JP2008102392A - 電気光学装置、及びこれを備えた電子機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】電気光学装置は、透明基板(10)と、この透明基板上に設けられた複数の反射型の画素電極(9a)と、透明基板上における画素電極よりも下層側に且つ画素電極と重なるように夫々設けられており、画素電極と電気的に接続された複数のトランジスタ(30)とを備える。更に、透明基板における画素電極が設けられた面とは反対側の面に設けられており、光を吸収する光吸収体(500)を備える。
【選択図】図5
Description
<第1実施形態>
第1実施形態に係る液晶装置について、図1から図5を参照して説明する。
図5に示すように、第1層は、トランジスタ30及び容量配線400で構成されている。
第1層の全面には層間絶縁膜41が形成され、更にその上に、第2層として、データ線6a及び蓄積容量70が形成されている。
第2層の全面には層間絶縁膜42が形成され、更にその上に、第3層として画素電極9aが形成されている。層間絶縁膜42は、層間絶縁膜42と同様に、例えばNSGによって形成されている。その他、層間絶縁膜42には、PSG、BSG、BPSG等のシリケートガラス、窒化シリコンや酸化シリコン等を用いることができる。層間絶縁膜42の表面は、層間絶縁膜41と同様にCMP等の平坦化処理がなされている。
<第2実施形態>
次に、第2実施形態に係る液晶装置について、図6を参照して説明する。ここに図6は、第2実施形態における図5と同趣旨の断面図である。尚、図6において、図1から図5に示した第1実施形態に係る構成要素と同様の構成要素に同一の参照符合を付し、それらの説明は適宜省略する。
<電子機器>
次に、上述した電気光学装置である反射型の液晶装置を電子機器に適用する場合について説明する。ここでは、本発明に係る電子機器として、投射型液晶プロジェクタと例にとる。ここに、図7は、本実施形態に係る投射型液晶プロジェクタの図式的断面図である。
Claims (8)
- 透明基板と、
該透明基板上に設けられた複数の反射型の画素電極と、
前記透明基板上における前記画素電極よりも下層側に且つ前記画素電極と重なるように夫々設けられており、前記画素電極と電気的に接続された複数のトランジスタと
を備えたことを特徴とする電気光学装置。 - 透明基板と、
該透明基板上に設けられた複数の反射型の画素電極と、
前記透明基板上における前記画素電極よりも下層側に且つ前記画素電極と重なるように夫々設けられており、前記複数の画素電極と電気的に接続された複数のトランジスタと、
前記透明基板における前記画素電極が設けられた面とは反対側の面に設けられており、光を吸収する光吸収体と
を備えたことを特徴とする電気光学装置。 - 前記光吸収体は、前記透明基板の屈折率と同一の屈折率を有する接着剤によって、前記反対側の面に接着されることを特徴とする請求項2に記載の電気光学装置。
- 前記光吸収体は、前記透明基板の熱伝導率よりも高い熱伝導率を有することを特徴とする請求項2又は3に記載の電気光学装置。
- 前記光吸収体は、前記透明基板の屈折率と同一の屈折率を有することを特徴とする請求項2に記載の電気光学装置。
- 前記光吸収体は、黒色の樹脂からなることを特徴とする請求項5に記載の電気光学装置。
- 前記透明基板は、サファイア基板からなることを特徴とする請求項2から6のいずれか一項に記載の電気光学装置。
- 請求項1から7のいずれか一項に記載の電気光学装置を具備してなることを特徴とする電子機器。
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