JP2008141023A - 超音波洗浄装置及び基板洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】超音波洗浄装置10は、洗浄液14に超音波を伝動し、洗浄液14に浸漬されたウエハ基板33を洗浄する超音波洗浄装置であり、ウエハ基板33を洗浄液14に超音波を伝動する振動板12に対向させ、超音波の定在波の腹の位置にウエハ基板33を保持する保持手段と、ウエハ基板33を振動板12に対し水平方向に楕円揺動または円揺動する揺動手段と、を備える。これにより、被洗浄基板であるウエハ基板33に対し、効率よく且つ均一に超音波を与え、基板洗浄効率や洗浄の確実性を向上させ、被洗浄基板面内に生じる洗浄力分布を減少させ、短時間で確実に被洗浄基板を洗浄することができる。
【選択図】図1
Description
このように、発振子13a,13b,13c,13d,13e,13f,13gをハニカム構造に配置することにより、全ての発振子13a,13b,13c,13d,13e,13f,13gの間隔が均等で、密に配置することができる。その結果、発振子の出力に無駄がなく、且つ被洗浄基板に対して均一に振動を与えることができる。
図2は基板洗浄方法のフロー図である。先ず、洗浄槽11に洗浄液14を充填した後(ステップS1)、制御ユニット21によって、超音波発振機20に超音波信号を発生させ、ハニカム構造に配置された発振子13a,13b,13c,13d,13e,13f,13gを振動させる。そして、発振子13a,13b,13c,13d,13e,13f,13gから振動板12に振動を伝動させ、洗浄液14内に超音波を印加する(ステップS2)。このとき、洗浄液14の液面14aは、超音波の定在波の波長をλとすると、(1/2)・λの整数倍になるように制御ユニット21によって調整される。
揺動の方法を図3、図4に示す。図3は楕円揺動の方法を説明する図であり、図4は円揺動の方法を説明する図である。
このように、基板洗浄方法では、ウエハ基板33を洗浄液14に超音波を伝動する振動板12に対向させ、超音波の定在波の腹の位置にウエハ基板33の洗浄面を保持し、ウエハ基板33を振動板12に対し水平方向に楕円揺動または円揺動する。
模擬サンプル40用の基板として、鏡面仕上げされた、直径が5インチのシリコンウエハ基板41を用いた。そして、シリコンウエハ基板41上に、市販のフォトレジスト(クラリアントジャパン製AZP4620)及び現像液(クラリアントジャパン製AZ400Kデベロッパ−)を用いて、フォトリソグラフィにより合計33660個のレジストパターン42を形成した。
実施例1においては、図3に示す発振子13a,13b,13c,13d,13e,13f,13gの配置と揺動によって模擬サンプル40のリフトオフを行った。即ち、実施例1では、ハニカム構造に配置させた発振子13a,13b,13c,13d,13e,13f,13g上で、模擬サンプル40を楕円揺動によって公転させた。
<実施例2>
実施例2においては、図4に示す発振子13a,13b,13c,13d,13e,13f,13gの配置と揺動によって模擬サンプル40のリフトオフを行った。即ち、実施例2では、ハニカム構造に配置させた発振子13a,13b,13c,13d,13e,13f,13g上で、発振子13aの外周線上に模擬サンプル40の中心部が位置するように模擬サンプル40を円揺動によって公転させた。
<実施例3>
実施例3では、ハニカム構造に配置させた発振子上で、模擬サンプル40を振動させながら揺動した。
実施例4では、一つの発振子の周囲に5個の発振子を配置させた構成で模擬サンプル40を公転させて揺動させた。
実施例5では、一つの発振子の周囲に5個の発振子を配置させた構成で揺動した。
実施例5における発振子の配置と揺動を図9に示す。図9は実施例5における発振子の配置と揺動方法を説明する図である。上述したように、中心に一つの発振子13aを配置し、その周囲に5個の発振子50a,50b,50c,50d,50eを配置させた構成で、発振子13aの外周線上に模擬サンプル40の中心部が位置するように模擬サンプル40を円揺動によって公転させた。尚、公転は4秒に1回の周期で行った。
実施例6では、一つの発振子の周囲に5個の発振子を配置させた構成で揺動し、模擬サンプル40を振動させながら揺動した。
実施例7においては、一つの発振子の周囲に5個の発振子を配置させ、模擬サンプル40を揺動せずにリフトオフを行った。
前記基板を前記洗浄液に前記超音波を伝動する振動板に対向させて、前記基板を保持する保持手段と、
前記基板を前記振動板に対し水平方向に楕円揺動または円揺動する揺動手段と、を有し、
前記振動板に、前記超音波を発生させる複数の発振子がハニカム構造を形成して設置されていることを特徴とする超音波洗浄装置。
(付記6) 洗浄液に超音波を伝動し、前記洗浄液に浸漬された基板を洗浄する基板洗浄方法において、
前記基板を前記洗浄液に前記超音波を伝動する振動板に対向させて、前記基板を保持するステップと、
保持された前記基板を前記振動板に対し水平方向に楕円揺動または円揺動するステップと、
を有することを特徴とする基板洗浄方法。
(付記8) 前記ハニカム構造においては、一つの前記発振子を中心に配置し、中心に配置された前記発振子の周囲に、複数の前記発振子が周設され、全ての前記発振子同士が互いに等間隔で配置されていることを特徴とする付記6または7記載の基板洗浄方法。
11 洗浄槽
12 振動板
13a,13b,13c,13d,13e,13f,13g,50a,50b,50c,50d,50e 発振子
14 洗浄液
20 超音波発振機
21 制御ユニット
30 駆動部
31 アーム
32 支持枠
33 ウエハ基板
40 模擬サンプル
41 シリコンウエハ基板
42 レジストパターン
43 Al2O3膜
Claims (6)
- 洗浄液に超音波を伝動し、前記洗浄液に浸漬された基板を洗浄する超音波洗浄装置において、
前記基板を前記洗浄液に前記超音波を伝動する振動板に対向させて、前記基板を保持する保持手段と、
前記基板を前記振動板に対し水平方向に楕円揺動または円揺動する揺動手段と、を有し、
前記振動板に、前記超音波を発生させる複数の発振子がハニカム構造を形成して設置されていることを特徴とする超音波洗浄装置。 - 前記ハニカム構造においては、一つの前記発振子を中心に配置し、中心に配置された前記発振子の周囲に、複数の前記発振子が周設され、全ての前記発振子同士が互いに等間隔で配置されていることを特徴とする請求項1記載の超音波洗浄装置。
- 前記楕円揺動においては、前記ハニカム構造の中心に配置された第1の発振子の中心点と前記第1の発振子の両端に配置された第2の発振子及び第3の発振子の中心点とを通る第1の中心線と前記第2の発振子の外周線及び前記第3の発振子の外周線とが交差する交点の中、前記第1の発振子の中心までの距離が最短となる前記第2の発振子の外周線上の第1の交点及び前記第3の発振子の外周線上の第2の交点と、前記第1の発振子の中心を通り、前記第1の中心線と直交する第2の中心線と前記第1の発振子の外周線とが交差する第3の交点及び第4の交点との4点を通る楕円上に前記基板の中心部が位置するように、前記基板が前記振動板に対し水平方向に公転することを特徴とする請求項1または2記載の超音波洗浄装置。
- 前記円揺動においては、前記ハニカム構造の中心に配置された前記発振子の外周線上に前記基板の中心部が位置するように、前記基板が前記振動板に対し水平方向に公転することを特徴とする請求項1または2記載の超音波洗浄装置。
- 前記基板の洗浄面の第1の直径が前記発振子の第2の直径の2倍以下であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の超音波洗浄装置。
- 洗浄液に超音波を伝動し、前記洗浄液に浸漬された基板を洗浄する基板洗浄方法において、
前記基板を前記洗浄液に前記超音波を伝動する振動板に対向させて、前記基板を保持するステップと、
保持された前記基板を前記振動板に対し水平方向に楕円揺動または円揺動するステップと、
を有することを特徴とする基板洗浄方法。
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