JP2008198343A - 高速の不揮発性メモリデータ伝送能力を有する集積回路装置及び集積回路 - Google Patents

高速の不揮発性メモリデータ伝送能力を有する集積回路装置及び集積回路 Download PDF

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Abstract

【課題】ランダムアクセスメモリ装置と不揮発性メモリ装置との間のデータの伝送速度を向上させる集積回路装置を提供する。
【解決手段】本発明による集積回路装置は、RAMセルの複数の列及び前記RAMセルの複数の列に電気的に接続された複数の第1ビットラインを含むRAMアレイと、不揮発性メモリセルの複数の列及び前記不揮発性メモリセルの複数の列に電気的に接続された複数の第2ビットラインを含む不揮発性メモリアレイと、前記複数の第1及び第2ビットラインに電気的に接続されたデータ伝送回路とを備え、前記複数の第2ビットラインから前記複数の第1ビットラインに不揮発性メモリデータを伝送するとともに、前記複数の第1ビットラインから前記複数の第2ビットラインにRAMデータを伝送する場合、前記データ伝送回路は、前記複数の第1ビットラインと前記複数の第2ビットラインとの間に両方向性の直接データ伝送能力を備える。
【選択図】図2A

Description

本発明は集積回路装置に係わり、さらに詳しくは集積回路メモリ装置とシステム及びそれの動作方法に関する。
不揮発性メモリ装置及びランダムアクセスメモリ(以下、RAMと称する)を利用する集積回路メモリシステムは、メモリシステムのインタフェースに受信された読み出し信号に応じて行われるデータダンプの動作を支援する。従来のデータダンプの動作に於いて、不揮発性メモリ装置に格納されたページデータは、バスを介してRAMに伝送された後、RAMからメモリシステムのインタフェース(例えば、ホストインタフェース)に伝送される。データダンプの動作は、共通の半導体基板に集積された不揮発性メモリ装置とRAMとの間のデータ伝送を行うと共に、その動作を完了するために多くのクロックサイクルが要求される。
図1は、互いに繋がれた複数のメモリ装置を含む従来のメモリシステム100を示すブロック図である。図1を参照すると、メモリシステム100は、ホストインタフェース141と、ROM144と、RAM145と、不揮発性メモリ装置120とを備える。不揮発性メモリ装置120、例えばフラッシュメモリ装置は、インタフェースユニットF1によってシステムバス146と連結される。プロセスユニット(プロセッサ)143は、メモリシステム100の構成要素の動作を制御する。プロセスユニット143は、システムバス146によってメモリシステム100の他の構成要素と連結される。
図1の点線(1)及び(2)のように、ホストプロセッサ(図示せず)によって発生された不揮発性メモリの要求がホストインタフェース141に受信されると、不揮発性メモリデータ(例えば、ページデータ)を不揮発性メモリ装置120からシステムバス146を介してRAM145に伝送する第1データの伝送動作が行われる。この後に、データをホストインタフェース141に伝送するために、プロセスユニット143の制御に応じて第2データの伝送動作が行われる。又は点線(3)のように、プロセスユニット143によって不揮発性メモリデータの要求が発生された場合、第2データの伝送動作はデータをRAM145からプロセスユニット143に伝送する動作を含む。
前記説明から分かるように、図1に図示されたデータ伝送経路即ち、(1)及び(2)、又は(1)及び(3)に関連されたタイミングの遅延は、不揮発性メモリ装置120のページの容量が大きくなるほど増加する。タイミングの遅延の増加は、読み出し信号がホストインタフェース141に受信された時間とシステムバス146が読み出されたデータをホストインタフェース141に伝送するために使用可能な時間との間に極めて長いレイテンシを起こす恐れがある。
本発明の目的は、ランダムアクセスメモリ装置と不揮発性メモリ装置との間のデータの伝送速度を向上させる集積回路装置を提供することである。
本発明による集積回路装置は、RAMセルの複数の列及び前記RAMセルの複数の列に電気的に接続された複数の第1ビットラインを含むRAMアレイと、不揮発性メモリセルの複数の列及び前記不揮発性メモリセルの複数の列に電気的に接続された複数の第2ビットラインを含む不揮発性メモリアレイと、前記複数の第1及び第2ビットラインに電気的に接続されたデータ伝送回路とを含み、前記複数の第2ビットラインから前記複数の第1ビットラインに不揮発性メモリデータを伝送するとともに、前記複数の第1ビットラインから前記複数の第2ビットラインにRAMデータを伝送する場合、前記データ伝送回路は、前記複数の第1ビットラインと前記複数の第2ビットラインとの間に両方向性の直接データ伝送能力を提供することを特徴とする。
実施形態に於いて、本発明による集積回路装置は、前記複数の第2ビットラインに電気的に接続されたページバッファをさらに備える。前記データ伝送回路が前記複数の第2ビットラインから前記複数の第1ビットラインへの不揮発性メモリデータ伝送を支援可能である場合、前記ページバッファは、前記不揮発性メモリアレイから読み出されたデータを利用して前記複数の第2ビットラインを駆動する。前記データ伝送回路は、前記複数の第1ビットラインの中で応じるビットラインと前記複数の第2ビットラインの中で応じるビットラインとの間に電気的に直列接続された複数のトランスミッションゲートを備える。
実施形態に於いて、前記データ伝送回路は、前記複数の第1ビットラインの中で応じるビットラインと前記複数の第2ビットラインの中で応じるビットラインとの間に電気的に直列接続された複数のトランスミッションゲートを備える。
実施形態に於いて、本発明による集積回路装置は、前記複数の第1ビットラインに電気的に接続されたRAMページバッファをさらに備える。前記データ伝送回路が前記複数の第2ビットラインから前記複数の第1ビットラインへの不揮発性メモリデータ伝送を支援可能である場合、前記RAMページバッファは、前記不揮発性メモリアレイからデータを読み出す。
実施形態に於いて、本発明による集積回路装置は、前記RAMアレイと関連された複数の第1相補性ビットラインと、前記複数の第1ビットラインの中で応じるビットライン及び前記複数の第1相補性ビットラインの中で応じるビットラインに夫々電気的に接続された入力及び出力を有する複数のトライステートインバータとをさらに備える。前記集積回路装置は、前記複数の第1ビットライン及び前記複数の第1相補性ビットラインに電気的に接続された感知増幅アレイをさらに備える。
本発明による集積回路は、RAMセルの複数の列と、前記RAMセルの複数の列に電気的に接続された複数の第1相補性ビットライン双と、前記複数の第1相補性ビットライン双の中で応じる双の真ビットライン及び相補性ビットラインに夫々電気的に接続された入力及び出力を有する複数のトライステートインバータを含むRAMと、不揮発性メモリセルの複数の列及び前記不揮発性メモリセルの複数の列に電気的に接続された複数の第2ビットラインを含む不揮発性メモリ装置と、前記複数の第1相補性ビットライン双の中で真ビットライン又は相補性ビットライン及び前記複数の第2ビットラインに電気的に接続されたデータ伝送回路とを含み、前記不揮発性メモリ装置から前記RAMに不揮発性メモリデータを伝送するとともに、前記RAMから前記不揮発性メモリ装置にRAMデータを伝送する場合、前記伝送回路は前記複数の第1相補性ビットライン双の中で真ビットライン又は相補性ビットラインと前記複数の第2ビットラインとの間に両方向性の直接データ伝送能力を提供することを特徴とする。
実施形態に於いて、本発明による集積回路は、前記複数の第2ビットラインに電気的に接続されたページバッファをさらに備える。前記データ伝送回路が前記複数の第2ビットラインから前記複数の第1相補性ビットライン双の中で真ビットライン又は相補性ビットラインへの不揮発性メモリデータ伝送を支援可能である場合、前記ページバッファは、前記不揮発性メモリ装置から読み出されたデータを利用して前記複数の第2ビットラインを駆動する。前記データ伝送回路は、前記複数の第1相補性ビットライン双の中で応じる真ビットライン又は相補性ビットラインと前記複数の第2ビットラインの中で応じるビットラインとの間に電気的に直列接続された複数のトランスミッションゲートを備える。
実施形態に於いて、本発明による集積回路は、前記複数の第1相補性ビットライン双に電気的に接続されたRAMページバッファをさらに備える。前記データ伝送回路が前記複数の第2ビットラインから前記複数の相補性ビットライン双の中で応じるビットラインへの不揮発性メモリデータ伝送を支援可能である場合、前記RAMページバッファは、前記不揮発性メモリ装置からデータを読み出す。
本発明による集積回路は、複数の第1ビットラインに電気的に接続されたRAMセルのアレイを含むRAMと、複数の第2ビットラインに電気的に接続されたNAND型メモリセルのアレイを含む不揮発性メモリ装置と、前記複数の第1及び第2ビットラインに電気的に接続されたデータ伝送回路とを含み、前記複数の第2ビットラインから前記複数の第1ビットラインに不揮発性メモリデータを伝送するとともに、前記複数の第1ビットラインから前記複数の第2ビットラインにRAMデータを伝送する場合、前記データ伝送回路は、前記複数の第1ビットラインと前記複数の第2ビットラインとの間に直接データ伝送能力を提供することを特徴とする。
実施形態に於いて、本発明による集積回路は、前記RAMに電気的に接続された第1入力/出力回路と、前記不揮発性メモリ装置に電気的に接続された第2入力/出力回路とをさらに備える。前記集積回路は、前記第1入力/出力回路に電気的に接続された複数のホストインタフェースをさらに備える。本発明による集積回路は、RAMから読み出されたデータをホストインタフェースターミナルに伝送する間、前記第2入力/出力回路から読み出された不揮発性メモリデータについてエラー検出及び訂正動作を行うプロセス回路をさらに備える。前記プロセス回路は、前記不揮発性メモリ装置から前記データ伝送回路を介して前記RAMにデータを伝送する間、前記エラー検出及び訂正動作を行う。
本発明によると、集積回路装置のランダムアクセスメモリ装置と不揮発性メモリ装置との間に直接データ伝送能力が提供される。従って、集積回路装置のデータ伝送速度が向上される。
以下、図面等を参照して、本発明の実施形態を詳しく説明する。しかし、本発明は様々な形態に実施できるので、本発明の実施形態に限定されるものではない。本発明の実施形態は、本発明に係わる分野の技術者及び業者等に本発明の技術思想又と技術構成を十分に伝達するために提供される。又、本発明の同じ符号等は同じ構成要素等を示す。信号等は同期されることもでき、又は重要ではない論理演算を経る信号等については説明が省略される。"n"から始まる信号等は相補性データ又は相補性信号を示す。
図2Aは、本発明の実施形態による高速メモリシステム1000の一部を示すブロック図である。図2Aを参照すると、不揮発性メモリ装置1300は、広帯域バス及びデータ伝送回路1500を介してランダムアクセスメモリ装置(RAM)1400に連結される。図示されたように、不揮発性メモリ装置1300は、NAND型フラッシュメモリ装置であり、RAM1400は、静的RAM(SRAM)である。不揮発性メモリ装置1300は、不揮発性メモリセル(例えば、EEPROMセル)の複数の列が並んで配列された不揮発性メモリアレイ1301を備える。不揮発性メモリセルの各列は、応じるビットライン(BL_FLASH)に電気的に接続される。不揮発性メモリアレイ1301は、ページバッファ1303及び行アドレス(アドレスの第1部分)に応じて動作する行選択回路(X−選択器)1302に電気的に接続される。ページバッファ1303は、従来の装置を利用しても良い。不揮発性メモリ装置に使用されるページバッファは、米国特許第6、671、204号に"デュアルレジスタを含むページバッファを有する不揮発性メモリ装置及びそれを利用する方法"と言う題目で開示されている。不揮発性メモリ装置1300の入力/出力経路は、列アドレス(アドレスの第2部分)に応じて動作する列選択回路(Y−SEL)1304及び入力/出力回路1305を備える。入力/出力回路1305は、高速メモリシステム1000の中のデータバス1001に電気的に接続される。図2Aの列選択回路1304及び入力/出力回路1305は、従来の装置を利用できるので説明は省略する。
RAM1400は、メモリセル(例えば、SRAMセル)の列が並んで配列されたRAMアレイ1401を備える。メモリセルの各列は応じるビットライン(BL_SRAM)に電気的に接続される。RAMアレイ1401は、行アドレス(アドレスの第1部分)に応じて動作する行選択回路1402及びデータダンプ回路1403に電気的に接続される。RAM1400の入力/出力経路は、感知増幅及びドライバ回路1404と、列アドレス(アドレスの第2部分)に応じて動作する列選択回路(Y−SEL)1407と、入力/出力回路1405とを備える。入力/出力回路1405は、データバス1001に電気的に接続される。感知増幅及びドライバ回路1404、列選択回路1407、及び入力/出力回路1405は、従来の装置を利用できるので説明は省略する。
図2Bは、図2Aの高速メモリシステム1000の構成要素の列による一部を示す回路図である。図2Bを参照すると、EEPROMセルのNAND型ストリング1301aは、応じるビットラインFBLiに電気的に接続される。NAND型ストリング1301aは、ストリング選択信号SSLに応じて動作するゲートターミナルを有する第1NMOSトランジスタと、接地選択信号GSLに応じて動作するゲートターミナルを有する第2NMOSトランジスタとを備える。NAND型ストリング1301aは、応じるワードライン信号(FWLi)に応じて動作する制御ゲート電極を有するEEPROMトランジスタのストリングをさらに備える。
図2Bに、ページバッファセル1303aの一部が図示されている。ページバッファセル1303aの一部は、応じるビットラインFBLiに電気的に接続され、図示されたように連結されたラッチ及び複数のNMOSトランジスタを備える。図示されたように、ラッチは一双のインバータからなる。複数のNMOSトランジスタは、フラッシュ読み出し信号FRD、リセット信号RST、及びビットラインドライブ信号DRVに夫々応じて動作するNMOSトランジスタを備える。メモリ読み出し動作の前に、リセット信号RSTをハイに設定すれば、ラッチがリセットされる。読み出し動作の際に、フラッシュ読み出し信号FRDをハイに設定すれば、応じるビットラインFBLiのデータがラッチの出力に伝送される。ビットラインドライブ信号DRVをハイに設定すれば、ラッチの出力及びビットラインFBLiが電気的に接続されるので、ラッチの出力データは、応じるビットラインFBLiにまた伝送される。
データ伝送回路1500は、スイッチ素子(SW)のアレイ1501を備える。図2Bに図示されたように、各スイッチ素子は、一双の相補性データダンプ信号(DATA DUMP、nDATA DUMP)に応じて動作するCMOSトランスミッションゲート1501aである。RAMアレイ1401は、RAMセルの列1401aを備える。図2Bに於いて、RAMセルは、SRAMセルとして図示されている。RAMセルの列1401aは、応じるワードライン信号(例えば、WL0−WLn)に応じて動作するゲートターミナルを有するアクセストランジスタを備える。
データダンプ回路1403は、データダンプ信号DATA DUMPに応じて動作する制御ターミナルを有するデータダンプセル1403aを備える。図2Bで、データダンプセル1403aは、トライステートインバータとして図示されている。各インバータは、応じるビットラインBLからデータ信号を受信し、インバータされたデータ信号を応じる相補性ビットラインnBLに伝送する。RAMアレイ1401の中のビットラインnBL、BLのデータ信号がラッチされるように、データ信号は感知増幅セル1404aに伝送される。
データ伝送回路1500を利用して、不揮発性メモリ装置1300からRAM1400にデータを直接伝送することもできる。図2Bを参照すると、データの直接伝送は、ラッチをリセットするのに十分な時間の間、リセット信号RSTをハイに設定してページバッファセル1303aの中のラッチをリセットした後、リセット信号RSTをローに転換する動作を含む。この後に、NAND型ストリング1301aのデータをページバッファセル1303aのラッチに伝送するために、よく知られた従来の動作が行われる。例えば、NAND型ストリング1301aの選択されたセルからデータを読み出し、応じるビットラインFBLiに伝送する動作が行われる。ビットラインFBLiのデータをラッチするのに十分な時間の間、読み出し信号FRDをハイに設定して、ビットラインFBLiのデータをページバッファセル1303aのラッチに格納する動作が行われる。
ビットラインFBLiデータをラッチした後、ドライブ信号DRV及びデータダンプ信号DATA DUMPがハイに設定されると、ページバッファセル1303aのラッチ及びラッチに格納されたデータは、ビットラインFBLi、BLの駆動に利用される。データダンプ信号DATA DUMPがハイに設定されると、トライステートインバータ1403aが動作可能になるので、RAM1400の内部の一双の相補性ビットラインBL、nBLに差動データ信号が形成される。差動データ信号は感知増幅セル1404aによって感知されてラッチされる。選択されたワードラインWL0−WLnがハイに設定されると、感知増幅セル1404aによってラッチされたデータがRAM1400の選択された行のセルに書き込まれる。この様な方法によって、不揮発性メモリデータは、不揮発性メモリ装置1300からデータ伝送回路1500を介してRAM1400に直接伝送される。
図3Aは、本発明の他の実施形態による高速メモリシステム1000′の一部を示すブロック図である。図3Aを参照すると、不揮発性メモリ装置1300は、広帯域バス及びデータ伝送回路1500を介してRAM1400′に直接連結される。図示されたように、不揮発性メモリ装置1300は、NAND型フラッシュメモリ装置であり、RAM1400′は、静的RAM(SRAM)である。不揮発性メモリ装置1300は、不揮発性メモリセル(例えば、EEPROMセル)の複数の列が並んで配列された不揮発性メモリアレイ1301を備える。
不揮発性メモリセルの各列は、応じるビットラインBL_FLASHに電気的に接続される。不揮発性メモリアレイ1301は、行アドレス(アドレスの第1部分)に応じて動作する行選択回路1302及びページバッファ1303に電気的に接続される。ページバッファ1303は、従来の装置を利用しても良い。不揮発性メモリ装置1300の入力/出力経路は、列アドレス(アドレスの第2部分)に応じて動作する列選択回路1304及び入力/出力回路1305を備える。入力/出力回路1305は、高速メモリシステム1000′のデータバス1001に電気的に接続される。図3Aの列選択回路1304及び入力/出力回路1305は、従来の回路を使用する。
RAM1400′は、メモリセル(例えば、SRAMセル)の複数の列が並んで配列されたRAMアレイ1401を備える。メモリセルの各列は、応じるビットラインBL_SRAMに電気的に接続される。RAMアレイ1401は、行アドレス(アドレスの第1部分)に応じて動作する行選択回路1402及びページバッファ1406に電気的に接続される。RAM1400′の入力/出力経路は、感知増幅及びドライバ回路1404と、列アドレス(アドレスの第2部分)に応じて動作する列選択回路1407と、入力/出力回路1405とを備える。入力/出力回路1405は、データバス1001に電気的に接続される。
図3Aの感知増幅及びドライバ回路1404、列選択回路1407、及び入力/出力回路1405は従来の装置を利用しても良い。
図3Bは、図3Aの高速メモリシステムの構成要素の列による一部を示す回路図である。図3Bを参照すると、EEPROMセルのNAND型ストリング1301aは、応じるビットラインFBLiに電気的に接続される。NAND型ストリング1301aは、ストリング選択信号SSLに応じて動作するゲートターミナルを有する第1NMOSトランジスタと、接地選択信号GSLに応じて動作するゲートターミナルを有する第2NMOSトランジスタとを備える。NAND型ストリング1301aは、応じるワードライン信号FWLiに応じて動作する制御ゲート電極を有するEEPROMトランジスタのストリングを備える。
図3Bにページバッファセル1303aの一部が図示されている。応じるビットラインFBLiに電気的に接続されたページバッファセル1303aの一部は、図示されたように連結されたラッチ及び複数のNMOSトランジスタを備える。図示されたように、ラッチは、一双のインバータからなる。複数のNMOSトランジスタは、フラッシュ読み出し信号FRDに応じて動作するNMOSトランジスタと、リセット信号RSTに応じて動作するNMOSトランジスタと、ビットラインドライブ信号DRVに応じて動作するNMOSトランジスタとを備える。メモリ読み出し動作の前に、リセット信号RSTをハイに設定すれば、ラッチがリセットされる。読み出し動作の間に、フラッシュ読み出し信号FRDをハイに設定すれば、応じるビットラインFBLiのデータがラッチの出力に伝送される。ビットラインドライブ信号DRVをハイに設定すれば、ラッチの出力及びビットラインFBLiが電気的に直接接続されるので、ラッチの出力データは、応じるビットラインFBLiにまた伝送される。
データ伝送回路1500は、スイッチ素子のアレイ1501aを備える。図3Bに図示されたように、各スイッチ素子は、一双の相補性データダンプ信号DATA DUMP、nDATA DUMPに応じて動作するCMOSトランスミッションゲート1501aからなる。RAMアレイ1401は、RAMセルの列1401aを含む。図3Bに於いて、RAMセルは、SRAMセルとして図示されている。RAMセルの列1401aは、応じるワードライン信号(例えば、WL0−WLn)に応じて動作するゲートターミナルを有するアクセストランジスタを備える。ページバッファ1406は、応じる一双のビットラインnBL、BLに連結されたページバッファセル1406aのアレイを備える。各ページバッファセル1406aは、SRAMドライブ信号SDRVに応じて動作するゲートターミナルを有する一双のNMOSアクセストランジスタ及びラッチを備える。図3Bに於いて、ラッチは、一双のインバータとして図示されている。リセット信号ラインRSTをロジックハイに設定すれば、NMOSプルダウントランジスタを介してラッチの出力がロジックローに設定され、ラッチがリセットされる。図示されたように、NMOSプルダウントランジスタは、リセット信号ラインRSTに電気的に接続されたゲートターミナルを有する。
ページバッファセル1406aのNMOSトランジスタのゲートターミナルに連結された相補性ビットラインnBLからラッチがデータを受信することができるほど十分な時間の間、SRAM読み出し信号SRDをハイに設定すれば、相補性ビットラインnBLのデータがページバッファセル1406aに格納される。ドライブ信号SDRVをハイに設定すれば、アクセストランジスタがターンオンされてラッチの出力及びビットラインnBL、BLが電気的に接続されるので、ラッチに格納されたデータは、応じる一双のビットラインnBL、BLにまた伝送される。選択されたワードラインWL0−WLnをハイに設定すれば、ビットラインnBL、BLに伝送された信号は、RAMアレイ1401の選択された行に伝送される。感知増幅セル1404aは、RAM1400′からデータを読み出す間に、ビットラインnBL、BLの差動信号を感知及び増幅してラッチ動作を行う。
データ伝送回路1500を利用して、不揮発性メモリ装置1300からRAM1400′にデータが直接伝送できる。図3Bを参照すると、データの直接伝送は、ラッチをリセットするのに十分な時間の間、リセット信号RSTをハイに設定してページバッファセル1303aのラッチをリセットした後、リセット信号RSTをローに転換する動作を含む。この後に、NAND型ストリング1301aのデータをページバッファセル1303aのラッチに格納するために、従来の動作が行われる。例えば、NAND型ストリング1301aの選択されたセルからデータを読み出して応じるビットラインFBLiに伝送し、ビットラインFBLiのデータをラッチするのに十分な時間の間、読み出し信号FRDをハイに設定してデータをページバッファセル1303aのラッチに格納する動作が行われる。
ビットラインFBLiのデータをラッチした後、ドライブ信号DRV及びデータダンプ信号DATA DUMPをハイに設定すれば、ページバッファセル1303aのラッチ及びラッチの出力は、ビットラインFBLi、nBLの駆動に利用される。SRAM読み出し信号SRDをハイに設定すれば、相補性ビットラインnBLに伝送されたデータは、ページバッファセル1406aにラッチされる。この後に、SRAMドライブ信号SDRVをハイに設定すれば、ページバッファセル1406aのアクセストランジスタがターンオンされ、ビットラインnBL、BLが差動データとして駆動されるので、データはRAMアレイ1401aの選択された行に記入される。
本発明の他の実施形態によると、図2A乃至3Bに図示されたデータ伝送回路1500の広帯域バス及びスイッチエレメントの代わりに、二つの入力/出力回路1305と1405との間に直接バスを連結して構成する。直接連結されたバスは、不揮発性メモリ装置1300とRAM1400、1400′との間のデータ伝送のために使用される。従って、メモリシステム1000、1001′の構成要素に共有されるデータバス1001とは異なって、直接連結されたバスは、RAM及び不揮発性メモリ装置だけ共有するバスである。
図4A及び4Bは、本発明の他の実施形態によるメモリシステム2000を示すブロック図である。メモリシステム2000は、フラッシュメモリ装置2300と、RAM2400と、ホストインタフェース2500と、プロセスユニット2100と、ROM2200とを備え、一つの集積回路に集積される。ホストインタフェースユニット2500は、集積回路のホストインタフェースターミナル(例えば、I/Oターミナル)を備える。図4Aの装置はデータバス2001を介して電気的に接続される。フラッシュメモリ装置2300とRAM2400との間の直接データダンプを支援する広帯域データバス2600が追加に構成される。RAM2400とホストインタフェース2500との間の直接データ伝送を支援するための狭帯域データバス2700が追加に提供される。ホストインタフェース2500は、ノーマル動作の際にターミナルを介して外部ホストプロセッサ(HOST)に電気的に接続される。一般に、狭帯域データバス2700及び共有データバス2001がNの帯域(Nは正数)を有する場合、広帯域データバス2600は、32Nの帯域を有する。又、図4Bに図示されたように、フラッシュメモリ装置2300からRAM2400に大容量のデータを伝送するデータダンプの動作は、システムの効率を向上させる複数の動作と並行して行われる。さらに詳しくは、ダンプされたデータをRAM2400からホストインタフェース2500を介してホストに伝送する動作は、フラッシュメモリ装置2300から伝送されたデータに対するエラー検出及び訂正EDCの動作と共に行われる。エラー検出及び訂正動作は、狭帯域共有データバス2001を介してフラッシュメモリ装置2300から多数のサイクルのダンプされたデータを受信するプロセスユニット2100によって行われる。
図5は、図2A乃至3Bの高速メモリシステムに追加的な構成要素が含まれた高速メモリシステムを示すブロック図である。図5に図示されたように、メモリシステム1000又は1000′は、共有データバス1001に電気的に接続されたプロセスユニット1100及びROM1200を備える。プロセスユニット1100は、中央処理装置1110及び制御ロジックブロック1120を備える。中央処理装置1110及び制御ロジックブロック1120は、共有データバス1001に独立的に連結されて、メモリシステムのデータフロー動作の制御能力を向上させる。
前記のように本発明の実施形態について詳しく説明したが、本発明の目的及び技術思想から外れない限度内で様々に変形できる。従って、本発明の範囲は上述した実施形態に限定されるものではなく、特許請求範囲によって決められるべきである。
互いに繋がれた複数のメモリ装置を含む従来のメモリシステムを示すブロック図である。 本発明の実施形態による高速メモリシステムの一部を示すブロック図である。 図2Aの高速メモリシステムの構成要素の列による一部を示す回路図である。 本発明の他の実施形態による高速メモリシステムの一部を示すブロック図である。 図3Aの高速メモリシステムの構成要素の列による一部を示す回路図である。 本発明の他の実施形態によるメモリシステムを示すブロック図である。 本発明の他の実施形態によるメモリシステムを示すブロック図である。 図2Aから図3Bの高速メモリシステムに追加構成要素が含まれた高速メモリシステムを示すブロック図である。
符号の説明
1000 高速メモリシステム
1001 共有データバス
1300 不揮発性メモリ装置
1301 不揮発性メモリアレイ
1302、1402 行選択回路
1303 ページバッファ
1304、1407 列選択回路
1305、1405 入力/出力回路
1400 RAM
1401 RAMアレイ
1403 データダンプ回路
1404 感知増幅及びドライバ回路
1500 データ伝送回路
1501 スイッチ素子のアレイ

Claims (20)

  1. RAMセルの複数の列及び前記RAMセルの複数の列に電気的に接続された複数の第1ビットラインを含むRAMアレイと、
    不揮発性メモリセルの複数の列及び前記不揮発性メモリセルの複数の列に電気的に接続された複数の第2ビットラインを含む不揮発性メモリアレイと、
    前記複数の第1及び第2ビットラインに電気的に接続されたデータ伝送回路とを含み、
    前記複数の第2ビットラインから前記複数の第1ビットラインに不揮発性メモリデータを伝送するとともに、前記複数の第1ビットラインから前記複数の第2ビットラインにRAMデータを伝送する場合、前記データ伝送回路は、前記複数の第1ビットラインと前記複数の第2ビットラインとの間に両方向性の直接データ伝送能力を提供することを特徴とする集積回路装置。
  2. 前記複数の第2ビットラインに電気的に接続されたページバッファをさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の集積回路装置。
  3. 前記データ伝送回路が前記複数の第2ビットラインから前記複数の第1ビットラインへの不揮発性メモリデータ伝送を支援可能である場合、前記ページバッファは、前記不揮発性メモリアレイから読み出されたデータを利用して前記複数の第2ビットラインを駆動することを特徴とする請求項2に記載の集積回路装置。
  4. 前記データ伝送回路は、前記複数の第1ビットラインの中で応じるビットラインと前記複数の第2ビットラインの中で応じるビットラインとの間に電気的に直列接続された複数のトランスミッションゲートを備えることを特徴とする請求項3に記載の集積回路装置。
  5. 前記データ伝送回路は、前記複数の第1ビットラインの中で応じるビットラインと前記複数の第2ビットラインの中で応じるビットラインとの間に電気的に直列接続された複数のトランスミッションゲートを備えることを特徴とする請求項1に記載の集積回路装置。
  6. 前記複数の第1ビットラインに電気的に接続されたRAMページバッファをさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の集積回路装置。
  7. 前記データ伝送回路が前記複数の第2ビットラインから前記複数の第1ビットラインへの不揮発性メモリデータ伝送を支援可能である場合、前記RAMページバッファは、前記不揮発性メモリアレイからデータを読み出すことを特徴とする請求項6に記載の集積回路装置。
  8. 前記RAMアレイと関連された複数の第1相補性ビットラインと、
    前記複数の第1ビットラインの中で応じるビットライン及び前記複数の第1相補性ビットラインの中で応じるビットラインに夫々電気的に接続された入力及び出力を有する複数のトライステートインバータとをさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の集積回路装置。
  9. 前記複数の第1ビットライン及び前記複数の第1相補性ビットラインに電気的に接続された感知増幅アレイをさらに備えることを特徴とする請求項8に記載の集積回路装置。
  10. RAMセルの複数の列と、前記RAMセルの複数の列に電気的に接続された複数の第1相補性ビットライン双と、前記複数の第1相補性ビットライン双の中で応じる双の真ビットライン及び相補性ビットラインに夫々電気的に接続された入力及び出力を有する複数のトライステートインバータとを備えるRAMと、
    不揮発性メモリセルの複数の列及び前記不揮発性メモリセルの複数の列に電気的に接続された複数の第2ビットラインを備える不揮発性メモリ装置と、
    前記複数の第1相補性ビットライン双の中で真ビットライン又は相補性ビットライン及び前記複数の第2ビットラインに電気的に接続されたデータ伝送回路とを含み、
    前記不揮発性メモリ装置から前記RAMに不揮発性メモリデータを伝送するとともに、前記RAMから前記不揮発性メモリ装置にRAMデータを伝送する場合、前記伝送回路は、前記複数の第1相補性ビットライン双の中で真ビットライン又は相補性ビットラインと前記複数の第2ビットラインとの間に両方向性の直接データ伝送能力を提供することを特徴とする集積回路。
  11. 前記複数の第2ビットラインに電気的に接続されたページバッファをさらに備えることを特徴とする請求項10に記載の集積回路。
  12. 前記データ伝送回路が前記複数の第2ビットラインから前記複数の第1相補性ビットライン双の中で真ビットライン又は相補性ビットラインへの不揮発性メモリデータ伝送を支援可能である場合、前記ページバッファは、前記不揮発性メモリ装置から読み出されたデータを利用して前記複数の第2ビットラインを駆動することを特徴とする請求項11に記載の集積回路。
  13. 前記データ伝送回路は、前記複数の第1相補性ビットライン双の中で応じる真ビットライン又は相補性ビットラインと前記複数の第2ビットラインの中で応じるビットラインとの間に電気的に直列接続された複数のトランスミッションゲートを備えることを特徴とする請求項12に記載の集積回路。
  14. 前記複数の第1相補性ビットライン双に電気的に接続されたRAMページバッファをさらに備えることを特徴とする請求項10に記載の集積回路。
  15. 前記データ伝送回路が前記複数の第2ビットラインから前記複数の相補性ビットライン双の中で応じるビットラインへの不揮発性メモリデータ伝送を支援可能である場合、前記RAMページバッファは、前記不揮発性メモリ装置からデータを読み出すことを特徴とする請求項14に記載の集積回路
  16. 複数の第1ビットラインに電気的に接続されたRAMセルのアレイを含むRAMと、
    複数の第2ビットラインに電気的に接続されたNAND型メモリセルのアレイを含む不揮発性メモリ装置と、
    前記複数の第1及び第2ビットラインに電気的に接続されたデータ伝送回路とを含み、
    前記複数の第2ビットラインから前記複数の第1ビットラインに不揮発性メモリデータを伝送したり、前記複数の第1ビットラインから前記複数の第2ビットラインにRAMデータを伝送する場合、前記データ伝送回路は、前記複数の第1ビットラインと前記複数の第2ビットラインとの間に直接データ伝送能力を提供することを特徴とする集積回路。
  17. 前記RAMに電気的に接続された第1入力/出力回路と、
    前記不揮発性メモリ装置に電気的に接続された第2入力/出力回路とをさらに備えることを特徴とする請求項16に記載の集積回路。
  18. 前記第1入力/出力回路に電気的に接続された複数のホストインタフェースをさらに備えることを特徴とする請求項17に記載の集積回路。
  19. 前記RAMから読み出されたデータをホストインタフェースターミナルに伝送する間、前記第2入力/出力回路から読み出された不揮発性メモリデータについてエラー検出及び訂正動作を行うプロセス回路をさらに備えることを特徴とする請求項18に記載の集積回路。
  20. 前記プロセス回路は、前記不揮発性メモリ装置から前記データ伝送回路を介して前記RAMにデータを伝送する間、前記エラー検出及び訂正動作を行うことを特徴とする請求項19に記載の集積回路。
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