JP2008192633A - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】内部側壁が絶縁体で覆われた真空処理容器と、ガス供給手段と、真空排気手段と、真空処理容器内にプラズマを発生させるプラズマ発生用高周波電源11と、バイアス高周波電源12と、アンテナ電極と、プラズマ処理されるウエハを載置する下部電極と、プラズマ発生用高周波電源11とアンテナ電極との間に接続された第一のフィルタ112と、バイアス高周波電源12とアンテナ電極との間に接続された第二のフィルタ122とを有するプラズマ処理装置において、アンテナ電極はお互いが発生する磁力線がお互いを貫かないように互いを約90度の位置に配置した複数のインダクタンス61−1、61−2、61−nで構成された第三のフィルタ6を介してアース電位に接続する。
【選択図】図2
Description
Zp<ZLの関係を充たすために、LPF内にインピーダンスの大きなインダクタンスを用いる必要がある。しかし、インダクタンスには自己共振という特性が有り、この周波数を超える領域では、インピーダンスが低下してきてしまう。
これらの効果により高周波電力を第3フィルタ6で遮断することができ、上部電極をアース電位に保つことができる。
101 浮遊容量
102 磁力線
1 真空処理室
11 放電生成用高周波電源(プラズマ発生用高周波電源)
111 整合機
112 第1フィルタ回路
12 バイアス用高周波電源
121 整合機
122 第2フィルタ回路
13 バイアス用高周波電源
131 整合機
14 静電吸着用電源
15 位相制御機
2 アンテナ電極(シャワープレート)
3 ウエハ載置電極(下部電極)
4 真空排気系
5 ガス供給系
6 第3フィルタ回路
61 インダクタンス
62 磁性体材料
63 静電シールド
64 貫通コンデンサ
9 ウエハ
Claims (5)
- 内部側壁が絶縁体で覆われた真空処理容器と、ガス供給手段と、真空排気手段と、前記真空処理容器内にプラズマを発生させるプラズマ発生用高周波電源と、前記プラズマ発生用高周波電源が接続された上部電極と、プラズマ処理されるウエハを載置する下部電極とを有するプラズマ処理装置において、
前記上部電極はフィルタを介してアース電位に接続されており、前記フィルタは複数のインダクタンスで構成され、前記複数のインダクタンスはお互いが発生する磁力線がお互いを貫かない位置に配置されており、かつ、前記複数のインダクタンスは静電シールドで囲まれていることを特徴としたプラズマ処理装置。 - 内部側壁が絶縁体で覆われた真空処理容器と、ガス供給手段と、真空排気手段と、前記真空処理容器内にプラズマを発生させるプラズマ発生用高周波電源と、バイアス高周波電源と、上部電極と、プラズマ処理されるウエハを載置する下部電極と、前記プラズマ発生用高周波電源と前記上部電極との間に接続された第一のフィルタと、前記バイアス高周波電源と前記上部電極との間に接続された第二のフィルタとを有するプラズマ処理装置において、
前記上部電極は第三のフィルタを介してアース電位に接続されており、前記第三のフィルタは複数のインダクタンスで構成され、前記複数のインダクタンスはお互いを約90度の位置に配置することで、お互いが発生する磁力線がお互いを貫かないことを特徴としたプラズマ処理装置。 - 内部側壁がイットリアで覆われた真空処理容器と、ガス供給手段と、真空排気手段と、前記真空処理容器内にプラズマを発生させる周波数が50MHzから500MHzのプラズマ発生用高周波電源と、周波数5MHz以下のバイアス高周波電源と、プラズマに接する面がシリコンからなる上部電極と、プラズマ処理されるウエハを載置する下部電極と、前記プラズマ発生用高周波電源と前記上部電極との間に接続された第一のフィルタと、前記バイアス高周波電源と前記上部電極との間に接続された第二のフィルタとを有するプラズマ処理装置において、
前記上部電極は直流的に低抵抗でインピーダンスがプラズマのインピーダンスよりも大きい第三のフィルタを介してアース電位に接続されており、前記第三のフィルタは静電シールドで囲まれた複数のインダクタンスで構成され、前記複数のインダクタンスはお互いを約90度の位置に配置することで、お互いが発生する磁力線がお互いを貫かないことを特徴としたプラズマ処理装置。 - 請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置において、
前記複数のインダクタンスのうち、一番アース側に接続されたインダクタンスに磁性体材料が挿入されていることを特徴としたプラズマ処理装置。 - 請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置において、
前記複数のインダクタンスのうち、一番アース側に接続されたインダクタンスの前記上部電極側とアースの間に貫通コンデンサが挿入されていることを特徴としたプラズマ処理装置。
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