JP2008108431A - Ｅｌ発光素子 - Google Patents

Abstract

【課題】 第１のＥＬ発光部と第２のＥＬ発光部とを積層して構成し、両面に互いに独立して発光することができる両面発光のＥＬ発光素子において、一方のＥＬ発光部の発光により他方のＥＬ発光部の発光強度が経時的に変化し、発光強度のむらが生じた。
【解決手段】 第１のＥＬ発光部と第２のＥＬ発光部との間に均熱層を形成し、一方のＥＬ発光部の発光による熱が他方のＥＬ発光部の発光における経時的な変化を低減させて、発光むらが発生することを抑制した。
【選択図】図１

Description

本発明は、透光性基板上に形成したＥＬ発光素子に関し、特に透光性基板の表面及び裏面に独立して発光するＥＬ発光素子に関する。

従来から有機ＥＬ発光素子が知られており、携帯電話のバックライト等に実用化されている。有機ＥＬ素子は低電圧駆動のカラー発光が可能である。また、基板表面に薄膜を堆積して形成することができることから、厚さが薄い軽量小型の発光源を得ることができる。有機ＥＬ発光素子は基本的に薄膜層を積層する構造である。そのために、第１のＥＬ発光部の上に重ねて第２のＥＬ発光部を形成し、複数の発光層から発光させることができる（例えば特許文献１を参照）。

また、第１のＥＬ発光部と第２のＥＬ発光部を積層して透光性基板上に形成し、第１のＥＬ発光部による発光を基板の裏面側に取り出し、第２のＥＬ発光部による発光を基板の表面側に取り出す。そして、第１のＥＬ発光部と第２のＥＬ発光部とをそれぞれ独立に制御して異なる画像等を表示させることができる（例えば特許文献２を参照）。

図９は、透光性基板１００の表面に、第１のＥＬ発光部と第２のＥＬ発光部とを積層して形成したＥＬ発光素子の断面図である。第１のＥＬ発光部は、透光性基板１００の表面に形成した第１電極１０１ａ、１０１ｂ及び１０１ｃと、これらの電極を覆うように形成した第１発光層１０２と、第１発光層１０２の上に形成した第２電極１０３ａ、１０３ｂ及び１０３ｃとから構成される。第２のＥＬ発光部は、第２電極１０３ａ、１０３ｂ及び１０３ｃと、これらの電極を覆うように形成した第２発光層１０４と、第２発光層１０４の上に形成した第３電極１０５ａ、１０５ｂ及び１０５ｃとから構成されている。そして、第１のＥＬ発光部及び第２の発光部はＥ領域、Ｆ領域及びＧ領域の３つに分割されている。

第１のＥＬ発光部は、第１電極１０１ａ、１０１ｂ及び１０１ｃと第２電極１０３ａ、１０３ｂ及び１０３ｃとの間に電圧を印加して第１発光層１０２の両電極間で挟まれた部分が発光する。第１電極を透明電極により構成すれば、発光した光は透光性基板１００を通して裏面側へ取り出すことができる。第２のＥＬ発光部は、第２電極１０３ａ、１０３ｂ及び１０３ｃと第３電極１０５ａ、１０５ｂ及び１０５ｃとの間に電圧を印加して第２発光層１０４の両電極間で挟まれた部分が発光する。第３電極１０５ａ、１０５ｂ及び１０５ｃを透明電極にすれば、発光した光は表面上方へ取り出すことができる。従って、裏面側に取り出すことができるＥＬ発光と、表面側に取り出すことができるＥＬ発光とは独立に制御することができる。
特開２００６−１１４４５２号公報 特開２００５−２６７９２６号公報

しかしながら、例えば発光層が有機ＥＬ発光層の場合には、発光する時間と共に発光強度が低下する劣化現象が存在する。特に、熱が印加された状態で長時間発光させると、輝度低下をきたす、という性質がある。図９において、領域Ｅ２、領域Ｆ２及び領域Ｇ２の第２発光層を所定時間発光させる。その際に、領域Ｆ１の第１発光層も共に発光させる。これに対して領域Ｅ１及び領域Ｇ２の第２発光層は発光させていない。そして一旦消灯して冷却後に、第２発光層は発光させず、第１発光層のみ発光させる。

図１０は、上記第１発光層を発光させたときの、発光輝度の変化を表すグラフである。横軸が経過時間（Ｈ）であり、縦軸が輝度変化率（％）である。グラフ中の四角記号が領域Ｅ１又は領域Ｇ１の第１発光層１０２からの発光の輝度変化率を表し、グラフ中の三角記号が領域Ｆ１の第１発光層１０２からの発光の輝度変化率を表す。図１０から明らかに、領域Ｆ１の輝度変化率が大きく、領域Ｅ１又は領域Ｇ１の輝度変化率は小さい。

発光層は発光する際に温度が上昇する。即ち、第２発光層１０４の領域Ｆ２は発光して温度が上昇し、その状態で第１発光層１０２の領域Ｆ１を発光させた。これに対して、領域Ｅ２および領域Ｇ２の第２発光層１０４は発光していない状態で、第１発光層１０２の領域Ｅ１及び領域Ｇ１を発光させた。このことから、図１０は、高温の状態で発光層を発光させると発光輝度が経時的に低下する輝度低下率が大きくなることを示している。この性質のために、第１のＥＬ発光部と第２のＥＬ発光部とを積層して構成したＥＬ発光素子においては、一方のＥＬ発光部の発光によって他方のＥＬ発光部の発光輝度が影響を受け、均一な表示が得られなくなる、という課題があった。

本発明は、上記の課題を解決するためになされた。

上記の課題を解決するために、以下の手段を講じた。

（１）第１のＥＬ発光部と第２のＥＬ発光部とが近接して形成され、互いに独立に発光可能なＥＬ発光素子において、前記第１のＥＬ発光部と前記第２のＥＬ発光部との間に均熱層が形成されているＥＬ発光素子とした。

（２）上記（１）のＥＬ発光素子において、前記均熱層は、高熱伝導層から成るようにした。

（３）上記（１）又は（２）のＥＬ発光素子において、前記均熱層は、金属材料からなるようにした。

（４）上記（１）〜（３）のいずれか１のＥＬ発光素子において、前記均熱層は、絶縁層と金属層からなるようにした。

（５）上記（４）のＥＬ発光素子において、前記均熱層は、前記第１のＥＬ発光部又は前記第２のＥＬ発光部の側端部から延在して形成されるようにした。

（６）上記（１）〜（５）のいずれか１のＥＬ発光素子において、前記第１のＥＬ発光部は、透光性基板の上に第１透光性電極層、第１発光層、第１電極層の順に積層して形成されており、前記均熱層は、前記第１電極層の上に形成されており、前記第２のＥＬ発光層は、前記均熱層の上に第２電極層、第２発光層、第２透光性電極層の順に積層して形成されるようにした。

（７）上記（６）のＥＬ発光素子において、前記均熱層は、前記透光性基板の表面垂直方向に向かって前記第１透光性電極層、前記第１電極層、前記第２電極及び前記第２透光性電極層のいずれの電極も形成されない領域に延在して形成されるようにした。

第１のＥＬ発光部と第２のＥＬ発光部との間に均熱層を設けることにより、一方のＥＬ発光部の発光層により発熱した場合に、その熱を周囲や外部に速やかに拡散させて、他方のＥＬ発光部の特定領域のみ発光特性が変化するのを抑制した。

以下、本発明について図面を用いて詳細に説明する。

図１は、本発明の実施の形態に係るＥＬ発光素子１を表す模式的な縦断面図である。透光性基板２の上に、第１透光性電極層３、第１発光層４、第１電極層５を積層して構成した第１のＥＬ発光部１０を形成している。第１のＥＬ発光部１０の上には、第１のＥＬ発光部１０を覆うようにして均熱層６を形成する。均熱層６の上には第２電極層７、第２発光層８、第２透光性電極層９を積層して構成した第２のＥＬ発光部１１を形成している。従って、第１のＥＬ発光部１０と第２のＥＬ発光部とは積層するようにして近接して形成されている。

第１のＥＬ発光部１０から発光した光は透光性基板２の下方へ発光する。第２のＥＬ発光部１１から発光した光は透光性基板２の上部に向けて発光する。また、第２のＥＬ発光部１１の面積は第１のＥＬ発光部１０よりも小さい。第１のＥＬ発光部１０は第１透光性電極層３と第１電極層５により第１発光層に電圧を印加することにより発光する。第２のＥＬ発光部１１は第２電極層７と第２透光性電極層９により第２発光層に電圧を印加することにより発光する。従って、第１のＥＬ発光部１０と第２のＥＬ発光部１１とは互いに独立に発光させることができる。

そして、均熱層６を設けることにより、各発光部の発光により発熱した場合でも、速やかにこの熱を拡散させることができる。例えば、第２のＥＬ発光部１１を発光させると、領域Ｂの第２のＥＬ発光部１１が加熱する。この場合に、均熱層６は上部の第２のＥＬ発光部１１において発生した熱を拡散させる。その結果、均熱層６の下部の第１のＥＬ発光部１０に対しては、熱が平均化される。そのために、第１のＥＬ発光部１０は領域Ａ、領域Ｂ、領域Ｃ間において温度差を低減させることができる。

次に各構成要素について説明する。透光性基板２は無アルカリガラスを使用した。無アルカリガラスは発光層にアルカリ成分が混入することを防止するためである。その他に、石英ガラスやアルカリ溶出の防止するためのコーティングを施したホウケイ酸ガラスを使用することができる。また、防湿コートを施したガラスに代えて、透明プラスチックを使用することができる。透明プラスチックはガラスと異なり、屈曲可能なので使用する用途の拡大を図ることができる。

第１透光性電極層３及び第２透光性電極層９は、ＩＴＯ（インジウム・スズ酸化物）をスパッタリング法により約１５００Å堆積し、フォトリソグラフィ法及びエッチング法によりパターンを形成した。またＩＴＯに代えてＩＺＯ（インジウム・亜鉛酸化物）を使用することもできる。また。これらの酸化物と金属薄膜の堆積した多層構造とすることができる。通常ＩＴＯは正孔を注入する側の電極として使用する。

第１発光層４及び第２発光層８としてアルミニュウム錯体（Ａｌｑ３）を使用した。第１発光層４及び第２発光層８のアルミニュウム錯体は、真空蒸着法により約５００Å堆積し、フォトリソグラフィ法及びエッチング法によりパターン化した。発光層としてアルミニュウム錯体の他に、芳香族ジメチリディン化合物、スチリルベンゼン化合物、トリアゾール誘導体、アントラキノン誘導体、フルオノレン誘導体等の蛍光性有機物、ポリパラフィニレンビニレン系、ポリフルオレン系、ポリビニツカルバゾール系統の高分子材料等を用いることができる。

なお、第１発光層４は、発光層にキャリアーである正孔を効率よく注入するために、透明電極側から正孔注入層、正孔輸送層、発光層の３層の構造とすることができる。正孔注入層は注入効率を高めるためにイオン化ポテンシャルが小さい材料が選ばれる。正孔輸送層は、注入された正孔を発光層に速やかに輸送させるために構成される。例えば、正孔注入層としては、ＣｕＰｃ（銅フタロシアニンのポリフィン化合物）を２００Å堆積し、次に正孔輸送層としてα―ＮＰＤを３００Å堆積する。これらの堆積は、同一の真空蒸着器により真空を破らないで連続して堆積することができる。また、正孔注入層及び正孔輸送層としてＣｕＰｃやα―ＮＰＤに代えて、スターバスト型アミン、ベンジン型アミンの多量体、Ｎ−フェニルーｐ−フェニレンジアミン等の芳香族第三級アミン、スチルベンゼン化合物、トリアゾール誘導体、スチリルアミン化合物等を使用することができる。

第１電極層５及び第２電極層７は、Ａｌ（アルミニュウム）を蒸着法により約１５００Å堆積し、第１電極層５及び第２電極層７とした。また、Ａｌの他にＣｒ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｐｔ等の金属を使用することができる。第１電極層５及び第２電極層７は、発光層の電子注入効率を高めるために、発光層側からＬｉＦ（フッ化リチウム）、Ａｌの２層構造とすることができる。例えば、ＬｉＦを約５ÅとＡｌを約１５００Åを連続して真空蒸着法により堆積する。電子注入層としてＬｉＦの他に、ＬｉＯ２等の酸化金属、オキサジアゾール系化合物、トリアゾール系化合物、８−キノリノール誘導体の金属錯体等を用いることができる。また、第１電極層５及び第２電極層７として、金属電極の他にＩＴＯなどの透明電極を使用することができる。また、有機ＥＬ素子は水分、酸素による劣化を防止するために封止構造を必要とするが、図１及び他の図又は説明においては省略した。

なお、上記図１の実施の形態において、第２透光性電極層９として、ＩＴＯ膜の上、あるいはＩＴＯ膜の下に薄いＡｌ薄膜やＡｕ薄膜を形成して導電性を高めることができる。この場合のＡｌ薄膜は、第２発光層８において発光した光を透過する程度に薄く堆積させる。

均熱層６は、熱伝導率の高いＡｌ膜をスパッタ法により約５０００Å堆積した。均熱層６の熱伝導率は５０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上であることが好ましい。均熱層６は、Ａｌの他にＡｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ｍｏ等の金属あるいはこれらの合金を使用することができる。また、導電性材料の他にＳｉなどの半導体材料やその他の絶縁体材料を使用することができる。均熱層６は第１のＥＬ発光部１０の発光領域を覆うように形成する。このように形成することにより、第２のＥＬ発光部が発光して加熱される場合に、その下部の第１のＥＬ発光部が均一に加熱される。これにより、第１のＥＬ発光部１０の発光強度むらを抑制することができる。また、均熱層６を金属から成る導電体層により形成した場合には、均熱層６と第２電極層７とは電気的に接続される。即ち、電極を兼ねることができる。

図２は、図１に示すＥＬ発光素子の第１のＥＬ発光部１０の輝度変化を表すグラフである。横軸が時間（Ｈ）であり、縦軸が輝度変化率（％）である。まず、第１透光性電極層３と第１電極層５との間に電圧を印加して第１のＥＬ発光部１０を発光させる。同時に第２電極層７と第２透光性電極層９との間に電圧を印加して第２のＥＬ発光部を発光させる。発光強度はいずれも概ね５００カンデラ（ｃｄ／ｍ２）である。すると、第１発光層４及び第２発光層８はいずれも約８０℃程度にまで加熱される。そして、第１発光層４及び第２発光層８のいずれも消灯して冷却させ、その後第１透光性電極層及び第１電極層との間に電圧を印加して第１のＥＬ発光部のみを発光させ、透光性基板２の下方に光を照射させる。

図２において、領域Ｂの輝度変化率が図３に示す丸記号であり、領域Ａ又は領域Ｃの輝度変化率が四角記号で表している。同図から、領域Ｂと他の領域Ａ又は領域Ｃの輝度変化率の経時変化はほぼ同程度である。従って、第１のＥＬ発光部１０の発光面における発光むらが低減されていることが理解できる。

図３は、他の実施の形態に係るＥＬ発光素子１５を表す模式的な縦断面図である。同一の部分又は同一の機能を表す部分は同一の符号を付した。図１に示したＥＬ発光素子１と異なる部分は、均熱層６がひさし状に第１のＥＬ発光部１０から外部に延在する領域Ｄを有する点である。均熱層６は熱伝導性の高い材料を使用している。領域Ｄのように延在させることにより放熱フィンとして機能する。その結果、第１発光層４又は第２発光層８により生じた熱を素子外部へ放熱することが促進される。なお、図３に示す領域Ｄのように単にひさし状に構成する場合の他に、領域Ｄを更に延在して他の放熱部に接続するようにしてもよい。また、領域Ｄを第１のＥＬ発光部の周囲前面に設けるようにしてもよい。

図４は、他の実施の形態に係るＥＬ発光素子２０を表す模式的な縦断面図である。同一の部分又は同一の機能を有する部分は同一の符号を付した。図１に示したＥＬ発光素子と異なる部分は、均熱層６が２層構造を有する点である。第１電極層５の上に第１絶縁層６ａと熱伝導層６ｂの順に堆積して形成した。このように堆積することにより、第１電極層５と第２電極層７とを電気的に分離している。第１絶縁層６ａはシリコン窒化膜をプラズマＣＶＤにより約２０００Å堆積し、次に、熱伝導層６ｂはＡｌをスパッタ法により約５０００Å堆積した。例えば、第１のＥＬ発光部１０は、第１透光性電極層３と第１電極層５とを多数のストライプ状の電極として互いに直交させたドットマトリクス表示とし、第２のＥＬ発光部１１は平面発光素子とする場合などに好適である。

図５は、他の実施の形態に係るＥＬ発光素子２５を表す模式的な縦断面図である。同一の部分又は同一の機能を有する部分は同一の符号を付した。図１に示したＥＬ発光素子と異なる部分は、均熱層６が３層構造を有する点である。第１電極層５の上に第１絶縁層６ａ、熱伝導層６ｂ、第２絶縁層６ｃを順に堆積している。このように構成することにより、第１電極層５と第２電極層７とを電気的に分離している。後に説明するが、第１のＥＬ発光部１０と第２のＥＬ発光部１１とを、多数の電極によりドットマトリクスを構成し、互いに独立にグラフィック画像を表示する場合などに好適である。

第１絶縁層６ａ及び第２絶縁層６ｃはシリコン窒化膜約２０００ÅをプラズマＣＶＤにより堆積し、熱伝導層６ｂとしてＡｌを約５０００Åスパッタ法により堆積する。その後、必要に応じてフォトリソグラフィ法及びエッチング法によりパターニングを行う。

図６は、他の実施の形態に係るＥＬ発光素子３０を表す模式的縦断面図である。同一の部分又は同一の機能を有する部分は同一の符号を付した。第１のＥＬ発光部１０及び第２のＥＬ発光部１１は、図４において示した構造と同一である。ただし、均熱層６は第１のＥＬ発光部１０から第１のＥＬ発光部１０の側面を経て透光性基板２の表面に延在する。そして、均熱層６の熱伝導層６ｂの表面に吸熱部２１を接触させる。吸熱部２１は、例えばＥＬ発光素子２５を固定する固定枠とすることができる。これにより、第１発光層４及び第２発光層８において発光させたときに発生する熱を吸熱部２１により吸熱させることができ、第１のＥＬ発光部１０及び第２のＥＬ発光部１１の温度上昇を低減させ、発光むらを抑制することができる。

図７（ａ）は、他の実施の形態に係るＥＬ発光素子３５を表す模式的な外観図であり、図７（ｂ）は、部分Ｘ−Ｘ’の断面図である。同一の部分又は同一の機能を有する部分は同一の符号を付した。本実施の形態では、第１のＥＬ発光部１０と第２のＥＬ発光部１１とはドットマトリクス状の発光面を有し、グラフィック画像等の表示を行うことができる。そして、この第１のＥＬ発光部１０と第２のＥＬ発光部１１とは３層構造の均熱層６により分離されている。

透光性基板２の上に、複数のストライプ状の第１透光性電極層Ａ３ａと第１透光性電極層Ｂ３ｂとを分離して形成する。第１透光性電極層３の上に、第１発光層４を全面に堆積して形成する。第１発光層４の表面に、複数のストライプ状の第１電極層Ａ５ａと第１電極層Ｂ５ｂとを分離して形成する。第１電極層５及び第１発光層４の上に３層構造の均熱層６を積層形成している。均熱層６は図５において説明したように、下側から第１絶縁層６ａ、熱伝導層６ｂ及び第２絶縁層６ｃの順で構成している。第２絶縁層６ｃの上に、第１電極層５と対応する位置に複数のストライプ状の第２電極層Ａ７ａ及び第２電極層Ｂ７ｂとを分離して形成する。第２電極層７及び第２絶縁層６ｃの上を覆うようにして第２発光層８を全面に堆積して形成する。第２発光層８の上には、第１電極層と対応する位置に複数のストライプ状の第２透光性電極層Ａ９ａ及び第２透光性電極層Ｂ９ｂとを分離して形成する。従って、第１のＥＬ発光部１０と第２のＥＬ発光部とは積層するようにして近接して形成されている。

第１のＥＬ発光部１０においては、例えば、第１電極層Ａ５ａと第１透光性電極層Ａ３ａとの間に電圧を印加すれば、当該２つの電極の交差部の第１発光層４が発光する。他の電極の交差部も同様に選択的に発光させることができる。第２のＥＬ発光部１１においては、例えば、第２電極層Ａ７ａと第２透光性電極層Ｂ９ｂとの間に電圧を印加すれば、当該２つの電極の交差部の第２発光層８が発光する。他の電極の交差部も同様に選択的に発光させることができる。これにより、第１のＥＬ発光部１０と第２のＥＬ発光部１１とを独立に互いに異なる画像を発光表示させることができる。なお、本実施の形態では各ＥＬ発行部を２×２のマトリクス状発光面を有するＥＬ発光素子３５としているが、更に多数のストライプ状電極として、グラフィック画像等を表示発光させる表示パネルとして構成することができる。

そして、均熱層６は透光性基板２の表面垂直方向にいずれの電極も形成されていない領域にも形成されている。即ち、発光表示面の全面に形成されている。例えば、第２のＥＬ発光部１１の第２電極層Ａ７ａと第２透光性電極層Ａ９ａとの間に電圧を印加して発光させた場合に、この２つの電極に挟まれた第２発光層８が発光して発熱する。そして、その熱は均熱層６により基板平面方向の全方向に拡散する。そのために、熱が第２電極層Ａ７ａを介して拡散する場合よりも熱の拡散効率が向上する。その結果、当該発光している第２発光層８の下部の第１発光層４を局所的に加熱して、当該第１発光層４を局所的に劣化させることを抑制することがきる。

図８（ａ）は、他の実施の形態に係るＥＬ発光素子４０を表す模式的な縦断面図であり、図８（ｂ）は、その平面図である。同一の部分又は同一の機能を表す部分には同一の符号を付した。

図８（ａ）及び図８（ｂ）において、透光性基板２の上に、紙面下方に向かってストライプ状の第１透光性電極層Ａ３ａ及び第１透光性電極層Ｂ３ｂと、第１発光層４と、ストライプ状の第２電極層Ａ７ａ及び第２電極層Ｂ７ｂとが順に積層して第１のＥＬ発光部１０を構成している。第２電極層７及び第１発光層４の上に均熱層６を形成している。均熱層６は、第１絶縁層６ａ、熱伝導層６ｂ及び第２絶縁層６ｃから構成されている。第２絶縁層６ｃの上には、ストライプ状の第２電極層Ａ７ａ及び第２電極層Ｂ７ｂと、第２発光層８と、紙面下方に向かって複数のストライプ状の第２透光性電極層Ａ９ａ及び第２透光性電極層Ｂ９ｂとが順に積層して第２のＥＬ発光部１１を構成している。第１のＥＬ発光部１０は、第１透光性電極層Ａ３ａ及び第１透光性電極層Ｂ３ｂと、第１電極層Ａ５ａ及び第１電極層Ｂ５ｂとが重なる領域の第１発光層４である。即ち、領域Ｘ１１、領域Ｘ１２、領域Ｘ２１及び領域Ｘ２２が発光する領域である。第２のＥＬ発光部１１は、第２電極層Ａ７ａ及び第２電極層Ｂ７ｂと、第２透光性電極層Ａ９ａ、第２透光性電極層Ｂ９ｂ及び第２透光性電極層Ｃ９ｃとが重なる領域の第２発光層８である。即ち、領域Ｙ１１、領域Ｙ１２、領域Ｙ１３、領域Ｙ２１、領域Ｙ２２及び領域Ｙ２３が発光する領域である。

従って、第１のＥＬ発光部１０の発光領域と、第２のＥＬ発光部１１の発光領域とは重ならない構造を有している。従って、両方の発光部を同時に発光しても、発光している発光層同士は重なることがない。即ち、図７において示した実施の形態の場合よりも直接的な影響は少ない。しかし、一方の発光層が発光している間は、その発光している領域の周囲も加熱される。例えば、第１のＥＬ発光部の領域Ｘ２１を発光させているときは、これに近接する第２のＥＬ発光部の領域Ｙ１１、領域Ｙ２１、領域Ｙ１２及び領域Ｙ２２が加熱される。そこで、第１のＥＬ発光部１０と第２のＥＬ発光部１１との間に均熱層６を設けた。これにより、熱の影響による発光層が劣化をより抑制することができる。

なお、図２の劣化特性について、上下両方の発光層が重なる場合において、他の発光層から加熱されながら発光した発光層と加熱されないで発光した発光層との間で、発光強度差の劣化特性が大きく異なることを説明した。しかし、上下の発光層を同時に駆動しないで、単に一方の発光層を発光させて他方の発光層を高温に長時間晒す場合であっても、発光層の膜質を変化させ、発光強度の劣化特性が変化する場合も考えられる。このような場合にも、本発明の均熱層６を設けることにより発光層の温度上昇を抑制することができるので、信頼性の高いＥＬ発光素子を提供することができる。

また、上記の説明において、第１のＥＬ発光部１０と第２のＥＬ発光部１１との間に均熱層６を設けたが、更に第１のＥＬ発光部１０と透光性基板２との間や、第２のＥＬ発光部１１の上部に均熱層を設けることにより、更に熱の拡散を促進させ温度の上昇を抑制することができる。また、ＥＬ発光部が２層の場合について説明してきたが、ＥＬ発光部が２層以上の場合であっても、各ＥＬ発光部との間に均熱層を設けることにより、他の発光層の劣化を抑制することができる。

本発明の実施形態に係るＥＬ発光素子を表す模式的な縦断面図である。 本発明の実施形態に係るＥＬ発光素子の輝度変化を表すグラフである。 本発明の実施形態に係るＥＬ発光素子を表す模式的な縦断面図である。 本発明の実施形態に係るＥＬ発光素子を表す模式的な縦断面図である。 本発明の実施形態に係るＥＬ発光素子を表す模式的な縦断面図である。 本発明の実施形態に係るＥＬ発光素子を表す模式的な縦断面図である。 本発明の実施形態に係るＥＬ発光素子を表す模式的な縦断面図である。 本発明の実施形態に係るＥＬ発光素子を表す模式的な縦断面図である。 従来から公知のＥＬ発光素子の模式的な縦断面図である。 従来から公知のＥＬ発光素子の輝度変化を表すグラフである。

符号の説明

１ ＥＬ発光素子
２ 透光性基板
３ 第１透光性電極層
４ 第１発光層
５ 第１電極層
６ 均熱層
７ 第２電極層
８ 第２発光層
９ 第２透光性電極層
１０ 第１のＥＬ発光部
１１ 第２のＥＬ発光部

Claims (7)

1. 第１のＥＬ発光部と第２のＥＬ発光部とが近接して形成され、互いに独立に発光可能なＥＬ発光素子において、
   前記第１のＥＬ発光部と前記第２のＥＬ発光部との間に均熱層が形成されていることを特徴とするＥＬ発光素子。
2. 前記均熱層は、高熱伝導層から成ることを特徴とする請求項１に記載のＥＬ発光素子。
3. 前記均熱層は、金属材料からなることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のＥＬ発光素子。
4. 前記均熱層は、絶縁層と金属層とからなることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のＥＬ発光素子。
5. 前記均熱層は、前記第１のＥＬ発光部又は前記第２のＥＬ発光部の側端部から延在して形成されていることを特徴とする請求項４に記載のＥＬ発光素子。
6. 前記第１のＥＬ発光部は、透光性基板の上に第１透光性電極層、第１発光層、第１電極層の順に積層して形成されており、
   前記均熱層は、前記第１電極層の上に形成されており、
   前記第２のＥＬ発光層は、前記均熱層の上に第２電極層、第２発光層、第２透光性電極層の順に積層して形成されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のＥＬ発光素子。
7. 前記均熱層は、前記透光性基板の表面垂直方向に向かって前記第１透光性電極層、前記第１電極層、前記第２電極及び前記第２透光性電極層のいずれの電極も形成されない領域に延在して形成されていることを特徴とする請求項６に記載のＥＬ発光素子。

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