JP2008113907A - 遊技盤開発プログラム - Google Patents

Abstract

【課題】遊技盤を試作する手間を省くことにより、開発コストを削減することが可能な遊技盤開発プログラムを提供する。
【解決手段】本発明に係る遊技盤開発プログラムは、予め記憶された個々の遊技部材に関するデータに基づいて、遊技盤上に遊技部材を配置することによって遊技盤データを生成する遊技盤データ生成ステップと、生成された遊技盤データを三次元遊技盤データに変換する変換ステップと、変換された三次元遊技盤データに基づいて、仮想遊技盤を仮想空間上に配置する仮想空間配置ステップと、仮想空間上に配置された仮想遊技盤上に設定されたパラメータに基づいて発射された擬似遊技媒体が流下する軌道を算出する軌道算出ステップと、当該算出結果に基づいて、仮想遊技盤上における擬似遊技媒体の流下態様を表示画面上に表示させる流下態様表示ステップとを実行することを特徴とする。
【選択図】図２

Description

本発明は遊技盤開発プログラムに関し、特に遊技盤を設計する遊技盤開発プログラムに関するものである。

従来より、パチンコ遊技機における遊技盤面に釘（遊技部材）を配置するに際しては、まず、遊技盤形成データ作成装置（ＣＡＤ）にそれぞれの釘配置情報を個別的に入力し、その後に、それら釘配置情報をＮＣ釘打機に供給していた。

また、近年では、釘の配置データ群をモジュール化しておくことにより、設計者の省力化を図ると同時に設計ミスを低減させることを可能にした釘配置方法も登場している（例えば、特許文献１参照）。
特開２００２−３２０７１６号公報

しかしながら、特許文献１に示す釘配置方法では、遊技盤形成データ作成装置（ＣＡＤ）等により釘配置（ゲージ）図面を作成した場合、実際の遊技球の流下態様を確認する必要があるので、作成したゲージ図面に基づいた遊技盤を試作していた。

このように、従来の技術では、ゲージ図面を作成する毎に、遊技盤の試作品を作成していたため、費用と労力の負担が大きかった。

特にゲージ図面の微調整を繰り返す場合等には、何台もの試作品を作成することとなり、開発コストがかさんでしまう。

そこで、本発明は、遊技盤を試作する手間を省くことにより、開発コストを削減することが可能な遊技盤開発プログラムを提供することを目的とする。

上記課題を解決するため、請求項１に記載の本発明の遊技盤開発プログラムは、所定の記憶領域（記憶部８）に予め記憶された個々の遊技部材に関するデータに基づいて、遊技盤上に遊技部材を配置することによって遊技盤データを生成する遊技盤データ生成ステップと、遊技部材に対応し、所定の記憶領域に記憶された三次元変換データに基づいて、遊技盤データ生成ステップにて生成された遊技盤データを三次元遊技盤データに変換する変換ステップと、遊技部材毎に対応してパラメータを設定するパラメータ設定ステップと、変換された三次元遊技盤データに基づいて、仮想遊技盤を予め設定された仮想空間上に配置する仮想空間配置ステップと、仮想空間上に配置された仮想遊技盤上に設定されたパラメータに基づいて所定の発射速度によって所定の発射位置から発射された擬似遊技媒体が流下する軌道を算出する軌道算出ステップと、軌道算出ステップにおける算出結果に基づいて、仮想遊技盤上における擬似遊技媒体の流下態様を表示画面上に表示させる流下態様表示ステップとを実行することを特徴とする。

本構成によれば、パラメータが設定された遊技部材が配置された遊技盤データが、仮想遊技盤となって仮想空間上に配置されるとともに、当該仮想遊技盤における擬似遊技媒体の軌道が算出され、その態様を表示画面上で確認できるようになっている。

そのため、例えば、遊技盤形成データ作成装置（ＣＡＤ）等により二次元態様の遊技盤を設計した場合、遊技盤を試作せずとも、当該遊技盤における遊技球の流下態様をシュミレートすることが可能となる。

これにより、遊技盤の開発に際し、遊技盤を試作する手間を省いて開発コストを削減することが可能となる。

請求項２に記載の本発明は、請求項１に記載の発明の構成に加えて、パラメータは、擬似遊技媒体と遊技部材との間の摩擦係数または反発係数を含むことを特徴とする。

本構成によれば、請求項１に記載された遊技盤開発プログラムと同様の作用効果が得られるとともに、遊技に直接関連する物理量が軌道算出ステップにおける計算に組み込まれるため、実際のパチンコ遊技機に近い球軌道の計算を効率的且つ有効に行なうことができる。

請求項３に記載の本発明は、請求項１または２に記載の発明の構成に加えて、パラメータを変更するパラメータ変更ステップを更に含むことを特徴とする。

本構成によれば、請求項１または請求項２に記載された遊技盤開発プログラムと同様の作用効果が得られるとともに、遊技部材におけるパラメータを変更できるため、あらゆる環境下における球軌道の検証を効率的且つ有効に行うことができる。

請求項４に記載の本発明は、請求項１〜３の何れか一項に記載の発明の構成に加えて、仮想遊技盤の仮想空間における傾斜角を変更する傾斜角変更ステップを更に含むことを特徴とする。

本構成によれば、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載された遊技盤開発プログラムと同様の作用効果が得られるとともに、擬似遊技媒体の仮想遊技盤上における軌道に影響を与える傾斜角を変更できるようになっているため、遊技機の筐体の設計や、遊技機の遊技場における設置状態等を考慮して検証することができ、遊技盤の設計に大きく寄与することができる。

請求項５に記載の本発明は、請求項１〜４の何れか一項に記載の発明の構成に加えて、擬似遊技媒体の発射速度を変更する発射速度変更ステップを更に含むことを特徴とする。

本構成によれば、請求項１から請求項４のいずれか一項に記載された遊技盤開発プログラムと同様の作用効果が得られるとともに、擬似遊技媒体の仮想遊技盤上における軌道に影響を与える擬似遊技媒体の発射速度を変更できるようになっているため、様々な遊技球の動作を再現でき、遊技盤の設計に大きく寄与することができる。

請求項６に記載の本発明は、請求項１〜５の何れか一項に記載の発明の構成に加えて、遊技盤データにおける遊技部材の配置を変更する遊技部材配置変更ステップを更に含み、変換ステップでは、遊技部材配置変更ステップにて遊技部材の配置が変更された遊技盤データを三次元遊技盤データに変換することを特徴とする。

本構成によれば、遊技部材配置変更ステップにて遊技部材の配置が変更された遊技盤データを三次元遊技盤データに変換することができるので、擬似遊技媒体の流下態様の確認をしながら、遊技部材の配置の微調整等を行うことも可能である。

この場合、ゲージの設計と試作とを繰り返し行いながら遊技盤を開発していた従来の技術に比べて、遊技部材の配置位置の微調整を素早く行うことができ、遊技盤の開発効率を高めることができる。

本発明によれば以下の効果を奏することができる。

すなわち、本発明によれば、遊技盤の開発に際し、遊技盤を試作する手間を省いて開発コストを削減することが可能となる。

以下、本発明を実施するための最良の形態を、図面を参照しつつさらに具体的に説明する。ここで、添付図面において同一の部材には同一の符号を付しており、また、重複した説明は省略されている。なお、ここでの説明は本発明が実施される最良の形態であることから、本発明は当該形態に限定されるものではない。

図１には、本実施の形態に係るパチンコ遊技機シミュレータ１の構成が概略的に示されている。なお、このシミュレータ１は、主にパチンコ遊技機の遊技盤の設計のために使用されるが、遊技性を兼ね備えたパチンコゲーム機として製造されても構わない。以下では、便宜上、シミュレータ１がパチンコ遊技機の遊技盤の設計に適用される場合について詳しく説明する。

図１に示されるように、シミュレータ１は、コンピュータを構成するシミュレータ本体３と、入力装置２と、表示装置（表示手段）４とから主に構成されている。なお、図１において、入力装置２および表示装置４は、シミュレータ本体３と分離して示されているが、シミュレータ本体３と一体を成していても良い。また、本実施の形態では、シミュレータ１における各装置（シミュレータ本体３、入力装置２、表示装置４等）の制御時に実行されるプログラムを、「遊技盤開発プログラム」という。

シミュレータ本体３は、シミュレータ１における様々な動作を制御するための主制御部６と、所定の遊技領域を有するパチンコ遊技機の遊技盤およびこの遊技盤上に配置される遊技部材（後述する遊技釘、風車、入賞装置等）の配置位置を示す配置パターンを複数種類記憶する記憶装置としての記憶部８と、主制御部６からの制御信号に基づいて表示装置４の表示制御を行う表示制御部１０とを有している。

また、入力装置２は、キーボード、マウス、画像等の読み込みが可能なスキャナ、あるいは、他の任意のスイッチ（様々な家庭用ゲーム機で使用されるようなコントローラを含む）から成り、主制御部６に接続される。

また、表示装置４は、液晶、ＣＲＴ等の現在知られている様々なディスプレイ装置から成り、後述する仮想空間上に配置された仮想的な遊技盤（以下、「仮想遊技盤」という（図１１の仮想遊技盤３０を参照））を表示することができる。

ここで、図１１を参照しながら、仮想遊技盤３０上に配置される遊技部材を、実際のパチンコ遊技機と関連付けて簡単に説明する。図１１には、仮想遊技盤の表面側が示されている。この仮想遊技盤３０の遊技領域Ａの略中央には、遊技部材としてのセンター飾り１０３，１０４が設けられている。センター飾り１０３の左側部分には、入球した遊技球を、仮想遊技盤３０の背面側に形成された図示しない通路に導くワープ口１２３が設けられている。センター飾り１０４の下方には、遊技部材としての始動入賞装置１１５が設けられている。なお、実際のパチンコ遊技機において、始動入賞装置１１５は、当該始動入賞装置１１５に遊技球が入賞しやすい開状態と始動入賞装置１１５に入賞しにくい閉状態とに変換可能な可動片１１５ａ，１１５ｂ（所謂「チューリップ」）を有しており、この可動片１１５ａ，１１５ｂが閉じた閉状態であっても、遊技球が１個程度入賞可能である。そして、遊技球が始動入賞装置１１５に入賞すると、例えば５個の賞球が払い出される。後述するが、本実施形態のシミュレータ１では、実際に遊技球が打ち出されるものではなく、当該遊技球を模した擬似遊技媒体１５０により、遊技球の軌道がシミュレートされるだけであるため、始動入賞装置１１５等への入賞による賞球の払い出しは行なわれず、その代わり、入賞形態に応じた所定のポイント（例えば、入賞に応じて払い出される賞球数）が加算されるようになっている（すなわち、本実施形態のシミュレータ１の処理プログラムには、入賞形態に応じて所定数のポイントを加算するステップが含まれている）。本実施の形態においては、仮想遊技盤３０における始動入賞装置１８もしくは第２始動入賞装置１１６に入賞すると５のポイントが、一般入賞装置Ａ〜Ｄのいずれかに入賞すると１０のポイントが、大入賞装置１５に入賞すると１５のポイントが、それぞれ加算される。また、後述するが、本実施形態のシミュレータ１における入賞とは、仮想遊技盤３０上で所定の軌道を流下する擬似遊技媒体１５０が、通過ゲートＡ１０５、通過ゲートＢ１０６、一般入賞装置Ａ１０８、一般入賞装置Ｂ１０９、一般入賞装置Ｃ１１７、一般入賞装置Ｄ１１８、大入賞装置１１４、始動入賞装置１１５、第２始動入賞装置１１６等の入賞用の遊技部材と関連付けられる（具体的には、擬似遊技媒体１５０の軌道が入賞用の遊技部材に入賞、もしくは当該遊技部材の入賞口を通過する）ことによって成立する（すなわち、本実施形態のシミュレータ１の処理プログラムには、仮想遊技盤３０上で所定の軌道を流下する擬似遊技媒体１５０が所定の遊技部材と関連付けられることによって入賞を成立させるステップが含まれている）。

センター飾り１０３の左右には、遊技部材としての通過ゲートＡ１０５，通過ゲートＢ１０６が設けられている。実際のパチンコ遊技機では、この通過ゲートＡ１０５、通過ゲートＢ１０６を遊技球が通過すると、図示しない表示手段によって普通図柄表示用の「○、×」の画像が交互に点灯されるようになっており、所定時間経過後、「○」の画像のみが点灯されると、始動入賞装置１１５における可動片１１５ａ，１１５ｂが開状態に変換される。

ここで、実際のパチンコ遊技機では、始動入賞装置１１５に遊技球が入賞（「始動入賞」という）すると、遊技盤の背面側に配置された図示しない図柄表示装置にて、識別図柄の変動表示が開始される。そして、この識別図柄の変動表示が所定の表示態様で停止すると、「大当り」となり、遊技者にとって有利な「特定遊技状態」（大当り遊技）に移行するようになっている。また、図柄表示装置とは、所定の画像信号入力に基づいて、上述した識別図柄（特別図柄・装飾図柄等）の変動表示やその他の演出アニメーションを含む表示が行なわれる装置であり、液晶、ＣＲＴ等の現在知られている様々なディスプレイ装置から成る。

また、遊技盤は、当該遊技盤の表面側から図柄表示装置の表示画面を視認可能にするために、透光性を有する部材（例えば、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、メタクリル樹脂などの合成樹脂等）で構成されていることが望ましい。

通過ゲートＢ１０６の下方には、遊技部材としての第２始動入賞装置１１６が設けられている。この第２始動入賞装置１１６の構成は、始動入賞装置１１５と近似しているため詳しい説明を省略するが、当該第２始動入賞装置１１６の上方には、遊技部材としての障害部材１２０が配置されており、第１始動入賞装置１１５と比べて第２始動入賞装置１１６への入賞が困難となっている。

始動入賞装置１１５の下方には、遊技者にとって有利な「開状態」と遊技者にとって不利な「閉状態」とに変換可能な扉開閉式の変動入賞装置からなる遊技部材としての大入賞装置１１４が設けられている。実際のパチンコ遊技機において、この大入賞装置１１４は、図柄表示装置での識別図柄の変動表示が大当り停止態様で停止したときに、所定時間だけ開状態に維持される。そして、本実施形態においては、例えば、この大入賞装置１１４に擬似遊技媒体１５０が入賞すると、所定のポイント数が加算されるように定められている。
前述の「特定遊技状態」とは、大入賞装置１１４に１０以上の擬似遊技媒体１５０が入賞するまであるいは３０秒経過するまで開状態が連続する遊技（以下、「大当り遊技」という）を、１５回（ラウンド）行なうことが可能な遊技状態をいう。

大入賞装置１１４の左右には、遊技部材としてのサイドランプ１１０，１１６が設けられている。また、大入賞装置１１４の下方には、アウト球を回収する遊技部材としてのアウト口１１３が設けられている。また、仮想遊技盤３０の左右には、遊技部材としてのレール１２２のセットが設けられている。後述する擬似遊技媒体１５０の軌道は、このレール１２２に沿って上昇移動し、遊技領域Ａに打ち込まれる。

センター飾り１０３，１０４の左右には、遊技部材としての図示しない風車が設けられている。実際のパチンコ遊技機において、これらの風車は、遊技球の流下経路を変更するとともに、遊技球が衝突したときに回転して遊技性を増大させる機能を果しているが、本実施形態においても、後述する遊技球の軌道計算において、この機能が加味される。

また、始動入賞装置１１５の左右側には、遊技部材としての一般入賞装置Ａ１０８、一般入賞装置Ｂ１０９、一般入賞装置Ｃ１１７、一般入賞装置Ｄ１１８が設けられている。更に、遊技領域Ａ内には、遊技球の流下方向に変化を与える遊技部材である遊技釘１０７が、多数点在して設けられている。

配置パターン記憶装置である記憶部８は、入賞用の遊技部材である入賞装置（例えば、通過ゲートＡ１０５、通過ゲートＢ１０６、一般入賞装置Ａ１０８、一般入賞装置Ｂ１０９、一般入賞装置Ｃ１１７、一般入賞装置Ｄ１１８、大入賞装置１１４、始動入賞装置１１５、第２始動入賞装置１１６等）、および当該入賞装置へ遊技球を誘導する複数の遊技釘１０７の配置位置が設定された配置パターンを、複数種類記憶している（例えば、図９および図１０参照）。

図９（ａ）〜（ｃ）は、一般入賞装置Ｃ１１７と、当該一般入賞装置Ｃ１１７へ遊技球を誘導する複数の遊技釘１０７の配置位置が設定された配置パターンの例を示し、図９（ｄ）〜（ｆ）は、通過ゲートＡ１０５と、当該通過ゲートＡ１０５へ遊技球を誘導する複数の遊技釘１０７の配置位置が設定された配置パターンの例を示している。

また、図１０（ａ）〜（ｃ）は、始動入賞装置１１５と、当該始動入賞装置１１５へ遊技球を誘導する複数の遊技釘１０７の配置位置が設定された配置パターンの例を示し、図１０（ｄ）〜（ｆ）は、大入賞装置１１４と、当該大入賞装置１１４へ遊技球を誘導する複数の遊技釘１０７の配置位置が設定された配置パターンの例を示している。なお、図１０（ｃ）では、遊技球の入賞が可能な第３始動入賞装置１１９が、始動入賞装置１１５の上方に配置されている例が示されている。

このように、本実施の形態では、遊技釘１０７の配置位置等が、配置パターン毎に固定化されるため、遊技球の流下経路や入賞率に影響を与える要素も、配置パターン毎に固定化される。

また、配置パターン記憶装置である記憶部８は、配置パターンとして、センター飾り１０３，１０４、サイドランプ１１０，１１６、アウト口１１３等の他の遊技部材の配置位置が設定された配置パターンをも記憶している。

ここで、各配置パターンにおける遊技部材は、それぞれ、遊技盤の土台を構成する基盤板３１（図６）上の所定の座標位置と関連付けられており、遊技盤データ生成部１６（後述）である主制御部６は、配置パターンにおける遊技部材を、それぞれ、当該関連付けられた座標位置に配置している。

さらに、記憶部８は、遊技盤データ生成部１６によって生成された遊技盤データを三次元データである三次元遊技盤データに変換するための変換プログラムおよびデータである三次元変換データ５１、および変換された三次元遊技盤データを基に仮想遊技盤を生成するための生成プログラムおよびデータである仮想遊技盤生成データ５２を、所定の記憶領域に記憶している。

主制御部６は、入力装置２からの信号に基づいて、遊技盤の少なくとも一部に複数の遊技部材の配置位置が設定された上述の配置パターンを、配置パターン記憶装置である記憶部８に複数種類記憶する遊技部材配置パターン記憶制御部２９を有している。なお、記憶部８への配置パターンの記憶は、他の装置もしくは手段によって行われてもよい。また、上記複数種類の配置パターンは、予め記憶部８に記憶されるようになっていてももちろんよい。また、当該記憶部８に配置パターンを記憶する処理の実行を、遊技部材配置パターン記憶ステップという。

主制御部６は、入力装置２からの信号に基づいて上記記憶部（配置パターン記憶装置）８に記憶された配置パターンのうち何れかを選択する配置パターン選択部１５と、配置パターン選択部１５にて選択された配置パターンに従って遊技盤の土台を構成する基盤板３１（図６）上に遊技部材（例えば、各種入賞装置や遊技釘１０７等）を配置することによって、遊技盤データを生成する遊技盤データ生成部１６とを有している。

また、遊技盤データ生成部１６は、当該配置された遊技部材の配置位置を個別に変更することを可能にする遊技部材配置変更部の機能をも有している。

さらに、主制御部６は、遊技部材に対応し、記憶部８に記憶された三次元変換データ５１に基づいて、上記遊技盤データ生成部１６にて生成された遊技盤データを三次元遊技盤データに変換する変換部１７と、当該変換された三次元遊技盤データを、記憶部８に記憶された仮想遊技盤生成データ５２に基づいて仮想遊技盤を生成するとともに、生成した仮想遊技盤を、予め設定された仮想空間上に配置する仮想空間配置部１８とを有している。

ここで、仮想空間とは、三次元の空間を擬似的に表すための仮想空間形成プログラム５０により形成された仮想的な空間のことである。なお、この仮想空間形成プログラム５０は、記憶部８の所定の領域に記憶されている。

さらに、主制御部６は、入力装置２からの信号に基づいてもしくは主制御部６内で所定のプログラムにしたがって、各部材（遊技部材等）毎に、それぞれ対応するパラメータを設定するパラメータ設定部１９を有している。また、パラメータ設定部１９は、当該設定されたパラメータを変更するパラメータ変更部の機能をも有している。

ここで、各部材に対応するパラメータとしては、当該部材と遊技球との間の摩擦係数や反発係数等が挙げられる。また、初期状態時における各部材と遊技球との間の摩擦係数および反発係数は、図１３に示されている。

また、主制御部６は、主制御部６内で所定のプログラムにしたがって、或いは入力装置２からの信号に基づいて、仮想遊技盤の仮想空間における傾斜角を変更する傾斜角変更部２０と、主制御部６内で所定のプログラムにしたがって、或いは入力装置２からの信号に基づいて、当該仮想遊技盤に向けて発射される擬似遊技媒体の発射速度を変更する発射速度変更部２１とを更に含んでいる。

ここで、初期状態において、仮想遊技盤は、仮想空間の底面と垂直の状態となっており、そのときにおける傾斜角は０度となっている。また、上記初期位置から仮想遊技盤の下端が３度前方に突出した場合の傾斜角は３度となり、一方、当該初期位置から仮想遊技盤の下端が３度後方に後退した場合の傾斜角は−３度となる。

さらに、主制御部６は、仮想遊技盤上における各部材に設定されたパラメータ（摩擦係数、反発係数等）に基づいて、所定の発射速度によって所定の発射位置から発射された擬似遊技媒体が流下する軌道を算出する軌道算出部１２を有している。一方、表示制御部１０は、軌道算出部１２による算出結果に基づいて、仮想遊技盤上における擬似遊技媒体の流下態様のシミュレートの結果を表示装置４の表示画面上に表示させる流下態様表示制御部２２を有している。すなわち、軌道算出部１２および流下態様表示制御部２２は、協働して、擬似遊技媒体の軌道算出および擬似遊技媒体の流下態様の表示を行なうための演算シミュレート手段を構成している。

また、主制御部６は、擬似遊技媒体の仮想遊技盤上における軌道に影響を与える要素（擬似遊技媒体の発射速度等）を変化させつつ、シミュレートを繰り返すことにより、遊技結果に関する所定の集計値を計算する集計値計算部１４を有している。一方、表示制御部１０は、集計値計算部１４で計算された集計値を表示装置４に表示させる集計値表示制御部２４を有している。なお、本実施形態において、集計値計算部１４および集計値表示制御部２４は、演算シミュレート手段を構成する球軌道算出部１２および球軌道表示制御部２２と別個に設けられているが、球軌道算出部１２および球軌道表示制御部２２と協働して演算シミュレート手段を構成していても構わない。

次に、上記構成のシミュレータ１によってパチンコ遊技機の遊技盤の設計を行なう場合について、図２乃至図５のフローチャートを主に参照しながら詳しく説明する。また、図２乃至図５の処理は、シミュレータ１におけるシミュレータ本体３の電源がＯＮされている状態で行われる。

まず、シミュレータ１のメイン制御処理のフローチャート（図２）に示されるように、ステップＳ１において、詳細については後述する遊技盤設計処理（図３参照）が実行される。当該ステップにおいては、遊技部材が配置された遊技盤を示す遊技盤データを生成する処理等が行われる。

ステップＳ２において、詳細については後述する仮想遊技盤生成処理（図４参照）が実行される。当該ステップにおいては、上記ステップＳ１にて生成された遊技盤データを基にして仮想遊技盤を生成する処理等が行われる。

ステップＳ３において、詳細については後述するシミュレート処理（図５参照）が実行される。当該ステップにおいては、上記ステップＳ２にて生成された仮想遊技盤における球軌道のシミュレートが、仮想空間にて行われる。

次に、上記ステップＳ１の遊技盤設計処理について、図３を参照しながら説明する。なお、図３は図１のシミュレータの遊技盤設計処理を示すフローチャートである。

ステップＳ１−１において、記憶部８に記憶された基盤板３１を示すデータを読み込む。これは、入力装置２の所定のキーまたはスイッチを操作することにより行なわれる。あるいは、入力装置２がマウスである場合には、表示装置４上の画面に表示される所定の項目にポインタを合わせて左クリックすることにより、当該データを読み込ませることができる。無論、記憶部８に記憶されているアプリケーションプログラムを立ち上げて、所定のファイルから当該データをロードする形態も考えられる。または、入力装置２を構成するスキャナから、基盤板を示すデータを読み込んでもよい。例えば、基盤板を示すデータが記された紙媒体等がセットされたスキャナから、当該紙媒体に記されたデータを読み込んでもよい。本実施の形態においては、例えば、基盤板３１（図６）を示すデータを読み込む。

続いて、ステップＳ１−２において、配置パターン選択部１５は、入力装置２からの信号に基づいて、配置パターン記憶装置である記憶部８に記憶された遊技部材の配置パターンのうち何れかを選択する処理を行なう（配置パターン選択ステップ）。例えば、入力装置２がマウスである場合には、表示装置４上の画面に表示される項目のうち、選択を希望する配置パターンを示す項目にポインタを合わせて左クリックすることにより、配置パターンを選択することができる。

例えば、始動入賞装置パターン１（図１０（ａ））を選択したい場合であれば、当該配置パターンを示す項目にポインタを合わせて左クリックすればよい。

ステップＳ１−３では、遊技盤データ生成部１６が、ステップＳ１−２にて選択された配置パターンに応じて基盤板３１に遊技部材を配置することにより、遊技盤データを生成する（遊技盤データ生成ステップ）。例えば、ステップＳ１−２にて、始動入賞装置パターン１（図１０（ａ））が選択された場合には、当該始動入賞装置パターン１に応じて、基盤板３１に始動入賞装置１１５や遊技釘１０７等の遊技部材を配置することにより、遊技盤データを生成する（図７参照）。

ステップＳ１−４において、遊技部材の配置を終了させるための操作がなされたか否かが判断される。遊技部材の配置を終了させるための操作がなされた旨の判断は、例えば入力装置２を構成するキーボード上の所定のキーが操作された場合や、表示装置４上の画面に表示される項目のうち、遊技部材の配置を終了させる旨を示す項目がマウス等により左クリックされた場合等になされる。そして、遊技部材の配置を終了させるための操作がなされた場合には遊技盤設計処理を終了し、一方、当該操作がなされていない場合には遊技部材の配置を継続させるためにステップＳ１−２の処理に戻る。

次に、上記ステップＳ２の仮想遊技盤生成処理について、図４を参照しながら説明する。なお、図４は本実施の形態に係る仮想遊技盤生成処理の処理手順を示すフローチャートである。

ステップＳ２−１では、変換部１７が、上記遊技盤設計処理（図３）にて生成された遊技盤データを三次元のデータである三次元遊技盤データに変換する処理を行う（変換ステップ）。当該変換は、記憶部８に記憶された三次元変換データ５１に基づいて行われる。これにより、基盤板３１に遊技部材が配置された状態を示す遊技盤データが、三次元のデータとなる。また、三次元遊技盤データにおける遊技釘１０７は、上方に向って５度傾斜した状態に設定されているが、当該遊技釘１０７の角度は、後述するステップＳ２−４にて個別に変更することが可能である。

また、当該ステップにて用いられる遊技盤データは、再度の編集を可能にするために、所定の記憶領域にバックアップされることが望ましい。

ステップＳ２−２では、仮想空間配置部１８が、ステップＳ２−１にて変換された三次元遊技盤データを基にして、仮想遊技盤を生成する処理を行う。当該処理は、記憶部８に記憶された仮想遊技盤生成データ５２に基づいて行われる。これにより、三次元の遊技盤データが、仮想空間に配置することが可能な仮想遊技盤となる。

ステップＳ２−３では、仮想空間配置部１８が、ステップＳ２−２にて生成された仮想遊技盤を、予め設定された仮想空間上に配置する（仮想空間配置ステップ）。

ステップＳ２−４では、パラメータ設定部１９が、入力装置２からの信号に基づいてもしくは主制御部６内で所定のプログラムにしたがって、上記生成された仮想遊技盤における各部材に、当該部材に対応するパラメータ（擬似遊技媒体１５０に対する反発係数・摩擦係数）を設定する処理を行う（パラメータ設定ステップ）。例えば、擬似遊技媒体１５０に対するレール１２２の反発係数、摩擦係数は、それぞれ（０．２）、（０．０５）に設定し、擬似遊技媒体１５０に対する各遊技釘１０７の反発係数、摩擦係数は、それぞれ（０．８５）、（０．００７）に設定する。また、擬似遊技媒体１５０に対する始動入賞装置１１５の反発係数、摩擦係数は、それぞれ（０．４）、（０．００３）に設定する。また、擬似遊技媒体１５０の他の擬似遊技媒体１５０に対する反発係数、摩擦係数は、それぞれ、（０．４）、（０．０５）に設定する（図１３参照）。

また、パラメータ設定部１９は、入力装置２からの信号に基づいて、上記値とは異なるパラメータ（反発係数、摩擦係数）を、各部材に設定してもよい。

さらに、パラメータ設定部１９は、入力装置２からの信号に基づいて、各遊技釘１０７の角度等を変更する。例えば、パラメータ設定部１９は、各遊技釘１０７の傾斜角度を７度に変更する旨の操作がなされた旨を示す信号を入力装置２から受けた場合（すなわち、入力装置２に、各遊技釘１０７の傾斜角度を７度に変更する旨の操作がなされた場合）には、各遊技釘１０７の傾斜角度を７度に変更する。

ステップＳ２−５において、仮想空間上に配置された仮想遊技盤を表示装置４の画面上に表示させる。これにより、生成された仮想遊技盤（例えば、図１１に示す仮想遊技盤３０）が、表示装置４に表示される。

次に、上記ステップＳ３のシュミレート処理について、図５を参照しながら説明する。なお、図５は図１のシミュレータのシュミレート処理を示すフローチャートである。

まず、ステップＳ３−１では、仮想空間に配置された仮想遊技盤情報の設定処理を行なう。具体的には、傾斜角変更部２０が、入力装置２からの信号に基づいて、仮想遊技盤の傾斜角を変更する（傾斜角変更ステップ）とともに、発射速度変更部２１が、主制御部６内で所定のプログラムにしたがって、或いは入力装置２からの信号に基づいて、当該仮想遊技盤に向けて発射される擬似遊技媒体の発射速度を変更する（発射速度変更ステップ）。

例えば、傾斜角変更部２０は、仮想遊技盤の傾斜角を３度にする旨の操作がなされた旨を示す信号を入力装置２から受けた場合（すなわち、入力装置２に、仮想遊技盤の傾斜角を３度に変更する旨の操作がなされた場合）には、当該仮想遊技盤の傾斜角を３度に設定する。

また、発射速度変更部２１は、入力装置２からの信号に基づいて、擬似遊技媒体の発射の初速度（擬似遊技媒体の発射速度）等を変更する。

また、当該ステップでは、仮想遊技盤における遊技部材の位置や、仮想遊技盤の表面側の形状、遊技部材の大きさや形状、重力加速度（初期状態においては、（９．８ｍ／ｓ２）に設定されている）、遊技釘１０７の角度、仮想遊技盤における基盤板３１や各遊技部材の材質、擬似遊技媒体と遊技部材との間の摩擦係数や反発係数、遊技環境の温度や湿度等の設定についても、入力装置２からの信号に基づいて変更可能であってもよい。

ステップＳ３−２において、仮想遊技盤における球軌道のシミュレートを開始するための操作がなされたか否かが判断される。具体的には、スタートボタンがＯＮされたか否かが判断される。スタートボタンは、例えば入力装置２を構成するキーボード上の所定のキーであっても良い。この判断がＹＥＳの場合には、ステップＳ３−３に移行し、ＮＯの場合には、再び遊技盤情報の設定を行うことが可能な状態にするために、ステップＳ３−１の処理に戻る。

ステップＳ３−３では、第１発目の擬似遊技媒体の遊技領域Ａへの発射がセットされる（ｎ←１）。具体的には、ステップＳ３−１で最終的に設定・変更された遊技盤情報（重力加速度、仮想遊技盤の傾斜角、遊技釘１０７の角度、反発係数、摩擦係数等）を固定した状態で、擬似遊技媒体の発射の初速度（遊技球の発射速度）を各打ち出し毎に無作為に変化させて、仮想遊技盤３０上における擬似遊技媒体の各軌道（１〜ｎ発目の各軌道）にばらつきを持たせるため、擬似遊技媒体の発射の初速度を、ステップＳ３−１で設定・変更された擬似遊技媒体の初速度を中心とする所定の変動幅内の所定値に設定する。

続いて、ステップＳ３−４において、この第１発目（ｎ＝１）の擬似遊技媒体の仮想遊技盤３０上における軌道が、ステップＳ３−１で最終的に設定・変更された遊技盤情報に基づいて計算される（ｎ＝１発目の球軌道シミュレーションが行なわれる（軌道算出ステップ））とともに、ステップＳ３−５において、算出された擬似遊技媒体の軌道が、表示装置４に表示された仮想遊技盤３０上に表示される（ｎ＝１発目の擬似遊技媒体を発射する（流下態様表示ステップ）。なお、このような処理は、主制御部６の軌道算出部１２および表示制御部１０の球軌道表示制御部２２により所定のプログラムにしたがって行なわれる。また、擬似遊技媒体１５０の軌道表示の一例が図１２に示されている。

ステップＳ３−５における擬似遊技媒体の軌道表示が終了すると、続いて、集計処理が行なわれる（ステップＳ３−６（集計値計算ステップ））。この処理は、前述したように仮想遊技盤３０上における擬似遊技媒体の軌道に影響を与える遊技盤情報（先の例では、擬似遊技媒体の発射の初速度）を変化させながら、後述するステップＳ３−７〜Ｓ３−９を含むループ処理経路Ｌに沿ってステップＳ３−４およびステップＳ３−５を繰り返す（ｎを１から所定の数まで変化させる（擬似遊技媒体を所定数ｎだけ発射させる））ことにより、遊技結果に関する所定の集計値（本実施形態では、後述する入賞率または出玉率）を計算するものであるため、第１発目の擬似遊技媒体の場合には、遊技結果のデータのみが記憶され、実質的な集計処理が行なわれない。すなわち、ステップＳ３−６における集計処理は、実質的には、少なくとも第２発目（ｎ＝２）以降から行なわれるものである。

ここで、集計値の計算方法について、図１４（ａ），（ｂ）を参照しながら簡単に説明する。この図１４（ａ）は、１０００発の擬似遊技媒体を発射した（上記ループ処理において、ｎを１から１０００まで変化させた）シミュレーションにおける入賞率リスト（集計結果）の一例を示している。この入賞率リストには、各入賞装置と、シミュレーションにおいてこれらの各入賞装置に入賞した擬似遊技媒体の個数とが示されている。無論、これらは、集計値データとして記憶部８に記憶されている。

この入賞率リストにおいて、ポイントが加算される入賞装置が始動入賞装置１１５だけであるとすると、集計値としての出玉率（仮想遊技盤上に対する擬似遊技媒体の発射回数に対するポイント累積数の比率）は、以下の式から、４８．０％となる。

賞球数＝（始動入賞装置に入賞時のポイント加算値）×（始動入賞装置への入賞数）＝５×９６＝４８０

出玉率＝賞球数／発射数＝４８０／１０００×１００＝４８．０（％）

一方、各入賞装置に対する入賞率（仮想遊技盤上に対する擬似遊技媒体の発射回数に対する入賞回数の比率）は、以下の式から計算される（各入賞装置における入賞率は、図１４の入賞率リストの「入賞数」の項目中に括弧書きで示されている）。

入賞率＝入賞数／発射数

以上のような計算処理は、主制御部６の集計値計算部１４により所定のプログラムにしたがって行なわれ、計算された集計値は、主制御部６の集計値表示制御部２４により所定のプログラムにしたがって表示装置４の画面上に表示される（ステップＳ３−７）。

また、図１４（ｂ）は、１０００発の擬似遊技媒体を発射した（上記ループ処理において、ｎを１から１０００まで変化させた）シミュレーションにおける通過率リスト（集計結果）の一例を示している。この通過率リストには、各入賞装置（通過ゲートＡ１０５、通過ゲート１０６）と、シミュレーションにおいてこれらの各入賞装置を通過した擬似遊技媒体の個数とが示されている。無論、これらは、集計値データとして記憶部８に記憶されている。

ステップＳ３−７の処理が完了すると、今度は、ステップＳ３−８において、第２発目の擬似遊技媒体の遊技領域Ａへの発射がセットされる（ｎ←ｎ＋１）。この場合も、前述したステップＳ３−３と同様に、遊技媒体の発射の初速度が、ステップＳ３−１で設定・変更された擬似遊技媒体の初速度を中心とする所定の変動幅内の所定値に設定される。そして、その後、ステップＳ３−９において、仮想遊技盤における球軌道のシミュレートを終了するための操作がなされたか否かが判断される。具体的には、ストップボタンがＯＮされたか否かが判断される。ストップボタンは、例えば入力装置２を構成するキーボード上の所定のキーであってもよい。この判断がＹＥＳの場合には、ステップＳ３−１０へ移行して、擬似遊技媒体の遊技領域Ａへの発射が停止される（ｎが０にセットされる）。一方、ＮＯの場合には、ステップＳ３−４に戻り、前述したステップＳ３−４〜ステップＳ３−８の処理が第２発目の擬似遊技媒体に関して繰り返される。

ステップＳ３−１０の処理が完了すると、次は、ステップＳ３−１１において、シミュレート処理を再び繰り返すための操作がなされたか否かが判断される。具体的には、再シミュレートを行うための操作が、入力装置２に対して行われたか否かが判断される。この判断がＹＥＳの場合には、ステップＳ３−１に戻り、仮想遊技盤における球軌道のシミュレートを再度実行可能となる。一方、ＮＯの場合には、シミュレート処理が終了する。

ここで、シミュレート処理が終了した場合には、ステップＳ１の遊技盤設計処理やステップＳ２の仮想遊技盤生成処理等が再び実行されるようになるため（図２参照）、これにより、上記ステップＳ２−１（図４）にて所定の記憶領域にバックアップされた遊技盤データを基にして、当該遊技盤データにて配置された遊技部材の配置位置を個別に変更する処理（遊技部材配置位置変更ステップ）や、仮想遊技盤におけるパラメータ（擬似遊技媒体と遊技部材との間の摩擦係数または反発係数）を変更する処理（パラメータ変更ステップ）や、仮想遊技盤の仮想空間における傾斜角を変更する処理（傾斜角変更ステップ）や、擬似遊技媒体の発射速度を変更する処理（発射速度変更ステップ）等を行うことができるとともに、これらの処理を経て生成された仮想遊技盤に対して、再度、球軌道のシミュレートを行うことが可能である。

以上、本発明の実施の形態を説明したが、これは本発明を具体的に例示したに過ぎず、特に本発明を限定するものではない。

例えば、ステップＳ１−１（図３）では、遊技部材が配置されていない基盤板３１（図６）を示すデータが読み込むようになっていたが、これに限られず、一部の遊技部材が予め配置された基盤板３２を示すデータを読み込むようになっていてもよい（図８参照。同図においては、センター飾り１０３，１０４、サイドランプ１１０，１１６、アウト口１１３、第２始動入賞装置１１６、障害部材１２０、レール１２２等の遊技部材が予め配置されている）。この場合、遊技部材を配置する手間を削減することができる。

また、ステップＳ１−１（図３）にて読み込まれる基盤板には、各入賞装置が予め配置され（図１５参照。同図においては、通過ゲートＡ１０５、通過ゲートＢ１０６、一般入賞装置Ａ１０８、一般入賞装置Ｂ１０９、一般入賞装置Ｃ１１７、一般入賞装置Ｄ１１８、大入賞装置１１４、始動入賞装置１１５、第２始動入賞装置１１６等の入賞装置が、予め基盤板３３に配置されている）、そして、配置パターン記憶装置である記憶部８には、これら各入賞装置へ遊技球を誘導する複数の遊技釘１０７の配置位置のみが設定された配置パターンを、複数種類記憶するようになっていてもよい（図１６および図１７参照）。

図１６（ａ）〜（ｃ）は、図１５に示す一般入賞装置Ｃ１１７へ遊技球を誘導する複数の遊技釘１０７の配置位置が設定された配置パターンの例を示し、図１６（ｄ）〜（ｆ）は、図１５に示す通過ゲートＡ１０５へ遊技球を誘導する複数の遊技釘１０７の配置位置が設定された配置パターンの例を示している。

また、図１７（ａ）〜（ｃ）は、図１５に示す始動入賞装置１１５へ遊技球を誘導する複数の遊技釘１０７の配置位置が設定された配置パターンの例を示し、図１７（ｄ）〜（ｆ）は、図１５に示す大入賞装置１１４へ遊技球を誘導する複数の遊技釘１０７の配置位置が設定された配置パターンの例を示している。また、図１６および図１７では、予め基盤板３３に配置されている入賞装置の位置を、点線にて表示している。

また、本実施の形態における配置パターンには、主に入賞装置への入賞率に影響を与える遊技釘の配置位置が設定されていたが、これに限られず、入賞装置の入賞率とは無関係な遊技釘の配置位置が設定されていていもよいし、他の遊技部材の配置位置が設定されていてもよい。

また、本実施の形態では、配置パターンを選択することで、複数の遊技釘の配置位置を一度に決定することができるようになっていたが、遊技釘の配置位置は、個別に決定可能であってももちろんによい。

さらに、本実施の形態においては、遊技部材毎に、パラメータ（反発係数、摩擦係数等）が設定されていたが、当該パラメータは、素材（樹脂や金属の種類）に応じて設定されるようになっていてもよい。これによれば、異なる種類の遊技部材であっても、素材が同一であれば、同一のパラメータが設定される場合がある。

また、本実施の形態においては、各遊技部材に設定されるパラメータ（反発係数、摩擦係数等）、仮想遊技盤の傾斜角、擬似遊技媒体の発射速度等の設定変更を任意に行うことが可能であったが、当該設定変更ができないプログラムに本発明を適用してももちろんよい。

以上説明したように、本実施の形態によれば、遊技盤データ生成ステップでは、遊技部材配置パターン選択ステップにて選択された配置パターンに従って遊技部材を遊技盤上に配置しているため、当該遊技部材配置パターン選択ステップにて選択する配置パターンの組み合わせを調整することにより、意図する入賞率を実現させることができる。

そして、本発明では、遊技球の流下経路や入賞率に影響を与える要素は、配置パターン毎に固定化されているので、多数の遊技部材の配置位置を個別に決定する従来の技術に比べて、遊技球の流下経路や入賞率等を予測することが容易となる。

これにより、試作品の作成負担や遊技部材の配置位置を調整する手間等を削減することができ、製作者の意図する入賞率の実現を容易にすることが可能となる。

さらに、本実施の形態によれば、入賞装置と、当該入賞装置へ遊技球を誘導する遊技釘とは、予め配置位置が対応して設定されているので、当該入賞装置へ遊技球を誘導する遊技釘の配置位置を個別に決定する従来の技術に比べて、当該入賞装置の入賞率等を予測することが容易となる。

これにより、試作品の作成負担や遊技釘の配置位置を調整する手間等をより削減することができ、製作者の意図する入賞率の実現がより容易となる。

また、本実施の形態によれば、遊技盤データ生成ステップにて配置された入賞装置に遊技球を誘導する遊技釘は、予め配置位置が設定されているので、入賞装置に遊技球を誘導する遊技釘の配置位置を個別に決定する従来の技術に比べて、当該入賞装置の入賞率等を予測することが容易となる。

これにより、試作品の作成負担や遊技釘の配置位置を調整する手間等をより削減することができ、製作者の意図する入賞率の実現がより容易となる。

また、本実施の形態によれば、遊技盤データ生成ステップにて配置された遊技部材の配置位置を、個別に変更することができるので、遊技球の流下経路や入賞率等の微調整が可能となり、製作者の意図する入賞率の実現がより容易となる。

さらに、配置パターンに従って遊技部材を配置した後に、当該遊技部材の配置位置の微調整を行う本発明によれば、多数の遊技部材の配置位置を予め個別に決定する従来の技術に比べて、遊技部材の配置位置を決定する手間を削減することができ、開発コストを軽減することができる。

さらに、本実施の形態によれば、パラメータが設定された遊技部材が配置された遊技盤データが、仮想遊技盤となって仮想空間上に配置されるとともに、当該仮想遊技盤における擬似遊技媒体の軌道が算出され、その態様を表示装置４の表示画面上で確認できるようになっている。

そのため、例えば、遊技盤形成データ作成装置（ＣＡＤ）等により二次元態様の遊技盤を設計した場合、遊技盤を試作せずとも、当該遊技盤における遊技球の流下態様をシュミレートすることが可能となる。

これにより、遊技盤の開発に際し、遊技盤を試作する手間を省いて開発コストを削減することが可能となる。

また、本実施の形態によれば、パラメータは、擬似遊技媒体と遊技部材との間の摩擦係数または反発係数を含んでいるので、遊技に直接関連する物理量が軌道算出ステップにおける計算に組み込まれるようになり、実際のパチンコ遊技機に近い球軌道の計算を効率的且つ有効に行なうことができる。

さらに、本実施の形態によれば、パラメータ変更ステップにて、遊技部材におけるパラメータを変更できるため、あらゆる環境下における球軌道の検証を効率的且つ有効に行うことができる。

また、本実施の形態によれば、傾斜角変更ステップにて、擬似遊技媒体の仮想遊技盤上における軌道に影響を与える傾斜角を変更できるため、遊技機の筐体の設計や、遊技機の遊技場における設置状態等を考慮して検証することができ、遊技盤の設計に大きく寄与することができる。

さらに、本実施の形態によれば、発射速度変更ステップにて、擬似遊技媒体の仮想遊技盤上における軌道に影響を与える擬似遊技媒体の発射速度を変更できるため、様々な遊技球の動作を再現でき、遊技盤の設計に大きく寄与することができる。

また、本実施の形態によれば、遊技部材配置変更ステップにて遊技部材の配置が変更された遊技盤データを三次元遊技盤データに変換することができるので、擬似遊技媒体の流下態様の確認をしながら、遊技部材の配置の微調整等を行うことも可能である。

この場合、ゲージの設計と試作とを繰り返し行いながら遊技盤を開発していた従来の技術に比べて、遊技部材の配置位置の微調整を素早く行うことができ、遊技盤の開発効率を高めることができる。

さらに、パチンコ遊技機シミュレータ１は、以下の機能を有している。以下では、便宜上、シミュレータ１がパチンコ遊技機の遊技盤の製造に適用される場合について詳しく説明する。

また、ここでは、シミュレータ１における各装置（シミュレータ本体３、入力装置２、表示装置４等）の制御時に実行されるプログラムを、「遊技盤製造プログラム」という。

主制御部６は、入力装置２からの信号に基づいて、遊技盤に開設される開設孔が設定された板状部材データを読み込む板状部材データ読込部２５を有している。板状部材データとは、ＣＡＤデータであり、例えば、図１９に示すように、基盤板３４を示す板状部材データに、釘下孔１７０，１７０ａ、ビス孔１８０，１８０ａ、位置決め孔１９０，１９０ａ、係止孔２００，２００ａ、取付孔２１０〜２２１等の開設孔の位置が示されたＣＡＤデータが挙げられる。

また、板状部材データ読込部２５は、上記板状部材データを記憶部８から読み出すようになっていてもよいし、入力装置２を構成するスキャナ等から読み出すようになっていてもよい。

ここで、釘下孔１７０，１７０ａは、遊技釘１０７を取り付けるための孔であり、ビス孔１８０は、センター飾り１０３，１０４、通過ゲートＡ１０５、通過ゲートＢ１０６等の遊技部材をビス止めするための孔である。また、位置決め孔１９０は、センター飾り１０３，１０４、通過ゲートＡ１０５、通過ゲートＢ１０６等の遊技部材の取付位置を位置決めするための位置決め突起を挿入するための孔であり、係止孔２００は、遊技部材を遊技盤に係止させるための係止片が挿入される孔である。

そして、取付孔２１０は、ワープ口１２３が挿入されて取り付けられる孔、取付孔２１１は、通過ゲートＡ１０５が挿入されて取り付けられる孔、取付孔２１２は、通過ゲートＢ１０６が挿入されて取り付けられる孔、取付孔２１３は、センター飾り１０４が挿入されて取り付けられる孔、取付孔２１４は、第２始動入賞装置１１６が挿入されて取り付けられる孔、取付孔２１５は、始動入賞装置１１５が挿入されて取り付けられる孔、取付孔２１６は、一般入賞装置Ａ１０８が挿入されて取り付けられる孔、取付孔２１７は、一般入賞装置Ｂ１０９が挿入されて取り付けられる孔、取付孔２１８は、一般入賞装置Ｃ１１７が挿入されて取り付けられる孔、取付孔２１９は、一般入賞装置Ｄ１１８が挿入されて取り付けられる孔、取付孔２２０は、大入賞装置１１４が挿入されて取り付けられる孔、取付孔２２１は、アウト口１１３が挿入されて取り付けられる孔である。

さらに、主制御部６は、上記板状部材データ読込部２５により読み込まれた板状部材データの示す開設孔の種類を判別する判別部２６を有している。この判別部２６は、読み込まれた板状部材データにおける開設孔の大きさを判別することにより、当該開設孔の種類を判別している。例えば、判別部２６は、各開設孔における表面積を測定し、当該表面積が２．２４〜２．２６平方ミリメートルの範囲の開設孔に対しては釘下孔と判別し、当該表面積が３．９９〜４．０１平方ミリメートルの範囲の開設孔に対してはビス孔と判別し、当該表面積が６．２４〜６．２６平方ミリメートルの範囲の開設孔に対しては位置決め孔と判別する（図２７参照）。また、図２７に示すように、表面積が５６．００〜１３３．００平方ミリメートルの範囲の開設孔に対しては係止孔と判別し、表面積が１３５．００平方ミリメートル以上の開設孔に対しては取付孔と判別する。

また、主制御部６は、板状部材（遊技盤）に開設孔を開設するルータ加工装置に用いられる加工用データを複数種類生成する加工用データ生成部２７と、板状部材データの基準位置を特定する基準位置特定部４０と、当該基準位置特定部４０により特定された基準位置に対する開設孔の座標を特定する座標特定部４１と、上記加工用データ生成部２７にて生成される加工用データにおける基準位置を設定する基準位置設定部４２とをさらに有している。

基準位置特定部４０は、板状部材データ読込部２５により読み込まれた板状部材データにおける基盤板３４に対し、その左側の辺に沿って仮想的に軸ｙを引くとともに、下側の辺に沿って仮想的に軸ｘを引く（図２０参照）。そして、図２０に示すように、左側に仮想的に引いた軸ｙと、下側の辺に沿って仮想的に引いた軸ｘとの交点を基準位置Ｗとして特定する。また、基準位置特定部４０は、当該基準位置Ｗの座標を（ｘ，ｙ）＝（０，０）に設定する。ここで、軸ｘおよび軸ｙには、所定距離毎に目盛りＨが設定されている。座標特定部４１は、開設孔の中心位置に対応する目盛りＨの値を確認することにより、基準位置Ｗに対する開設孔の座標を特定することができるようになっている。

例えば、釘下孔１７０ａの中心位置に対応する目盛りＨの値は、軸ｘにおいては「２０」、軸ｙにおいては「６９」となっているため、当該釘下孔１７０ａの基準位置Ｗに対する座標は、（２０，６９）となる。

加工用データ生成部２７は、開設孔が開設されていない状態の基盤板３５（図２１）を示す加工用データを開設孔の種類毎に生成し、そして、基準位置設定部４２は、加工用データ生成部２７により生成された加工用データにおける基盤板３５に対し、その左側の辺に沿って仮想的に軸ｙを引くとともに、下側の辺に沿って仮想的に軸ｘを引く（図２１参照）。そして、図２１に示すように、左側に仮想的に引いた軸ｙと、下側の辺に沿って仮想的に引いた軸ｘとの交点を基準位置Ｐとして設定する。また、基準位置設定部４２は、当該基準位置Ｐの座標を（ｘ，ｙ）＝（０，０）に設定する。ここで、軸ｘおよび軸ｙには、所定距離毎に目盛りＩが設定されている。

さらに、主制御部６は、判別部２６にて判別された開設孔を、その種類に対応する加工用データに割り付ける割付部２８を有している。この割付部２８は、上記基準位置設定部４２にて設定された基準位置を基準として、座標特定部４１にて特定された開設孔の座標に対応する位置にて開設孔の割付を行っている。

例えば、割付部２８は、座標（２０，６９）の釘下孔１７０ａの場合、当該釘下孔に対応する加工用データ（以下、「釘下孔加工用データ」という）の示す基盤板３５のうち、板状部材データにおける釘下孔１７０ａの座標（２０，６９）と対応する位置を特定し、そして、特定した位置に当該釘下孔１７０ａを割り付ける（図２２参照。同図においては、基盤板３５のうち基準位置Ｐに対する座標が（２０，６９）となる位置が特定され、当該位置に釘下孔１７０ａが割り付けられている）。

次に、上記構成のシミュレータ１によって加工用データの生成を行なう場合について、図１８のフローチャートを主に参照しながら詳しく説明する。また、図１８の処理は、シミュレータ１におけるシミュレータ本体３の電源がＯＮされている状態で行われる。

まず、シミュレータ１のデータ変換処理のフローチャート（図１８）に示されるように、ステップＳ１００において、板状部材データ読込部２５が、入力装置２を構成するスキャナから、板状部材データを読み込む（板状部材データ読込ステップ）。具体的には、板状部材データ読込部２５は、板状部材データが記された紙媒体等がセットされたスキャナから、当該紙媒体に記された板状部材データを読み取る。例えば、当該紙媒体に、図１９に示すような基盤板３４が記された場合、当該基盤板３４を示す板状部材データを読み込む。

続いて、ステップＳ１０１において、基準位置特定部４０は、板状部材データの基準位置を特定する（基準位置特定ステップ）。具体的には、基準位置特定部４０は、板状部材データ読込部２５により読み込まれた板状部材データにおける基盤板３４に対し、その左側の辺に沿って仮想的に軸ｙを引くとともに、下側の辺に沿って仮想的に軸ｘを引く（図２０参照）。そして、図２０に示すように、左側に仮想的に引いた軸ｙと、下側の辺に沿って仮想的に引いた軸ｘとの交点を基準位置Ｗとして特定する。また、基準位置特定部４０は、当該基準位置Ｗの座標を（ｘ，ｙ）＝（０，０）に設定する。ここで、軸ｘおよび軸ｙには、所定距離毎に目盛りＨが設定されている。

ステップＳ１０２において、座標特定部４１は、ステップＳ１０１において基準位置特定部４０により特定された基準位置Ｗに対する開設孔の座標を特定する（座標特定ステップ）。具体的には、座標特定部４１は、開設孔の中心位置に対応する目盛りＨの値を確認することにより、基準位置Ｗに対する開設孔の座標を特定する。

例えば、釘下孔１７０ａ（図２０）の場合、当該釘下孔の中心位置に対応する目盛りＨの値は、軸ｘにおいては「２０」、軸ｙにおいては「６９」となっているため、座標特定部４１は、当該釘下孔１７０ａの基準位置Ｗに対する座標を（２０，６９）に特定する。また、座標特定部４１は、他の開設孔の座標も、同様の手順にて特定する。

ステップＳ１０３において、判別部２６は、読み込まれた板状部材データの示す開設孔の中から、釘下孔を判別する（判別ステップ）。具体的には、判別部２６は、読み込まれた板状部材データにおける開設孔の大きさを判別することにより、釘下孔を判別する。例えば、判別部２６は、各開設孔における表面積を測定し、当該表面積が２．２４〜２．２６平方ミリメートルの範囲の開設孔を釘下孔と判別する（図２７参照）。

ステップＳ１０４において、加工用データ生成部２７は、開設孔が開設されていない状態の基盤板３５（図２１）を示す加工用データを、釘下孔加工用データとして生成する（加工用データ生成ステップ）。

また、当該ステップにおいて、基準位置設定部４２は、当該生成された釘下孔加工用データにおける基盤板３５に対し、その左側の辺に沿って仮想的に軸ｙを引くとともに、下側の辺に沿って仮想的に軸ｘを引く（図２１参照）。そして、図２１に示すように、左側に仮想的に引いた軸ｙと、下側の辺に沿って仮想的に引いた軸ｘとの交点を基準位置Ｐとして設定する。また、基準位置設定部４２は、当該基準位置Ｐの座標を（ｘ，ｙ）＝（０，０）に設定する。ここで、軸ｘおよび軸ｙには、所定距離毎に目盛りＩが設定されている。

ステップＳ１０５において、割付部２８は、ステップＳ１０３にて判別された釘下孔を、ステップＳ１０４にて生成された釘下孔加工用データに割付ける（割付ステップ）。具体的には、割付部２８は、判別された釘下孔を、ステップＳ１０４にて設定された基準位置Ｐを基準として、ステップＳ１０２にて特定された釘下孔の座標に対応する位置に割り付ける。

例えば、割付部２８は、座標（２０，６９）の釘下孔１７０ａの場合、釘下孔加工用データの示す基盤板３５のうち、板状部材データにおける釘下孔１７０ａの座標（２０，６９）と対応する位置を特定し、そして、特定した位置に当該釘下孔１７０ａを割り付ける（図２２参照。同図においては、基盤板３５のうち基準位置Ｐに対する座標が（２０，６９）となる位置が特定され、当該位置に釘下孔１７０ａが割り付けられている）。

ここで、当該ステップにおいて、例えば、図２２に示すように釘下孔が割り付けられた釘下孔加工用データは、釘下孔を開設する釘下孔ルータ加工装置３２０（図２９）に用いられるようになっている。この釘下孔ルータ加工装置３２０は、当該釘下孔加工用データに基づいて釘下孔を開設する。

このように、釘下孔を割り付けるための割付ステップでは、基準位置設定ステップにて設定された基準位置を基準として座標特定ステップにて特定された釘下孔の座標に対応する位置にて釘下孔の割り付けを行っているので、釘下孔の位置を正確に設定することができる。

ここで、釘下孔ルータ加工装置３２０は、図２９に示すにように、アーム部３２２、支持部材３２３、カッタヘッド部３２４を備えており、当該カッタヘッド部３２４にて、載置台３１０に載置された遊技盤３００を切削するようになっている。

アーム部３２２は、図示しない本体部から突出して設けられており、上下左右に移動可能となっている。また、支持部材３２３は、アーム部３２２の突出端に設けられ、その下端にカッタヘッド部３２４を搭載している。カッタヘッド部３２４は、支持部材３２３の下端から下方を向いて設けられ、高速回転することによって、当該カッタヘッド部３２４に接触する部材を切削することが可能となっている。

そのため、当該カッタヘッド部３２４にて遊技盤３００の切削を行うことができ、この切削により、遊技盤３００に開設孔等を開設することができる。

ここで、開設孔の切削は、上記切削して加工する部分に、高速回転するカッタヘッド部３２４を挿入することにより行われるが、切削する開設孔の種類によって、その挿入角度が異なるようになっている。例えば、釘下孔を開設する場合には、カッタヘッド部３２４を遊技盤３００の垂直方向から所定の角度（例えば、５度）傾斜した方向から挿入する（図３０（ｂ））、一方、釘下孔以外の開設孔を開設する場合（すなわち、釘下孔ルータ加工装置３２０以外のルータ加工装置にて開設孔を開設する場合）には、カッタヘッド部３２４を遊技盤３００の垂直方向から挿入する（図３０（ａ））。つまり、開設する開設孔の種類に応じて、切削手法が異なっている。

ステップＳ１０６において、判別部２６は、読み込まれた板状部材データの示す開設孔の中から、ビス孔を判別する（判別ステップ）。具体的には、判別部２６は、読み込まれた板状部材データにおける開設孔の大きさを判別することにより、ビス孔を判別する。例えば、判別部２６は、各開設孔における表面積を測定し、当該表面積が３．９９〜４．０１平方ミリメートルの範囲の開設孔をビス孔と判別する（図２７参照）。

ステップＳ１０７において、加工用データ生成部２７は、開設孔が開設されていない状態の基盤板３５（図２１）を示す加工用データを、ビス孔加工用データとして生成する（加工用データ生成ステップ）。

また、当該ステップにおいて、基準位置設定部４２は、当該生成されたビス孔加工用データにおける基盤板３５に対し、その左側の辺に沿って仮想的に軸ｙを引くとともに、下側の辺に沿って仮想的に軸ｘを引く（図２１参照）。そして、図２１に示すように、左側に仮想的に引いた軸ｙと、下側の辺に沿って仮想的に引いた軸ｘとの交点を基準位置Ｐとして設定する。また、基準位置設定部４２は、当該基準位置Ｐの座標を（ｘ，ｙ）＝（０，０）に設定する。ここで、軸ｘおよび軸ｙには、所定距離毎に目盛りＩが設定されている。

ステップＳ１０８において、割付部２８は、ステップＳ１０６にて判別されたビス孔を、ステップＳ１０７にて生成されたビス孔加工用データに割付ける（割付ステップ）。具体的には、割付部２８は、判別されたビス孔を、ステップＳ１０７にて設定された基準位置Ｐを基準として、ステップＳ１０６にて特定されたビス孔の座標に対応する位置に割り付ける。

例えば、割付部２８は、座標（１１０，１０５）のビス孔１８０ａの場合、ビス孔加工用データの示す基盤板３５のうち、板状部材データにおけるビス孔１８０ａの座標（１１０，１０５）と対応する位置を特定し、そして、特定した位置にビス孔１８０ａを割り付ける（図２３参照。同図においては、基盤板３５のうち基準位置Ｐに対する座標が（１１０，１０５）となる位置が特定され、当該位置にビス孔１８０ａが割り付けられている）。

ここで、当該ステップにおいて、例えば、図２３に示すようにビス孔が割り付けられたビス孔加工用データは、ビス孔を開設するビス孔ルータ加工装置（図示せず）に用いられるようになっている。このビス孔ルータ加工装置は、当該ビス孔加工用データに基づいてビス孔を開設する。

このように、ビス孔を割り付けるための割付ステップでは、基準位置設定ステップにて設定された基準位置を基準として座標特定ステップにて特定されたビス孔の座標に対応する位置にてビス孔の割り付けを行っているので、ビス孔の位置を正確に設定することができる。

ステップＳ１０９において、判別部２６は、読み込まれた板状部材データの示す開設孔の中から、位置決め孔を判別する（判別ステップ）。具体的には、判別部２６は、読み込まれた板状部材データにおける開設孔の大きさを判別することにより、位置決め孔を判別する。例えば、判別部２６は、各開設孔における表面積を測定し、当該表面積が６．２４〜６．２６平方ミリメートルの範囲の開設孔を位置決め孔と判別する（図２７参照）。

ステップＳ１１０において、加工用データ生成部２７は、開設孔が開設されていない状態の基盤板３５（図２１）を示す加工用データを、位置決め孔加工用データとして生成する（加工用データ生成ステップ）。

また、当該ステップにおいて、基準位置設定部４２は、当該生成された位置決め孔加工用データにおける基盤板３５に対し、その左側の辺に沿って仮想的に軸ｙを引くとともに、下側の辺に沿って仮想的に軸ｘを引く（図２１参照）。そして、図２１に示すように、左側に仮想的に引いた軸ｙと、下側の辺に沿って仮想的に引いた軸ｘとの交点を基準位置Ｐとして設定する。また、基準位置設定部４２は、当該基準位置Ｐの座標を（ｘ，ｙ）＝（０，０）に設定する。ここで、軸ｘおよび軸ｙには、所定距離毎に目盛りＩが設定されている。

ステップＳ１１１において、割付部２８は、ステップＳ１０９にて判別された位置決め孔を、ステップＳ１１０にて生成された位置決め孔加工用データに割付ける（割付ステップ）。具体的には、割付部２８は、判別された位置決め孔を、ステップＳ１１０にて設定された基準位置Ｐを基準として、ステップＳ１０９にて特定された位置決め孔の座標に対応する位置に割り付ける。

例えば、割付部２８は、座標（１１１，９９）の位置決め孔１９０ａの場合、位置決め孔加工用データの示す基盤板３５のうち、板状部材データにおける位置決め孔１９０ａの座標（１１１，９９）と対応する位置を特定し、そして、特定した位置に当該位置決め孔１９０ａを割り付ける（図２４参照。同図においては、基盤板３５のうち基準位置Ｐに対する座標が（１１１，９９）となる位置が特定され、当該位置に位置決め孔１９０ａが割り付けられている）。

ここで、当該ステップにおいて、例えば、図２４に示すように位置決め孔が割り付けられた位置決め孔加工用データは、位置決め孔を開設する位置決め孔ルータ加工装置（図示せず）に用いられるようになっている。この位置決め孔ルータ加工装置は、当該位置決め孔加工用データに基づいて位置決め孔を開設する。

このように、位置決め孔を割り付けるための割付ステップでは、基準位置設定ステップにて設定された基準位置を基準として座標特定ステップにて特定された位置決め孔の座標に対応する位置にて位置決め孔の割り付けを行っているので、位置決め孔の位置を正確に設定することができる。

ステップＳ１１２において、判別部２６は、読み込まれた板状部材データの示す開設孔の中から、係止孔を判別する（判別ステップ）。具体的には、判別部２６は、読み込まれた板状部材データにおける開設孔の大きさを判別することにより、係止孔を判別する。例えば、判別部２６は、各開設孔における表面積を測定し、当該表面積が５６．００〜１３３．００平方ミリメートルの範囲の開設孔を係止孔と判別する（図２７参照）。

ステップＳ１１３において、加工用データ生成部２７は、開設孔が開設されていない状態の基盤板３５（図２１）を示す加工用データを、係止孔加工用データとして生成する（加工用データ生成ステップ）。

また、当該ステップにおいて、基準位置設定部４２は、当該生成された係止孔加工用データにおける基盤板３５に対し、その左側の辺に沿って仮想的に軸ｙを引くとともに、下側の辺に沿って仮想的に軸ｘを引く（図２１参照）。そして、図２１に示すように、左側に仮想的に引いた軸ｙと、下側の辺に沿って仮想的に引いた軸ｘとの交点を基準位置Ｐとして設定する。また、基準位置設定部４２は、当該基準位置Ｐの座標を（ｘ，ｙ）＝（０，０）に設定する。ここで、軸ｘおよび軸ｙには、所定距離毎に目盛りＩが設定されている。

ステップＳ１１４において、割付部２８は、ステップＳ１１２にて判別された係止孔を、ステップＳ１１３にて生成された係止孔加工用データに割付ける（割付ステップ）。具体的には、割付部２８は、判別された係止孔を、ステップＳ１１３にて設定された基準位置Ｐを基準として、ステップＳ１１２にて特定された係止孔の座標に対応する位置に割り付ける。

例えば、割付部２８は、座標（１０，９）の係止孔２００ａの場合、係止孔加工用データの示す基盤板３５のうち、板状部材データにおける係止孔２００ａの座標（１０，９）と対応する位置を特定し、そして、特定した位置に当該係止孔２００ａを割り付ける（図２５参照。同図においては、基盤板３５のうち基準位置Ｐに対する座標が（１０，９）となる位置が特定され、当該位置に係止孔２００ａが割り付けられている）。

ここで、当該ステップにおいて、例えば、図２５に示すように係止孔が割り付けられた係止孔加工用データは、係止孔を開設する係止孔ルータ加工装置（図示せず）に用いられるようになっている。この係止孔ルータ加工装置は、当該係止孔加工用データに基づいて係止孔を開設する。

このように、係止孔を割り付けるための割付ステップでは、基準位置設定ステップにて設定された基準位置を基準として座標特定ステップにて特定された係止孔の座標に対応する位置にて係止孔の割り付けを行っているので、係止孔の位置を正確に設定することができる。

ステップＳ１１５において、判別部２６は、読み込まれた板状部材データの示す開設孔の中から、取付孔を判別する（判別ステップ）。具体的には、判別部２６は、読み込まれた板状部材データにおける開設孔の大きさを判別することにより、取付孔を判別する。例えば、判別部２６は、各開設孔における表面積を測定し、当該表面積が１３５．００平方ミリメートル以上の開設孔を取付孔と判別する（図２７参照）。

ステップＳ１１６において、加工用データ生成部２７は、開設孔が開設されていない状態の基盤板３５（図２１）を示す加工用データを、取付孔加工用データとして生成する（加工用データ生成ステップ）。

また、当該ステップにおいて、基準位置設定部４２は、当該生成された取付孔加工用データにおける基盤板３５に対し、その左側の辺に沿って仮想的に軸ｙを引くとともに、下側の辺に沿って仮想的に軸ｘを引く（図２１参照）。そして、図２１に示すように、左側に仮想的に引いた軸ｙと、下側の辺に沿って仮想的に引いた軸ｘとの交点を基準位置Ｐとして設定する。また、基準位置設定部４２は、当該基準位置Ｐの座標を（ｘ，ｙ）＝（０，０）に設定する。ここで、軸ｘおよび軸ｙには、所定距離毎に目盛りＩが設定されている。

ステップＳ１１７において、割付部２８は、ステップＳ１１５にて判別された取付孔を、ステップＳ１１６にて生成された取付孔加工用データに割付ける（割付ステップ）。具体的には、割付部２８は、判別された取付孔を、ステップＳ１１６にて設定された基準位置Ｐを基準として、ステップＳ１１５にて特定された取付孔の座標に対応する位置に割り付ける。

例えば、割付部２８は、座標（４６，３２）の取付孔２１７の場合、取付孔加工用データの示す基盤板３５のうち、板状部材データにおける取付孔２１７の座標（４６，３２）と対応する位置を特定し、そして、特定した位置に当該取付孔２１７を割り付ける（図２６参照。同図においては、基盤板３５のうち基準位置Ｐに対する座標が（４６，３２）となる位置が特定され、当該位置に取付孔２１７が割り付けられている）。

ここで、当該ステップにおいて、例えば、図２６に示すように取付孔が割り付けられた取付孔加工用データは、取付孔を開設する取付孔ルータ加工装置（図示せず）に用いられるようになっている。この取付孔ルータ加工装置は、当該取付孔加工用データに基づいて取付孔を開設する。

このように、取付孔を割り付けるための割付ステップでは、基準位置設定ステップにて設定された基準位置を基準として座標特定ステップにて特定された取付孔の座標に対応する位置にて取付孔の割り付けを行っているので、取付孔の位置を正確に設定することができる。

以上、シミュレータ１が遊技盤製造プログラムに基づいてパチンコ遊技機の遊技盤を製造する例を説明したが、これは本発明を具体的に例示したに過ぎず、特に本発明を限定するものではない。

例えば、判別部２６によって開設孔の大きさが判別されることによって、当該開設孔の種類が判別されるようになっていたが、これに限られず、他の手法により開設孔の種類が判別されるようになっていてもよい。

また、シミュレータ１に前述した処理を行わせる遊技盤開発プログラムや遊技盤製造プログラム等は、フロッピーディスク（登録商標）やＣＤ等の記憶媒体に記憶されていても良い。その場合には、図２８に示されるように、例えばパーソナルコンピュータ２７０によって記憶媒体２７２上のデータを読み取って実行し、コンピュータ２７０のディスプレイ２７４の画面上に前述した仮想遊技盤等を表示することができる。

さらに、本実施の形態においては、一のルータ加工装置は、一種類の開設孔を開設するようになっているため、複数種類の開設孔を遊技盤に開設する場合には、複数のルータ加工装置を用いる必要があったが、これに限られず、一台のルータ加工装置にて複数種類の開設孔を開設できるようになっていてもよい。この場合、当該ルータ加工装置により開設孔を開設する工程は、釘下孔を開設する工程、ビス孔を開設する工程等、開設孔の種類毎に分かれていることが望ましい。

また、図１８に示すデータ変換処理では、釘下孔、ビス孔、位置決め孔、係止孔、取付孔の順に、加工用データに割付けられるようになっていたが、これに限られず、当該割り付けは、他の順序で行われるようになっていてもよい。

以上説明したように、本実施の形態によれば、判別ステップにて判別された開設孔の種類別に、当該種類の開設孔に対応する加工用データが割付られるようになっている。

これによれば、複数種類の開設孔を開設する場合であっても、開設孔の種類別に加工用データを割り付けることができるので、ルータ加工装置にて開設孔を開設する毎にその開設孔の種類等を判別して当該開設孔の種類毎に開設方法を変更する処理を省くことができ、複数種類の開設孔が開設される遊技盤の製造効率を向上させることが可能となる。

さらに、本実施の形態によれば、割付ステップでは、基準位置設定ステップにて設定された基準位置を基準として座標特定ステップにて特定された開設孔の座標に対応する位置にて開設孔の割付を行っているので、開設孔の位置を正確に設定することができる。

また、本実施の形態によれば、開設孔は、その大きさに基づいて種類が判別されるようになっているので、開設孔の種類を判別する処理負担を軽減させることができる。

（実施の形態２）

本実施の形態における遊技盤製造プログラムが実行されるシミュレータ１は、実施の形態１の機能の一部に変更を加え、以下に示す機能を有する。

記憶部８における所定の記憶領域には、遊技部材に対応する開設孔の種類および開設位置に関するデータ（開設孔データ）を複数種類の遊技部材毎に記憶されている。例えば、始動入賞装置１１５（図３２（ａ））に対応する開設孔データとしては、開設孔（取付孔２１５、ビス孔１８０、位置決め孔１９０）が図３２（ｂ）に示すように配置された状態を示すデータが挙げられる。図３２（ｂ）においては、始動入賞装置１１５が挿入されて取り付けられる取付孔２１５の左右に、当該始動入賞装置１１５をビス止めするためのビス孔１８０，１８０と、当該始動入賞装置１１５の取付位置を固定する部材を挿入するための位置決め孔１９０，１９０とが配置されている。

さらに、記憶部８は、所定の記憶領域に、遊技部材の輪郭を示す輪郭データを、遊技部材毎に記憶している。例えば、記憶部８は、センター飾り１０３の輪郭を示すセンター飾り輪郭データ、通過ゲートＡ１０５の輪郭を示す通過ゲートＡ輪郭データ、始動入賞装置１１５の輪郭を示す始動入賞装置輪郭データ等を記憶している。

主制御部６は、板状部材に複数種類の遊技部材を配置することによって生成された遊技盤データを読み込む遊技盤データ読込部２５１を有している。遊技盤データとしては、例えば、遊技盤データ生成部１６により生成された遊技盤データ（図１１）や、基盤板３４（図１９）を示す板状部材データに、大入賞装置１１４や始動入賞装置１１５等の遊技部材が予め配置されたＣＡＤデータが挙げられる。なお、本実施の形態における基準位置特定部４０は、当該遊技盤データ読込部２５１により読み込まれた遊技盤データにおける基盤板に対し、その左側の辺に沿って仮想的に軸ｙを引くとともに、下側の辺に沿って仮想的に軸ｘを引く（図３１参照）。そして、図３１に示すように、左側に仮想的に引いた軸ｙと、下側の辺に沿って仮想的に引いた軸ｘとの交点を基準位置Ｑとして特定する。また、基準位置特定部４０は、当該基準位置Ｑの座標を（ｘ，ｙ）＝（０，０）に設定する。ここで、軸ｘおよび軸ｙには、所定距離毎に目盛りＨが設定されている。後述する位置特定部２５２は、遊技部材の所定位置に対応する目盛りＨの値を確認することにより、基準位置Ｑに対する遊技部材の座標を特定することができるようになっている。

また、主制御部６は、遊技盤データにおける基盤板に配置された遊技部材および当該遊技部材の配置位置を特定する位置特定部２５２を有している。具体的には、位置特定部２５２は、遊技部材の輪郭を確認することにより当該遊技部材の種類を特定するとともに、当該遊技部材の所定位置に対応する目盛りＨの値を確認することにより、基準位置Ｑに対する遊技部材の座標を特定する。

例えば、始動入賞装置１１５の所定位置（例えば、始動入賞装置１１５の中心位置）に対応する目盛りＨの値は、軸ｘにおいては「７３」、軸ｙにおいては「４２」となっているため、当該始動入賞装置１１５の配置位置は、（７３，４２）の座標である旨を特定する。

ここで、位置特定部２５２は、遊技部材の輪郭を確認することにより当該遊技部材の種類を特定していたが、これに限られず、当該特定を他の手法によって行ってもよい。例えば、遊技部材の大きさを確認することにより行ってもよい。

さらに、主制御部６は、記憶部８における所定の記憶領域から、位置特定部２５２にて特定した遊技部材に対応する開設孔データを読み出すとともに、特定した当該遊技部材の配置位置に基づいて開設孔の種類および位置を設定する開設孔設定部２５３を有している。

例えば、位置特定部２５２にて、始動入賞装置１１５を特定した場合には、当該始動入賞装置１１５（図３２（ａ））に対応する開設孔データ（図３２（ｂ）に示す情報を含むデータ）を読み出すとともに、当該開設孔データに基づいて、開設孔の種類および位置を設定する。

また、本実施の形態における割付部２８は、上記開設孔設定部２５３にて設定された開設孔を、その種類に対応する加工用データに割り付ける。

例えば、設定された開設孔が釘下孔１７０であれば当該釘下孔１７０を釘下孔加工用データに、設定された開設孔がビス孔１８０であれば当該ビス孔１８０をビス孔加工用データに、設定された開設孔が位置決め孔１９０であれば当該位置決め孔１９０を位置決め孔加工用データに、それぞれ割り付ける。

次に、上記構成のシミュレータ１によって加工用データの生成を行なう場合について、図３３のフローチャートを主に参照しながら詳しく説明する。また、図３３の処理は、シミュレータ１におけるシミュレータ本体３の電源がＯＮされている状態で行われる。

まず、シミュレータ１のデータ変換処理のフローチャート（図３３）に示されるように、ステップＳ２００において、遊技盤データ読込部２５１が、入力装置２を構成するスキャナから、遊技盤データを読み込む（遊技盤データ読込ステップ）。具体的には、遊技盤データ読込部２５１は、遊技盤データが記された紙媒体等がセットされたスキャナから、当該紙媒体に記された遊技盤データを読み取る。例えば、当該紙媒体に、図１１に示すような基盤板３１が記された場合、当該基盤板３１を示す遊技盤データを読み込む。但し、これに限られず、遊技盤データ読込部２５１は、遊技盤データ生成部１６により生成された遊技盤データ（実施の形態１参照）を読み込んでもよい。

続いて、ステップＳ２０１において、基準位置特定部４０は、遊技盤データの基準位置を特定する（基準位置特定ステップ）。具体的には、基準位置特定部４０は、遊技盤データ読込部２５１により読み込まれた遊技盤データにおける基盤板３１に対し、その左側の辺に沿って仮想的に軸ｙを引くとともに、下側の辺に沿って仮想的に軸ｘを引く（図３１参照）。そして、図３１に示すように、左側に仮想的に引いた軸ｙと、下側の辺に沿って仮想的に引いた軸ｘとの交点を基準位置Ｑとして特定する。また、基準位置特定部４０は、当該基準位置Ｑの座標を（ｘ，ｙ）＝（０，０）に設定する。ここで、軸ｘおよび軸ｙには、所定距離毎に目盛りＨが設定されている。

ステップＳ２０２において、位置特定部２５２は、遊技盤データにおける基盤板に配置された遊技部材の中から遊技釘を特定する（位置特定ステップ）。具体的には、位置特定部２５２は、遊技釘の輪郭を示す釘輪郭データを所定の記憶領域から読み込むとともに、当該読み込んだ釘輪郭データと遊技盤データにおける各遊技部材とを照合し、適合する遊技部材を遊技釘として特定する。

次に、ステップＳ２０３において、位置特定部２５２は、ステップＳ２０２にて特定した遊技釘の配置位置を全て特定する（位置特定ステップ）。具体的には、位置特定部２５２は、特定した遊技釘の所定位置に対応する目盛りＨの値を確認することにより、基準位置Ｑに対する遊技釘の座標を特定する。

例えば、遊技釘１０７ａ（図３１）の所定位置（例えば、遊技釘１０７ａの中心位置）に対応する目盛りＨの値は、軸ｘにおいては「４２」、軸ｙにおいては「３７」となっているため、当該遊技釘１０７ａの配置位置は、（４２，３７）の座標である旨を特定する。

次に、ステップＳ２０４において、開設孔設定部２５３は、記憶部８における所定の記憶領域から、上記位置特定部２５２にて特定した遊技釘に対応する開設孔データを読み出すとともに、当該開設孔データに基づいて、開設孔の種類および位置を設定する（開設孔設定ステップ）。

具体的には、開設孔の種類として釘下孔を設定するとともに、遊技釘の座標に応じて、当該釘下孔の位置を設定する。例えば、遊技釘の座標が（４２，３７）である場合には、釘下孔の位置を、座標（４２，３７）に設定する。

ステップＳ２０５において、加工用データ生成部２７は、開設孔が開設されていない状態の基盤板３５（例えば、図２１参照）を示す加工用データを、釘下孔加工用データとして生成する（加工用データ生成ステップ）。

また、当該ステップにおいて、基準位置設定部４２は、当該生成された釘下孔加工用データにおける基盤板３５に対し、その左側の辺に沿って仮想的に軸ｙを引くとともに、下側の辺に沿って仮想的に軸ｘを引く（図２１参照）。そして、図２１に示すように、左側に仮想的に引いた軸ｙと、下側の辺に沿って仮想的に引いた軸ｘとの交点を基準位置Ｐとして設定する。また、基準位置設定部４２は、当該基準位置Ｐの座標を（ｘ，ｙ）＝（０，０）に設定する。ここで、軸ｘおよび軸ｙには、所定距離毎に目盛りＩが設定されている。

ステップＳ２０６において、割付部２８は、ステップＳ２０４にて設定された釘下孔を、ステップＳ２０５にて生成された釘下孔加工用データに割付ける。具体的には、割付部２８は、設定された釘下孔を、ステップＳ２０５にて設定された基準位置Ｐを基準として、ステップＳ２０４にて設定された釘下孔の座標に対応する位置に割り付ける（割付ステップ）。

例えば、割付部２８は、座標（２０，６９）の釘下孔１７０ａの場合、釘下孔加工用データの示す基盤板３５のうち、遊技盤データにおける釘下孔１７０ａの座標（２０，６９）と対応する位置を特定し、そして、特定した位置に当該釘下孔１７０ａを割り付ける（図２２参照。同図においては、基盤板３５のうち基準位置Ｐに対する座標が（２０，６９）となる位置が特定され、当該位置に釘下孔１７０ａが割り付けられている）。

ここで、当該ステップにおいて、例えば、図２２に示すように釘下孔が割り付けられた釘下孔加工用データは、釘下孔を開設する釘下孔ルータ加工装置３２０（図２９）に用いられるようになっている。この釘下孔ルータ加工装置３２０は、当該釘下孔加工用データに基づいて釘下孔を開設する。

ステップＳ２０７において、位置特定部２５２は、遊技盤データにおける基盤板に配置された遊技部材のうち何れかを選択し、当該選択した遊技部材の種類を特定する（位置特定ステップ）。具体的には、位置特定部２５２は、選択した遊技部材の輪郭が、記憶領域に記憶された輪郭データのうち何れかと適合するか否かを確認し、そして、適合する輪郭データがある場合には、当該輪郭データの示す遊技部材を特定する。

例えば、位置特定部２５２は、選択した遊技部材の輪郭が、センター飾り１０３の輪郭を示すセンター飾り輪郭データと適合した場合にはセンター飾りを特定する。また、通過ゲートＡ１０５の輪郭を示す通過ゲートＡ輪郭データと適合した場合には通過ゲートＡを特定し、始動入賞装置１１５の輪郭を示す始動入賞装置輪郭データと適合した場合には始動入賞装置を特定する。

次に、ステップＳ２０８において、位置特定部２５２は、ステップＳ２０７にて特定した遊技部材の配置位置を特定する（位置特定ステップ）。具体的には、位置特定部２５２は、特定した遊技部材の所定位置に対応する目盛りＨの値を確認することにより、基準位置Ｑに対する遊技部材の座標を特定する。

例えば、特定した遊技部材が始動入賞装置１１５（図３１）である場合には、当該始動入賞装置１１５の所定位置（例えば、始動入賞装置１１５の中心位置）に対応する目盛りＨの値が軸ｘにおいては「７３」、軸ｙにおいては「４２」となっているため、当該始動入賞装置１１５の配置位置は、（７３，４２）の座標である旨を特定する。

ステップＳ２０９において、開設孔設定部２５３は、記憶部８における所定の記憶領域から、上記位置特定部２５２にて特定した遊技部材に対応する開設孔データを読み出すとともに、当該開設孔データに基づいて、開設孔の種類および位置を設定する（開設孔設定ステップ）。

例えば、位置特定部２５２の特定した遊技部材が始動入賞装置１１５である場合には、開設孔の種類として、取付孔２１５、ビス孔１８０，１８０、位置決め孔１９０，１９０を設定するとともに、各開設孔の位置を、図３２（ｂ）に示す位置に設定する。ここで、各開設孔の座標位置は、ステップＳ２０８にて特定された遊技部材の配置位置を基にして設定される。例えば、座標（７３，４２）に位置する始動入賞装置１１５が取り付けられる取付孔２１７の座標は、（７８，４８）に設定される（図２６（参照））。

ステップＳ２１０において、割付部２８は、ステップＳ２０９にて設定された開設孔を、当該開設孔の種類に対応する加工用データに割付ける（割付ステップ）。具体的には、割付部２８は、設定された開設孔を、当該加工用データに設定された基準位置Ｐ（図２６）を基準として、ステップＳ２０９にて設定された開設孔の座標に対応する位置に割り付ける。

例えば、割付部２８は、座標（７８，４８）の取付孔２１７の場合、取付孔加工用データの示す基盤板３５のうち、遊技盤データにおける取付孔２１７の座標（７８，４８）と対応する位置を特定し、そして、特定した位置に当該取付孔２１７を割り付ける（図２６参照。同図においては、基盤板３５のうち基準位置Ｐに対する座標が（７８，４８）となる位置が特定され、当該位置に取付孔２１７が割り付けられている）。

ここで、当該ステップにおいて、例えば、図２６に示すように取付孔２１７が割り付けられた取付孔加工用データは、取付孔を開設する取付孔ルータ加工装置に用いられるようになっている。この取付孔ルータ加工装置は、当該取付孔加工用データに基づいて取付孔２１７等を開設する。

ステップＳ２１１において、主制御部６は、読み込んだ遊技盤データにおいて、未だ特定していない遊技部材が存在するか否かを確認する。そして、まだ特定していない遊技部材が存在する場合には、再度ステップＳ２０７からステップＳ２１０までの処理を繰り返す一方、全ての遊技部材の種類を特定した場合には、データ変換処理を終了する。

以上説明したように、本実施の形態によれば、開設孔は、取り付けられる遊技部材の種類および位置を基にして判別されるようになっているので、当該遊技部材の種類および位置を判別することで、開設孔の種類および位置を容易に特定することができ、開設孔の種類を判別する作業の負担をより軽減させることができる。

また、本発明によれば、開設孔設定ステップにて設定された開設孔を、当該種類の開設孔に対応する加工用データに割付けるようになっている。

これによれば、複数種類の開設孔を開設する場合であっても、開設孔の種類別に加工用データを割付ることができるので、ルータ加工装置にて開設孔を開設する毎にその開設孔の種類等を判別して当該開設孔の種類毎に開設方法を変更する処理を省くことができ、複数種類の開設孔が開設される遊技盤の製造効率を向上させることが可能となる。

本発明は、パチンコ遊技機以外の様々な遊技機の設計や製造に応用することが可能であるとともに、遊技に応用することも可能である。

本実施の形態に係るパチンコ遊技機シミュレータの概略構成を示すブロック図である。 図１のシミュレータのメイン制御処理を示すフローチャートである。 図１のシミュレータの遊技盤設計処理を示すフローチャートである。 図１のシミュレータの仮想遊技盤生成処理を示すフローチャートである。 図１のシミュレータのシュミレート処理を示すフローチャートである。 基盤板のレイアウト画像の一例を示す図である。 図６に示す基盤板に始動入賞装置パターン１に応じた遊技部材が配置された状態を示す図である。 基盤板のレイアウト画像の他の一例を示す図である。 記憶部に記憶された配置パターンの一例を示す図である。 記憶部に記憶された配置パターンの他の一例を示す図である。 表示装置の画面上に表示される仮想遊技盤のレイアウト画像の一例を示す図である。 図１１のレイアウト画像上に表示される擬似遊技媒体の軌道の一例を示す図である。 入賞率リストの一例を示している。 遊技球と各種部材との反発係数および摩擦係数の設定表示例を示している。 所定の遊技部材が予め配置された基盤板のレイアウト画像の一例を示す図である。 入賞装置を含まない配置パターンの一例を示す図である。 入賞装置を含まない配置パターンの他の一例を示す図である。 図１のシミュレータのデータ変換処理を示すフローチャートである。 板状部材データにおける基盤板のレイアウト画像の一例を示す図である。 板状部材データにおける基盤板のレイアウト画像の一例を示す図である。をコンピュータで読み取って実行する形態の一例を示す概略図である。 加工用データにおける基盤板のレイアウト画面の一例を示す図である。 釘下孔加工用データにおける基盤板に、釘下孔を割り付けた状態を示す図である。 ビス孔加工用データにおける基盤板に、ビス孔を割り付けた状態を示す図である。 位置決め孔加工用データにおける基盤板に、位置決め孔を割り付けた状態を示す図である。 係止孔加工用データにおける基盤板に、係止孔を割り付けた状態を示す図である。 取付孔加工用データにおける基盤板に、取付孔を割り付けた状態を示す図である。 開設孔の表面積の一例を示す図である。 図１のシミュレータの処理プログラムを記憶した記憶媒体をコンピュータで読み取って実行する形態の一例を示す概略図である。 釘下孔ルータ加工装置の一例を示す概念図である。 遊技盤の切削技術の一例を示す説明図である。 遊技盤データにおける基盤板のレイアウト画面の一例を示す図である。 始動入賞装置に対応する開設孔データの一例を示す図である。 実施の形態２に係るデータ変換処理を示すフローチャートである。

符号の説明

１ パチンコ遊技機シミュレータ
２ 入力装置
３ シミュレータ本体
４ 表示装置（表示手段）
６ 主制御部
８ 記憶部（配置パターン記憶装置）
１２ 軌道算出部
１４ 集計値計算部
１５ 配置パターン選択部
１６ 遊技盤データ生成部
１７ 変換部
１８ 仮想空間配置部
１９ パラメータ設定部
２０ 傾斜角変更部
２１ 発射速度変更部
２２ 流下態様表示制御部
２４ 集計値表示制御部
２５ 板状部材データ読込部
２６ 判別部
２７ 加工用データ生成部
２８ 割付部
２９ 遊技部材配置パターン記憶部
３０ 仮想遊技盤
３１，３２，３３，３４，３５ 基盤板
４０ 基準位置特定部
４１ 座標特定部
４２ 基準位置設定部
５０ 仮想空間形成プログラム
５１ 三次元変換データ
５２ 仮想遊技盤生成データ
１０３，１０４ センター飾り
１０５ 通過ゲートＡ
１０６ 通過ゲートＢ
１０７ 遊技釘
１０８ 一般入賞装置Ａ
１０９ 一般入賞装置Ｂ
１１７ 一般入賞装置Ｃ
１１８ 一般入賞装置Ｄ
１１０，１１６ サイドランプ
１１３ アウト口
１１４ 大入賞装置
１１５ 始動入賞装置
１１５ａ，１１５ｂ 可動片
１１６ 第２始動入賞装置
１１９ 第３始動入賞装置
１２０ 障害部材
１２２ レール
１２３ ワープ口
１５０ 擬似遊技媒体
１７０ 釘下孔
１８０ ビス孔
１９０，１９０ａ，１９０ｂ 位置決め孔
２００ 係止孔
２１０〜２２１ 取付孔
２５１ 遊技盤データ読込部
２５２ 位置特定部
２５３ 開設孔設定部
３００ 遊技盤
３１０ 載置台
３２０ 釘下孔ルータ加工機
３２２ アーム部
３２３ 支持部材
３２４ カッタヘッド部
ｘ，ｙ 軸
Ｗ 基準位置
Ｐ 基準位置
Ｑ 基準位置
Ｈ，Ｉ 目盛り

Claims (6)

1. 所定の記憶領域に予め記憶された個々の遊技部材に関するデータに基づいて、遊技盤上に遊技部材を配置することによって遊技盤データを生成する遊技盤データ生成ステップと、
   前記遊技部材に対応し、所定の記憶領域に記憶された三次元変換データに基づいて、前記遊技盤データ生成ステップにて生成された遊技盤データを三次元遊技盤データに変換する変換ステップと、
   前記遊技部材毎に対応してパラメータを設定するパラメータ設定ステップと、
   前記変換された三次元遊技盤データに基づいて、仮想遊技盤を予め設定された仮想空間上に配置する仮想空間配置ステップと、
   前記仮想空間上に配置された前記仮想遊技盤上に設定された前記パラメータに基づいて所定の発射速度によって所定の発射位置から発射された擬似遊技媒体が流下する軌道を算出する軌道算出ステップと、
   前記軌道算出ステップにおける算出結果に基づいて、前記仮想遊技盤上における擬似遊技媒体の流下態様を表示画面上に表示させる流下態様表示ステップと、
   を実行することを特徴とする遊技盤開発プログラム。
2. 前記パラメータは、前記擬似遊技媒体と前記遊技部材との間の摩擦係数または反発係数を含む、
   ことを特徴とする請求項１に記載の遊技盤開発プログラム。
3. 前記パラメータを変更するパラメータ変更ステップを更に含む、
   ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の遊技盤開発プログラム。
4. 前記仮想遊技盤の仮想空間における傾斜角を変更する傾斜角変更ステップを更に含む、 ことを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の遊技盤開発プログラム。
5. 前記擬似遊技媒体の発射速度を変更する発射速度変更ステップを更に含む、
   ことを特徴とする請求項１〜４の何れか一項に記載の遊技盤開発プログラム。
6. 前記遊技盤データにおける遊技部材の配置を変更する遊技部材配置変更ステップを更に含み、
   前記変換ステップでは、前記遊技部材配置変更ステップにて遊技部材の配置が変更された遊技盤データを三次元遊技盤データに変換する、
   ことを特徴とする請求項１〜５の何れか一項に記載の遊技盤開発プログラム。

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