JP2008140823A - Electrostatic chuck - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、例えば半導体ウエハやガラス基板などを吸着保持する静電チャック装置に関する。 The present invention relates to an electrostatic chuck device that holds, for example, a semiconductor wafer or a glass substrate by suction.
半導体製造においては、ウエハをプラズマエッチング装置等の加工装置の所定位置に固定するために、ウエハを吸着保持するチャック装置が使用されている。中でも静電チャック装置は、取り扱いが簡単で、真空中でも使用できるという利点を有している。従来の静電チャック装置は、例えば、一対の絶縁性有機フィルムが電極を内包する絶縁接着層を介して貼着された構造のものや(特許文献1)、一対のセラミック基板で電極を挟持した構造のものなどが知られている。 In semiconductor manufacturing, a chuck device that sucks and holds a wafer is used to fix the wafer at a predetermined position of a processing apparatus such as a plasma etching apparatus. Among them, the electrostatic chuck device has an advantage that it is easy to handle and can be used in a vacuum. Conventional electrostatic chuck devices have, for example, a structure in which a pair of insulating organic films are attached via an insulating adhesive layer containing electrodes (Patent Document 1), or a pair of ceramic substrates sandwiching the electrodes Structures are known.
しかしながら、静電チャック装置は、ウエハ脱着時の擦れなどが原因で、被吸着物と接する最表層に傷が生じやすい。 However, the electrostatic chuck device is liable to cause scratches on the outermost layer in contact with the object to be attracted due to rubbing when the wafer is attached or detached.
最表層に傷が生じると、静電チャック装置の内部電極が絶縁破壊を起こしやすくなり、耐久性が低下する。 When the outermost layer is scratched, the internal electrode of the electrostatic chuck device is liable to cause dielectric breakdown and the durability is lowered.
本発明は、上記のような状況に鑑みてなされたもので、耐久性に優れた静電チャック装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above situation, and an object thereof is to provide an electrostatic chuck device having excellent durability.
本発明からなる静電チャック装置は、被吸着物と接する最表層に、復元性を有する樹脂フィルムを用いることを特徴とする。該樹脂フィルムの材料には、エポキシアクリレート樹脂が好ましい。また、本発明の静電チャック装置は、被吸着物と接する最表層が、エポキシアクリレート樹脂を含有することを特徴とする。 The electrostatic chuck device according to the present invention is characterized in that a resin film having resilience is used as the outermost layer in contact with the object to be adsorbed. An epoxy acrylate resin is preferable as the material of the resin film. The electrostatic chuck device of the present invention is characterized in that the outermost layer in contact with the object to be adsorbed contains an epoxy acrylate resin.
本発明によれば、耐久性に優れた静電チャック装置を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the electrostatic chuck apparatus excellent in durability can be provided.
図面を参照して、本発明に係る静電チャック装置の実施形態について説明する。図1〜図3は本実施形態の静電チャック装置を電極の延在方向に対して垂直方向に切断したときの断面図である。なお、説明の便宜上、被吸着物を吸着する側を上側、その反対側を下側と定義する。 An embodiment of an electrostatic chuck device according to the present invention will be described with reference to the drawings. 1 to 3 are cross-sectional views when the electrostatic chuck device of the present embodiment is cut in a direction perpendicular to the extending direction of the electrodes. For convenience of explanation, the side that adsorbs the object to be adsorbed is defined as the upper side, and the opposite side is defined as the lower side.
図1に示すように、本実施形態の静電チャック装置10は、絶縁性有機フィルム31と樹脂フィルム32が絶縁性接着剤層33を介して貼着され、絶縁性接着剤層33内に帯状の内部電極34、35が形成された電極シート(静電チャック装置用電極シート)30を主体として構成され、該電極シート30が、接着剤層21を介して基板20に貼着されたものである。本実施形態では、樹脂フィルム32の上面が、被吸着物を吸着する吸着面となっている。
As shown in FIG. 1, the
絶縁性接着剤層33における内部電極34、35の位置を図3(a)〜(c)に示す。図3(a)に示されるように、絶縁性有機フィルム31に接触する構造、または図3(b)に示されるように、絶縁性有機フィルム31と樹脂フィルム32のどちらにも接触しない構造、または図3(c)に示されるように、樹脂フィルム32に接触する構造も可能である。
The positions of the
本実施形態の別形状として図2を示す。図1との違いは、絶縁性接着剤層33と樹脂フィルム32の間に、絶縁層36と接着剤層37を介することにあり、機能的には図1と同様のものである。なお、静電チャック装置の層構造については、上記層構造に限定されるものではなく、最表層に、復元性を有する樹脂フィルムかエポキシアクリレート樹脂を含有する層があればよい。また、静電チャック装置は、接着剤層21及び基板20がない電極シート30そのものであってもよい。
FIG. 2 shows another shape of the present embodiment. The difference from FIG. 1 is that an
被吸着物と接する最表層には、復元性を有する樹脂フィルム32を使用する。復元性とは、樹脂フィルム表面に傷が生じても、例えば加熱することにより傷が消失し、表面が復元することを表している。
For the outermost layer in contact with the object to be adsorbed, a
上記樹脂フィルムの材料には、エポキシアクリレート樹脂が好ましい。本発明におけるエポキシアクリレート樹脂としては、一般的なビスフェノール型、または脂環式のエポキシ化合物と(メタ)アクリル酸とを反応させたビニルエステル樹脂が挙げられる。特に、該ビニルエステル樹脂とビニル化合物、またはアリル化合物から選ばれた1種類、または複数種のモノマー及び重合開始剤の混合物を、光(UV光)、または熱にて硬化させた樹脂が好適に用いられる。 The material for the resin film is preferably an epoxy acrylate resin. Examples of the epoxy acrylate resin in the present invention include a vinyl ester resin obtained by reacting a general bisphenol type or alicyclic epoxy compound with (meth) acrylic acid. In particular, a resin obtained by curing a mixture of one or a plurality of monomers and a polymerization initiator selected from the vinyl ester resin and a vinyl compound or an allyl compound with light (UV light) or heat is preferable. Used.
上記ビニルエステル樹脂は、ビスフェノール型または脂環式エポキシ化合物と(メタ)アクリル酸とを反応させて生成されるビニルエステル樹脂であり、エポキシ化合物としては、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンの反応物、ビスフェノールFとエピクロルヒドリンの反応物、水素化ビスフェノールAとエピクロルヒドリンの反応物、シクロヘキサンジメタノールとエピクロルヒドリンの反応物、ノルボルナンジアルコールとエピクロルヒドリンの反応物、テトラブロモビスフェノールAとエピクロルヒドリンの反応物、トリシクロデカンジメタノールとエピクロルヒドリンの反応物、アリサイクリックジエポキシアジペート、アリサイクリックジエポキシカーボネート、アリサイクリックジエポキシアセタール、アリサイクリックジエポキシカルボキシレート等が例示される。 The vinyl ester resin is a vinyl ester resin produced by reacting a bisphenol type or alicyclic epoxy compound with (meth) acrylic acid. As the epoxy compound, a reaction product of bisphenol A and epichlorohydrin, bisphenol F and Reaction product of epichlorohydrin, reaction product of hydrogenated bisphenol A and epichlorohydrin, reaction product of cyclohexanedimethanol and epichlorohydrin, reaction product of norbornane dialcohol and epichlorohydrin, reaction product of tetrabromobisphenol A and epichlorohydrin, tricyclodecane dimethanol and epichlorohydrin Reactants, alicyclic diepoxy adipate, alicyclic diepoxy carbonate, alicyclic diepoxy acetal, alicyclic diepoxy Po carboxylates, and the like.
また、上記ビニル化合物及びアリル化合物としては、例えば、アリルエステルモノマー、アクリル酸エステルモノマー、メタクリル酸エステルモノマー、スチレンモノマー、α−メチルスチレンモノマー、アクリロニトリルモノマー等一般的なものが使用できる。具体的には、アリルエステルモノマーとしては、オルソフタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、テレフタル酸ジアリル、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル、コハク酸ジアリル等を用いることができる。また、アクリル酸エステルモノマー及びメタクリル酸エステルモノマーとしては、メチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、ビスフェノールAのEO付加物ジメタクリレート、ビスフェノールAのEO付加物ジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリス−オキシエチレンアクリレート、トリメチロールプロパントリス−オキシエチレンメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、グリセリンジアクリレート、グリセリンジメタクリレート、2,6−ジブロム−4−ターシャリーブチルフェニルアクリレート等を用いることができる。 Moreover, as said vinyl compound and an allyl compound, general things, such as an allyl ester monomer, an acrylate ester monomer, a methacrylic ester monomer, a styrene monomer, (alpha) -methyl styrene monomer, an acrylonitrile monomer, can be used, for example. Specifically, as the allyl ester monomer, diallyl orthophthalate, diallyl isophthalate, diallyl terephthalate, diallyl 1,4-cyclohexanedicarboxylate, diallyl succinate or the like can be used. Examples of acrylic acid ester monomers and methacrylic acid ester monomers include methyl methacrylate, isobutyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, EO adduct dimethacrylate of bisphenol A, and EO of bisphenol A. Adduct diacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, phenoxyethyl methacrylate, isobornyl methacrylate, benzyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, dicyclopentenyloxyethyl acrylate, dicyclopentenyloxy Ethyl methacrylate, trimethylolpropane di Chlorate, trimethylolpropane dimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolpropane tris-oxyethylene acrylate, trimethylolpropane tris-oxyethylene methacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipenta Erythritol hexaacrylate, glycerin diacrylate, glycerin dimethacrylate, 2,6-dibromo-4-tertiary butylphenyl acrylate, and the like can be used.
本発明におけるエポキシアクリレート樹脂を硬化させるためには、光硬化及び熱硬化が有用である。
光重合開始剤としては、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、ベンゾフェノン、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モンフォリノプロパン−1,2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1等が挙げられる。
熱硬化の場合には、ジアルキルパーオキサイド、アシルパーオキサイド、ハイドロキシパーオキサイド、ケトンパーオキサイド、パーオキシエステル等の有機過酸化物が用いられる。
In order to cure the epoxy acrylate resin in the present invention, photocuring and thermal curing are useful.
Examples of the photopolymerization initiator include 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, benzophenone, and 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2. -Monofolinopropane-1,2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1 and the like.
In the case of thermosetting, organic peroxides such as dialkyl peroxide, acyl peroxide, hydroxy peroxide, ketone peroxide, and peroxy ester are used.
本発明におけるエポキシアクリレート樹脂からなる樹脂フィルムの厚さは、10〜300μmであることが好ましく、20〜200μmであることがより好ましい。この厚さが10μm未満では、フィルム強度に問題が生じ、一方、300μmを超えると、フィルム状態で巻き取ることが困難となりやすく、電極から被吸着物までの距離が遠くなり、良好な吸着性能が得られにくいため好ましくない。また、本発明の樹脂フィルムは、鉛筆硬度がF以上であることが好ましい。さらに、本発明の樹脂フィルムは耐油性を有することが好ましい。 The thickness of the resin film made of the epoxy acrylate resin in the present invention is preferably 10 to 300 μm, and more preferably 20 to 200 μm. If this thickness is less than 10 μm, there will be a problem in film strength. On the other hand, if it exceeds 300 μm, it will be difficult to wind in the film state, the distance from the electrode to the object to be adsorbed will be increased, and good adsorption performance will be obtained. It is not preferable because it is difficult to obtain. The resin film of the present invention preferably has a pencil hardness of F or higher. Furthermore, the resin film of the present invention preferably has oil resistance.
また、本発明におけるエポキシアクリレート樹脂からなる樹脂フィルムは、ビニルエステル樹脂とビニル化合物あるいはアリル化合物から選ばれた1種類または複数種のモノマー及び重合開始剤をよく混合し、平滑性の高いガラスなどの基材等により狭持させ、熱あるいは光(UV光)を加えて硬化させることで得ることができる。 In addition, the resin film made of the epoxy acrylate resin in the present invention is a mixture of a vinyl ester resin and one or more monomers selected from vinyl compounds or allyl compounds and a polymerization initiator. It can be obtained by sandwiching with a base material or the like and curing by applying heat or light (UV light).
さらに、上記樹脂フィルムには、硬度、接着性、耐久性、耐候性、耐光性、耐水性、防食性等を改良する目的で、紫外線吸収剤、近赤外線吸収剤、光安定剤、光散乱剤、酸化防止剤、消泡剤、レベリング剤、チクソトロピー付与剤、内部離型剤、イオン捕捉剤、潤滑剤、カップリング剤等の各種の添加剤を添加することができる。 Furthermore, for the purpose of improving hardness, adhesiveness, durability, weather resistance, light resistance, water resistance, corrosion resistance, etc., the resin film has an ultraviolet absorber, a near infrared absorber, a light stabilizer, and a light scattering agent. Various additives such as an antioxidant, an antifoaming agent, a leveling agent, a thixotropy imparting agent, an internal mold release agent, an ion scavenger, a lubricant, and a coupling agent can be added.
図1〜2の絶縁性有機フィルム31、36の材質としては特に限定されるものではないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル類、ポリエチレン等のポリオレフィン類、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルイミド、トリアセチルセルロース、シリコーンゴム等が挙げられる。中でも、絶縁性に優れることから、ポリエステル類、ポリオレフィン類、ポリイミド、シリコーンゴム、ポリエーテルイミド、ポリエーテルサルフォン等が好ましい。特に好ましいのはポリイミドである。ポリイミドフィルムは市販されており、例えば、東レ・デュポン社製 商品名カプトン、宇部興産社製 商品名ユーピレックス、鐘淵化学工業社製 商品名アピカル等が好ましく用いられる。
絶縁性有機フィルム31、36の厚さも特に限定されるものではないが、20〜150μmが好ましく、25〜75μmがより好ましい。
The material of the insulating
The thickness of the insulating
本実施形態では、絶縁性接着剤層33が、絶縁耐性試験において差電圧5kV以上の絶縁耐性を有する絶縁性接着剤により構成されている。絶縁性接着剤は、絶縁性有機フィルム上に幅1mm、厚さ5μmの複数本の内部電極を電極間隔1mmで合計長さ5mとなるようにパターニングし、その上に厚さ10μmの絶縁性接着剤層を形成し、さらに絶縁性有機フィルムを貼着した評価用電極シートを作成し、該評価用電極シートの電極に差電圧5kVを印加した時に、電極間に短絡を生じさせない絶縁耐性を有する。
この特性を有する絶縁性接着剤としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリアミド樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂、スチレン系ブロック共重合体、アミン化合物、ビスマレイミド化合物等から選択される1種または2種以上の樹脂を主成分とする接着剤から条件を充足するものを選択して用いることができる。
エポキシ樹脂としては、ビスフェノール型、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、グリシジルエーテル型、グリシジルエステル型、グリシジルアミン型、トリヒドロキシフェニルメタン型、テトラグリシジルフェノールアルカン型、ナフタレン型、ジグリシジルジフェニルメタン型、ジグリシジルビフェニル型等の2官能または多官能エポキシ樹脂等が具体的に挙げられる。中でも、ビスフェノール型エポキシ樹脂が好ましく、ビスフェノールA型エポキシ樹脂が特に好ましい。また、エポキシ樹脂を主成分とする場合、必要に応じて、イミダゾール類、第3アミン類、フェノール類、ジシアンジアミド類、芳香族ジアミン類、有機過酸化物等のエポキシ樹脂用の硬化剤や硬化促進剤を配合したものを用いることもできる。
フェノール樹脂としては、アルキルフェノール樹脂、p−フェニルフェノール樹脂、ビスフェノールA型フェノール樹脂等のノボラックフェノール樹脂、レゾールフェノール樹脂、ポリフェニルパラフェノール樹脂等が具体的に挙げられる。
スチレン系ブロック共重合体としては、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体(SBS)、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体(SIS)、スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロック共重合体(SEBS)、スチレン−エチレン−プロピレン−スチレン共重合体(SEPS)等が具体的に挙げられる。
In the present embodiment, the insulating
Insulating adhesives having this property include epoxy resins, phenol resins, polyamide resins, acrylonitrile-butadiene copolymers, polyester resins, polyimide resins, silicone resins, styrene block copolymers, amine compounds, bismaleimide compounds, etc. A material satisfying the conditions can be selected and used from an adhesive mainly composed of one or more resins selected from the above.
Epoxy resins include bisphenol, phenol novolac, cresol novolac, glycidyl ether, glycidyl ester, glycidylamine, trihydroxyphenylmethane, tetraglycidylphenolalkane, naphthalene, diglycidyldiphenylmethane, and diglycidyl. Specific examples include bifunctional or polyfunctional epoxy resins such as biphenyl type. Among these, bisphenol type epoxy resins are preferable, and bisphenol A type epoxy resins are particularly preferable. When epoxy resin is the main component, curing agents for epoxy resins such as imidazoles, tertiary amines, phenols, dicyandiamides, aromatic diamines, organic peroxides, and curing accelerators are used as necessary. What mix | blended the agent can also be used.
Specific examples of the phenol resin include novolak phenol resins such as alkylphenol resins, p-phenylphenol resins, and bisphenol A type phenol resins, resole phenol resins, polyphenylparaphenol resins, and the like.
Examples of the styrene block copolymer include styrene-butadiene-styrene block copolymer (SBS), styrene-isoprene-styrene block copolymer (SIS), styrene-ethylene-butylene-styrene block copolymer (SEBS), Specific examples include styrene-ethylene-propylene-styrene copolymer (SEPS).
内部電極34、35には、電圧を印加した際に静電吸着力を発現できる導電性物質からなるものであれば特に限定されないが、銅、アルミニウム、金、銀、白金、クロム、ニッケル、タングステン等やこれらの合金から選択される1種または2種以上の金属からなる薄膜をパターニングしたものが好ましい。金属薄膜には、蒸着、メッキ、スパッタリング等により成膜されたものや、導電性ペーストを塗布乾燥して成膜されたもの、銅箔等の金属箔等が具体的に挙げられる。
The
電極シート30を貼着する基板20としては特に限定されないが、アルミニウム基板、ステンレス基板、セラミック基板等が挙げられる。
Although it does not specifically limit as the board |
接着剤層21、37を構成する接着剤には、絶縁性接着剤層33と同様の接着剤を用いることができる。但し、接着剤層21、37には、絶縁性接着剤層33に求められるような高い絶縁耐性は必要ない。
As the adhesive constituting the
本実施形態の電極シート30及び静電チャック装置10によれば、被吸着物と接する樹脂フィルム32に復元性を有する樹脂フィルムを採用しているため、仮に傷が生じたとしても、加熱することにより樹脂フィルム32の傷が消失し、復元性が得られる。復元性が得られることで、絶縁破壊が起こりにくくなり、優れた耐久性を有する静電チャック装置を実現することができる。
According to the
次に、実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
(エポキシアクリレート樹脂フィルムの作製)
温度計、撹拌装置、分溜コンデンサ、及びガス導入管を取り付けた1リットルのフラ
スコに下記の材料を加え、窒素ガスを吹き込みながら120〜125℃で2時間反応さ
せた。
ビスフェノールAジエポキシ化合物 374.4g
メタクリル酸 206.4g
オクチル酸クロム 1.5g
亜燐酸 0.15g
ハイドロキノン 0.2g
その後、酸価が11.0になった時点でフラスコ内容物を金属製バットに移して冷却し、樹脂Aを得た。
EXAMPLES Next, although this invention is demonstrated in more detail using an Example, this invention is not limited to these Examples.
(Preparation of epoxy acrylate resin film)
The following materials were added to a 1 liter flask equipped with a thermometer, a stirrer, a distillation condenser, and a gas introduction tube, and reacted at 120 to 125 ° C. for 2 hours while blowing nitrogen gas.
Bisphenol A diepoxy compound 374.4 g
Methacrylic acid 206.4g
Chromium octylate 1.5g
Phosphorous acid 0.15g
Hydroquinone 0.2g
Thereafter, when the acid value reached 11.0, the flask contents were transferred to a metal vat and cooled to obtain Resin A.
次に、下記の材料を均一に溶解混合し、真空脱泡機にて泡を取り除いた。
樹脂A 70質量部
メチルメタクリレート 10質量部
スチレン 20質量部
N−ニトロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩 0.003質量部
1,1,3,3−トリメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサネート
1.5質量部
Next, the following materials were uniformly dissolved and mixed, and bubbles were removed with a vacuum deaerator.
Resin A 70 parts by
1.5 parts by weight
次に、四隅に厚さ100μmのPETフィルムを挟んだ2枚の平板ガラス内に、上記混合物を満たし、130度のオーブンに5分間投入して熱硬化させた。さらに、常温冷却後、ガラスを取り外してエポキシアクリレート樹脂フィルムを得た。 Next, the above-mentioned mixture was filled in two flat glass plates with PET films having a thickness of 100 μm sandwiched at the four corners, and was put into a 130-degree oven for 5 minutes to be thermally cured. Further, after cooling at room temperature, the glass was removed to obtain an epoxy acrylate resin film.
(静電チャック装置の作製)
下記のようにして、図1に示した構造の電極シート及び静電チャック装置を作製した。
図1の絶縁性有機フィルム31に、膜厚50μmのポリイミドフィルム(東レ・デュポン社製 商品名カプトン)を用いる。該ポリイミドフィルムの片面に、銅を5μmの厚さでメッキし、その銅箔表面にフォトレジストを塗布した。パターン露光後に現像処理を行い、エッチングにより不要な銅箔を除去した。その後、ポリイミドフィルム上の銅箔を洗浄することにより、フォトレジストを除去し、内部電極を形成させた。該内部電極に、図1の絶縁性接着剤層33に該当するものとして、乾燥および加熱により半硬化させた絶縁性接着剤シート(アクリロニトリル−ブタジエンゴム:日本ゼオン社製 商品名ニッポール1001 100質量部、高純度エポキシ樹脂:油化シェル社製 商品名エピコートYL979 50質量部、クレゾール型フェノール樹脂:昭和高分子社製 商品名CKM2400 50質量部、2エチル4メチルイミダゾール:和光純薬社製 5質量部を適量のメチルエチルケトンに混合溶解したもの)を積層した後、エポキシアクリレート樹脂フィルムを貼着し、熱処理により接着させ、図1の電極シート30を得た。なお、乾燥後の図1における接着剤層33の厚さは20μmであった。
電極シート30における下側の面(ポリイミドフィルムにおける下側の面)に、接着剤層21に該当するものとして、乾燥および加熱により半硬化させた絶縁性接着剤シート(アクリロニトリル−ブタジエンゴム:日本ゼオン社製 商品名ニッポール1001 100質量部、高純度エポキシ樹脂:油化シェル社製 商品名エピコートYL979 50質量部、クレゾール型フェノール樹脂:昭和高分子社製 商品名CKM2400 50質量部、2エチル4メチルイミダゾール:和光純薬社製 5質量部を適量のメチルエチルケトンに混合溶解したもの)を積層し、アルミニウム基板20に貼着させ、熱処理により接着させた。なお、乾燥後の図1における接着剤層21の厚さは20μmであった。
(Production of electrostatic chuck device)
An electrode sheet and an electrostatic chuck device having the structure shown in FIG. 1 were produced as follows.
A polyimide film having a film thickness of 50 μm (trade name Kapton manufactured by Toray DuPont) is used for the insulating
An insulating adhesive sheet (acrylonitrile-butadiene rubber: Nippon Zeon Co., Ltd.) which is semi-cured by drying and heating on the lower surface of the electrode sheet 30 (the lower surface of the polyimide film) corresponding to the
(比較例1)
エポキシアクリレート樹脂フィルムの代わりにポリノルボルネンフィルム(商品名:ゼオノアZF14、オプティス社製)を使用した以外は実施例1と同様にして、比較例1の静電チャック装置を作製した。
(Comparative Example 1)
An electrostatic chuck apparatus of Comparative Example 1 was produced in the same manner as Example 1 except that a polynorbornene film (trade name: Zeonore ZF14, manufactured by Optis Corporation) was used instead of the epoxy acrylate resin film.
(比較例2)
エポキシアクリレート樹脂フィルムの代わりにポリイミドフィルム(東レ・デュポン社製 商品名カプトン)を使用した以外は実施例1と同様にして、比較例2の静電チャック装置を作製した。
(Comparative Example 2)
An electrostatic chuck device of Comparative Example 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that a polyimide film (trade name Kapton manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.) was used instead of the epoxy acrylate resin film.
(評価)
上記のように得られた静電チャック装置について、復元性と電気特性の評価をおこない、その結果を表1に示した。
(1)復元性
スチールウール#0000を用いて、実施例で得られたエポキシアクリレート樹脂の表面、及び比較例1で得られたポリノルボルネンフィルムの表面、及び比較例2で得られたポリイミドフィルムの表面を、加重250gで10往復擦り、表面に傷を付与させた。
その後、静電チャック装置を120度にて5分加熱し、表面の復元性を目視にて確認した。
(2)電気特性
復元性評価後の静電チャック装置に、直流電圧±3.0kVを印加ON2分、印加OFF30秒のON/OFFを1000回繰り返し、絶縁破壊の有無を調べた。
(Evaluation)
The electrostatic chuck apparatus obtained as described above was evaluated for its resilience and electrical characteristics, and the results are shown in Table 1.
(1) Restorability Using steel wool # 0000, the surface of the epoxy acrylate resin obtained in Example, the surface of the polynorbornene film obtained in Comparative Example 1, and the polyimide film obtained in Comparative Example 2 The surface was rubbed back and forth 10 times at a load of 250 g to give scratches to the surface.
Thereafter, the electrostatic chuck device was heated at 120 ° C. for 5 minutes, and the restoration property of the surface was visually confirmed.
(2) Electrical characteristics In the electrostatic chuck apparatus after the evaluation of resilience, DC voltage ± 3.0 kV was applied ON for 2 minutes, and application ON / OFF for 30 seconds was repeated 1000 times to check for dielectric breakdown.
表1の復元性に示したように、実施例におけるエポキシアクリレート樹脂表面の傷は、加熱によって消失し、傷跡は確認されなかった。これに対し、比較例1におけるポリノルボルネンフィルムの表面、及び比較例2におけるポリイミドフィルムの表面には、加熱後も傷が多数確認され、復元性は認められなかった。従って、実施例の復元性は従来の静電チャック装置(比較例1、2)に比べて優れていることが確認された。
また、表1の電気特性に示したように、実施例には絶縁破壊が認められなかった。これに対して、比較例1と比較例2には、絶縁破壊が認められた。従って、実施例の電気特性は、従来の静電チャック装置(比較例1、2)に比べて優れていることが確認された。
As shown in Table 1, the scratches on the epoxy acrylate resin surface in the examples disappeared by heating, and no scars were confirmed. On the other hand, many flaws were confirmed after heating on the surface of the polynorbornene film in Comparative Example 1 and the surface of the polyimide film in Comparative Example 2, and no restoring property was observed. Therefore, it was confirmed that the restoring property of the example is superior to the conventional electrostatic chuck devices (Comparative Examples 1 and 2).
Moreover, as shown in the electrical characteristics of Table 1, no dielectric breakdown was observed in the examples. In contrast, dielectric breakdown was observed in Comparative Example 1 and Comparative Example 2. Therefore, it was confirmed that the electrical characteristics of the examples were superior to the conventional electrostatic chuck devices (Comparative Examples 1 and 2).
以上詳細に説明したように、本発明によれば、耐久性に優れた静電チャック装置を提供できる。 As described above in detail, according to the present invention, an electrostatic chuck device having excellent durability can be provided.
10 静電チャック装置
30 電極シート
31、36 絶縁性有機フィルム
32 樹脂フィルム
33 絶縁性接着剤層
34、35 内部電極
10
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