JP2013030658A - Method for manufacturing electronic device module - Google Patents

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Kunihiro Takei
邦浩 武井
Hirokazu Iizuka
宏和 飯塚
Masako Yamada
雅子 山田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing an electronic device module capable of simply performing formation and adhesion of a spacer for maintaining an interval between facing adherends and improving productivity.SOLUTION: An adhesive film laminate 1A comprises: an adhesive film laminate 1A including an adhesive film 2 consisting of a three layer system that adhesive layers 2b and 2c made of a thermosetting epoxy-system adhesive are formed on both surfaces of a base material 2a consisting of a heat resistant resin film; a release film 3 having an adhesive layer bonded to the adhesive layer 2b or a release agent layer 3b; and a carrier film 4 having an adhesive layer 4b bonded to the adhesive layer 2c. The adhesive film laminate 1A prepared by heat-treating the epoxy-system adhesive solid and flexible at 25°C into a semi-cured state and die-cutting the adhesive film 2 in accordance with a dimension pattern of an electronic device is two-dimensionally arranged on the carrier film 4. The peeling film 3 is peeled to fix the adhesive layer 2b to a substrate and the carrier film 4 is peeled to transfer the die-cut adhesive film 5 on a substrate.

Description

本発明は、電子機器や電子部品をプリント基板や光学ガラス板などの基板に接着して電子機器モジュールなどに組み立てるのに用いられる接着フィルムを用いた電子機器モジュールの製造方法に関する。
特に本発明は、例えば、有機EL素子などの発光素子や表示素子を電子機器モジュールに組み立てるための、光学ガラス板などの基板に接着するのに用いられる接着フィルムを用いた電子機器モジュールの製造方法に関する。
The present invention relates to a method for manufacturing an electronic device module using an adhesive film used for assembling an electronic device or an electronic component on a substrate such as a printed circuit board or an optical glass plate to assemble the electronic device module.
In particular, the present invention relates to a method for manufacturing an electronic device module using an adhesive film used for bonding to a substrate such as an optical glass plate for assembling a light emitting device such as an organic EL device or a display device into the electronic device module. About.

従来、半導体装置の組立の際、基板や部品を接着する接着剤として、液状の接着剤のほか、シート状に成形された接着シートが知られている(例えば特許文献1,2)。
特許文献1の段落0031〜0034には、柔軟性エポキシ樹脂、柔軟性硬化剤、シランカップリング剤、潜在性触媒を配合してなる接着体を3層または多層にして、中心層はシランカップリング剤を含まず、応力を緩和する機能に優れ、最外層はシランカップリング剤を含んで、被接着物との接着力が大きくなるようにした構成の柔軟性接着体が記載されている。
特許文献2の段落0005〜0011には、エポキシ樹脂及び硬化剤と、シロキサン変性ポリアミドイミドと、分子量5万以上のゴム成分を含有する接着剤組成物を基材フィルムに塗布し、半硬化状態に熱処理後、基材フィルムから剥離して用いる熱硬化性耐熱接着フィルムが記載されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as an adhesive for bonding a substrate or a component when assembling a semiconductor device, an adhesive sheet formed into a sheet shape is known in addition to a liquid adhesive (for example, Patent Documents 1 and 2).
In paragraphs 0031 to 0034 of Patent Document 1, an adhesive comprising a flexible epoxy resin, a flexible curing agent, a silane coupling agent, and a latent catalyst is formed into three or multiple layers, and the central layer is a silane coupling. There is described a flexible adhesive having a structure that does not contain an agent and has an excellent function of relieving stress, and the outermost layer contains a silane coupling agent so that the adhesive force with an adherend is increased.
In paragraphs 0005 to 0011 of Patent Document 2, an adhesive composition containing an epoxy resin and a curing agent, a siloxane-modified polyamideimide, and a rubber component having a molecular weight of 50,000 or more is applied to a base film to be in a semi-cured state. A thermosetting heat-resistant adhesive film is described that is used after peeling from a base film after heat treatment.

また、従来、光学ガラス板やガスバリアフィルムなどの表面保護層に有機EL素子や半導体素子の外周部を接着する方法としては、光学ガラス板やガスバリアフィルムなどの表面保護層に液状封止剤をディスペンサにて塗布して有機EL素子や半導体素子の外周部に貼合する方法(例えば特許文献3,4)や、ガラス板などの第1の板状部材に光硬化性接着剤を用いた接着フィルムを貼合した後、露光・現像によってパターニングし、その後で所定の寸法にてパターニングされた該光硬化性接着剤層からなるリブ材に、第2の板状部材を直接に貼合する方法(例えば特許文献5)が知られている。   Conventionally, as a method for bonding the outer peripheral portion of an organic EL element or a semiconductor element to a surface protective layer such as an optical glass plate or a gas barrier film, a liquid sealant is dispensed to the surface protective layer such as an optical glass plate or a gas barrier film. A method of applying the coating on the outer peripheral portion of an organic EL element or a semiconductor element (for example, Patent Documents 3 and 4), or an adhesive film using a photocurable adhesive for a first plate member such as a glass plate After bonding, the second plate-shaped member is directly bonded to the rib material composed of the photocurable adhesive layer patterned by exposure / development and then patterned with a predetermined dimension ( For example, Patent Document 5) is known.

特許文献3の段落0011および図1,2には、有機EL素子周囲の基板上に、厚みを保持するためにフィラーを含有した紫外線硬化性または熱硬化性の液状接着剤が有機EL素子を取り囲むように塗付され、無機バリア膜を有する可撓性フィルムを付着し、密封された有機ELパネルが記載されている。
特許文献4の段落0010〜0011および図4には、ガラス層にスペーサが形成され、さらにマイクロレンズアレイを具備するシリコン基材の上部にエポキシなどの接着剤で密封されて、マイクロレンズアレイとガラス層の間に空間が形成された半導体モジュールが記載されている。
In paragraphs 0011 and FIGS. 1 and 2 of Patent Document 3, an ultraviolet curable or thermosetting liquid adhesive containing a filler to maintain the thickness surrounds the organic EL element on the substrate around the organic EL element. An organic EL panel is described which is applied and sealed with a flexible film having an inorganic barrier film attached thereto.
In paragraphs 0010 to 0011 of FIG. 4 and FIG. 4, spacers are formed on the glass layer, and the microlens array and the glass are sealed with an adhesive such as an epoxy on the top of the silicon substrate having the microlens array. A semiconductor module is described in which a space is formed between the layers.

特許文献5の段落0016〜0023および図1には、ガラス板などの基板の表面上に設けられたフィルム状の感光性接着剤からフォトリソグラフィーを用いてパターニングすることで、基板との接着と、有効領域を囲む空間を確保するためのスペーサとして機能する接着層を形成する表示装置の製造方法が記載されている。
また、特許文献6の段落0053〜0055、0078および図2には、ガラス板などの支持基板の上に有機EL層が形成され、接着剤を介して光透過性を有する封止基板が積層された発光装置について、接着剤を用いた封止方法が記載されている。
In paragraphs 0016 to 0023 and FIG. 1 of Patent Document 5, patterning using a photolithography from a film-like photosensitive adhesive provided on the surface of a substrate such as a glass plate, and adhesion to the substrate, A method for manufacturing a display device is described in which an adhesive layer that functions as a spacer for securing a space surrounding an effective area is formed.
Further, in paragraphs 0053 to 0055, 0078 and FIG. 2 of Patent Document 6, an organic EL layer is formed on a supporting substrate such as a glass plate, and a sealing substrate having optical transparency is laminated via an adhesive. For the light emitting device, a sealing method using an adhesive is described.

特開平11−124557号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-124557 特開2002−161261号公報JP 2002-161261 A 特開2007−059311号公報JP 2007-059311 A 特開2006−210888号公報JP 2006-210888 A 特開2009−140666号公報JP 2009-140666 A 特開2010−045011号公報JP 2010-045011 A

しかしながら、特許文献1に記載の接着シートは、半導体装置の組立或いは使用時に発生する熱による応力を緩和するため、ゴム弾性を有する柔軟性エポキシ樹脂を含有する構成である。実施例1では、内厚150μmのシートを25mm角に打ち抜いて使用している。しかしながら、小型の光学ガラス板に表示素子を接着する場合のように、被着体同士の間に空間を形成してその周囲を接着する場合には、ゴム弾性を有する層の厚みを大きくした場合、熱による応力を緩和するには有利であるとしても、弾性変形に伴う厚みの変動が大きく、スペーサのように厚みを所定の寸法から変形しないように維持するのは困難と考えられる。   However, the adhesive sheet described in Patent Document 1 includes a flexible epoxy resin having rubber elasticity in order to relieve stress due to heat generated during assembly or use of the semiconductor device. In Example 1, a sheet having an inner thickness of 150 μm is punched into a 25 mm square and used. However, in the case where a space is formed between adherends and the periphery thereof is bonded as in the case of bonding a display element to a small optical glass plate, the thickness of the layer having rubber elasticity is increased. Even if it is advantageous to relieve stress due to heat, the thickness variation due to elastic deformation is large, and it is considered difficult to maintain the thickness from being deformed from a predetermined dimension like a spacer.

また、特許文献2に記載の耐熱接着フィルムは、室温で固形のエポキシ樹脂にシロキサン変性ポリアミドイミドとゴム成分を添加して、硬化物の耐熱性と密着性を向上したものである。しかし、接着剤の厚みは、実施例で25μmとされている以外には特に記載はなく、光学ガラス板に表示素子を接着する場合のように、被着体同士の間に所定の厚みの空間を形成してその周囲を接着する用途への適用は意図されていない。
また、特許文献3に記載のモジュールは、液状接着剤を精密にパターン塗布する必要があるため、液状接着剤の塗布工程に不良が発生すると、高価な有機EL素子を使用不能にしてしまうという廃棄損失(ロス)の問題がある。
Moreover, the heat resistant adhesive film described in Patent Document 2 is obtained by adding a siloxane-modified polyamideimide and a rubber component to a solid epoxy resin at room temperature to improve the heat resistance and adhesion of a cured product. However, the thickness of the adhesive is not particularly described except that it is 25 μm in the embodiment, and a space having a predetermined thickness is formed between the adherends as in the case of bonding the display element to the optical glass plate. It is not intended to be used for applications in which it is formed and its periphery is adhered.
In addition, since the module described in Patent Document 3 needs to apply a liquid adhesive with a precise pattern, disposal of an expensive organic EL element becomes unusable if a defect occurs in the liquid adhesive application process. There is a problem of loss.

特許文献4に記載のモジュールは、接着剤のほかにスペーサとなる支持体の構造物を形成する必要がある。光学ガラス板上のスペーサ形成工程の後に、液状接着剤の塗布工程を行うため、工程が複雑になり、液状接着剤の塗布工程に不良が発生すると、高価な光学用ガラス板を使用不能にしてしまうという廃棄損失(ロス)の問題がある。
特許文献5に記載の表示装置の製造方法は、接着剤のパターンを形成するためのリソグラフィー工程において、パターニングの際に露光不良が発生すると、ガラス板を使用不能にしてしまうという廃棄損失(ロス)の問題がある。また、特許文献5の段落0105〜0106に記載されているように、厚みが100μmを超えると感光性接着フィルム中の残存揮発分が多くなり、発泡に起因する耐湿信頼性が低下する問題がある。
In the module described in Patent Document 4, it is necessary to form a support structure serving as a spacer in addition to the adhesive. Since the liquid adhesive application process is performed after the spacer formation process on the optical glass plate, the process becomes complicated, and if a defect occurs in the liquid adhesive application process, the expensive optical glass plate is made unusable. There is a problem of disposal loss.
In the manufacturing method of the display device described in Patent Document 5, in a lithography process for forming an adhesive pattern, if an exposure failure occurs during patterning, the glass plate becomes unusable (loss). There is a problem. In addition, as described in paragraphs 0105 to 0106 of Patent Document 5, when the thickness exceeds 100 μm, there is a problem that residual volatile matter in the photosensitive adhesive film is increased and moisture resistance reliability due to foaming is lowered. .

特許文献6に記載の発光装置の封止方法において、接着剤は、エポキシ樹脂等の光硬化性接着剤や熱硬化性接着剤を用いることができ、また、例えば熱硬化性の接着シートを用いることもできるとしている。また、特許文献6の段落0078には、有機EL素子の支持基板上の画素の周囲にガラススペーサ(直径:300μm)を分散させた感光性エポキシ樹脂接着剤を塗布した後、封止基板を押付け、UVランプを用いてエポキシ樹脂接着剤を硬化させ、有機EL発光装置を得ることが記載されているが、接着剤層の厚みが数百μm程度に厚くなると、接着剤層の全体を均一にUV硬化させるのが困難になるという問題がある。   In the method for sealing a light emitting device described in Patent Document 6, a photocurable adhesive such as an epoxy resin or a thermosetting adhesive can be used as the adhesive, and for example, a thermosetting adhesive sheet is used. It can also be done. Further, in paragraph 0078 of Patent Document 6, after applying a photosensitive epoxy resin adhesive in which a glass spacer (diameter: 300 μm) is dispersed around pixels on a support substrate of an organic EL element, the sealing substrate is pressed. , It is described that an epoxy resin adhesive is cured using a UV lamp to obtain an organic EL light emitting device. However, when the thickness of the adhesive layer is increased to about several hundred μm, the entire adhesive layer is made uniform. There is a problem that it is difficult to cure by UV.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、対向する被着体間の間隔を維持するスペーサの形成および接着を簡便に行うことができ、生産性を向上できる電子機器モジュールの製造方法を提供することを課題とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and can easily form and bond a spacer that maintains a distance between opposing adherends, and can improve productivity. It is an issue to provide.

前記課題を解決するため、本発明は、接着フィルム2の接着剤層2b,2cは可撓性を有し、熱膨張率の異なる、例えば光学ガラス板と半導体基板などの被着体の貼合に用いても、貼合時からの温度変化と熱膨張率の差による変位に追従し、また、基材2aへのせん断応力を吸収して、両被着体との間の接着の破壊を抑制するための接着フィルム積層体を用いた、電子機器モジュールの製造方法を提供する。   In order to solve the above-described problems, the present invention is directed to bonding of adherends such as an optical glass plate and a semiconductor substrate having adhesive layers 2b and 2c of an adhesive film 2 having flexibility and different thermal expansion coefficients Even if it is used for, it follows the displacement due to the difference between the temperature change and the coefficient of thermal expansion from the time of bonding, and absorbs the shear stress to the base material 2a, thereby destroying the adhesion between both adherends. An electronic device module manufacturing method using an adhesive film laminate for suppression is provided.

前記課題を解決するため、本発明は、電子機器と基板とを貼合して電子機器モジュールを製造する方法であって、下記(1)〜(4)の工程を含むことを特徴とする電子機器モジュールの製造方法を提供する。
(1)耐熱性樹脂フィルムからなる基材の両面に、それぞれ熱硬化性のエポキシ系接着剤からなる第1の接着剤層および第2の接着剤層が形成された3層構造からなる接着フィルムと、前記第1の接着剤層に貼合された粘着剤層または剥離剤層を有する剥離フィルムと、前記第2の接着剤層に貼合された粘着剤層を有するキャリアフィルムとを備え、前記接着フィルムの基材は、厚みが20〜500μmであり、第1の接着剤層および第2の接着剤層は、それぞれ厚みが5〜50μmであって完全に硬化した状態においても可撓性を有し、前記エポキシ系接着剤が半硬化状態に熱処理されてなり25℃において可撓性を有した固体状であり、前記接着フィルムが、電子機器の寸法パターンに合わせて型抜きされ、前記キャリアフィルムの上に2次元的に配設されてなる接着フィルム積層体を準備する工程、
(2)前記接着フィルム積層体から前記剥離フィルムを剥がした後、前記キャリアフィルム上の前記型抜きされた接着フィルムを基板の上に重ね合わせ、加熱処理により前記第1の接着剤層の接着力を発現して前記基板に固定し、さらに前記キャリアフィルムを剥離することにより、前記型抜きされた接着フィルムを前記基板上に転写する工程、
(3)前記型抜きされた接着フィルムが転写された前記基板を、電子機器の寸法パターンに合わせて小片にダイシングする工程、
(4)前記小片に転写されている前記型抜きされた接着フィルムの前記第2の接着剤層の上に電子機器を重ね合わせ、加熱処理により前記第2の接着剤層の接着力を発現して前記電子機器に固定し、前記基板の小片と前記電子機器とを前記型抜きされた接着フィルムを介して接着し、電子機器モジュールに組み立てる工程。
In order to solve the above-described problems, the present invention is a method for manufacturing an electronic device module by bonding an electronic device and a substrate, and includes the following steps (1) to (4): An apparatus module manufacturing method is provided.
(1) Adhesive film having a three-layer structure in which a first adhesive layer and a second adhesive layer each made of a thermosetting epoxy adhesive are formed on both surfaces of a base material made of a heat-resistant resin film. And a release film having a pressure-sensitive adhesive layer or a release agent layer bonded to the first adhesive layer, and a carrier film having a pressure-sensitive adhesive layer bonded to the second adhesive layer, The base material of the adhesive film has a thickness of 20 to 500 μm, and the first adhesive layer and the second adhesive layer have a thickness of 5 to 50 μm and are flexible even in a completely cured state. The epoxy adhesive is heat-treated in a semi-cured state and is a solid having flexibility at 25 ° C., and the adhesive film is punched in accordance with a dimensional pattern of an electronic device, 2 on the carrier film Preparing an adhesive film laminate that is dimensionally arranged;
(2) After peeling off the release film from the adhesive film laminate, the die-cut adhesive film on the carrier film is superposed on a substrate, and the adhesive force of the first adhesive layer by heat treatment Expressing and fixing to the substrate and further peeling the carrier film to transfer the die-cut adhesive film onto the substrate,
(3) a step of dicing the substrate onto which the die-cut adhesive film has been transferred into small pieces in accordance with a dimensional pattern of an electronic device;
(4) An electronic device is overlaid on the second adhesive layer of the die-cut adhesive film transferred to the small piece, and the adhesive force of the second adhesive layer is expressed by heat treatment. Fixing to the electronic device, bonding the small piece of the substrate and the electronic device through the die-cut adhesive film, and assembling the electronic device module.

また、本発明は、電子機器と基板とを貼合して電子機器モジュールを製造する方法であって、下記(1)〜(4)の工程を含むことを特徴とする電子機器モジュールの製造方法を提供する。
(1)耐熱性樹脂フィルムからなる基材の両面に、それぞれ熱硬化性のエポキシ系接着剤からなる第1の接着剤層および第2の接着剤層が形成された3層構造からなる接着フィルムと、前記第1の接着剤層に貼合された粘着剤層または剥離剤層を有する剥離フィルムと、前記第2の接着剤層に貼合された粘着剤層を有するキャリアフィルムとを備え、前記接着フィルムの基材は、厚みが20〜500μmであり、前記エポキシ系接着剤が半硬化状態に熱処理されてなり25℃において可撓性を有した固体状であり、前記接着フィルムが、電子機器の寸法パターンに合わせて型抜きされ、前記キャリアフィルムの上に2次元的に配設されてなる接着フィルム積層体を準備する工程、
(2)前記接着フィルム積層体から前記剥離フィルムを剥がした後、前記キャリアフィルム上の前記型抜きされた接着フィルムを基板の上に重ね合わせ、加熱処理により前記第1の接着剤層の接着力を発現して前記基板に固定し、さらに前記キャリアフィルムを剥離することにより、前記型抜きされた接着フィルムを前記基板上に転写する工程、
(3)前記基板に転写されている前記型抜きされた接着フィルムの前記第2の接着剤層の上に電子機器を重ね合わせ、加熱処理により前記第2の接着剤層の接着力を発現して前記電子機器に固定し、前記基板と前記電子機器とを前記型抜きされた接着フィルムを介して接着する工程、
(4)前記型抜きされた接着フィルムを介して前記電子機器が接着された前記基板を、電子機器の寸法パターンに合わせて小片にダイシングし、電子機器モジュールに組み立てる工程。
Moreover, this invention is a method of bonding an electronic device and a board | substrate, and manufacturing an electronic device module, Comprising: The manufacturing method of the electronic device module characterized by including the process of following (1)-(4) I will provide a.
(1) Adhesive film having a three-layer structure in which a first adhesive layer and a second adhesive layer each made of a thermosetting epoxy adhesive are formed on both surfaces of a base material made of a heat-resistant resin film. And a release film having a pressure-sensitive adhesive layer or a release agent layer bonded to the first adhesive layer, and a carrier film having a pressure-sensitive adhesive layer bonded to the second adhesive layer, The base material of the adhesive film has a thickness of 20 to 500 μm, the epoxy adhesive is heat-treated in a semi-cured state, is a solid having flexibility at 25 ° C., and the adhesive film is an electronic A step of preparing an adhesive film laminate that is die-cut according to the dimensional pattern of the device and arranged two-dimensionally on the carrier film;
(2) After peeling off the release film from the adhesive film laminate, the die-cut adhesive film on the carrier film is superposed on a substrate, and the adhesive force of the first adhesive layer by heat treatment Expressing and fixing to the substrate and further peeling the carrier film to transfer the die-cut adhesive film onto the substrate,
(3) An electronic device is overlaid on the second adhesive layer of the die-cut adhesive film transferred to the substrate, and the adhesive force of the second adhesive layer is expressed by heat treatment. Fixing to the electronic device, and bonding the substrate and the electronic device via the die-cut adhesive film,
(4) The process of dicing the board | substrate with which the said electronic device was adhere | attached through the said die-cut adhesive film according to the dimension pattern of an electronic device, and assembling it to an electronic device module.

前記電子機器が発光素子または表示素子であり、前記基板が光学ガラス板であることが好ましい。   It is preferable that the electronic device is a light emitting element or a display element, and the substrate is an optical glass plate.

本発明によれば、被着体への貼合前に打ち抜き等で接着フィルムのパターニングが可能であり、接着フィルムは、2つの被着体の間に配置して圧着することで貼合可能なので、被着体上での接着フィルムのパターニングが不要となる。これにより、パターニング不良による被着体のロスが発生せず、製造コストの大幅な節減が期待できる。また、液状接着剤をディスペンサから塗布するときのように接着剤の幅の広がりが生じて、接着剤が不必要な部分まで塗布される恐れがない。
また、2つの被着体同士の間隔が大きい場合であっても、本発明の3層構造からなる接着フィルムの中間層である基材の厚みを増大させて接着フィルムの厚みを大きくすることができるので、高価な接着剤を節約し、コスト増を抑制することができる。
接着フィルムが、電子機器の寸法パターンに合わせて型抜きされ、キャリアフィルムの上に2次元的に配設されているので、1つの基板に多数の接着フィルムを一度に転写することができ、生産性を大幅に向上することができる。
According to the present invention, patterning of an adhesive film is possible by punching before bonding to an adherend, and the adhesive film can be bonded by placing and bonding between two adherends. The patterning of the adhesive film on the adherend becomes unnecessary. Thereby, the loss of the adherend due to poor patterning does not occur, and a significant reduction in manufacturing cost can be expected. Further, the width of the adhesive is increased as in the case where the liquid adhesive is applied from the dispenser, and there is no possibility that the adhesive is applied to unnecessary portions.
Further, even when the interval between two adherends is large, the thickness of the adhesive film can be increased by increasing the thickness of the base material that is the intermediate layer of the adhesive film having the three-layer structure of the present invention. Therefore, it is possible to save an expensive adhesive and suppress an increase in cost.
Since the adhesive film is die-cut according to the dimensional pattern of the electronic device and is two-dimensionally arranged on the carrier film, a large number of adhesive films can be transferred to one substrate at a time. Can greatly improve the performance.

また、電子機器モジュールを製造するとき、絶縁封止用の樹脂をモールドしたり(加工時の操作温度は、例えば180℃程度)、回路配線を接続するための半田をリフローさせたり(加工時の操作温度は、例えば260℃程度)する必要があるが、本発明に係わる接着フィルム積層体は、耐熱性に優れるので、電子機器モジュールの製造工程における熱履歴によって劣化しにくく、接着性能の変化が小さい。
また、本発明に係わる接着フィルム積層体のエポキシ接着剤は、完全に硬化した状態においても可撓性を有するため、熱膨張率の異なる被着体、例えば光学ガラス板と半導体基板などの貼合に用いても、貼合時からの温度変化と熱膨張率の差による変位に追従し、また、中間層である基材へのせん断応力を吸収して、両被着体との間の接着の破壊を抑制することができる。
Further, when manufacturing an electronic device module, a resin for insulating sealing is molded (the operation temperature during processing is about 180 ° C., for example), or solder for connecting circuit wiring is reflowed (when processing is performed). However, since the adhesive film laminate according to the present invention is excellent in heat resistance, it is difficult to deteriorate due to the heat history in the manufacturing process of the electronic device module, and the adhesive performance changes. small.
In addition, since the epoxy adhesive of the adhesive film laminate according to the present invention is flexible even in a completely cured state, it adheres to adherends having different coefficients of thermal expansion, such as optical glass plates and semiconductor substrates. Even if it is used for, it follows the displacement due to the difference between the temperature change from the time of bonding and the coefficient of thermal expansion, and absorbs the shear stress to the base material which is the intermediate layer, and adheres to both adherends Can be prevented from breaking.

本発明で用いられる接着フィルム積層体の第1の形態例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the 1st example of an adhesive film laminated body used by this invention. 本発明の接着フィルム積層体において枠状に打ち抜かれた接着フィルムの一例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows an example of the adhesive film punched in frame shape in the adhesive film laminated body of this invention. 本発明の接着フィルム積層体における接着フィルムのパターンの一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the pattern of the adhesive film in the adhesive film laminated body of this invention. 接着フィルムが型抜きされる前の接着フィルム積層体の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the adhesive film laminated body before an adhesive film is die-cut. 本発明の接着フィルム積層体の第2の形態例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the 2nd example of an adhesive film laminated body of this invention. 図5に示す接着フィルム積層体の剥離フィルムを剥がして光学ガラス板に貼合した状態の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the state which peeled off the peeling film of the adhesive film laminated body shown in FIG. 5, and was bonded to the optical glass plate. 光学ガラス板に型抜きされた接着フィルムを転写した状態の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the state which transcribe | transferred the adhesive film stamped on the optical glass plate. 型抜きされた接着フィルムが仮固定された光学ガラス板の小片の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the small piece of the optical glass plate to which the die-cut adhesive film was temporarily fixed. 接着フィルムを介して電子機器が接着された光学ガラス板の小片の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the small piece of the optical glass plate to which the electronic device was adhere | attached through the adhesive film. 接着フィルムを介して電子機器が接着された光学ガラス板の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the optical glass plate to which the electronic device was adhere | attached through the adhesive film. 接着フィルムを介して電子機器が接着された光学ガラス板の小片の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the small piece of the optical glass plate to which the electronic device was adhere | attached through the adhesive film.

以下、好適な実施の形態に基づき、本発明を説明する。
図1に示すように、本形態例の電子機器モジュールの製造方法で用いられる接着フィルム積層体1Aは、耐熱性樹脂フィルムからなる基材2aの両面に、それぞれ熱硬化性のエポキシ系接着剤からなる第1の接着剤層2bおよび第2の接着剤層2cが形成された3層構造からなる接着フィルム2と、第1の接着剤層2bに貼合された第1の粘着剤層または剥離剤層3bを有する剥離フィルム3と、第2の接着剤層2cに貼合された第2の粘着剤層4bを有するキャリアフィルム4とを備える。
Hereinafter, the present invention will be described based on preferred embodiments.
As shown in FIG. 1, an adhesive film laminate 1 </ b> A used in the method for manufacturing an electronic device module according to the present embodiment is formed from a thermosetting epoxy adhesive on both surfaces of a base material 2 a made of a heat resistant resin film. An adhesive film 2 having a three-layer structure in which a first adhesive layer 2b and a second adhesive layer 2c are formed, and a first pressure-sensitive adhesive layer or a release layer bonded to the first adhesive layer 2b. The peeling film 3 which has the agent layer 3b, and the carrier film 4 which has the 2nd adhesive layer 4b bonded by the 2nd adhesive layer 2c are provided.

そして、接着フィルム2の基材2aは、厚みが20〜500μmであり、第1の接着剤層2bおよび第2の接着剤層2cは、それぞれ厚みが5〜50μmであって完全に硬化した状態においても可撓性のある熱硬化性のエポキシ系接着剤層が形成されてなる3層構造からなり、前記エポキシ系接着剤層が、半硬化状態に熱処理されてなり25℃において可撓性を有した固体状である。
また、本発明に係わる熱硬化性のエポキシ系接着剤層は、完全に硬化した状態において25℃、1Hzでの貯蔵弾性率(E’)が1.0〜1800MPaであり、完全に硬化した状態にての折り曲げ評価試験において、複数回の折り曲げ操作によっても破壊することが無く可撓性を有する。
図1〜3に示すように、接着フィルム2が、電子機器の寸法パターンに合わせて型抜きされ、多数の型抜き形状5がキャリアフィルム4の上に2次元的に配設されている。
The substrate 2a of the adhesive film 2 has a thickness of 20 to 500 μm, and the first adhesive layer 2b and the second adhesive layer 2c have a thickness of 5 to 50 μm and are completely cured, respectively. Also has a three-layer structure in which a flexible thermosetting epoxy adhesive layer is formed, and the epoxy adhesive layer is heat-treated in a semi-cured state and has flexibility at 25 ° C. It has a solid state.
In addition, the thermosetting epoxy adhesive layer according to the present invention has a storage elastic modulus (E ′) at 25 ° C. and 1 Hz of 1.0 to 1800 MPa in a completely cured state, and is a completely cured state. In the bending evaluation test at, it is flexible without being broken even by a plurality of bending operations.
As shown in FIGS. 1 to 3, the adhesive film 2 is die-cut according to the dimensional pattern of the electronic device, and a number of die-cut shapes 5 are two-dimensionally arranged on the carrier film 4.

接着フィルム2の基材2aとしては、耐熱性樹脂フィルムが用いられる。基材2aに要求される耐熱性とは、分解開始温度が少なくとも200℃以上であることをいい、接着フィルムを被着体に貼合した後のプロセス中に受ける熱処理の温度に応じて設定される。
耐熱性樹脂フィルムを構成する耐熱性樹脂は、融点が180℃以上のものが選ばれる。このような耐熱性樹脂の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)やポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリフェニレンスルフィド(PPS)等が挙げられる。
As the base material 2a of the adhesive film 2, a heat resistant resin film is used. The heat resistance required for the substrate 2a means that the decomposition start temperature is at least 200 ° C., and is set according to the temperature of the heat treatment received during the process after the adhesive film is bonded to the adherend. The
As the heat resistant resin constituting the heat resistant resin film, one having a melting point of 180 ° C. or higher is selected. Specific examples of such heat resistant resins include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polyether ether ketone (PEEK), polyphenylene sulfide (PPS), and the like.

接着フィルム2の基材2aの両面に設けられる接着剤層2b,2cは、半硬化状態(硬化率50%)での線形領域内のひずみを付加し、周波数1Hzにおける貯蔵弾性率が2.0KPa〜350KPaであり、完全に硬化した状態においてひずみ依存性測定を行った際の25℃、1Hzでの線形領域内の貯蔵弾性率(E’)が1.0〜1800MPaである熱硬化性のエポキシ系接着剤層2b,2cからなる。
また、接着剤層2b,2cは、電子機器モジュールを製造するとき、絶縁封止用の樹脂をモールドしたり(例えば180℃程度の操作温度で行う)、回路配線を接続するための半田をリフローさせたり(例えば260℃程度)する温度においてアウトガスが発生しない熱硬化性のエポキシ系接着剤層3,4からなるものが好ましい。
具体例としてはDIC(株)製エピクロンEXA−4816等である。
The adhesive layers 2b and 2c provided on both surfaces of the substrate 2a of the adhesive film 2 add strain in the linear region in a semi-cured state (curing rate 50%), and the storage elastic modulus at a frequency of 1 Hz is 2.0 KPa. Thermosetting epoxy having a storage elastic modulus (E ′) in a linear region at 25 ° C. and 1 Hz at a temperature of 25 ° C. and 1 Hz when a strain dependency measurement is performed in a completely cured state. It consists of system adhesive layers 2b and 2c.
The adhesive layers 2b and 2c are formed by molding an insulating sealing resin (for example, at an operation temperature of about 180 ° C.) or reflowing solder for connecting circuit wiring when manufacturing an electronic device module. What consists of the thermosetting epoxy-type adhesive layers 3 and 4 which do not generate | occur | produce outgas at the temperature to make (for example, about 260 degreeC) is preferable.
Specific examples include Epicron EXA-4816 manufactured by DIC Corporation.

接着剤層2b、2cに用いるエポキシ系接着剤としては、耐熱性と可撓性に優れるものが用いられる。このようなエポキシ樹脂としては、脂肪鎖変性エポキシ樹脂、シクロペンタジエン変性エポキシ樹脂やナフタレン変性エポキシ樹脂等の炭化水素変性エポキシ樹脂、エラストマー変性エポキシ樹脂、シリコーン変性エポキシ樹脂等が挙げられる。
これらの樹脂の中で、1分子中に2以上のエポキシ基を有し、完全に硬化した状態での折り曲げ評価試験において、1回以上の折り曲げ操作に耐え得るエポキシ樹脂が、可撓性の点において好ましい。
この1分子中に2以上のエポキシ基を有し、折り曲げ評価試験において1回以上の折り曲げ操作に耐え得る可撓性を有するエポキシ樹脂としては、DIC(株)製エピクロン860、エピクロン900−IM、エピクロンEXA―4816、エピクロンEXA−4822、旭チバ(株)製アラルダイトAER280、東都化成(株)製エポトートYD−134、ジャパンエポキシレジン(株)製JER834、JER872、住友化学工業(株)製ELA−134等のビスフェノールA型エポキシ樹脂;DIC(株)製エピクロンHP−4032等のナフタレン型エポキシ樹脂;DIC(株)製エピクロンN−740等のフェノールノボラック型エポキシ樹脂等である。これらのエポキシ樹脂は1種類を用いるか、又は2種類以上を併用することができる。
これらの樹脂の中で特に好ましい具体例としては、DIC(株)の柔軟性エポキシ樹脂(商品名EPICLON(登録商標)EXA−4816)等が挙げられる。この柔軟性エポキシ樹脂は、長鎖炭化水素鎖とビスフェノールA骨格とを、アセタール結合(長鎖炭化水素鎖を有するジビニルエーテル)、エーテル結合、エステル結合、カーボネート結合等の官能基を介して交互に連結して高分子量化された2官能性フェノール化合物の両端のOH基をグリシジル化して得られる2官能性エポキシ化合物である。
As the epoxy adhesive used for the adhesive layers 2b and 2c, an adhesive having excellent heat resistance and flexibility is used. Examples of such epoxy resins include aliphatic chain-modified epoxy resins, hydrocarbon-modified epoxy resins such as cyclopentadiene-modified epoxy resins and naphthalene-modified epoxy resins, elastomer-modified epoxy resins, and silicone-modified epoxy resins.
Among these resins, an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule and capable of withstanding one or more bending operations in a bending evaluation test in a completely cured state is a point of flexibility. Is preferable.
As an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule and having a flexibility capable of withstanding one or more bending operations in the bending evaluation test, DIC Corporation Epicron 860, Epicron 900-IM, Epicron EXA-4816, Epicron EXA-4822, Araldite AER280 manufactured by Asahi Ciba Co., Ltd., Epototo YD-134 manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd. JER834 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., JER872, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. Bisphenol A type epoxy resin such as 134; naphthalene type epoxy resin such as Epicron HP-4032 manufactured by DIC Corporation; and phenol novolac type epoxy resin such as Epicron N-740 manufactured by DIC Corporation. These epoxy resins can be used alone or in combination of two or more.
Among these resins, a particularly preferable specific example is a flexible epoxy resin (trade name EPICLON (registered trademark) EXA-4816) manufactured by DIC Corporation. In this flexible epoxy resin, a long-chain hydrocarbon chain and a bisphenol A skeleton are alternately formed via functional groups such as an acetal bond (divinyl ether having a long-chain hydrocarbon chain), an ether bond, an ester bond, and a carbonate bond. It is a bifunctional epoxy compound obtained by glycidylating OH groups at both ends of a bifunctional phenol compound that has been linked to a high molecular weight.

エポキシ系接着剤には、適宜の添加剤を添加することができる。
硬化剤は、としては、メチルテトラヒドロ無水フタル酸(MTHPA)、ヘキサヒドロ無水フタル酸などの脂環式酸無水物、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸などの芳香族酸無水物、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、メタキシリレンジアミンなどの脂肪族ポリアミン、ジアミノジフェニルメタン、m−フェニレンジアミン、ジアミノジフェニルスルホンなどの芳香族ポリアミン、ジシアンジアミド、ポリフェノール化合物等が挙げられる。
硬化促進剤としては、ベンジルジメチルアミン(BDMA)などの第三級アミン、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール化合物等が挙げられる。
An appropriate additive can be added to the epoxy adhesive.
Curing agents include: cycloaliphatic acid anhydrides such as methyltetrahydrophthalic anhydride (MTHPA) and hexahydrophthalic anhydride, aromatic acid anhydrides such as trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, and benzophenonetetracarboxylic acid And aliphatic polyamines such as diethylenetriamine, triethylenetetramine and metaxylylenediamine, aromatic polyamines such as diaminodiphenylmethane, m-phenylenediamine and diaminodiphenylsulfone, dicyandiamide and polyphenol compounds.
Examples of the curing accelerator include tertiary amines such as benzyldimethylamine (BDMA), and imidazole compounds such as 2-methylimidazole and 2-ethyl-4-methylimidazole.

エポキシ系接着剤を基材2aに塗布する際、十分な流動性があれば無溶媒とすることも可能であるが、有機溶媒を添加することもできる。有機溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
基材2aの両面にエポキシ系接着剤を塗布する際は、片面の接着剤を塗布した後、他方の面の接着剤を塗布する前に、剥離フィルム3またはキャリアフィルム4のいずれかを塗布済みの接着剤層の上に貼合しても良い。
図4に、接着フィルム2が型抜きされる前の接着フィルム積層体1の断面図を示す。
When the epoxy adhesive is applied to the base material 2a, it can be made solvent-free if it has sufficient fluidity, but an organic solvent can also be added. Examples of the organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, and dimethylformamide.
When applying an epoxy adhesive on both sides of the substrate 2a, after applying the adhesive on one side, before applying the adhesive on the other side, either the release film 3 or the carrier film 4 has been applied. It may be pasted on the adhesive layer.
In FIG. 4, sectional drawing of the adhesive film laminated body 1 before the adhesive film 2 is die-cut is shown.

本形態例の接着フィルム積層体1Aおよび型抜き前の接着フィルム積層体1においては、接着剤層2b,2cを構成するエポキシ系接着剤は、接着フィルム2の基材2aの両面に塗布乾燥後、半硬化状態に熱処理されている。この結果、接着剤層2b,2cが25℃において可撓性を有した固体状であるため、図2に示すように、接着フィルム2の型抜きにより、内部に貫通穴状の空間6を有する枠状等の所望の形状を備える型抜き形状5に加工することが容易になる。液状物の塗布や、フォトリソグラフィーによる露光などに比べ、パターン形成の不良が起こりにくい。また、不良があっても、選択して除去することにより、被着物の廃棄損失(ロス)を避けることができる。   In the adhesive film laminate 1A of the present embodiment and the adhesive film laminate 1 before being punched, the epoxy adhesive constituting the adhesive layers 2b and 2c is applied and dried on both surfaces of the substrate 2a of the adhesive film 2 It is heat-treated in a semi-cured state. As a result, since the adhesive layers 2b and 2c are in a solid state having flexibility at 25 ° C., the adhesive film 2 has a through-hole-like space 6 as shown in FIG. It becomes easy to process into a die-cut shape 5 having a desired shape such as a frame shape. Pattern formation defects are less likely to occur compared to application of a liquid material or exposure by photolithography. In addition, even if there is a defect, it is possible to avoid the loss of loss of the adherend by selecting and removing it.

枠状の外周形状は、円形(丸枠)、四角形(四角枠)など特に限定されない。型抜きの方法は、打ち抜きや切断等、刃物を用いて不要な部分を除去する方法であれば良い。1つの型抜きされた接着フィルム5の内部に、複数の貫通穴状の空間6を設けることも可能である。
型抜きされた接着フィルム(型抜き形状)5の寸法は、貼合される電子機器など被着体の寸法パターンに合わせて設定することが好ましい。
刃物加工に適した半硬化状態を得るための熱処理は、通常の硬化条件よりも低温および/または短時間で完了させるものであり、エポキシ系接着剤の性質や性能に応じて適宜設定することができる。
The outer peripheral shape of the frame shape is not particularly limited, such as a circle (round frame) or a quadrangle (square frame). The die cutting method may be any method that removes unnecessary portions using a blade, such as punching or cutting. It is also possible to provide a plurality of through-hole-shaped spaces 6 in one die-cut adhesive film 5.
The size of the die-cut adhesive film (die-cut shape) 5 is preferably set according to the size pattern of the adherend such as the electronic device to be bonded.
The heat treatment for obtaining a semi-cured state suitable for blade processing is completed at a lower temperature and / or in a shorter time than normal curing conditions, and can be appropriately set according to the properties and performance of the epoxy adhesive. it can.

エポキシ系接着剤層2b,2cを構成するエポキシ系接着剤としては、温度90〜110℃において仮固定され、温度140〜160℃において最終固定されることが可能なものが選択される。接着剤の硬化温度は、硬化剤や硬化促進剤の配合などによっても制御可能である。   As the epoxy adhesive constituting the epoxy adhesive layers 2b and 2c, one that can be temporarily fixed at a temperature of 90 to 110 ° C and finally fixed at a temperature of 140 to 160 ° C is selected. The curing temperature of the adhesive can also be controlled by blending a curing agent or a curing accelerator.

接着フィルム2の基材2aの厚みは、20〜500μmであり、それぞれのエポキシ系接着剤層2b,2cの厚みは、5〜50μmである。基材2aの厚みは、接着フィルム2全体の厚み(すなわち第1の接着剤層2b、基材2aおよび第2の接着剤層2cの厚みの合計)の50〜98%程度が好ましい。   The substrate 2a of the adhesive film 2 has a thickness of 20 to 500 [mu] m, and the epoxy adhesive layers 2b and 2c have a thickness of 5 to 50 [mu] m. The thickness of the base material 2a is preferably about 50 to 98% of the entire thickness of the adhesive film 2 (that is, the total thickness of the first adhesive layer 2b, the base material 2a, and the second adhesive layer 2c).

剥離フィルム3は、接着フィルム積層体1Aの使用時に最初に剥離される保護フィルムであり、キャリアフィルム4は、剥離フィルム3の剥離後も接着フィルム2を支持する支持基材である。剥離フィルム3およびキャリアフィルム4としては、基材3a,4aの上に、粘着剤層または剥離剤層3b、粘着剤層4bが設けられた片面粘着フィルムが好適に用いられる。
基材3a,4aを構成するフィルムとしては、例えば、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリオレフィンフィルム、ポリアリレートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリスルホンフィルム、ノルボルネン系フィルム、フェノキシエーテル型重合体フィルム、有機耐透気性フィルムをはじめとする単層または複層プラスチックフィルムが挙げられる。
粘着剤層または剥離剤層3b、粘着剤層4bを構成する粘着剤としては、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤等が挙げられる。
また、剥離剤層を構成する剥離剤としては、任意の剥離剤を用いることができるが、剥離特性のすぐれたシリコーン系剥離剤が望ましい。
The release film 3 is a protective film that is first peeled when the adhesive film laminate 1 </ b> A is used, and the carrier film 4 is a support substrate that supports the adhesive film 2 even after the release film 3 is peeled off. As the release film 3 and the carrier film 4, a single-sided adhesive film in which an adhesive layer or a release agent layer 3b and an adhesive layer 4b are provided on the substrates 3a and 4a is preferably used.
Examples of the film constituting the substrates 3a and 4a include polyester film, polycarbonate film, polyamide film, polyimide film, polystyrene film, polyolefin film, polyarylate film, polyethersulfone film, polysulfone film, norbornene film, and phenoxy ether. Examples thereof include single-layer or multi-layer plastic films including mold polymer films and organic gas-resistant films.
Examples of the pressure-sensitive adhesive constituting the pressure-sensitive adhesive layer or release agent layer 3b and the pressure-sensitive adhesive layer 4b include acrylic pressure-sensitive adhesives, rubber-based pressure-sensitive adhesives, and silicone-based pressure-sensitive adhesives.
Moreover, as a release agent which comprises a release agent layer, although arbitrary release agents can be used, the silicone type release agent with the outstanding peeling characteristic is desirable.

本形態例の接着フィルム積層体1Aは、型抜き前の接着フィルム積層体1から剥離フィルム3を剥離した後、キャリアフィルム4上で接着フィルム2を被着体の寸法パターンに合わせて型抜きすることにより、図3に示すように、被着体の寸法パターンに合わせて形成された型抜き形状5(図3の例の場合は、四角形の枠状である)が、キャリアフィルム4の上に2次元的に配設された状態となるように加工することができる。
キャリアフィルム4が、接着フィルム2に貼合される粘着剤層4bを有するので、型抜きの際、常温25℃で可撓性を有した固体状の接着剤層2b,2cを、基材2aの両面に有する接着フィルム2を、より確実に保持することができる。
In the adhesive film laminate 1A of this embodiment, the release film 3 is peeled from the adhesive film laminate 1 before die cutting, and then the adhesive film 2 is punched on the carrier film 4 according to the dimensional pattern of the adherend. Accordingly, as shown in FIG. 3, a die-cut shape 5 (in the example of FIG. 3, a rectangular frame shape) formed in accordance with the dimension pattern of the adherend is formed on the carrier film 4. It can be processed so as to be in a two-dimensional arrangement.
Since the carrier film 4 has the pressure-sensitive adhesive layer 4b to be bonded to the adhesive film 2, the solid adhesive layers 2b and 2c having flexibility at room temperature of 25 ° C. are used as the base material 2a at the time of die cutting. It is possible to hold the adhesive film 2 on both surfaces more reliably.

また、接着フィルム2の型抜き後、図1に示すように、型抜きされた接着フィルム5の上を、再び剥離フィルム3で覆ってロール状に巻き取り、型抜きされた接着フィルム5が剥離フィルム3とキャリアフィルム4の間に支持された接着フィルム積層体1Aを製造することもできる。
この場合、製品検査を合格した接着フィルム積層体1Aは、例えば、半導体装置の組み立て工程で使用されるまでロール状に巻き取って保存することができるので、半導体装置の組み立て工程で使用される際には接着フィルム2を型抜き及び製品検査を行う必要がなく、半導体装置の組み立て工程の生産性をさらに向上させることができる。
剥離フィルム3およびキャリアフィルム4が、それぞれ接着フィルム2に貼合される粘着剤層または剥離剤層3b、粘着剤層4bを有するので、ロールへの巻取りやロールからの繰出し、また、搬送の際、常温25℃で可撓性を有した固体状の接着剤層2b,2cを、基材2aの両面に配設した接着フィルム2をより確実に保持することができる。
Further, after the die-cutting of the adhesive film 2, as shown in FIG. 1, the die-cut adhesive film 5 is again covered with the release film 3 and wound up into a roll shape, and the die-cut adhesive film 5 is peeled off. An adhesive film laminate 1A supported between the film 3 and the carrier film 4 can also be manufactured.
In this case, since the adhesive film laminate 1A that has passed the product inspection can be wound and stored in a roll until it is used in the assembly process of the semiconductor device, for example, when used in the assembly process of the semiconductor device Therefore, it is not necessary to perform die-cutting and product inspection of the adhesive film 2, and the productivity of the assembly process of the semiconductor device can be further improved.
Since the release film 3 and the carrier film 4 have the pressure-sensitive adhesive layer or the release agent layer 3b and the pressure-sensitive adhesive layer 4b to be bonded to the adhesive film 2, respectively, they are wound around the roll, fed out from the roll, and transported. At this time, it is possible to more reliably hold the adhesive film 2 in which the solid adhesive layers 2b and 2c having flexibility at room temperature of 25 ° C. are arranged on both surfaces of the substrate 2a.

また、図5に示すように、接着フィルム2の型抜き形状5が枠状であり、さらに型抜き形状5の枠内の空間6に相当する位置においてキャリアフィルム4がくり抜かれた構成の接着フィルム積層体1Bを製造することもできる。この場合、図6に示すように、剥離フィルム3を剥離して、型抜き形状5とした接着フィルム2を光学ガラス板7等の被着体に貼合するとき、キャリアフィルム4の基材4a及び第2の粘着剤層4bには穴4cが開いた状態に除去されているので、枠内の空間6を通じてキャリアフィルム4の第2の粘着剤層4bが光学ガラス板7等の被着体に付着(転写)して汚れとなるのを防止することができる。
空間6の位置で接着フィルム2を型抜きする工程と、空間6に対応する穴4cをキャリアフィルム4に開口する工程とは、同時に行うこともできるし、別々の工程で行うこともできる。
図5に示す接着フィルム積層体1Bも、図1の接着フィルム積層体1Aと同様に、半導体装置の組み立て工程を行うまでロール状に巻き取って保存することができる。
Further, as shown in FIG. 5, the adhesive film 2 has a configuration in which the die-cut shape 5 of the adhesive film 2 is a frame shape, and the carrier film 4 is cut out at a position corresponding to the space 6 in the frame of the die-cut shape 5. The laminated body 1B can also be manufactured. In this case, as shown in FIG. 6, when the release film 3 is peeled and the adhesive film 2 having a die-cut shape 5 is bonded to an adherend such as the optical glass plate 7, the base material 4 a of the carrier film 4. Since the hole 4c is removed in the second pressure-sensitive adhesive layer 4b, the second pressure-sensitive adhesive layer 4b of the carrier film 4 is attached to the adherend such as the optical glass plate 7 through the space 6 in the frame. It can be prevented from adhering (transferring) to and becoming dirty.
The step of punching the adhesive film 2 at the position of the space 6 and the step of opening the hole 4c corresponding to the space 6 in the carrier film 4 can be performed simultaneously or in separate steps.
The adhesive film laminate 1B shown in FIG. 5 can also be wound and stored in a roll shape until the assembly process of the semiconductor device is performed, similarly to the adhesive film laminate 1A of FIG.

上述の接着フィルム積層体1A、1Bは、例えば図9,11に示すように、光学ガラス板7に素子基板(電子機器)8が貼合された電子機器モジュール10,10Aの製造工程に好適に用いることができる。
本形態例の電子機器8は、発光素子や表示素子などの素子基板であり、光学ガラス板などの基板7と対向する側に表示素子等のデバイス9を有する。デバイス9は、特に限定されるものではないが、例えば、有機EL素子などの発光素子や表示素子である。
The above-mentioned adhesive film laminates 1A and 1B are suitable for manufacturing processes of electronic device modules 10 and 10A in which an element substrate (electronic device) 8 is bonded to an optical glass plate 7 as shown in FIGS. Can be used.
The electronic apparatus 8 of this embodiment is an element substrate such as a light emitting element or a display element, and has a device 9 such as a display element on the side facing the substrate 7 such as an optical glass plate. Although the device 9 is not specifically limited, For example, it is light emitting elements and display elements, such as an organic EL element.

接着フィルム2の型抜き形状5は、デバイス9を露出するための空間6を有する。この空間6は、デバイス9によって放射される光などの物理的刺激を通過可能である。デバイス9は、光などの物理的刺激を放射する表示装置が好ましい。
なお、電子機器8と貼合される基板7として、光学ガラス板(基板)のほか、プリント基板、絶縁基板、樹脂基板、半導体基板などの各種基板を採用することも可能である。該基板は、可撓性を有するフィルムやシート等であっても構わない。
The die-cut shape 5 of the adhesive film 2 has a space 6 for exposing the device 9. This space 6 can pass physical stimuli such as light emitted by the device 9. The device 9 is preferably a display device that emits a physical stimulus such as light.
In addition, as a board | substrate 7 bonded with the electronic device 8, it is also possible to employ | adopt various board | substrates, such as a printed circuit board, an insulating substrate, a resin substrate, a semiconductor substrate, besides an optical glass plate (board | substrate). The substrate may be a flexible film or sheet.

本形態例の接着フィルム2は、上述したように、接着剤層2b,2cが常温25℃では可撓性を有した固体状であるので、基板7と電子機器8とを貼合するときには、まず第1の接着剤層2bを基板7と重ね合わせて加熱および加圧して仮固定し、次いで、第2の接着剤層2cを電子機器8と重ね合わせて加熱および加圧して仮固定し、さらに加熱温度を高めて最終固定することが好ましい。
ここで、仮固定の温度は、接着剤が溶融して被着体に対する接着性を発現可能な温度であり、最終固定の温度は、接着剤が硬化して接着強度がさらに高まる温度である。仮固定の段階では、接着剤の硬化は抑制されているので、仮固定後に接着剤が冷却しても、再び加熱することで、接着性を発現することができる。最終固定後は、接着剤が熱硬化することで再溶融不能になり、耐熱性が向上する。
As described above, the adhesive film 2b, 2c of the present embodiment is a solid material having flexibility at room temperature of 25 ° C. Therefore, when the substrate 7 and the electronic device 8 are bonded together, First, the first adhesive layer 2b is overlapped with the substrate 7 and temporarily fixed by heating and pressing, and then the second adhesive layer 2c is overlapped with the electronic device 8 and temporarily fixed by heating and pressing. Furthermore, it is preferable to raise the heating temperature and finally fix.
Here, the temperature for temporary fixing is a temperature at which the adhesive can be melted to exhibit adhesion to the adherend, and the temperature for final fixing is a temperature at which the adhesive is cured to further increase the adhesive strength. Since the curing of the adhesive is suppressed at the temporary fixing stage, even if the adhesive is cooled after temporary fixing, the adhesiveness can be exhibited by heating again. After the final fixation, the adhesive becomes heat-cured and cannot be remelted, and the heat resistance is improved.

また、本発明に係わる電子機器モジュールの製造方法において、接着フィルムの被着体が、例えば光学ガラスとシリコンウエハーである場合を想定して、これらの材質の線膨張係数を、表1に示した。
本発明に係わる接着フィルムを介して、これらの熱膨張率(線膨張係数)の大きく異なる被着体を接着する場合、接着フィルムが高温に加熱された時に、被着体であるシリコンウエハーに比べて約2.5倍も線膨張係数の大きな光学ガラスにより、接着フィルムの全体を拡げる方向に引っ張られてしまう。仮に、接着フィルムが可撓性を有しておらず被着体に強固に接着されていると、最後には熱応力によって破壊することが起こり得る。
In addition, in the method for manufacturing an electronic device module according to the present invention, assuming that the adherend of the adhesive film is, for example, optical glass and a silicon wafer, the linear expansion coefficients of these materials are shown in Table 1. .
When these adherends having greatly different thermal expansion coefficients (linear expansion coefficients) are bonded via the adhesive film according to the present invention, when the adhesive film is heated to a high temperature, it is compared with the silicon wafer as the adherend. Thus, the optical glass having a large linear expansion coefficient of about 2.5 times is pulled in the direction of expanding the entire adhesive film. If the adhesive film does not have flexibility and is firmly adhered to the adherend, it may eventually be destroyed by thermal stress.

Figure 2013030658
Figure 2013030658

しかしながら、本発明に係わる電子機器モジュールの製造方法において、接着フィルム2の接着剤層2b,2cは可撓性を有するため、熱膨張率の異なる、例えば光学ガラス板と半導体基板などの貼合に用いても、貼合時からの温度変化と熱膨張率の差による変位に追従し、また、基材2aへのせん断応力を吸収して、両被着体との間の接着の破壊を抑制することができる。   However, in the method of manufacturing an electronic device module according to the present invention, the adhesive layers 2b and 2c of the adhesive film 2 have flexibility, and therefore have different thermal expansion coefficients, for example, for bonding optical glass plates and semiconductor substrates. Even if it is used, it follows the displacement due to the difference between the temperature change from the time of bonding and the coefficient of thermal expansion, absorbs the shear stress to the substrate 2a, and suppresses the destruction of the adhesion between both adherends. can do.

本発明による電子機器モジュールの製造方法の第1形態例を以下に例示する。
(1)まず、上述の接着フィルム積層体1A、1Bを準備する。
(2)接着フィルム積層体1A、1Bから剥離フィルム3を剥がした後、キャリアフィルム4上の型抜きされた接着フィルム5を基板7の上に重ね合わせ、加熱処理により第1の接着剤層2bの接着力を発現して基板7に固定する。この段階では、接着剤層2b,2cには仮固定の温度で熱処理を加える。
さらにキャリアフィルム4を剥離することにより、図7に示すように、複数の型抜きされた接着フィルム5を基板7上に転写することができる。
A first embodiment of the method for manufacturing an electronic device module according to the present invention will be exemplified below.
(1) First, the above-mentioned adhesive film laminates 1A and 1B are prepared.
(2) After peeling off the release film 3 from the adhesive film laminates 1A and 1B, the die-cut adhesive film 5 on the carrier film 4 is superposed on the substrate 7, and the first adhesive layer 2b is subjected to heat treatment. The adhesive force is expressed and fixed to the substrate 7. At this stage, heat treatment is applied to the adhesive layers 2b and 2c at a temporarily fixed temperature.
Further, by peeling off the carrier film 4, a plurality of die-cut adhesive films 5 can be transferred onto the substrate 7 as shown in FIG.

(3)図8に示すように、型抜きされた接着フィルム5が転写された基板7を、電子機器8の寸法パターンに合わせて小片にダイシングする。
(4)基板7の小片に転写されている型抜きされた接着フィルム2の第2の接着剤層2cの上に、電子機器8を重ね合わせる。加熱処理により第2の接着剤層2cの接着力を発現して電子機器8に固定し、図9に示すように、基板7の小片と電子機器8とを型抜きされた接着フィルム5を介して接着し、電子機器モジュール10を組み立てる。
(3) As shown in FIG. 8, the substrate 7 onto which the die-cut adhesive film 5 has been transferred is diced into small pieces according to the dimensional pattern of the electronic device 8.
(4) Overlay the electronic device 8 on the second adhesive layer 2c of the die-cut adhesive film 2 transferred to the small piece of the substrate 7. The adhesive force of the second adhesive layer 2c is expressed by heat treatment and fixed to the electronic device 8, and, as shown in FIG. 9, the small piece of the substrate 7 and the electronic device 8 are interposed through the die-cut adhesive film 5. And the electronic device module 10 is assembled.

本形態例で接着剤層2b,2cに用いられるエポキシ接着剤は、光学ガラス板などの基板7のダイシングの際に水と接触しても接着性能が劣化しない。また、(2)の基板7への仮固定後から(4)の電子機器8への接着までの間に数日が経過しても接着性能が劣化しない。   The epoxy adhesive used for the adhesive layers 2b and 2c in this embodiment does not deteriorate the adhesive performance even if it comes into contact with water when the substrate 7 such as an optical glass plate is diced. Further, even if several days elapse between the time (2) temporarily fixed to the substrate 7 and the time (4) adhesion to the electronic device 8, the adhesion performance does not deteriorate.

本発明においては、図7に示すように、複数の型抜きされた接着フィルム5を基板7上に転写した後、基板7を小片にダイシングする前の段階で、基板7と電子機器8とを型抜きされた接着フィルム5を介して接着することができる。
本発明による電子機器モジュールの製造方法の第2形態例を以下に例示する。
In the present invention, as shown in FIG. 7, after the plurality of die-cut adhesive films 5 are transferred onto the substrate 7, the substrate 7 and the electronic device 8 are bonded to each other before dicing the substrate 7 into small pieces. It can adhere | attach through the die-cut adhesive film 5. FIG.
A second embodiment of the method for manufacturing an electronic device module according to the present invention will be exemplified below.

(1)および(2)は、第1形態例の製造方法と同様である。
(3)基板7に転写されている型抜きされた接着フィルム5の第2の接着剤層2cの上に電子機器8を重ね合わせ、加熱処理により第2の接着剤層2cの接着力を発現して電子機器8に固定し、基板7と電子機器8とを型抜きされた接着フィルム5を介して接着する。
この場合、図10に示すように、電子機器8としては、半導体ウエハのように、複数の電子機器8が基板状に連続した構成を採用することも可能である。
(1) and (2) are the same as the manufacturing method of the first embodiment.
(3) Overlay the electronic device 8 on the second adhesive layer 2c of the die-cut adhesive film 5 transferred to the substrate 7, and express the adhesive force of the second adhesive layer 2c by heat treatment. And it fixes to the electronic device 8, and the board | substrate 7 and the electronic device 8 are adhere | attached through the adhesive film 5 which was die-cut.
In this case, as shown in FIG. 10, as the electronic device 8, a configuration in which a plurality of electronic devices 8 are continuous in a substrate shape, such as a semiconductor wafer, may be employed.

(4)図11に示すように、型抜きされた接着フィルム5を介して電子機器8が接着された基板7を、電子機器8の寸法パターンに合わせて小片にダイシングし、電子機器モジュール10Aに組み立てる。この場合、ダイシングで得られた個々の小片から、それぞれ電子機器モジュール10Aを構成することができる。
複数の電子機器が基板状に連続した構成の場合は、基板7とともに電子機器もダイシングする。この場合、基板7の平面寸法は、電子機器の平面寸法と同程度になるのが通常である。
(4) As shown in FIG. 11, the substrate 7 to which the electronic device 8 is bonded via the die-cut adhesive film 5 is diced into small pieces according to the dimensional pattern of the electronic device 8 to form the electronic device module 10 </ b> A. assemble. In this case, the electronic device module 10 </ b> A can be configured from each individual piece obtained by dicing.
In the case where a plurality of electronic devices are arranged in a substrate shape, the electronic devices are diced together with the substrate 7. In this case, the planar dimension of the substrate 7 is usually the same as the planar dimension of the electronic device.

以下、実施例をもって本発明を具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples.

<実施例1>
本発明の電子機器モジュールの製造方法に係わる、実施例1の接着フィルム積層体の製造方法は、次のとおりである。
厚み100μmのポリエチレンテレフタレート(PET)樹脂フィルムの片面に、エポキシ接着剤としてDIC株式会社の柔軟性エポキシ樹脂(商品名EPICLON(登録商標)EXA−4816)を乾燥厚みが15μmとなるように塗工した。接着剤の塗布面に、粘着剤層または剥離剤層を有する剥離フィルムを貼合した後、同じ柔軟性エポキシ樹脂を同じ乾燥膜厚でPET樹脂フィルムの反対面に塗工し、さらに反対面の接着剤の塗布面に、粘着剤層を有するキャリアフィルムを貼合した。
エポキシ接着剤の塗工後、120℃で4分間熱処理し、エポキシ接着剤が半硬化した3層構造からなる、接着フィルムを、剥離フィルムとキャリアフィルムとで挟んでなる接着フィルムを得た。
この接着フィルムを、外形寸法が10mm角、内径寸法が8mm角の四角形枠からなる電子機器を模擬した寸法形状に型抜きして、前記キャリアフィルムに2次元的に配設されてなる、実施例1の接着フィルム積層体を作成した。
また、実施例1の接着フィルム積層体に用いたエポキシ接着剤について、下記の半硬化状態での貯蔵弾性率の測定、完全硬化状態での貯蔵弾性率の測定、及び折り曲げ評価試験を行った。
また、得られた実施例1の接着フィルム積層体について、剥離フィルムおよびキャリアフィルムを剥離して接着フィルムのエポキシ接着剤層に触れたところ、エポキシ接着剤層は、25℃では可撓性を有した固体状であり手指で接着剤の表面に触れてもまったくベタ付きのない指触乾燥状態にあり、タック性を示さないことを確認した。
また、得られた実施例1の接着フィルム積層体は、接着剤層が25℃では可撓性を有した固体状であることから、電子機器を模擬した寸法に接着フィルムを型抜きする作業を、容易に行うことができた。
<Example 1>
The manufacturing method of the adhesive film laminated body of Example 1 regarding the manufacturing method of the electronic device module of this invention is as follows.
A flexible epoxy resin (trade name EPICLON (registered trademark) EXA-4816) manufactured by DIC Corporation as an epoxy adhesive was applied to one side of a polyethylene terephthalate (PET) resin film having a thickness of 100 μm so as to have a dry thickness of 15 μm. . After pasting a release film having a pressure-sensitive adhesive layer or release agent layer on the adhesive application surface, the same flexible epoxy resin is applied to the opposite surface of the PET resin film with the same dry film thickness. A carrier film having a pressure-sensitive adhesive layer was bonded to the adhesive application surface.
After the application of the epoxy adhesive, heat treatment was performed at 120 ° C. for 4 minutes to obtain an adhesive film comprising a three-layer structure in which the epoxy adhesive was semi-cured and sandwiched between the release film and the carrier film.
The adhesive film is two-dimensionally arranged on the carrier film by punching the adhesive film into a size and shape simulating an electronic device composed of a square frame having an outer dimension of 10 mm square and an inner diameter dimension of 8 mm square. 1 adhesive film laminate was prepared.
Moreover, about the epoxy adhesive agent used for the adhesive film laminated body of Example 1, the measurement of the storage elastic modulus in the following semi-hardened state, the measurement of the storage elastic modulus in a fully hardened state, and the bending evaluation test were done.
Moreover, about the obtained adhesive film laminated body of Example 1, when peeling film and carrier film were peeled and the epoxy adhesive layer of the adhesive film was touched, the epoxy adhesive layer has flexibility at 25 ° C. It was confirmed that it was in a dry state with no stickiness even when touching the surface of the adhesive with a finger and showed no tackiness.
Moreover, since the adhesive film laminated body of Example 1 obtained was a solid state having flexibility at 25 ° C., the operation of punching the adhesive film to a size simulating an electronic device was performed. Could be done easily.

(エポキシ接着剤の熱重量測定)
本実施例1の接着フィルム積層体の製造方法で用いたエポキシ接着剤の熱重量測定(TG)によりTG曲線を求めた。得られたTG曲線は、332℃に開始温度が認められ、そのときの重量変化率が−13.5%であったことから、このエポキシ接着剤の分解開始温度は332℃と求められた。
(Thermogravimetric measurement of epoxy adhesive)
A TG curve was obtained by thermogravimetry (TG) of the epoxy adhesive used in the method for producing an adhesive film laminate of Example 1. In the obtained TG curve, an onset temperature was observed at 332 ° C., and the weight change rate at that time was −13.5%. Therefore, the decomposition onset temperature of this epoxy adhesive was determined to be 332 ° C.

(エポキシ接着剤のアウトガス評価)
また、本実施例1の接着フィルム積層体の製造方法で用いたエポキシ接着剤を完全に硬化後、熱分解ガスクロマトグラフ測定により、260℃での耐熱性を評価した。250℃から毎分10℃で温度を上昇させて260℃に到達後、260℃で10分間保持したが、その間のアウトガスの発生がないことを確認した。
(Outgas evaluation of epoxy adhesive)
Moreover, after completely curing the epoxy adhesive used in the method for producing an adhesive film laminate of Example 1, the heat resistance at 260 ° C. was evaluated by pyrolysis gas chromatograph measurement. The temperature was increased from 250 ° C. at 10 ° C. per minute and reached 260 ° C., and then maintained at 260 ° C. for 10 minutes. It was confirmed that no outgas was generated during that time.

(仮固定時の180°剥離強度)
本実施例1の接着フィルム積層体を、光学ガラス板の仮固定に使用した時の性能を評価するため、次の方法により、仮固定時の180°剥離強度を測定した。
本実施例1の接着フィルム積層体より剥離フィルムとキャリアフィルムとを除去した接着フィルムから、幅10mmの試験片を5つ作製し、100℃に予備加熱した光学ガラス板に対して、100℃、500gf/cm、1秒間の条件で各試験片の一端部を圧着し、仮固定のサンプルを作製した。各試験片の他端部(自由端)を剥離速度300mm/minで引っ張りながら180°剥離強度を測定したところ、n=5で平均した剥離強度は、927gfであった。
(180 ° peel strength when temporarily fixed)
In order to evaluate the performance when the adhesive film laminate of Example 1 was used for temporarily fixing an optical glass plate, 180 ° peel strength at the time of temporarily fixing was measured by the following method.
From the adhesive film obtained by removing the release film and the carrier film from the adhesive film laminate of Example 1, five test pieces having a width of 10 mm were prepared, and the optical glass plate preheated to 100 ° C. was 100 ° C., One end of each test piece was pressure-bonded under conditions of 500 gf / cm 2 for 1 second to prepare a temporarily fixed sample. When the 180 ° peel strength was measured while pulling the other end (free end) of each test piece at a peel rate of 300 mm / min, the peel strength averaged at n = 5 was 927 gf.

(最終固定時のずりせん断強度)
本実施例1の接着フィルム積層体を、光学ガラス板とシリコン基板に最終固定した時の性能を評価するため、次の方法により、ずりせん断強度(引張せん断接着強さ)を測定した。
サンプルは、細長形状の光学ガラス板およびシリコン基板が一端部のみで重なり合い、本実施例1の接着フィルムを介して接着され、光学ガラス板の他端部とシリコン基板の他端部とが接着部分を介して長さ方向の反対側に配置された構造である。
サンプルの作製方法は、まず幅10mmの光学ガラス板の一端部に、10mm(幅)×10mm(引張方向長さ)に加工して作製した接着フィルムを配置し、100℃、500gf/cm、1秒間の条件で圧着して仮固定した後、接着フィルムを介して幅10mmのシリコン基板の一端部を重ね合わせ、100℃、500gf/cm、1秒間の条件で圧着して仮固定した後、150℃、1分間の条件で加熱硬化処理をして最終固定する方法とした。
光学ガラス板の他端部を治具で保持して固定し、シリコン基板の他端部をつかみ部として20kgfの引っ張り荷重を加えたところ、サンプル数5の毎回、接着部分は破壊されなかった。このことから、n=5で平均したずりせん断強度は、20kgf以上であることが分かった。
(Shear shear strength at final fixation)
In order to evaluate the performance when the adhesive film laminate of Example 1 was finally fixed to an optical glass plate and a silicon substrate, shear shear strength (tensile shear adhesive strength) was measured by the following method.
In the sample, an elongated optical glass plate and a silicon substrate are overlapped only at one end, and are bonded via the adhesive film of Example 1, and the other end of the optical glass plate and the other end of the silicon substrate are bonded to each other. It is the structure arranged on the opposite side of the length direction via.
First, an adhesive film prepared by processing 10 mm (width) × 10 mm (length in the tensile direction) was placed on one end of an optical glass plate having a width of 10 mm, and the sample was prepared at 100 ° C., 500 gf / cm 2 , After crimping and temporarily fixing under the condition of 1 second, one end of a silicon substrate having a width of 10 mm is overlapped via an adhesive film, and after being temporarily crimped and fixed under conditions of 100 ° C. and 500 gf / cm 2 for 1 second. , 150 ° C. for 1 minute, and a method of heat-curing and final fixing.
When the other end portion of the optical glass plate was held and fixed with a jig and a tensile load of 20 kgf was applied using the other end portion of the silicon substrate as a grip portion, the bonded portion was not broken every time the number of samples was 5. From this, it was found that the shear shear strength averaged at n = 5 was 20 kgf or more.

<実施例2>
本発明の電子機器モジュールの製造方法に係わる、実施例2の接着フィルム積層体の製造方法としては、エポキシ接着剤として、DIC株式会社の柔軟性エポキシ樹脂(商品名EPICLON(登録商標)EXA−4850−150)を使用した以外は、実施例1と同様の作成方法により、型抜きされた接着フィルムが、キャリアフィルムに2次元的に配設されてなる、実施例2の接着フィルム積層体を得た。
実施例2の接着フィルム積層体に用いたエポキシ接着剤について、実施例1と同様に、半硬化状態での貯蔵弾性率の測定、完全硬化状態での貯蔵弾性率の測定、及び折り曲げ評価試験を行った。
また、得られた実施例2の接着フィルム積層体に用いたエポキシ接着剤層は、25℃では可撓性を有した固体状であった。
また、得られた実施例2の接着フィルム積層体は、電子機器を模擬した寸法に接着フィルムを型抜きする作業を、容易に行うことができた。
<Example 2>
As the method for producing the adhesive film laminate of Example 2 relating to the method for producing an electronic device module of the present invention, as an epoxy adhesive, a flexible epoxy resin (trade name EPICLON (registered trademark) EXA-4850 manufactured by DIC Corporation) is used. The adhesive film laminate of Example 2 is obtained in which the die-cut adhesive film is two-dimensionally arranged on the carrier film by the same production method as in Example 1 except that -150) is used. It was.
About the epoxy adhesive used for the adhesive film laminated body of Example 2, like Example 1, the measurement of the storage elastic modulus in a semi-cured state, the measurement of the storage elastic modulus in a completely cured state, and the bending evaluation test went.
Moreover, the epoxy adhesive layer used for the obtained adhesive film laminate of Example 2 was a solid with flexibility at 25 ° C.
Moreover, the obtained adhesive film laminated body of Example 2 was able to easily perform the work of punching out the adhesive film to a size simulating an electronic device.

<比較例1>
本発明の電子機器モジュールの製造方法に係わる、比較例1の接着フィルム積層体の製造方法としては、エポキシ接着剤として、DIC株式会社のBPA型液状エポキシ樹脂(商品名EPICLON(登録商標)840−S)を使用した以外は、実施例1と同様の作成方法により、型抜きされた接着フィルムが、キャリアフィルムに2次元的に配設されてなる、比較例1の接着フィルム積層体を得た。
比較例1の接着フィルム積層体に用いたエポキシ接着剤について、実施例1と同様に、半硬化状態での貯蔵弾性率の測定、完全硬化状態での貯蔵弾性率の測定、及び折り曲げ評価試験を行った。
また、得られた比較例1の接着フィルム積層体に用いたエポキシ接着剤層は、25℃では固体状であった。
また、得られた比較例1の接着フィルム積層体は、実施例1,2と比較して、半硬化状態の25℃における接着剤層がやや硬かったが、電子機器を模擬した寸法に接着フィルムを型抜きする作業を、比較的に容易に行うことができた。
<Comparative Example 1>
As the method for producing the adhesive film laminate of Comparative Example 1 relating to the method for producing an electronic device module of the present invention, as an epoxy adhesive, a BPA type liquid epoxy resin (trade name EPICLON (registered trademark) 840- Except for using S), an adhesive film laminate of Comparative Example 1 was obtained in which the die-cut adhesive film was two-dimensionally arranged on the carrier film by the same production method as in Example 1. .
About the epoxy adhesive used for the adhesive film laminated body of the comparative example 1, similarly to Example 1, the measurement of the storage elastic modulus in the semi-cured state, the measurement of the storage elastic modulus in the fully cured state, and the bending evaluation test went.
Moreover, the epoxy adhesive layer used for the obtained adhesive film laminate of Comparative Example 1 was solid at 25 ° C.
In addition, the adhesive film laminate of Comparative Example 1 obtained had a slightly harder adhesive layer at 25 ° C. in a semi-cured state than Examples 1 and 2, but the adhesive film was sized to simulate an electronic device. The work of punching out was able to be performed relatively easily.

(完全に硬化した状態でのエポキシ系接着剤層の貯蔵弾性率の測定方法)
TA Instrument社製の動的粘弾性自動測定装置(型式:RSA−3)を用い、厚み約0.5mm、幅約5mm、長さ約3mmの、完全に硬化した状態でのエポキシ系接着剤層のサンプルについて、ひずみ依存性の測定を行い、25℃の大気圧下において、周波数1Hzを印加した際の貯蔵弾性率(E’)の線形領域内の値を求めた。
(Measurement method of storage elastic modulus of epoxy adhesive layer in fully cured state)
Epoxy adhesive layer in a fully cured state having a thickness of about 0.5 mm, a width of about 5 mm, and a length of about 3 mm, using an automatic dynamic viscoelasticity measuring device (model: RSA-3) manufactured by TA Instrument The sample was measured for strain dependency, and the value in the linear region of the storage elastic modulus (E ′) when a frequency of 1 Hz was applied at an atmospheric pressure of 25 ° C. was obtained.

(半硬化状態でのエポキシ系接着剤層の貯蔵弾性率の測定方法)
Anton Paar社製の動的粘弾性自動測定装置(型式:MCR‐301)を用い、直径25mmのフラットプレート、線形領域内のひずみを付加、周波数1Hz、30℃から昇温して200℃まで昇温速度5℃/minの条件で加熱しながら、未硬化の液状エポキシ接着剤を経時測定する。エポキシ接着剤の硬化の進行によって貯蔵弾性率は上昇して完全硬化することで一定となる。エポキシ系接着剤層の未硬化時の貯蔵弾性率と、完全に硬化時の貯蔵弾性率の中点を半硬化状態(例えば、硬化率50%)の貯蔵弾性率として求めた。
(Method for measuring storage elastic modulus of epoxy adhesive layer in semi-cured state)
Anton Paar's automatic dynamic viscoelasticity measuring device (model: MCR-301) is used, a flat plate with a diameter of 25 mm, strain in the linear region is added, the frequency is raised from 1 Hz and 30 ° C to 200 ° C. The uncured liquid epoxy adhesive is measured over time while heating at a temperature rate of 5 ° C./min. The storage elastic modulus increases with the progress of curing of the epoxy adhesive, and becomes constant by complete curing. The midpoint of the storage elastic modulus when the epoxy adhesive layer was uncured and the storage elastic modulus when completely cured was determined as the storage elastic modulus in a semi-cured state (for example, a curing rate of 50%).

(エポキシ接着剤の折り曲げ評価試験)
熱硬化性のエポキシ系接着剤層が、完全に硬化した状態において可撓性を有するかどうかを判定するため、次の方法によりエポキシ接着剤の折り曲げ評価試験を行った。
エポキシ接着剤の厚みが1mm、幅15mm、長さ100mmの完全に硬化した状態の、折り曲げ評価試験用のサンプルを作成した。当該サンプルを垂直に吊り下げて固定して、荷重1kgを当該サンプルの下端に吊り下げて鉛直方向に荷重を付加し、当該サンプルの表裏(当該サンプルの鉛直線から左右)に各々135°、180往復/1minの条件にて折り曲げて、破断するまでの折り曲げ操作の回数を求めた。
(Bending evaluation test of epoxy adhesive)
In order to determine whether the thermosetting epoxy adhesive layer has flexibility in a completely cured state, a bending evaluation test of the epoxy adhesive was performed by the following method.
A sample for a bending evaluation test in which the thickness of the epoxy adhesive was 1 mm, the width was 15 mm, and the length was 100 mm was completely cured. The sample is suspended and fixed vertically, a load of 1 kg is suspended from the lower end of the sample, a load is applied in the vertical direction, and 135 ° and 180 ° are respectively applied to the front and back of the sample (left and right from the vertical line of the sample). Folding was performed under the condition of reciprocation / 1 min, and the number of folding operations until breaking was obtained.

実施例1、実施例2及び比較例1について、半硬化状態での貯蔵弾性率、完全硬化状態での貯蔵弾性率、折り曲げ評価試験をそれぞれ行なった。測定結果を、表2に示す。   Example 1, Example 2, and Comparative Example 1 were subjected to a storage elastic modulus in a semi-cured state, a storage elastic modulus in a fully cured state, and a bending evaluation test, respectively. The measurement results are shown in Table 2.

Figure 2013030658
Figure 2013030658

表2に示した接着フィルムに用いたエポキシ接着剤の折り曲げ評価試験の結果において、実施例1、実施例2のエポキシ接着剤は、折り曲げ試験用のサンプルが破壊するまでの折り曲げ操作回数が、それぞれ10回、520回であり、複数回の折り曲げ操作によっても破壊しない充分な可撓性を有していた。
一方、比較例1においては、エポキシ接着剤の折り曲げ評価試験において、折り曲げ操作の1回目にて破壊したため、可撓性を有しておらず、本発明の接着フィルムに係わるエポキシ接着剤には適用できないものであった。
以上の結果から、本発明に係わる実施例1,2の接着フィルムが、電子機器モジュールの製造に必要な、半硬化状態に熱処理されてなり25℃において可撓性を有した固体状であり、さらに、完全に硬化した状態においても可撓性を有していることから、可撓性と、スペーサとしての形状保持性を兼ね備えていることを確認することができた。
In the results of the bending evaluation test of the epoxy adhesive used for the adhesive film shown in Table 2, the epoxy adhesives of Example 1 and Example 2 have the number of folding operations until the sample for the bending test breaks, respectively. It was 10 times and 520 times, and had sufficient flexibility not to be broken by a plurality of bending operations.
On the other hand, in the comparative example 1, in the bending evaluation test of the epoxy adhesive, since it was destroyed in the first bending operation, it did not have flexibility and applied to the epoxy adhesive related to the adhesive film of the present invention. It was impossible.
From the above results, the adhesive films of Examples 1 and 2 according to the present invention are heat-treated in a semi-cured state, which is necessary for manufacturing an electronic device module, and are in a solid state having flexibility at 25 ° C., Furthermore, since it has flexibility even in a completely cured state, it was confirmed that it has both flexibility and shape retention as a spacer.

1,1A,1B…接着フィルム積層体、2…接着フィルム、2a…接着フィルムの基材、2b…第1の接着剤層、2c…第2の接着剤層、3…剥離フィルム、3a…剥離フィルムの基材、3b…第1の粘着剤層または剥離剤層、4…キャリアフィルム、4a…キャリアフィルムの基材、4b…第2の粘着剤層、4c…穴、5…型抜きされた接着フィルム(型抜き形状)、6…空間、7…光学ガラス板(基板)、8…素子基板(電子機器)、9…デバイス、10,10A…電子機器モジュール。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,1A, 1B ... Adhesive film laminated body, 2 ... Adhesive film, 2a ... Base material of adhesive film, 2b ... 1st adhesive layer, 2c ... 2nd adhesive layer, 3 ... Release film, 3a ... Release Film substrate, 3b ... first adhesive layer or release agent layer, 4 ... carrier film, 4a ... carrier film substrate, 4b ... second adhesive layer, 4c ... hole, 5 ... die cut Adhesive film (die-cut shape), 6 ... space, 7 ... optical glass plate (substrate), 8 ... element substrate (electronic device), 9 ... device, 10, 10A ... electronic device module.

Claims (3)

電子機器と基板とを貼合して電子機器モジュールを製造する方法であって、下記(1)〜(4)の工程を含むことを特徴とする電子機器モジュールの製造方法。
(1)耐熱性樹脂フィルムからなる基材の両面に、それぞれ熱硬化性のエポキシ系接着剤からなる第1の接着剤層および第2の接着剤層が形成された3層構造からなる接着フィルムと、前記第1の接着剤層に貼合された粘着剤層または剥離剤層を有する剥離フィルムと、前記第2の接着剤層に貼合された粘着剤層を有するキャリアフィルムとを備え、前記接着フィルムの基材は、厚みが20〜500μmであり、第1の接着剤層および第2の接着剤層は、それぞれ厚みが5〜50μmであって完全に硬化した状態においても可撓性を有し、前記エポキシ系接着剤が半硬化状態に熱処理されてなり25℃において可撓性を有した固体状であり、前記接着フィルムが、電子機器の寸法パターンに合わせて型抜きされ、前記キャリアフィルムの上に2次元的に配設されてなる接着フィルム積層体を準備する工程、
(2)前記接着フィルム積層体から前記剥離フィルムを剥がした後、前記キャリアフィルム上の前記型抜きされた接着フィルムを基板の上に重ね合わせ、加熱処理により前記第1の接着剤層の接着力を発現して前記基板に固定し、さらに前記キャリアフィルムを剥離することにより、前記型抜きされた接着フィルムを前記基板上に転写する工程、
(3)前記型抜きされた接着フィルムが転写された前記基板を、電子機器の寸法パターンに合わせて小片にダイシングする工程、
(4)前記小片に転写されている前記型抜きされた接着フィルムの前記第2の接着剤層の上に電子機器を重ね合わせ、加熱処理により前記第2の接着剤層の接着力を発現して前記電子機器に固定し、前記基板の小片と前記電子機器とを前記型抜きされた接着フィルムを介して接着し、電子機器モジュールに組み立てる工程。
A method of manufacturing an electronic device module by bonding an electronic device and a substrate, the method including the following steps (1) to (4):
(1) Adhesive film having a three-layer structure in which a first adhesive layer and a second adhesive layer each made of a thermosetting epoxy adhesive are formed on both surfaces of a base material made of a heat-resistant resin film. And a release film having a pressure-sensitive adhesive layer or a release agent layer bonded to the first adhesive layer, and a carrier film having a pressure-sensitive adhesive layer bonded to the second adhesive layer, The base material of the adhesive film has a thickness of 20 to 500 μm, and the first adhesive layer and the second adhesive layer have a thickness of 5 to 50 μm and are flexible even in a completely cured state. The epoxy adhesive is heat-treated in a semi-cured state and is a solid having flexibility at 25 ° C., and the adhesive film is punched in accordance with a dimensional pattern of an electronic device, 2 on the carrier film Preparing an adhesive film laminate that is dimensionally arranged;
(2) After peeling off the release film from the adhesive film laminate, the die-cut adhesive film on the carrier film is superposed on a substrate, and the adhesive force of the first adhesive layer by heat treatment Expressing and fixing to the substrate and further peeling the carrier film to transfer the die-cut adhesive film onto the substrate,
(3) a step of dicing the substrate onto which the die-cut adhesive film has been transferred into small pieces in accordance with a dimensional pattern of an electronic device;
(4) An electronic device is overlaid on the second adhesive layer of the die-cut adhesive film transferred to the small piece, and the adhesive force of the second adhesive layer is expressed by heat treatment. Fixing to the electronic device, bonding the small piece of the substrate and the electronic device through the die-cut adhesive film, and assembling the electronic device module.
電子機器と基板とを貼合して電子機器モジュールを製造する方法であって、下記(1)〜(4)の工程を含むことを特徴とする電子機器モジュールの製造方法。
(1)耐熱性樹脂フィルムからなる基材の両面に、それぞれ熱硬化性のエポキシ系接着剤からなる第1の接着剤層および第2の接着剤層が形成された3層構造からなる接着フィルムと、前記第1の接着剤層に貼合された粘着剤層または剥離剤層を有する剥離フィルムと、前記第2の接着剤層に貼合された粘着剤層を有するキャリアフィルムとを備え、前記接着フィルムの基材は、厚みが20〜500μmであり、前記エポキシ系接着剤が半硬化状態に熱処理されてなり25℃において可撓性を有した固体状であり、前記接着フィルムが、電子機器の寸法パターンに合わせて型抜きされ、前記キャリアフィルムの上に2次元的に配設されてなる接着フィルム積層体を準備する工程、
(2)前記接着フィルム積層体から前記剥離フィルムを剥がした後、前記キャリアフィルム上の前記型抜きされた接着フィルムを基板の上に重ね合わせ、加熱処理により前記第1の接着剤層の接着力を発現して前記基板に固定し、さらに前記キャリアフィルムを剥離することにより、前記型抜きされた接着フィルムを前記基板上に転写する工程、
(3)前記基板に転写されている前記型抜きされた接着フィルムの前記第2の接着剤層の上に電子機器を重ね合わせ、加熱処理により前記第2の接着剤層の接着力を発現して前記電子機器に固定し、前記基板と前記電子機器とを前記型抜きされた接着フィルムを介して接着する工程、
(4)前記型抜きされた接着フィルムを介して前記電子機器が接着された前記基板を、電子機器の寸法パターンに合わせて小片にダイシングし、電子機器モジュールに組み立てる工程。
A method of manufacturing an electronic device module by bonding an electronic device and a substrate, the method including the following steps (1) to (4):
(1) Adhesive film having a three-layer structure in which a first adhesive layer and a second adhesive layer each made of a thermosetting epoxy adhesive are formed on both surfaces of a base material made of a heat-resistant resin film. And a release film having a pressure-sensitive adhesive layer or a release agent layer bonded to the first adhesive layer, and a carrier film having a pressure-sensitive adhesive layer bonded to the second adhesive layer, The base material of the adhesive film has a thickness of 20 to 500 μm, the epoxy adhesive is heat-treated in a semi-cured state, is a solid having flexibility at 25 ° C., and the adhesive film is an electronic A step of preparing an adhesive film laminate that is die-cut according to the dimensional pattern of the device and arranged two-dimensionally on the carrier film;
(2) After peeling off the release film from the adhesive film laminate, the die-cut adhesive film on the carrier film is superposed on a substrate, and the adhesive force of the first adhesive layer by heat treatment Expressing and fixing to the substrate and further peeling the carrier film to transfer the die-cut adhesive film onto the substrate,
(3) An electronic device is overlaid on the second adhesive layer of the die-cut adhesive film transferred to the substrate, and the adhesive force of the second adhesive layer is expressed by heat treatment. Fixing to the electronic device, and bonding the substrate and the electronic device via the die-cut adhesive film,
(4) The process of dicing the board | substrate with which the said electronic device was adhere | attached through the said die-cut adhesive film according to the dimension pattern of an electronic device, and assembling it to an electronic device module.
前記電子機器が発光素子または表示素子であり、前記基板が光学ガラス板であることを特徴とする請求項1または2に記載の電子機器モジュールの製造方法。   The method of manufacturing an electronic device module according to claim 1, wherein the electronic device is a light emitting element or a display element, and the substrate is an optical glass plate.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20150113449A (en) * 2014-03-28 2015-10-08 제일모직주식회사 Adhesive film for encapsulating organic light emitting region and oled display apparatus prepared using the same
CN107498842A (en) * 2017-08-16 2017-12-22 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 Laminating apparatus and applying method

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