JP2008105354A - Substrate heating method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、感光性ウエブが貼り付けられる基板を、貼り付け処理前に予め所定の温度に加熱する基板加熱方法に関する。 The present invention relates to a substrate heating method in which a substrate to which a photosensitive web is attached is heated in advance to a predetermined temperature before an attaching process.
例えば、液晶パネル用基板、プリント配線用基板、PDPパネル用基板では、感光材料(感光性樹脂)層を有する感光性シート体(感光性ウエブ)を基板表面に貼り付けて構成されている。感光性シート体は、可撓性プラスチック支持体上に感光材料層と保護フイルムとが、順次、積層されている。 For example, a liquid crystal panel substrate, a printed wiring substrate, and a PDP panel substrate are configured by attaching a photosensitive sheet (photosensitive web) having a photosensitive material (photosensitive resin) layer to the substrate surface. In the photosensitive sheet body, a photosensitive material layer and a protective film are sequentially laminated on a flexible plastic support.
そこで、この種の感光性シート体の貼り付けに使用される貼り付け装置は、通常、ガラス基板や樹脂基板等の基板を所定の間隔ずつ離間させて搬送するとともに、前記基板に貼り付けられる感光材料層の範囲に対応して、前記感光性シート体から保護フイルムを剥離する方式が採用されている。 In view of this, a pasting apparatus used for pasting this type of photosensitive sheet body usually transports substrates such as a glass substrate and a resin substrate spaced apart from each other by a predetermined interval, and also a photosensitive unit pasted on the substrate. In accordance with the range of the material layer, a method of peeling the protective film from the photosensitive sheet body is adopted.
例えば、特許文献1に開示されているフイルム張付方法及び装置では、図9に示すように、フイルムロール1から繰り出される積層体フイルム(感光性シート体)1aは、ガイドロール2a、2bに巻き付けられて水平のフイルム搬送面に沿って延在している。このガイドロール2bには、積層体フイルム1aの送り量に応じた数のパルス信号を出力するロータリエンコーダ3が取り付けられている。
For example, in the film sticking method and apparatus disclosed in
水平のフイルム搬送面に沿って延在する積層体フイルム1aは、サクションロール4に巻き掛けられるとともに、前記ガイドロール2bと前記サクションロール4との間には、ハーフカッタ5とカバーフイルム剥離装置6とが設けられている。
A laminate film 1a extending along a horizontal film transport surface is wound around a
ハーフカッタ5は、一対のディスクカッタ5a、5bを備えている。ディスクカッタ5a、5bは、積層体フイルム1aのフイルム幅方向に沿って移動することにより、前記積層体フイルム1aのカバーフイルム(図示せず)をその裏側の感光性樹脂層(図示せず)と一体に切断する。
The
カバーフイルム剥離装置6は、粘着テープロール7から繰り出される粘着テープ7aを押圧ロール8a、8b間でカバーフイルムに強く圧着させた後、巻き取りロール9によって巻き取る。これにより、カバーフイルムは、感光性樹脂層から剥離されて粘着テープ7aと共に巻き取りロール9に巻き取られる。
The cover
サクションロール4の下流には、基板搬送装置10によって、順次、間欠的に搬送される複数の基板11の上面に、積層体フイルム1aを重ねて圧着するラミネーションロール12a、12bが配設されている。このラミネーションロール12a、12bの下流側には、支持フイルム巻き取りロール13が配置されている。基板11に貼り付けられている透光性支持フイルム(図示せず)は、支持フイルム巻き取りロール13に巻き取られる。
Downstream of the
ところで、基板11は、ラミネーションロール12a、12bによるラミネート直前に、基板搬送装置10に近接して配置されているヒータ14によって予め所定の温度に加熱されている。このため、基板搬送装置10を構成する複数の搬送ローラ10aは、ヒータ14からの熱に曝されている。
By the way, the substrate 11 is heated in advance to a predetermined temperature by a
ここで、ラミネート処理が停止されていると、搬送ローラ10aの回転が停止されるため、この搬送ローラ10aは、ヒータ14に対向する側(上面)が集中的に加熱されてしまう。これにより、搬送ローラ10aは、片側過熱によって熱変形し易く、基板11の搬送を再開する際に振れ回りが発生し、前記基板11の搬送曲がりやばたつきによる損傷、又は搬送トラブルによる停止等が惹起するという問題がある。
Here, when the laminating process is stopped, the rotation of the
本発明はこの種の問題を解決するものであり、簡単な工程で、加熱炉内で搬送ローラが設定時間を超えて停止することがなく、前記搬送ローラの熱変形を良好に阻止することが可能な基板加熱方法を提供することを目的とする。 The present invention solves this type of problem, and in a simple process, the conveyance roller does not stop for a set time in the heating furnace, and it is possible to satisfactorily prevent thermal deformation of the conveyance roller. An object is to provide a possible substrate heating method.
本発明は、感光性ウエブが貼り付けられる基板を、貼り付け処理前に予め所定の温度に加熱する基板加熱方法に関するものである。 The present invention relates to a substrate heating method in which a substrate to which a photosensitive web is attached is heated in advance to a predetermined temperature before the attaching process.
この基板加熱方法は、基板を搬送機構を介して複数の加熱炉に間欠搬送又は連続搬送しながら、前記基板を加熱する工程と、前記加熱炉内で前記搬送機構が設定時間を超えて停止されると判断された際、前記搬送機構を構成する搬送ローラを一方向回転又は往復回転させる工程とを有している。 The substrate heating method includes a step of heating the substrate while intermittently or continuously transporting the substrate to a plurality of heating furnaces via a transport mechanism, and the transport mechanism is stopped for a set time in the heating furnace. If it is determined, the method includes a step of rotating the transport roller constituting the transport mechanism in one direction or reciprocating.
また、基板加熱方法では、少なくとも搬送ローラが一方向回転される際、基板を前記搬送ローラから離間させて保持することが好ましい。 In the substrate heating method, it is preferable that the substrate is held away from the transport roller at least when the transport roller is rotated in one direction.
さらに、基板加熱方法では、搬送ローラは、正逆両方向に0.5回転以上ずつ往復回転することが好ましい。 Further, in the substrate heating method, it is preferable that the transport roller is reciprocated by 0.5 or more rotations in both forward and reverse directions.
さらにまた、基板加熱方法では、加熱炉内で搬送機構が設定時間よりも長い一定時間を超えて停止する際、前記基板の加熱処理を一旦停止する工程と、前記基板の加熱を再開する際、前記基板の搬送を開始する前に搬送ローラを一方向回転又は往復回転させる工程とを有することが好ましい。 Furthermore, in the substrate heating method, when the transport mechanism stops in the heating furnace beyond a certain time longer than a set time, the step of temporarily stopping the heating process of the substrate, and when restarting the heating of the substrate, It is preferable to include a step of rotating the transport roller in one direction or reciprocating before starting the transport of the substrate.
本発明では、搬送ローラを一方向回転又は往復回転させるだけでよく、加熱炉内の搬送ローラは、停止した状態で設定時間を超えて加熱されることがないため、前記搬送ローラに片側過熱による熱変形が発生することを確実に阻止することができる。これにより、簡単な工程で、前記搬送ローラの振れ回りを防止し、基板の搬送曲がりやばたつきによる前記基板の損傷、又は搬送トラブルによる停止等を良好に阻止することが可能になる。 In the present invention, the conveyance roller only needs to be rotated in one direction or reciprocating, and the conveyance roller in the heating furnace is not heated beyond the set time in a stopped state. The occurrence of thermal deformation can be reliably prevented. Accordingly, it is possible to prevent the conveyance roller from swinging and to prevent the substrate from being damaged due to bending or flapping of the substrate, or from stopping due to a conveyance trouble, by a simple process.
図1は、本発明の第1の実施形態に係る基板加熱方法が適用される感光性積層体の製造装置20の概略構成図である。この製造装置20は、液晶又は有機EL用カラーフィルタの製作工程で、長尺状感光性ウエブ22a、22bの各感光性樹脂層28(後述する)を並列してガラス基板24に熱転写する作業を行う。以下、感光性ウエブ22a、22bがラミネートされたガラス基板24を貼り付け基板24aともいう。感光性ウエブ22a、22bは、それぞれ所定の幅寸法に設定されており、例えば、前記感光性ウエブ22aが前記感光性ウエブ22bよりも幅広に構成されている。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a photosensitive
図2は、製造装置20に使用される感光性ウエブ22a、22bの断面図である。この感光性ウエブ22a、22bは、基本的には、可撓性ベースフイルム(支持体)26と、感光性樹脂層(感光材料層)28と、保護フイルム30とを積層して構成される。
FIG. 2 is a cross-sectional view of the
図1に示すように、製造装置20は、感光性ウエブ22a、22bをロール状に巻回した2本(2本以上であればよい)の感光性ウエブロール23a、23bを収容し、各感光性ウエブロール23a、23bから前記感光性ウエブ22a、22bを同期して送り出し可能な第1及び第2ウエブ送り出し機構32a、32bと、送り出された各感光性ウエブ22a、22bの保護フイルム30に幅方向に切断可能な境界位置であるハーフカット部位34を形成する第1及び第2加工機構36a、36bと、一部に非接着部38aを有する接着ラベル38(図3参照)を各保護フイルム30に接着させる第1及び第2ラベル接着機構40a、40bとを備える。
As shown in FIG. 1, the
第1及び第2ラベル接着機構40a、40bの下流には、各感光性ウエブ22a、22bをタクト送りから連続送りに変更するための第1及び第2リザーバ機構42a、42bと、各感光性ウエブ22a、22bから保護フイルム30を所定の長さ間隔で剥離させる第1及び第2剥離機構44a、44bと、ガラス基板24を所定の温度に加熱した状態で貼り付け位置に搬送する基板加熱装置45と、前記保護フイルム30の剥離により露出した感光性樹脂層28を前記ガラス基板24に一体的且つ並列に貼り付ける貼り付け機構46とが配設される。
Downstream of the first and second
貼り付け機構46における貼り付け位置の上流近傍には、各感光性ウエブ22a、22bの境界位置であるそれぞれのハーフカット部位34を直接検出する第1及び第2検出機構47a、47bが配設される。
First and
第1及び第2ウエブ送り出し機構32a、32bの下流近傍には、略使用済みの感光性ウエブ22a、22bの後端と、新たに使用される感光性ウエブ22a、22bの先端とを貼り付けるそれぞれの貼り付け台49が配設される。貼り付け台49の下流には、感光性ウエブロール23a、23bの巻きずれによる幅方向のずれを制御するために、フイルム端末位置検出器51が配設される。
In the vicinity of the downstream of the first and second
第1及び第2加工機構36a、36bは、第1及び第2ウエブ送り出し機構32a、32bに収容巻回されている各感光性ウエブロール23a、23bのロール径を算出するためのローラ対50の下流に配置される。第1及び第2加工機構36a、36bは、それぞれ単一の丸刃52を備え、この丸刃52は、感光性ウエブ22a、22bの幅方向に走行して前記感光性ウエブ22a、22bの所定の位置にハーフカット部位34を形成する。
The first and
図2に示すように、ハーフカット部位34は、少なくとも保護フイルム30を切断する必要があり、実際上、この保護フイルム30を確実に切断するために感光性樹脂層28乃至ベースフイルム26まで切り込むように丸刃52の切り込み深さが設定される。丸刃52は、回転することなく固定された状態で、感光性ウエブ22a、22bの幅方向に移動してハーフカット部位34を形成する方式や、前記感光性ウエブ22a、22b上を滑ることなく回転しながら前記幅方向に移動して前記ハーフカット部位34を形成する方式が採用される。
As shown in FIG. 2, the half-
なお、第1及び第2加工機構36a、36bは、それぞれ感光性ウエブ22a、22bの搬送方向(矢印A方向)に所定の距離だけ離間して2台配設し、残存部分30bを挟んで2つのハーフカット部位34を同時に形成してもよい。
Two first and
ハーフカット部位34は、例えば、両側のガラス基板24にそれぞれ10mmずつ入り込んだ位置に設定される。ガラス基板24間のハーフカット部位34で挟まれた部分は、後述する貼り付け機構46において感光性樹脂層28を前記ガラス基板24に額縁状に貼り付ける際のマスクとして機能するものである。
The half-
第1及び第2ラベル接着機構40a、40bは、ガラス基板24間に対応して保護フイルム30の残存部分30bを残すため、剥離側前方の剥離部分30aaと剥離側後方の剥離部分30abとを連結する接着ラベル38を供給する。図2に示すように、保護フイルム30は、残存部分30bを挟んで、先に剥離される部分を前方の剥離部分30aaとする一方、後に剥離される部分を後方の剥離部分30abとする。
The first and second
図3に示すように、接着ラベル38は、短冊状に構成されており、例えば、保護フイルム30と同一の樹脂材で形成される。接着ラベル38は、中央部に粘着剤が塗布されない非接着部(微粘着を含む)38aを有するとともに、この非接着部38aの両側、すなわち、前記接着ラベル38の長手方向両端部に、前方の剥離部分30aaに接着される第1接着部38bと、後方の剥離部分30abに接着される第2接着部38cとを有する。
As shown in FIG. 3, the
図1に示すように、第1及び第2ラベル接着機構40a、40bは、それぞれ最大7枚の接着ラベル38を所定間隔ずつ離間して貼り付け可能な吸着パッド54a〜54gを備えるとともに、前記吸着パッド54a〜54gによる前記接着ラベル38の貼り付け位置には、感光性ウエブ22a、22bを下方から保持するための受け台56が昇降自在に配置される。
As shown in FIG. 1, each of the first and second
第1及び第2リザーバ機構42a、42bは、上流側の感光性ウエブ22a、22bのタクト搬送と、下流側の前記感光性ウエブ22a、22bの連続搬送との速度差を吸収するために、揺動自在なダンサーローラ60を備える。第2リザーバ機構42bには、第1及び第2ウエブ送り出し機構32a、32bから送り出される各感光性ウエブ22a、22bが貼り付け機構46に至るまでの各搬送路長を同一に調整するためのダンサーローラ61が配設される。
The first and
第1及び第2リザーバ機構42a、42bの下流に配置される第1及び第2剥離機構44a、44bは、それぞれ感光性ウエブ22a、22bの送り出し側のテンション変動を遮断し、ラミネート時のテンションを安定化させるためのサクションドラム62を備える。各サクションドラム62の近傍には、剥離ローラ63が配置されるとともに、この剥離ローラ63を介して感光性ウエブ22a、22bから剥離される保護フイルム30は、残存部分30bを除いてそれぞれ保護フイルム巻き取り部64に巻き取られる。
The first and
第1及び第2剥離機構44a、44bの下流側には、感光性ウエブ22a、22bにテンションを付与可能な第1及び第2テンション制御機構66a、66bが配設される。第1及び第2テンション制御機構66a、66bは、それぞれシリンダ68を備え、前記シリンダ68の駆動作用下に、それぞれテンションダンサー70が揺動変位することにより、各テンションダンサー70が摺接する感光性ウエブ22a、22bのテンションが調整可能である。
On the downstream side of the first and
第1及び第2検出機構47a、47bは、レーザセンサやフォトセンサ等の光電センサ72a、72bを備えており、前記光電センサ72a、72bは、ハーフカット部位34の楔状の溝形状部や、保護フイルム30の厚さによる段差、あるいは、これらの組み合わせによる変化を直接検出し、この検出信号を境界位置信号とする。光電センサ72a、72bは、バックアップローラ73a、73bに対向して配置される。なお、光電センサ72a、72bに代えて、非接触変位計やCCDカメラ等の画像検査手段等を用いてもよい。また、CCDカメラは、バックアップローラ73a、73bに対向しない位置に配置してもよい。
The first and
基板加熱装置45は、図4に示すように、ガラス基板24を矢印C方向に搬送するための搬送機構74を備え、この搬送機構74は、後述する第1加熱炉82〜第5加熱炉90に対応して矢印C方向に配列されるそれぞれ複数の搬送ローラ76a〜76eを有する。各搬送ローラ76a、76b、76c、76d及び76eは、それぞれ個別の回転駆動源(例えば、モータ)を介して独立して回転駆動される。
As shown in FIG. 4, the
搬送ローラ76a〜76eは、例えば、ステンレス製のローラシャフト77aと、前記ローラシャフト77aに外装されて所定の摩擦力により前記ローラシャフト77aと一体的に回転可能な複数の樹脂製、例えば、PEEK(ポリエーテル・エーテル・ケトン樹脂)製のリング77bとを有する。ローラシャフト77aは、直径が48mmに設定される一方、リング77bは、直径が70mmに設定される。
The conveying
搬送機構74の矢印C方向上流側には、ガラス基板24を受け取る受け取り部78が設けられるとともに、この受け取り部78には、前記ガラス基板24を旋回させる旋回テーブル80が設けられる。
A receiving
受け取り部78の下流側には、第1〜第5加熱炉82、84、86、88及び90が、順次、配列される。第1加熱炉82は、高温炉を構成し、第2加熱炉84は、昇温炉を構成し、第3加熱炉86は、昇温炉を構成し、第4加熱炉88は、保温炉及び位置決め機構92を構成し、第5加熱炉90は、保温炉及び停止機構(図示せず)を構成する。
The first to
第1加熱炉82〜第5加熱炉90には、第1ヒータ94a〜第5ヒータ94eが設けられている。第1加熱炉82内では、第1ヒータ94aを介して炉内雰囲気温度を100℃〜160℃に加熱可能であり、第2加熱炉84内では、第2ヒータ94bを介して炉内雰囲気温度を100℃〜150℃に加熱可能である。
The
第3加熱炉86内では、第3ヒータ94cを介して炉内雰囲気温度を100℃〜150℃に加熱可能であり、第4加熱炉88内では、第4ヒータ94dを介して炉内雰囲気温度を100℃〜150℃に加熱可能であり、さらに第5加熱炉90内では、第5ヒータ94eを介して炉内雰囲気温度を100℃〜150℃に加熱可能である。
In the
第1加熱炉82〜第5加熱炉90には、それぞれの雰囲気温度を検出するそれぞれ1以上の温度センサ95a〜95eが配設される。なお、ガラス基板24は、ラミネート時に表面温度が90℃〜130℃の範囲内に加熱されていることが好ましい。
The
図5に示すように、位置決め機構92は、架台96上に固定されるシリンダ98を備え、このシリンダ98から上方に延在するロッド98aに昇降台100が固着される。昇降台100は、ガラス基板24の幅方向(搬送方向に交差する矢印D方向)に長尺に構成され、前記昇降台100には、ガイドバー102a、102bを介して支持台104が設けられる。
As shown in FIG. 5, the
支持台104は、矢印D方向に長尺に構成されるとともに、前記支持台104上には、ガラス基板24を摩擦抵抗により保持可能な、例えば、サクションゴムカップ等の複数の位置決め部材106が矢印D方向に配列して設けられる。
The
昇降台100の両端縁部には、幅寄せローラ108a、108bが進退機構110a、110bを介して矢印D方向に進退可能に配設される。進退機構110a、110bは、互いに対向するモータ112a、112bを有し、前記モータ112a、112bに連結されるねじ軸114a、114bにナット部116a、116bが螺合する。ナット部116a、116bは、可動支柱118a、118bに固着されるとともに、前記可動支柱118a、118bの上端には、幅寄せローラ108a、108bが回転自在に装着される。
At both edge portions of the
基板加熱装置45では、ガラス基板24の温度を常時監視し、異常時には、搬送ローラ76a〜76eの停止や警報を発生するとともに、異常情報を発信して異常なガラス基板24を後工程でNG排出したり、品質管理又は生産管理等に活用することができる。また、搬送機構74では、図示しないエア浮上プレートが配設され、ガラス基板24が浮上されて矢印C方向に搬送される構成を採用してもよい。
In the
図1に示すように、基板加熱装置45の上流には、複数のガラス基板24が収容される基板ストッカー120が設けられる。この基板ストッカー120に収容されている各ガラス基板24は、ロボット122のハンド部122aに設けられた吸着パッド124に吸着されて取り出され、受け取り部78に搬入される。
As shown in FIG. 1, a
貼り付け機構46は、上下に配設されるとともに、所定温度に加熱されるゴムローラ130a、130bを備える。ゴムローラ130a、130bには、バックアップローラ132a、132bが摺接するとともに、前記バックアップローラ132bは、ローラクランプ部133を構成する加圧シリンダ134a、134bによりゴムローラ130b側に押圧される。
The
ゴムローラ130aの近傍には、感光性ウエブ22a、22bが前記ゴムローラ130aに接触することを防止するための接触防止ローラ136が移動可能に配設される。貼り付け機構46の上流近傍には、感光性ウエブ22a、22bを予め所定温度に予備加熱するための予備加熱部137が配設される。この予備加熱部137は、例えば、赤外線バーヒータ等の加熱手段を備える。
In the vicinity of the
ガラス基板24は、貼り付け機構46から搬送路138を介して矢印C方向に搬送される。この搬送路138には、フイルム搬送ローラ140a、140bと基板搬送ローラ142とが配設される。ゴムローラ130a、130bと基板搬送ローラ142との間隔は、ガラス基板24の一枚分の長さ以下に設定されることが好ましい。
The
貼り付け機構46の下流に、冷却機構144とベース自動剥離機構146とが設けられる。ベース自動剥離機構146は、各ガラス基板24が所定間隔ずつ離間して貼り付けられている長尺なベースフイルム26を連続して剥離するものであり、プレ剥離部148と剥離ローラ150と巻き取り軸152とを備えている。巻き取り軸152は、駆動時にトルク制御してベースフイルム26に張力を付与する一方、例えば、剥離ローラ150に張力検出器(図示せず)を設けることにより、張力のフィードバック制御を行うことが好ましい。
A
プレ剥離部148は、剥離バー156を備えるとともに、前記剥離バー156は、ガラス基板24間で昇降可能である。また、剥離ローラ150又はその直前でフイルム面を30℃〜120℃程度まで再加熱することにより、剥離時の色材層の剥がれが阻止されて、高品質なラミネート面を得ることができる。
The
ベース自動剥離機構146の下流には、ガラス基板24に実際に貼り付けられた感光性樹脂層28のエリア位置を測定する測定器158が配設される。この測定器158は、例えば、CCD等のカメラ160を備え、感光性樹脂層28が貼り付けられたガラス基板24を撮影するために前記カメラ160が配設される。
A measuring
ベース自動剥離機構146の下流には、複数の感光性積層体208が収容される感光性積層体ストッカー190が設けられる。ベース自動剥離機構146で貼り付け基板24aからベースフイルム26及び残存部分30bが剥離された感光性積層体208は、ロボット192のハンド部192aに設けられた吸着パッド194に吸着されて取り出され、感光性積層体ストッカー190に収容される。
A
製造装置20では、第1及び第2ウエブ送り出し機構32a、32b、第1及び第2加工機構36a、36b、第1及び第2ラベル接着機構40a、40b、第1及び第2リザーバ機構42a、42b、第1及び第2剥離機構44a、44b、第1及び第2テンション制御機構66a、66b並びに第1及び第2検出機構47a、47bが、貼り付け機構46の上方に配置されているが、これとは逆に、前記第1及び第2ウエブ送り出し機構32a、32bから前記第1及び第2検出機構47a、47bまでを前記貼り付け機構46の下方に配置し、感光性ウエブ22a、22bの上下が逆になって感光性樹脂層28がガラス基板24の下側に貼り付けてもよく、また、前記製造装置20全体を直線上に構成してもよい。
In the
図1に示すように、製造装置20は、ラミネート工程制御部200を介して全体制御されており、この製造装置20の各機能部毎に、例えば、ラミネート制御部202、基板加熱制御部204及びベース剥離制御部206等が設けられ、これらが工程内ネットワークにより繋がっている。ラミネート工程制御部200は、工場ネットワークに繋がっており、図示しない工場CPUからの指示情報(条件設定や生産情報)の生産管理や稼動管理等、生産のための情報処理を行う。
As shown in FIG. 1, the
基板加熱制御部204は、上流工程からガラス基板24を受け入れ、温度センサ95a〜95eからの検出信号に基づいてこのガラス基板24を所望の温度まで加熱するとともに、前記ガラス基板24の搬送が停止される際には、後述するように、搬送機構74を駆動制御する。
The substrate
ラミネート制御部202は、工程全体のマスターとして、各機能部の制御を行うものであり、第1及び第2検出機構47a、47bにより検出された感光性ウエブ22a、22bのハーフカット部位34の位置情報に基づいて、貼り付け位置における各境界位置とガラス基板24との相対位置及び各境界位置同士の相対位置を制御可能な制御機構を構成している。
The
ベース剥離制御部206は、貼り付け機構46から供給される貼り付け基板24aからベースフイルム26を剥離し、さらに下流工程に感光性積層体208を排出する動作の制御を行うとともに、前記貼り付け基板24a及び前記感光性積層体208の情報をハンドリング制御する。
The base
製造装置20内は、仕切り壁210を介して第1クリーンルーム212aと第2クリーンルーム212bとに仕切られる。第1クリーンルーム212aには、第1及び第2ウエブ送り出し機構32a、32bから第1及び第2テンション制御機構66a、66bまでが収容されるとともに、第2クリーンルーム212bには、第1及び第2検出機構47a、47b以降が収容される。第1クリーンルーム212aと第2クリーンルーム212bとは、貫通部214を介して連通する。
The interior of the
このように構成される製造装置20の動作について、本発明に係る基板加熱方法との関連で以下に説明する。
The operation of the
先ず、第1及び第2ウエブ送り出し機構32a、32bに取り付けられている各感光性ウエブロール23a、23bから感光性ウエブ22a、22bが送り出される。感光性ウエブ22a、22bは、第1及び第2加工機構36a、36bに搬送される。
First, the
第1及び第2加工機構36a、36bでは、丸刃52が感光性ウエブ22a、22bの幅方向に移動して、前記感光性ウエブ22a、22bを保護フイルム30から感光性樹脂層28乃至ベースフイルム26まで切り込んでハーフカット部位34を形成する(図2参照)。さらに、感光性ウエブ22a、22bは、図1に示すように、保護フイルム30の残存部分30bの寸法に対応して矢印A方向に搬送された後に停止され、丸刃52の走行作用下にハーフカット部位34が形成される。これにより、感光性ウエブ22a、22bには、残存部分30bを挟んで前方の剥離部分30aaと後方の剥離部分30abとが設けられる(図2参照)。
In the first and
次いで、各感光性ウエブ22a、22bは、第1及び第2ラベル接着機構40a、40bに搬送されて、保護フイルム30の所定の貼り付け部位が受け台56上に配置される。第1及び第2ラベル接着機構40a、40bでは、所定枚数の接着ラベル38が吸着パッド54a〜54gにより吸着保持され、各接着ラベル38が保護フイルム30の残存部分30bを跨いで、前方の剥離部分30aaと後方の剥離部分30abとに一体的に接着される(図3参照)。
Next, the respective
例えば、7本の接着ラベル38が接着された感光性ウエブ22a、22bは、図1に示すように、第1及び第2リザーバ機構42a、42bを介して送り出し側のテンション変動を防いだ後、第1及び第2剥離機構44a、44bに連続的に搬送される。第1及び第2剥離機構44a、44bでは、図6に示すように、感光性ウエブ22a、22bのベースフイルム26がサクションドラム62に吸着保持されるとともに、保護フイルム30が残存部分30bを残して前記感光性ウエブ22a、22bから剥離される。この保護フイルム30は、剥離ローラ63を介して剥離されて保護フイルム巻き取り部64に巻き取られる(図1参照)。
For example, the
第1及び第2剥離機構44a、44bの作用下に、保護フイルム30が残存部分30bを残してベースフイルム26から剥離された後、感光性ウエブ22a、22bは、第1及び第2テンション制御機構66a、66bによってテンション調整が行われ、さらに第1及び第2検出機構47a、47bで光電センサ72a、72bによりハーフカット部位34の検出が行われる。
Under the action of the first and
各感光性ウエブ22a、22bは、ハーフカット部位34の検出情報に基づいて、フイルム搬送ローラ90a、90bの回転作用下に、それぞれ貼り付け機構46に定量搬送される。
Each
一方、基板加熱装置45では、図4に示すように、貼り付け機構46におけるラミネート温度に対応して第1〜第5加熱炉82〜90内の炉内雰囲気温度が設定されている。例えば、ラミネート温度が110℃であると、第1加熱炉82、第2加熱炉84、第3加熱炉86、第4加熱炉88及び第5加熱炉90内の炉内雰囲気温度は、それぞれ150℃、140℃、135℃、135℃及び135℃前後に設定される。また、ガラス基板24では、表面に塗布されている表面密着改良剤の品質を維持するために、上限温度が130℃に設定される。
On the other hand, in the
そこで、ロボット122は、基板ストッカー120に収容されているガラス基板24を把持し、このガラス基板24を受け取り部78に搬入する。受け取り部78では、ガラス基板24が旋回テーブル80を介して所望の姿勢に旋回された後、前記受け取り部78から第1加熱炉82にタクト搬送される。
Therefore, the
第1加熱炉82内では、第1ヒータ94aの加熱作用下にガラス基板24が急激に昇温された後、搬送機構74を構成する搬送ローラ76aを介して前記ガラス基板24が第2加熱炉84に送られる。一方、受け取り部78に搬入された新たなガラス基板24は、第1加熱炉82に送り込まれる。
In the
第2加熱炉84内では、第2ヒータ94bを介してガラス基板24が昇温された後、前記ガラス基板24は、搬送機構74を構成する搬送ローラ76bを介して第3加熱炉86に搬入される。この第3加熱炉86で昇温されたガラス基板24は、搬送機構74を構成する搬送ローラ76cを介して第4加熱炉88に送られ、この第4加熱炉88で昇温処理と位置決め処理とが施される。
In the
第4加熱炉88内には、位置決め機構92が設けられており、図5に示すように、先ず、幅寄せローラ108a、108bが、実線に示すように、互いに矢印D方向に離間して配置されており、この状態でシリンダ98の駆動作用下に昇降台100が上昇する。
In the
この昇降台100には、ガイドバー102a、102bを介して支持台104が設けられるとともに、前記支持台104上には、複数の位置決め部材106が配列されている。従って、位置決め部材106は、搬送ローラ76d上に配置されているガラス基板24を支持し、このガラス基板24を前記搬送ローラ76dの上方に押し上げる。
The
次いで、進退機構110a、110bを構成するモータ112a、112bが駆動され、ねじ軸114a、114bとナット部116a、116bとを介して可動支柱118a、118bが互いに近接する方向に変位する。このため、可動支柱118a、118bの上端に装着されている幅寄せローラ108a、108bは、互いに近接する方向に移動し、位置決め部材106上に支持されているガラス基板24の矢印D方向両端部に当接してこのガラス基板24の位置決めが行われる。
Next, the
ガラス基板24の位置決めが行われた後、幅寄せローラ108a、108bがこのガラス基板24の両端部から僅かに離間した後、シリンダ98を介して昇降台100が下降される。そして、位置決め部材106上に支持されているガラス基板24が、この位置決め部材106から複数の搬送ローラ76dに受け渡される一方、幅寄せローラ108a、108bは、進退機構110a、110bを介して互いに離間する方向に移動する。さらに、幅寄せローラ108a、108bは、ガラス基板24の幅よりも少し離間した状態で、幅寄せしてもよい。
After the
これにより、ガラス基板24が、搬送ローラ76dに接触して下降が停止した際に、幅寄せローラ108a、108bが、このガラス基板24に当接して塵埃の発生やガラス基板24の損傷を防止することができる。
As a result, when the
さらに、位置決め部材106は、例えば、サクションゴムカップ等の摩擦抵抗を発生する材料で形成されている。従って、位置決め部材106が下降する際に、ガラス基板24に位置ずれが惹起することを良好に阻止することが可能になる。
Furthermore, the positioning
搬送ローラ76dに受け渡されたガラス基板24は、この搬送ローラ76dの回転作用下に、第5加熱炉90に送られて保温処理が行われ、所定の温度に加熱された状態で貼り付け位置に搬送される。このガラス基板24は、並列されている感光性ウエブ22a、22bの感光性樹脂層28の貼り付け部分に対応してゴムローラ130a、130b間に一旦配置される。
The
この状態で、バックアップローラ132b及びゴムローラ130bを上昇させることにより、ゴムローラ130a、130b間にガラス基板24が所定のプレス圧力で挟み込まれる。さらに、ゴムローラ130aの回転作用下に、このガラス基板24には、並列されている各感光性樹脂層28が転写(ラミネート)される。
In this state, by raising the
ここで、ラミネート条件としては、速度が1.0m/min〜10.0m/min、ゴムローラ130a、130bの温度が90℃〜140℃、前記ゴムローラ130a、130bのゴム硬度が40度〜90度、該ゴムローラ130a、130bのプレス圧(線圧)が50N/cm〜400N/cmである。
Here, as lamination conditions, the speed is 1.0 m / min to 10.0 m / min, the temperature of the
ゴムローラ130a、130bを介してガラス基板24に感光性ウエブ22a、22bの一枚分のラミネートが終了すると、前記ゴムローラ130aの回転が停止される一方、前記感光性ウエブ22a、22bがラミネートされた前記ガラス基板24、すなわち、貼り付け基板24aが基板搬送ローラ142によりクランプされる。
When the lamination of one
そして、ゴムローラ130bが、ゴムローラ130aから離間する方向に退避してクランプが解除されるとともに、基板搬送ローラ142の回転が開始されて、貼り付け基板24aが矢印C方向に定量搬送され、感光性ウエブ22a、22bの基板間位置がゴムローラ130aの下方付近の所定位置に移動する。一方、基板加熱装置45を介して次なるガラス基板24が貼り付け位置に向かって搬送される。
Then, the
この次なるガラス基板24の先端がゴムローラ130a、130b間に配置されると、前記ゴムローラ130bが上昇して、前記ゴムローラ130a、130bにより前記次なるガラス基板24と感光性ウエブ22a、22bとがクランプされる。そして、ゴムローラ130a、130b及び基板搬送ローラ142の回転作用下にラミネートが開始されるとともに、貼り付け基板24aが矢印C方向に搬送される。
When the tip of the
その際、貼り付け基板24aは、図7に示すように、それぞれの端部同士が残存部分30bによって覆われている。従って、感光性樹脂層28がガラス基板24に転写される際、ゴムローラ130a、130bが前記感光性樹脂層28により汚れることがない。
At that time, as shown in FIG. 7, the
貼り付け機構46でラミネートされた貼り付け基板24aは、冷却機構144を通って冷却された後、プレ剥離部148に移送される。このプレ剥離部148では、剥離バー156が上昇することにより、保護フイルム30を隣接するガラス基板24の後端及び先端から剥離することができる。次いで、ベース自動剥離機構146では、巻き取り軸152の回転作用下に、貼り付け基板24aからベースフイルム26が連続して巻き取られる。
The pasted
ベースフイルム26が剥離されたガラス基板24は、測定器158に対応する検査ステーションに配置される。この検査ステーションでは、ガラス基板24が位置決め固定された状態で、カメラ160によりガラス基板24と感光性樹脂層28の画像を取り込む。そして、画像処理が施されることにより、貼り付け位置が演算されるとともに、貼り付け状態が検査される。
The
ところで、例えば、感光性ウエブロール23a、23bの交換作業や、巻き取り軸152に巻き取られたベースフイルム26の取り外し作業等を行う際には、基板加熱装置45を構成する第1加熱炉82〜第5加熱炉90内にガラス基板24が滞留しており、搬送ローラ76a〜76eの駆動が停止されている。
By the way, for example, when performing a replacement operation of the photosensitive web rolls 23a and 23b or a removal operation of the
そこで、例えば、第1加熱炉82内の搬送ローラ76aが、設定時間を超えて停止されると判断された際、前記搬送ローラ76aが回転駆動される。その際、搬送ローラ76a上にガラス基板24が載置されている場合には、各搬送ローラ76aを往復回転させて前記ガラス基板24を第1加熱炉82内で往復移動させる(図4参照)。
Therefore, for example, when it is determined that the
具体的には、各搬送ローラ76aは、時計回り(正軸)及び反時計回り(逆軸)にそれぞれ0.5回転〜1.5回転、好ましくはそれぞれ1回転以上ずつ回転させている。
Specifically, each
一方、搬送ローラ76a上にガラス基板24が存在しない場合には、前記搬送ローラ76aを一方向に連続して回転させている。従って、第1加熱炉82内の搬送ローラ76aは、回転が停止された状態で、設定時間を超えて第1ヒータ94aを介して上方から加熱されることがない。このため、搬送ローラ76aの上部側が片側過熱されて熱変形が発生することを確実に阻止することができる。
On the other hand, when the
これにより、搬送ローラ76aを一方向回転又は往復回転させるだけでよく、簡単な工程で、前記搬送ローラ76aの振れ回りを防止することができる。従って、ガラス基板24の搬送曲りやばたつきによる損傷、又は搬送トラブルによる停止等を良好に阻止することが可能になるという効果が得られる。
Thus, the conveying
また、第2加熱炉84〜第4加熱炉88においても、上記の第1加熱炉82と同様に、搬送ローラ76b〜76dを一方向回転又は往復回転させることにより、前記搬送ローラ76b〜76dが回転を停止した状態で設定時間を超えて加熱されることを防止することができる。
Also, in the
さらにまた、第5加熱炉90では、図5に示すように、シリンダ98を介して昇降自在な位置決め部材106を備えている。このため、搬送ローラ76e上のガラス基板24は、位置決め部材106が上昇することによってこの位置決め部材106上に受け渡された後、一方向に連続して回転される。これにより、搬送ローラ76eは、停止した状態で設定時間を超えて加熱されることがなく、上記の搬送ローラ76aと同様の効果が得られる。
Furthermore, the
ところで、装置トラブル、ゴムローラ130a、130bの清掃、前記ゴムローラ130a、130bの交換あるいは上下流工程のトラブル等により、ラミネート処理が上記の設定時間よりも長い一定時間、例えば、一時間以上停止される際には、基板加熱装置45を構成する第1ヒータ94a〜第5ヒータ94eが滅勢される。そして、ラミネート処理が再開される際には、ガラス基板24の搬送を開始する前に、第1ヒータ94a〜第5ヒータ94eを付勢するとともに、搬送機構74を構成する搬送ローラ76a〜76eを、一旦、一方向回転又は往復回転させながら、第1加熱炉82〜第5加熱炉90内をそれぞれ所定の温度に加熱する処理が行われる。
By the way, when the laminating process is stopped for a certain period of time longer than the above set time, for example, more than one hour, due to equipment trouble, cleaning of the
従って、ガラス基板24の搬送を開始する際には、各搬送ローラ76a〜76eには、片側過熱による熱変性が惹起されることがない。これにより、ガラス基板24を良好に搬送することができ、ラミネート処理が効率的に遂行されるという利点がある。
Therefore, when the conveyance of the
なお、第1の実施形態では、2本の感光性ウエブロール23a、23bを用いているが、これに限定されるものではなく、1本の感光性ウエブロールや、3本以上の感光性ウエブロールを採用してもよい。また、以下に説明する第2の実施形態においても、同様である。 In the first embodiment, the two photosensitive web rolls 23a and 23b are used. However, the present invention is not limited to this. One photosensitive web roll or three or more photosensitive web rolls is used. A roll may be adopted. The same applies to the second embodiment described below.
図8は、本発明の第2の実施形態に係る感光性積層体の製造装置300の概略構成図である。なお、第1の実施形態に係る製造装置20と同一の構成要素には同一の参照符号を付して、その詳細な説明は省略する。
FIG. 8 is a schematic configuration diagram of a photosensitive
製造装置300は、貼り付け機構46の下流に配置され、各ガラス基板24間の感光性ウエブ22a、22bを一体的に切断可能な基板間ウエブ切断機構48を備える。
The
このように構成される製造装置300では、上記の第1の実施形態と同様に貼り付け機構46でラミネートされた貼り付け基板24aは、矢印C方向に搬送される。そして、貼り付け基板24a間が基板間ウエブ切断機構48に対応する位置に至ると、この基板間ウエブ切断機構48は、前記貼り付け基板24aと同一の搬送速度で矢印C方向に移動しながら、該貼り付け基板24a間で2本の感光性ウエブ22a、22bを一体的に切断する。
In the
この切断後に、基板間ウエブ切断機構48は、所定の待機位置に戻される一方、貼り付け基板24aでは、ベースフイルム26及び残存部分30bが順次剥離(枚葉剥離)されて感光性積層体208が製造される。
After this cutting, the inter-substrate
20、300…製造装置 22a、22b…感光性ウエブ
23a、23b…感光性ウエブロール 24…ガラス基板
26…ベースフイルム 28…感光性樹脂層
30…保護フイルム 32a、32b…ウエブ送り出し機構
40a、40b…ラベル接着機構 44a、44b…剥離機構
45…基板加熱装置 46…貼り付け機構
64…保護フイルム巻き取り部 74…搬送機構
76a〜76e…搬送ローラ 82〜90…加熱炉
92…位置決め機構 94a〜94e…ヒータ
108a、108b…幅寄せローラ 130a、130b…ゴムローラ
146…ベース自動剥離機構
20, 300 ...
Claims (4)
前記基板を搬送機構を介して複数の加熱炉に間欠搬送又は連続搬送しながら、前記基板を加熱する工程と、
前記加熱炉内で前記搬送機構が設定時間を超えて停止されると判断された際、前記搬送機構を構成する搬送ローラを一方向回転又は往復回転させる工程と、
を有することを特徴とする基板加熱方法。 A substrate heating method in which a substrate to which a photosensitive web is attached is heated to a predetermined temperature in advance before the attaching process,
Heating the substrate while intermittently transporting or continuously transporting the substrate to a plurality of heating furnaces via a transport mechanism;
A step of rotating or reciprocatingly rotating a transport roller constituting the transport mechanism when it is determined that the transport mechanism is stopped after a set time in the heating furnace;
A substrate heating method characterized by comprising:
前記基板の加熱を再開する際、前記基板の搬送を開始する前に前記搬送ローラを一方向回転又は往復回転させる工程と、
を有することを特徴とする基板加熱方法。 The method for heating a substrate according to claim 1, wherein when the transport mechanism stops in the heating furnace beyond a predetermined time longer than the set time, the heating process of the substrate is temporarily stopped.
When resuming heating of the substrate, rotating the transport roller in one direction or reciprocating before starting to transport the substrate;
A substrate heating method characterized by comprising:
Priority Applications (4)
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JP2006292786A JP2008105354A (en) | 2006-10-27 | 2006-10-27 | Substrate heating method |
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Family Applications (1)
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