JP2008091069A - 発光装置および電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】カラーフィルタまたは色変換層を備えた発光装置において、その光出射面を斜めから眺めた場合に生じる視差を小さく抑える。
【解決手段】発光装置１を提供する。発光装置１は、いわゆるトップエミッション型の発光装置であり、基板１０と、基板１０上に配列され、光を放出する発光層１６を有する複数の発光素子１１と、基板１０上に設けられ、複数の発光素子１１の発光層１６にそれぞれ重なる複数のＣＦ（カラーフィルタ）２０２を有するＣＦ層２０と、ＣＦ層２０上に設けられ、各ＣＦ２０２に重なる回折格子を有する回折フィルム２１とを備える。
【選択図】図１

Description

本発明は、ＯＬＥＤ（Organic Light Emitting Diode）に代表される発光素子を備えた発光装置と、この発光装置を備えた電子機器に関する。

特許文献１には、複数のＯＬＥＤ、カラーフィルタおよび回折格子を備えた発光装置が記載されている。この発光装置は、いわゆるボトムエミッション型の発光装置であり、透明な基板上に形成されたＯＬＥＤからの光は、基板を透過し、次にカラーフィルタを透過し、最後に回折格子を透過して出射する。
特開２００４−１１９１１７号公報

カラーフィルタを有する発光装置の光出射面を斜めから眺めると視差が生じる。上記の発光装置では、厚い基板を介してＯＬＥＤとカラーフィルタとが対峙するから、大きな視差が生じる虞がある。大きな視差が生じると、出射光の像が暗くなり、著しい場合には、あるＯＬＥＤからの光が隣のＯＬＥＤに対応するカラーフィルタを透過して色ずれが生じてしまう。

本発明は、上述した背景に基づいてなされたものであり、カラーフィルタまたは色変換層を備え、その光出射面を斜めから眺めた場合に生じる視差を小さく抑えることのできる発光装置と、この発光素子を備える電子機器を提供することを解決課題とする。

本発明に係る発光装置は、基板と、前記基板上に配列された複数の発光素子と、前記複数の発光素子上に配置され、前記複数の発光素子にそれぞれ重なる複数のカラーフィルタまたは複数の色変換部を有する色調整層と、前記色調整層上に設けられ、前記複数のカラーフィルタまたは複数の色変換部の各々に重なる回折格子を有する回折層とを備え、前記複数の発光素子から発せられた光を前記基板と反対側から射出する、ことを特徴とする。以降、この発光装置を「第１発光装置」と称する。
発光素子としては、有機ＥＬ（Electro Luminescent）素子すなわちＯＬＥＤ（Organic Light Emitting Diode）や、無機ＥＬ素子を例示することができる。複数のカラーフィルタまたは複数の色変換部の各々に重なる回折格子としては、複数のカラーフィルタまたは複数の色変換部の全てに重なる一つの回折光学素子や、複数のカラーフィルタまたは複数の色変換部の各々に重なる複数の回折光学素子を例示することができる。
第１発光装置では、発光素子とカラーフィルタまたは色変換部との間に基板を挟まずに済む。また、第１発光装置では、回折層が色調整層上に設けられているから、回折層を色調整層と複数の発光素子との間に設ける構成に比較して、発光素子とカラーフィルタまたは色変換部との距離を短くなる。よって、第１発光装置によれば、その光出射面を斜めから眺めた場合に生じる視差を小さく抑えることができる。また、第１発光装置は、回折層を備えるから、発光素子から発せられた光の取り出し効率を向上させることができる。

第１発光装置において、前記回折格子は、格子ピッチが異なる複数の部分を有し、前記回折格子の各部分は、当該部分に重なるカラーフィルタまたは色変換部からの出射光の主波長に最適化されている、ようにしてもよい。この発光装置によれば、各発光素子から発せられた光の取り出し効率を向上させることができる。

第１発光装置において、生じる視差を十分に小さく抑制するために、前記複数のカラーフィルタまたは複数の色変換部の各々は、前記複数の発光素子の発光層のうち当該カラーフィルタまたは色変換部に重なる発光層のみに重なっており、前記複数の発光素子の各々の発光層と当該発光素子の発光層に重なるカラーフィルタまたは色変換部との距離は、当該発光素子から発せられて前記色調整層に到達する光に当該発光素子から当該カラーフィルタまたは色変換部とは異なるカラーフィルタまたは色変換部に反射を経ずに到達する光が含まれない距離である、ようにしてもよい。この距離は、一般的な仕様の発光装置では、発光素子の開口の短軸方向の径よりも短く、具体的には、１マイクロメートル以上かつ３０マイクロメートルであり、好ましくは１マイクロメートル以上１５マイクロメートル未満である。

上記の各発光装置において、出射光により結ばれる像のぼけを低減するために、前記複数のカラーフィルタまたは複数の色変換部の各々と前記回折格子の当該カラーフィルタまたは色変換部に重なる部分との距離を、当該部分の０次光の像からの１次光および−１次光の像のずれ量がそれぞれ前記複数のカラーフィルタまたは前記複数の色変換部の間隔の半分未満となる距離としてもよい。この距離は、一般的な仕様の発光装置では、１マイクロメートル以上かつ１００マイクロメートル未満である。

上記の発光装置において、前記複数の発光素子を覆う薄膜封止層を備え、前記色調整層は、前記薄膜封止層上への成膜によって形成される、ようにしてもよい。この発光装置では、色調整層の厚みを薄くすることが容易となり、よって、基板上の複数の発光素子に重ねて基板上に色調整層が位置し、その上に回折層が位置する構成を採ることが容易となる。

本発明に係る電子機器は、上記の発光装置のいずれか１つを有する。したがって、上述した各種効果に起因した効果を奏する。

以下、添付の図面を参照しながら本発明に係る実施の形態を説明する。なお、図面においては、各部の寸法の比率は実際のものとは適宜に異ならせてある。本実施の形態の説明においては、画素を構成するドットに関連する符号に添え字「Ｒ」，「Ｇ」，「Ｂ」を用いることがある。これらの添え字は、関連するドットの発光色（赤、緑、青）をそれぞれ表している。

＜第１の実施の形態＞
図１は、本発明の第１の実施の形態に係るフルカラー発光型の発光装置（有機ＥＬ装置）１の一部を示す断面図である。図２は、発光装置１の一部を示す概略平面図である。図２において、発光層が占める領域にはハッチングを施してある。発光装置１は、縦横が６６．７５ｍｍ×５０ｍｍの長方形の表示領域を有する。この表示領域内に３２０×２４０＝７６８００個の画素がマトリクス状に配列されている。各画素は一組のドット（発光色が赤色のドット、緑色のドットおよび青色のドット）から構成されている。以上の構成は、携帯電話機の表示装置として用いられる発光装置に求められる一般的な仕様に応じたものである。各ドットは一つの発光素子（ＯＬＥＤ）１１を有する。図においては、一つの画素に対応する一組の発光素子１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂのみを例示する。

発光装置１は、各発光素子１１から発せられた光を基板１０と反対側から射出する、いわゆるトップエミッション型の発光装置である。したがって、基板１０としては、ガラス基板の他に、シリコン基板、セラミックス基板、金属基板、プラスチック基板、プラスチックフィルム基板等、公知の様々な基板を採用可能である。基板１０上には、光反射層１２が形成されている。光反射層１２は、後述の対向電極１５との間で発光素子１１から発せられた発光主波長の光を共振させてその光強度を大きくするためのものであり、反射率が高い材料、例えばアルミニウム、銀またはこれらの一方または両方を含む合金から形成されている。光反射層１２は、発光素子１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂの各々の下に配置されている。

発光素子１１は、透明な基板側電極１４と、基板側電極１４よりも基板１０から離れており基板側電極１４に対向する半透明な対向電極１５と、基板側電極１４と対向電極１５の間に介在して光を放出する発光層１６とを有する。各発光素子１１の発光層１６が放出する光の主波長、すなわち各発光素子１１の発光主波長は、当該発光素子１１を含むドットの発光色に応じて定められている。対向電極１５は、複数の発光素子１１に共通の共通電極である。この実施の形態では、基板側電極１４が陽極であって対向電極１５が陰極であるが、逆に基板側電極１４が陰極であって対向電極１５が陽極でもよい。

基板１０および光反射層１２上には、光反射層１２の全域に重ねて、基板側電極１４が形成されている。基板側電極１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂは、例えば、ＩＴＯ（indium tin oxide）、ＩＺＯ（登録商標）（indium zinc oxide）、または二酸化亜鉛ＺｎＯ_２のような光透過性を有する酸化導電材料から形成されている。陽極である基板側電極１４には、発光素子１１を駆動するための電流が供給される。この電流を供給するための配線や回路素子（例えばＴＦＴ（Thin Film Transistor））を基板１０上に設けてもよい。基板側電極１４と発光層１６の間には、正孔注入層１７が配置されている。発光素子１１の構成要素として、これら以外に、正孔輸送層、電子ブロック層、電子輸送層、電子注入層、正孔ブロック層を形成してもよい。

発光層１６および正孔注入層１７は、いずれも、低分子材料で成膜されてもよいし、高分子材料で成膜されてもよい。低分子材料を用いた成膜には、蒸着法や塗布法が好適である。高分子材料を用いた成膜には、塗布法が好適である。塗布法としては、インクジェット法や、印刷法、ディスペンサを用いた方法などがある。ところで、発光層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂの形成材料は互いに相違している。したがって、発光層１６の形成には、ドット毎の塗り分けが容易なインクジェット法が最適である。

光反射層１２と対向電極１５との間に挟まれる、基板側電極１４、発光層１６および正孔注入層１７の各厚みは、各発光素子１１の発光主波長の光強度をできるだけ大きくすることができる共振長を実現できるように定められている。具体的には、基板側電極１４の厚みが発光素子１１の発光主波長に応じた厚みに最適化されており、各発光素子１１において発光層１６の厚みや正孔注入層１７の厚みが最適化されている。

対向電極１５は、ハーフミラーであり、電子を注入しやすいように、仕事関数が低い材料によって形成される。具体的には、例えば、厚みが５ｎｍ程度の極めて薄いカルシウム層上にＩＴＯを成膜して構成される。ＩＴＯの成膜は、導電性の確保を目的としたものである。対向電極１５は、発光層１６での発光に起因する放出光の一部を透過させ、他の一部を反射する。

基板１０上には、ドット隔壁１８が形成されている。ドット隔壁１８は、基板側電極１４の上面の一部（発光素子１１の開口１１１）が露出するように、基板１０および基板側電極１４を覆っている。各発光素子１１の開口１１１の短軸方向の径は、約３０μｍである。発光層１６は発光素子１１毎に隔離されており、発光素子１１はドット隔壁１８および基板側電極１４に限定される領域に形成されている。対向電極１５は、複数の発光層１６のみならず、複数の発光層１６間のドット隔壁１８をも覆っている。

対向電極１５上には薄膜封止層１９が形成されている。薄膜封止層１９は、全ての発光素子１１を外気（空気や水分）から保護するためのものであり、全ての発光素子１１をそれぞれ覆う３層の薄膜を積層して構成されている。薄膜封止層１９の、各発光素子１１に重なる部分の厚みは、発光装置１の光出射面を斜めから眺めた場合に生じる視差を小さく抑えるためには１μｍ以上かつ２５μｍ以下でなければならず、望ましくは１μｍ以上かつ１０μｍ以下であり、本実施の形態では約５．７μｍである。３層の薄膜とは、対向電極１５上に形成された電極保護膜１９１、電極保護膜１９１上に形成された有機緩衝膜１９２、有機緩衝膜１９２上に形成されたガスバリア膜１９３である。

電極保護膜１９１は、対向電極１５の保護や、有機緩衝膜１９２の形成の容易化を目的としたものであり、対向電極１５を覆って延在し、窒酸化珪素で形成されており、その厚みは、約２００ｎｍである。電極保護膜１９１の形成には、例えば蒸着法を採用可能である。電極保護膜１９１の形成材料として、窒酸化珪素以外の珪素窒化物や無機酸化物を採用してもよい。

有機緩衝膜１９２は、ドット隔壁１８の形状の影響によりドット毎に生じる電極保護膜１９１の段差を埋め、ガスバリア膜１９３における応力集中を抑制するためのものであり、エポキシ樹脂で形成されており、その上面は平坦になっている。発光素子１１上の有機緩衝膜１９２の厚みは約５０００ｎｍである。有機緩衝膜１９２は、電極保護膜１９１の中央部分に重なっており、電極保護膜１９１の端に重なっていない。有機緩衝膜１９２の形成には、例えば蒸着法や塗布法を採用可能である。有機緩衝膜１９２の形成材料として、エポキシ樹脂以外の有機材料を採用してもよい。

ガスバリア膜１９３は、外気の浸入を防ぐためのものであり、電極保護膜１９１および有機緩衝膜１９２を覆って延在し、窒酸化珪素で形成されており、その厚みは、約５００ｎｍである。ガスバリア膜１９３の形成には、例えば蒸着法を採用可能である。ガスバリア膜１９３の形成材料として、窒酸化珪素以外の珪素窒化物や無機酸化物を採用してもよい。

薄膜封止層１９（ガスバリア膜１９３）上には、全ての発光素子１１を覆うように、ＣＦ（カラーフィルタ）層２０が形成されている。ＣＦ層２０は、ガスバリア膜１９３上への成膜によって形成され、多数の貫通孔が形成された層状のＣＦ隔壁２０１と、多数の貫通孔をそれぞれ充たす多数のＣＦ２０２とを有する。各ＣＦ２０２はドットを構成している。各ドットの短軸方向の径は約５０μｍであり、複数のドッドの近端間の距離であるドット間隔は約２０μｍである。

ＣＦ隔壁２０１において、多数の貫通孔は、マトリクス状に配置されている。ＣＦ隔壁２０１は、ガスバリア膜１９３上に遮光性の材料で成膜して形成される。この成膜には、ＬＩＴＩ（Laser Induced Thermal Imaging）法を採用可能である。ＣＦ隔壁２０１の色は、コントラストの向上の観点から、黒色などの暗色になっている。つまり、ＣＦ層２０は、各発光素子１１からの放出光を分離するための層である。

ＣＦ隔壁２０１の貫通孔は、発光素子１１毎に形成されている。各貫通孔すなわち各ＣＦ２０２は、複数の発光素子１１の開口１１１のうち対応する発光素子１１の開口１１１のみに、当該開口１１１の全域にわたって重なっている。各ＣＦ２０２の透過波長特性は、当該ＣＦ２０２を含むドットの発光色の光を主に透過させる特性となっている。具体的には、ＣＦ２０２Ｒの主に赤色光（Ｒ光）を、ＣＦ２０２Ｇは主に緑色光（Ｇ光）を、ＣＦ２０２Ｂは主に青色光（Ｂ光）を透過させる。つまり、ＣＦ層２０は、各ドットの発光色を調整する色調整層である。

複数の発光素子１１の各々の発光層１６と当該発光素子１１の発光層１６に重なるＣＦ２０２との距離は、発光装置１の光出射面を斜めから眺めた場合に生じる視差を十分に小さく抑制するために、当該発光素子１１から発せられてＣＦ層２０に到達する光に当該発光素子１１から当該ＣＦ２０２とは異なるＣＦ２０２に反射を経ずに到達する光が含まれないように定められるべきである。このように定めれば、ある発光素子１１からの光が隣の発光素子１１に対応するＣＦ２０２を透過する可能性が極めて低くなるから、十分に高い確率で色ずれを防止することができる。上記の距離は、一般的な仕様においては、１μｍ以上かつ３０μｍ未満、すなわち１μｍ以上かつ当該発光素子１１の開口１１１の短軸方向の径未満であり、好ましくは１μｍ以上かつ１５μｍ未満である。発光装置１では、上記の距離が約５．７０５μｍであるから、十分に高い確率で色ずれを防止することができる。

各ＣＦ２０２は、インクジェット法により形成される。すなわち、ＣＦ隔壁２０１の貫通孔内に、対応する発光素子１１の発光色に応じたＣＦインクを吐出し、吐出されたＣＦインクを乾燥させて形成される。なお、ＣＦ層２０の形成にＬＩＴＩ法を採用することも可能である。

ＣＦ層２０の上面には、回折フィルム２１が貼り付けられている。回折フィルム２１は、発光素子１１から発せられた光を回折させてその取り出し効率を向上させるための回折層である。回折フィルム２１の上面側の部分は、全てのＣＦ２０２の全域に重なる回折格子となっている。この回折格子を形成するために、回折フィルム２１の上面側には回折構造が刻み込まれている。回折フィルム２１の形成方法としてはナノインプリントを採用可能であり、回折フィルム２１の形成材料としては硬化性樹脂や熱可塑性樹脂を採用可能である。

上記の回折構造は、回折格子の格子ピッチが、ＣＦ２０２Ｒを覆う部分ＨＲではＣＦ２０２Ｒの透過光の主波長に最適化された距離（０．９μｍ）、発光素子１１Ｇを覆う部分ＨＧではＣＦ２０２Ｇの透過光の主波長に最適化された距離（０．７７μｍ）、発光素子１１Ｂを覆う部分ＨＢではＣＦ２０２Ｂの透過光の主波長に最適化された距離（０．６８μｍ）となるようにパターニングされている。また、回折フィルム２１のＣＦ層２０への貼り付けでは、回折格子の部分ＨＲがＣＦ２０２Ｒの全域に重なり、部分ＨＧがＣＦ２０２Ｇの全域に重なり、部分ＨＢがＣＦ２０２Ｂの全域に重なるように位置合わせが行われる。

ここで、回折格子の部分と当該部分に重なるＣＦ２０２との距離について説明する。発光装置１を変形し、この距離を長くすると、回折格子の０次光の像と１次光および−１次光の像とが大きくずれる。このずれが大きいと、像がドット間で重なってぼけてしまう。そこで、発光装置１では、回折格子の各部分と当該部分に重なるＣＦ２０２との距離を、当該部分の０次光の像からの１次光および−１次光の像のずれ量がそれぞれドット間隔（約２０μｍ）の半分未満となる距離となるように定めてある。この距離は、一般的な仕様においては１μｍ以上かつ１００μｍ未満であり、発光装置１でも、この範囲内にある。このため、発光装置１によれば、出射光により結ばれる像のぼけを低減することができる。

また、発光装置１では、発光素子１１とＣＦ２０２との間に基板１０を挟まずに済む。また、発光装置１では、回折フィルム２１がＣＦ層２０上に設けられているから、回折フィルム２１をＣＦ層２０と基板１０との間に設ける構成に比較して、発光素子１１とＣＦ２０２との距離が短くなる。よって、発光装置１によれば、発光素子１１とＣＦ２０２との距離を短縮することができる。よって、発光装置１によれば、発光装置１の光出射面を斜めから眺めた場合に生じる視差を小さく抑えることができる。このことは、発光装置１の光出射面を斜めから眺めた場合の、出射光の像の明るさの維持や色ずれの防止に寄与する。なお、上記の距離の具体的な値については、前述の通りである。

また、発光装置１は、発光素子１１から発せられた光を回折させてその取り出し効率を向上させるための回折層として回折フィルム２１を備えており、回折フィルム２１の回折格子の各部分における格子ピッチは、当該部分に覆われるＣＦ２０２の透過光の主波長に最適化されている。したがって、発光装置１によれば、各発光素子１１から発せられた光の取り出し効率を向上させることができる。実際、発光装置１における各発光素子１１の正面での明るさは、発光装置１から回折フィルム２１を取り除いた構成における各発光素子１１の正面での明るさの約１．８倍となった。

また、発光装置１では、ＣＦ層２０が薄膜封止層１９上への成膜によって形成されるから、ＣＦ層２０の厚みを薄くすることが容易となり、基板１０上の複数の発光素子１１に重ねて基板１０上にＣＦ層２０が位置し、その上に回折フィルム２１が位置する構成を採ることが容易となる。これには、複数の発光素子１１の封止に、封止基板ではなく薄膜封止層１９を用いたことも寄与している。

＜第２の実施の形態＞
図３は、本発明の第２の実施の形態に係るフルカラー発光型の発光装置（有機ＥＬ装置）２の一部を示す断面図である。図４は、発光装置２の一部を示す概略平面図である。図４において、発光層が占める領域にはハッチングを施してある。発光装置２は、発光装置１と同様の構成、形状および寸法を有する。ただし、発光装置２では、全ての発光素子３１の発光色が同一である。

発光素子３１は、発光素子１１と同様の構成、形状および寸法を有する。発光素子３１を構成する基板側電極３２、対向電極３３、発光層３４および正孔注入層３５は、発光素子１１の各部と同様の構成、形状および寸法を有する。ただし、発光層３４および正孔注入層３５は、それぞれ、全ての発光素子３１にわたって延在している。したがって、発光層３４および正孔注入層３５の形成にはスピンコート法をも採用可能であり、また、対向電極３３は発光素子３１間ではドット隔壁３６に接触しない。また、対向電極３３は、３つの層を有する。第１の層は、厚みが約１ｎｍであり、弗化リチウムで形成されている。第２の層は、厚みが約５ｎｍであり、マグネシウム銀で形成されている。第３の層は、ＩＴＯを成膜して形成されている。

ドット隔壁３６は、基板側電極３２の上面の一部（発光素子３１の開口３１１）が露出するように、基板１０および基板側電極３２を覆っている。発光素子３１はドット隔壁３６および基板側電極３２に限定される領域に形成されている。各発光素子３１の開口３１１は、発光素子１１の開口１１１と同様の形状および寸法を有する。

対向電極３３上には薄膜封止層３７が形成されている。薄膜封止層３７は、薄膜封止層１９と同様の構成を有する。薄膜封止層３７を構成する電極保護膜３７１、有機緩衝膜３７２およびガスバリア膜３７３は、各発光素子３１上において、電極保護膜１９１、有機緩衝膜１９２およびガスバリア膜１９３と同様の厚みを有する。また、発光装置２の薄膜封止層３７より上の層の構成、形状および寸法は、発光装置１に準じている。
上述した発光装置２によれば、発光装置１と同様の効果を得ることができる。

＜変形例＞
本発明の範囲は上述した実施の形態に限定されない。本発明の範囲には、例えば、以下に列挙する変形例も含まれる。
回折フィルム２１の回折格子の格子ピッチを、全ての発光素子１１にわたって一様としてもよい。この場合でも、複数の発光素子１１のうち特定色の発光素子１１（例えば発光素子１１Ｒ）の光の取り出し効率を向上させることは可能である。
ＣＦ層２０上に回折層を形成してから、このＣＦ層２０をガスバリア膜１９３の上面に貼り付けるようにしてもよい。この貼り付けでは、ＣＦ２０２Ｒが発光素子１１Ｒを覆い、ＣＦ２０２Ｇが発光素子１１Ｇを覆い、ＣＦ２０２Ｂが発光素子１１Ｂを覆うように位置合わせが行われる。ＣＦ層２０上への回折層の形成方法としては、ナノインプリントと同様の方法を採用可能である。具体的には、例えば、回折層の形成材料として硬化性樹脂を採用する場合には、ＣＦ層２０上に硬化性樹脂を塗布し、これに回折格子の原版（例えば金型）を押し当て、加熱あるいは紫外線を照射して硬化させる方法を採用可能である。
回折フィルム２１上に円偏光板を配置してもよい。こうすることにより、各発光素子１１から発せられた光の取り出し効率が向上するとともに、発光装置の光出射面における外光の反射を減ずることができる。
ＣＦ層２０が有するＣＦの種類を２種類以下としてもよい。このような発光装置の用途としては、マルチカラー型の表示装置や、電子写真方式の画像形成装置において感光体ドラム等の像担持体に光を照射して潜像を形成する光ヘッドを例示することができる。
ＣＦ２０２を有するＣＦ層２０に代えて色変換部を有する色変換層を備える構成としてもよい。この場合、色変換層が色調整層として機能し、各色変換部がドットを構成することになる。
薄膜封止層を、１層の薄膜または２層の薄膜あるいは４層以上の薄膜で構成してもよい。また、発光素子はＯＬＥＤに限らない。例えば、無機ＥＬ素子であってもよい。

＜応用例＞
次に、上述した各発光装置を適用した電子機器について説明する。
図５は、上述した各発光装置を表示装置として採用したモバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す図である。パーソナルコンピュータ２０００は、表示装置２００３と本体部２０１０とを備える。本体部２０１０には、電源スイッチ２００１およびキーボード２００２が設けられている。

図６は、上述した各発光装置を表示装置として採用した携帯電話機の構成を示す図である。携帯電話機３０００は、複数の操作ボタン３００１およびスクロールボタン３００２、ならびに表示装置３００３を備える。スクロールボタン３００２を操作することによって、表示装置３００３に表示される画面がスクロールされる。

図７は、上述した各発光装置を表示装置として採用した携帯情報端末（ＰＤＡ：Personal Digital Assistants）の構成を示す図である。情報携帯端末４０００は、複数の操作ボタン４００１および電源スイッチ４００２、ならびに表示装置４００３を備える。電源スイッチ４００２を操作すると、住所録やスケジュール帳といった各種の情報が表示装置４００３に表示される。

本発明に係る発光装置が適用される電子機器としては、図５から図７に示したもののほか、テレビやビデオカメラ等の映像を表示可能な機器や、電子写真方式の画像形成装置が挙げられる。

本発明の第１の実施の形態に係るフルカラー発光型の発光装置１の一部を示す断面図である。 発光装置１の一部を示す概略平面図である。 本発明の第２の実施の形態に係るフルカラー発光型の発光装置２の一部を示す断面図である。 発光装置２の一部を示す概略平面図である。 本発明の実施の形態に係る各発光装置を表示装置として採用したモバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す図である。 本発明の実施の形態に係る各発光装置を表示装置として採用した携帯電話機の構成を示す図である。 本発明の実施の形態に係る各発光装置を表示装置として採用した携帯情報端末の構成を示す図である。

符号の説明

１，２…発光装置、１０…基板、１１（１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂ），３１（３１Ｒ，３１Ｇ，３１Ｂ）…発光素子、１１１（１１１Ｒ，１１１Ｇ，１１１Ｂ），３１１（３１１Ｒ，３１１Ｇ，３１１Ｂ）…開口、１６（１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂ），３４…発光層、１８，３６…ドット隔壁、１９，３７…薄膜封止層、２０…ＣＦ層（色調整層）、２０００…パーソナルコンピュータ（電子機器）、２０１…ＣＦ隔壁、２０２（２０２Ｒ，２０２Ｇ，２０２Ｂ）…ＣＦ、２１…回折フィルム（回折層）、３０００…携帯電話機（電子機器）、４０００…携帯情報端末（電子機器）。

Claims (10)

1. 基板と、
   前記基板上に配列され、光を放出する発光層を有する複数の発光素子と、
   前記複数の発光素子上に配置され、前記複数の発光素子の発光層にそれぞれ重なる複数のカラーフィルタまたは複数の色変換部を有する色調整層と、
   前記色調整層上に設けられ、前記複数のカラーフィルタまたは複数の色変換部の各々に重なる回折格子を有する回折層とを備え、
   前記複数の発光素子から発せられた光を前記基板と反対側から射出する、
   ことを特徴とする発光装置。
2. 前記回折格子は、格子ピッチが異なる複数の部分を有し、
   前記回折格子の各部分は、当該部分に重なるカラーフィルタまたは色変換部からの出射光の主波長に最適化されている、
   ことを特徴とする請求項１に記載の発光装置。
3. 前記複数のカラーフィルタまたは複数の色変換部の各々は、前記複数の発光素子の発光層のうち当該カラーフィルタまたは色変換部に重なる発光層のみに重なっており、
   前記複数の発光素子の各々の発光層と当該発光素子の発光層に重なるカラーフィルタまたは色変換部との距離は、当該発光素子から発せられて前記色調整層に到達する光に当該発光素子から当該カラーフィルタまたは色変換部とは異なるカラーフィルタまたは色変換部に反射を経ずに到達する光が含まれない距離である、
   ことを特徴とする請求項１に記載の発光装置。
4. 前記複数の発光素子の各々の発光層と当該発光素子の発光層に重なるカラーフィルタまたは色変換部との距離は、当該発光素子の開口の短軸方向の径よりも短い、
   ことを特徴とする請求項１に記載の発光装置。
5. 前記複数の発光素子の発光層の各々と当該発光層に重なるカラーフィルタまたは色変換部との距離は、１マイクロメートル以上かつ３０マイクロメートル未満である、
   ことを特徴とする請求項１に記載の発光装置。
6. 前記複数の発光素子の発光層の各々と当該発光層に重なるカラーフィルタまたは色変換部との距離は、１マイクロメートル以上かつ１５マイクロメートル未満である、
   ことを特徴とする請求項１に記載の発光装置。
7. 前記複数のカラーフィルタまたは複数の色変換部の各々と前記回折格子の当該カラーフィルタまたは色変換部に重なる部分との距離は、当該部分の０次光の像からの１次光および−１次光の像のずれ量がそれぞれ前記複数のカラーフィルタまたは前記複数の色変換部の間隔の半分未満となる距離である、
   ことを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の発光装置。
8. 前記複数のカラーフィルタまたは複数の色変換部の各々と前記回折格子の当該カラーフィルタまたは色変換部に重なる部分との距離は、１マイクロメートル以上かつ１００マイクロメートル未満である、
   ことを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の発光装置。
9. 前記複数の発光素子を覆う薄膜封止層を備え、
   前記色調整層は、前記薄膜封止層上への成膜によって形成される、
   ことを特徴とする請求項１ないし８のいずれか１項に記載の発光装置。
10. 請求項１ないし９のいずれか１項に記載の発光装置を備える、
    ことを特徴とする電子機器。
    

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