JP2008098633A - インプリントリソグラフィ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】一実施形態では、インプリントテンプレートを実質的に二分する中立面を有するインプリントテンプレートを支持する支持構造物と、インプリントテンプレートが支持構造物によって支持されているときアクチュエータが支持構造物とインプリントテンプレートの側部との間に位置するように、ある位置に位置するアクチュエータとを含み、アクチュエータが、インプリントテンプレートの中立面から変位されている場所でインプリントテンプレートと接する、インプリントリソグラフィ装置が開示される。
【選択図】図4b
Description
Claims (30)
- インプリントテンプレートを実質的に二分する中立面を有する前記インプリントテンプレートを支持する支持構造物と、
前記インプリントテンプレートが前記支持構造物によって支持されているときアクチュエータが前記支持構造物と前記インプリントテンプレートの側部との間に位置するように、ある位置に位置するアクチュエータと、
を備え、
前記アクチュエータが、前記インプリントテンプレートの前記中立面から変位されている場所で前記インプリントテンプレートと接する、
インプリントリソグラフィ装置。 - 前記インプリントテンプレートが前記支持構造物によって支持されているときアクチュエータが前記インプリントテンプレートの前記中立面の各側に位置する、
請求項1に記載のインプリントリソグラフィ装置。 - 前記インプリントテンプレートの反対側に接するように、さらなるアクチュエータが前記支持構造物の反対側に設けられる、
請求項1に記載のインプリントリソグラフィ装置。 - 前記アクチュエータが、複数のアクチュエータの1つである、
請求項1に記載のインプリントリソグラフィ装置。 - 前記アクチュエータが個々に制御可能である、
請求項4に記載のインプリントリソグラフィ装置。 - 前記アクチュエータが、前記支持構造物の側部に沿って延びる列を形成する、
請求項4に記載のインプリントリソグラフィ装置。 - 前記アクチュエータが、前記支持構造物の側部に沿って延びる2つの列を形成する、
請求項4に記載のインプリントリソグラフィ装置。 - 前記2つの列が、実質的に互いに平行である、
請求項7に記載のインプリントリソグラフィ装置。 - 7つのアクチュエータが設けられる、
請求項4に記載のインプリントリソグラフィ装置。 - 前記アクチュエータがピエゾ素子である、
請求項1に記載のインプリントリソグラフィ装置。 - インプリントテンプレートを保持するのに適し、支持構造物によって支持されるインプリントテンプレートホルダと、
前記支持構造物と前記インプリントテンプレートホルダの側部との間に位置するアクチュエータと、
を備え、
前記インプリントテンプレートホルダが、前記インプリントテンプレートホルダを実質的に二分する中立面を有し、前記アクチュエータが、前記インプリントテンプレートホルダの中立面から変位されている場所で前記インプリントテンプレートホルダと接する、
インプリントリソグラフィ装置。 - アクチュエータが前記インプリントテンプレートホルダの前記中立面の各側に位置する、
請求項11に記載のインプリントリソグラフィ装置。 - 前記インプリントテンプレートホルダの反対側に接するように、さらなるアクチュエータが前記支持構造物の反対側に設けられる、
請求項11に記載のインプリントリソグラフィ装置。 - 前記アクチュエータが、複数のアクチュエータの1つである、
請求項11に記載のインプリントリソグラフィ装置。 - 前記アクチュエータが個々に制御可能である、
請求項14に記載のインプリントリソグラフィ装置。 - 前記アクチュエータが、前記支持構造物の側部に沿って延びる列を形成する、
請求項14に記載のインプリントリソグラフィ装置。 - 前記アクチュエータが、前記支持構造物の側部に沿って延びる2つの列を形成する、
請求項14に記載のインプリントリソグラフィ装置。 - 前記2つの列が、実質的に互いに平行である、
請求項17に記載のインプリントリソグラフィ装置。 - 7つのアクチュエータが設けられる、
請求項14に記載のインプリントリソグラフィ装置。 - 前記アクチュエータがピエゾ素子である、
請求項11に記載のインプリントリソグラフィ装置。 - インプリントテンプレートの側部に力を与えるステップを含み、前記インプリントテンプレートが、前記インプリントテンプレートを実質的に二分する中立面を有し、前記力が、前記インプリントテンプレートの前記中立面から変位されている場所で与えられ、前記力を与えることにより、前記インプリントテンプレートが曲がり、外向きに湾曲した表面を形成する、
インプリントリソグラフィ方法。 - インプリント可能な表面にパターンを刻み込むために、前記インプリントテンプレートの前記外向きに湾曲した表面を使用するステップをさらに含む、
請求項21に記載のインプリントリソグラフィ方法。 - 前記インプリントテンプレートを平坦化するために、前記インプリントテンプレートの前記中立面のどちらかの側に力を与えるステップをさらに含む、
請求項21に記載のインプリントリソグラフィ方法。 - 前記インプリントテンプレートの歪みを補正するために前記インプリントテンプレートに力を与えるステップをさらに含む、
請求項21に記載のインプリントリソグラフィ方法。 - 前記インプリントテンプレートの拡大を補正するために、前記インプリントテンプレートの両側に力を与えるステップをさらに含む、
請求項21に記載のインプリントリソグラフィ方法。 - インプリントテンプレートを保持しているインプリントテンプレートホルダの側部に力を与えるステップを含み、前記インプリントテンプレートホルダが、前記インプリントテンプレートホルダを実質的に二分する中立面を有し、前記力が、前記インプリントテンプレートホルダの前記中立面から変位されている場所で与えられ、前記力を与えることにより、前記インプリントテンプレートホルダが曲がり、前記テンプレートホルダが曲がることにより、前記インプリントテンプレートが曲がり、外向きに湾曲した表面を形成する、
インプリントリソグラフィ方法。 - インプリント可能な表面にパターンを刻み込むために、前記インプリントテンプレートの前記外向きに湾曲した表面を使用するステップをさらに含む、
請求項26に記載のインプリントリソグラフィ方法。 - 前記インプリントテンプレートホルダおよび前記インプリントテンプレートを平坦化するために、前記インプリントテンプレートホルダの前記中立面のどちらかの側に力を与えるステップをさらに含む、
請求項26に記載のインプリントリソグラフィ方法。 - 前記インプリントテンプレートの歪みを補正するために前記インプリントテンプレートホルダに力を与えるステップをさらに含む、
請求項26に記載のインプリントリソグラフィ方法。 - 前記インプリントテンプレートの拡大を補正するために、前記インプリントテンプレートホルダの両側に力を与えるステップをさらに含む、
請求項26に記載のインプリントリソグラフィ方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/543,998 US7946837B2 (en) | 2006-10-06 | 2006-10-06 | Imprint lithography |
US11/543,998 | 2006-10-06 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008098633A true JP2008098633A (ja) | 2008-04-24 |
JP4757852B2 JP4757852B2 (ja) | 2011-08-24 |
Family
ID=39381099
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007252991A Active JP4757852B2 (ja) | 2006-10-06 | 2007-09-28 | インプリントリソグラフィ |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7946837B2 (ja) |
JP (1) | JP4757852B2 (ja) |
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US11635696B2 (en) | 2010-08-05 | 2023-04-25 | Asml Netherlands B.V. | Imprint lithography |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20080145774A1 (en) | 2008-06-19 |
US7946837B2 (en) | 2011-05-24 |
JP4757852B2 (ja) | 2011-08-24 |
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