック状態となっている。したがって、この値となるように、初期位相調整によって位相調整素子17の屈折率を1.4967に設定しておく。
その後、出力PD1および出力PD2をモニタし、除算値PD2/PD1が最大となるように波長可変反射器18の波長調整を繰り返し行い、最終的に屈折率1.52597に設定され、周波数1.93324985E+14Hzで、反射率が約0.98となる利得を得て波長ロック状態にすることができる。
また、図11に示すように、図10の波長ロック状態から、周波数1.93574988E+14Hzに波長ロックする場合、位相調整素子17に対する位相調整は、屈折率1.4967に設定したまま、波長可変反射器18の波長調整を繰り返し行い、最終的に屈折率1.52395に設定され、反射率が約0.99となる利得を得て、波長ロック状態となる。
同様に、図12に示すように、図11の波長ロック状態から、周波数1.93775E+14Hzに波長ロックする場合、位相調整素子17に対する位相調整は、屈折率1.4967に設定したまま、波長可変反射器18の波長調整を繰り返し行い、最終的に屈折率1.52238に設定され、反射率が約0.99となる利得を得て、波長ロック状態となる。
この実施の形態2では、予めレーザ共振器20内の位相条件が位相調整素子17のみの調整で変化しないように空間SP1,SP2を配置設定しておくことにより、位相調整素子17に対する位相調整は、初期位相調整のみでよく、波長可変反射器18による波長調整のみで、所望の共振波長にロックすることができる。
図13は、周波数(波長)に対する波長ロック制御時の屈折率の変化を示したものである。なお、各曲線L,L1〜L4中のプロットは、波長ロック対象のチャネルを示す。したがって、図13では、10チャネルの波長に対するロックを示している。
曲線L1は、この実施の形態2で示した光路長に空間SP1,SP2が設定された場合、すなわち光路長ずれが0である場合の位相調整素子17の屈折率変化を示している。この曲線L1は、上述した屈折率1.4967で一定となっている。なお、曲線Lは、波長可変反射器18の周波数(波長)変化に対する屈折率変化を示しており、周波数(波長)変化に対して小さな屈折率変化が生じている。
ここで、曲線L2〜L4は、それぞれ光路長ずれが2%,5%,10%の場合における周波数変化に対する屈折率変化を示している。光路長ずれがある場合、位相調整素子17の周波数変化に対する屈折率変化は、大きい。実際の可変波長範囲は、Cバンドで50GHz間隔で95チャネル設定されるため、周波数変化に対する屈折率変化が大きいと、波長ロック制御が複雑になる。これに対し、実施の形態2に示したように、予めレーザ共振器20内のほとんどの領域の位相条件を合致させておき、位相調整素子17のみによる調整とすることによって、位相調整素子17に対する位相調整が不要となり、波長可変反射器18のみに対する波長ロック制御によって簡易に、精度の高い波長ロックを行うことができる。
また、光路長ずれが小さい場合、たとえば、2%程度の場合、周波数変化に対する屈折率変化が小さいため、たとえばCバンド全体で、リニアな波長ロック制御を行うことができ、位相調整素子17に対する位相調整を含めた波長ロック制御が容易になる。
(変形例1)
つぎに、上述した実施の形態1,2に対する変形例について説明する。図14は、この発明の実施の形態1,2の変形例1の概要構成を示す模式図である。この変形例1では、位相調整素子27と波長可変反射器18とを物理的に分離した構成としている。この変形例1によっても、実施の形態1,2と同様の作用効果を得ることができる。
(変形例2)
図15は、この発明の実施の形態1,2の変形例2の概要構成を示す模式図である。この変形例2では、位相調整素子37をエタロン15とビームスプリッタ16との間に設けている。その他の構成は、実施の形態1と同じである。この変形例2によっても、実施の形態1,2と同様の作用効果を得ることができる。
(変形例3)
図16は、この発明の実施の形態1,2の変形例3の概要構成を示す模式図である。この変形例3では、位相調整素子47を集光レンズM3とエタロン15との間に設けている。その他の構成は、実施の形態1と同じである。この変形例3によっても、実施の形態1,2と同様の作用効果を得ることができる。すなわち、上述した変形例1〜3では、レーザ共振器20内であれば、位相調整素子17の配置位置は任意であることを示している。
(変形例4)
図17は、この発明の実施の形態1,2の変形例4の概要構成を示す模式図である。この変形例4では、位相調整素子17に対応する位相調整素子57と波長可変反射器18に対する波長可変反射器58とを導波路型素子50として一体形成しているとともに、この導波路型素子50にレーザ光を入射させるためにビームスプリッタ16との間に、集光レンズM4を設けている。その他の構成は実施の形態1,2と同じである。この変形例4によっても、実施の形態1,2と同様の作用効果を得ることができる。
なお、この変形例4では、導波路素子50とするため、液晶による屈折率変化よりも、たとえば、熱光学効果を用いた波長フィルタを応用することができる。すなわち、熱光学効果をもつ微小リング共振器に、マイクロヒータによって温度変化を与えて屈折率を変化させることによって波長のフィルタリングを行うようにすればよい。
また、上述した位相調整素子および波長可変反射器は、上述したものに限らず、位相調整および波長フィルタリングを行うことができる素子であればよい。たとえば、微小グレーティングと液晶などを組み合わせたものであってもよい。
この発明の実施の形態1にかかる波長可変光源の概要構成を示す模式図である。 図1に示した波長可変光源の波長ロック制御部による波長ロック制御手順を示すフローチャートである。 波長ロック制御の初期設定状態の一例を示す図である。 波長ロック制御における位相調整制御の一例を示す図である。 波長ロック制御における波長調整制御の一例を示す図である。 波長ロック制御における再度の位相調整制御の一例を示す図である。 波長ロック制御における再度の波長調整制御の一例を示す図である。 この発明の実施の形態2にかかる波長可変光源のレーザ共振器内配置を示す模式図である。 図8に示した波長可変光源の波長ロック制御部による波長ロック制御手順を示すフローチャートである。 この発明の実施の形態2による波長ロック制御の一例を示す図である。 この発明の実施の形態2による波長ロック制御の一例を示す図である。 この発明の実施の形態2による波長ロック制御の一例を示す図である。 共振波長(周波数)変化に対する波長可変反射器の屈折率変化および光路長ずれの値をパラメータとした位相調整素子の屈折率変化を示す図である。 この発明の実施の形態1,2の変形例1の概要構成を示す模式図である。 この発明の実施の形態1,2の変形例2の概要構成を示す模式図である。 この発明の実施の形態1,2の変形例3の概要構成を示す模式図である。 この発明の実施の形態1,2の変形例4の概要構成を示す模式図である。
符号の説明
1〜5 波長可変光源
10 パッケージ
11 TEC
12 利得素子
13 低反射ミラー
14 AR膜
15 エタロン
16 ビームスプリッタ
17,27,37,47,57 位相調整素子
18 波長可変反射器
19 HR膜
10 レーザ共振器
21 アイソレータ
22 偏波保持ファイバ
23 保持部
31,32 受光素子
33,34 電圧源
35 テーブル
36 電流源
50 導波路型素子
C1 波長ロック制御部
C2 出力制御部
M1〜M4 集光レンズ

Claims (6)

  1. 共振器出力側端面を形成した利得素子と、共振器反射側端面を形成し共振波長を変化させて所望の共振波長を特定する波長可変反射器とを有し、前記共振器出力側端面と前記共振器反射側端面とによって形成された共振器内に前記共振波長を選択する波長選択素子と、前記利得素子側からの入射光および前記波長可変反射器側からの反射光をモニタするビームスプリッタとを備えた波長可変光源であって、
    前記共振器内に設けられ前記共振波長の位相を変化させる位相調整素子と、
    前記ビームスプリッタによってモニタされた前記入射光の値をもとに前記位相調整素子を調整して前記共振波長の位相を調整するとともに、前記入射光に対する前記反射光の比の値をもとに前記波長可変反射器を調整して前記共振波長を変化させて所望の共振波長にロックする波長ロック制御部と、
    を備えたことを特徴とする波長可変光源。
  2. 前記利得素子の光路長と、前記利得素子と前記波長選択素子との間の光路長と、前記波長選択素子と前記波長可変反射器との間の光路長とを加算した総光路長が前記波長選択素子の光路長のほぼ整数倍となるように形成するとともに、前記位相調整素子の調整値を前記共振波長に対応する所定値に設定し、
    前記波長ロック制御部は、前記ビームスプリッタによってモニタされた前記入射光に対する前記反射光の比の値をもとに前記波長可変反射器のみを調整して前記共振波長を変化させて所望の共振波長にロックすることを特徴とする請求項1に記載の波長可変光源。
  3. 前記位相調整素子は、前記波長可変反射器と一体形成されたことを特徴とする請求項1または2に記載の波長可変光源。
  4. 前記位相調整素子および前記波長可変反射器は、光導波路構造で形成したことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載の波長可変光源。
  5. 前記波長選択素子および前記波長可変反射器は、エタロンであり、前記位相調整素子は液晶を前後の透明電極を持つ光学ガラス板内に充填した光位相シフターで、前記波長可変反射器は、エタロンのキャビティ内に液晶を充填し、前記波長ロック制御部は、該液晶への印加交流電圧を変化させることによって該液晶の実質的屈折率を変化させることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の波長可変光源。
  6. 前記波長ロック制御部は、前記位相調整素子による位相調整と前記波長可変反射器による波長調整とを繰り返すことによって前記所望の共振波長にロックすることを特徴とする請求項1に記載の波長可変光源。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009075154A1 (ja) * 2007-12-13 2009-06-18 Nec Corporation 外部共振器型波長可変レーザ装置
KR101124171B1 (ko) * 2010-03-05 2012-03-27 주식회사 포벨 파장 가변 레이저 장치
KR101429208B1 (ko) 2011-11-10 2014-08-12 주식회사 포벨 광소자
JP2016528733A (ja) * 2013-07-30 2016-09-15 ラッシュミア・テクノロジー・リミテッド 光学ソース

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9100591B2 (en) * 2011-07-11 2015-08-04 Dolby Laboratories Licensing Corporation Systems and methods of managing metameric effects in narrowband primary display systems

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6853654B2 (en) 1999-07-27 2005-02-08 Intel Corporation Tunable external cavity laser
JP4513258B2 (ja) 2002-12-12 2010-07-28 旭硝子株式会社 波長可変フィルタ
CN1839522A (zh) 2003-09-30 2006-09-27 皮雷利&C.有限公司 外腔可调谐激光器中的相位控制
JP4713073B2 (ja) * 2003-10-30 2011-06-29 富士通株式会社 波長可変レーザ及びその制御方法
JP5183013B2 (ja) * 2005-01-27 2013-04-17 住友電工デバイス・イノベーション株式会社 レーザモジュールおよび外部共振型レーザの波長制御方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009075154A1 (ja) * 2007-12-13 2009-06-18 Nec Corporation 外部共振器型波長可変レーザ装置
KR101124171B1 (ko) * 2010-03-05 2012-03-27 주식회사 포벨 파장 가변 레이저 장치
KR101429208B1 (ko) 2011-11-10 2014-08-12 주식회사 포벨 광소자
JP2016528733A (ja) * 2013-07-30 2016-09-15 ラッシュミア・テクノロジー・リミテッド 光学ソース

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