JP2013116558A - Polyethylene naphthalate film to which softening agent is adhered, polyethylene naphthalate film which is softened, insulator film with metal foil, method of manufacturing insulator film with metal foil, method of manufacturing laminated structure, and laminated structure - Google Patents

Polyethylene naphthalate film to which softening agent is adhered, polyethylene naphthalate film which is softened, insulator film with metal foil, method of manufacturing insulator film with metal foil, method of manufacturing laminated structure, and laminated structure Download PDF

Info

Publication number
JP2013116558A
JP2013116558A JP2011263624A JP2011263624A JP2013116558A JP 2013116558 A JP2013116558 A JP 2013116558A JP 2011263624 A JP2011263624 A JP 2011263624A JP 2011263624 A JP2011263624 A JP 2011263624A JP 2013116558 A JP2013116558 A JP 2013116558A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polyethylene naphthalate
naphthalate film
metal foil
main surface
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2011263624A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasunari Kusaka
康成 日下
Hiroshi Maenaka
寛 前中
Takashi Watanabe
貴志 渡邉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sekisui Chemical Co Ltd filed Critical Sekisui Chemical Co Ltd
Priority to JP2011263624A priority Critical patent/JP2013116558A/en
Publication of JP2013116558A publication Critical patent/JP2013116558A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polyethylene naphthalate film which can obtain a laminated structure with the high peeling strength of an insulator film and a metal foil, and the high adhesion of the insulator film and a thermal conductor, to which a softening agent is adhered.SOLUTION: The polyethylene naphthalate film 31 to which the softening agent is adhered includes: a polyethylene naphthalate film 2 being an insulator film; the softening agent 32 which is adhered to the first main surface 2a side of the polyethylene naphthalate film 2, and softens the first main surface 2a of the polyethylene naphthalate film 2 by heating; and an adhesion enhancing agent 33 which is adhered to the second main surface 2b side of the polyethylene naphthalate film 2. The adhesion enhancing agent 32 adhered to the second main surface 2a side of the polyethylene naphthalate film 2 includes an organic aluminate compound, organic titanate compound, organic zirconate compound, or organic silane compound.

Description

本発明は、金属箔と熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体とに積層されて用いられる軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムに関する。また、本発明は、上記軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムを用いた軟化処理されたポリエチレンナフタレートフィルム、金属箔付き絶縁フィルム、金属箔付き絶縁フィルムの製造方法、積層構造体の製造方法及び積層構造体に関する。   The present invention relates to a polyethylene naphthalate film to which a softening agent used by being laminated on a metal foil and a thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more is attached. The present invention also includes a softened polyethylene naphthalate film using a polyethylene naphthalate film to which the softening agent is attached, an insulating film with a metal foil, a method for producing an insulating film with a metal foil, a method for producing a laminated structure, and The present invention relates to a laminated structure.

発光ダイオード(LED)素子などの光半導体素子が、表示装置の光源等に広く用いられている。光半導体素子を用いた光半導体装置の消費電力は低く、かつ寿命は長い。また、光半導体装置は、過酷な環境下でも使用され得る。従って、光半導体装置は、携帯電話用バックライト、液晶テレビ用バックライト、自動車用ランプ、照明器具及び看板などの幅広い用途で使用されている。   Optical semiconductor elements such as light emitting diode (LED) elements are widely used as light sources for display devices. An optical semiconductor device using an optical semiconductor element has low power consumption and long life. Moreover, the optical semiconductor device can be used even in a harsh environment. Accordingly, optical semiconductor devices are used in a wide range of applications such as mobile phone backlights, liquid crystal television backlights, automobile lamps, lighting fixtures, and signboards.

照明器具及び液晶テレビ用バックライト用途などにおいて、必要な明るさをLEDで発光しようとした場合、LED素子からの発熱が大きくなって、LED素子の寿命が短くなったり、明るさが低下したりするという問題がある。この発熱による問題を低減するために、熱を効果的に放散させることが可能な絶縁接着剤が用いられている。従来の絶縁接着剤では、例えば、樹脂中に熱伝導率が高い無機フィラーが分散されている。   When trying to emit light with the necessary brightness in LED lighting equipment and LCD TV backlight applications, the LED element generates more heat, shortening the life of the LED element or reducing the brightness. There is a problem of doing. In order to reduce the problem due to the heat generation, an insulating adhesive capable of effectively dissipating heat is used. In a conventional insulating adhesive, for example, an inorganic filler having a high thermal conductivity is dispersed in a resin.

上記絶縁接着剤の一例として、下記の特許文献1には、エポキシ樹脂と、無機充填材である窒化アルミニウムと、硬化剤と、分散剤であるリン酸エステルとを含む絶縁接着剤が開示されている。   As an example of the insulating adhesive, Patent Document 1 below discloses an insulating adhesive containing an epoxy resin, aluminum nitride as an inorganic filler, a curing agent, and a phosphate ester as a dispersant. Yes.

特許第3751271号公報Japanese Patent No. 3751271

特許文献1に記載のような絶縁接着剤をフィルム状に成形した絶縁フィルムにおいて、一方の表面に金属箔が積層され、他方の表面に熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体が積層されることがある。このような用途において、金属箔と絶縁フィルムとの積層物又は金属箔と絶縁フィルムと熱伝導体との積層物における絶縁フィルムと金属箔との剥離強度が低いことがある。このため、絶縁フィルムと金属箔との剥離が問題となることがある。   In an insulating film obtained by forming an insulating adhesive as described in Patent Document 1 in a film shape, a metal foil is laminated on one surface, and a thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more on the other surface May be stacked. In such an application, the peel strength between the insulating film and the metal foil in the laminate of the metal foil and the insulating film or the laminate of the metal foil, the insulating film and the heat conductor may be low. For this reason, peeling between the insulating film and the metal foil may be a problem.

さらに、上記積層物は、折り曲げられて用いられることがある。さらに、上記積層物の使用時に、該積層物に振動が加わって、該積層物が湾曲することがある。   Furthermore, the laminate may be used after being folded. Furthermore, when the laminate is used, vibration may be applied to the laminate and the laminate may be bent.

特許文献1に記載のような従来の絶縁接着剤を用いて上記積層物を得た場合には、上記積層物が折れ曲げられたり又は上記積層物に振動が加わったりすると、絶縁フィルムに欠けが生じたり又は割れが生じたりすることがある。すなわち、絶縁フィルムの柔軟性が低く、曲げ特性が十分ではないという問題がある。   When the laminate is obtained using a conventional insulating adhesive as described in Patent Document 1, if the laminate is bent or vibration is applied to the laminate, the insulating film is chipped. May occur or may crack. That is, there is a problem that the flexibility of the insulating film is low and the bending characteristics are not sufficient.

さらに、特許文献1に記載のような従来の絶縁接着剤を用いて上記積層物を得た場合には、熱伝導体に対する絶縁フィルムの密着性が低く、熱伝導体が絶縁フィルムから剥離することがある。   Furthermore, when the said laminated body is obtained using the conventional insulating adhesive as described in patent document 1, the adhesiveness of the insulating film with respect to a heat conductor is low, and a heat conductor peels from an insulating film. There is.

本発明の目的は、金属箔と熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体とに積層されて用いられ、絶縁フィルムと金属箔との剥離強度が高く、かつ絶縁フィルムと熱伝導体との密着性が高い積層構造体を得ることができる軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムに関する。また、本発明は、該軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムを用いた軟化処理されたポリエチレンナフタレートフィルム、金属箔付き絶縁フィルム、金属箔付き絶縁フィルムの製造方法、積層構造体の製造方法及び積層構造体を提供することである。   The object of the present invention is to be used by being laminated on a metal foil and a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more, having a high peel strength between the insulating film and the metal foil, and having an insulating film and a heat conduction. The present invention relates to a polyethylene naphthalate film to which a softener capable of obtaining a laminated structure having high adhesion to a body is attached. The present invention also includes a softened polyethylene naphthalate film using a polyethylene naphthalate film to which the softening agent is attached, an insulating film with a metal foil, a method for producing an insulating film with a metal foil, a method for producing a laminated structure, and It is to provide a laminated structure.

本発明の限定的な目的は、曲げられたり又は振動が付与されたりしても、絶縁フィルムに欠け及び割れが生じ難く、曲げ特性に優れている金属箔付き絶縁フィルムを得ることができる軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルム、並びに該軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムを用いた軟化処理されたポリエチレンナフタレートフィルム、金属箔付き絶縁フィルム、金属箔付き絶縁フィルムの製造方法、積層構造体の製造方法及び積層構造体を提供することである。   The limited object of the present invention is to provide a softening agent capable of obtaining an insulating film with a metal foil which is hardly bent and cracked and has excellent bending characteristics even when it is bent or given vibration. Of polyethylene naphthalate film to which is attached, softened polyethylene naphthalate film using polyethylene naphthalate film to which the softening agent is attached, insulating film with metal foil, method for producing insulating film with metal foil, and laminated structure It is to provide a manufacturing method and a laminated structure.

本発明の他の限定的な目的は、表面のべたつきが少ない軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルム、並びに該軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムを用いた軟化処理されたポリエチレンナフタレートフィルム、金属箔付き絶縁フィルム、金属箔付き絶縁フィルムの製造方法、積層構造体の製造方法及び積層構造体を提供することである。   Another limited object of the present invention is a polyethylene naphthalate film to which a softening agent with less surface stickiness is attached, a polyethylene naphthalate film subjected to softening treatment using the polyethylene naphthalate film to which the softening agent is attached, a metal It is providing the manufacturing method of an insulating film with foil, an insulating film with metal foil, a manufacturing method of a laminated structure, and a laminated structure.

本発明の広い局面によれば、金属箔と熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体とに積層されて用いられる軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムであって、絶縁フィルムであるポリエチレンナフタレートフィルムと、該ポリエチレンナフタレートフィルムの第1の主面側に付着しており、かつ加熱により上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記第1の主面を軟化させる軟化剤と、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記第1の主面側とは反対の第2の主面側に付着しており、かつ上記熱伝導体に対する上記ポリエチレンナフタレートフィルムの密着性を向上させる密着性向上剤とを備え、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの前記第2の主面側に付着している上記密着性向上剤が、有機アルミネート化合物、有機チタネート化合物、有機ジルコネート化合物、又は有機シラン化合物を含む、軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムが提供される。   According to a wide aspect of the present invention, there is provided a polyethylene naphthalate film to which a softening agent used by being laminated on a metal foil and a thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more is attached. A polyethylene naphthalate film, a softening agent attached to the first main surface side of the polyethylene naphthalate film and softening the first main surface of the polyethylene naphthalate film by heating, and the polyethylene naphthalate film An adhesion improver that adheres to the second principal surface side opposite to the first principal surface side of the phthalate film and improves the adhesion of the polyethylene naphthalate film to the thermal conductor. The adhesion improver attached to the second main surface side of the polyethylene naphthalate film is an organic aluminate compound. , Organic titanate compounds, organic zirconate compound, or an organic silane compound, a polyethylene naphthalate film having a softening agent has adhered is provided.

本発明に係る軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムでは、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの第2の主面側に付着しており、かつ加熱により上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記第2の主面を軟化させる軟化剤がさらに備えられることが好ましい。上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記第2の主面側に付着している上記軟化剤は、熱硬化性組成物を含むか、又は加熱により上記ポリエチレンナフタレートフィルムを溶解させる化合物を含むことが好ましい。上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記第1の主面側に付着している上記軟化剤は、熱硬化性組成物を含むか、又は加熱により上記ポリエチレンナフタレートフィルムを溶解させる化合物を含むことが好ましい。上記ポリエチレンナフタレートフィルムの前記第1の主面側に付着しており、かつ前記金属箔に対する前記ポリエチレンナフタレートフィルムの密着性を向上させる密着性向上剤がさらに備えられ、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記第1の主面側に付着している密着性向上剤は、有機アルミネート化合物、有機チタネート化合物、有機ジルコネート化合物、又は有機シラン化合物を含むことが好ましい。   In the polyethylene naphthalate film to which the softener according to the present invention is attached, the polyethylene naphthalate film is attached to the second main surface side of the polyethylene naphthalate film, and the second main surface of the polyethylene naphthalate film is softened by heating. It is preferable that a softening agent is further provided. The softener adhering to the second main surface side of the polyethylene naphthalate film preferably contains a thermosetting composition or a compound that dissolves the polyethylene naphthalate film by heating. The softening agent attached to the first main surface side of the polyethylene naphthalate film preferably contains a thermosetting composition or a compound that dissolves the polyethylene naphthalate film by heating. An adhesion improver that is attached to the first main surface side of the polyethylene naphthalate film and that improves the adhesion of the polyethylene naphthalate film to the metal foil is further provided. The adhesion improver adhering to the first main surface side preferably contains an organic aluminate compound, an organic titanate compound, an organic zirconate compound, or an organic silane compound.

本発明に係る軟化処理されたポリエチレンナフタレートフィルムは、上述した軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムを加熱することにより得られており、加熱により上記軟化剤によって、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記第1の主面が軟化処理されている。   The softened polyethylene naphthalate film according to the present invention is obtained by heating the polyethylene naphthalate film to which the above-mentioned softening agent is attached, and the above-mentioned polyethylene naphthalate film is heated by the softening agent. The main surface of 1 is softened.

本発明に係る金属箔付き絶縁フィルムは、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体に積層されて用いられる金属箔付き絶縁フィルムであって、上述した軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムにおける上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記軟化剤が付着している上記第1の主面に、加熱により上記軟化剤によって上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記第1の主面を軟化させて金属箔を積層することにより得られ、絶縁フィルムである上記ポリエチレンナフタレートフィルムと、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記第1の主面に積層された金属箔とを備える。   The insulating film with metal foil according to the present invention is an insulating film with metal foil that is used by being laminated on a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more, and is a polyethylene film to which the above-mentioned softener is attached. A metal foil is obtained by softening the first main surface of the polyethylene naphthalate film with the softening agent by heating on the first main surface of the phthalate film to which the softening agent of the polyethylene naphthalate film is attached. The polyethylene naphthalate film which is obtained by laminating and is an insulating film, and a metal foil laminated on the first main surface of the polyethylene naphthalate film.

また、本発明の広い局面によれば、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体に積層されて用いられる金属箔付き絶縁フィルムの製造方法であって、上述した軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムを用いて、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記軟化剤が付着している上記第1の主面に、加熱により上記軟化剤によって上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記第1の主面を軟化させて金属箔を積層する工程を備える、金属箔付き絶縁フィルムの製造方法が提供される。   Further, according to a wide aspect of the present invention, there is provided a method for producing an insulating film with a metal foil used by being laminated on a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more, wherein the above-mentioned softener is attached. Using the polyethylene naphthalate film, the first main surface of the polyethylene naphthalate film is heated by the softening agent to the first main surface of the polyethylene naphthalate film to which the softening agent is attached. There is provided a method for producing an insulating film with a metal foil, comprising a step of softening and laminating a metal foil.

本発明に係る金属箔付き絶縁フィルムの製造方法のある特定の局面では、上記軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムは、上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記金属箔との剥離強度を高めるために、上記金属箔が積層される前の上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記第1の主面に、加熱により上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記第1の主面を軟化させる軟化剤を付着させる工程を経て得られる。   In a specific aspect of the method for producing an insulating film with a metal foil according to the present invention, the polyethylene naphthalate film to which the softening agent is attached is used to increase the peel strength between the polyethylene naphthalate film and the metal foil. It is obtained through a step of attaching a softening agent that softens the first main surface of the polyethylene naphthalate film to the first main surface of the polyethylene naphthalate film before the metal foil is laminated.

本発明に係る金属箔付き絶縁フィルムの製造方法の他の特定の局面では、上記軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムは、上記熱伝導体が積層される前の上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記第2の主面に、上記熱伝導体に対する上記ポリエチレンナフタレートフィルムの密着性を向上させる密着性向上剤を付着させる工程を経て得られる。   In another specific aspect of the method for producing an insulating film with metal foil according to the present invention, the polyethylene naphthalate film to which the softening agent is attached is the above-mentioned polyethylene naphthalate film before the thermal conductor is laminated. 2 is obtained through a step of attaching an adhesion improver that improves the adhesion of the polyethylene naphthalate film to the thermal conductor.

本発明に係る積層構造体の製造方法では、上述した軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムを用いて、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの第1の主面に金属箔が積層されており、かつ上記ポリエチレンナフタレートフィルムの第2の主面に上記熱伝導体が積層されている積層構造体を得る積層構造体の製造方法であって、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記第1の主面側に金属箔を配置し、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記第2の主面側に熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体を配置して、上記金属箔と上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記熱伝導体とを一体化させるか、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記第1の主面側に金属箔を配置して、上記金属箔と上記ポリエチレンナフタレートフィルムとを一体化させた後、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記第2の主面側に熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体を配置して、上記金属箔と上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記熱伝導体とを一体化させるか、又は、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記第2の主面側に熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体を配置して、上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記熱伝導体とを一体化させた後、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記第1の主面側に金属箔を配置して、上記金属箔と上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記熱伝導体とを一体化させる。   In the method for producing a laminated structure according to the present invention, a metal foil is laminated on the first main surface of the polyethylene naphthalate film using the polyethylene naphthalate film to which the softening agent is attached, and the polyethylene A method for manufacturing a laminated structure in which a laminated structure in which the heat conductor is laminated on a second main surface of a naphthalate film is obtained, and a metal foil is provided on the first main surface side of the polyethylene naphthalate film. A heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more is disposed on the second main surface side of the polyethylene naphthalate film, and the metal foil, the polyethylene naphthalate film, and the heat The conductor is integrated, or a metal foil is disposed on the first main surface side of the polyethylene naphthalate film, and the metal foil and the polyester are disposed. After integrating the lennaphthalate film, a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more is disposed on the second main surface side of the polyethylene naphthalate film, and the metal foil and the above Either a polyethylene naphthalate film and the heat conductor are integrated, or a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more is disposed on the second main surface side of the polyethylene naphthalate film. Then, after integrating the polyethylene naphthalate film and the heat conductor, a metal foil is disposed on the first main surface side of the polyethylene naphthalate film, and the metal foil and the polyethylene naphthalate film are arranged. And the heat conductor are integrated.

本発明に係る積層構造体は、金属箔付き絶縁フィルムと、該金属箔付き絶縁フィルムにおける上記金属箔が積層された上記第1の主面とは反対の第2の主面に積層されており、かつ熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体とを備える。本発明に係る積層構造体では、上記金属箔付き絶縁フィルムが、本発明に係る金属箔付き絶縁フィルムであるか、又は本発明に係る金属箔付き絶縁フィルムの製造方法により得られた金属箔付き絶縁フィルムである。   The laminated structure according to the present invention is laminated on an insulating film with metal foil and a second main surface opposite to the first main surface on which the metal foil in the insulating film with metal foil is laminated. And a thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more. In the laminated structure according to the present invention, the insulating film with metal foil is the insulating film with metal foil according to the present invention, or with the metal foil obtained by the method for producing an insulating film with metal foil according to the present invention. It is an insulating film.

本発明に係る軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムは、絶縁フィルムであるポリエチレンナフタレートフィルムと、該ポリエチレンナフタレートフィルムの第1の主面側に付着しており、加熱により上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記第1の主面を軟化させる軟化剤と、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記第1の主面側とは反対の第2の主面側に付着しており、かつ上記熱伝導体に対する上記ポリエチレンナフタレートフィルムの密着性を向上させる密着性向上剤とを備えており、更に該密着性向上剤が、有機アルミネート化合物、有機チタネート化合物、有機ジルコネート化合物、又は有機シラン化合物を含むので、ポリエチレンナフタレートフィルムと金属箔との剥離強度を高めることができる。さらに、ポリエチレンナフタレートフィルムと熱伝導体との密着性を高めることができ、熱伝導体のポリエチレンナフタレートフィルムからの剥離を抑制できる。   The polyethylene naphthalate film to which the softener according to the present invention is attached is a polyethylene naphthalate film which is an insulating film, and is attached to the first main surface side of the polyethylene naphthalate film, and the polyethylene naphthalate film is heated by heating. A softening agent for softening the first main surface of the polyethylene naphthalate film, and a second main surface opposite to the first main surface side of the polyethylene naphthalate film, and the heat conductor An adhesion improver that improves the adhesion of the polyethylene naphthalate film, and the adhesion improver further includes an organic aluminate compound, an organic titanate compound, an organic zirconate compound, or an organic silane compound, so that polyethylene The peel strength between the naphthalate film and the metal foil can be increased. Furthermore, the adhesion between the polyethylene naphthalate film and the heat conductor can be increased, and the peeling of the heat conductor from the polyethylene naphthalate film can be suppressed.

本発明に係る金属箔付き絶縁フィルムでは、上述した軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムにおける上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記第1の主面に、加熱により上記軟化剤によって上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記第1の主面を軟化させて金属箔を積層することにより得られるので、ポリエチレンナフタレートフィルムと金属箔との剥離強度を高めることができる。また、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの第2の主面側に上記密着性付与剤が配置されているので、上記熱伝導体に対する上記ポリエチレンナフタレートフィルムの密着性を高めることができる。   In the insulating film with metal foil according to the present invention, the first surface of the polyethylene naphthalate film in the polyethylene naphthalate film to which the above-mentioned softener is attached is heated on the first main surface of the polyethylene naphthalate film by the softener. Since it is obtained by softening the first main surface and laminating the metal foil, the peel strength between the polyethylene naphthalate film and the metal foil can be increased. Moreover, since the said adhesiveness imparting agent is arrange | positioned at the 2nd main surface side of the said polyethylene naphthalate film, the adhesiveness of the said polyethylene naphthalate film with respect to the said heat conductor can be improved.

本発明に係る金属箔付き絶縁フィルムの製造方法では、上述した軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムにおける上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記第1の主面に、加熱により上記軟化剤によって上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記第1の主面を軟化させて金属箔を積層するので、ポリエチレンナフタレートフィルムと金属箔との剥離強度を高めることができる。また、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの第2の主面側に上記密着性付与剤が配置されているので、上記熱伝導体に対する上記ポリエチレンナフタレートフィルムの密着性を高めることができる。   In the method for producing an insulating film with metal foil according to the present invention, the polyethylene naphthalate is heated by the softening agent on the first main surface of the polyethylene naphthalate film in the polyethylene naphthalate film to which the softening agent is attached. Since the metal foil is laminated by softening the first main surface of the film, the peel strength between the polyethylene naphthalate film and the metal foil can be increased. Moreover, since the said adhesiveness imparting agent is arrange | positioned at the 2nd main surface side of the said polyethylene naphthalate film, the adhesiveness of the said polyethylene naphthalate film with respect to the said heat conductor can be improved.

図1は、本発明の一実施形態に係る軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムを模式的に示す部分切欠正面断面図である。FIG. 1 is a partially cutaway front sectional view schematically showing a polyethylene naphthalate film to which a softener according to an embodiment of the present invention is attached. 図2は、本発明の一実施形態に係る金属箔付き絶縁フィルムを模式的に示す部分切欠正面断面図である。FIG. 2 is a partially cutaway front sectional view schematically showing an insulating film with a metal foil according to an embodiment of the present invention. 図3は、図2に示す金属箔付き絶縁フィルムを用いた積層構造体を模式的に示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a laminated structure using the insulating film with metal foil shown in FIG. 図4は、図2に示す金属箔付き絶縁フィルムを用いた積層構造体の他の例を模式的に示す部分切欠断面図である。FIG. 4 is a partially cutaway cross-sectional view schematically showing another example of a laminated structure using the insulating film with metal foil shown in FIG. 図5は、本発明の他の実施形態に係る金属箔付き絶縁フィルムを模式的に示す部分切欠正面断面図である。FIG. 5 is a partially cutaway front sectional view schematically showing an insulating film with metal foil according to another embodiment of the present invention.

以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態及び実施例を説明することにより本発明を明らかにする。   Hereinafter, the present invention will be clarified by describing specific embodiments and examples of the present invention with reference to the drawings.

(軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルム及び表面が軟化処理されたポリエチレンナフタレートフィルム)
図1に、本発明の一実施形態に係る軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムを模式的に部分切欠断面図で示す。
(Polyethylene naphthalate film with softener attached and polyethylene naphthalate film with softened surface)
In FIG. 1, the polyethylene naphthalate film to which the softening agent which concerns on one Embodiment of this invention adheres is typically shown with a partially notched cross-sectional view.

図1に示す軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルム31は、金属箔と、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体とに積層されて用いられる。軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルム31は、ポリエチレンナフタレートフィルム2と、軟化剤を含む第1の材料32と、密着性向上剤を含む第2の材料33とを備える。ポリエチレンナフタレートフィルム2は、絶縁性を有し、絶縁フィルムである。ポリエチレンナフタレートフィルム2の第1の主面2a側に、軟化剤を含む第1の材料32が付着している。この結果、ポリエチレンナフタレートフィルム2の第1の主面2a側に、軟化剤が付着している。軟化剤を含む第1の材料32は、ポリエチレンナフタレートフィルム2の第1の主面2a側に配置されている。ポリエチレンナフタレートフィルム2の第1の主面2aは、金属箔が積層される表面であることが好ましい。ポリエチレンナフタレートフィルム2の第1の主面2a側とは反対の第2の主面2b側に、密着性向上剤を含む第2の材料33が付着している。この結果、ポリエチレンナフタレートフィルム2の第2の主面2b側に、密着性向上剤が付着している。第1の材料32は、軟化剤のみを含んでいてもよい。第2の材料33は、密着性向上剤のみを含んでいてもよい。ポリエチレンナフタレートフィルム2の第2の主面2b側に付着している密着性向上剤は、有機アルミネート化合物、有機チタネート化合物、有機ジルコネート化合物、又は有機シラン化合物を含む。軟化剤を含む第1の材料32が密着性向上剤を含んでいてもよく、密着性向上剤を含む第2の材料33が軟化剤を含んでいてもよい。第1の材料32は、軟化剤であるか、又は軟化剤と密着性付与剤とであってもよい。第2の材料33は、密着性向上剤であるか、又は軟化剤と密着性付与剤とであってもよい。軟化剤を含む第1の材料32の組成と密着性向上剤を含む第2の材料33との組成とは同一であってもよく、異なっていてもよい。軟化剤を含む第1の材料32の組成と密着性向上剤を含む第2の材料33との組成が同一であると、軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルム31を得る際の製造効率が高くなる。   The polyethylene naphthalate film 31 to which the softening agent shown in FIG. 1 is attached is used by being laminated on a metal foil and a thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more. The polyethylene naphthalate film 31 to which the softener is attached includes the polyethylene naphthalate film 2, the first material 32 containing the softener, and the second material 33 containing the adhesion improver. The polyethylene naphthalate film 2 has an insulating property and is an insulating film. A first material 32 containing a softener is attached to the first main surface 2 a side of the polyethylene naphthalate film 2. As a result, the softening agent is adhered to the first main surface 2a side of the polyethylene naphthalate film 2. The first material 32 containing the softening agent is disposed on the first main surface 2 a side of the polyethylene naphthalate film 2. The first main surface 2a of the polyethylene naphthalate film 2 is preferably a surface on which a metal foil is laminated. On the second main surface 2b side opposite to the first main surface 2a side of the polyethylene naphthalate film 2, a second material 33 containing an adhesion improver is attached. As a result, the adhesion improver is attached to the second main surface 2 b side of the polyethylene naphthalate film 2. The first material 32 may contain only a softening agent. The second material 33 may contain only an adhesion improver. The adhesion improver attached to the second main surface 2b side of the polyethylene naphthalate film 2 includes an organic aluminate compound, an organic titanate compound, an organic zirconate compound, or an organic silane compound. The first material 32 containing the softening agent may contain an adhesion improving agent, and the second material 33 containing the adhesion improving agent may contain a softening agent. The first material 32 may be a softening agent, or may be a softening agent and an adhesion-imparting agent. The second material 33 may be an adhesion improver, or may be a softener and an adhesion imparting agent. The composition of the first material 32 containing the softener and the composition of the second material 33 containing the adhesion improver may be the same or different. When the composition of the first material 32 containing the softening agent and the composition of the second material 33 containing the adhesion improver are the same, the production efficiency in obtaining the polyethylene naphthalate film 31 with the softening agent attached is high. Become.

ポリエチレンナフタレートフィルム2の第1の主面2aとは反対の第2の主面2bは、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体が積層される表面であることが好ましい。   The second main surface 2b opposite to the first main surface 2a of the polyethylene naphthalate film 2 is preferably a surface on which a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more is laminated.

本実施形態に係る軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルム31は、上記構成を備えているので、特に第1の主面2a側に軟化剤を含む第1の材料32が付着しているので、加熱により軟化剤によってポリエチレンナフタレートフィルム2の第1の主面2aを軟化させてかつ軟化した第1の主面2aに金属箔を積層することにより、ポリエチレンナフタレートフィルム2と金属箔との剥離強度を高めることができる。このような軟化剤を含む第1の材料32の付着によって、金属箔の積層時の加熱で、ポリエチレンナフタレートフィルム2の第1の主面2aを軟化させることもでき、この結果、ポリエチレンナフタレートフィルム2と金属箔との剥離強度をより一層高めることができる。すなわち、軟化剤は、ポリエチレンナフタレートフィルム2と金属箔との剥離強度を高める役割を果たす。   Since the polyethylene naphthalate film 31 to which the softener according to this embodiment is attached has the above-described configuration, the first material 32 containing the softener is particularly attached to the first main surface 2a side. By peeling the polyethylene naphthalate film 2 from the metal foil by softening the first main surface 2a of the polyethylene naphthalate film 2 by heating and laminating the softened first main surface 2a. Strength can be increased. By attaching the first material 32 containing such a softening agent, the first main surface 2a of the polyethylene naphthalate film 2 can be softened by heating at the time of laminating the metal foil. As a result, polyethylene naphthalate The peel strength between the film 2 and the metal foil can be further increased. That is, the softening agent plays a role of increasing the peel strength between the polyethylene naphthalate film 2 and the metal foil.

なお、第1の主面2aに付着している軟化剤を含む第1の材料32は、密着性向上剤を含んでいてもよい。軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルム31は、ポリエチレンナフタレートフィルム2の第1の主面2a側に付着しており、かつ金属箔に対するポリエチレンナフタレートフィルム2の密着性を向上させる密着性向上剤をさらに備えていてもよい。ポリエチレンナフタレートフィルム2の第1の主面2a側に付着している密着性向上剤は、有機アルミネート化合物、有機チタネート化合物、有機ジルコネート化合物、又は有機シラン化合物を含むことが好ましい。この場合は、ポリエチレンナフタレートフィルムと金属箔との剥離強度がより一層高くなる。   In addition, the 1st material 32 containing the softening agent adhering to the 1st main surface 2a may contain the adhesive improvement agent. The polyethylene naphthalate film 31 to which the softening agent is attached is attached to the first main surface 2a side of the polyethylene naphthalate film 2, and an adhesion improver that improves the adhesion of the polyethylene naphthalate film 2 to the metal foil. May be further provided. The adhesion improver adhering to the first main surface 2a side of the polyethylene naphthalate film 2 preferably contains an organic aluminate compound, an organic titanate compound, an organic zirconate compound, or an organic silane compound. In this case, the peel strength between the polyethylene naphthalate film and the metal foil is further increased.

さらに、本実施形態に係る軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルム31では、第2の主面2b側に該密着性向上剤を含む第2の材料33が付着しているので、更にポリエチレンナフタレートフィルム2の第2の主面2b側に付着している密着性向上剤が、有機アルミネート化合物、有機チタネート化合物、有機ジルコネート化合物、又は有機シラン化合物を含むので、第2の主面2bに熱伝導体が積層された場合に、ポリチレンナフタレートフィルム2と熱伝導体との密着性を高めることができ、熱伝導体のポリエチレンナフタレートフィルム2からの剥離を抑制できる。   Furthermore, in the polyethylene naphthalate film 31 to which the softener according to this embodiment is attached, since the second material 33 containing the adhesion improver is attached to the second main surface 2b side, the polyethylene naphthalate is further added. Since the adhesion improver adhering to the second main surface 2b side of the film 2 contains an organic aluminate compound, an organic titanate compound, an organic zirconate compound, or an organic silane compound, heat is applied to the second main surface 2b. When a conductor is laminated | stacked, the adhesiveness of the polyethylene naphthalate film 2 and a heat conductor can be improved, and peeling from the polyethylene naphthalate film 2 of a heat conductor can be suppressed.

なお、ポリエチレンナフタレートフィルム2の第1の主面2aとは反対側の第2の主面2b側に付着している密着性向上剤を含む第2の材料32は、加熱によりポリエチレンナフタレートフィルム2の第2の主面2bを軟化させる軟化剤を含んでいてもよい。すなわち、軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルム31は、ポリエチレンナフタレートフィルム2の第2の主面2b側に、加熱によりポリエチレンナフタレートフィルム2の第2の主面2bを軟化させる軟化剤を含んでいてもよい。この場合には、ポリエチレンナフタレートフィルムと熱伝導体との密着性がより一層高くなる。   In addition, the 2nd material 32 containing the adhesive improvement agent adhering to the 2nd main surface 2b side on the opposite side to the 1st main surface 2a of the polyethylene naphthalate film 2 is a polyethylene naphthalate film by heating. The softening agent which softens the 2nd 2nd main surface 2b may be included. That is, the polyethylene naphthalate film 31 to which the softening agent is attached contains a softening agent that softens the second main surface 2b of the polyethylene naphthalate film 2 by heating on the second main surface 2b side of the polyethylene naphthalate film 2. You may go out. In this case, the adhesion between the polyethylene naphthalate film and the heat conductor is further enhanced.

さらに、本実施形態に係る軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルム31では、特に絶縁フィルムがポリエチレンナフタレートフィルム2であるので、曲げられたり又は振動が付与されたりしても、絶縁フィルムに欠け及び割れを生じ難くすることができる。   Furthermore, in the polyethylene naphthalate film 31 to which the softening agent according to the present embodiment is attached, since the insulating film is the polyethylene naphthalate film 2, even if it is bent or given vibration, Cracks can be made difficult to occur.

また、軟化剤を含む第1の材料32が付着したポリエチレンナフタレートフィルム31を加熱することにより、加熱により軟化剤によってポリエチレンナフタレートフィルム2の第1の主面2aが軟化処理されている軟化処理されたポリエチレンナフタレートフィルムが得られる。該軟化処理されたポリエチエレンナフタレートフィルムでは、加熱後の軟化剤に由来する成分が、第1の主面2a側においてポリエチレンナフタレートフィルム2内に含まれていることが好ましい。すなわち、加熱後の軟化剤に由来する成分が、ポリエチレンナフタレートフィルム2の第1の主面2a側の表面内に含まれていることが好ましい。なお、軟化処理されたポリエチレンナフタレートフィルムでは、第1の主面2aが一旦軟化した後に、ある程度硬化していてもよい。   Moreover, the softening process by which the 1st main surface 2a of the polyethylene naphthalate film 2 is softened by the softening agent by heating the polyethylene naphthalate film 31 to which the first material 32 containing the softening agent is attached. A polyethylene naphthalate film is obtained. In the polyethylene naphthalate film subjected to the softening treatment, it is preferable that a component derived from the softening agent after heating is contained in the polyethylene naphthalate film 2 on the first main surface 2a side. That is, the component derived from the softening agent after heating is preferably included in the surface of the polyethylene naphthalate film 2 on the first main surface 2a side. The softened polyethylene naphthalate film may be cured to some extent after the first main surface 2a is once softened.

上記軟化処理されたポリエチエレンナフタレートフィルムでは、加熱後の密着性向上剤に由来する成分が、第2の主面2b側においてポリエチレンナフタレートフィルム2内に含まれていることが好ましい。すなわち、加熱後の密着性向上剤に由来する成分が、ポリエチレンナフタレートフィルム2の第2の主面2b側の表面内に含まれていることが好ましい。なお、軟化処理されたポリエチレンナフタレートフィルムでは、第2の主面2bが一旦軟化した後に、ある程度硬化していてもよい。   In the polyethylene naphthalate film subjected to the softening treatment, it is preferable that the component derived from the adhesion improver after heating is contained in the polyethylene naphthalate film 2 on the second main surface 2b side. That is, it is preferable that a component derived from the adhesion improver after heating is contained in the surface of the polyethylene naphthalate film 2 on the second main surface 2b side. The softened polyethylene naphthalate film may be cured to some extent after the second main surface 2b is once softened.

上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記金属箔との剥離強度をより一層高める観点からは、上記第1の材料に用いる上記軟化剤及び上記第2の材料に用いる上記軟化剤はそれぞれ、熱硬化性組成物を含むか、又は加熱により上記ポリエチレンナフタレートフィルムを溶解させる化合物を含むことが好ましい。上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記熱伝導体との密着性をより一層高める観点からは、上記第2の材料は、熱硬化性組成物を含むか、又は加熱により上記ポリエチレンナフタレートフィルムを溶解させる化合物を含むことが好ましい。上記第1,第2の材料はそれぞれ、熱硬化性組成物を含むことが好ましい。上記第1,第2の材料はそれぞれ、熱硬化性組成物と、加熱により上記ポリエチレンナフタレートフィルムを溶解させる化合物との双方を含むことも好ましい。   From the viewpoint of further increasing the peel strength between the polyethylene naphthalate film and the metal foil, the softener used for the first material and the softener used for the second material are each a thermosetting composition. Or a compound that dissolves the polyethylene naphthalate film by heating. From the viewpoint of further improving the adhesion between the polyethylene naphthalate film and the thermal conductor, the second material includes a thermosetting composition or a compound that dissolves the polyethylene naphthalate film by heating. It is preferable to contain. Each of the first and second materials preferably includes a thermosetting composition. Each of the first and second materials preferably contains both a thermosetting composition and a compound that dissolves the polyethylene naphthalate film by heating.

上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記金属箔との剥離強度をより一層高める観点からは、上記熱硬化性組成物は、熱硬化性化合物と硬化剤とを含むことが好ましい。上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記熱伝導体との密着性をより一層高める観点からは、上記熱硬化性組成物は、熱硬化性化合物と硬化剤とを含むことが好ましい。   From the viewpoint of further increasing the peel strength between the polyethylene naphthalate film and the metal foil, the thermosetting composition preferably contains a thermosetting compound and a curing agent. From the viewpoint of further improving the adhesion between the polyethylene naphthalate film and the thermal conductor, the thermosetting composition preferably includes a thermosetting compound and a curing agent.

上記熱硬化性化合物としては、オキセタン化合物、エポキシ化合物、エピスルフィド化合物、(メタ)アクリル化合物、フェノール化合物、アミノ化合物、不飽和ポリエステル化合物、ポリウレタン化合物、シリコーン化合物、ポリイミド化合物、ビスマレイミド化合物、ベンゾオキサジン化合物及びトリイソシアヌレート化合物等が挙げられる。上記熱硬化性化合物はエポキシ化合物であることが好ましい。上記熱硬化性化合物は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Examples of the thermosetting compound include oxetane compounds, epoxy compounds, episulfide compounds, (meth) acrylic compounds, phenol compounds, amino compounds, unsaturated polyester compounds, polyurethane compounds, silicone compounds, polyimide compounds, bismaleimide compounds, benzoxazine compounds. And triisocyanurate compounds. The thermosetting compound is preferably an epoxy compound. As for the said thermosetting compound, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記熱硬化性化合物は、23℃で液状であってもよく、23℃で固形であってもよい。上記熱硬化性化合物は、23℃で固形である熱硬化性化合物を含むことが好ましい。23℃で固形である熱硬化性化合物の使用により、上記第1,第2の材料(第1,第2の材料層)の表面のべたつきを抑制できる。この結果、軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムの取り扱い性が高くなる。さらに、上記第1,第2の材料の表面のべたつきの抑制により、軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムにおける上記第1,第2の材料の表面に離型フィルムを貼り付けることが容易である。さらに、使用時に離型フィルムから軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムを良好に剥離することが可能である。   The thermosetting compound may be liquid at 23 ° C. or solid at 23 ° C. The thermosetting compound preferably includes a thermosetting compound that is solid at 23 ° C. By using a thermosetting compound that is solid at 23 ° C., stickiness of the surface of the first and second materials (first and second material layers) can be suppressed. As a result, the handleability of the polyethylene naphthalate film to which the softening agent is attached is improved. Further, by suppressing the stickiness of the surfaces of the first and second materials, it is easy to attach a release film to the surfaces of the first and second materials in the polyethylene naphthalate film to which the softening agent is attached. . Furthermore, the polyethylene naphthalate film to which the softening agent is adhered can be peeled well from the release film during use.

上記エポキシ化合物の具体例としては、ビスフェノールA型エポキシ化合物、ビスフェノールF型エポキシ化合物、ビスフェノールS型エポキシ化合物、グリシジルエステル型エポキシ化合物、グリシジルエーテル型エポキシ化合物、ビキシレノール型エポキシ化合物、ビフェノール型エポキシ化合物、テトラグリシジルキシレノイルエタン化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、キレート型エポキシ化合物、グリオキザール型エポキシ化合物、アミノ基含有エポキシ化合物、ゴム変性エポキシ化合物、ジシクロペンタジエン型エポキシ化合物、シリコーン変性エポキシ化合物、ε−カプロラクトン変性エポキシ化合物、トリアジン型エポキシ化合物及びナフタレン骨格含有エポキシ化合物等が挙げられる。   Specific examples of the epoxy compound include bisphenol A type epoxy compound, bisphenol F type epoxy compound, bisphenol S type epoxy compound, glycidyl ester type epoxy compound, glycidyl ether type epoxy compound, bixylenol type epoxy compound, biphenol type epoxy compound, Tetraglycidylxylenoylethane compound, phenol novolac type epoxy compound, cresol novolac type epoxy compound, chelate type epoxy compound, glyoxal type epoxy compound, amino group-containing epoxy compound, rubber modified epoxy compound, dicyclopentadiene type epoxy compound, silicone modified Epoxy compound, ε-caprolactone modified epoxy compound, triazine type epoxy compound and naphthalene skeleton-containing epoxy compound Etc. The.

上記熱硬化性化合物は、ビスフェノールA型エポキシ化合物を含むことが好ましい。ビスフェノールA型エポキシ化合物の使用により、上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記金属箔との剥離強度がかなり高くなる。   The thermosetting compound preferably contains a bisphenol A type epoxy compound. By using the bisphenol A type epoxy compound, the peel strength between the polyethylene naphthalate film and the metal foil is considerably increased.

上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記金属箔との剥離強度をより一層高くし、上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記熱伝導体との密着性をより一層高くし、かつ上記第1,第2の材料の表面のべたつきを効果的に抑制する観点からは、上記熱硬化性化合物は、23℃で固形であるエポキシ化合物であることが好ましい。   The peel strength between the polyethylene naphthalate film and the metal foil is further increased, the adhesion between the polyethylene naphthalate film and the heat conductor is further increased, and the surfaces of the first and second materials From the viewpoint of effectively suppressing stickiness, the thermosetting compound is preferably an epoxy compound that is solid at 23 ° C.

上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記金属箔との剥離強度をより一層高め、更に上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記熱伝導体との密着性をより一層高める観点からは、上記熱硬化性化合物は、ビスフェノールA型エポキシ化合物又はジシクロペンタジエン型エポキシ化合物であることが好ましい。   From the viewpoint of further increasing the peel strength between the polyethylene naphthalate film and the metal foil, and further enhancing the adhesion between the polyethylene naphthalate film and the thermal conductor, the thermosetting compound is bisphenol A. It is preferable that it is a type epoxy compound or a dicyclopentadiene type epoxy compound.

上記硬化剤としては、シアネートエステル化合物(シアネートエステル硬化剤)、フェノール化合物(フェノール硬化剤)、アミン化合物(アミン硬化剤)、チオール化合物(チオール硬化剤)、イミダゾール化合物、ホスフィン化合物、酸無水物(酸無水物硬化剤)、活性エステル化合物及びジシアンジアミド等が挙げられる。上記硬化剤は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Examples of the curing agent include a cyanate ester compound (cyanate ester curing agent), a phenol compound (phenol curing agent), an amine compound (amine curing agent), a thiol compound (thiol curing agent), an imidazole compound, a phosphine compound, and an acid anhydride ( Acid anhydride curing agent), active ester compounds and dicyandiamide. As for the said hardening | curing agent, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記硬化剤は、23℃で液状であってもよく、23℃で固形であってもよい。上記硬化剤は、23℃で固形である硬化剤を含むことが好ましい。23℃で固形である硬化剤の使用により、上記第1,第2の材料の表面のべたつきを抑制できる。この結果、軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムの取り扱い性が高くなる。さらに、上記第1,第2の材料の表面のべたつきの抑制により、軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムにおける上記第1,第2の材料の表面に離型フィルムを貼り付けることが容易である。さらに、使用時に離型フィルムから軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムを良好に剥離することが可能である。   The curing agent may be liquid at 23 ° C. or solid at 23 ° C. It is preferable that the said hardening | curing agent contains the hardening | curing agent which is solid at 23 degreeC. By using a curing agent that is solid at 23 ° C., stickiness of the surfaces of the first and second materials can be suppressed. As a result, the handleability of the polyethylene naphthalate film to which the softening agent is attached is improved. Further, by suppressing the stickiness of the surfaces of the first and second materials, it is easy to attach a release film to the surfaces of the first and second materials in the polyethylene naphthalate film to which the softening agent is attached. . Furthermore, the polyethylene naphthalate film to which the softening agent is adhered can be peeled well from the release film during use.

上記硬化剤は、酸無水物硬化剤又はフェノール硬化剤を含むことが好ましい。酸無水物硬化剤又はフェノール硬化剤の使用により、上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記金属箔との剥離強度がかなり高くなり、更に上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記熱伝導体との密着性がより一層高くなる。上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記金属箔との剥離強度をより一層高め、更に上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記熱伝導体との密着性をより一層高める観点からは、上記硬化剤は、フェノール硬化剤を含むことがより好ましい。   The curing agent preferably contains an acid anhydride curing agent or a phenol curing agent. By using an acid anhydride curing agent or a phenol curing agent, the peel strength between the polyethylene naphthalate film and the metal foil is considerably increased, and the adhesion between the polyethylene naphthalate film and the thermal conductor is even higher. Become. From the viewpoint of further enhancing the peel strength between the polyethylene naphthalate film and the metal foil, and further enhancing the adhesion between the polyethylene naphthalate film and the thermal conductor, the curing agent is a phenol curing agent. More preferably.

加熱により上記ポリエチレンナフタレートフィルムを効果的に軟化させ、上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記金属箔との剥離強度をより一層高め、更に上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記熱伝導体との密着性をより一層高める観点からは、上記硬化剤は、酸無水物硬化剤であることが好ましく、脂環式骨格を有する酸無水物硬化剤であることがより好ましい。軟化効果が高いと、同等のピール強度を得るために貼り付け時に必要な圧力が小さくなり、同じ装置を使用した場合に得られる製品面積が大きくなる。   Heating effectively softens the polyethylene naphthalate film, further increases the peel strength between the polyethylene naphthalate film and the metal foil, and further improves the adhesion between the polyethylene naphthalate film and the heat conductor. From the viewpoint of enhancing, the curing agent is preferably an acid anhydride curing agent, and more preferably an acid anhydride curing agent having an alicyclic skeleton. If the softening effect is high, the pressure required at the time of application to obtain the same peel strength is reduced, and the product area obtained when the same apparatus is used is increased.

上記脂環式骨格を有する酸無水物硬化剤の市販品としては、リカシッドHNA及びリカシッドHNA−100(以上いずれも新日本理化社製)、並びにYH306、YH307、YH308及びYH309(以上、いずれも三菱化学社製)等が挙げられる。   Commercially available acid anhydride curing agents having an alicyclic skeleton include Ricacid HNA and Ricacid HNA-100 (all of which are manufactured by Shin Nippon Chemical Co., Ltd.), YH306, YH307, YH308 and YH309 (and all of which are Mitsubishi). Chemical Co., Ltd.).

加熱により上記ポリエチレンナフタレートフィルムを効果的に軟化させ、上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記金属箔との剥離強度をより一層高め、更に上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記熱伝導体との密着性をより一層高める観点からは、上記脂環式骨格を有する硬化剤は、下記式(1)〜(4)の内のいずれかで表される酸無水物硬化剤であることが好ましく、下記式(1)又は(4)で表される酸無水物硬化剤であることがより好ましい。   Heating effectively softens the polyethylene naphthalate film, further increases the peel strength between the polyethylene naphthalate film and the metal foil, and further improves the adhesion between the polyethylene naphthalate film and the heat conductor. From the viewpoint of enhancing, the curing agent having an alicyclic skeleton is preferably an acid anhydride curing agent represented by any one of the following formulas (1) to (4), and the following formula (1) Or it is more preferable that it is an acid anhydride hardening | curing agent represented by (4).

Figure 2013116558
Figure 2013116558

Figure 2013116558
Figure 2013116558

Figure 2013116558
Figure 2013116558

Figure 2013116558
Figure 2013116558

上記式(4)中、R1及びR2はそれぞれ水素原子、炭素数1〜5のアルキル基又は水酸基を示す。   In said formula (4), R1 and R2 show a hydrogen atom, a C1-C5 alkyl group, or a hydroxyl group, respectively.

また、上記硬化剤がフェノール硬化剤である場合に、フェノール硬化剤は、o,o’−ジアリルビスフェノールAであることが好ましい。o,o’−ジアリルビスフェノールAの使用により、上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記金属箔との剥離強度がより一層高くなり、更に上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記熱伝導体との密着性がより一層高くなる。   When the curing agent is a phenol curing agent, the phenol curing agent is preferably o, o'-diallylbisphenol A. By using o, o′-diallylbisphenol A, the peel strength between the polyethylene naphthalate film and the metal foil is further increased, and the adhesion between the polyethylene naphthalate film and the heat conductor is further enhanced. Become.

o,o’−ジアリルビスフェノールAの市販品としては、ハンツマン社製「5292B」等が挙げられる。   Examples of commercially available o, o'-diallylbisphenol A include "5292B" manufactured by Huntsman.

上記熱硬化性化合物と上記硬化剤とを併用する場合には、上記熱硬化性化合物100重量部に対して、上記硬化剤の含有量は、好ましくは0.01重量部以上、より好ましくは0.1重量部以上、更に好ましくは1重量部以上、好ましくは200重量部以下、より好ましくは150重量部以下、更に好ましくは100重量部以下である。上記硬化剤の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記金属箔との剥離強度がより一層高くなり、上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記熱伝導体との密着性がより一層高くなる。   When the thermosetting compound and the curing agent are used in combination, the content of the curing agent is preferably 0.01 parts by weight or more, more preferably 0 with respect to 100 parts by weight of the thermosetting compound. .1 part by weight or more, more preferably 1 part by weight or more, preferably 200 parts by weight or less, more preferably 150 parts by weight or less, still more preferably 100 parts by weight or less. When the content of the curing agent is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the peel strength between the polyethylene naphthalate film and the metal foil is further increased, and the adhesion between the polyethylene naphthalate film and the heat conductor is increased. The nature becomes even higher.

加熱により上記ポリエチレンナフタレートフィルムを溶解させる化合物としては、多官能フェノールノボラック、アリルフェノールノボラック及びアリルフェノールなどが挙げられる。このような化合物の使用により、上記金属箔の積層時の加熱で、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの第1の主面を溶解させて、軟化させることができる。上記ポリエチレンナフタレートフィルムを溶解させる化合物は、上記金属箔の積層時の加熱で、上記ポリエチレンナフタレートフィルムを溶解させて第1の主面を軟化させることが好ましい。上記第2の材料が軟化剤を含む場合には、上記金属箔の積層時の加熱で、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの第2の主面を溶解させて、軟化させることができる。上記ポリエチレンナフタレートフィルムを溶解させる化合物は、上記金属箔の積層時の加熱で、上記ポリエチレンナフタレートフィルムを溶解させて第2の主面を軟化させることが好ましい。加熱により上記ポリエチレンナフタレートフィルムを溶解させる化合物は1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Examples of the compound that dissolves the polyethylene naphthalate film by heating include polyfunctional phenol novolac, allylphenol novolac, and allylphenol. By using such a compound, the first main surface of the polyethylene naphthalate film can be dissolved and softened by heating during lamination of the metal foil. Preferably, the compound that dissolves the polyethylene naphthalate film softens the first main surface by dissolving the polyethylene naphthalate film by heating during lamination of the metal foil. When the second material contains a softening agent, the second main surface of the polyethylene naphthalate film can be dissolved and softened by heating at the time of laminating the metal foil. The compound that dissolves the polyethylene naphthalate film preferably softens the second main surface by dissolving the polyethylene naphthalate film by heating at the time of laminating the metal foil. Only 1 type may be used for the compound which dissolves the said polyethylene naphthalate film by heating, and 2 or more types may be used together.

上記密着性付与剤は、上述した有機金属化合物を含む。該有機金属化合物は、有機アルミネート化合物、有機チタネート化合物、有機ジルコネート化合物又は有機シラン化合物である。これらの特定の有機金属化合物を用いることで、熱伝導体に対するポリエチレンナフタレートフィルムの密着性がかなり高くなる。上記有機金属化合物は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   The adhesion imparting agent contains the organometallic compound described above. The organometallic compound is an organoaluminate compound, an organotitanate compound, an organozirconate compound, or an organosilane compound. By using these specific organometallic compounds, the adhesion of the polyethylene naphthalate film to the heat conductor is considerably increased. As for the said organometallic compound, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

熱伝導体に対するポリエチレンナフタレートフィルムの密着性をより一層高める観点からは、上記有機金属化合物は、アルコキシ基又はキレート型構造を有することが好ましく、アルコキシ基又はキレート型構造を有する有機チタネート化合物、アルコキシ基又はキレート型構造を有する有機ジルコネート化合物、アルコキシ基又はキレート型構造を有する有機アルミネート化合物又はアルコキシ基又はキレート型構造を有する有機シラン化合物であることが好ましい。また、熱伝導体に対するポリエチレンナフタレートフィルムの密着性をより一層高める観点からは、上記有機金属化合物は、有機アルミネート化合物、有機チタネート化合物又は有機ジルコネート化合物であることが好ましく、有機アルミネート化合物又は有機ジルコネート化合物であることがより好ましく、有機アルミネート化合物であることが特に好ましい。   From the viewpoint of further improving the adhesion of the polyethylene naphthalate film to the heat conductor, the organometallic compound preferably has an alkoxy group or a chelate structure, and an organic titanate compound having an alkoxy group or a chelate structure, an alkoxy An organic zirconate compound having a group or chelate structure, an organic aluminate compound having an alkoxy group or chelate structure, or an organosilane compound having an alkoxy group or chelate structure is preferred. In addition, from the viewpoint of further improving the adhesion of the polyethylene naphthalate film to the heat conductor, the organometallic compound is preferably an organic aluminate compound, an organic titanate compound, or an organic zirconate compound, An organic zirconate compound is more preferable, and an organic aluminate compound is particularly preferable.

好ましい上記有機アルミネート化合物としては、トリメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミニウム、トリn−プロポキシアルミニウム、トリイソプロポキシアルミニウム、トリn−ブトキシアルミニウム及びアセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレート、並びにこれらの重合体等が挙げられる。これら以外の有機アルミネート化合物を用いてもよい。   Preferred organic aluminate compounds include trimethoxyaluminum, triethoxyaluminum, tri-n-propoxyaluminum, triisopropoxyaluminum, tri-n-butoxyaluminum and acetoalkoxyaluminum diisopropylate, and polymers thereof. . Organic aluminate compounds other than these may be used.

好ましい上記有機チタネート化合物としては、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラn−プロポキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラn−ブトキシチタン、テトラキス(2−エチルヘキシルオキシ)チタン及びチタニウム−イソプロポキシオクチレングリコレート、並びにこれらの重合体等が挙げられる。これら以外の有機チタネート化合物を用いてもよい。   Preferred organic titanate compounds include tetramethoxy titanium, tetraethoxy titanium, tetra n-propoxy titanium, tetraisopropoxy titanium, tetra n-butoxy titanium, tetrakis (2-ethylhexyloxy) titanium and titanium-isopropoxy octylene glycolate. And polymers thereof. Organic titanate compounds other than these may be used.

好ましい上記有機ジルコネート化合物としては、ジルコニウムテトラメトキシド、ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウムテトライソプロポキシド及びジルコニウムテトラn−ブトキシド、並びにこれらの重合体等が挙げられる。これら以外の有機ジルコネート化合物を用いてもよい。   Preferred examples of the organic zirconate compound include zirconium tetramethoxide, zirconium tetraethoxide, zirconium tetraisopropoxide, zirconium tetra n-butoxide, and polymers thereof. Organic zirconate compounds other than these may be used.

好ましい有機シラン化合物としては、ビニルシラン化合物、ヘキシルシラン化合物及びアミノシラン化合物等が挙げられる。これら以外の有機シラン化合物を用いてもよい。   Preferred organic silane compounds include vinyl silane compounds, hexyl silane compounds, and amino silane compounds. Organic silane compounds other than these may be used.

上記熱硬化性化合物と上記有機金属化合物とを併用する場合には、上記熱硬化性化合物100重量部に対して、上記有機金属化合物の含有量は、好ましくは0.001重量部以上、より好ましくは0.01重量部以上、更に好ましくは0.1重量部以上、好ましくは20重量部以下、より好ましくは10重量部以下、更に好ましくは5重量部以下である。上記有機金属化合物の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、熱伝導体に対するポリエチレンナフタレートフィルムの密着性がより一層高くなる。   When the thermosetting compound and the organometallic compound are used in combination, the content of the organometallic compound is preferably 0.001 part by weight or more, more preferably 100 parts by weight of the thermosetting compound. Is 0.01 parts by weight or more, more preferably 0.1 parts by weight or more, preferably 20 parts by weight or less, more preferably 10 parts by weight or less, and still more preferably 5 parts by weight or less. The adhesiveness of the polyethylene naphthalate film with respect to a heat conductor becomes still higher that content of the said organometallic compound is more than the said minimum and below the said upper limit.

(金属箔付き絶縁フィルム及び金属箔付き絶縁フィルムの製造方法)
図2に、本発明の一実施形態に係る金属箔付き絶縁フィルムを模式的に部分切欠断面図で示す。
(Insulating film with metal foil and manufacturing method of insulating film with metal foil)
In FIG. 2, the insulating film with metal foil which concerns on one Embodiment of this invention is typically shown with a partially notched cross-sectional view.

図2に示す金属箔付き絶縁フィルム1は、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体に積層されて用いられる。金属箔付き絶縁フィルム1は、ポリエチレンナフタレートフィルム2と軟化剤を含む第1の材料32と密着性向上剤を含む第2の材料33とを備える軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルム31に、金属箔3を積層することにより得られる。具体的には、軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルム31を用いて、ポリエチレンナフタレートフィルム2の軟化剤を含む第1の材料32が付着している第1の主面2aに、加熱により軟化剤によってポリエチレンナフタレートフィルム2の第1の主面2aを軟化させて金属箔3を積層することにより得られる。   The insulating film 1 with metal foil shown in FIG. 2 is used by being laminated on a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more. Insulating film 1 with metal foil is a polyethylene naphthalate film 31 to which a softening agent comprising a polyethylene naphthalate film 2, a first material 32 containing a softening agent, and a second material 33 containing an adhesion improver is attached. It is obtained by laminating the metal foil 3. Specifically, using the polyethylene naphthalate film 31 to which the softener is attached, the first main surface 2a to which the first material 32 containing the softener of the polyethylene naphthalate film 2 is attached is softened by heating. It can be obtained by laminating the metal foil 3 by softening the first main surface 2a of the polyethylene naphthalate film 2 with an agent.

金属箔付き絶縁フィルム1は、ポリエチレンナフタレートフィルム2と、金属箔3とを備える。ポリエチレンナフタレートフィルム2は、絶縁性を有し、絶縁フィルムである。ポリエチレンナフタレートフィルム2の第1の主面2aに、金属箔3が積層されている。ポリエチレンナフタレートフィルム2の第1の主面2aとは反対の第2の主面2bは、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体が積層される表面であることが好ましい。なお、金属箔3は、ポリエチレンナフタレートフィルム2の第1の主面2aの全領域に積層されていてもよく、一部の領域に積層されていてもよい。また、上記金属箔は、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの第1の主面に直接積層されていることが好ましい。   The insulating film 1 with a metal foil includes a polyethylene naphthalate film 2 and a metal foil 3. The polyethylene naphthalate film 2 has an insulating property and is an insulating film. A metal foil 3 is laminated on the first main surface 2 a of the polyethylene naphthalate film 2. The second main surface 2b opposite to the first main surface 2a of the polyethylene naphthalate film 2 is preferably a surface on which a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more is laminated. In addition, the metal foil 3 may be laminated | stacked on the whole area | region of the 1st main surface 2a of the polyethylene naphthalate film 2, and may be laminated | stacked on the one part area | region. Moreover, it is preferable that the said metal foil is directly laminated | stacked on the 1st main surface of the said polyethylene naphthalate film.

本実施形態に係る金属箔付き絶縁フィルム1は、上述した軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルム31におけるポリエチレンナフタレートフィルム2の第1の主面2aに、金属箔3を積層することにより得られるので、ポリエチレンナフタレートフィルム2と金属箔3との剥離強度を高めることができる。   The insulating film 1 with a metal foil according to the present embodiment is obtained by laminating the metal foil 3 on the first main surface 2a of the polyethylene naphthalate film 2 in the polyethylene naphthalate film 31 to which the above-described softening agent is attached. Therefore, the peel strength between the polyethylene naphthalate film 2 and the metal foil 3 can be increased.

また、従来、ポリエチレンナフタレートフィルムの第1の主面に金属箔が積層されている金属箔付き絶縁フィルムの状態で、該金属箔付き絶縁フィルムが、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体に積層されて用いられることはなかった。また、従来、ポリエチレンナフタレートフィルム以外の絶縁フィルムを用いた金属箔付き絶縁フィルムが、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体に積層された積層物の状態で、使用時に折り曲げられて用いられることがあった。また、上記積層物には、使用時において振動が付与されたりして、積層物が湾曲することがあった。   Conventionally, in the state of the insulating film with metal foil in which the metal foil is laminated on the first main surface of the polyethylene naphthalate film, the insulating film with metal foil has a thermal conductivity of 10 W / m · K or more. It was not used by being laminated on a certain heat conductor. Conventionally, an insulating film with a metal foil using an insulating film other than a polyethylene naphthalate film is folded in use in the state of a laminate laminated on a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more. Have been used. In addition, vibrations may be imparted to the laminate during use, and the laminate may bend.

本実施形態に係る金属箔付き絶縁フィルム1は、上記構成を備えているので、特に絶縁フィルムがポリエチレンナフタレートフィルム2であるので、曲げられたり又は振動が付与されたりしても、絶縁フィルムに欠け及び割れが生じ難くすることができる。本実施形態に係る金属箔付き絶縁フィルム1は、柔軟性が高く、曲げ特性に優れている。従って、金属箔付き絶縁フィルム1が、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体に積層されて用いられると、絶縁フィルムに欠け及び割れが生じ難くなり、金属箔付き絶縁フィルム1を用いた積層構造体に外観不良、剥離及び絶縁不良などが生じるのを抑制できる。   Since the insulating film 1 with a metal foil according to the present embodiment has the above-described configuration, since the insulating film is a polyethylene naphthalate film 2 in particular, the insulating film can be bent or vibrated. Chipping and cracking can be made difficult to occur. The insulating film 1 with a metal foil according to the present embodiment has high flexibility and excellent bending characteristics. Therefore, when the insulating film 1 with metal foil is used by being laminated on a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more, the insulating film is less likely to be chipped and cracked. It is possible to suppress the appearance failure, peeling, insulation failure, and the like from occurring in the laminated structure using the material.

なお、図2では、軟化剤を含む第1の材料32はポリエチレンナフタレートフィルム2内に浸透しているので、図示していない。なお、ポリエチレンナフタレートフィルム2の第1の主面2aに、軟化剤を含む第1の材料32を介して金属箔3を積層してもよい。また、図2では、密着性向上剤を含む第2の材料33はポリエチレンナフタレートフィルム2内に浸透しているので、図示していない。ポリエチレンナフタレートフィルム2の第2の主面2b部分には、密着性向上剤を含む第2の材料33が含まれている。具体的には、ポリエチレンナフタレートフィルム2の第2の主面2b部分には、有機アルミネート化合物、有機チタネート化合物、有機ジルコネート化合物、又は有機シラン化合物が含まれている。なお、ポリエチレンナフタレートフィルム2の第1の主面2aに、密着性向上剤が付着していてもよく、密着性向上剤が積層されていてもよい。ポリエチレンナフタレートフィルム2の第1の主面2a部分には、密着性向上剤が含まれていてもよい。   In FIG. 2, the first material 32 containing the softening agent is not shown because it penetrates into the polyethylene naphthalate film 2. In addition, you may laminate | stack the metal foil 3 on the 1st main surface 2a of the polyethylene naphthalate film 2 through the 1st material 32 containing a softening agent. Moreover, in FIG. 2, since the 2nd material 33 containing an adhesive improvement agent has osmose | permeated the polyethylene naphthalate film 2, it is not illustrated. The second main surface 2b portion of the polyethylene naphthalate film 2 contains a second material 33 containing an adhesion improver. Specifically, the second main surface 2b portion of the polyethylene naphthalate film 2 contains an organic aluminate compound, an organic titanate compound, an organic zirconate compound, or an organic silane compound. In addition, the adhesiveness improving agent may adhere to the 1st main surface 2a of the polyethylene naphthalate film 2, and the adhesiveness improving agent may be laminated | stacked. The first main surface 2a portion of the polyethylene naphthalate film 2 may contain an adhesion improver.

上記金属箔付き絶縁フィルムにおいて、上記軟化剤を含む第1の材料に含まれていた成分は、上記ポリエチレンナフタレートフィルム内に浸透し、残留していることが好ましい。特に、上記第1の材料における軟化剤に含まれていた成分は、上記ポリエチレンナフタレートフィルム内に浸透し、残留していることが好ましい。この場合には、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの第1の主面の表面近傍が十分に軟化している結果、上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記金属箔との剥離強度がより一層高くなる。上記金属箔付き絶縁フィルムにおいて、上記密着性向上剤を含む第2の材料に含まれていた成分は、上記ポリエチレンナフタレートフィルム内に浸透し、残留していることが好ましい。特に、上記第2の材料における軟化剤に含まれていた成分は、上記ポリエチレンナフタレートフィルム内に浸透し、残留していることが好ましい。   In the insulating film with metal foil, it is preferable that the component contained in the first material containing the softening agent penetrates and remains in the polyethylene naphthalate film. In particular, it is preferable that the component contained in the softening agent in the first material penetrates and remains in the polyethylene naphthalate film. In this case, as a result of sufficiently softening the vicinity of the surface of the first main surface of the polyethylene naphthalate film, the peel strength between the polyethylene naphthalate film and the metal foil is further increased. In the insulating film with metal foil, it is preferable that the component contained in the second material containing the adhesion improver penetrates into the polyethylene naphthalate film and remains. In particular, it is preferable that the component contained in the softening agent in the second material permeates and remains in the polyethylene naphthalate film.

上記第1,第2の材料に含まれていた成分が、上記ポリエチレンナフタレートフィルム内に浸透し、残留しているか否かは、飛行時間型二次イオン質量分析TOF−SIMSを用いた分析により確認することが可能である。上記飛行時間型二次イオン質量分析TOF−SIMSの市販品としては、ION−TOF社製「TOF−SIMS 5型」等が挙げられる。なお、上記金属箔付き絶縁フィルムにおいて、上記軟化剤は加熱等により消失していてもよい。上記金属箔付き絶縁フィルムにおいて、上記密着性向上剤に含まれている有機アルミネート化合物、有機チタネート化合物、有機ジルコネート化合物、又は有機シラン化合物は、消失していない。   Whether or not the components contained in the first and second materials permeate and remain in the polyethylene naphthalate film is determined by analysis using time-of-flight secondary ion mass spectrometry TOF-SIMS. It is possible to confirm. As a commercial item of the said time-of-flight type secondary ion mass spectrometry TOF-SIMS, "TOF-SIMS type 5" by ION-TOF, etc. are mentioned. In the insulating film with metal foil, the softening agent may be lost by heating or the like. In the insulating film with metal foil, the organic aluminate compound, organic titanate compound, organic zirconate compound, or organic silane compound contained in the adhesion improver is not lost.

上記ポリエチレンフタレートフィルムとしては、未延伸のポリエチレンナフタレートフィルム、一軸延伸されたポリエチレンナフタレートフィルム及び二軸延伸されたポリエチレンナフタレートフィルム等が挙げられる。なかでも、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの強度がより一層高くなるので、延伸されたポリエチレンナフタレートフィルムが好ましい。また、延伸されたポリエチレンナフタレートフィルムの使用により、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの第1の主面に上記金属箔を比較的低温で積層して、貼り付けることができる傾向がある。例えば、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの融点未満の温度で上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記金属箔とを貼り合わせることが容易になり、260℃以下の温度でも上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記金属箔とを貼り合わせることが容易になる。   Examples of the polyethylene phthalate film include unstretched polyethylene naphthalate film, uniaxially stretched polyethylene naphthalate film, and biaxially stretched polyethylene naphthalate film. Especially, since the intensity | strength of the said polyethylene naphthalate film becomes still higher, the stretched polyethylene naphthalate film is preferable. Moreover, there exists a tendency which can laminate | stack the said metal foil on the 1st main surface of the said polyethylene naphthalate film at a comparatively low temperature, and can affix by use of the stretched polyethylene naphthalate film. For example, it becomes easy to bond the polyethylene naphthalate film and the metal foil at a temperature lower than the melting point of the polyethylene naphthalate film, and the polyethylene naphthalate film and the metal foil are bonded even at a temperature of 260 ° C. or lower. It becomes easy to match.

上記ポリエチレンナフタレートフィルムは、2,6−ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールとを主成分として用いて、2,6−ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールとを反応させることにより得られる。上記ポリエチレンナフタレートフィルムの全骨格100重量%中、2,6−ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールとに由来する骨格の割合は好ましくは50重量%以上、より好ましくは80重量%以上、更に好ましくは90重量%以上である。   The polyethylene naphthalate film is obtained by reacting 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and ethylene glycol using 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and ethylene glycol as main components. The ratio of the skeleton derived from 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and ethylene glycol is preferably 50% by weight or more, more preferably 80% by weight or more, and still more preferably 90% in 100% by weight of the total skeleton of the polyethylene naphthalate film. % By weight or more.

上記ポリエチレンナフタレートフィルムを得る際に、2,6−ナフタレンジカルボン酸及びエチレングリコールとは異なる共重合可能な他の成分を用いてもよい。該共重合可能な他の成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、2−メチルテレフタル酸、ビフェニルジカルボン酸、テトラリンジカルボン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、デカリンジカルボン酸、ノルボルナンジカルボン酸、トリシクロデカンジカルボン酸、ペンタシクロドデカンジカルボン酸、イソホロンジカルボン酸、3,9−ビス(2−カルボキシエチル)2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン、トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸、トリカルバリル酸及びこれらのエステル化物、並びにジエチレングリコール、トリメチレングリコール及びテトラメチレングリコール等が挙げられる。これら以外の共重合可能な他の成分を用いてもよい。上記共重合可能な他の成分は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   In obtaining the polyethylene naphthalate film, other copolymerizable components different from 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and ethylene glycol may be used. Examples of other copolymerizable components include terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, 2-methylterephthalic acid, biphenyldicarboxylic acid, tetralindicarboxylic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, and azelain. Acid, sebacic acid, dodecane dicarboxylic acid, cyclohexane dicarboxylic acid, decalin dicarboxylic acid, norbornane dicarboxylic acid, tricyclodecane dicarboxylic acid, pentacyclododecane dicarboxylic acid, isophorone dicarboxylic acid, 3,9-bis (2-carboxyethyl) 2, 4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane, trimellitic acid, trimesic acid, pyromellitic acid, tricarballylic acid and esterified products thereof, and diethylene glycol, trimethylene glycol and tetramethylene glycol Lumpur, and the like. Other copolymerizable components other than these may be used. As the other copolymerizable component, only one type may be used, or two or more types may be used in combination.

上記ポリエチレンナフタレートフィルムの厚みは、好ましくは1μm以上、より好ましくは5μm以上、更に好ましくは10μm以上、好ましくは300μm以下、より好ましくは200μm以下、更に好ましくは120μm以下である。厚みが上記下限以上であると、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの絶縁性が高くなる。厚みが上記上限以下であると、上記金属箔付き絶縁フィルムを上記熱伝導体に貼り付けたときに、放熱性がより一層良好になる。   The thickness of the polyethylene naphthalate film is preferably 1 μm or more, more preferably 5 μm or more, still more preferably 10 μm or more, preferably 300 μm or less, more preferably 200 μm or less, and even more preferably 120 μm or less. The insulation property of the said polyethylene naphthalate film becomes it high that thickness is more than the said minimum. When the thickness is not more than the above upper limit, when the insulating film with metal foil is attached to the heat conductor, the heat dissipation becomes even better.

上記ポリエチレンナフタレートフィルムは、フィラーを含まないか、又は上記ポリエチレンナフタレートフィルム100体積%中のフィラーの含有量が20体積%以下であることが好ましい。上記ポリエチレンナフタレートフィルム100体積%中のフィラーの含有量はより好ましくは10体積%以下、更に好ましくは5体積%以下、特に好ましくは1体積%以下である。上記ポリエチレンナフタレートフィルムは、フィラーを含まないことが最も好ましい。   The polyethylene naphthalate film preferably contains no filler, or the filler content in 100% by volume of the polyethylene naphthalate film is preferably 20% by volume or less. The content of the filler in 100% by volume of the polyethylene naphthalate film is more preferably 10% by volume or less, further preferably 5% by volume or less, and particularly preferably 1% by volume or less. Most preferably, the polyethylene naphthalate film contains no filler.

金属箔3が積層される前のポリエチレンナフタレートフィルム2の第1の主面2aは、平滑である。図5に、本発明の他の実施形態に係る金属箔付き絶縁フィルムを示す。図5に示す金属箔付き絶縁フィルム21は、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体に積層されて用いられる。金属箔付き絶縁フィルム21は、ポリエチレンナフタレートフィルム22と、金属箔23とを備える。ポリエチレンナフタレートフィルム22の第1の主面22aに、金属箔23が積層されている。ポリエチレンナフタレートフィルム22の第2の主面22bは、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体が積層される表面であることが好ましい。金属箔23が積層される前のポリエチレンナフタレートフィルム22の第1の主面22aは、粗化処理されている。このため、ポリエチレンナフタレートフィルム22の第1の主面22aは凸部を有する粗面である。なお、ポリエチレンナフタレートフィルム22に積層される前の金属箔23のポリエチレンナフタレートフィルム22が積層される表面は平滑である。   The first main surface 2a of the polyethylene naphthalate film 2 before the metal foil 3 is laminated is smooth. In FIG. 5, the insulating film with metal foil which concerns on other embodiment of this invention is shown. The insulating film 21 with metal foil shown in FIG. 5 is used by being laminated on a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more. The insulating film with metal foil 21 includes a polyethylene naphthalate film 22 and a metal foil 23. A metal foil 23 is laminated on the first main surface 22 a of the polyethylene naphthalate film 22. The second main surface 22b of the polyethylene naphthalate film 22 is preferably a surface on which a thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more is laminated. The first main surface 22a of the polyethylene naphthalate film 22 before the metal foil 23 is laminated is roughened. For this reason, the 1st main surface 22a of the polyethylene naphthalate film 22 is a rough surface which has a convex part. In addition, the surface on which the polyethylene naphthalate film 22 of the metal foil 23 before being laminated on the polyethylene naphthalate film 22 is laminated is smooth.

このように、上記金属箔が積層される前の上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記第1の主面は、粗化処理されていてもよく、凸部を有する粗面であってもよい。この場合には、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの凸部を金属箔内に埋め込むことができるので、また上記ポリエチレンナフタレートフィルムの凸部間の凹部に上記金属箔を埋め込ませることができるので、アンカー効果によって、上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記金属箔との剥離強度がより高くなる。上記粗化処理の方法として、従来公知の方法を使用可能である。上記粗化処理の方法としては、例えば、サンドブラスト処理方法及び粗化剤を用いた処理方法等が挙げられる。   Thus, the said 1st main surface of the said polyethylene naphthalate film before the said metal foil is laminated | stacked may be roughened, and the rough surface which has a convex part may be sufficient as it. In this case, since the convex part of the polyethylene naphthalate film can be embedded in the metal foil, and the metal foil can be embedded in the concave part between the convex parts of the polyethylene naphthalate film, the anchor effect As a result, the peel strength between the polyethylene naphthalate film and the metal foil becomes higher. As the roughening treatment method, a conventionally known method can be used. Examples of the roughening treatment method include a sandblast treatment method and a treatment method using a roughening agent.

上記金属箔が積層される前の上記ポリエチレンナフタレートフィルムの第1の主面の算術平均粗さRaは、好ましくは0.1μm以上、より好ましく0.2μm以上、更に好ましくは0.5μm以上、好ましくは20μm以下、より好ましくは15μm以下、更に好ましくは10μm以下である。上記算術平均粗さRaが上記下限以上及び上記上限以下であると、上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記金属箔との剥離強度がより高くなる。上記算術平均粗さRaは、JIS B0601−1994に準拠して測定される。   The arithmetic mean roughness Ra of the first main surface of the polyethylene naphthalate film before the metal foil is laminated is preferably 0.1 μm or more, more preferably 0.2 μm or more, and further preferably 0.5 μm or more, Preferably it is 20 micrometers or less, More preferably, it is 15 micrometers or less, More preferably, it is 10 micrometers or less. When the arithmetic average roughness Ra is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the peel strength between the polyethylene naphthalate film and the metal foil becomes higher. The arithmetic average roughness Ra is measured in accordance with JIS B0601-1994.

上記ポリエチレンナフタレートフィルムの市販品としては、帝人デュポンフィルム社製のテオネックスシリーズが挙げられる。   Examples of commercially available polyethylene naphthalate films include Teonex series manufactured by Teijin DuPont Films.

上記金属箔の材質としては、アルミニウム、銅、金、及びグラファイトシート等が挙げられる。熱伝導性をより一層良好にする観点からは、上記金属箔は、金箔、銅箔又はアルミニウム箔であることが好ましく、銅箔又はアルミニウム箔であることがより好ましい。熱伝導性をより一層良好にし、さらにエッチング処理を容易に行う観点からは、上記金属箔は、銅箔であることがより好ましい。   Examples of the material of the metal foil include aluminum, copper, gold, and a graphite sheet. From the viewpoint of further improving the thermal conductivity, the metal foil is preferably a gold foil, a copper foil, or an aluminum foil, and more preferably a copper foil or an aluminum foil. From the viewpoint of further improving the thermal conductivity and facilitating the etching process, the metal foil is more preferably a copper foil.

上記金属箔の厚みは特に限定されないが、好ましくは1μm以上、より好ましくは5μm以上、更に好ましくは10μm以上、好ましくは500μm以下、より好ましくは300μm以下である。上記金属箔の厚みが上記下限以上であると、取扱いやすくなる。上記金属箔の厚みが上記上限以下であると、上記金属箔付き絶縁フィルムを用いた積層構造体をより一層薄型化することが可能である。   Although the thickness of the said metal foil is not specifically limited, Preferably it is 1 micrometer or more, More preferably, it is 5 micrometers or more, More preferably, it is 10 micrometers or more, Preferably it is 500 micrometers or less, More preferably, it is 300 micrometers or less. It becomes easy to handle that the thickness of the metal foil is not less than the above lower limit. When the thickness of the metal foil is not more than the above upper limit, it is possible to further reduce the thickness of the laminated structure using the insulating film with metal foil.

図2に示すように、ポリエチレンナフタレートフィルム2に積層される前の金属箔3のポリエチレンナフタレートフィルム2が積層される表面は粗化処理されている。このため、金属箔3のポリエチレンナフタレートフィルム2が積層される表面は凸部を有する粗面である。なお、金属箔3が積層される前のポリエチレンナフタレートフィルム2の第1の主面2aは平滑である。   As shown in FIG. 2, the surface of the metal foil 3 on which the polyethylene naphthalate film 2 is laminated before being laminated on the polyethylene naphthalate film 2 is roughened. For this reason, the surface on which the polyethylene naphthalate film 2 of the metal foil 3 is laminated is a rough surface having convex portions. In addition, the 1st main surface 2a of the polyethylene naphthalate film 2 before the metal foil 3 is laminated | stacked is smooth.

このように、上記ポリエチレンナフタレートフィルムに積層される前の上記金属箔の上記ポリエチレンナフタレートフィルムが積層される表面は粗化処理されていることが好ましく、凸部を有する粗面であることが好ましい。この場合には、上記金属箔の凸部を上記ポリエチレンナフタレートフィルムの第1の主面内に埋め込むことができるので、アンカー効果によって、上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記金属箔との剥離強度がより高くなる。上記粗化処理の方法として、従来公知の方法を使用可能である。   Thus, it is preferable that the surface on which the polyethylene naphthalate film of the metal foil before being laminated on the polyethylene naphthalate film is laminated is roughened, and it is a rough surface having convex portions. preferable. In this case, since the convex portion of the metal foil can be embedded in the first main surface of the polyethylene naphthalate film, the anchor effect increases the peel strength between the polyethylene naphthalate film and the metal foil. Get higher. As the roughening treatment method, a conventionally known method can be used.

上記ポリエチレンナフタレートフィルムに積層される前の上記金属箔の上記ポリエチレンナフタレートフィルムが積層される表面の十点平均粗さRzは、好ましくは0.5μm以上、より好ましくは1μm以上、更に好ましくは5μm以上、好ましくは12μm以下、より好ましくは10μm以下、更に好ましくは10μm以下である。上記十点平均粗さRzが上記下限以上及び上記上限以下であると、上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記金属箔との剥離強度がより高くなる。上記十点平均粗さRzは、JIS B0601−1994に準拠して測定される。   The ten-point average roughness Rz of the surface of the metal foil before being laminated to the polyethylene naphthalate film is preferably 0.5 μm or more, more preferably 1 μm or more, and still more preferably. It is 5 μm or more, preferably 12 μm or less, more preferably 10 μm or less, and further preferably 10 μm or less. When the ten-point average roughness Rz is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the peel strength between the polyethylene naphthalate film and the metal foil becomes higher. The ten-point average roughness Rz is measured according to JIS B0601-1994.

上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記金属箔との90°剥離強度は、好ましくは3N/cm以上、より好ましくは5N/cm以上、更に好ましくは8N/cm以上、特に好ましくは10N/cm以上である。上記剥離強度は高いほどよい。上記剥離強度が上記下限以上であると、上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記金属箔との剥離が生じ難くなる。また、曲げられたり又は振動が付与されたりした場合に、上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記金属箔とが剥離するのを効果的に抑制できる。   The 90 ° peel strength between the polyethylene naphthalate film and the metal foil is preferably 3 N / cm or more, more preferably 5 N / cm or more, still more preferably 8 N / cm or more, and particularly preferably 10 N / cm or more. The higher the peel strength, the better. When the peel strength is equal to or higher than the lower limit, peeling between the polyethylene naphthalate film and the metal foil is difficult to occur. Moreover, it can suppress effectively that the said polyethylene naphthalate film and the said metal foil peel, when it is bent or a vibration is provided.

上記金属箔を積層する前の上記ポリエチレンナフタレートフィルムの第1の主面に、加熱により上記ポリエチレンナフタレートフィルムの第1の主面を軟化させる軟化剤を付着させた後、加熱しながら上記金属箔を積層することにより、上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記金属箔との剥離強度を上記下限以上にすることができる。さらに、上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記金属箔との剥離強度をより一層高める方法としては、上記ポリエチレンナフタレートフィルムに積層される前の上記金属箔の上記ポリエチレンナフタレートフィルムが積層される表面を粗化処理するか、又は該表面に複数の凸部を形成する方法、上記金属箔に積層される前の上記ポリエチレンナフタレートフィルムの第1の主面を粗化処理するか、又は該第1の主面に複数の凸部を形成する方法、並びに上記ポリエチレンナフタレートフィルムの第1の主面に上記金属箔を加圧して積層する際に、圧力を高くする方法等が挙げられる。これらの方法を2種以上併用してもよい。   A softening agent that softens the first main surface of the polyethylene naphthalate film is attached to the first main surface of the polyethylene naphthalate film before laminating the metal foil, and then the metal is heated while being heated. By laminating the foil, the peel strength between the polyethylene naphthalate film and the metal foil can be set to the above lower limit or more. Furthermore, as a method of further increasing the peel strength between the polyethylene naphthalate film and the metal foil, the surface of the metal foil before the polyethylene naphthalate film is laminated is roughened. Or a roughening treatment of the first main surface of the polyethylene naphthalate film before being laminated on the metal foil, or a method of forming a plurality of convex portions on the surface. Examples thereof include a method of forming a plurality of convex portions on the main surface and a method of increasing the pressure when the metal foil is pressed and laminated on the first main surface of the polyethylene naphthalate film. Two or more of these methods may be used in combination.

上記90°剥離強度は、JIS C6481(Test condition A)に準拠して、23℃及び湿度50%の条件で測定される。上記90°剥離強度は、エー・アンド・デイ社製「TENSILON」等により測定できる。   The 90 ° peel strength is measured in accordance with JIS C6481 (Test condition A) under the conditions of 23 ° C. and humidity of 50%. The 90 ° peel strength can be measured by “TENSILON” manufactured by A & D.

金属箔付き絶縁フィルム1は、以下のようにして得ることができる。   The insulating film 1 with metal foil can be obtained as follows.

金属箔付き絶縁フィルム1の製造方法は、上述した軟化剤を含む第1の材料32と密着性向上剤を含む第2の材料33が付着したポリエチレンナフタレートフィルム31を用いて、該軟化剤を含む第1の材料32及び該密着性向上剤を含む第2の材料33が付着したポリエチレンナフタレートフィルム31におけるポリエチレンナフタレートフィルム2の軟化剤を含む第1の材料32が付着している第1の主面2aに、金属箔3を積層する工程(積層工程)を備えることが好ましい。また、ポリエチレンナフタレートフィルム2の軟化剤を含む第1の材料32が付着している第1の主面2aに、加熱により軟化剤によってポリエチレンナフタレートフィルム2の第1の主面2aを軟化させて金属箔3を積層することが好ましい。   The manufacturing method of the insulating film 1 with metal foil uses the polyethylene naphthalate film 31 to which the first material 32 containing the softening agent and the second material 33 containing the adhesion improver are attached, and the softening agent is used. The first material 32 containing the softening agent for the polyethylene naphthalate film 2 in the polyethylene naphthalate film 31 to which the second material 33 containing the first material 32 and the adhesion improving agent attached is attached. It is preferable to provide the process (lamination process) of laminating | stacking the metal foil 3 on the main surface 2a. In addition, the first main surface 2a of the polyethylene naphthalate film 2 is softened by heating with the softening agent on the first main surface 2a to which the first material 32 containing the softening agent of the polyethylene naphthalate film 2 is attached. The metal foil 3 is preferably laminated.

上記積層工程において、ポリエチレンナフタレートフィルム2の第1の主面2aに、ポリエチレンナフタレートフィルム2の融点未満の温度で金属箔3を積層することが好ましい。この場合には、上記積層工程における上記ポリエチレンナフタレートフィルムの熱劣化を抑制でき、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの良好な曲げ特性を維持でき、更に上記ポリエチレンナフタレートフィルムの変色を抑制できる。さらに、上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記金属箔との剥離強度をより一層高めることができる。   In the laminating step, the metal foil 3 is preferably laminated on the first main surface 2 a of the polyethylene naphthalate film 2 at a temperature lower than the melting point of the polyethylene naphthalate film 2. In this case, thermal deterioration of the polyethylene naphthalate film in the laminating step can be suppressed, good bending characteristics of the polyethylene naphthalate film can be maintained, and further, discoloration of the polyethylene naphthalate film can be suppressed. Furthermore, the peel strength between the polyethylene naphthalate film and the metal foil can be further increased.

金属箔3を積層する温度は、好ましくは(上記ポリエチレンナフタレートフィルムの融点(℃)−5)℃以下、より好ましくは(上記ポリエチレンナフタレートフィルムの融点(℃)−10)℃以下である。   The temperature at which the metal foil 3 is laminated is preferably (the melting point of the polyethylene naphthalate film (° C.) − 5) ° C. or less, more preferably (the melting point of the polyethylene naphthalate film (° C.) − 10) ° C. or less.

上記積層工程において、ポリエチレンナフタレートフィルム2の第1の主面2aに、金属箔3を260℃以下の温度で積層することがより好ましい。この場合には、上記積層工程における上記ポリエチレンナフタレートフィルムの熱劣化を効果的に抑制でき、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの良好な曲げ特性を十分に維持できる。さらに、上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記金属箔との剥離強度をさらに一層高めることができる。特に、上記ポリエチレンナフタレートフィルムが延伸されたポリエチレンナフタレートフィルムである場合に、上記積層工程において、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの第1の主面に、上記金属箔を260℃以下の温度で積層することが好ましい。この場合には、延伸により付与されたポリエチレンナフタレートの結晶構造が良好に保持される。この結果、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの強度がより一層高くなり、欠け及び割れがより一層生じ難くなる。   In the laminating step, it is more preferable to laminate the metal foil 3 on the first main surface 2a of the polyethylene naphthalate film 2 at a temperature of 260 ° C. or lower. In this case, thermal degradation of the polyethylene naphthalate film in the laminating step can be effectively suppressed, and good bending characteristics of the polyethylene naphthalate film can be sufficiently maintained. Furthermore, the peel strength between the polyethylene naphthalate film and the metal foil can be further increased. In particular, when the polyethylene naphthalate film is a stretched polyethylene naphthalate film, the metal foil is laminated at a temperature of 260 ° C. or lower on the first main surface of the polyethylene naphthalate film in the laminating step. It is preferable. In this case, the crystal structure of polyethylene naphthalate imparted by stretching is well maintained. As a result, the strength of the polyethylene naphthalate film is further increased, and chipping and cracking are less likely to occur.

金属箔3を積層する温度の下限は特に限定されない。金属箔3を積層する温度は、一般に200℃以上であり、220℃以上であることが好ましい。   The lower limit of the temperature at which the metal foil 3 is laminated is not particularly limited. Generally the temperature which laminates | stacks the metal foil 3 is 200 degreeC or more, and it is preferable that it is 220 degreeC or more.

上記積層工程において、金属箔3のポリエチレンナフタレートフィルム2側とは反対の表面を加圧することが好ましい。加圧の圧力は、例えば、0.1MPa以上、50MPa以下程度である。加圧の圧力が上記下限以上及び上記上限以下であると、上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記金属箔との剥離強度がより一層高くなり、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの型崩れを抑制できる。   In the laminating step, it is preferable to pressurize the surface of the metal foil 3 opposite to the polyethylene naphthalate film 2 side. The pressure of pressurization is, for example, about 0.1 MPa or more and 50 MPa or less. When the pressurization pressure is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the peel strength between the polyethylene naphthalate film and the metal foil is further increased, and the deformation of the polyethylene naphthalate film can be suppressed.

金属箔付き絶縁フィルム1の製造方法は、ポリエチレンナフタレートフィルム2と金属箔3との剥離強度を高めるために、金属箔3が積層される前のポリエチレンナフタレートフィルム2の第1の主面2aに、加熱によりポリエチレンナフタレートフィルム2の第1の主面2aを軟化させる軟化剤を含む第1の材料32を付着させる工程をさらに備えることが好ましい。金属箔付き絶縁フィルム1の製造方法は、この第1の材料32を付着させる工程を経て得られた軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルム31を用いることが好ましい。この場合に、ポリエチレンナフタレートフィルム2の軟化剤を含む第1の材料32が配置された第1の主面2aに、加熱しながら金属箔3を積層することにより、ポリエチレンナフタレートフィルム2と金属箔3との剥離強度が、3N/cm以上である金属箔付き絶縁フィルム1を得ることが好ましい。   In order to increase the peel strength between the polyethylene naphthalate film 2 and the metal foil 3, the manufacturing method of the insulating film 1 with the metal foil includes the first main surface 2a of the polyethylene naphthalate film 2 before the metal foil 3 is laminated. Furthermore, it is preferable to further include a step of attaching a first material 32 containing a softening agent that softens the first main surface 2a of the polyethylene naphthalate film 2 by heating. It is preferable to use the polyethylene naphthalate film 31 to which the softening agent obtained through the process of making this 1st material 32 adhere is used for the manufacturing method of the insulating film 1 with metal foil. In this case, the polyethylene naphthalate film 2 and the metal are laminated by laminating the metal foil 3 while heating the first main surface 2a on which the first material 32 containing the softening agent of the polyethylene naphthalate film 2 is disposed. It is preferable to obtain the insulating film 1 with metal foil whose peel strength with the foil 3 is 3 N / cm or more.

金属箔付き絶縁フィルム1の製造方法は、熱伝導体が積層される前のポリエチレンナフタレートフィルム2の第2の主面2bに、熱伝導体に対するポリエチレンナフタレートフィルム2の密着性を向上させる密着性向上剤を含む第2の材料33を付着させる工程をさらに備えることが好ましい。金属箔付き絶縁フィルム1の製造方法は、この密着性向上剤を付着させる工程を経て得られた軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルム31を用いることが好ましい。このような密着性向上剤を含む第2の材料33の付着によって、ポリエチレンナフタレートフィルム2の密着性向上剤を含む第2の材料33が配置された第2の主面2bに熱伝導体を積層すると、ポリエチレンナフタレートフィルム2と熱伝導体との密着性が高くなる。密着性向上剤を含む第2の材料33を付着させる工程は、軟化剤を含む第1の材料32を付着させる工程と同時に行ってもよく、別に行ってもよい。軟化剤を含む第1の材料32を付着させる工程は、ポリエチレンナフタレートフィルム2に金属箔3が積層される前に行われてもよく、積層された後に行われてもよい。   The manufacturing method of the insulating film 1 with metal foil is the adhesion which improves the adhesiveness of the polyethylene naphthalate film 2 to the heat conductor on the second main surface 2b of the polyethylene naphthalate film 2 before the heat conductor is laminated. It is preferable to further include a step of attaching the second material 33 containing the property improving agent. It is preferable to use the polyethylene naphthalate film 31 to which the softening agent obtained through the process of attaching this adhesive improvement agent is used for the manufacturing method of the insulating film 1 with metal foil. By adhering the second material 33 containing such an adhesion improver, a heat conductor is applied to the second main surface 2b on which the second material 33 containing the adhesion improver of the polyethylene naphthalate film 2 is disposed. When laminated, the adhesion between the polyethylene naphthalate film 2 and the heat conductor is increased. The step of attaching the second material 33 containing the adhesion improver may be performed simultaneously with the step of attaching the first material 32 containing the softening agent, or may be performed separately. The step of attaching the first material 32 containing the softening agent may be performed before the metal foil 3 is laminated on the polyethylene naphthalate film 2 or after the lamination.

(積層構造体)
図2に示す本発明の一実施形態に係る金属箔付き絶縁フィルム1は、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体に積層されて用いられる。図3に、図2に示す金属箔付き絶縁フィルム1を用いた積層構造体の一例を断面図で示す。
(Laminated structure)
The insulating film 1 with a metal foil according to one embodiment of the present invention shown in FIG. 2 is used by being laminated on a thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more. In FIG. 3, an example of the laminated structure using the insulating film 1 with metal foil shown in FIG. 2 is shown with sectional drawing.

図3に示す積層構造体11は、金属箔付き絶縁フィルム1と熱伝導体12と光半導体装置13とを備える。   A laminated structure 11 shown in FIG. 3 includes an insulating film 1 with a metal foil, a heat conductor 12, and an optical semiconductor device 13.

熱伝導体12の熱伝導率は10W/m・K以上である。熱伝導体12は、金属箔付き絶縁フィルム1におけるポリエチレンナフタレートフィルム2の金属箔3が積層された第1の主面2aとは反対の第2の主面2bに積層されている。金属箔3のポリエチレンナフタレートフィルム2側とは反対の表面には、光半導体装置13が積層されている。なお、図3では、金属箔3の表面の凸部の図示は省略されている。   The thermal conductivity of the thermal conductor 12 is 10 W / m · K or more. The heat conductor 12 is laminated on the second main surface 2b opposite to the first main surface 2a on which the metal foil 3 of the polyethylene naphthalate film 2 in the insulating film 1 with metal foil is laminated. An optical semiconductor device 13 is laminated on the surface of the metal foil 3 opposite to the polyethylene naphthalate film 2 side. In addition, in FIG. 3, illustration of the convex part of the surface of the metal foil 3 is abbreviate | omitted.

積層構造体11では、光半導体装置13において生じた熱量が、金属箔3及びポリエチレンナフタレートフィルム2を経由して、熱伝導体12に伝わりやすい。積層構造体11では、熱伝導体12によって熱を効率的に放散させることができる。   In the laminated structure 11, the amount of heat generated in the optical semiconductor device 13 is easily transmitted to the heat conductor 12 via the metal foil 3 and the polyethylene naphthalate film 2. In the laminated structure 11, heat can be efficiently dissipated by the heat conductor 12.

上記熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体は特に限定されない。上記熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体としては、例えば、アルミニウム、銅、アルミナ、ベリリア、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化アルミニウム及びグラファイトシート等が挙げられる。中でも、上記熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体は、金属であることが好ましく、銅又はアルミニウムであることがより好ましい。銅又はアルミニウムは、放熱性に優れている。   The heat conductor whose heat conductivity is 10 W / m · K or more is not particularly limited. Examples of the heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more include aluminum, copper, alumina, beryllia, silicon carbide, silicon nitride, aluminum nitride, and graphite sheet. Especially, it is preferable that the heat conductor whose said heat conductivity is 10 W / m * K or more is a metal, and it is more preferable that it is copper or aluminum. Copper or aluminum is excellent in heat dissipation.

図4に、図2に示す金属箔付き絶縁フィルム1を用いた積層構造体の他の例を部分切欠断面図で示す。図4に示す積層構造体11Aは、金属箔付き絶縁フィルム1と熱伝導体12とを備える。熱伝導体12の熱伝導率は10W/m・K以上である。熱伝導体12は、金属箔付き絶縁フィルム1におけるポリエチレンナフタレートフィルム2の金属箔3が積層された第1の主面2aとは反対の第2の主面2bに積層されている。   FIG. 4 is a partially cutaway sectional view showing another example of a laminated structure using the insulating film 1 with a metal foil shown in FIG. A laminated structure 11 </ b> A shown in FIG. 4 includes an insulating film 1 with a metal foil and a heat conductor 12. The thermal conductivity of the thermal conductor 12 is 10 W / m · K or more. The heat conductor 12 is laminated on the second main surface 2b opposite to the first main surface 2a on which the metal foil 3 of the polyethylene naphthalate film 2 in the insulating film 1 with metal foil is laminated.

このように、本発明に係る積層構造体には、上記金属箔、上記ポリエチレンナフタレートフィルム及び上記熱伝導体が積層されており、上記光半導体装置が実装されていない積層構造体も含まれる。   Thus, the laminated structure according to the present invention includes a laminated structure in which the metal foil, the polyethylene naphthalate film, and the heat conductor are laminated, and the optical semiconductor device is not mounted.

また、上記積層構造体を得る際に、上記金属箔、上記軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルム及び上記熱伝導体を3層同時に一体化してもよい。また、これらの3層の内の2層を予め一体化させた後、残りの1層をさらに一体化させてもよい。すなわち、予め金属箔付き絶縁フィルムを得ることなく、積層構造体を得てもよい。具体的には、上述した軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムを用いて、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの第1の主面に金属箔が積層されており、かつ上記ポリエチレンナフタレートフィルムの第2の主面に上記熱伝導体が積層されている積層構造体を得る際に、(1)上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記第1の主面側に金属箔を配置し、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記第2の主面側に熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体を配置して、上記金属箔と上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記熱伝導体とを一体化させるか、(2)上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記第1の主面側に金属箔を配置して、上記金属箔と上記ポリエチレンナフタレートフィルムとを一体化させた後、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記第2の主面側に熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体を配置して、上記金属箔と上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記熱伝導体とを一体化させるか、又は、(3)上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記第2の主面側に熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体を配置して、上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記熱伝導体とを一体化させた後、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記第1の主面側に金属箔を配置して、上記金属箔と上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記熱伝導体とを一体化させることで、上記積層構造体を得てもよい。   Moreover, when obtaining the said laminated structure, you may integrate the said metal foil, the polyethylene naphthalate film to which the said softening agent adhered, and the said heat conductor 3 layers simultaneously. Further, after the two of these three layers are integrated in advance, the remaining one layer may be further integrated. That is, you may obtain a laminated structure, without obtaining the insulating film with metal foil beforehand. Specifically, a metal foil is laminated on the first main surface of the polyethylene naphthalate film using the polyethylene naphthalate film to which the softening agent is attached, and the second surface of the polyethylene naphthalate film. When obtaining a laminated structure in which the heat conductor is laminated on the main surface, (1) a metal foil is disposed on the first main surface side of the polyethylene naphthalate film, and the polyethylene naphthalate film is A thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more is disposed on the second main surface side, and the metal foil, the polyethylene naphthalate film, and the thermal conductor are integrated, or (2 ) A metal foil is arranged on the first main surface side of the polyethylene naphthalate film, and the metal foil and the polyethylene naphthalate film are integrated. Then, a thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more is disposed on the second main surface side of the polyethylene naphthalate film, and the metal foil, the polyethylene naphthalate film, and the thermal conductivity are arranged. Or (3) arranging a thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more on the second main surface side of the polyethylene naphthalate film, and After integrating the phthalate film and the heat conductor, a metal foil is disposed on the first main surface side of the polyethylene naphthalate film, and the metal foil, the polyethylene naphthalate film, and the heat conductor are arranged. And the above laminated structure may be obtained.

上記第1の主面側で金属箔と接しかつ上記第2の主面側で熱伝導体と接するように上記ポリエチレンナフタレートフィルムを配置することで、金属箔と熱伝導体との間にはポリエチレンナフタレートフィルム以外の厚みの厚い層が無くなり、金属箔と熱伝導体とが近接する結果、上記金属箔と上記ポリエチレンナフタレートフィルムと上記熱伝導体とを一体化させた積層構造体の放熱性能を高めることができる。   By disposing the polyethylene naphthalate film so as to be in contact with the metal foil on the first main surface side and in contact with the heat conductor on the second main surface side, between the metal foil and the heat conductor, Heat dissipation of the laminated structure in which the metal foil, the polyethylene naphthalate film, and the heat conductor are integrated as a result of the absence of a thick layer other than the polyethylene naphthalate film and the proximity of the metal foil and the heat conductor. Performance can be increased.

以下、本発明の具体的な実施例及び比較例を挙げることにより、本発明を明らかにする。なお、本発明は以下の実施例に限定されない。   Hereinafter, the present invention will be clarified by giving specific examples and comparative examples of the present invention. The present invention is not limited to the following examples.

実施例及び比較例では、ポリエチレンナフタレートフィルム及び軟化剤として、下記の材料を用いた。   In the examples and comparative examples, the following materials were used as the polyethylene naphthalate film and the softening agent.

(絶縁フィルム(ポリエチレンナフタレートフィルム))
(1)ポリエチレンナフタレートフィルム1(二軸延伸されたポリエチレンナフタレートフィルム、厚み50μm、融点272℃、帝人デュポンフィルム社製のテオネックス)
(2)ポリエチレンナフタレートフィルム2(二軸延伸されたポリエチレンナフタレートフィルム、厚み38μm、融点272℃、帝人デュポンフィルム社製のテオネックス)
(3)ポリエチレンナフタレートフィルム3(二軸延伸されたポリエチレンナフタレートフィルム、厚み25μm、融点272℃、帝人デュポンフィルム社製のテオネックス)
(Insulating film (polyethylene naphthalate film))
(1) Polyethylene naphthalate film 1 (biaxially stretched polyethylene naphthalate film, thickness 50 μm, melting point 272 ° C., Teonex manufactured by Teijin DuPont Films)
(2) Polyethylene naphthalate film 2 (biaxially stretched polyethylene naphthalate film, thickness 38 μm, melting point 272 ° C., Teonex manufactured by Teijin DuPont Films)
(3) Polyethylene naphthalate film 3 (biaxially stretched polyethylene naphthalate film, thickness 25 μm, melting point 272 ° C., Teonex manufactured by Teijin DuPont Films)

(表面処理溶液)
熱硬化性化合物:
(1)ビスフェノールA型エポキシ樹脂(新日鐵化学社製「YD127」、23℃で液体)
(2)固体ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学社製「YD011」、二量体、23℃で固体)
(3)トリアジン型エポキシ樹脂(新日鐵化学社製「TEPIC SP」、23℃で固体)
(4)ビフェニル型エポキシ樹脂(三菱化学社製「YX4000H」、23℃で固体)
(5)ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂1(DIC社製「HP7200L」、23℃で固体)
(6)ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂2(DIC社製「EXA7200HH」、23℃で固体)
(7)ナフタレン骨格含有高耐熱エポキシ樹脂(DIC社製「EPICLON HP4710」、23℃で固体)
(8)脂環エポキシ樹脂(ダイセル化学社製「セロキサイド2021P」、23℃で液体)
(9)ビスマレイミド樹脂(大和化成社製「BMI−2300」、23℃で固体)
(10)ベンゾオキサジン樹脂(四国化成社製「pd−型」、23℃で固体)
(11)オキセタン樹脂(宇部興産社製「OXBP」、23℃で液体)
(12)変性エポキシアクリレート(ダイセルサイテック社製「EBECRYL3700」、23℃で固体)
(13)クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(新日鐵化学社製「YDCN−704」、23℃で固体)
(Surface treatment solution)
Thermosetting compound:
(1) Bisphenol A type epoxy resin (“YD127” manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd., liquid at 23 ° C.)
(2) Solid bisphenol A type epoxy resin (“YD011” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, dimer, solid at 23 ° C.)
(3) Triazine type epoxy resin (“TEPIC SP” manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd., solid at 23 ° C.)
(4) Biphenyl type epoxy resin (“YX4000H” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, solid at 23 ° C.)
(5) Dicyclopentadiene type epoxy resin 1 (“HP7200L” manufactured by DIC, solid at 23 ° C.)
(6) Dicyclopentadiene type epoxy resin 2 (“EXA7200HH” manufactured by DIC, solid at 23 ° C.)
(7) Naphthalene skeleton-containing high heat resistant epoxy resin (“EPICLON HP4710” manufactured by DIC, solid at 23 ° C.)
(8) Alicyclic epoxy resin (“Celoxide 2021P” manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., liquid at 23 ° C.)
(9) Bismaleimide resin (“BMI-2300” manufactured by Daiwa Kasei Co., Ltd., solid at 23 ° C.)
(10) Benzoxazine resin (“pd-type” manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd., solid at 23 ° C.)
(11) Oxetane resin (“OXBP” manufactured by Ube Industries, Ltd., liquid at 23 ° C.)
(12) Modified epoxy acrylate ("EBECRYL3700" manufactured by Daicel Cytec, solid at 23 ° C)
(13) Cresol novolac type epoxy resin (“YDCN-704” manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd., solid at 23 ° C.)

硬化剤:
(1)酸無水物硬化剤1(三菱化学社製「YH307」、23℃で液体)
(2)酸無水物硬化剤2(三菱化学社製「YH306」、23℃で液体)
(3)酸無水物硬化剤3(三菱化学社製「YH309」、23℃で固体)
(4)フェノール硬化剤1(フェノールノボラック硬化剤、群栄化学社製「レジトップPSM4326」、23℃で固体)
(5)フェノール硬化剤2(ハンツマン社製「5292B」、23℃で液体(粘性液体))
Curing agent:
(1) Acid anhydride curing agent 1 (“YH307” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, liquid at 23 ° C.)
(2) Acid anhydride curing agent 2 (“YH306” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, liquid at 23 ° C.)
(3) Acid anhydride curing agent 3 (“YH309” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, solid at 23 ° C.)
(4) Phenol curing agent 1 (Phenol novolac curing agent, “Resitop PSM4326” manufactured by Gunei Chemical Co., Ltd., solid at 23 ° C.)
(5) Phenol curing agent 2 (“5292B” manufactured by Huntsman, liquid at 23 ° C. (viscous liquid))

有機金属化合物:
(1)有機アルミネート化合物(アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレート、味の素ファインテクノ社製「プレンアクトAL−M」)
(2)有機チタネート化合物(味の素ファインテクノ社製「プレンアクトKR55」)
(3)有機ジルコネート化合物(マツモノファインケミカル社製「オルガチックスZA−45」)
(4)有機シラン化合物(ビニルトリメトキシシラン、信越化学工業社製「KBM−1003」)
Organometallic compounds:
(1) Organic aluminate compound (acetoalkoxyaluminum diisopropylate, “Plenact AL-M” manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.)
(2) Organic titanate compound ("Plenact KR55" manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.)
(3) Organic zirconate compound ("Orgatics ZA-45" manufactured by Matsumono Fine Chemical Co., Ltd.)
(4) Organosilane compound (vinyltrimethoxysilane, “KBM-1003” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)

他の成分:
(1)クレゾールノボラック樹脂(DIC社製「KA−1160」)
(2)溶剤(メチルエチルケトン(MEK))
Other ingredients:
(1) Cresol novolac resin (DIC Corporation "KA-1160")
(2) Solvent (Methyl ethyl ketone (MEK))

(実施例1)
絶縁フィルムとしてポリエチレンナフタレートフィルム3(二軸延伸されたポリエチレンナフタレートフィルム、厚み25μm、融点272℃、帝人デュポンフィルム社製のテオネックス)を用意した。
Example 1
A polyethylene naphthalate film 3 (biaxially stretched polyethylene naphthalate film, thickness 25 μm, melting point 272 ° C., Teonex manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.) was prepared as an insulating film.

また、絶縁フィルムが積層される表面が粗化処理されており、かつ複数の凸部を有する銅箔(厚み38μm)を用意した。銅箔の粗化処理された表面の十点平均粗さRzは、7μmであった。   In addition, a copper foil (thickness: 38 μm) having a roughened surface on which the insulating film was laminated and having a plurality of convex portions was prepared. The ten-point average roughness Rz of the roughened copper foil surface was 7 μm.

また、固体ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学社製「YD011」、二量体、23℃で固体)7.4重量部と、フェノール硬化剤1(フェノールノボラック硬化剤、群栄化学社製「レジトップPSM4326」、23℃で固体)4重量部と、フェノール硬化剤2(ハンツマン社製「5292B」、23℃で液体(粘性液体))0.3重量部と、有機アルミネート化合物(アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレート、味の素ファインテクノ社製「プレンアクトAL−M」)0.3重量部と、溶剤であるメチルエチルケトン190重量部とを配合して、表面処理溶液を得た。該表面処理溶液は、軟化剤を含む第1の材料であり、かつ密着性向上剤を含む第2の材料である。   In addition, 7.4 parts by weight of solid bisphenol A type epoxy resin (“YD011” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, dimer, solid at 23 ° C.) and phenol curing agent 1 (phenol novolac curing agent, “registry” manufactured by Gunei Chemical Co., Ltd. 4 parts by weight of “Top PSM 4326”, solid at 23 ° C.), 0.3 part by weight of phenol curing agent 2 (“5292B” manufactured by Huntsman, liquid at 23 ° C. (viscous liquid)), and organic aluminate compound (acetoalkoxyaluminum) A surface treatment solution was obtained by blending 0.3 part by weight of diisopropylate, “Plenact AL-M” manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd., and 190 parts by weight of methyl ethyl ketone as a solvent. The surface treatment solution is a first material containing a softening agent and a second material containing an adhesion improver.

上記絶縁フィルムの第1の主面を上記表面処理溶液中に浸漬し、かつ上記絶縁フィルムの第2の主面を上記表面処理溶液中に浸漬した後、乾燥により溶剤を除去した。このようにして、上記絶縁フィルムの第1の主面側に軟化剤を含む第1の材料を付着させ、上記絶縁フィルムの第1の主面側に軟化剤を配置した。さらに、上記絶縁フィルムの第2の主面側に密着性向上剤を含む第2の材料を付着させ、上記絶縁フィルムの第2の主面側に密着性向上剤を配置した。   After the first main surface of the insulating film was immersed in the surface treatment solution and the second main surface of the insulating film was immersed in the surface treatment solution, the solvent was removed by drying. Thus, the 1st material containing a softening agent was made to adhere to the 1st main surface side of the above-mentioned insulating film, and the softening agent was arranged on the 1st main surface side of the above-mentioned insulating film. Furthermore, the 2nd material containing an adhesive improvement agent was made to adhere to the 2nd main surface side of the said insulating film, and the adhesiveness improvement agent was arrange | positioned to the 2nd main surface side of the said insulating film.

次に、絶縁フィルムの第1の主面に、銅箔を粗化処理された表面側から240℃の温度及び8MPaの加圧条件で積層して貼り付けることにより、銅箔付き絶縁フィルムを得た。得られた銅箔付き絶縁フィルムでは、銅箔の複数の凸部がポリエチレンナフタレートフィルム内に埋め込まれていた。   Next, an insulating film with a copper foil is obtained by laminating and pasting the copper foil on the first main surface of the insulating film from the roughened surface side at a temperature of 240 ° C. and a pressure of 8 MPa. It was. In the obtained insulating film with copper foil, a plurality of convex portions of the copper foil were embedded in the polyethylene naphthalate film.

(実施例2〜43)
絶縁フィルムの種類、表面処理溶液に用いる配合成分の種類及び配合量、並びに絶縁フィルムの第1の主面に銅箔を粗化処理された表面側から積層して貼り付ける際の工程条件を下記の表1〜4に示すように設定したこと以外は実施例1と同様にして、銅箔付き絶縁フィルムを得た。実施例2〜43で得られた銅箔付き絶縁フィルムでは全て、銅箔の複数の凸部がポリエチレンナフタレートフィルム内に埋め込まれていた。
(Examples 2 to 43)
The following are the process conditions when laminating and sticking the copper foil from the roughened surface side to the first main surface of the insulating film, and the types and amounts of the ingredients used in the surface treatment solution, the kind of the insulating film The insulating film with copper foil was obtained like Example 1 except having set up as shown in Tables 1-4. In all of the insulating films with copper foil obtained in Examples 2 to 43, a plurality of convex portions of the copper foil were embedded in the polyethylene naphthalate film.

(比較例1)
ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂2(三菱化学社製「828U」)5重量部と、ヘキサヒドロフタル酸骨格液状エポキシ樹脂(日本化薬社製「AK−601」)2重量部と、エポキシ基含有アクリル樹脂(日油社製マープルーフ「G−1030S」)5重量部と、脂環式骨格酸水物(新日本理化社製「MH−700」)4重量部と、イソシアヌル変性固体分散型イミダゾール(四国化成社製「2MZA−PW」)1重量部と、表面疎水化ヒュームドシリカ(トクヤマ社製「MT−10」)1重量部と、球状アルミナ(デンカ社製「DAM−10」)80重量部とを配合して混練し、絶縁材料を得た。
(Comparative Example 1)
5 parts by weight of bisphenol A liquid epoxy resin 2 (“828U” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), 2 parts by weight of hexahydrophthalic acid skeleton liquid epoxy resin (“AK-601” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), and epoxy group-containing acrylic 5 parts by weight of a resin (Mafuru “G-1030S” manufactured by NOF Corporation), 4 parts by weight of an alicyclic skeleton acid water (“MH-700” manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.), and isocyanuric modified solid dispersion type imidazole ( 1 part by weight of "2MZA-PW" manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd., 1 part by weight of surface hydrophobized fumed silica ("MT-10" manufactured by Tokuyama Corporation), and 80 parts by weight of spherical alumina ("DAM-10" manufactured by Denka) An insulating material was obtained by mixing and kneading the part.

離型PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム上に、得られた絶縁材料を塗工し、90℃で30分間乾燥して、絶縁フィルム(厚み38μm)を得た。   The obtained insulating material was applied onto a release PET (polyethylene terephthalate) film and dried at 90 ° C. for 30 minutes to obtain an insulating film (thickness: 38 μm).

得られた絶縁フィルムの第1の主面に、実施例1で用いた銅箔を積層した後、120℃で1時間、更に200℃で1時間絶縁フィルムを硬化させて、銅箔付き絶縁フィルムを得た。この銅箔付き絶縁フィルムを用いる際に、離型PETフィルムを剥離した。   After laminating the copper foil used in Example 1 on the first main surface of the obtained insulating film, the insulating film was cured at 120 ° C. for 1 hour and further at 200 ° C. for 1 hour to obtain an insulating film with copper foil. Got. When using this insulating film with copper foil, the release PET film was peeled off.

(比較例2,3)
絶縁フィルムの種類、表面処理溶液に用いる配合成分の種類及び配合量、並びに絶縁フィルムの第1の主面に銅箔を粗化処理された表面側から積層して貼り付ける際の工程条件を下記の表4に示すように設定したこと以外は実施例1と同様にして、銅箔付き絶縁フィルムを得た。
(Comparative Examples 2 and 3)
The following are the process conditions when laminating and sticking the copper foil from the roughened surface side to the first main surface of the insulating film, and the types and amounts of the ingredients used in the surface treatment solution, the kind of the insulating film An insulating film with a copper foil was obtained in the same manner as in Example 1 except that the setting was made as shown in Table 4.

(参考例1)
絶縁フィルムとしてポリエチレンナフタレートフィルム2(二軸延伸されたポリエチレンナフタレートフィルム、厚み38μm、融点272℃、帝人デュポンフィルム社製のテオネックス)を用意した。この絶縁フィルムの第1の主面側に軟化剤を含む第1の材料を付着させず、かつ第2の主面側に密着性向上剤を含む第2の材料を付着させなかった。また、実施例1で用いた銅箔を用意した。
(Reference Example 1)
A polyethylene naphthalate film 2 (biaxially stretched polyethylene naphthalate film, thickness 38 μm, melting point 272 ° C., Teonex manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.) was prepared as an insulating film. The first material containing the softening agent was not attached to the first main surface side of the insulating film, and the second material containing the adhesion improver was not attached to the second main surface side. Moreover, the copper foil used in Example 1 was prepared.

次に、絶縁フィルムの第1の主面に、銅箔を粗化処理された表面側から240℃の温度及び30MPaの加圧条件で積層して貼り付けることにより、銅箔付き絶縁フィルムを得た。得られた銅箔付き絶縁フィルムでは、銅箔の複数の凸部がポリエチレンナフタレートフィルム内に埋め込まれていた。   Next, an insulating film with a copper foil is obtained by laminating and pasting the copper foil on the first main surface of the insulating film at a temperature of 240 ° C. and a pressure of 30 MPa from the roughened surface side. It was. In the obtained insulating film with copper foil, a plurality of convex portions of the copper foil were embedded in the polyethylene naphthalate film.

(評価)
(1)曲げ特性1
得られた銅箔付き絶縁フィルムを幅1cm、長さ10cmの大きさに切断した。この銅箔付き絶縁フィルムにおける銅箔の絶縁フィルム側とは反対の表面に、支持体としてアルミニウム板(幅1cm、長さ10cm、厚み0.5mm)を積層して、積層物を得た。この状態で、絶縁フィルムが外側かつアルミニウム板が内側になるように、積層物を中央部分で180°方向にかつ端部間の隙間の距離が4mmとなるように、U字状に折り曲げた。折り曲げた後の絶縁フィルムに割れ又は欠けが生じているか否かを評価した。
(Evaluation)
(1) Bending characteristics 1
The obtained insulating film with copper foil was cut into a size of 1 cm in width and 10 cm in length. An aluminum plate (width 1 cm, length 10 cm, thickness 0.5 mm) as a support was laminated on the surface of the insulation film with copper foil opposite to the insulation film side of the copper foil to obtain a laminate. In this state, the laminate was folded in a U-shape so that the insulating film was on the outside and the aluminum plate was on the inside, so that the distance between the ends was 4 mm in the 180 ° direction at the center. It was evaluated whether or not the insulating film after bending was cracked or chipped.

[曲げ特性1の判定基準]
○○:折り曲げられた絶縁フィルムに割れ及び欠けが生じていない
○:折り曲げられた絶縁フィルムに欠けは生じていないが、小さなひび割れが生じている
×:折り曲げられた絶縁フィルムに幅方向にわたって全面にひび割れが生じているか、又は目視で観察できる大きな欠けが生じている
[Criteria for bending property 1]
○○: No cracks or chipping occurred in the folded insulating film ○: No cracks occurred in the folded insulating film, but small cracks occurred ×: The entire surface of the folded insulating film across the width direction There are cracks or large chips that can be visually observed

(2)曲げ特性2
得られた銅箔付き絶縁フィルムにおける金属箔が積層された第1の主面とは反対の第2の主面にアルミニウム板(厚み0.5mm)を積層した。次に、銅箔をエッチングにより除去した後、アルミニウム板付き絶縁フィルムを幅1cm、長さ10cmの大きさに切断した。この状態で、絶縁フィルムが外側かつアルミニウム板が内側になるように、積層物を中央部分で180°方向にかつ端部間の隙間の距離が4mmとなるように、U字状に折り曲げた。折り曲げた後の絶縁フィルムに割れ又は欠けが生じているか否かを評価した。
(2) Bending characteristics 2
The aluminum plate (thickness 0.5 mm) was laminated | stacked on the 2nd main surface opposite to the 1st main surface where the metal foil in the obtained insulating film with copper foil was laminated | stacked. Next, after removing the copper foil by etching, the insulating film with an aluminum plate was cut into a size of 1 cm in width and 10 cm in length. In this state, the laminate was folded in a U-shape so that the insulating film was on the outside and the aluminum plate was on the inside, so that the distance between the ends was 4 mm in the 180 ° direction at the center. It was evaluated whether or not the insulating film after bending was cracked or chipped.

[曲げ特性2の判定基準]
○○:折り曲げられた絶縁フィルムに割れ及び欠けが生じていない
○:折り曲げられた絶縁フィルムに欠けは生じていないが、小さなひび割れが生じている
×:折り曲げられた絶縁フィルムに幅方向にわたって全面にひび割れが生じているか、又は目視で観察できる大きな欠けが生じている
[Criteria for bending property 2]
○○: No cracks or chipping occurred in the folded insulating film ○: No cracks occurred in the folded insulating film, but small cracks occurred ×: The entire surface of the folded insulating film across the width direction There are cracks or large chips that can be visually observed

(3)90°剥離強度(引き剥がし強さ)
エー・アンド・ディー社製「TENSILON」を用いて、JIS C6481(Test condition A)に準拠して、23℃及び湿度50%の条件で、絶縁フィルムと銅箔との90°剥離強度を測定した。
(3) 90 ° peeling strength (peeling strength)
Using “TENSILON” manufactured by A & D, the 90 ° peel strength between the insulating film and the copper foil was measured in accordance with JIS C6481 (Test condition A) under conditions of 23 ° C. and 50% humidity. .

(4)表面のべたつき
軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムの第1の材料及び第2の材料の各表面に離型フィルムを貼り付けた。その後、離型フィルムを剥がすときの状態から、表面のべたつきを下記の基準で判定した。
(4) Surface stickiness A release film was attached to each surface of the first material and the second material of the polyethylene naphthalate film to which the softening agent was adhered. Then, the stickiness of the surface was determined according to the following criteria from the state when the release film was peeled off.

[表面のべたつきの判定基準]
○○:第1の材料及び第2の材料の各表面にべたつきがなく、第1の材料及び第2の材料が離型フィルムに移行することなく離型フィルムを良好に剥離できた
○:第1の材料及び第2の材料の各表面が多少べたつくものの、第1の材料及び第2の材料が離型フィルムにほとんど移行することなく離型フィルムを剥離できた
×:第1の材料及び第2の材料の各表面がかなりべたついて、第1の材料及び第2の材料が離型フィルムに多く移行したり、離型フィルムの剥離不良が生じたりした
[Criteria for surface stickiness]
◯: There was no stickiness on each surface of the first material and the second material, and the release film could be peeled well without the first material and the second material moving to the release film. Although the surfaces of the first material and the second material were somewhat sticky, the release film could be peeled off with almost no migration of the first material and the second material to the release film. Each surface of the material of 2 was considerably sticky, and the first material and the second material were largely transferred to the release film, or the release film was poorly peeled.

(5)密着性
得られた銅箔付き絶縁フィルムにおける金属箔が積層された第1の主面とは反対の第2の主面にアルミニウム板(厚み0.5mm)を積層し、積層構造体を得た。
(5) Adhesiveness An aluminum plate (thickness 0.5 mm) is laminated on the second main surface opposite to the first main surface on which the metal foil in the obtained insulating film with copper foil is laminated, and a laminated structure Got.

得られた積層構造体の銅箔及びポリエチレンナフタレートフィルムにカッターを用いて切り込みを入れて、矩形状の銅箔パターン(長さ10cm×幅1cm)を形成した。銅箔を端部から剥がしたときに、ポリエチレンナフタレートフィルムの銅箔の反対側に積層されているアルミニウム板の浮き及び剥離の有無を観察することにより、アルミニウム板に対するポリエチレンナフタレートフィルムの密着性を評価した。密着性を下記の基準で判定した。   The copper foil and polyethylene naphthalate film of the obtained laminated structure were cut using a cutter to form a rectangular copper foil pattern (length 10 cm × width 1 cm). Adhesion of polyethylene naphthalate film to aluminum plate by observing the presence or absence of float and peeling of aluminum plate laminated on the opposite side of copper foil of polyethylene naphthalate film when copper foil is peeled off from the end Evaluated. Adhesion was determined according to the following criteria.

[密着性の判定基準]
○○:剥離された銅箔の幅方向の端部及び中央部に対応する位置で、アルミニウム板に浮き又は剥離無し
○:剥離された銅箔の幅方向の端部に対応する位置で、アルミニウム板に最大長さ1mm未満の浮きが発生、かつ剥離された銅箔の幅方向の中央部に対応する位置で、アルミニウム板に剥離なし
△:剥離された銅箔の幅方向の端部に対応する位置で、アルミニウム板に最大長さ1mm以上の浮きが発生、かつ剥離された銅箔の幅方向の中央部に対応する位置で、アルミニウム板に剥離なし
×:剥離された銅箔の幅方向の中央部に対応する位置で、アルミニウム板に剥離あり
[Adhesion criteria]
○○: No floating or peeling on the aluminum plate at a position corresponding to the widthwise end and center of the peeled copper foil ○: Aluminum at a position corresponding to the widthwise end of the peeled copper foil In the position corresponding to the central part in the width direction of the peeled copper foil where the maximum length is less than 1 mm on the plate, no peeling on the aluminum plate. Δ: Corresponding to the widthwise end of the peeled copper foil At the position where the aluminum plate floats up to a maximum length of 1 mm and corresponds to the central portion of the peeled copper foil in the width direction, and no peeling on the aluminum plate ×: width direction of the peeled copper foil There is peeling on the aluminum plate at a position corresponding to the center of

結果を下記の表1〜4に示す。下記の表1〜4では、用いた絶縁フィルムに「○」を付した。下記の表4において「−」は評価していないことを示し、「*1」は、「120℃で1時間、更に200℃で1時間」を示す。   The results are shown in Tables 1 to 4 below. In Tables 1 to 4 below, “O” was given to the insulating film used. In Table 4 below, “-” indicates that evaluation is not performed, and “* 1” indicates “120 ° C. for 1 hour, and 200 ° C. for 1 hour”.

Figure 2013116558
Figure 2013116558

Figure 2013116558
Figure 2013116558

Figure 2013116558
Figure 2013116558

Figure 2013116558
Figure 2013116558

なお、飛行時間型二次イオン質量分析TOF−SIMS(ION−TOF社製「TOF−SIMS 5型」)を用いた分析による結果、実施例1〜43で得られた銅箔付き絶縁フィルムではそれぞれ、ポリエチレンナフタレートフィルムの第1の主面側において、上記軟化剤に含まれていた成分が、ポリエチレンナフタレートフィルム内に浸透し、残留していた。さらに、実施例1〜43で得られた銅箔付き絶縁フィルムではそれぞれ、ポリエチレンナフタレートフィルムの第2の主面側において、上記第2の材料におけるに含まれていた成分が、ポリエチレンナフタレートフィルム内に浸透し、残留していた。また、断面観察により、実施例1〜43の銅箔付き絶縁フィルムでは、上記ポリエチレンナフタレートフィルムの上記第1の主面に上記金属箔が直接積層されていることを確認した。   In addition, as a result of analysis using time-of-flight secondary ion mass spectrometry TOF-SIMS (“TOF-SIMS type 5” manufactured by ION-TOF), each of the insulating films with copper foil obtained in Examples 1 to 43 On the first main surface side of the polyethylene naphthalate film, the component contained in the softener penetrated into the polyethylene naphthalate film and remained. Further, in the insulating films with copper foils obtained in Examples 1 to 43, the components contained in the second material on the second main surface side of the polyethylene naphthalate film are polyethylene naphthalate films. It penetrated and remained. Moreover, by the cross-sectional observation, it confirmed that the said metal foil was directly laminated | stacked on the said 1st main surface of the said polyethylene naphthalate film in the insulating film with a copper foil of Examples 1-43.

また、密着性の評価に関しては、熱伝導体としてアルミニウム板を用いた積層構造体の結果を表1〜4示した。実施例1〜43の銅箔付き絶縁フィルムについては、熱伝導体としてアルミニウム板を用いた積層構造体の密着性の評価結果がよいほど、熱伝導体としてSUS板を用いた積層構造体の密着性の評価結果がよくなる傾向があることを確認した。   Moreover, regarding evaluation of adhesiveness, the result of the laminated structure using the aluminum plate as a heat conductor was shown to Tables 1-4. About the insulating film with copper foil of Examples 1-43, the adhesion evaluation of the laminated structure which used the SUS board as a heat conductor is so good that the evaluation result of the adhesiveness of the laminated structure which used the aluminum plate as a heat conductor is good. It was confirmed that the evaluation result of sex tends to improve.

1…金属箔付き絶縁フィルム
2…ポリエチレンナフタレートフィルム
2a…第1の主面
2b…第2の主面
3…金属箔
11…積層構造体
11A…積層構造体
12…熱伝導体
13…光半導体装置
21…金属箔付き絶縁フィルム
22…ポリエチレンナフタレートフィルム
22a…第1の主面
22b…第2の主面
23…金属箔
31…軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルム
32…軟化剤を含む第1の材料
33…密着性向上剤を含む第2の材料
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Insulating film with metal foil 2 ... Polyethylene naphthalate film 2a ... 1st main surface 2b ... 2nd main surface 3 ... Metal foil 11 ... Laminated structure 11A ... Laminated structure 12 ... Thermal conductor 13 ... Optical semiconductor Apparatus 21 ... Insulating film with metal foil 22 ... Polyethylene naphthalate film 22a ... First main surface 22b ... Second main surface 23 ... Metal foil 31 ... Polyethylene naphthalate film with softener attached 32 ... First containing softener 1 material 33 ... 2nd material containing adhesion improver

Claims (13)

金属箔と熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体とに積層されて用いられる軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムであって、
絶縁フィルムであるポリエチレンナフタレートフィルムと、
前記ポリエチレンナフタレートフィルムの第1の主面側に付着しており、かつ加熱により前記ポリエチレンナフタレートフィルムの前記第1の主面を軟化させる軟化剤と、
前記ポリエチレンナフタレートフィルムの前記第1の主面側とは反対の第2の主面側に付着しており、かつ前記熱伝導体に対する前記ポリエチレンナフタレートフィルムの密着性を向上させる密着性向上剤とを備え、
前記ポリエチレンナフタレートフィルムの前記第2の主面側に付着している前記密着性向上剤が、有機アルミネート化合物、有機チタネート化合物、有機ジルコネート化合物、又は有機シラン化合物を含む、軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルム。
A polyethylene naphthalate film to which a softening agent used by being laminated to a metal foil and a thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more is attached,
A polyethylene naphthalate film which is an insulating film;
A softener that is attached to the first main surface side of the polyethylene naphthalate film and softens the first main surface of the polyethylene naphthalate film by heating;
An adhesion improver that adheres to the second main surface side opposite to the first main surface side of the polyethylene naphthalate film and improves the adhesion of the polyethylene naphthalate film to the thermal conductor. And
The adhesion improver adhering to the second main surface side of the polyethylene naphthalate film includes an organic aluminate compound, an organic titanate compound, an organic zirconate compound, or an organic silane compound, and a softening agent adhered. Polyethylene naphthalate film.
前記ポリエチレンナフタレートフィルムの第2の主面側に付着しており、かつ加熱により前記ポリエチレンナフタレートフィルムの前記第2の主面を軟化させる軟化剤をさらに備える、請求項1に記載の軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルム。   The softening agent according to claim 1, further comprising a softening agent that is attached to the second main surface side of the polyethylene naphthalate film and that softens the second main surface of the polyethylene naphthalate film by heating. Polyethylene naphthalate film with a stick. 前記ポリエチレンナフタレートフィルムの前記第2の主面側に付着している前記軟化剤が、熱硬化性組成物を含むか、又は、加熱により前記ポリエチレンナフタレートフィルムを溶解させる化合物を含む、請求項2に記載の軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルム。   The softener adhering to the second main surface side of the polyethylene naphthalate film contains a thermosetting composition or a compound that dissolves the polyethylene naphthalate film by heating. A polyethylene naphthalate film to which the softening agent according to 2 is attached. 前記ポリエチレンナフタレートフィルムの前記第1の主面側に付着している前記軟化剤が、熱硬化性組成物を含むか、又は、加熱により前記ポリエチレンナフタレートフィルムを溶解させる化合物を含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載の軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルム。   The softener adhering to the first main surface side of the polyethylene naphthalate film contains a thermosetting composition or a compound that dissolves the polyethylene naphthalate film by heating. A polyethylene naphthalate film to which the softening agent according to any one of 1 to 3 is attached. 前記ポリエチレンナフタレートフィルムの前記第1の主面側に付着しており、かつ前記金属箔に対する前記ポリエチレンナフタレートフィルムの密着性を向上させる密着性向上剤をさらに備え、
前記ポリエチレンナフタレートフィルムの前記第1の主面側に付着している密着性向上剤が、有機アルミネート化合物、有機チタネート化合物、有機ジルコネート化合物、又は有機シラン化合物を含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載の軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルム。
An adhesion improver that adheres to the first main surface side of the polyethylene naphthalate film and improves the adhesion of the polyethylene naphthalate film to the metal foil;
The adhesion improver adhering to the first main surface side of the polyethylene naphthalate film contains an organic aluminate compound, an organic titanate compound, an organic zirconate compound, or an organic silane compound. A polyethylene naphthalate film to which the softener according to any one of the preceding items is attached.
請求項1〜5のいずれか1項に記載の軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムを加熱することにより得られており、
加熱により前記軟化剤によって、前記ポリエチレンナフタレートフィルムの前記第1の主面が軟化処理されている、軟化処理されたポリエチレンナフタレートフィルム。
It is obtained by heating the polyethylene naphthalate film to which the softener according to any one of claims 1 to 5 is attached,
A softened polyethylene naphthalate film in which the first main surface of the polyethylene naphthalate film is softened by heating with the softening agent.
熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体に積層されて用いられる金属箔付き絶縁フィルムであって、
請求項1〜5のいずれか1項に記載の軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムにおける前記ポリエチレンナフタレートフィルムの前記軟化剤が付着している前記第1の主面に、加熱により前記軟化剤によって前記ポリエチレンナフタレートフィルムの前記第1の主面を軟化させて金属箔を積層することにより得られ、
絶縁フィルムである前記ポリエチレンナフタレートフィルムと、
前記ポリエチレンナフタレートフィルムの前記第1の主面に積層された金属箔とを備える、金属箔付き絶縁フィルム。
An insulating film with a metal foil used by being laminated on a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more,
The softening agent by heating on the first main surface of the polyethylene naphthalate film to which the softening agent of the polyethylene naphthalate film is attached. By softening the first main surface of the polyethylene naphthalate film and laminating a metal foil,
The polyethylene naphthalate film which is an insulating film;
An insulating film with a metal foil, comprising: a metal foil laminated on the first main surface of the polyethylene naphthalate film.
熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体に積層されて用いられる金属箔付き絶縁フィルムの製造方法であって、
請求項1〜5のいずれか1項に記載の軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムを用いて、前記ポリエチレンナフタレートフィルムの前記軟化剤が付着している前記第1の主面に、加熱により前記軟化剤によって前記ポリエチレンナフタレートフィルムの前記第1の主面を軟化させて金属箔を積層する工程を備える、金属箔付き絶縁フィルムの製造方法。
A method for producing an insulating film with a metal foil used by being laminated on a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more,
By using the polyethylene naphthalate film to which the softener according to any one of claims 1 to 5 is attached, the first main surface of the polyethylene naphthalate film to which the softener is attached is heated. The manufacturing method of the insulating film with metal foil provided with the process of softening the said 1st main surface of the said polyethylene naphthalate film with the said softening agent, and laminating | stacking metal foil.
前記軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムは、前記ポリエチレンナフタレートフィルムと前記金属箔との剥離強度を高めるために、前記金属箔が積層される前の前記ポリエチレンナフタレートフィルムの前記第1の主面に、加熱により前記ポリエチレンナフタレートフィルムの前記第1の主面を軟化させる軟化剤を付着させる工程を経て得られる、請求項8に記載の金属箔付き絶縁フィルムの製造方法。   The polyethylene naphthalate film to which the softening agent is attached is the first main body of the polyethylene naphthalate film before the metal foil is laminated in order to increase the peel strength between the polyethylene naphthalate film and the metal foil. The manufacturing method of the insulating film with metal foil of Claim 8 obtained through the process of attaching the softener which softens the said 1st main surface of the said polyethylene naphthalate film to a surface by heating. 前記軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムは、前記熱伝導体が積層される前の前記ポリエチレンナフタレートフィルムの前記第2の主面に、前記熱伝導体に対する前記ポリエチレンナフタレートフィルムの密着性を向上させる密着性向上剤を付着させる工程を経て得られる、請求項8又は9に記載の金属箔付き絶縁フィルムの製造方法。   The polyethylene naphthalate film to which the softening agent is attached has adhesion of the polyethylene naphthalate film to the heat conductor on the second main surface of the polyethylene naphthalate film before the heat conductor is laminated. The manufacturing method of the insulating film with metal foil of Claim 8 or 9 obtained through the process of attaching the adhesive improvement agent to improve. 請求項1〜5のいずれか1項に記載の軟化剤が付着したポリエチレンナフタレートフィルムを用いて、前記ポリエチレンナフタレートフィルムの第1の主面に金属箔が積層されており、かつ前記ポリエチレンナフタレートフィルムの第2の主面に前記熱伝導体が積層されている積層構造体を得る積層構造体の製造方法であって、
前記ポリエチレンナフタレートフィルムの前記第1の主面側に金属箔を配置し、前記ポリエチレンナフタレートフィルムの前記第2の主面側に熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体を配置して、前記金属箔と前記ポリエチレンナフタレートフィルムと前記熱伝導体とを一体化させるか、
前記ポリエチレンナフタレートフィルムの前記第1の主面側に金属箔を配置して、前記金属箔と前記ポリエチレンナフタレートフィルムとを一体化させた後、前記ポリエチレンナフタレートフィルムの前記第2の主面側に熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体を配置して、前記金属箔と前記ポリエチレンナフタレートフィルムと前記熱伝導体とを一体化させるか、又は、
前記ポリエチレンナフタレートフィルムの前記第2の主面側に熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体を配置して、前記ポリエチレンナフタレートフィルムと前記熱伝導体とを一体化させた後、前記ポリエチレンナフタレートフィルムの前記第1の主面側に金属箔を配置して、前記金属箔と前記ポリエチレンナフタレートフィルムと前記熱伝導体とを一体化させる、積層構造体の製造方法。
A metal foil is laminated on a first main surface of the polyethylene naphthalate film using the polyethylene naphthalate film to which the softening agent according to any one of claims 1 to 5 is attached, and the polyethylene naphthalate film is laminated. A method for producing a laminated structure for obtaining a laminated structure in which the heat conductor is laminated on a second main surface of a phthalate film,
A metal foil is disposed on the first main surface side of the polyethylene naphthalate film, and a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more is disposed on the second main surface side of the polyethylene naphthalate film. Arrange and integrate the metal foil, the polyethylene naphthalate film and the thermal conductor,
After disposing a metal foil on the first main surface side of the polyethylene naphthalate film and integrating the metal foil and the polyethylene naphthalate film, the second main surface of the polyethylene naphthalate film A thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more on the side, and integrating the metal foil, the polyethylene naphthalate film, and the thermal conductor, or
A thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more is disposed on the second main surface side of the polyethylene naphthalate film, and the polyethylene naphthalate film and the thermal conductor are integrated. Then, the manufacturing method of a laminated structure which arrange | positions metal foil in the said 1st main surface side of the said polyethylene naphthalate film, and integrates the said metal foil, the said polyethylene naphthalate film, and the said heat conductor.
請求項7に記載の金属箔付き絶縁フィルムと、
前記金属箔付き絶縁フィルムにおける前記金属箔が積層された前記第1の主面とは反対の第2の主面に積層されており、かつ熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体とを備える、積層構造体。
Insulating film with metal foil according to claim 7,
Heat conduction that is laminated on the second main surface opposite to the first main surface on which the metal foil is laminated in the insulating film with metal foil and has a thermal conductivity of 10 W / m · K or more. A laminated structure comprising the body.
請求項8〜10のいずれか1項に記載の金属箔付き絶縁フィルムの製造方法により得られた金属箔付き絶縁フィルムと、
前記金属箔付き絶縁フィルムにおける前記金属箔が積層された前記第1の主面とは反対の第2の主面に積層されており、かつ熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体とを備える、積層構造体。
An insulating film with a metal foil obtained by the method for producing an insulating film with a metal foil according to any one of claims 8 to 10,
Heat conduction that is laminated on the second main surface opposite to the first main surface on which the metal foil is laminated in the insulating film with metal foil and has a thermal conductivity of 10 W / m · K or more. A laminated structure comprising the body.
JP2011263624A 2011-12-01 2011-12-01 Polyethylene naphthalate film to which softening agent is adhered, polyethylene naphthalate film which is softened, insulator film with metal foil, method of manufacturing insulator film with metal foil, method of manufacturing laminated structure, and laminated structure Pending JP2013116558A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011263624A JP2013116558A (en) 2011-12-01 2011-12-01 Polyethylene naphthalate film to which softening agent is adhered, polyethylene naphthalate film which is softened, insulator film with metal foil, method of manufacturing insulator film with metal foil, method of manufacturing laminated structure, and laminated structure

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011263624A JP2013116558A (en) 2011-12-01 2011-12-01 Polyethylene naphthalate film to which softening agent is adhered, polyethylene naphthalate film which is softened, insulator film with metal foil, method of manufacturing insulator film with metal foil, method of manufacturing laminated structure, and laminated structure

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2013116558A true JP2013116558A (en) 2013-06-13

Family

ID=48711463

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011263624A Pending JP2013116558A (en) 2011-12-01 2011-12-01 Polyethylene naphthalate film to which softening agent is adhered, polyethylene naphthalate film which is softened, insulator film with metal foil, method of manufacturing insulator film with metal foil, method of manufacturing laminated structure, and laminated structure

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2013116558A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018216229A1 (en) * 2017-05-22 2018-11-29 パナソニックIpマネジメント株式会社 Thermosetting resin composition, thermosetting sheet, semiconductor component, semiconductor package, method for producing semiconductor component, and method for producing semiconductor package
KR20190085997A (en) 2016-12-27 2019-07-19 니뽄 다바코 산교 가부시키가이샤 Heating type flavor aspirator

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190085997A (en) 2016-12-27 2019-07-19 니뽄 다바코 산교 가부시키가이샤 Heating type flavor aspirator
WO2018216229A1 (en) * 2017-05-22 2018-11-29 パナソニックIpマネジメント株式会社 Thermosetting resin composition, thermosetting sheet, semiconductor component, semiconductor package, method for producing semiconductor component, and method for producing semiconductor package
JP2018195789A (en) * 2017-05-22 2018-12-06 パナソニックIpマネジメント株式会社 Thermosetting resin composition, thermosetting sheet, semiconductor component, semiconductor packaging product, manufacturing method of semiconductor component, and manufacturing method of semiconductor component

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101625422B1 (en) Curable heat radiation composition
KR102128703B1 (en) Method for manufacturing component-embedded wiring board and semiconductor device
JP5078644B2 (en) Resin sheet for optical semiconductor element sealing and optical semiconductor device
TWI677529B (en) Epoxy resin composition, film-like epoxy resin composition, hardened material, and electronic device
JP2009049062A (en) Method of manufacturing substrate for metal base circuit, and substrate for metal base circuit
KR102308969B1 (en) Process for producing film for encapsulating parts
KR102186664B1 (en) Process for the production of laminates
JP5870934B2 (en) Method for manufacturing metal-based circuit board
JP2015106698A (en) Method for manufacturing semiconductor device
JP2013014671A (en) Resin composition sheet, resin composition sheet with metal foil, metal base wiring board material, metal base wiring board and electronic member
TWI641655B (en) Resin sheet,support with attached resin layer,laminate,and metal-clad laminate
JP2013145790A (en) Bent wiring board, populated bent wiring board, and metal layer-attached insulating layer for use in the same
WO2015056555A1 (en) Metal substrate, metal-based circuit board, electronic device, and method for manufacturing metal-based circuit board
JP2014084458A (en) Laminated base material, method of manufacturing substrate using the same, and substrate
JP5540814B2 (en) Adhesive sheet
KR20130081655A (en) Method of manufacturing metal-base substrate and method of manufacturing circuit board
JP6123232B2 (en) Release polyimide film and method for producing multilayer printed wiring board
JP5030103B2 (en) Method of manufacturing metal base circuit board for light emitting element and metal base circuit board for light emitting element
JP2013116558A (en) Polyethylene naphthalate film to which softening agent is adhered, polyethylene naphthalate film which is softened, insulator film with metal foil, method of manufacturing insulator film with metal foil, method of manufacturing laminated structure, and laminated structure
TW201841556A (en) Circuit board which achieves both reduction in a dielectric constant of an insulating layer for forming a high frequency circuit, and excellent adhesion of the insulating layer to an inner layer substrate
TW201806755A (en) Copper-clad laminate and production method for same
TWI773796B (en) resin composition
JP5682554B2 (en) Metal support flexible substrate and metal support carrier tape for tape automated bonding using the same, metal support flexible circuit substrate for LED mounting, and metal support flexible circuit substrate laminated with copper foil for circuit formation
JP5540815B2 (en) Flexible printed circuit board and reinforced flexible printed circuit board
JP5564782B2 (en) Adhesive composition, film adhesive, adhesive sheet and semiconductor device