JP2008174816A - 蒸着装置、蒸着方法および有機電界発光素子ならびに表示装置 - Google Patents
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- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims abstract description 166
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 166
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 29
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims abstract description 26
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 26
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 16
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 11
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 4
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 4
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 claims description 4
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 claims description 3
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 claims description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 28
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 20
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 20
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 16
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 8
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 4
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 3
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 3
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000000994 depressogenic effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/12—Organic material
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- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
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- Materials Engineering (AREA)
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- Electroluminescent Light Sources (AREA)
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Abstract
【解決手段】本発明は、蒸着材料10を充填し加熱する材料保持部11と、材料保持部11から蒸発した蒸着材料10を被蒸着部材20に向けて飛散させる開口12と、材料保持部11と開口12との間に配置され、材料保持部11で加熱された蒸着材料10の温度T2より高い温度T1に加熱される高温体13とを備える蒸着装置である。
【選択図】図1
Description
図7は、本実施形態の蒸着装置および蒸着方法を適用して形成した有機電界発光素子の一例を説明する模式断面図である。すなわち、この有機電界発光素子は、ガラス基板1001上に、ゲート電極1003、ゲート絶縁膜1005、および半導体層1007を順に積層してなる薄膜トランジスタTrを形成する。この薄膜トランジスタTrを層間絶縁膜1009で覆い、層間絶縁膜1009に形成した接続孔を介して薄膜トランジスタTrに接続された配線1011を設けて画素回路を形成する。以上のようにして、いわゆるTFT基板1020を形成する。
図8は、実施形態の表示装置の一例を示す図であり、(a)は概略構成図、(b)は画素回路の構成図である。ここでは、発光素子として有機電界発光素子1040を用いたアクティブマトリックス方式の表示装置に本発明を適用した実施形態を説明する。
以上説明した本実施形態に係る表示装置は、図10〜図14に示す様々な電子機器、例えば、デジタルカメラ、ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置、ビデオカメラなど、電子機器に入力された映像信号、若しくは、電子機器内で生成した映像信号を、画像若しくは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。以下に、本実施形態が適用される電子機器の一例について説明する。
Claims (8)
- 蒸着材料を充填し加熱する材料保持部と、
前記材料保持部から蒸発した前記蒸着材料を被蒸着部材に向けて飛散させる開口と、
前記材料保持部と前記開口との間に配置され、前記材料保持部で加熱された前記蒸着材料の温度より高い温度に加熱される高温体と
を備えることを特徴とする蒸着装置。 - 前記材料保持部に充填される前記蒸着材料は、前記高温体からの輻射熱によって表面部分が局所的に加熱される
ことを特徴とする請求項1記載の蒸着装置。 - 前記高温体は板状形状から成り、前記材料保持部から前記蒸着材料の蒸気の流出方向に対して前記板状形状の板面が直交する方向に配置されている
ことを特徴とする請求項1記載の蒸着装置。 - 前記高温体は、金属材料、カーボン材料、セラミックスのうち選択された1つが用いられる
ことを特徴とする請求項1記載の蒸着装置。 - 前記蒸着材料は、有機材料である
ことを特徴とする請求項1記載の蒸着装置。 - 材料保持部に蒸着材料を充填した状態で前記蒸着材料を加熱し、蒸発させて開口から被蒸着部材に向けて飛散させる蒸着方法において、
前記材料保持部と前記開口との間に高温体を配置しておき、蒸着を行う際、前記高温体を前記材料保持部で加熱された前記蒸着材料の温度より高い温度に加熱する
ことを特徴とする蒸着方法。 - 基板上に、第1電極、発光層を含む有機層、第2電極を備える有機電界発光素子において、
前記発光層は、
材料保持部に有機材料を充填した状態で前記有機材料を加熱し、蒸発させて開口から前記基板に向けて飛散させる蒸着方法において、前記材料保持部と前記開口との間に高温体を配置しておき、前記高温体を前記材料保持部で加熱された前記有機材料の温度より高い温度に加熱することにより蒸着して形成されている
ことを特徴とする有機電界発光素子。 - 基板上に、第1電極、発光層を含む有機層、第2電極を備える有機電界発光素子を用いた表示装置において、
前記発光層は、
材料保持部に有機材料を充填した状態で前記有機材料を加熱し、蒸発させて開口から前記基板に向けて飛散させる蒸着方法において、前記材料保持部と前記開口との間に高温体を配置しておき、前記高温体を前記材料保持部で加熱された前記有機材料の温度より高い温度に加熱することにより蒸着して形成されている
ことを特徴とする表示装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007011141A JP2008174816A (ja) | 2007-01-22 | 2007-01-22 | 蒸着装置、蒸着方法および有機電界発光素子ならびに表示装置 |
TW096149994A TW200844247A (en) | 2007-01-22 | 2007-12-25 | Evaporating device, evaporating method, method of manufacturing display device, organic electroluminescent element, and display device |
KR1020070137695A KR20080069117A (ko) | 2007-01-22 | 2007-12-26 | 증착 장치, 증착 방법, 표시 장치의 제조 방법 및 유기전계 발광 소자 및 표시 장치 |
US12/013,862 US20080176100A1 (en) | 2007-01-22 | 2008-01-14 | Evaporating device, evaporating method, method of manufacturing display device, organic electroluminescent element, and display device |
CN2008100042066A CN101232755B (zh) | 2007-01-22 | 2008-01-21 | 蒸镀装置和方法、显示装置及制造方法、有机电致发光元件 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007011141A JP2008174816A (ja) | 2007-01-22 | 2007-01-22 | 蒸着装置、蒸着方法および有機電界発光素子ならびに表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008174816A true JP2008174816A (ja) | 2008-07-31 |
Family
ID=39641562
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007011141A Ceased JP2008174816A (ja) | 2007-01-22 | 2007-01-22 | 蒸着装置、蒸着方法および有機電界発光素子ならびに表示装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20080176100A1 (ja) |
JP (1) | JP2008174816A (ja) |
KR (1) | KR20080069117A (ja) |
CN (1) | CN101232755B (ja) |
TW (1) | TW200844247A (ja) |
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-
2007
- 2007-01-22 JP JP2007011141A patent/JP2008174816A/ja not_active Ceased
- 2007-12-25 TW TW096149994A patent/TW200844247A/zh unknown
- 2007-12-26 KR KR1020070137695A patent/KR20080069117A/ko not_active Application Discontinuation
-
2008
- 2008-01-14 US US12/013,862 patent/US20080176100A1/en not_active Abandoned
- 2008-01-21 CN CN2008100042066A patent/CN101232755B/zh not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20080069117A (ko) | 2008-07-25 |
US20080176100A1 (en) | 2008-07-24 |
CN101232755B (zh) | 2010-07-21 |
CN101232755A (zh) | 2008-07-30 |
TW200844247A (en) | 2008-11-16 |
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