JP2008146017A - 液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】光漏れによる問題を減少できる液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置を構成する第1基板は、複数の画素を定義するデータ線およびゲート線と、データ線およびゲート線に電気的に接続されている薄膜トランジスタと、薄膜トランジスタに電気的に接続されている画素電極と、互いに異なる色のサブカラーフィルターを含むカラーフィルターと、カラーフィルターの上にデータ線に平行に形成されており、共通電圧が印加される遮蔽電極とを含み;遮蔽電極の下部のカラーフィルターは第2基板に向かって突出している凸部を含み;画素は第1サブカラーフィルターが形成されている第1画素、第2サブカラーフィルターが形成されている第2画素、および第3サブカラーフィルターが形成されている第3画素を含み;第1画素と第2画素の間のデータ線に沿う第1境界で、第3サブカラーフィルターが第1サブカラーフィルターおよび第2サブカラーフィルターの間で凸部を形成することを特徴とする。
【選択図】図10
【解決手段】液晶表示装置を構成する第1基板は、複数の画素を定義するデータ線およびゲート線と、データ線およびゲート線に電気的に接続されている薄膜トランジスタと、薄膜トランジスタに電気的に接続されている画素電極と、互いに異なる色のサブカラーフィルターを含むカラーフィルターと、カラーフィルターの上にデータ線に平行に形成されており、共通電圧が印加される遮蔽電極とを含み;遮蔽電極の下部のカラーフィルターは第2基板に向かって突出している凸部を含み;画素は第1サブカラーフィルターが形成されている第1画素、第2サブカラーフィルターが形成されている第2画素、および第3サブカラーフィルターが形成されている第3画素を含み;第1画素と第2画素の間のデータ線に沿う第1境界で、第3サブカラーフィルターが第1サブカラーフィルターおよび第2サブカラーフィルターの間で凸部を形成することを特徴とする。
【選択図】図10
Description
本発明は液晶表示装置に係わり、より詳しくは、カラーフィルターが薄膜トランジスタ基板に形成されている液晶表示装置に関する。
液晶表示装置は薄膜トランジスタが形成されている第1基板と、第1基板に対向配置されている第2基板、そしてこれらの間に位置する液晶層を含む。
最近では、第1基板にカラーフィルターを形成する、いわゆるCOA(color filter on array)方式が多く適用されている。COA方式ではカラーフィルターを第1基板に形成するので、互いに異なる色のカラーフィルターが画素間の境界に存在することとなる。
最近では、第1基板にカラーフィルターを形成する、いわゆるCOA(color filter on array)方式が多く適用されている。COA方式ではカラーフィルターを第1基板に形成するので、互いに異なる色のカラーフィルターが画素間の境界に存在することとなる。
画素境界に存在するカラーフィルターの端部は互いに重なるか離間するように位置するが、これによって画素境界は周囲とは異なる段差を有することとなる。
一方、画素境界には画素電極が形成されておらず、画素境界に位置した液晶は初期の配向状態を保持するが、段差によって一部の液晶は斜めに配向される。
しかし、画素境界に位置した液晶に入射する光のうちの一部が斜めに配向されている液晶を通じて外部に出射され光漏れが発生する。光漏れが発生すれば、コントラスト比が低下しブラックカラーの色座標が変わるという問題がある。
一方、画素境界には画素電極が形成されておらず、画素境界に位置した液晶は初期の配向状態を保持するが、段差によって一部の液晶は斜めに配向される。
しかし、画素境界に位置した液晶に入射する光のうちの一部が斜めに配向されている液晶を通じて外部に出射され光漏れが発生する。光漏れが発生すれば、コントラスト比が低下しブラックカラーの色座標が変わるという問題がある。
従って、本発明の目的は光漏れによる問題が減少する液晶表示装置を提供することにある。
前記本発明の目的は、第1基板、前記第1基板に対向し共通電極が形成されている第2基板、および前記第1基板および前記第2基板の間に位置する液晶層を含む液晶表示装置において、前記第1基板は、複数の画素を定義するデータ線およびゲート線と;前記データ線およびゲート線に電気的に接続されている薄膜トランジスタと;前記薄膜トランジスタに電気的に接続されている画素電極と;互いに異なる色の第1サブカラーフィルター、第2サブカラーフィルターおよび第3サブカラーフィルターを含むカラーフィルターと;前記画素間の境界に位置した前記カラーフィルターの上に前記データ線に対して平行に形成されており、共通電圧が印加される遮蔽電極とを含み、前記遮蔽電極の下部の前記カラーフィルターは前記第2基板に向かって突出している凸部を含み、前記画素は前記第1サブカラーフィルターが形成されている第1画素、前記第2サブカラーフィルターが形成されている第2画素、および前記第3サブカラーフィルターが形成されている第3画素を含み、前記第1画素と前記第2画素の間の前記データ線に沿う第1境界で、前記第3サブカラーフィルターが前記第1サブカラーフィルターおよび前記第2サブカラーフィルターの間で前記凸部を形成することによって達成される。
前記第2画素と前記第3画素の間の前記データ線に沿う第2境界で、前記第3サブカラーフィルターが前記凸部を形成し、前記第1画素と第3画素の間の前記データ線に沿う第3境界で、前記第3サブカラーフィルターが前記凸部を形成することが好ましい。
前記第1境界で前記第1サブカラーフィルターと前記第2サブカラーフィルターは互いに離間していることが好ましい。
前記第1境界で前記第1サブカラーフィルターと前記第2サブカラーフィルターは互いに離間していることが好ましい。
前記第1サブカラーフィルターは赤色、前記第2サブカラーフィルターは緑色、前記第3サブカラーフィルターは青色であることが好ましい。
前記薄膜トランジスタは第1薄膜トランジスタと第2薄膜トランジスタを含み、前記画素電極は前記第1薄膜トランジスタに電気的に接続されている第1画素電極と、前記第1画素電極と分離されており前記第2薄膜トランジスタに電気的に接続されている第2画素電極とを含むことが好ましい。
前記薄膜トランジスタは第1薄膜トランジスタと第2薄膜トランジスタを含み、前記画素電極は前記第1薄膜トランジスタに電気的に接続されている第1画素電極と、前記第1画素電極と分離されており前記第2薄膜トランジスタに電気的に接続されている第2画素電極とを含むことが好ましい。
前記第1薄膜トランジスタと前記第2薄膜トランジスタは同一の前記ゲート線に接続されていることが好ましい。
前記データ線は前記第1薄膜トランジスタに接続されている第1データ線と、前記第2薄膜トランジスタに接続されている第2データ線とを含むことが好ましい。
前記画素電極には画素電極切開パターンが形成されており、前記共通電極には共通電極切開パターンが形成されており、前記液晶層は垂直配向(vertical alignment)モードであることが好ましい。
前記データ線は前記第1薄膜トランジスタに接続されている第1データ線と、前記第2薄膜トランジスタに接続されている第2データ線とを含むことが好ましい。
前記画素電極には画素電極切開パターンが形成されており、前記共通電極には共通電極切開パターンが形成されており、前記液晶層は垂直配向(vertical alignment)モードであることが好ましい。
前記遮蔽電極は前記第1データ線と前記第2データ線を覆っていることが好ましい。
前記遮蔽電極は前記画素電極と同一の層であることが好ましい。
前記第1基板は、前記画素間の境界で前記データ線に沿って形成されている光遮断膜をさらに含むことが好ましい。
前記光遮断膜はフローティング状態であることが好ましい。
前記遮蔽電極は前記画素電極と同一の層であることが好ましい。
前記第1基板は、前記画素間の境界で前記データ線に沿って形成されている光遮断膜をさらに含むことが好ましい。
前記光遮断膜はフローティング状態であることが好ましい。
前記ゲート線の延長方向への前記光遮断膜の両端のうちの少なくともいずれか1つは前記第1データ線と前記第2データ線の間に位置することが好ましい。
前記第1境界において前記光遮断膜は前記第2画素の方向に偏って形成されていることが好ましい。
前記第2境界において前記光遮断膜は前記第2画素の方向に偏って形成されていることが好ましい。
前記第1境界において前記光遮断膜は前記第2画素の方向に偏って形成されていることが好ましい。
前記第2境界において前記光遮断膜は前記第2画素の方向に偏って形成されていることが好ましい。
前記第3境界において前記光遮断膜は前記第1画素の方向に偏って形成されていることが好ましい。
前記光遮断膜は前記ゲート線と同一の層であることが好ましい。
前記本発明の目的は、第1基板、前記第1基板に対向し共通電極が形成されている第2基板、および前記第1基板および前記第2基板の間に位置する液晶層を含む液晶表示装置において、前記第1基板は、複数の画素を定義するデータ線およびゲート線と;前記データ線およびゲート線に電気的に接続されている薄膜トランジスタと;前記薄膜トランジスタに電気的に接続されている画素電極と;互いに異なる色の第1サブカラーフィルター、第2サブカラーフィルターおよび第3サブカラーフィルターを含むカラーフィルターと;前記画素間の境界に位置した前記カラーフィルターの上に前記データ線に対して平行に形成されており、共通電圧が印加される遮蔽電極と;前記画素間の境界で前記データ線に沿って形成されている光遮断膜とを含むことによっても達成される。
前記光遮断膜は前記ゲート線と同一の層であることが好ましい。
前記本発明の目的は、第1基板、前記第1基板に対向し共通電極が形成されている第2基板、および前記第1基板および前記第2基板の間に位置する液晶層を含む液晶表示装置において、前記第1基板は、複数の画素を定義するデータ線およびゲート線と;前記データ線およびゲート線に電気的に接続されている薄膜トランジスタと;前記薄膜トランジスタに電気的に接続されている画素電極と;互いに異なる色の第1サブカラーフィルター、第2サブカラーフィルターおよび第3サブカラーフィルターを含むカラーフィルターと;前記画素間の境界に位置した前記カラーフィルターの上に前記データ線に対して平行に形成されており、共通電圧が印加される遮蔽電極と;前記画素間の境界で前記データ線に沿って形成されている光遮断膜とを含むことによっても達成される。
前記光遮断膜は前記ゲート線と同一の層であり、フローティング状態であることが好ましい。
前記第1サブカラーフィルターは赤色、前記第2サブカラーフィルターは緑色、前記第3サブカラーフィルターは青色であり、前記画素は前記第1サブカラーフィルターが形成されている第1画素、前記第2カラーフィルターが形成されている第2画素、前記第3サブカラーフィルターが形成されている第3画素を含み、前記第1画素と前記第2画素の間の前記データ線に沿う第1境界で前記光遮断膜は前記第2画素の方向に偏って形成されていることが好ましい。
前記第1サブカラーフィルターは赤色、前記第2サブカラーフィルターは緑色、前記第3サブカラーフィルターは青色であり、前記画素は前記第1サブカラーフィルターが形成されている第1画素、前記第2カラーフィルターが形成されている第2画素、前記第3サブカラーフィルターが形成されている第3画素を含み、前記第1画素と前記第2画素の間の前記データ線に沿う第1境界で前記光遮断膜は前記第2画素の方向に偏って形成されていることが好ましい。
前記第2画素と前記第3画素の間の前記データ線に沿う第2境界で前記光遮断膜は前記第2画素の方向に偏って形成されていることが好ましい。
前記第1画素と前記第3画素の間の前記データ線に沿う第3境界で前記光遮断膜は前記第1画素の方向に偏って形成されていることが好ましい。
前記遮蔽電極の下部の前記カラーフィルターは前記第2基板に向かって突出している凸部を含み、前記第1画素と前記第2画素の間の前記データ線に沿う第1境界で、前記第3サブカラーフィルターが前記第1サブカラーフィルターおよび前記第2サブカラーフィルターの間で前記凸部を形成することが好ましい。
前記第1画素と前記第3画素の間の前記データ線に沿う第3境界で前記光遮断膜は前記第1画素の方向に偏って形成されていることが好ましい。
前記遮蔽電極の下部の前記カラーフィルターは前記第2基板に向かって突出している凸部を含み、前記第1画素と前記第2画素の間の前記データ線に沿う第1境界で、前記第3サブカラーフィルターが前記第1サブカラーフィルターおよび前記第2サブカラーフィルターの間で前記凸部を形成することが好ましい。
前記第1サブカラーフィルターは赤色、前記第2サブカラーフィルターは緑色、前記第3サブカラーフィルターは青色であることが好ましい。
前記第2画素と前記第3画素の間の前記データ線に沿う第2境界で、前記第3サブカラーフィルターが前記凸部を形成し、前記第1画素と第3画素の間の前記データ線に沿う第3境界で、前記第3サブカラーフィルターが前記凸部を形成することが好ましい。
前記第2画素と前記第3画素の間の前記データ線に沿う第2境界で、前記第3サブカラーフィルターが前記凸部を形成し、前記第1画素と第3画素の間の前記データ線に沿う第3境界で、前記第3サブカラーフィルターが前記凸部を形成することが好ましい。
前記薄膜トランジスタは第1薄膜トランジスタと第2薄膜トランジスタを含み、前記画素電極は前記第1薄膜トランジスタに電気的に接続されている第1画素電極と、前記第1画素電極と分離されており前記第2薄膜トランジスタに電気的に接続されている第2画素電極とを含むことが好ましい。
前記第1薄膜トランジスタと前記第2薄膜トランジスタは同一の前記ゲート線に接続されており、前記データ線は前記第1薄膜トランジスタに接続されている第1データ線と、前記第2薄膜トランジスタに接続されている第2データ線とを含むことが好ましい。
前記第1薄膜トランジスタと前記第2薄膜トランジスタは同一の前記ゲート線に接続されており、前記データ線は前記第1薄膜トランジスタに接続されている第1データ線と、前記第2薄膜トランジスタに接続されている第2データ線とを含むことが好ましい。
前記ゲート線の延長方向への前記光遮断膜の両端のうちの少なくともいずれか1つは前記第1データ線と前記第2データ線の間に位置することが好ましい。
前記画素電極には画素電極切開パターンが形成されており、前記共通電極には共通電極切開パターンが形成されており、前記液晶層は垂直配向(vertical alignment)モードであることが好ましい。
前記画素電極には画素電極切開パターンが形成されており、前記共通電極には共通電極切開パターンが形成されており、前記液晶層は垂直配向(vertical alignment)モードであることが好ましい。
前記遮蔽電極は前記画素電極と同一の層であり、前記遮蔽電極は前記第1データ線と前記第2データ線を覆っていることが好ましい。
前記本発明の目的は、第1基板、前記第1基板に対向し共通電極が形成されている第2基板、および前記第1基板および前記第2基板の間に位置する液晶層を含む液晶表示装置において、前記第1基板は、複数の画素を定義するデータ線およびゲート線と;前記データ線およびゲート線に電気的に接続されている薄膜トランジスタと;前記薄膜トランジスタに電気的に接続されている画素電極と;互いに異なる色の第1サブカラーフィルター、第2サブカラーフィルターおよび第3サブカラーフィルターを含むカラーフィルターと;隣接した画素間の境界に前記データ線に沿って形成されている光遮断膜とを含み、前記データ線は前記画素の右側に位置する第1データ線と前記画素の左側に位置する第2データ線を含み、前記画素電極は前記第1データ線と前記第2データ線をカバーしていることによっても達成される。
前記本発明の目的は、第1基板、前記第1基板に対向し共通電極が形成されている第2基板、および前記第1基板および前記第2基板の間に位置する液晶層を含む液晶表示装置において、前記第1基板は、複数の画素を定義するデータ線およびゲート線と;前記データ線およびゲート線に電気的に接続されている薄膜トランジスタと;前記薄膜トランジスタに電気的に接続されている画素電極と;互いに異なる色の第1サブカラーフィルター、第2サブカラーフィルターおよび第3サブカラーフィルターを含むカラーフィルターと;隣接した画素間の境界に前記データ線に沿って形成されている光遮断膜とを含み、前記データ線は前記画素の右側に位置する第1データ線と前記画素の左側に位置する第2データ線を含み、前記画素電極は前記第1データ線と前記第2データ線をカバーしていることによっても達成される。
隣接した前記画素間の前記データ線に沿った境界で前記カラーフィルターは凹状であることが好ましい。
前記薄膜トランジスタは前記第1データ線と電気的に接続されている第1薄膜トランジスタと、前記第2データ線と電気的に接続されている第2薄膜トランジスタとを含み、前記画素電極は前記第1薄膜トランジスタと電気的に接続されている第1画素電極と、前記第1画素電極と分離されており前記第2薄膜トランジスタと電気的に接続されている第2画素電極とを含むことが好ましい。
前記薄膜トランジスタは前記第1データ線と電気的に接続されている第1薄膜トランジスタと、前記第2データ線と電気的に接続されている第2薄膜トランジスタとを含み、前記画素電極は前記第1薄膜トランジスタと電気的に接続されている第1画素電極と、前記第1画素電極と分離されており前記第2薄膜トランジスタと電気的に接続されている第2画素電極とを含むことが好ましい。
前記第2画素電極は前記第1画素電極を囲んでおり、前記第2画素電極が前記第1データ線および前記第2データ線をカバーすることが好ましい。
前記第1画素電極は山カッコ形状であることが好ましい。
前記光遮断膜は前記ゲート線と同一の層であり、フローティング状態であることが好ましい。
前記第1画素電極は山カッコ形状であることが好ましい。
前記光遮断膜は前記ゲート線と同一の層であり、フローティング状態であることが好ましい。
前記ゲート線の延長方向への前記光遮断膜の両端のうちの少なくともいずれか1つは前記第1データ線と前記第2データ線の間に位置することが好ましい。
前記第1サブカラーフィルターは赤色、前記第2サブカラーフィルターは緑色、前記第3サブカラーフィルターは青色であり、前記画素は前記第1サブカラーフィルターが形成されている第1画素、前記第2カラーフィルターが形成されている第2画素、前記第3サブカラーフィルターが形成されている第3画素を含み、前記第1画素と前記第2画素の間の前記データ線に沿う第1境界で前記光遮断膜は前記第2画素の方向に偏って形成されていることが好ましい。
前記第1サブカラーフィルターは赤色、前記第2サブカラーフィルターは緑色、前記第3サブカラーフィルターは青色であり、前記画素は前記第1サブカラーフィルターが形成されている第1画素、前記第2カラーフィルターが形成されている第2画素、前記第3サブカラーフィルターが形成されている第3画素を含み、前記第1画素と前記第2画素の間の前記データ線に沿う第1境界で前記光遮断膜は前記第2画素の方向に偏って形成されていることが好ましい。
前記第2画素と前記第3画素の間の前記データ線に沿う第2境界で前記光遮断膜は前記第2画素の方向に偏って形成されていることが好ましい。
前記第1画素と前記第3画素の間の前記データ線に沿う第3境界で前記光遮断膜は前記第1画素の方向に偏って形成されていることが好ましい。
前記画素電極には画素電極切開パターンが形成されており、前記共通電極には共通電極切開パターンが形成されており、前記液晶層は垂直配向(vertical alignment)モードであることが好ましい。
前記第1画素と前記第3画素の間の前記データ線に沿う第3境界で前記光遮断膜は前記第1画素の方向に偏って形成されていることが好ましい。
前記画素電極には画素電極切開パターンが形成されており、前記共通電極には共通電極切開パターンが形成されており、前記液晶層は垂直配向(vertical alignment)モードであることが好ましい。
本発明によれば、光漏れによる問題を減少することが可能な液晶表示装置を提供できる。
以下、添付された図面を参照して本発明をさらに詳しく説明する。ある膜(層)が他の膜(層)の‘上部’に形成されて(位置して)いるというときは、2つの膜(層)が接している場合だけでなく、2つの膜(層)の間に他の膜(層)が存在する場合も含む。
図1は本発明の第1実施形態による液晶表示装置における1つの画素に対する等価回路図である。
図1は本発明の第1実施形態による液晶表示装置における1つの画素に対する等価回路図である。
1つの画素には1つのゲート線GL、2つのデータ線DL1、DL2と2つの薄膜トランジスタT1、T2が設けられている。
第1薄膜トランジスタT1は第1データ線DL1とゲート線GLに接続されており、第2薄膜トランジスタT2は第2データ線DL2とゲート線GLに接続されている。
薄膜トランジスタT1、T2は同一のゲート線GLに接続されていて同時に駆動され、互いに異なるデータ線DL1、DL2に接続されており、各データ線に対して互いに異なる信号を出力することができる。
第1薄膜トランジスタT1は第1データ線DL1とゲート線GLに接続されており、第2薄膜トランジスタT2は第2データ線DL2とゲート線GLに接続されている。
薄膜トランジスタT1、T2は同一のゲート線GLに接続されていて同時に駆動され、互いに異なるデータ線DL1、DL2に接続されており、各データ線に対して互いに異なる信号を出力することができる。
各薄膜トランジスタT1、T2には液晶容量CLC1、CLC2と保持容量Cst1、Cst2が接続されている。液晶容量CLC1、CLC2は画素電極PE1、PE2と共通電極CEの間に形成され、保持容量Cst1、Cst2は画素電極PE1、PE2と保持電極線SLの間に形成される。
ここで、第1画素電極PE1と第2画素電極PE2は互いに分離されている。
ここで、第1画素電極PE1と第2画素電極PE2は互いに分離されている。
本発明による液晶表示装置では視認性が向上するものであり、以下、その理由を図2を参照して説明する。
第1画素電極PE1には第1薄膜トランジスタT1を通じて第1データ信号が印加され、第2画素電極PE2には第1薄膜トランジスタT2を通じて第1データ信号とは異なる第2データ信号が印加される。つまり、1つの画素内に互いに異なるデータ信号を有する2つのドメインが形成される。
第1画素電極PE1には第1薄膜トランジスタT1を通じて第1データ信号が印加され、第2画素電極PE2には第1薄膜トランジスタT2を通じて第1データ信号とは異なる第2データ信号が印加される。つまり、1つの画素内に互いに異なるデータ信号を有する2つのドメインが形成される。
これによって、第1画素電極PE1に対応する第1ドメインの輝度と第2画素電極PE2に対応する第2ドメインの輝度が異なるようになる。
このように1つの画素内にガンマカーブの異なる複数のドメインが存在する。これによって、正面と側面の輝度およびカラーが互いに補償されて側面視認性が向上する。
図3〜図9を参照して、第1実施形態による液晶表示装置を説明する。図4〜図9に示すように、液晶表示装置1は第1基板100、第1基板100に対向する第2基板200、両基板の間に位置する液晶層300を含む。
このように1つの画素内にガンマカーブの異なる複数のドメインが存在する。これによって、正面と側面の輝度およびカラーが互いに補償されて側面視認性が向上する。
図3〜図9を参照して、第1実施形態による液晶表示装置を説明する。図4〜図9に示すように、液晶表示装置1は第1基板100、第1基板100に対向する第2基板200、両基板の間に位置する液晶層300を含む。
以下、先ず、第1基板100について説明する。
第1絶縁基板111の上にゲート配線が形成されている。ゲート配線は金属単一層または多重層とすることができる。ゲート配線は、図の横方向にのびているゲート線121およびゲート線121に接続されているゲート電極122a、122b、ゲート配線121に対して平行に延長されており、画素の中心部を通過する保持電極線123を含む。
第1絶縁基板111の上にゲート配線が形成されている。ゲート配線は金属単一層または多重層とすることができる。ゲート配線は、図の横方向にのびているゲート線121およびゲート線121に接続されているゲート電極122a、122b、ゲート配線121に対して平行に延長されており、画素の中心部を通過する保持電極線123を含む。
第1絶縁基板111の上にはシリコン窒化物(SiNx)などからなるゲート絶縁膜131がゲート配線を覆っている。
ゲート電極122a、122bのゲート絶縁膜131の上部には非晶質シリコンなどの半導体で構成される半導体層132が形成されており、半導体層132の上部にはシリサイドまたはn型不純物が高濃度にドーピングされているn+水素化非晶質シリコンなどの物質で構成される抵抗接触層133が形成されている。ソース電極142とドレイン電極143の間のチャンネル部では抵抗接触層133が除去されている。
ゲート電極122a、122bのゲート絶縁膜131の上部には非晶質シリコンなどの半導体で構成される半導体層132が形成されており、半導体層132の上部にはシリサイドまたはn型不純物が高濃度にドーピングされているn+水素化非晶質シリコンなどの物質で構成される抵抗接触層133が形成されている。ソース電極142とドレイン電極143の間のチャンネル部では抵抗接触層133が除去されている。
抵抗接触層133およびゲート絶縁膜131の上にはデータ配線が形成されている。データ配線も金属層で構成される単一層または多重層とすることができる。データ配線は、図の縦方向に形成されゲート線121と交差して画素を形成するデータ線141、データ線141から分岐した分枝であり、抵抗接触層133の上部まで延長されているソース電極142、ソース電極142と分離されておりソース電極142の反対側の抵抗接触層133の上部に形成されているドレイン電極143、保持電極線123の上部に形成されている保持容量補助層144を含む。保持容量補助層144は島のような形態に形成されている。
以上において説明していない構成要素は、第1薄膜トランジスタT1を構成するゲート電極122a、ソース電極142a、ドレイン電極143aと、第2薄膜トランジスタT2を構成するゲート電極122b、ソース電極142b、ドレイン電極143bである。
データ線141は第1データ線141aと第2データ線141bを含む。第1薄膜トランジスタT1は画素の右側を通過する第1データ線141aに接続されており、第2薄膜トランジスタT2は画素の左側を通過する第2データ線141bに接続されている。
データ線141は第1データ線141aと第2データ線141bを含む。第1薄膜トランジスタT1は画素の右側を通過する第1データ線141aに接続されており、第2薄膜トランジスタT2は画素の左側を通過する第2データ線141bに接続されている。
データ配線およびこれらが覆っていない半導体層132の上部にはシリコン窒化物などで構成される絶縁膜151が形成されている。
絶縁膜151の上にはカラーフィルター152が形成されている。カラーフィルター152は赤色の第1サブカラーフィルター152a、緑色の第2サブカラーフィルター152b、青色の第3サブカラーフィルター152cを含む。第1画素、第2画素、第3画素はゲート線121の延長方向に沿って配置されており、第1画素には第1サブカラーフィルター152aが形成され、第2画素には第2サブカラーフィルター152bが形成され、第3画素には第3サブカラーフィルター152cが形成されている。
絶縁膜151の上にはカラーフィルター152が形成されている。カラーフィルター152は赤色の第1サブカラーフィルター152a、緑色の第2サブカラーフィルター152b、青色の第3サブカラーフィルター152cを含む。第1画素、第2画素、第3画素はゲート線121の延長方向に沿って配置されており、第1画素には第1サブカラーフィルター152aが形成され、第2画素には第2サブカラーフィルター152bが形成され、第3画素には第3サブカラーフィルター152cが形成されている。
カラーフィルター152には、ドレイン電極143a、143bを露出させる接触孔171a、171bと、保持容量補助層144を露出させる接触孔172とが形成されている。接触孔171a、171b、172において、カラーフィルター152とともに保護膜151も除去されている。
図5に示すように、画素電極161は接触孔172を通じて保持容量補助層144と接続されている。画素電圧が伝達される保持容量補助層144と共通電圧が印加される保持容量線123の間で保持容量Cstが形成される。
図5に示すように、画素電極161は接触孔172を通じて保持容量補助層144と接続されている。画素電圧が伝達される保持容量補助層144と共通電圧が印加される保持容量線123の間で保持容量Cstが形成される。
カラーフィルター152は厚さが厚く、誘電率が小さいことから、画素電極161と保持容量線123との間に容量を形成しにくいため、接触孔172と保持容量補助層144とを形成することによって保持容量を形成している。
カラーフィルター152の上には画素電極161が形成されている。画素電極161は通常ITO(indium tin oxide)またはIZO(indium zinc oxide)などの透明な導電物質で構成される。画素電極161は全体的に長方形であり、上下対称形態である。
カラーフィルター152の上には画素電極161が形成されている。画素電極161は通常ITO(indium tin oxide)またはIZO(indium zinc oxide)などの透明な導電物質で構成される。画素電極161は全体的に長方形であり、上下対称形態である。
画素電極161は、画素電極分離パターン162によって互いに分離された第1画素電極161aと第2画素電極161bとを含む。第1画素電極161aは山カッコ形状であり、画素の中央に位置している。第2画素電極161bは第1画素電極161aを囲むように形成されている。
第1画素電極161aと第2画素電極161bには、それぞれ画素電極分離パターン162の斜辺に平行な画素電極切開パターン163が形成されている。
第1画素電極161aと第2画素電極161bには、それぞれ画素電極分離パターン162の斜辺に平行な画素電極切開パターン163が形成されている。
第1画素電極161aは、接触孔171aを通じて第1薄膜トランジスタT1のドレイン電極143aと接続されており、第2画素電極161bは接触孔171bを通じて第2薄膜トランジスタT2のドレイン電極143bと接続されている。
画素電極分離パターン162と画素電極切開パターン163は後述の共通電極切開パターン242と共に液晶層300を複数のサブドメインに分割する。本発明でのサブドメインはパターン162、163、242で囲まれた領域であって、斜線方向に長く延長されている。
画素電極分離パターン162と画素電極切開パターン163は後述の共通電極切開パターン242と共に液晶層300を複数のサブドメインに分割する。本発明でのサブドメインはパターン162、163、242で囲まれた領域であって、斜線方向に長く延長されている。
各画素の境界には、画素電極161と同一の層に設けられる遮蔽電極(shield electrode)165が形成されている。図6を見れば、遮蔽電極165は、第1データ線141aと第2データ線141bを覆っている。遮蔽電極165が位置する境界領域には、画素電極161が形成されておらず、液晶層300の制御が行われない領域である。
遮蔽電極165には共通電圧が印加されて、遮蔽電極165と共通電極241の間には電界が形成されない。したがって、遮蔽電極165の上の液晶層300はデータ線141a、141bによって影響を受けずに初期の配向状態を保持する。
次いで、第2基板200について説明する。
第2絶縁基板211の上にブラックマトリックス221が形成されている。ブラックマトリックス221は第1基板100に位置する薄膜トランジスタT1、T2への直接的な光照射を遮断する役割を果たす。ブラックマトリックス221は、通常黒色顔料が添加された感光性有機物質で構成される。この黒色顔料としてはカーボンブラックやチタニウムオキシドなどを使用する。
次いで、第2基板200について説明する。
第2絶縁基板211の上にブラックマトリックス221が形成されている。ブラックマトリックス221は第1基板100に位置する薄膜トランジスタT1、T2への直接的な光照射を遮断する役割を果たす。ブラックマトリックス221は、通常黒色顔料が添加された感光性有機物質で構成される。この黒色顔料としてはカーボンブラックやチタニウムオキシドなどを使用する。
ブラックマトリックス221はデータ線141の上部には形成されていない。したがって、遮蔽電極165の上部を通過する光は第2基板200の外部に出射されることができる。
他の実施形態として、薄膜トランジスタT1、T2の上に2つ以上のサブカラーフィルター152a、152b、152cを形成し、第2基板200におけるブラックマトリックス221を省略することもできる。
他の実施形態として、薄膜トランジスタT1、T2の上に2つ以上のサブカラーフィルター152a、152b、152cを形成し、第2基板200におけるブラックマトリックス221を省略することもできる。
第2絶縁基板211とブラックマトリックス221の上部にはオーバーコート膜231が形成されている。オーバーコート膜231は平坦化された表面を提供する。オーバーコート膜231は省略することができる。
オーバーコート膜231の上部には共通電極241が形成されている。共通電極241はITO(indium tin oxide)またはIZO(indium zinc oxide)などの透明な導電物質で構成される。共通電極241は薄膜トランジスタ基板の画素電極161と共に液晶層300に直接電圧を印加する。
オーバーコート膜231の上部には共通電極241が形成されている。共通電極241はITO(indium tin oxide)またはIZO(indium zinc oxide)などの透明な導電物質で構成される。共通電極241は薄膜トランジスタ基板の画素電極161と共に液晶層300に直接電圧を印加する。
共通電極241には共通電極切開パターン242が形成されている。共通電極切開パターン242は画素電極分離パターン162および画素電極切開パターン163に対して平行に形成されている。
以上のパターン162、163、242は実施形態に限定されず、多様な形状に形成することができる。
以上のパターン162、163、242は実施形態に限定されず、多様な形状に形成することができる。
第1基板100と第2基板200の間に液晶層300が位置する。液晶層300はVA(vertically aligned)モードであって、液晶分子は電圧が加えられない状態ではその長手方向が各基板に対して垂直をなしている。
電圧が加えられると、液晶分子は誘電率異方性が負であるため、電場に対して垂直方向に配向する。しかし、以上のパターン162、163、252が形成されていなければ、液晶分子は配向する方位角が決定されず多様な方向に無秩序に配列するようになり、配向方向の異なる境界面で回位線(disclination line)が発生する。
電圧が加えられると、液晶分子は誘電率異方性が負であるため、電場に対して垂直方向に配向する。しかし、以上のパターン162、163、252が形成されていなければ、液晶分子は配向する方位角が決定されず多様な方向に無秩序に配列するようになり、配向方向の異なる境界面で回位線(disclination line)が発生する。
以上のパターン162、163、242は、液晶層300に電圧がかかる時、フリンジフィールドを形成して液晶配向の方位角を決定する。また、液晶層300は以上のそれぞれのパターン162、163、242の配置によって複数のサブドメインに分けられる。
以上に説明した第1実施形態において、データ線141に対して平行である画素の境界において光漏れが発生するが、これを図6に基づいて説明する。
以上に説明した第1実施形態において、データ線141に対して平行である画素の境界において光漏れが発生するが、これを図6に基づいて説明する。
境界でサブカラーフィルター152a、152b、152cが重なりながら凸部Aが形成される。境界でサブカラーフィルター152a、152b、152cが重ならずに離間していれば、遮蔽電極165とデータ線141が短絡したり、遮蔽電極165がデータ線141によって電気的に影響を受けるという問題が発生する。
凸部Aの端部で液晶310は斜めに初期配向される。ノーマリブラックモードで液晶310の長軸に沿って入射する光aは外部に通過しない。反面、液晶310の短軸方向に入射する光bは外部に出射する。一方、液晶層300に斜めに入射する光cも部分的に外部に出射する。
凸部Aの端部で液晶310は斜めに初期配向される。ノーマリブラックモードで液晶310の長軸に沿って入射する光aは外部に通過しない。反面、液晶310の短軸方向に入射する光bは外部に出射する。一方、液晶層300に斜めに入射する光cも部分的に外部に出射する。
遮蔽電極165の上部の液晶310は制御されず、この位置の液晶310を通じて光が出射されると、コントラスト比が低下し、ブラックカラーの色座標が変わるという問題がある。
第1実施形態では、カラーフィルター152の配置を変更することによって光漏れによる問題を減少するものであって、これを図6〜図8を参照して説明する。
第1実施形態では、カラーフィルター152の配置を変更することによって光漏れによる問題を減少するものであって、これを図6〜図8を参照して説明する。
図6は、第1画素と第2画素の間の第1境界を示す。凸部Aは端部がデータ線141a、141bに近く位置するように幅が広く形成されている。これによって傾いている液晶310がデータ線141a、141bに近く位置することで、液晶層300の短軸を通過する光bを防止する。つまり、傾いている液晶310の短軸方向に入射する光はデータ線141a、141bによって遮断される。
一方、凸部Aの幅を調節しても(c)のような光があるため、光漏れを完全に防止することはできない。本発明では、画素間の境界で外部に出射する光を青色光とすることで光漏れによる問題を減少している。
図6に示した第1境界において、凸部Aは青色の第3カラーフィルター152cで構成されており、第1カラーフィルター152aと第2カラーフィルター152bは離間している。このような構造で液晶層300に斜めに入射して出射する光(c)は青色を有する。
図6に示した第1境界において、凸部Aは青色の第3カラーフィルター152cで構成されており、第1カラーフィルター152aと第2カラーフィルター152bは離間している。このような構造で液晶層300に斜めに入射して出射する光(c)は青色を有する。
各画素が表示する緑色、赤色、青色のうち、使用者に最も視認がよいものは緑色であり、最も視認性がよくないものは青色である。第1境界で外部に出射する光の大部分を視認性のよくない青色光とすることで、光漏れによる問題を減少している。
図7は第2画素と第3画素の間の第2境界を示す。第2境界の凸部Aも端部がデータ線141a、141bに近く位置するように設けられている。
図7は第2画素と第3画素の間の第2境界を示す。第2境界の凸部Aも端部がデータ線141a、141bに近く位置するように設けられている。
第2境界においても、凸部Aは青色の第3カラーフィルター152cで構成されており、外部に出射する光(d)、(e)は大部分青色を有する。
図8は第3画素と第1画素の間の第3境界を示す。第3境界の凸部Aも端部がデータ線141a、141bに近く位置するように設けられている。
第3境界においても、凸部Aは青色の第3カラーフィルター152cで構成されていて、外部に出射する光(g)、(f)は大部分青色を有する。
図8は第3画素と第1画素の間の第3境界を示す。第3境界の凸部Aも端部がデータ線141a、141bに近く位置するように設けられている。
第3境界においても、凸部Aは青色の第3カラーフィルター152cで構成されていて、外部に出射する光(g)、(f)は大部分青色を有する。
以上のように、第1実施形態では凸部Aの幅を調節して光漏れを減少させ、外部に出射する光が大部分青色を有するようにして光漏れによる問題を減少させる。
図9および図10は、前述の第1実施形態の理解を助けるためにカラーフィルターの配置を複数の画素に同時に示したものである。
各サブカラーフィルター152a、152b、152cは、データ線141の延長方向に長く延長されている。サブカラーフィルター152a、152b、152cはデータ線141に沿う画素間の境界、つまり、第1データ線141aと第2データ線141bの間で凸部を形成し一部が重なる。
図9および図10は、前述の第1実施形態の理解を助けるためにカラーフィルターの配置を複数の画素に同時に示したものである。
各サブカラーフィルター152a、152b、152cは、データ線141の延長方向に長く延長されている。サブカラーフィルター152a、152b、152cはデータ線141に沿う画素間の境界、つまり、第1データ線141aと第2データ線141bの間で凸部を形成し一部が重なる。
第1カラーフィルター152aと第2カラーフィルター152bとの間の第1境界で、第1カラーフィルター152aと第2カラーフィルター152bとは互いに離間しており、第3カラーフィルター152cが凸部を形成する。
第2カラーフィルター152bと第3カラーフィルター152cの間の第2境界で、第3カラーフィルター152cが凸部を形成する。第1カラーフィルター152aと第3カラーフィルター152cの間の第3境界でも第3カラーフィルター152cが凸部を形成する。
第2カラーフィルター152bと第3カラーフィルター152cの間の第2境界で、第3カラーフィルター152cが凸部を形成する。第1カラーフィルター152aと第3カラーフィルター152cの間の第3境界でも第3カラーフィルター152cが凸部を形成する。
このような構成で、液晶層300の制御が行われない各境界で外部に出射する光は大部分青色光を有する。青色光は使用者による視認性が悪く、光漏れによる問題が減少する。
図11a〜図13cを参照して第1実施形態による液晶表示装置の製造方法を説明する。図11a〜図13cは第1基板100における各境界に該当する部分の製造方法を示したものである。第1基板100の他の部分と第2基板200の製造は通常の方法によって行われ、説明は省略する。
図11a〜図13cを参照して第1実施形態による液晶表示装置の製造方法を説明する。図11a〜図13cは第1基板100における各境界に該当する部分の製造方法を示したものである。第1基板100の他の部分と第2基板200の製造は通常の方法によって行われ、説明は省略する。
図11a、図12a、図13aは、図6に該当する部分の製造方法を示し、図11b、図12b、図13bは、図7に該当する部分の製造方法を示し、図11c、図12c、図13cは、図8に該当する部分の製造方法を示す。
まず、図11a、図11b、図11cに示すように、絶縁基板111の上にゲート絶縁膜131を形成し、ゲート絶縁膜131の上にデータ線141a、141bと第1サブカラーフィルター152aを形成する。
まず、図11a、図11b、図11cに示すように、絶縁基板111の上にゲート絶縁膜131を形成し、ゲート絶縁膜131の上にデータ線141a、141bと第1サブカラーフィルター152aを形成する。
第1サブカラーフィルター152aは、赤色感光層を塗布した後、露光、現像過程を経て形成することができる。第1サブカラーフィルター152aは、第1境界において第1データ線141aに偏るように形成される。
その後、図12a、図12b、図12cに示すように、第2サブカラーフィルター152bを形成する。第2サブカラーフィルター152bは、緑色感光層を塗布した後、露光、現像過程を経て形成することができる。
その後、図12a、図12b、図12cに示すように、第2サブカラーフィルター152bを形成する。第2サブカラーフィルター152bは、緑色感光層を塗布した後、露光、現像過程を経て形成することができる。
第2サブカラーフィルター152bは、第1境界において第2データ線141bに偏るように形成され、これによって第1サブカラーフィルター152aと第2サブカラーフィルター152bは離間する。
その次に、図13a、図13b、図13cのように第3サブカラーフィルター152cを形成する。第3サブカラーフィルター152cは、青色感光層を塗布した後、露光、現像過程を経て形成することができる。
その次に、図13a、図13b、図13cのように第3サブカラーフィルター152cを形成する。第3サブカラーフィルター152cは、青色感光層を塗布した後、露光、現像過程を経て形成することができる。
第3サブカラーフィルター152cは、各境界で凸部を形成するように一部が他のサブカラーフィルター152a、152bの上に形成される。
その次に、凸部上に第1データ線141aと第2データ線141bを覆うように遮蔽電極165を形成すると、図6〜図8に示した液晶表示装置が完成する。
他の実施形態として、第1境界において第1サブカラーフィルター152aと第2サブカラーフィルター152bは離間した状態ではなく、第3サブカラーフィルター152cの下部で重なるように形成することができる。
その次に、凸部上に第1データ線141aと第2データ線141bを覆うように遮蔽電極165を形成すると、図6〜図8に示した液晶表示装置が完成する。
他の実施形態として、第1境界において第1サブカラーフィルター152aと第2サブカラーフィルター152bは離間した状態ではなく、第3サブカラーフィルター152cの下部で重なるように形成することができる。
図14を参照して第2実施形態を説明する。図14は図9のX-X線に該当する部分の断面図である。
各境界に光遮断膜125が形成されている。光遮断膜125はゲート線121と同一の層で形成することができ、第1基板100の後方から液晶層300に入射する光を遮断する。
各境界に光遮断膜125が形成されている。光遮断膜125はゲート線121と同一の層で形成することができ、第1基板100の後方から液晶層300に入射する光を遮断する。
光遮断膜125は、データ線141に沿って長く延長されており、フローティング状態である。各光遮断膜125は、第1データ線141aと第2データ線141bのうちのいずれか1つと部分的に重なるが、第1データ線141aと第2データ線141bの両方に重ならないように形成される。つまり、光遮断膜125のゲート線121に沿う幅方向の一側は第1データ線141aと第2データ線141bの間に位置する。
このように光遮断膜125を第1データ線141aと第2データ線141bのうちのいずれか1つにのみ重なるようにすることは、光遮断膜125と両データ線141a、141bの間に形成される容量が直列に形成されて、データ線141a、141bの信号伝達を遅延させることを防止するためである。
他の実施形態として、光遮断膜125は第1データ線141aと第2データ線141bの間に位置しながら、第1データ線141aおよび第2データ線141bのいずれとも重ならないように形成することができる。
他の実施形態として、光遮断膜125は第1データ線141aと第2データ線141bの間に位置しながら、第1データ線141aおよび第2データ線141bのいずれとも重ならないように形成することができる。
カラーフィルター152の構成と効果は第1実施形態と同一であり、重複する説明を省略する。
光遮断膜125は各境界でいずれか一方に偏っており、これについて説明する。
第1境界において、第1光遮断膜125aは第2サブカラーフィルター152bで覆われている第2データ線141b側に偏っている。青色光の光漏れは多少発生するが、第1光遮断膜125aによって第2サブカラーフィルター152bに入射する光が遮断されて、緑色光の光漏れは効果的に防止される。緑色光に比べて青色光の視認性が悪いことから、光漏れによる問題が減少する。
光遮断膜125は各境界でいずれか一方に偏っており、これについて説明する。
第1境界において、第1光遮断膜125aは第2サブカラーフィルター152bで覆われている第2データ線141b側に偏っている。青色光の光漏れは多少発生するが、第1光遮断膜125aによって第2サブカラーフィルター152bに入射する光が遮断されて、緑色光の光漏れは効果的に防止される。緑色光に比べて青色光の視認性が悪いことから、光漏れによる問題が減少する。
第2境界において、第2光遮断膜125bは第2サブカラーフィルター152bで覆われている第1データ線141a側に偏っている。青色光の光漏れは多少発生するが、第2光遮断膜125bによって第2サブカラーフィルター152bに入射する光が遮断されて、緑色光の光漏れは効果的に防止される。緑色光に比べて青色光の視認性が悪いことから、光漏れによる問題が減少する。
第3境界において、第3光遮断膜125cは第1サブカラーフィルター152aで覆われている第2データ線141b側に偏っている。これによって、青色光の光漏れは多少発生するが、第3光遮断膜125cによって第1サブカラーフィルター152aに入射する光が遮断されて、赤色光の光漏れは効果的に防止される。赤色光に比べて青色光の視認性が悪いことから、光漏れによる問題が減少する。
図15を参照して本発明の第3実施形態を説明する。
光遮断膜125の構成と効果は第3実施形態と同一であり、重複する説明は省略する。
第1境界で第2サブカラーフィルター152bが第1サブカラーフィルター152aの上に位置して凸部を形成している。しかし、第1光遮断膜125aが第2サブカラーフィルター152bに偏るように配置されていることから、緑色光の光漏れを遮断することができる。
光遮断膜125の構成と効果は第3実施形態と同一であり、重複する説明は省略する。
第1境界で第2サブカラーフィルター152bが第1サブカラーフィルター152aの上に位置して凸部を形成している。しかし、第1光遮断膜125aが第2サブカラーフィルター152bに偏るように配置されていることから、緑色光の光漏れを遮断することができる。
第2境界と第3境界でカラーフィルター152の構成は第1実施形態と同一であり、重複する説明は省略する。
図16および図17を参照して本発明の第4実施形態を説明する。図17は図9のX-X線に該当する部分の断面図である。
第2画素電極161bは、第1実施形態に比べてゲート線121の延長方向に拡大されている。つまり、第2画素電極161bの右側は第1データ線141aと重なり、第2画素電極161bの左側は第2データ線141bと重なる。
図16および図17を参照して本発明の第4実施形態を説明する。図17は図9のX-X線に該当する部分の断面図である。
第2画素電極161bは、第1実施形態に比べてゲート線121の延長方向に拡大されている。つまり、第2画素電極161bの右側は第1データ線141aと重なり、第2画素電極161bの左側は第2データ線141bと重なる。
第2画素電極161bは拡張されているが、遮蔽電極が形成されていない。各境界でサブカラーフィルター152a、152b、152cは互いに離間しており、カラーフィルター152は凹部を形成する。凹部上には画素電極161が形成されていなくて凹部上に位置する液晶310は制御されない。
凹部の両側で液晶310は斜めに配向され、小さい角度で入射する光を通過させることで光漏れが発生する。
凹部の両側で液晶310は斜めに配向され、小さい角度で入射する光を通過させることで光漏れが発生する。
このような光漏れは、光遮断膜125によって遮断することができる。光遮断膜125の構成は第2実施形態と同一であり、重複する説明は省略する。
本発明のいくつかの実施形態を図示して説明したが、本発明の属する技術分野における通常の知識を有する当業者であれば、本発明の原則や精神から外れずに本実施形態を変形できることが分かる。本発明の範囲は添付された請求項とその均等物によって決められる。
本発明のいくつかの実施形態を図示して説明したが、本発明の属する技術分野における通常の知識を有する当業者であれば、本発明の原則や精神から外れずに本実施形態を変形できることが分かる。本発明の範囲は添付された請求項とその均等物によって決められる。
121 ゲート線
122 ゲート電極
123 保持電極線
125 光遮断膜
131 ゲート絶縁膜
132 半導体層
133 抵抗接触層
141 データ線
142 ソース電極
143 ドレイン電極
144 保持容量補助電極
151 保護膜
152 カラーフィルター
161 画素電極
162 画素電極分離パターン
163 画素電極切開パターン
165 遮蔽電極
241 共通電極
242 共通電極切開パターン
122 ゲート電極
123 保持電極線
125 光遮断膜
131 ゲート絶縁膜
132 半導体層
133 抵抗接触層
141 データ線
142 ソース電極
143 ドレイン電極
144 保持容量補助電極
151 保護膜
152 カラーフィルター
161 画素電極
162 画素電極分離パターン
163 画素電極切開パターン
165 遮蔽電極
241 共通電極
242 共通電極切開パターン
Claims (41)
- 第1基板、前記第1基板に対向し共通電極が形成されている第2基板、および前記第1基板および前記第2基板の間に位置する液晶層を含む液晶表示装置において、
前記第1基板は、
複数の画素を定義するデータ線およびゲート線と、
前記データ線およびゲート線に電気的に接続されている薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタに電気的に接続されている画素電極と、
互いに異なる色の第1サブカラーフィルター、第2サブカラーフィルターおよび第3サブカラーフィルターを含むカラーフィルターと、
前記画素間の境界に位置した前記カラーフィルターの上に前記データ線に対して平行に形成されており、共通電圧が印加される遮蔽電極と、
を含み、
前記遮蔽電極の下部の前記カラーフィルターは前記第2基板に向かって突出している凸部を含み、
前記画素は前記第1サブカラーフィルターが形成されている第1画素、前記第2サブカラーフィルターが形成されている第2画素、および前記第3サブカラーフィルターが形成されている第3画素を含み、
前記第1画素と前記第2画素の間の前記データ線に沿う第1境界で、前記第3サブカラーフィルターが前記第1サブカラーフィルターおよび前記第2サブカラーフィルターの間で前記凸部を形成することを特徴とする液晶表示装置。 - 前記第2画素と前記第3画素の間の前記データ線に沿う第2境界で、前記第3サブカラーフィルターが前記凸部を形成し、
前記第1画素と第3画素の間の前記データ線に沿う第3境界で、前記第3サブカラーフィルターが前記凸部を形成することを特徴とする、請求項1に記載の液晶表示装置。 - 前記第1境界で前記第1サブカラーフィルターと前記第2サブカラーフィルターは互いに離間していることを特徴とする、請求項2に記載の液晶表示装置。
- 前記第1サブカラーフィルターは赤色、前記第2サブカラーフィルターは緑色、前記第3サブカラーフィルターは青色であることを特徴とする、請求項3に記載の液晶表示装置。
- 前記薄膜トランジスタは第1薄膜トランジスタと第2薄膜トランジスタを含み、
前記画素電極は前記第1薄膜トランジスタに電気的に接続されている第1画素電極と、前記第1画素電極と分離されており前記第2薄膜トランジスタに電気的に接続されている第2画素電極とを含むことを特徴とする、請求項4に記載の液晶表示装置。 - 前記第1薄膜トランジスタと前記第2薄膜トランジスタは同一の前記ゲート線に接続されていることを特徴とする、請求項5に記載の液晶表示装置。
- 前記データ線は前記第1薄膜トランジスタに接続されている第1データ線と、前記第2薄膜トランジスタに接続されている第2データ線とを含むことを特徴とする、請求項6に記載の液晶表示装置。
- 前記画素電極には画素電極切開パターンが形成されており、
前記共通電極には共通電極切開パターンが形成されており、
前記液晶層は垂直配向(vertical alignment)モードであることを特徴とする、請求項7に記載の液晶表示装置。 - 前記遮蔽電極は前記第1データ線と前記第2データ線を覆っていることを特徴とする、請求項7に記載の液晶表示装置。
- 前記遮蔽電極は前記画素電極と同一の層であることを特徴とする、請求項7に記載の液晶表示装置。
- 前記第1基板は、
前記画素間の境界で前記データ線に沿って形成されている光遮断膜をさらに含むことを特徴とする、請求項7に記載の液晶表示装置。 - 前記光遮断膜はフローティング状態であることを特徴とする、請求項11に記載の液晶表示装置。
- 前記ゲート線の延長方向への前記光遮断膜の両端のうちの少なくともいずれか1つは前記第1データ線と前記第2データ線の間に位置することを特徴とする、請求項12に記載の液晶表示装置。
- 前記第1境界で前記光遮断膜は前記第2画素の方向に偏って形成されていることを特徴とする、請求項12に記載の液晶表示装置。
- 前記第2境界で前記光遮断膜は前記第2画素の方向に偏って形成されていることを特徴とする、請求項12に記載の液晶表示装置。
- 前記第3境界で前記光遮断膜は前記第1画素の方向に偏って形成されていることを特徴とする、請求項12に記載の液晶表示装置。
- 前記光遮断膜は前記ゲート線と同一の層であることを特徴とする、請求項12に記載の液晶表示装置。
- 第1基板、前記第1基板に対向し共通電極が形成されている第2基板、および前記第1基板および前記第2基板の間に位置する液晶層を含む液晶表示装置において、
前記第1基板は、
複数の画素を定義するデータ線およびゲート線と、
前記データ線およびゲート線に電気的に接続されている薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタに電気的に接続されている画素電極と、
互いに異なる色の第1サブカラーフィルター、第2サブカラーフィルターおよび第3サブカラーフィルターを含むカラーフィルターと、
前記画素間の境界に位置した前記カラーフィルターの上に前記データ線に対して平行に形成されており、共通電圧が印加される遮蔽電極と、
前記画素間の境界で前記データ線に沿って形成されている光遮断膜と、
を含むことを特徴とする液晶表示装置。 - 前記光遮断膜は前記ゲート線と同一の層であり、フローティング状態であることを特徴とする、請求項18に記載の液晶表示装置。
- 前記第1サブカラーフィルターは赤色、前記第2サブカラーフィルターは緑色、前記第3サブカラーフィルターは青色であり、
前記画素は前記第1サブカラーフィルターが形成されている第1画素、前記第2カラーフィルターが形成されている第2画素、前記第3サブカラーフィルターが形成されている第3画素を含み、
前記第1画素と前記第2画素の間の前記データ線に沿う第1境界で前記光遮断膜は前記第2画素の方向に偏って形成されていることを特徴とする、請求項18に記載の液晶表示装置。 - 前記第2画素と前記第3画素の間の前記データ線に沿う第2境界で前記光遮断膜は前記第2画素の方向に偏って形成されていることを特徴とする、請求項20に記載の液晶表示装置。
- 前記第1画素と前記第3画素の間の前記データ線に沿う第3境界で前記光遮断膜は前記第1画素の方向に偏って形成されていることを特徴とする、請求項20に記載の液晶表示装置。
- 前記遮蔽電極の下部の前記カラーフィルターは前記第2基板に向かって突出している凸部を含み、
前記第1画素と前記第2画素の間の前記データ線に沿う第1境界で、前記第3サブカラーフィルターが前記第1サブカラーフィルターおよび前記第2サブカラーフィルターの間で前記凸部を形成することを特徴とする、請求項18に記載の液晶表示装置。 - 前記第1サブカラーフィルターは赤色、前記第2サブカラーフィルターは緑色、前記第3サブカラーフィルターは青色であることを特徴とする、請求項23に記載の液晶表示装置。
- 前記第2画素と前記第3画素の間の前記データ線に沿う第2境界で、前記第3サブカラーフィルターが前記凸部を形成し、
前記第1画素と前記第3画素の間の前記データ線に沿う第3境界で、前記第3サブカラーフィルターが前記凸部を形成することを特徴とする、請求項24に記載の液晶表示装置。 - 前記薄膜トランジスタは第1薄膜トランジスタと第2薄膜トランジスタを含み、
前記画素電極は前記第1薄膜トランジスタに電気的に接続されている第1画素電極と、前記第1画素電極と分離されており前記第2薄膜トランジスタに電気的に接続されている第2画素電極とを含むことを特徴とする、請求項18に記載の液晶表示装置。 - 前記第1薄膜トランジスタと前記第2薄膜トランジスタは同一の前記ゲート線に接続されており、
前記データ線は前記第1薄膜トランジスタに接続されている第1データ線と、前記第2薄膜トランジスタに接続されている第2データ線とを含むことを特徴とする、請求項26に記載の液晶表示装置。 - 前記ゲート線の延長方向への前記光遮断膜の両端のうちの少なくともいずれか1つは前記第1データ線と前記第2データ線の間に位置することを特徴とする、請求項27に記載の液晶表示装置。
- 前記画素電極には画素電極切開パターンが形成されており、
前記共通電極には共通電極切開パターンが形成されており、
前記液晶層は垂直配向(vertical alignment)モードであることを特徴とする、請求項27に記載の液晶表示装置。 - 前記遮蔽電極は前記画素電極と同一の層であり、
前記遮蔽電極は前記第1データ線と前記第2データ線を覆っていることを特徴とする、請求項27に記載の液晶表示装置。 - 第1基板、前記第1基板に対向し共通電極が形成されている第2基板、および前記第1基板および前記第2基板の間に位置する液晶層を含む液晶表示装置において、
前記第1基板は、
複数の画素を定義するデータ線およびゲート線と、
前記データ線およびゲート線に電気的に接続されている薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタに電気的に接続されている画素電極と、
互いに異なる色の第1サブカラーフィルター、第2サブカラーフィルターおよび第3サブカラーフィルターを含むカラーフィルターと、
隣接した画素間の境界に前記データ線に沿って形成されている光遮断膜と、
を含み、
前記データ線は前記画素の右側に位置する第1データ線と前記画素の左側に位置する第2データ線を含み、
前記画素電極は前記第1データ線と前記第2データ線をカバーしていることを特徴とする液晶表示装置。 - 隣接した前記画素間の前記データ線に沿った境界で前記カラーフィルターは凹状であることを特徴とする、請求項31に記載の液晶表示装置。
- 前記薄膜トランジスタは前記第1データ線と電気的に接続されている第1薄膜トランジスタと、前記第2データ線と電気的に接続されている第2薄膜トランジスタとを含み、
前記画素電極は前記第1薄膜トランジスタと電気的に接続されている第1画素電極と、前記第1画素電極と分離されており前記第2薄膜トランジスタと電気的に接続されている第2画素電極とを含むことを特徴とする、請求項32に記載の液晶表示装置。 - 前記第2画素電極は前記第1画素電極を囲んでおり、
前記第2画素電極が前記第1データ線および前記第2データ線をカバーすることを特徴とする、請求項33に記載の液晶表示装置。 - 前記第1画素電極は山カッコ形状であることを特徴とする、請求項34に記載の液晶表示装置。
- 前記光遮断膜は前記ゲート線と同一の層であり、フローティング状態であることを特徴とする、請求項33に記載の液晶表示装置。
- 前記ゲート線の延長方向への前記光遮断膜の両端のうちの少なくともいずれか1つは前記第1データ線と前記第2データ線の間に位置することを特徴とする、請求項33に記載の液晶表示装置。
- 前記第1サブカラーフィルターは赤色、前記第2サブカラーフィルターは緑色、前記第3サブカラーフィルターは青色であり、
前記画素は前記第1サブカラーフィルターが形成されている第1画素、前記第2カラーフィルターが形成されている第2画素、前記第3サブカラーフィルターが形成されている第3画素を含み、
前記第1画素と前記第2画素の間の前記データ線に沿う第1境界で前記光遮断膜は前記第2画素の方向に偏って形成されていることを特徴とする、請求項33に記載の液晶表示装置。 - 前記第2画素と前記第3画素の間の前記データ線に沿う第2境界で前記光遮断膜は前記第2画素の方向に偏って形成されていることを特徴とする、請求項38に記載の液晶表示装置。
- 前記第1画素と前記第3画素の間の前記データ線に沿う第3境界で前記光遮断膜は前記第1画素の方向に偏って形成されていることを特徴とする、請求項38に記載の液晶表示装置。
- 前記画素電極には画素電極切開パターンが形成されており、
前記共通電極には共通電極切開パターンが形成されており、
前記液晶層は垂直配向(vertical alignment)モードであることを特徴とする、請求項33に記載の液晶表示装置。
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