JP2008093143A - 静脈パターン取得デバイス - Google Patents
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Abstract
【課題】光源と撮像素子との取付位置精度をより高めることが可能な静脈パターン取得デバイスを得る。
【解決手段】立体構造体の表面に導体パターン6を形成した立体回路部品からなる本体部2を備え、本体部2に指を挿通させる指挿通部としての貫通孔2aを形成し、貫通孔2aの内壁面2bに、当該貫通孔2aに挿通した指を照射する光源3と、当該光源3からの光が指を透過した透過光を撮像する撮像素子4と、を直接的に実装した。
【選択図】図1
【解決手段】立体構造体の表面に導体パターン6を形成した立体回路部品からなる本体部2を備え、本体部2に指を挿通させる指挿通部としての貫通孔2aを形成し、貫通孔2aの内壁面2bに、当該貫通孔2aに挿通した指を照射する光源3と、当該光源3からの光が指を透過した透過光を撮像する撮像素子4と、を直接的に実装した。
【選択図】図1
Description
本発明は、静脈パターン取得デバイスに関する。
従来、指を載せる載置部と、前記載置部に載置した指を照射する光源と、前記光源からの光が前記載置部に載置した指内で散乱された散乱光あるいは指内を透過した透過光を撮像する撮像素子と、を備える静脈パターン取得デバイスが知られている(例えば特許文献1)。
この静脈パターン取得デバイスは、指の内部を通った赤外光を撮像素子で撮像することで、指内の静脈パターンを取得しようとするものである。
特許第3770241号公報
しかしながら、上記特許文献1の静脈パターン取得デバイスでは、筐体に光源およびカメラを取り付ける構成となっているが、この場合に、光源を実装した基板と、撮像素子を実装したカメラとを筐体に取り付けると、光源と撮像素子との相対的な取付位置の誤差に、光源を実装した基板の筐体に対する取付誤差とカメラの筐体に対する取付誤差とが重畳することになって、取付位置精度を確保しづらくなるという問題があった。
そこで、本発明は、光源と撮像素子との取付位置精度をより高めることが可能な静脈パターン取得デバイスを得ることを目的とする。
請求項1の発明にあっては、立体構造体の表面に導体パターンを形成した立体回路部品からなる本体部を備え、上記本体部に指を挿通させる指挿通部を形成し、上記指挿通部の内壁に、当該指挿通部に挿通した指を照射する光源と、当該光源からの光が指を透過した透過光を撮像する撮像素子と、を直接的に実装したことを特徴とする。
請求項2の発明にあっては、上記撮像素子を上記指挿通部の内壁の周方向に略沿って細長く帯状に設けたことを特徴とする。
請求項3の発明にあっては、上記撮像素子は、上記指挿通部に挿通された指の長手方向各位置について画像情報を取得することを特徴とする。
請求項4の発明にあっては、複数の上記光源を、上記指挿通部の周方向に略沿って離間配置したことを特徴とする。
請求項5の発明にあっては、上記指挿通部の内壁に、入射した光を撮像素子に向けて反射させる反射部を設けたことを特徴とする。
請求項6の発明にあっては、上記撮像素子で取得した画像情報に所定の演算処理を施す演算処理回路が実装された回路基板部を備え、上記本体部と上記回路基板部とを一体成形したことを特徴とする。
請求項7の発明にあっては、上記撮像素子で取得した画像情報に所定の演算処理を施す演算処理回路が実装された回路基板部を備え、上記本体部を上記回路基板部にヒンジ機構を介して折り畳み可能に接続したことを特徴とする。
請求項1の発明によれば、本体部を立体回路部品としたため、当該本体部に光源および撮像素子を直接的に実装できるようになり、その分、光源と撮像素子との取付位置精度を向上することができる。
また、本発明によれば、本体部に形成した指挿通部の内壁に光源と撮像素子とを実装することで、指挿通部に挿入した指を挟んで光源と撮像素子とを容易に対向配置させることができる。指の一方側に光源と撮像素子とを配置する場合や、指の側方に光源を配置して指の下方に撮像素子を配置するような場合は、光源からの光が撮像素子に直接的に入射しないよう、光源と撮像素子との間に隔壁を配置したり、光源かあるいは撮像素子を凹部の奥に配置したりする必要が生じ、その分、本体部が大きくなる場合があったが、この点、本発明によれば光源と撮像素子との間に指を介在させて隔壁等を設けずに済むため、本体部、ひいては静脈パターン取得デバイスをよりコンパクトに構成することができる。
また、指挿通部が指の挿入を案内するガイド部として機能する分、指の配置精度が高まり、有効な静脈パターンを取得できる比率が高くなるという利点がある。
請求項2の発明によれば、本体部の厚みを指挿通部の軸方向に短くして、当該本体部を薄型に形成することができ、静脈パターン取得デバイスをより小型化することができる。
請求項3の発明によれば、指の長手方向のより広い区間における静脈パターンを取得することで、静脈パターンの個人的特徴が出やすくなって、本人確認精度を向上することができる。
請求項4の発明によれば、複数の光源から指内に入射される光の角度がそれぞれ異なることになり、静脈パターンの個人的特徴が立体的にも出やすくなって、本人確認精度を向上することができる。
請求項5の発明によれば、反射部の設置範囲に入射する画像情報を撮像素子で取得できるようになり、その分、静脈パターンの個人的特徴が出やすくなって、本人確認精度を向上することができる。また、撮像素子、ひいては本体部を小型化できるという利点もある。
請求項6の発明によれば、本体部と回路基板部とを一体化させた分、別途構成する場合に比べてデバイス全体を小型化することができる。また、本体部と回路基板部との間にコネクタ等を設定する必要が無くなる分、製造コストの低減に資するという利点もある。
請求項7の発明によれば、非使用時には折り畳むことで、静脈パターン取得デバイスの格納スペースが小さくて済む。
(第1実施形態)図1は、本実施形態にかかる静脈パターン取得デバイスの外観図であって、(a)は上面図、(b)は正面図、(c)は裏面図、図2は、図1の断面図であって、(a)はIIa−IIa断面図、(b)はIIb−IIb断面図、(c)はIIc−IIc断面図、(d)はIId−IId断面図、(e)はIIe−IIe断面図である。
なお、本実施形態では、便宜上、図1(b)を基準として方向を規定するものとし、また、図1(b)を正面、図1(c)を裏面と規定する。
本実施形態にかかる静脈パターン取得デバイス1は、立体回路部品(MID:Molded Interconnect Device)として構成された本体部2に、光源3、撮像素子4、および回路素子5を直接的に実装したものとして構成される。
本体部2は、樹脂材料を例えば射出成形等によって所定形状に成形し、表面に導体パターン6を形成して得ることができ、MIDの公知の各種手法(例えば、UV露光法(サブトラクティブ法、セミアディティブ法、アディティブ法等)、レーザーイメージング法、IVOND法等の1回成形法や、SKW法等の2回成形法等)によって得ることが可能である。なお、母材としては、例えば30%(質量%)グラスファイバー入りのPEEK(ポリエチルエーテルケトン)樹脂を用いることができる。
このように、本体部2を立体回路部品とすることで、単なる筐体や平坦な基板に光源や撮像素子を取り付けて配線する場合に比べて、静脈パターン取得デバイス1を容易に得ることができるし、光源や撮像素子を直接的に実装できるため、取付用のブラケットや、配線(リード線)、コネクタ等を減らすあるいは省略することができる分、より小型・軽量に構成できるというメリットもある。
また、この本体部2は、指挿通部としての断面略円形の貫通孔2aを有して略環状(リング状)に形成されており、その内壁面2bに、光源3および撮像素子4が実装されている。また、当該内壁面2bも含む表面2cには導体パターン6が形成され、光源3、撮像素子4、および回路素子5を電気的に接続して動作させるための配線として用いられる。
光源(例えば出力波長850nmの近赤外線LEDベアチップ)3は、貫通孔2aの上側に配置されており、内壁面2bに設けられた略すり鉢状の凹部2dの底面に実装されている。この凹部2d(特に側面)には、適宜に銅等によるメッキ処理を施し、光源3からの光を所定方向に指向させる反射面を形成してもよい。
撮像素子4は、貫通孔2aの下側に配置されており、本実施形態では、内壁面2bの下部に設けられた帯状の凹溝2e内に収容された状態で実装されている。この凹溝2eは、貫通孔2aの内壁面2bの周方向(接線方向)に略沿って細長く伸びており、その底面2fは平坦に形成されている。撮像素子4は、扁平かつ細長く直線状に伸びる帯板状の外観を呈しており、凹溝2eの底面2f上に実装されている。撮像素子4としては、CCD(Charge Coupled Device)やCMOS(Complementary MOS)の他、フォトトランジスタを格子状に配列した素子等を用いることができる。
回路素子(演算処理回路の少なくとも一部を成す素子;例えば集積回路)5は、本体部2の上面2gに形成された凹部2h内に収容された状態で実装されている。
なお、10は、雄コネクタのピン(図示せず)を差し込む有底円筒状の凹部として形成される雌コネクタである。
以上の本実施形態では、光源3と撮像素子4とが、貫通孔2aの内壁面2bにおいて、当該貫通孔2aの中心(軸心)を挟んで、上下に相互に対向するように配置されている。このため、光源3から出射された光は、貫通孔2a内に挿通された指の内部に進入して透過し、撮像素子4で受光される。また、かかるレイアウトによれば、光源3と撮像素子4との間に指が介在することになるため、この指によって光源3からの光が撮像素子4に直接入射するのが抑制される。
また、本実施形態では、撮像素子4を、貫通孔2aの内壁面2bの周方向(接線方向)に略沿って細長く帯板状に形成したため、本体部2の厚みを貫通孔2aの軸方向に短くして、当該本体部2を薄型に形成することができ、静脈パターン取得デバイス1をより小型化することができる。
さらに、回路素子5によって、撮像素子4を制御しながら、指が貫通孔2aに挿入されるのに応じて、所定のタイミング(一定のタイミング)で反復的に撮像することで当該指の長手方向の各位置についての画像情報を取得(スキャン)してメモリ(図示せず)に格納し、各位置での情報を合成した情報を本人確認に用いるようにすれば、静脈パターンの個人的特徴が出やすくなり、撮像素子4の幅に対応する画像情報に基づいて本人確認を行う場合に比べて本人確認精度を向上することができる。
図3は、本実施形態の変形例にかかる静脈パターン取得デバイスの外観図(正面図)である。この変形例にかかる静脈パターン取得デバイス1Aでは、回路素子5を、本体部2Aの側面2iに設けた凹部2j内に収容した状態で実装している。このように、回路素子5は、本体部2A内のどの位置に設けてもよい。なお、図4では、導体パターンの図示を省略しており、同様の構成要素については共通の符号を付している。
(第2実施形態)図4は、本実施形態にかかる静脈パターン取得デバイスの外観図(正面図)である。本実施形態にかかる静脈パターン取得デバイス1Bは、上記第1実施形態にかかる静脈パターン取得デバイス1と同様の構成要素を有している。よってそれら同様の構成要素については共通の符号を付与するとともに、以下では、重複する説明を省略する。また、図4では、導体パターンの図示を省略している。
本実施形態にかかる静脈パターン取得デバイス1Bでは、貫通孔2aの内壁面2bの上部の左右二箇所に略すり鉢状の凹部2dが形成されており、これら各凹部2dの底面上に光源3,3が実装されている。これら光源3,3(凹部2d,2d)は、貫通孔2aの周方向に離間して配置されるとともに、上下方向の中心線Cを中心として左右対称に配置されており、しかも、図4中に破線矢印で示すように、各光源3,3からの指が無い状態での出射光が貫通孔2aの中心軸(軸心)Oを指向するように配置されている。
かかる構成により、各光源3から指内に入射される光の角度がそれぞれ異なることになり、静脈パターンの個人的特徴が立体的にも出やすくなって、本人確認精度を向上することができる。
特に、複数の光源3,3を交互に単独発光させて画像情報を取得し、それら複数の画像情報を合成(ステレオ合成)すれば、さらに個人的特徴を顕著にすることができ、本人確認精度を向上することができる。
(第3実施形態)図5は、本実施形態にかかる静脈パターン取得デバイスの外観図(正面図)であって、(a)は全体図、(b)は(a)内のA部における部分拡大図である。本実施形態にかかる静脈パターン取得デバイス1Cは、上記第1実施形態にかかる静脈パターン取得デバイス1と同様の構成要素を有している。よってそれら同様の構成要素については共通の符号を付与するとともに、以下では、重複する説明を省略する。また、図5では、導体パターンの図示を省略している。
本実施形態にかかる静脈パターン取得デバイス1Cでは、本体部2Cに形成した貫通孔2aの内壁面2bに、入射した光を撮像素子4に向けて反射させる反射面(反射部)を設けたことを特徴としている。具体的には、撮像素子4が収容される帯状の凹溝2eの長手方向両端部の側壁を、開口側に向けて広がる傾斜面2m,2mとし、この傾斜面2m,2mに銅等によるメッキ処理を施すことで、光の反射面を形成している。
このように反射部としての傾斜面2m,2mを設けた分、撮像素子4によって、より広い範囲についての画像情報を取得することができるようになり、その分、静脈パターンの個人的特徴が出やすくなって、本人確認精度を向上することができる。また、撮像素子4、ひいては本体部2を小型化できるという利点もある。
(第4実施形態)図6は、本実施形態にかかる静脈パターン取得デバイスの外観図であって、(a)は平面図、(b)は側面図である。なお、本実施形態にかかる静脈パターン取得デバイス1Dは、上記第1実施形態にかかる静脈パターン取得デバイス1と同様の構成要素を有している。よってそれら同様の構成要素については共通の符号を付与するとともに、以下では、重複する説明を省略する。また、図6でも、導体パターンの図示を省略している。
本実施形態にかかる静脈パターン取得デバイス1Dは、上記第1〜第2実施形態の本体部2,2A,2B,2Cと類似の構成を有する本体部2D(ただし回路素子5を有さない)と、撮像素子4で取得した画像情報に所定の演算処理を施す演算処理回路(回路素子5を含む;全体としては図示せず)が実装された回路基板部7Dとが一体成形された基板ユニット8Dを備えている。
回路基板部7Dは略矩形の平板状の外観を呈しており、その上面7aの一部分に厚さの大きい(高さの高い)突出部分を形成し、当該突出部分を本体部2Dとして構成している。そして、本実施形態では、演算処理回路(図示せず)を、上面7a側の実装領域11に実装している。
以上の本実施形態によれば、本体部2Dと回路基板部7Dとを一体化させた基板ユニット8Dを設けた分、これら本体部2Dと回路基板部7Dを別途構成して相互に接続する場合に比べて静脈パターン取得デバイス1D全体を小型化することができる。また、本体部2Dと回路基板部7Dとの間にコネクタ等を設定する必要が無くなる分、製造コストの低減に資するという利点もある。
図7は、本実施形態の変形例にかかる静脈パターン取得デバイスの外観図(正面図)である。(a)は下側から見た平面図((b)のVIIa−VIIa断面図)、(b)は側面図である。この変形例にかかる静脈パターン取得デバイス1Eの基板ユニット8Eでは、回路基板部7Eに対する本体部2Eの位置および姿勢(向き)が異なる点、ならびに、回路基板部7Eの本体部2Eを突出させた面(下面)7bと回路部品等を実装する面(上面)7aとを相異ならせた点を除いて、上記説明した実施形態にかかる静脈パターン取得デバイス1Dと全く同様である。なお、図7では、導体パターンの図示を省略しており、同様の構成要素については共通の符号を付している。
(第5実施形態)図8は、本実施形態にかかる静脈パターン取得デバイスの外観図であって、(a)は本体部を折り畳んだ状態の側面図、(b)は本体部を進展させた状態の側面図、(c)は本体部を進展させた状態での別の角度から((b)内の矢視B)の側面図、図9は、本体部の表面に形成した導体パターンを示す図であって、(a)は側面図、(b)は別の角度から((a)内の矢視D)の側面図である。なお、本実施形態にかかる静脈パターン取得デバイス1Fは、上記第1実施形態にかかる静脈パターン取得デバイス1と同様の構成要素を有している。よってそれら同様の構成要素については共通の符号を付与するとともに、以下では、重複する説明を省略する。また、図8では、導体パターンの図示を省略している。
本実施形態にかかる静脈パターン取得デバイス1Fは、基板ユニット8Fにヒンジ機構9を設けることで、本体部2Fが、回路基板部7Fに対して直立した姿勢となる位置と、回路基板部7Fと略平行になる位置との間で、回動可能となるように構成した点を特徴としている。
これにより、使用時(図8の(b),(c)および図9の(a),(b))には、本体部2Fを使いやすい姿勢となるように突出させるとともに、非使用時(図8の(a))には、本体部2Fを回路基板部7Fに沿って略平行な状態となるまで折り畳むことで、静脈パターン取得デバイス1Fの格納スペースが小さくなり、小型機器に適用しやすくなる。
ヒンジ機構9は、図9に示すように、シャフト9c回りに二つの部材が相対回動する蝶番機構として構成することができ、この部分において、相互に摺接する周面9aと当接面9bとの双方に導体パターン6を形成しておくことで、少なくとも使用時において、本体部2F側と回路基板部7F側との導通を確保することができる。
特に、このヒンジ機構9において、周面9aあるいは当接面9bにおける導体パターン6を形成する範囲を適宜に調整し、本体部2Fの可動部分を起立させた状態でのみ周面9aと当接面9bとが導通するようにし、折り畳んだ状態では周面9aと当接面9bとが導通しないように構成すれば、この部分で静脈パターン取得デバイスの電源をONすることができる。この場合、本体部2Fの可動部分自体がスイッチとなって、別途電源スイッチ等を設ける必要が無くなる分、構成を簡素化できるとともに、電源の入れ忘れ防止にも資することになる。
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。
1,1A,1B,1C,1D,1E,1F 静脈パターン取得デバイス
2,2A,2B,2C,2D,2E,2F 本体部
2a 貫通孔(指挿通部)
2b 内壁面(内壁)
2m,2m 傾斜面(反射部)
3 光源
4 撮像素子
5 回路素子(演算処理回路の少なくとも一部)
6 導体パターン
7D,7E,7F 回路基板部
9 ヒンジ機構
2,2A,2B,2C,2D,2E,2F 本体部
2a 貫通孔(指挿通部)
2b 内壁面(内壁)
2m,2m 傾斜面(反射部)
3 光源
4 撮像素子
5 回路素子(演算処理回路の少なくとも一部)
6 導体パターン
7D,7E,7F 回路基板部
9 ヒンジ機構
Claims (7)
- 立体構造体の表面に導体パターンを形成した立体回路部品からなる本体部を備え、
前記本体部に指を挿通させる指挿通部を形成し、
前記指挿通部の内壁に、当該指挿通部に挿通した指を照射する光源と、当該光源からの光が指を透過した透過光を撮像する撮像素子と、を直接的に実装したことを特徴とする静脈パターン取得デバイス。 - 前記撮像素子を前記指挿通部の内壁の周方向に略沿って細長く帯状に設けたことを特徴とする請求項1に記載の静脈パターン取得デバイス。
- 前記撮像素子は、前記指挿通部に挿通された指の長手方向各位置について画像情報を取得することを特徴とする請求項2に記載の静脈パターン取得デバイス。
- 複数の前記光源を、前記指挿通部の周方向に略沿って離間配置したことを特徴とする請求項1〜3のうちいずれか一つに記載の静脈パターン取得デバイス。
- 前記指挿通部の内壁に、入射した光を撮像素子に向けて反射させる反射部を設けたことを特徴とする請求項1〜4のうちいずれか一つに記載の静脈パターン取得デバイス。
- 前記撮像素子で取得した画像情報に所定の演算処理を施す演算処理回路が実装された回路基板部を備え、
前記本体部と前記回路基板部とを一体成形したことを特徴とする請求項1〜5のうちいずれか一つに記載の静脈パターン取得デバイス。 - 前記撮像素子で取得した画像情報に所定の演算処理を施す演算処理回路が実装された回路基板部を備え、
前記本体部を前記回路基板部にヒンジ機構を介して折り畳み可能に接続したことを特徴とする請求項1〜5のうちいずれか一つに記載の静脈パターン取得デバイス。
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Cited By (1)
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2006
- 2006-10-11 JP JP2006277489A patent/JP2008093143A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10922522B2 (en) | 2019-04-01 | 2021-02-16 | Nxp Usa, Inc. | Finger vein recognition system |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080205 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20090423 |