JP5308022B2 - 脱水装置及び方法 - Google Patents
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Description
工程2: シリカゾル1用原料のアルコキシシランに対する水の重量比を0.5〜2.0とし、かつ、反応触媒として、アルコキシシランに対する酸触媒の重量比を0.01〜0.1とする。
工程3: シリカゾル2用原料のアルコキシシランに対する水の重量比を2.0〜50とし、かつ、反応触媒として、アルコキシシランに対する酸触媒の重量比を0.01〜0.5とする。
工程4: 上記シリカゾル1用原料を沸騰状態に保持し、沸騰開始後約25分、約20分及び約15分の液をそれぞれ、1−A、1−B及び1−C液とする。
工程5: 上記シリカゲル2用原料を常温で30分〜90分間攪拌・混合してシリカゾル2を製造する。
工程6: 多孔質基材の表面上に上記シリカゾル1−A液を担持した後、該多孔質基材を約200℃に設定した電気炉内で5〜15分間焼成し、次に該多孔質基材を約300℃に設定した電気炉内で5〜15分間焼成し、次に該多孔質基材を約400℃に設定した電気炉内で5〜15分間焼成し、次に該多孔質基材を約500℃に設定した電気炉内で5〜15分間焼成する。
工程7: 該シリカゾル1−A液を担持した多孔質基材の表面に更にシリカゾル1−A液を担持した後、上記工程6の操作を2〜3回繰り返す。
工程8: 次に該シリカゾル1−A液を担持した多孔質基材の表面上に更にシリカゾル1−B液を使用して上記工程6〜工程7と同様の処理を行う。
工程9: 次に該シリカゾル1−B液を担持した多孔質基材の表面上にシリカゾル1−C液を使用して上記工程6〜工程7と同様の処理を行う。
工程10: 次に上記シリカゾル1−A、1−B及び1−C液を担持してなる多孔質基材の表面上に上記シリカゾル2液を担持し、該多孔体を約200℃に設定した電気炉内で5〜15分間焼成し、次に該多孔質基材を約300℃に設定した電気炉内で5分〜15分間焼成し、次に該多孔質基材を約400℃に設定した電気炉内で5〜15分間焼成し、次に該多孔質基材を約500℃に設定した電気炉内で5〜15分間焼成する。
工程11: 該シリカゾル2液を担持した多孔質基材の表面に更にシリカゾル2液を担持した後、上記工程10の操作を2〜3回繰り返す。
以上のように、第一の実施形態に係る方法において、脱水装置100は、熱交換機の適切な温度調節によって、水分離膜ユニットにおいてキャビテーションエロージョンの発生を防止することができ、水分離膜を損傷することなく装置を運転することができる。
2 水分離膜ユニット
3 水分離膜ユニット
4 ポンプ
5 入口流量計
6 冷却器
7 出口流量計
11 熱交換機
12 温度計
13 濃度計
21 熱交換機
22 温度計
23 濃度計
31 熱交換機
32 温度計
33 濃度計
61 温度計
62 温度計
100 脱水装置
Claims (14)
- 被処理流体から水を分離する脱水装置であって、
上記被処理流体の流れ方向に対し直列して接続された、少なくとも二以上の水分離膜ユニットと、
上記各水分離膜ユニットの前に設置され、上記被処理流体を沸点未満であり、かつ沸点に近い温度まで、上記被処理流体を昇温させる、二以上の熱交換器と
を備え、
上記各水分離膜ユニットがそれぞれ異なった膜面積を有し、上記被処理流体の流れ方向に沿って各水分離膜ユニットの膜面積が増加することを特徴とする、脱水装置。 - 上記被処理流体の沸点未満の温度が、上記被処理流体の沸点に対して5℃低い温度であることを特徴とする請求項1に記載の脱水装置。
- 上記被処理流体の沸点より低い温度が、上記少なくとも二つ以上の水分離膜ユニットにおける最後の水分離膜ユニット出口の被処理流体の沸点に対して5℃低い温度であることを特徴とする請求項1に記載の脱水装置。
- 上記被処理流体が、有機水溶液であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の脱水装置。
- 上記有機水溶液の有機成分が、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、グリコール等のアルコール、酢酸等のカルボン酸、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル等のエーテル、アセトアルデヒド等のアルデヒド、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン、酢酸エチルエステル等のエステルからなる群から選択される一の有機成分であって、水に可溶なものであることを特徴とする請求項4に記載の脱水装置。
- 上記被処理流体の温度を監視する温度計を監視装置として備え、各水分離膜ユニットに該温度計を設置し、水分離膜前流の熱交換器において被処理流体の昇温度合いをコントローラを利用してコントロールする、または監視員が設定することを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の脱水装置。
- 上記被処理流体の濃度を監視する濃度計を監視装置として備え、各水分離膜ユニットに該濃度計を設置し、水分離膜前流の熱交換器において被処理流体の昇温度合いをコントローラを利用してコントロールする、または監視員が設定することを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の脱水装置。
- 被処理流体の流れ方向に対し直列して接続された、少なくとも二以上の水分離膜ユニットであって、それぞれ異なった膜面積を有し、上記被処理流体の流れ方向に沿って各水分離膜ユニットの膜面積が増加する水分離膜ユニットと、上記各水分離膜ユニットの前に設置された上記被処理流体を昇温させる、二以上の熱交換機とを備える脱水装置を用いた被処理流体の脱水方法であって、
各熱交換機によって、上記被処理流体を沸点未満であり、かつ沸点に近い温度まで上記被処理流体を昇温させるステップと、
各水分離膜ユニットによって、上記被処理流体から水を分離するステップと
を含む、脱水方法。 - 上記被処理流体の沸点未満の温度が、上記被処理流体の沸点に対して5℃低い温度であることを特徴とする請求項8に記載の脱水方法。
- 上記被処理流体の沸点より低い温度が、上記少なくとも二つ以上の水分離膜ユニットにおける最後の水分離膜ユニット出口の被処理流体の沸点に対して5℃低い温度であることを特徴とする請求項8に記載の脱水方法。
- 上記被処理流体が、有機水溶液であることを特徴とする請求項8〜10のいずれかに記載の脱水方法。
- 上記有機水溶液の有機成分が、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、グリコール等のアルコール、酢酸等のカルボン酸、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル等のエーテル、アセトアルデヒド等のアルデヒド、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン、酢酸エチルエステル等のエステルからなる群から選択される一の有機成分であって、水に可溶なものであることを特徴とする請求項11に記載の脱水方法。
- 上記被処理流体の温度を監視する温度計を監視装置として用い、各水分離膜ユニットとして該温度計が設置されている水分離膜ユニットを用い、水分離膜前流の熱交換器において被処理流体の昇温度合いをコントローラを利用してコントロールする、または監視員が設定することを特徴とする請求項8〜12のいずれかに記載の脱水方法。
- 上記被処理流体の濃度を監視する濃度計を監視装置として用い、各水分離膜ユニットとして該濃度計が設置されている水分離膜ユニットを用い、水分離膜前流の熱交換器において被処理流体の昇温度合いをコントローラを利用してコントロールする、または監視員が設定することを特徴とする請求項8〜13のいずれかに記載の脱水方法。
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