JP2008146291A - メダル洗浄装置 - Google Patents

Abstract

【課題】大きさの異なるメダルが混じって搬入されても処理できると共に、メダル両面をより綺麗に洗浄することができるメダル洗浄装置を提供する。
【解決手段】表面に高さがメダルＭの厚さよりも低い係合部２２ａを該搬送ベルトの幅方向にメダルの直径よりも狭い間隔にて横並びに形成した無端搬送ベルト２１ａから成るメダル搬送するコンベヤ２０ａと、洗浄液を含浸し前記搬送ベルトの搬送面に対して適宜間隔を離して平行に張設された無端帯状のウエット拭布３１ａを前記コンベヤ２０ａと同じ方向により低い速度で走行させてメダル表面を拭う拭布支持機構３０ａと、押圧板４２ａを前記ウエット拭布の背面に設け、該押圧板によって該ウエット拭布をメダル表面に弾性的に押圧する拭布押圧機構４０ａとからなる第１洗浄部Ａと、前記第１洗浄部Ａにおける上下を倒置した関係にてコンベヤ２０ｂと拭布支持機構４０ｂを配設した第２洗浄部Ｂを設ける。
【選択図】図１

Description

本発明は、遊技媒体としてメダル（コイン，円形チップと同じ）を使用するスロットマシン、コインゲーム機、パチンコ機等の遊技機が多数設置された遊技場に設けられ、該メダルを洗浄するための装置に関するものである。

遊技場にて遊技媒体として使用されるメダルは、遊技者の手垢や循環通路との摩擦等によって汚れることからその循環通路の途中に従来からメダル洗浄装置が設けられ、メダルが清浄に保たれるようにしている。
下記特許文献１〜４は、従来のメダル洗浄装置（コイン研磨装置に同じ）を例示するもので、特許文献１，２では、メダルを水平にし該メダルを搬送ベルトとガイドにより挟んで回転させながら搬送すると共に該メダルの上下面に研磨布を摺接させるように構成している。また、特許文献３では、メダル押出手段を備えていて、メダルが上下の研磨布間に押し出されるように構成されたものであった。また、特許文献４は、メダルの厚み以下の板材にメダル保持枠部を形成したメダル保持部材を多数連結してメダル搬送装置を構成するとともに、これを両側から挟むように研磨布を配設し、メダル搬送装置により搬送されるメダルの両面が該研磨布により研磨・洗浄されるように構成したものである。
特開平７−２２０１３４号公報 特開平７−２２０１３６号公報 特許第３６６０１１２号 特許第３７６７８１３号

ところで、メダルには一般に直径３０ｍｍのものと直径２５ｍｍのものとがあって、遊技機の種類によってそれぞれ使用し得るメダルが異なるというのが現況である。このため多数台の遊技機を設置した遊技場では、大小２種類のメダルが混じって流通しているのが現状であり、この２種類のメダルをいかに間違いなく扱うかという問題と、いかに省設備、省スペースで両メダルを処理できるかということが問題となっている。

ところが、上記特許文献１〜３に示されたような従来のメダル洗浄装置は、メダルの直径が一定のものにしか対応していないので、大小のメダルが混じって搬入されると対処できず、故障、停止するという問題があった。
また、特許文献４に示されたメダル洗浄装置は、搬送装置の構成が複雑で装置が大型化するとともに、メダルの両面を同時に研磨布に接触させて洗浄するものであったので、メダルの両面に十分な摩擦力が掛からず、綺麗に洗浄されないという問題があった。
本発明はこれらの問題点を解消しようとするものである。

上記課題を達成するために請求項１に記載したメダル洗浄装置は、無端状の搬送ベルトの表面に高さがメダルの厚さよりも低い係合部を形成すると共に、該搬送ベルトを定方向に駆動することにより該係合部に係合してメダルが搬送されるようにしたコンベヤと、洗浄液が含浸されたウエット拭布を前記搬送ベルトの搬送面に対して適宜間隔を離して平行に張設し前記メダルの表面を拭うようにする拭布支持機構とからなることを特徴とする。
このため、直径の異なる大小のメダルを確実に搬送させウエット拭布に接触させてその汚れを拭き取ることができる。

また、請求項２に記載した発明は上記メダル洗浄装置において、押圧板を前記ウエット拭布の背面に設け、該押圧板によって該ウエット拭布をメダル表面に弾性的に押圧する拭布押圧機構を設けたことを特徴とする。
このため、ウエット拭布がメダル表面に適宜押圧力により圧着され、メダルをより綺麗に清浄することができる。

また、請求項３に記載した発明は上記メダル洗浄装置において、ウエット拭布をメダル搬送方向と同方向であって搬送ベルトよりも低速にて走行させるようにしたことを特徴とする。
このため、ウエット拭布とメダルとの相対速度が生じ、メダル搬送中に該メダル表面を該ウエット拭布によって拭うことができると共に、メダルを側方に脱落させるおそれなく安定して搬送することができる。

また、請求項４に記載したメダル洗浄装置は、第１洗浄部と第２洗浄部とによってメダルを片面ずつ順に洗浄するメダル洗浄装置であって、第１洗浄部は、無端状の搬送ベルトによりメダルが搬送されるようにしたコンベヤと、洗浄液が含浸された無端帯状のウエット拭布を前記搬送ベルトの搬送面に対して適宜間隔を離して平行に張設し該ウエット拭布を走行させることにより該ウエット拭布によってメダル表面が拭われるようにする拭布支持機構と、押圧板を前記ウエット拭布の背面に設け、該押圧板によって該ウエット拭布をメダル表面に弾性的に押圧する拭布押圧機構とからなり、第２洗浄部は、前記第１洗浄部におけるコンベヤと拭布支持機構とを倒置した関係にてコンベヤと拭布支持機構を配設すると共に該コンベヤの搬送ベルトは表面に細かな凹凸を形成することで高摩擦性のものとすることによりメダルをウエット拭布と該搬送ベルトとの間で移動させるものであることを特徴とする。
このように第１洗浄部と第２洗浄部を設けたことにより、メダルを片面ずつ綺麗に洗浄することが可能となる。

また、請求項５に記載したメダル洗浄装置は、第１洗浄部と第２洗浄部とによってメダルを片面ずつ順に洗浄するメダル洗浄装置であって、第１洗浄部は、無端状の搬送ベルトの表面に高さがメダルの厚さよりも低い係合部を該搬送ベルトの幅方向にメダルの直径よりも狭い間隔にて横並びに形成すると共に、該搬送ベルトの搬送面がメダル集合箱から斜め上向きに起立姿勢となるように支持することにより該メダル集合箱のメダルが該係合部間に係合して斜め上向きに搬送されるようにしたコンベヤと、洗浄液が含浸された無端帯状のウエット拭布を前記搬送ベルトの搬送面に対して適宜間隔を離して平行に張設すると共に、該ウエット拭布を定方向に走行させることにより該ウエット拭布によってメダル表面が拭われるようにする拭布支持機構と、押圧板を前記ウエット拭布の背面に設け、該押圧板によって該ウエット拭布をメダル表面に弾性的に押圧する拭布押圧機構とからなり、第２洗浄部は、前記第１洗浄部における上下を倒置した関係にてコンベヤと拭布支持機構を配設し、該コンベヤの搬送ベルトは表面に細かな凹凸を形成することで高摩擦性のものとすることによりメダルをウエット拭布と該搬送ベルトとの間で斜め下向きに移動させるものであることを特徴とする。
このように、第１洗浄部では重力に反して斜め上向きに搬送されるメダルに対してウエット拭布を押圧しメダルを磨き上げることにより高い研磨効果が得られる。また第２洗浄部ではメダルが自重によっても斜め下向きに移動するので、メダルが途中で詰まるおそれもなく、移動がスムースになる。

また、請求項６に記載した発明は上記請求項４または５に記載したメダル洗浄装置において、第１洗浄部の搬送ベルトの走行速度を第２洗浄部の搬送ベルトの走行速度よりも低速に設定すると共に、該第１洗浄部および第２洗浄部のウエット拭布の走行速度を該各搬送ベルトの走行速度よりも低速に設定したことを特徴とする。
このため、第２洗浄部にメダルが滞留するようなトラブルが生じ難くなり、メダルが常にスムースに搬送される。

また、請求項７に記載した発明は上記請求項４〜６に記載したメダル洗浄装置において、第１洗浄部のコンベヤと第２洗浄部のコンベヤとは渡し板を介して正面「ヘ」字形に連なるよう配置したことを特徴とする。
このため、第１洗浄部および第２洗浄部にそれぞれ長いウエット拭布を設けても、平面視した場合の全長が抑制され、設置スペースを要しないので、洗浄装置を小型化することができる。

また、請求項８に記載した発明は上記メダル洗浄装置において、周壁に複数の小孔が開設された中空状の支軸にガイドローラを回転自在に支持し、該ガイドローラに前記ウエット拭布を張設し、該支軸中に供給された洗浄液を該小孔から吐出させることにより該ウエット拭布に洗浄液が定量ずつ補給されるようにしたことを特徴とする。
このため、ウエット拭布が常に適切な湿潤状態に保たれ、洗浄効果を高めることができる。

また、請求項９に記載した発明は上記メダル洗浄装置において、電動により突上棒を底部から出没動させるメダル攪拌装置をメダル集合箱に設けたことを特徴とする。
このため、メダル集合箱のメダルをコンベヤの搬送面上に確実に送り出すことができる。

大きさの異なるメダルが混じって搬入されてもこれらを問題なく洗浄処理できる。このため、遊技場におけるメダル洗浄装置の設備コスト、設置スペース等が軽減される。また、メダルをより綺麗に洗浄することができる。

図１は本発明に係るメダル洗浄装置を縦断面した正面図である。同図中、Ａは第１洗浄部、Ｂは第２洗浄部、１０はメダル集合箱で、該メダル集合箱に収容されたメダルＭ１，Ｍ２は第１洗浄部Ａと第２洗浄部Ｂを通過することにより片面ずつ順に洗浄されてホッパー１１に至る。

第１洗浄部Ａおよび第２洗浄部Ｂは鉛直に支持された組付板１２の前面に形成されており、２０ａは第１洗浄部Ａのコンベヤ、２０ｂは第２洗浄部Ｂのコンベヤである。メダル集合箱１０は上面１０ａが開放され底面１０ｂが傾斜面に形成され、その傾斜下方側面に第１洗浄部Ａのコンベヤ２０ａの下端部が臨んでいる。

図２は第１洗浄部Ａの拡大縦断面図、図３はそのＡ−Ａ線断面図で、コンベヤ２０ａの無端状の搬送ベルト２１ａは、定幅帯状のゴム布ベルトからなり、図４の斜視図にも示したように、高さがメダルＭ１，Ｍ２の厚さよりも少し低く（高さ１．４ｍｍ）、直径が３ｍｍ程の多数の係合部２２ａが、ベルト表面の幅方向にはメダルＭ１，Ｍ２の直径よりも狭い２２ｍｍの間隔にて横並びに形成され、ベルト表面の長手方向にはメダルＭ１，Ｍ２の直径よりも広い３５ｍｍの間隔にて連続して形成されたものである。２３ａ，２４ａは該搬送ベルト２１ａを巻回している該コンベヤ２０ａの駆動ローラと従動ローラである。該コンベヤ２０ａは、該搬送ベルト２１ａの搬送面がメダル集合箱１０から斜め上向きに起立（起立角度：約７０度）姿勢となるように支持され、該搬送ベルト２１ａを矢印で示した方向に駆動することにより該メダル集合箱中のメダルＭ１，Ｍ２を図４に示したように隣り合う一対の係合部２２ａの間に填ったような状態で係合させて斜め上向きに搬出させる。

１３はメダル集合箱１０に設けられたメダル攪拌装置で、該メダル攪拌装置は、図５に示したように、底面１０ｂに複数の突上棒１４をそれぞれ貫通するように設けると共に、低速回転モータ１５の回転軸に複数の偏心カム１６を隣接状に設け、該偏心カム１６の外周に摺接するようにリング１７をそれぞれ設け、該リングに該各突上棒１４の下端部を連結し、該偏心カム１６が回転すると該突上棒１４がメダル集合箱１０内に出没動することから、該メダル集合箱１０内のメダルＭ１，Ｍ２が攪拌されるようにしたもので、この攪拌によりメダル集合箱１０中のメダルＭ１，Ｍ２を搬送ベルト２１ａの係合部２２ａ間に係合させ易くしている。

また、３０ａは、洗浄液が含浸された無端帯状のウエット拭布３１ａを前記搬送ベルト２１ａの搬送面に対して適宜間隔を離して平行に張設すると共に、該ウエット拭布３１ａを定方向に走行させることにより該ウエット拭布によってメダルＭ１，Ｍ２の表面を拭う拭布支持機構で、ガイドローラ３２ａとガイドローラ３３ａおよび駆動ゴムローラ３４ａに該ウエット拭布３１ａを巻回すると共に、テンションローラ３５ａを該ウエット拭布３１ａに圧接することにより、該ウエット拭布は前記搬送ベルト２１ａの搬送面に対し平行に張設され、駆動ゴムローラ３４ａが回転動することで該ウエット拭布を矢印で示した方向に走行させる。なお、ウエット拭布３１ａの走行速度は搬送ベルト２１ａの走行速度よりも低速（約１／１０の速度）となるように設定される。このようにウエット拭布３１ａをメダル搬送方向と同方向であって搬送ベルトよりも低速にて走行させることにより、該ウエット拭布３１ａが摩擦によって搬送中のメダルに過剰な負荷を掛け、メダルが搬送ベルトの両脇に飛び出してしまうことのないようにしている。

また、上記ガイドローラ３２ａは、図６に示したように、軸方向に分断された複数のローラ部材３６ａがそれぞれ中空状の支軸３７ａに回転自在に支持され、該支軸の周壁には複数の小孔３８ａが開設されている。
そして、該支軸の一端を電磁弁を介して洗浄液タンクに連通させ、タイマーの作動によって例えば５分おきに該電磁弁が開かれて該洗浄液タンクから洗浄液が上記ガイドローラ３２ａに例えば２〜３ｃｃずつ補給され、該洗浄液を小孔３８ａから吐出させることにより、ウエット拭布３１ａが常に適度な湿潤状態に維持されるようにしている。
なお、ウエット拭布３１ａの湿潤状態を検出する湿潤センサーを設け、その検出によって洗浄液タンクから洗浄液が自動的に補給され、該ウエット拭布３１ａが適度な湿潤状態に保たれるようにしてもよい。

また、４０ａは搬送ベルト２１ａによって搬送されるメダルＭ１，Ｍ２の表面にウエット拭布３１ａを弾性的に押圧するために設けられる拭布押圧機構で、該拭布押圧機構は、図７に示したように、表面に適宜間隔で複数条の縦溝４１ａが形成された合成樹脂製の押圧板４２ａをカバー板４３ａの内側に配置し、該押圧板４２ａの背面に固植された支持軸４４ａをカバー板４３ａに貫挿すると共に、該押圧板４２ａとカバー板４３ａとの間にコイルバネ等の弾性体４５ａを圧縮状態にて介在させ、該カバー板４３ａをコンベヤ２０ａのフレームに複数の摘子ネジ４６ａにより着脱自在に組み付けることにより、該弾性体４５ａの弾性により該押圧板４２ａがウエット拭布３１ａを背面から押圧し得るように構成している。なお、摘子ネジ４６ａを緩めることによりカバー板４３ａ，押圧板４２ａがコンベヤフレームから着脱され、ウエット拭布３１ａを必要に応じて交換できるようにしている。

次に第２洗浄部Ｂの構成を説明する。第２洗浄部Ｂは、第１洗浄部Ａにおける上下を倒置した関係にてコンベヤ２０ｂと拭布支持機構３０ｂが配置され、該コンベヤ２０ｂの搬送ベルト２１ｂと拭布支持機構３０ｂのウエット拭布３１ｂによって形成される搬送面が斜め下向き（下傾角度：約３０度）姿勢となるようにしている。４７は第１洗浄部Ａのコンベヤ２０ａの上端部から排出されたメダルＭ１，Ｍ２を受けて該メダルを自重で第２洗浄部Ｂの搬送ベルト２１ｂとウエット拭布３１ｂとの間隔に導くために傾斜状に設けられた渡し板である。このため、第１洗浄部Ａのコンベヤ２０ａと第２洗浄部Ｂのコンベヤ２０ｂとは組付板１２の前面に渡し板４７を介して正面「ヘ」字形に連なるように配置される。なお、コンベヤ２０ｂは上記コンベヤ２０ａと同様に定幅帯状のゴムベルトからなる搬送ベルト２１ｂを駆動ローラ２３ｂと従動ローラ２４ｂに巻掛してなるものであるが、該搬送ベルト２１ｂは表面に搬送ベルト２１ａのような係合部は形成されず、図８に示したように、表面に細かな凹凸が形成されたものを用いることで、メダル表面に対し高い摩擦性が得られるようにしている。このため、渡し板４７から滑落したメダルＭ１，Ｍ２は搬送ベルト２１ｂが矢印で示した方向に駆動されることによりウエット拭布３１ｂとの間を斜め下向きに搬送される。このように搬送ベルト２１ｂには搬送ベルト２１ａのような係合部が形成されていないので、第２洗浄部Ｂにおいてメダルが係合部上に乗り上げてしまうおそれがなく、第１洗浄部Ａから送られてきたメダルが滞留するようなトラブルの発生も無く、常にスムースに搬送することができる。

該搬送ベルト２１ｂの走行速度は搬送ベルト２１ａの走行速度よりも少し高速に設定される。これは搬送ベルト２１ａによって搬送されたメダルが渡し板４７上に溜まらないようにするためである。また、拭布支持機構３０ｂは前記拭布支持機構３０ａと同様にウエット拭布３１ｂがガイドローラ３２ｂとガイドローラ３３ｂおよび駆動ゴムローラ３４ｂに巻回され、駆動ゴムローラ３４ａにより矢印で示した方向に搬送ベルト２１ｂの走行速度よりも低速（約１／１０の速度）で走行される。なお、上記駆動ローラ２４ａ，２４ｂ、駆動ゴムローラ３４ａ、３４ｂ等は組付板１２の裏側に設けられたスプロケット、チェーン、ギヤ、等の伝動機構およびモータ（図示せず）を駆動源として上記所定の速度で回転駆動される。

また、上記ガイドローラ３２ａと同様にガイドローラ３２ｂには洗浄液タンクから洗浄液が補給され、ウエット拭布３１ｂを常に適度な湿潤状態に維持している。拭布押圧機構４０ｂは前記拭布押圧機構４０ａと同様に押圧板４２ｂをカバー板４３ｂの内側に配置され、該押圧板４２ｂの背面に固植された支持軸４４ｂをカバー板４３ｂに貫挿すると共に、該押圧板４２ｂとカバー板４３ｂとの間にコイルバネ等の弾性体４５ｂを圧縮状態にて介在させ、該カバー板４３ｂをコンベヤ２０ｂの両側フレームに複数の摘子ネジ４６ｂにより着脱自在に組み付けることにより、該弾性体４５ｂの弾性により該押圧板４２ｂがウエット拭布３１ｂを押圧しウエット拭布３１ｂを搬送ベルト２１ｂによって下向きに搬送されているメダルＭ１，Ｍ２の表面（下面）にウエット拭布３１ｂを弾性的に押圧するように構成している。

このように構成したメダル洗浄装置では、直径の異なる大小のメダルＭ１，Ｍ２を搬送ベルト２１ａの係合部２２ａに係合させることにより同時に搬送できると共に、該メダルの表面にウエット拭布３１ａが押圧板４２ａによって適宜押圧力により圧着することにより、該メダルの汚れを確実に拭き取ることができる。また、この第１洗浄部Ａを通過した後に該メダルＭ１，Ｍ２は第２洗浄部Ｂに至りて搬送ベルト２１ｂとの摩擦により斜め下向きに搬送され、該メダルの下面にウエット拭布３１ｂを圧着させることにより、該メダルＭ１，Ｍ２を片面ずつ綺麗に洗浄することができる。
このため、遊技場の設備として洗浄装置をメダルの大きさ毎に２台以上設ける必要もなくなり、設備コストおよび設置スペースを大幅に軽減することができると共に、遊技場内に常に両面とも綺麗に洗浄されたメダルを循環させることができる。

なお、上記実施形態にて図示した搬送ベルト２１ａの係合部２２ａは、背の低い円柱形突起であるが、本発明では係合部２２ａはこの形状に限られることなく、メダルＭ１，Ｍ２を搬送ベルトの表面に係止可能であれば、例えばコ字枠状の係合部を形成するなど、その他の形態に形成してあってもよい。また、搬送ベルト２１ｂは、上記実施形態にて図示した細かな凹凸（凹状部もしくは凸状部）を縞模様のように形成したが、メダルＭ１，Ｍ２との摩擦係数を高められるようにその他の形態に形成してもよいこと勿論である。

本発明に係るメダル洗浄装置を縦断面した正面図。 図１の要部拡大縦断面図。 図２のＡ−Ａ線断面図。 本発明に係るメダル洗浄装置における第１洗浄部の搬送ベルトの斜視図。 図１におけるメダル攪拌装置の縦断面図。 本発明に係るメダル洗浄装置におけるガイドローラの斜視図。 本発明に係るメダル洗浄装置における拭布支持機構の押圧板の斜視図。 本発明に係るメダル洗浄装置における第２洗浄部の搬送ベルトの斜視図。

符号の説明

Ａ 第１洗浄部
Ｂ 第２洗浄部
Ｍ１，Ｍ２ メダル
１０ メダル集合箱
１２ 組付板
１３ メダル攪拌装置
１４ 突上棒
２０ａ，２０ｂ コンベヤ
２１ａ，２１ｂ 搬送ベルト
２２ａ，２２ｂ 係合部
３０ａ，３０ｂ 拭布支持機構
３１ａ，３１ｂ ウエット拭布
３２ａ，３２ｂ ガイドローラ
３３ａ，３３ｂ ガイドローラ
３６ａ，３６ｂ ローラ部材
３７ａ，３７ｂ 支軸
３８ａ，３８ｂ 小孔
４０ａ，４０ｂ 拭布押圧機構
４１ａ，４１ｂ 縦溝
４２ａ，４２ｂ 押圧板
４３ａ，４３ｂ カバー板
４５ａ，４５ｂ 弾性体
４７ 渡し板

Claims (9)

1. 無端状の搬送ベルトの表面に高さがメダルの厚さよりも低い係合部を形成すると共に、該搬送ベルトを定方向に駆動することにより該係合部に係合してメダルが搬送されるようにしたコンベヤと、洗浄液が含浸されたウエット拭布を前記搬送ベルトの搬送面に対して適宜間隔を離して平行に張設し前記メダルの表面を拭うようにする拭布支持機構とからなることを特徴とするメダル洗浄装置。
2. 押圧板を前記ウエット拭布の背面に設け、該押圧板によって該ウエット拭布をメダル表面に弾性的に押圧する拭布押圧機構を設けたことを特徴とする請求項１に記載のメダル洗浄装置。
3. ウエット拭布をメダル搬送方向と同方向であって搬送ベルトよりも低速にて走行させるようにした請求項１または２に記載のメダル洗浄装置。
4. 第１洗浄部と第２洗浄部とによってメダルを片面ずつ順に洗浄するメダル洗浄装置であって、第１洗浄部は、無端状の搬送ベルトによりメダルが搬送されるようにしたコンベヤと、洗浄液が含浸された無端帯状のウエット拭布を前記搬送ベルトの搬送面に対して適宜間隔を離して平行に張設し該ウエット拭布を走行させることにより該ウエット拭布によってメダル表面が拭われるようにする拭布支持機構と、押圧板を前記ウエット拭布の背面に設け、該押圧板によって該ウエット拭布をメダル表面に弾性的に押圧する拭布押圧機構とからなり、第２洗浄部は、前記第１洗浄部におけるコンベヤと拭布支持機構とを倒置した関係にてコンベヤと拭布支持機構を配設すると共に該コンベヤの搬送ベルトは表面に細かな凹凸を形成することで高摩擦性のものとすることによりメダルをウエット拭布と該搬送ベルトとの間で移動させるものであることを特徴としたメダル洗浄装置。
5. 第１洗浄部と第２洗浄部とによってメダルを片面ずつ順に洗浄するメダル洗浄装置であって、第１洗浄部は、無端状の搬送ベルトの表面に高さがメダルの厚さよりも低い係合部を該搬送ベルトの幅方向にメダルの直径よりも狭い間隔にて横並びに形成すると共に、該搬送ベルトの搬送面がメダル集合箱から斜め上向きに起立姿勢となるように支持することにより該メダル集合箱のメダルが該係合部間に係合して斜め上向きに搬送されるようにしたコンベヤと、洗浄液が含浸された無端帯状のウエット拭布を前記搬送ベルトの搬送面に対して適宜間隔を離して平行に張設すると共に、該ウエット拭布を定方向に走行させることにより該ウエット拭布によってメダル表面が拭われるようにする拭布支持機構と、押圧板を前記ウエット拭布の背面に設け、該押圧板によって該ウエット拭布をメダル表面に弾性的に押圧する拭布押圧機構とからなり、第２洗浄部は、前記第１洗浄部における上下を倒置した関係にてコンベヤと拭布支持機構を配設し、該コンベヤの搬送ベルトは表面に細かな凹凸を形成することで高摩擦性のものとすることによりメダルをウエット拭布と該搬送ベルトとの間で斜め下向きに移動させるものであることを特徴としたメダル洗浄装置。
6. 第１洗浄部の搬送ベルトの走行速度を第２洗浄部の搬送ベルトの走行速度よりも低速に設定すると共に、該第１洗浄部および第２洗浄部のウエット拭布の走行速度を該各搬送ベルトの走行速度よりも低速に設定したことを特徴とする請求項４または５に記載のメダル洗浄装置。
7. 第１洗浄部のコンベヤと第２洗浄部のコンベヤとは渡し板を介して正面「ヘ」字形に連なるよう配置したものであることを特徴とした請求項４〜６のいずれかに記載のメダル洗浄装置。
8. 周壁に複数の小孔が開設された中空状の支軸にガイドローラを回転自在に支持し、該ガイドローラに前記ウエット拭布を張設し、該支軸中に供給された洗浄液を該小孔から吐出させることにより該ウエット拭布に洗浄液が定量ずつ補給されるようにしたことを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載のメダル洗浄装置。
9. 電動により突上棒を底部から出没動させるメダル攪拌装置をメダル集合箱に設けたことを特徴とする請求項５〜８のいずれかに記載のメダル洗浄装置。

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