JP2008086972A - 脱水システム及び脱水方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 被処理流体を、無水物と水とに分離する水分離膜装置2を備え、該水分離膜装置2の温度監視装置3を備え、該温度監視装置3で温度を検知し、さらに、上記水分離膜装置2の前段に温度調整装置4を備え、該温度調整装置4を用い、上記温度監視装置3で検知された温度に基づいて上記被処理流体の温度を制御し、上記水分離膜装置2での分離操作における透過水量の最適化を図るようにした。
【選択図】 図1
Description
従来、脱水にあたっては、希薄エタノール水溶液を、蒸留塔で蒸留することにより、エタノール/水系の共沸点近くまで濃縮し、次いで脱水するといったことが行われている。
本発明に係る脱水システムは、その好適な実施の形態で、上記被処理流体を、蒸留塔により原料を蒸留して得られる気体状又は液体状の留出物としている。
また、本発明に係る脱水システムでは、別の形態で、上記被処理流体は、アルコール選択透過膜により、原料を脱水して得られたものである。
上記水分離膜は、細孔径10オングストローム以下のシリカ系又はゼオライト系の無機水分離膜が好適である。
蒸留塔1は、例えば、底部に蒸気の供給を受け、中段に供給される希薄エタノール水溶液を加熱し、濃縮した原料を塔頂から留出させるタイプのものである。留出物は、エタノール濃度が高くなったエタノールと水との混合物である。
工程2: シリカゾル1用原料のアルコキシシランに対する水の重量比を0.5〜2.0とし、かつ、反応触媒として、アルコキシシランに対する酸触媒の重量比を0.01〜0.1とする。
工程3: シリカゾル2用原料のアルコキシシランに対する水の重量比を2.0〜50とし、かつ、反応触媒として、アルコキシシランに対する酸触媒の重量比を0.01〜0.5とする。
工程4: 上記シリカゾル1用原料を沸騰状態に保持し、沸騰開始後約25分、約20分及び約15分の液をそれぞれ、1−A、1−B及び1−C液とする。
工程5: 上記シリカゾル2用原料を常温で30分〜90分間撹拌・混合してシリカゾル2を製造する。
工程6: 多孔質基材の表面上に上記シリカゾル1−A液を担持した後、該多孔質基材を約200℃に設定した電気炉内で5〜15分間焼成し、次に該多孔体を約300℃に設定した電気炉内で5〜15分間焼成し、次に該多孔質基材を約400℃に設定した電気炉内で5〜15分間焼成し、次に該多孔質基材を約500℃に設定した電気炉内で5〜15分間焼成する。
工程7: 該シリカゾル1−A液を担持した多孔質基材の表面に更にシリカゾル1−A液を担持した後、上記工程6の操作を2〜3回繰り返す。
工程8: 次に該シリカゾル1−A液を担持した多孔質基材の表面上に更にシリカゾル1−B液を使用して上記工程6〜工程7と同様の処理を行う。
工程9: 次に該シリカゾル1−B液を担持した多孔質基材の表面上にシリカゾル1−C液を使用して上記工程6〜工程7と同様の処理を行う。
工程10: 次に上記シリカゾル1−A、1−B及び1−C液を担持してなる多孔質基材の表面上に上記シリカゾル2液を担持し、該多孔体を約200℃に設定した電気炉内で5〜15分間焼成し、次に該多孔質基材を約300℃に設定した電気炉内で5〜15分間焼成し、次に該多孔質基材を約400℃に設定した電気炉内で5〜15分間焼成し、次に該多孔質基材を約500℃に設定した電気炉内で5〜15分間焼成する。
工程11: 該シリカゾル2液を担持した多孔質基材の表面に更にシリカゾル2液を担持した後、上記工程10の操作を2〜3回繰り返す。
図1に示すように、10wt%のエタノールと、90wt%の水との混合物(原料混合物)を蒸留塔1の中段に供給する。一方、蒸留塔1の底部は、加熱されている。
蒸留塔1での蒸留操作によって、塔頂からは、95wt%のエタノールと、5wt%の水との混合物(被処理流体)が留出する。底部からは、水が排出される。排出される水の一部は、熱交換器6で熱交換を行う。塔頂から留出する留出物の一部は熱交換器7に分岐し、再度液化して塔頂に戻す。その他の留出物は、熱交換器5を経て、水分離膜装置2に送られる。
ここで、本発明に係る脱水システムでは、温度測定装置3によって、水分離膜の温度を検出する。温度の検出は、留出物自体の温度又は水分離膜の温度を検出することによって行うことができる。
本実施の形態では、水分離膜装置2で得られる水分を、ライン31を設けて蒸留塔1に気体のままリサイクルしている。これによって、水分離膜を透過してしまった微量なエタノールの回収を期待することができる。なお、他の構成要素は、図1について説明した実施の形態と同様であり、同一番号を付した構成要素は、同一の構成・作用を持つ。
本実施の形態では、蒸留塔1で得られる気体状の留出物を熱交換器7で、液化し、蒸留塔1に一部戻し、他の液状の留出物を水分離膜装置2側に送っている。
本実施の形態では、液状の留出物を熱交換器5で加熱する。そして、本実施の形態では、蒸留塔1から液体で供給される留出物が、約40℃であり、これを気化すると共に、約90℃の範囲に制御する。すなわち、その凝縮温度よりも5〜10℃高い温度にとする。これによって、水分離膜の膜面積当たりの水透過量を増大させることにより、膜分離性能の向上を図る。
なお、他の構成要素は、図1について説明した実施の形態と同様であり、同一番号を付した構成要素は、同一の構成・作用を持つ。
本実施の形態では、水分離膜装置2で得られる水分を、ライン51を設けて蒸留塔1に気体のままリサイクルしている。これによって、水分離膜を透過してしまった微量なエタノールのガス回収を期待することができる。なお、他の構成要素は、図4について説明した実施の形態と同様であり、同一番号を付した構成要素は、同一の構成・作用を持つ。
本実施の形態は、図5の実施の形態で、気体のまま蒸留塔1に戻していた水分を液体で供給することとしている。
すなわち、本実施の形態では、図5の実施の形態に加え、冷却器62、気液分離器63、循環ポンプ64をさらに備えている。これによって、水分離膜装置2からの気体(水蒸気)を冷却器62で冷却し、水(液体)を気液分離器63で分離している。水は、循環ポンプ64によってライン61を経て、蒸留塔1に戻す。これによって、水分離膜を透過してしまった微量なエタノールのガスを液状で回収するといったことを期待することができる。
なお、図3の実施の形態も、本実施の形態のように、冷却器62、気液分離器63、循環ポンプ64をさらに備えた形態として実施することができる。
このようなアルコール選択膜としては、例えば、シリコーンゴム、トリメチルシリルプロピン製の高分子膜によるエタノール選択透過膜を挙げることができる。
このようにアルコール選択膜で希薄エタノール水溶液を処理する場合には、被処理物のエタノール濃度(アルコール濃度)が50〜95wt%となるようにすることが好適である。
2 水分離膜装置
3 温度測定装置
4 熱媒流量コントローラ
5 熱交換器
6 熱交換器
7 熱交換機
31 ライン
51 ライン
61 ライン
62 冷却器
63 気液分離器
64 循環ポンプ
Claims (9)
- 被処理流体を、無水物と水とに分離する水分離膜装置を備え、該水分離膜装置又は水分離膜装置に供給される被処理流体の温度監視装置を備え、該温度監視装置で温度を検知し、さらに、上記水分離膜装置の前段に温度調整装置を備え、該温度調整装置を用い、上記温度監視装置で検知された温度に基づいて上記被処理流体の温度を制御し、上記水分離膜装置での分離操作における透過水量の最適化を図るようにしたことを特徴とする脱水システム。
- 上記被処理流体が、エタノールと水との混合物又はプロパノールと水との混合物から成ることを特徴とする請求項1の脱水システム。
- 上記被処理流体が、蒸留塔により原料を蒸留して得られる気体状の留出物であることを特徴とする請求項2の脱水システム。
- 上記被処理流体が、蒸留塔により原料を蒸留して得られる液体状の留出物であることを特徴とする請求項2の脱水システム。
- 上記被処理流体が、アルコール選択透過膜により、原料を脱水して得られたものであることを特徴とする請求項2の脱水システム。
- 上記水分離膜装置によって得られる水分を、上記被処理流体を得るための装置にリサイクルするように構成して成ることを特徴とする請求項3〜5のいずれかの脱水システム。
- 上記水分離膜が、細孔径10オングストローム以下のシリカ系又はゼオライト系の無機水分離膜であることを特徴とする請求項1〜6のいずれかの脱水システム。
- 上記水分離膜装置によって得られる水分を、冷却・気液分離するための冷却装置及び気液分離装置をさらに備えたことを特徴とする請求項6の脱水システム。
- 被処理流体を、水分離膜装置によって無水物と水とに分離し、該水分離膜装置又は水分離膜装置に供給される被処理流体の温度を温度監視装置によって検知し、上記水分離膜装置の前段に設けた温度調整装置を用い、上記温度監視装置で検知された温度に基づいて上記被処理流体の温度を制御し、上記水分離膜装置での分離操作における透過水量の最適化を図るようにしたことを特徴とする請求項1〜8のいずれかの脱水システムを用いた脱水方法。
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2006
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JPWO2019102871A1 (ja) * | 2017-11-21 | 2020-11-19 | 光治郎 大川 | 溶剤脱水システム、及び溶剤脱水方法 |
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