JP2008185656A - 光書き込み型表示素子の駆動装置および駆動方法、並びに光書き込み型表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】電極層5,6間に少なくとも光導電層10および光変調層7が積層挟持されてなる光書き込み型表示素子1の電極層5,6と共に電圧印加回路を形成し、電極層5,6間に電圧印加する電圧印加手段17と、表示素子1に書き込み光を照射する光照射手段18と、電圧印加終了時に、前記電圧印加回路における表示素子1と電圧印加手段17との間の電流について、電極層5,6間の電位差を小さくする方向の電流に対する抵抗が、電圧印加時に比べて大きくなるように制御する抵抗制御手段12と、を含む光書き込み型表示素子の駆動装置および駆動方法、並びに光書き込み型表示装置。
【選択図】図1
Description
したがって、パルス信号を印加した直後のコレステリック液晶層は、図21に示すようなスイッチング挙動を示し、印加されたパルス信号の電圧が、Vfh以上のときには、ホメオトロピック相からプレーナ相に変化した選択反射状態となり、VpfとVfhの間のときには、フォーカルコニック相による透過状態となり、Vpf以下のときには、パルス信号印加前の状態を継続した状態、すなわちプレーナ相による選択反射状態またはフォーカルコニック相による透過状態となる。
当該技術による光書き込み型(光アドレス型)表示素子では、このコレステリック液晶の双安定現象を利用して、(A)プレーナ相による選択反射状態と、(B)フォーカルコニック相による透過状態と、をスイッチングすることによって、無電界でのメモリ性を有する各種色相のモノクロ表示、または無電界でのメモリ性を有するカラー表示を行う。
当該技術による表示素子は、表示層と光導電層とを電極層で挟み込んだユニットをRGBの3色積層することでフルカラー画像を形成することもできる。
<1> 少なくとも表示側が透明である一対の電極層の間に、少なくとも、特定波長域の光を吸収して該吸収した光の光量に応じて電気特性が変化する光導電層、および、光を透過または反射する表示画像を形成し得る光変調層が積層挟持されてなる光書き込み型表示素子の、前記一対の電極層とともに電圧印加回路を形成し、当該両電極層間に電圧を印加する電圧印加手段と、
前記光書き込み型表示素子の表示側またはその裏面側から書き込み光を照射する光照射手段と、
前記電圧印加手段による電圧印加の終了時に、前記電圧印加回路における前記光書き込み型表示素子と前記電圧印加手段との間の電流について、少なくとも前記一対の電極間の電位差を小さくする方向の電流に対する抵抗が、前記電圧印加手段による電圧印加時に比べて大きくなるように制御する抵抗制御手段と、
を含むことを特徴とする光書き込み型表示素子の駆動装置。
前記抵抗制御手段が、前記電圧印加回路中に、印加電圧により生じる電流方向への電気抵抗がその逆方向の電気抵抗に比して低くなる向きに配された整流器であることを特徴とする<1>に記載の光書き込み型表示素子の駆動装置。
前記電圧印加手段により前記一対の電極層の間に印加する電圧が直流電圧とすることを特徴とする<5>に記載の光書き込み型表示素子の駆動方法。
前記一対の電極層とともに電圧印加回路を形成し、当該両電極層間に電圧を印加する電圧印加手段と、
前記光書き込み型表示素子の表示側またはその裏面側から書き込み光を照射する光照射手段と、
前記電圧印加手段による電圧印加を終了させる際に、前記電圧印加回路における前記光書き込み型表示素子と前記電圧印加手段との間の電流について、少なくとも前記一対の電極間の電位差を小さくする方向の電流に対する抵抗が、前記電圧印加手段による電圧印加時に比べて大きくなるように制御する抵抗制御手段と、
を含むことを特徴とする光書き込み型表示装置。
前記抵抗制御手段が、前記電圧印加回路中に、印加電圧により生じる電流方向への電気抵抗がその逆方向の電気抵抗に比して低くなる向きに配された整流器であることを特徴とする<9>に記載の光書き込み型表示装置。
なお、本発明の光書き込み型表示装置(以下、単に「本発明の表示装置」という場合がある。)は、本発明の光書き込み型表示素子の駆動装置(以下、単に「本発明の駆動装置」という場合がある。)とそれにより画像を書き込む対象である光書き込み型表示素子との組み合わせであり、当該本発明の表示装置を稼動させる際に本発明の光書き込み型表示素子の駆動方法(以下、単に「本発明の駆動方法」という場合がある。)を利用する。
したがって、以下の説明においては、本発明の表示装置およびその稼動について説明することで、本発明の駆動装置および駆動方法、並びに表示装置を包括的に説明する。
本実施形態において、表示素子(光書き込み型表示素子)1は、表示面側から順に、基板3、電極5、光変調層7、ラミネート層8、着色層(遮光層)9、有機感光層(光導電層)10、電極(電極層)6および基板4が積層されてなる物である。
基板3,4は、各機能層を内面に保持し、表示素子の構造を維持する目的の部材である。基板3,4は、外力に耐える強度を有するシート形状の物体であり、フレキシブル性を有することが好ましい。具体的な材料としては、無機シート(たとえばガラス・シリコン)、高分子フィルム(たとえばポリエチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート)等を挙げることができる。なお、少なくとも表示面側の基板3は表示光を透過する機能を有する。その外表面に、防汚膜、耐磨耗膜、光反射防止膜、ガスバリア膜など公知の機能性膜を形成してもよい。
電極(電極層)5,6は、電源装置17から印加されたバイアス電圧を、表示素子1内の各機能層へ印加する目的の部材である。具体的には、金属(たとえば金、銀、銅、鉄、アルミニウム)、金属酸化物(たとえば酸化インジウム、酸化スズ、酸化インジウムスズ(ITO))、炭素、これらを高分子中に分散させた複合体、導電性有機高分子(たとえばポリチオフェン系・ポリアニリン系)などで形成された導電性薄膜を挙げることができる。表面に、密着力改善膜、光反射防止膜、ガスバリア膜など公知の機能性膜を形成してもよい。
本発明において光変調層とは、電場によって入射光の反射・透過状態を変調する機能を有し、選択した状態が無電場で保持できる性質のものであれば特に制限は無く、例えば液晶の配向変化を利用するのであれば、双安定型ツイストネマチック液晶、表面安定化強誘電性液晶等の偏光状態の変化を利用する方式のもの、メモリ性高分子分散型液晶などの光散乱状態の変化を利用する方式のもの、これらに二色性色素を混合したゲストホスト液晶などの光吸収状態の変化を利用する方式のもの、メモリ性コレステリック(カイラルネマチック)液晶などの光干渉状態の変化を利用する方式のものなど、光学効果の異なる種々の液晶素子を用いることができる。本実施形態では、最後者の方式のものを例示している。光変調層としては、曲げや圧力などの外力に対して変形しない構造であることが好ましい。
なお、本発明においては、光変調層が、自己保持型液晶複合体の液晶層であることは必須ではなく、単に液晶のみで光変調層を構成することとしても勿論構わない。
有機感光層(光導電層)10は、内部光電効果をもち、書き込み光の照射強度に応じてインピーダンス特性が変化する特性を有する層である。交流(AC)動作を行う場合には、書き込み光に対して対称駆動であることが望ましく、電荷発生層(CGL)が電荷輸送層(CTL)の上下に積層された3層構造に形成されてなる。本実施形態では、有機感光層10として、図1における上層から順に上側の電荷発生層13、電荷輸送層14および下側の電荷発生層15が積層されてなる。
電荷輸送層14は、電荷発生層13,15からの自由キャリアの注入が効率良く発生し(電荷発生層13,15とイオン化ポテンシャルが近いことが好ましい)、注入された自由キャリアができるだけ高速にホッピング移動するものが好適である。暗時のインピーダンスを高くするため、熱キャリアによる暗電流は低い方が好ましい。
着色層(遮光層)9とは、書き込み時に書き込み光と入射光とを光学分離し、相互干渉による誤動作を防ぐとともに、表示時に表示素子の非表示面側から入射する外光と表示画像を光学分離し、画質の劣化を防ぐ目的で設けられる層であり、本発明において必須の構成要素ではない。ただし、表示素子1の性能向上のためには、設けることが望まれる層である。その目的から、着色層9には、少なくとも電荷発生層の吸収波長域の光、および光変調層の反射波長域の光を吸収する機能が要求される。
ラミネート層8は、上下基板3,4それぞれの内面に形成された各機能層を貼り合わせる際に、凹凸吸収および接着の役割を果たす目的で設けられる層であり、本発明において必須の構成要素ではない。ラミネート層8は、熱可塑性、熱硬化性、あるいはこれらの混合型の有機材料からなるものであり、熱や圧力によって光変調層7と着色層9とを密着・接着させることができる材料が選択される。また、少なくとも入射光に対して透過性を有することが条件となる。
ラミネート層8に好適な材料としては、粘着・接着性の高分子材料(たとえばポリエチレン系、ポリプロピレン系、ポリウレタン系、エポキシ系、アクリル系、ゴム系、シリコーン系)を挙げることができる。
接触端子19とは、電源装置17からの電圧が供給(制御装置12を介する場合を含む。)される導線11と、表示素子1(電極5,6)との導通を行う部材であり、高い導電性を有し、電極5,6および導線11との接触抵抗が小さいものが選択される。表示素子1と駆動装置2とを切り離すことができるように、図示の如く電極5,6から分離できる(これに代えて、あるいは加えて、駆動装置2から分離できる)構造であることが好ましい。
当該接触端子19を介して、表示素子1の電極5,6、電源装置17および制御装置12の間で電圧印加回路が形成される。
本発明において駆動装置(光書き込み型駆動装置)2は、表示素子1に画像を書き込みむ装置であり、表示素子1に対して書き込み光の照射を行う光照射装置(光照射手段)18、表示素子1にバイアス電圧を印加する電源装置(電圧印加手段)17、および本発明に特徴的な制御装置(抵抗制御手段)12を主要構成要素とし、さらにこれらの動作を制御する制御回路16が配されてなる。
光照射装置(光照射手段)18は、像様となる所定の書き込み光パターンを表示素子1に照射する機能を有し、制御回路16からの入力信号に基づき、表示素子1上(詳しくは、有機感光層10上)に所望の光画像パターン(スペクトル・強度・空間周波数)を照射できるものであれば特に制限されるものではない。なお、光照射すべき領域としては、表示素子1の書き込み面の全面である必要は無く、光変調層が形成されている範囲内であることはもちろんのこと、書き込みもうとする領域(書き込み領域)内であれば十分である。
・スペクトル:有機感光層10の吸収波長域のエネルギーができるだけ多いことが好ましい。
・照射強度:明時に光変調層7への印加電圧が有機感光層10との分圧により上下閾値の電圧以上となって、光変調層7中の液晶を配向変化させ、暗時にはそれ以下となるような強度。
光照射装置18により照射される書き込み光としては、有機感光層10の吸収波長域内にピーク強度を持ち、できるだけバンド幅の狭い光であることが望ましい。
(1−1)光源(たとえば、冷陰極管、キセノンランプ、ハロゲンランプ、発光ダイオード(LED)、EL、レーザ等)を一次元のアレイ状に配置したものや、ポリゴンミラーと組み合せたもの、など走査動作によって任意の二次元発光パターンを形成できるもの
(1−2)光源をアレイ状に配置したものや導光板と組み合せたもの、などの均一な光源と、光パターンを作る調光素子(たとえば、LCD、フォトマスクなど)の組み合わせ
(2)光源を面状に配置したものなどの自発光型ディスプレイ(たとえばCRT、PDP、EL、発光ダイオード、FED、SED)
(3)上記(1−1)、(1−2)あるいは(2)と光学素子(たとえばマイクロレンズアレイ、セルホックレンズアレイ、プリズムアレイ、視野角調整シート)との組み合わせ
電源装置(電圧印加手段)17は、所定のバイアス電圧(駆動電圧、書き込み電圧)を表示素子1に印加する機能を有し、制御回路16からの入力信号に基づき、表示素子(各電極間)に所望の電圧波形を印加できるものであればよい。ただし、高いスルーレートであることが好ましい。電源装置17には、例えばバイポーラ高電圧アンプなどを用いることができる。
電源装置17による表示素子1への電圧の印加は、制御装置12および接触端子19を介して、電極5−電極6間に為される。
制御回路16は、外部(画像取り込み装置、画像受信装置、画像処理装置、画像再生装置、あるいはこれらの複数の機能を併せ持つ装置等)からの画像データに応じて、電源装置17および光照射装置18の動作を適宜制御する機能を有する部材である。なお、制御装置12の態様によっては、当該制御装置12の制御を制御回路16が担う。制御装置12の詳細については後述することとする。
図2は、本発明に供し得る駆動装置2の例を示す斜視図であり、光照射手段にレーザを用いた場合である。なお、当該図において、制御回路16の図示は省略されている。
本発明の駆動方法においては、一対の電極層間に所定の電圧を印加しつつ、光導電層に所定の波長並びに光量の書き込み光を照射することで光変調層に相変化がもたらされて、画像が書き込みまれ、表示されるのが基本動作である。この基本動作における電圧印加終了時の操作が本発明に特徴的であり、また、これを実現するための制御装置(抵抗制御手段)12が、電源装置17と電極5,6間に形成される電圧印加回路中に配されているが、これらについては後述することとし、本項においては基本動作そのものについてのみ説明する。
次に、本発明の原理について詳細に説明する。
図4は、図1にて例示した駆動装置2から制御装置12を取り除いて短絡(ショート)させた従来の駆動装置の動作の一例について、バイアス電圧およびアドレス光強度を時系列で示すチャートである。この例では、直流電圧を印加しつつ、その印加の期間全域にわたって書き込み光を照射している(書き込み期間)。なお、図4においては、書き込みの際に光が照射される明時の場合のみチャートを示している。
しかし、光変調層7および有機感光層10は、図6において等価回路で示されるように誘電体的性質と抵抗的性質とを併せ持つため、次第に抵抗成分側に電流が流れ始めて経時と共に容量分圧から抵抗分圧へと電位が変化していく。ここで、両層におけるインピーダンス(CR時定数)がマッチングしていないため、容量分圧比と抵抗分圧比に差異があり、図6の例では光変調層7の分圧が小さくなってくる((2)の時点)。この時点では、光変調層7の容量成分への充電電荷と、有機感光層10の容量成分への充電電荷に不均一が生じ、この差分電荷が光変調層7と有機感光層10との境界(bの位置)に残留電荷として蓄積される。
そして最後には、図6の(4)のグラフを見てもわかるとおり、表示素子1の全ての位置で基準電位に至り電位が一定化する。
本発明の原理について、以下、制御装置12として可変抵抗器を用い、電圧印加回路における表示素子1と電源装置17との間の電流に対する抵抗が、バイアス電圧印加時に比べて大きくなるように制御する例を挙げて説明する。
そして最後には、図10の(4)のグラフを見てもわかるとおり、表示素子1の全ての位置で基準電位に至り電位が一定化する。
以上のように、本発明において抵抗制御手段は、電圧印加終了時に、電圧印加回路における表示素子と電圧印加手段との間の電流に対する抵抗を制御する(具体的には、電圧印加時に比べ、電圧印加終了時における当該抵抗が高くなるように制御する)機能を有すればよい。具体的には、A:開閉器、B:可変抵抗器、C:整流器等が挙げられる。
開閉器とは、接点を閉じた状態にしたり開放状態にしたりすることで電流の導通/空間絶縁を選択することができる、いわゆる有接点スイッチを意味する。電磁石への通電/非通電やモータの回転で接点を開閉するメカニカルリレーなどを用いることができる。
開閉器としてリレー装置を用いた場合には、制御回路16からの信号により、電気的にON−OFF制御できるように構成すればよい。
図13は、図1の制御装置12として可変抵抗器22を用いた場合の電圧印加回路(表示素子1は等価回路)の回路図である。この場合には、電圧印加時には低抵抗状態にしておくことで電圧印加回路の導通をはかり、電圧印加の終了時に高抵抗状態にすることで、電圧印加回路における電極6側(点c側)の電流吸い上げ能力を制限する。
整流器としては、一般に半導体ダイオードが用いられるが、例えば整流管等整流器の概念に含まれる物であればいずれも使用可能である。
図15は、図1の制御装置12として整流器25を用いた場合の電圧印加回路(表示素子1は等価回路)の回路図である。整流器25は、図15に示すとおり、電源装置17による印加電圧の電流方向に流れ易く、その逆方向には流れ難い(電流方向への電気抵抗がその逆方向の電気抵抗に比して低くなる)向きになるように配される。
<表示素子の作製>
本発明に適用し得る光書き込み型表示素子として、図1に記載の表示素子1を試作して、本発明および比較例の光書き込み型表示素子の駆動装置ないし駆動方法を利用して、画像の書き込みを行った。図1を参照しつつ説明する。
片面にITO(表面抵抗300Ω/□)が形成された125μm厚のポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(東レ社製,ハイビーム)を50.8mm(2インチ)角に切り出して、基板4および電極6とした。そのITO(電極6)側の面に、ポリビニルブチラール樹脂をブタノールに溶解した溶液に、電荷発生材料(チタニルフタロシアニン顔料)をペイントシェイカーで分散させた塗料を、スピンコート法によって乾燥膜厚が0.2μmとなるように塗布・乾燥し、電荷発生層15を形成した。
コレステリック液晶として、ネマチック液晶(メルク社製,E7)77.5質量%、右旋性カイラル剤(メルク社製,CB15)18.8質量%および右旋性カイラル剤(メルク社製,R1011)3.7質量%を混合して、緑色を反射する材料を調製した。
このようにして作製した有機感光層側基板および光変調層側基板を、光変調層7とラミネート層8とが向かい合い、かつ端面の一部が少しずれるように重ね合わせて、100℃のラミネータを通して接着し、表示素子1を得た。
得られた表示素子1の外観は、光変調層7が緑色の選択反射を示すものであった。
得られた表示素子1の両電極5,6にリード線を付けた市販のミノ虫クリップを接続し、これを接触端子19とした。
(有機感光層ダミーの作製)
上記(有機感光層側基板の作製)と同様して得られた有機感光層側基板と、上記(有機感光層側基板の作製)において基板4および電極6として用いたものと同じITO電極付きPETフィルム(東レ社製ハイビーム)とを、ラミネート層8とITO面とが向かい合うように重ね合わせて、100℃のラミネータを通して接着し、有機感光層ダミーを作製した。
上記(有機感光層側基板の作製)において基板4および電極6として用いたものと同じITO電極付きPETフィルム(東レ社製ハイビーム)の上に、カーボンブラック顔料を分散させたポリビニルアルコール水溶液を、スピンコート法によって乾燥膜厚が1.2μmとなるように形成して、着色層9とした。さらに当該着色層9の上層として、酢酸ブチルで希釈した二液性ウレタンラミネート剤(三井武田ケミカル社製,A315/A50)を、スピンコート法によって乾燥膜厚が1.0μm厚となるように塗布し、ラミネート層8を形成した。
上記(光変調層側基板の作製)と同様して得られた光変調層側基板の光変調層7を、ラミネート層と光変調層とが向かい合うように重ね合わせて、100℃のラミネータを通して接着し、光変調層ダミーを作製した。
(実施例1:制御装置12として開閉器を用いた場合)
制御装置12として、印加電圧波形の終端で回路をオープンにするためのメカニカルパワーリレー(オムロン社製G5NB型)を用い、また、電源装置17として高速・高電圧アンプ(松定プレシジョン社製,HEOPT1B−60型)を用い、これを表示素子1の電極5,6とともに図1に示されるように接続して電圧印加回路を形成した。
以上のようにして、実施例1の駆動装置、およびこれに表示素子を接続した表示装置を作製した。
実施例1において、制御装置12として、メカニカルパワーリレーの代わりに、印加電圧波形の終端で抵抗値を変化させて電流を制御するためのフォトMOS−FETリレー(オムロン社製G3VM−354型。オン時抵抗15Ω/オフ時漏れ電流1μA)を用いたことを除き、実施例1と同様にして電圧印加回路を形成し、光照射装置18および制御回路16を構成して、実施例2の駆動装置、およびこれに表示素子を接続した表示装置を作製した。
実施例1において、制御装置12として、メカニカルパワーリレーの代わりに、印加電圧波形の終端で整流作用により電源装置17方向への電流を制限するための半導体ダイオード(ゼネラルセミコンダクタ社製RGP02−02E型)を用いたことを除き、実施例1と同様にして電圧印加回路を形成し、光照射装置18および制御回路16を構成して、実施例3の駆動装置、およびこれに表示素子を接続した表示装置を作製した。なお、半導体ダイオードの向きは、図15に示す通りとした。
実施例1において、図1中の制御装置12を除し、表示素子1の電極5,6と電源装置17とを直接接続したことを除き、実施例1と同様にして電圧印加回路を形成し、光照射装置18および制御回路16を構成して、比較例1の駆動装置、およびこれに表示素子を接続した表示装置を作製した。
実施例1および比較例1の書込み装置を用いて、任意のDCバイアス電圧を400ms間印加し、その状態で500μW/cm2の書き込み光を照射した場合、および光を照射しなかった場合のそれぞれについて、積分球形分光計(コニカミノルタ社製、CM2002型)で、印加電圧に対する反射率の変化を測定した。得られた電圧−正規化反射率のグラフを実施例1については図16に、比較例1については図17にそれぞれ示す。
光変調層7と有機感光層10とが一体になった表示素子1では、各層に印加されている電圧を直接観測することはできない。そこで代替手段として、既述の如く、光変調層と有機感光層とを別体に構成した有機感光層ダミーと光変調層ダミーとを直列に接続して波形観測用ダミー素子を作製した。
実施例1および比較例1の駆動装置を用いて、波形観測用ダミー素子の両端に100VのDCバイアス電圧を400ms間印加した状態で、電圧印加開始から100ms後(図中0.2秒時)に500μW/cm2の書き込み光を有機感光層ダミーに20ms照射した場合、および光を照射しなかった場合のそれぞれについて、電圧波形を観測した。観測された電圧波形のグラフを実施例1については図18に、比較例1については図19にそれぞれ示す。
一方、図19に示される比較例1では、電圧波形の終端(図19のグラフ中横軸0.5秒時)において、不要な逆電位が光変調層7に印加されている。
Claims (12)
- 少なくとも表示側が透明である一対の電極層の間に、少なくとも、特定波長域の光を吸収して該吸収した光の光量に応じて電気特性が変化する光導電層、および、光を透過または反射する表示画像を形成し得る光変調層が積層挟持されてなる光書き込み型表示素子の、前記一対の電極層とともに電圧印加回路を形成し、当該両電極層間に電圧を印加する電圧印加手段と、
前記光書き込み型表示素子の表示側またはその裏面側から書き込み光を照射する光照射手段と、
前記電圧印加手段による電圧印加の終了時に、前記電圧印加回路における前記光書き込み型表示素子と前記電圧印加手段との間の電流について、少なくとも前記一対の電極間の電位差を小さくする方向の電流に対する抵抗が、前記電圧印加手段による電圧印加時に比べて大きくなるように制御する抵抗制御手段と、
を含むことを特徴とする光書き込み型表示素子の駆動装置。 - 前記抵抗制御手段が、前記電圧印加回路を開放することなく、前記電圧印加回路における前記光書き込み型表示素子と前記電圧印加手段との間の電流について、少なくとも前記一対の電極間の電位差を小さくする方向の電流に対する抵抗が、前記電圧印加手段による電圧印加時に比べて大きくなるように制御することを特徴とする請求項1に記載の光書き込み型表示素子の駆動装置。
- 前記抵抗制御手段が、前記電圧印加回路中に配された可変抵抗器であることを特徴とする請求項1に記載の光書き込み型表示素子の駆動装置。
- 前記電圧印加手段により前記一対の電極層の間に印加する電圧が直流電圧であり、
前記抵抗制御手段が、前記電圧印加回路中に、印加電圧により生じる電流方向への電気抵抗がその逆方向の電気抵抗に比して低くなる向きに配された整流器であることを特徴とする請求項1に記載の光書き込み型表示素子の駆動装置。 - 少なくとも表示側が透明である一対の電極層の間に、少なくとも、特定波長域の光を吸収して該吸収した光の光量に応じて電気特性が変化する光導電層、および、光を透過または反射する表示画像を形成し得る光変調層が積層挟持されてなる光書き込み型表示素子の前記一対の電極層と電圧印加手段とで電圧印加回路を形成し、当該両電極層間に電圧を印加しつつ、前記光書き込み型表示素子の表示側またはその裏面側から書き込み光を照射することにより画像を書き込み、次いで前記電圧印加回路における前記光書き込み型表示素子と前記電圧印加手段との間の電流について、少なくとも前記一対の電極間の電位差を小さくする方向の電流に対する抵抗が、前記電圧印加手段による電圧印加時に比べて大きくなるように制御しつつ電圧印加を終了させることを特徴とする光書き込み型表示素子の駆動方法。
- 電圧印加を終了させる際に、前記電圧印加回路を開放することなく、前記電圧印加回路における前記光書き込み型表示素子と前記電圧印加手段との間の電流について、少なくとも前記一対の電極間の電位差を小さくする方向の電流に対する抵抗が、前記電圧印加手段による電圧印加時に比べて大きくなるようにすることを特徴とする請求項5に記載の光書き込み型表示素子の駆動方法。
- 前記電圧印加回路中に可変抵抗器を配しておき、電圧印加を終了させる際に、当該可変抵抗器を高抵抗化することを特徴とする請求項5に記載の光書き込み型表示素子の駆動方法。
- 前記電圧印加回路中に、印加電圧により生じる電流方向への電気抵抗がその逆方向の電気抵抗に比して低くなる向きに整流器を配しておき、
前記電圧印加手段により前記一対の電極層の間に印加する電圧が直流電圧とすることを特徴とする請求項5に記載の光書き込み型表示素子の駆動方法。 - 少なくとも表示側が透明である一対の電極層の間に、少なくとも、特定波長域の光を吸収して該吸収した光の光量に応じて電気特性が変化する光導電層、および、光を透過または反射する表示画像を形成し得る光変調層が積層挟持されてなる光書き込み型表示素子と、
前記一対の電極層とともに電圧印加回路を形成し、当該両電極層間に電圧を印加する電圧印加手段と、
前記光書き込み型表示素子の表示側またはその裏面側から書き込み光を照射する光照射手段と、
前記電圧印加手段による電圧印加の終了時に、前記電圧印加回路における前記光書き込み型表示素子と前記電圧印加手段との間の電流について、少なくとも前記一対の電極間の電位差を小さくする方向の電流に対する抵抗が、前記電圧印加手段による電圧印加時に比べて大きくなるように制御する抵抗制御手段と、
を含むことを特徴とする光書き込み型表示装置。 - 前記抵抗制御手段が、前記電圧印加回路を開放することなく、前記電圧印加回路における前記光書き込み型表示素子と前記電圧印加手段との間の電流について、少なくとも前記一対の電極間の電位差を小さくする方向の電流に対する抵抗が、前記電圧印加手段による電圧印加時に比べて大きくなるように制御することを特徴とする請求項9に記載の光書き込み型表示装置。
- 前記抵抗制御手段が、前記電圧印加回路中に配された可変抵抗器であることを特徴とする請求項9に記載の光書き込み型表示装置。
- 前記電圧印加手段により前記一対の電極層の間に印加する電圧が直流電圧であり、
前記抵抗制御手段が、前記電圧印加回路中に、印加電圧により生じる電流方向への電気抵抗がその逆方向の電気抵抗に比して低くなる向きに配された整流器であることを特徴とする請求項9に記載の光書き込み型表示装置。
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