JP2008085166A - 光結合型半導体装置及びその製造方法ならびに電子機器 - Google Patents

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Abstract

【課題】CTRのばらつきを抑えかつ内部絶縁距離を確保しながら装置の小型化、薄型化を図る。
【解決手段】発光素子11と受光素子12とが左右方向に対向配置された光結合型半導体装置であって、発光側リードフレーム23の素子搭載部23aと、受光側リードフレーム24の素子搭載部24aとが、各々上下逆方向に折り曲げられた状態で、素子搭載部23aに搭載されている発光素子11と、素子搭載部24aに搭載されている受光素子12とが、略同一高さとなるように対向配置されている。
【選択図】図1

Description

本発明は、電源フィードバックやスイッチング素子、ドライバ回路として各種電子機器に設けられる光結合型半導体装置及びその製造方法に関するものである。
図11は、従来の光結合型半導体装置の構造の一例を示している。
光結合型半導体装置は、入出力間にて絶縁を取りながら、光にて信号を伝達するデバイスである。通常、受光素子は素子上面に受光面を備えているため、発光素子より伝達される光を効率的に受けるように、発光素子100Aと受光素子200Aとを上下に対向させて配置した構造(図11(a)参照)とするのが一般的である。
また、光結合型半導体装置を絶縁デバイスとして使用する場合、デバイスの発光素子100Aと受光素子200Aとの距離である内部絶縁距離L100を確保しないと、1次側−2次側間の絶縁性能を低下させることになる。よって、発光素子100Aからの光を効率よく受光素子200Aに伝達し、かつ、内部絶縁距離L100を確保するためには、1次側−2次側間の距離を確保しながら発光素子100Aと受光素子200Aとを対向配置させる必要があるが、これにモールド樹脂300の厚みを考慮すると、光結合型半導体装置のパッケージ厚を薄くすることが困難であった。
また、対向配置させる手法として、図11(b)に示すように、発光素子100Bと受光素子200Bとをパッケージの対角線上で対向するように配置するもの(例えば、特許文献1の図2参照)がある。この手法によれば、内部絶縁距離L200を確保できるものの、光結合型半導体装置のパッケージ厚を薄くすることはやはり困難であった。
一方、光結合型半導体装置の構造としては、図11(c)に示すように、発光素子100Cと受光素子200Cを対向させず、ハの字状に配置した構造のもの(例えば、特許文献2,3等参照)もあるが、この構造では発光素子100Cからの光を受光素子200Cの受光面200C1に垂直に当てることができず、透光性樹脂300と遮光性樹脂400との境界面で反射させた光を受光素子に伝達させているため、リードフレームの折り曲げ角度や素子のダイボンド位置により、光結合型半導体装置の重要な電気的特性である、光伝達率(CTR : Current Transfer Ratio)特性が大きくばらつくこととなる。
特開平5−160432号公報 特開平11−177124号公報 特開2004−241757号公報
発光素子及び受光素子をリードフレーム上にダイボンドし、素子同士を対向させている光結合型半導体装置で重要な特性は絶縁性能であり、その絶縁性能を確保するためには、発光素子と受光素子との内部絶縁距離を確保する必要がある。
しかし、近年の電子機器の小型化に伴い、その機器に使用される電子部品もより小型かつ薄型のものが望まれているが、素子を対向させかつ内部絶縁距離を確保しようとすると、光結合型半導体装置のパッケージの小型化及び薄型化が困難となるといった問題があった。
一方、図11(c)に示すように、発光素子100Cと受光素子200Cを対向させない構造のものでは、パッケージの薄型化は可能であるが、発光素子100Cからの光を樹脂等による反射によって受光素子200Cに伝達させているため、光結合型半導体装置の重要な電気的特性である光伝達率(CTR)特性が素子の搭載位置や光の反射度合いによって大きくばらつくこととなり、CTR歩留りが低下するといった問題があった。
さらに、図11(b)に示すように、発光素子100Bと受光素子200Bとをパッケージの対角線上で対向するように配置する構造のものでは、CTR特性は得られるものの、光結合型半導体装置のパッケージの小型化及び薄型化が困難となるといった問題があった。
本発明はかかる問題点を解決すべく創案されたもので、その目的は、CTRのばらつきを抑えかつ内部絶縁距離を確保しながら装置の小型化、薄型化を図った光結合型半導体装置及びその製造方法ならびに電子機器を提供することにある。
上記課題を解決するため、本発明の光結合型半導体装置は、発光側リードフレームに搭載されている発光素子と受光側リードフレームに搭載されている受光素子とが左右方向に対向配置された構造の光結合型半導体装置において、前記発光側リードフレームの素子搭載部と前記受光側リードフレームの素子搭載部とが、各々上下逆方向に折り曲げられた状態で、前記発光素子と前記受光素子とが略同一高さとなるように対向配置されていることを特徴としている。このように、受光素子と発光素子を略同一高さに配置することで、リードフレームの中でも最も面積の大きい素子搭載部の先端部から1次モールド樹脂厚を確保しつつ、かつ、受光素子側と発光素子側との最短距離である内部絶縁距離を従来の対向型構造と同等に確保しながら、パッケージの高さ方向を薄くすることが可能となる。
また、本発明の光結合型半導体装置は、前記発光側リードフレームの水平部と前記受光側リードフレームの水平部とが各々異なる高さに配置されていてもよい。このような配置構造とすれば、発光素子と受光素子を搭載したリードフレームの素子搭載部の上下逆方向への折り曲げ箇所が1箇所で済むので、リードフレームの折りまげを簡易に実施することが可能となる。
また、本発明の光結合型半導体装置は、発光側リードフレームに搭載されている発光素子と受光側リードフレームに搭載されている受光素子とが左右方向に対向配置された構造の光結合型半導体装置において、前記発光側リードフレームの素子搭載部と前記受光側リードフレームの素子搭載部とが、各々上下逆方向に折り曲げられ、かつ、前記発光素子と前記受光素子とが略同一高さとなるように対向配置された状態で、前記発光側リードフレームの水平部が前記受光素子側に延設され、前記受光側リードフレームの水平部が前記発光素子側に延設された構造としてもよい。このような構造とすれば、発光素子からの光が発光側リードフレーム及び受光側リードフレームにて上下方向から閉じ込められる構造となるため、光伝達率(CTR=100×光電流IC/順電流IF[%])のばらつきをさらに抑えることが可能となる。
また、本発明の光結合型半導体装置は、前記各リードフレームの素子搭載部の先端部が、モールド樹脂面と略平行となるようにカットされていることを特徴とする。これにより、リードフレームの素子搭載部の先端部の1次モールド樹脂厚をより厚くすることができる。もしくは、1次モールド樹脂厚を確保しながら、パッケージ高さを薄くすることが可能となる。
また、本発明の光結合型半導体装置は、発光側リードフレームの素子搭載部の先端部が、発光素子からの光を受光素子に反射するように折り曲げられていてもよい。これにより、発光素子からの対向光だけでなく、反射光も受光素子の受光面に達するので、発光素子に供給する入力電流を抑えても、受光面に達する光を増すことができ、低電流にて同等の光伝達率CTRを確保することが可能となる。
また、本発明の光結合型半導体装置は、透光性樹脂で前記発光素子及び受光素子が一体にモールドされ、その周りが遮光性樹脂にてモールドされた2重モールド構造であって、前記各リードフレームの折り曲げ部の外側が前記遮光性樹脂にて被覆され、前記折り曲げ部の内側が前記透光性樹脂にて被覆された構造としてもよい。このように、1次モールド樹脂領域の範囲を狭めることにより、発光素子から受光素子に達する光の散乱を抑えることが可能となる。
また、本発明の光結合型半導体装置の製造方法は、発光側リードフレームの素子搭載部と受光側リードフレームの素子搭載部とが、各々上下逆方向に折り曲げられ、かつ、前記各素子搭載部に搭載されている発光素子と受光素子とが略同一高さとなるように対向配置された構造の光結合型半導体装置を製造する方法であって、前記各リードフレームの素子搭載部を、1次トランスファーモールド樹脂成型時の金型型締め時に上下逆方向に折り曲げることを特徴としている。この場合、1次トランスファーモールド樹脂成型金型の上金型及び下金型に折り曲げ用突起を設ければよい。これにより、1次トランスファーモールド樹脂形成時の金型型締め時に、各リードフレームを上下逆方向に屈曲させることができるため、工程の短縮化を図ることが可能となる。
また、本発明の光結合型半導体装置の製造方法は、前記折り曲げ用突起のリードフレームと接触する面の角度を、当該リードフレームの折り曲げ角度と同一角度に設定してもよい。これにより、リードフレームの上下逆への折り曲げを精度良く実施することが可能となる。また、前記上金型に従来から形成されているリードフレーム位置決め用のリードピンを三角錐状に形成する。これにより、前記下金型に設けられた折り曲げ用突起による位置ずれをなくすことができる。
また、1次トランスファーモールド樹脂成型金型の上金型及び下金型に上下動可能な折り曲げピンを設けてもよい。そして、受光素子を搭載した受光側リードフレーム及び発光素子を搭載した発光側リードフレームを前記上金型と下金型とでクランプする際、各リードフレームの位置決め時には前記各折り曲げピンを各金型内に納めて位置決めし、クランプ後に前記各折り曲げピンを上下に可動させて各リードフレームを上下逆方向に折り曲げる構成とする。このように、受光素子を搭載した受光側リードフレーム及び発光素子を搭載した発光側リードフレームを上金型と下金型とでクランプする際、リードフレームの位置決め時には各折り曲げピンを各金型内に納めて位置決めすることで、折り曲げピンによるリードフレームの位置ずれを防止し、位置決め精度を確保することが可能となる。
この場合、前記折り曲げピンのリードフレームと接触する面の角度を、当該リードフレームの折り曲げ角度と同一角度に設定してもよい。これにより、各リードフレームの上下逆方向への折り曲げを精度良く実施することが可能となる。
また、上記構成の光結合型半導体装置を電源フィードバックやスイッチング素子、ドライバ回路等として搭載することで、信頼性の高い電子機器を実現することができる。
本発明の光結合型半導体装置によれば、CTRのばらつきを抑え、かつ内部絶縁距離を確保しながら当該光結合型半導体装置の小型化、薄型化を図ることができる。
また、本発明の光結合型半導体装置の製造方法によれば、リードフレームの素子搭載部の折り曲げを、モールド時の金型型締め時に合わせて実施することができるので、リードフレーム単独での折り曲げ加工工程をなくすことが可能となり、工程の短縮化が図れるとともに、光結合型半導体装置を安価に製造することができる。
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。
<実施形態1>
図1は、本発明の光結合型半導体装置の実施形態1を示す断面図であり、(a)は縦断面図、(b)は横断面図である。
本実施形態1の光結合型半導体装置は、発光素子11と受光素子12とが左右方向に対向配置された光結合型半導体装置である。すなわち、発光側リードフレーム13の素子搭載部13a、及び受光側リードフレーム14の素子搭載部14aが、各々上下逆方向に折り曲げられ、かつ、平行状態を保って垂直方向から一方向に若干傾斜(角度θ)させた状態で、発光素子11と受光素子12とが略同一高さとなるように、左右方向に対向配置されている。
発光側リードフレーム13の折り曲げ部は、素子搭載部13aの若干手前側のポイント131で斜め下方に折り曲げられ、このポイント131より先端側であって、前記素子搭載部13aの基端縁132で上方に折り曲げられており、この基端縁132を介する左右のリードフレーム部分が、上方に開く略V字形状に屈曲形成されている。発光素子11は、このように屈曲形成された素子搭載部13aの折り曲げ外面側に搭載されている。
一方、受光側リードフレーム14の折り曲げ部は、素子搭載部14aの若干手前側のポイント141で斜め上方に折り曲げられ、このポイント141より先端側であって、前記素子搭載部14aの基端縁142で下方に折り曲げられており、この基端縁142を介する左右のリードフレーム部分が、下方に開く略逆V字形状に屈曲形成されている。受光素子12は、このように屈曲形成された素子搭載部14aの折り曲げ外面側に搭載されている。
このような形状の各リードフレーム13,14において、搭載されている発光素子11と受光素子12を、各素子搭載部13a,14bの折り曲げ方向を上下逆方向とした状態で、パッケージセンターCと略同じ高さに位置させて左右方向に対向配置し、かつ、各リードフレーム13,14の水平部分133,143を、パッケージセンターCと同じ高さ位置となるように配置している。そして、この配置状態で、発光素子11及び受光素子12を含む両素子搭載部13a,14aの全体が、透光性樹脂16にてモールドされ、さらにこの透光性樹脂16の全体が遮光性樹脂17にてモールドされた構造となっている。
このように、発光素子11と受光素子12とを略同一高さに配置することにより、リードフレーム13,14の中でも最も面積の大きい素子搭載部13a,14aの先端部13a1,14a1から透光性樹脂16の表面(遮光性樹脂17との境界面)までの厚さを確保し、かつ、発光素子11から受光素子12までの最短距離である内部絶縁距離L11を、図11(a),(b)に示す従来の対向型構造と同等に確保しながら、パッケージの高さ方向を薄くすることが可能となる。
また、本実施形態1の構造では、図11(c)に示す発光素子からの反射光を利用する傾斜型とは異なり、発光素子11に対して受光素子12の受光面12aを対向させているので、フォトカプラの重要な電気的特性項目であるCTR特性のばらつきを抑えることが可能となる。
<実施形態2>
図2は、本発明の光結合型半導体装置の実施形態2を示す断面図である。
本実施形態2の光結合型半導体装置は、発光素子21と受光素子22とが左右方向に対向配置された光結合型半導体装置である。すなわち、発光側リードフレーム23の素子搭載部23a、及び受光側リードフレーム24の素子搭載部24aが、各々上下逆方向に折り曲げられ、かつ、平行状態を保って垂直方向から一方向に若干傾斜(角度θ)させた状態で、発光素子21と受光素子22とが略同一高さとなるように、左右方向に対向配置されている。
発光側リードフレーム23は、素子搭載部23aの基端縁232で上方に折り曲げられている。発光素子21は、このように屈曲形成された素子搭載部23aの折り曲げ外面側に搭載されている。
一方、受光側リードフレーム24は、素子搭載部24aの基端縁242で下方に折り曲げられている。受光素子22は、このように屈曲形成された素子搭載部23aの折り曲げ外面側に搭載されている。
このような形状の各リードフレーム23,24において、搭載されている発光素子21と受光素子22を、各素子搭載部23a,24bの折り曲げ方向を上下逆方向とした状態で、パッケージセンターCと略同じ高さに位置させて左右方向に対向配置している。その結果、各リードフレーム23,24の各水平部分233,243は、パッケージセンターCに対して各々異なる高さとなっている。具体的には、発光側リードフレーム23の水平部分233がパッケージセンターCより下方に位置し、受光側リードフレーム24の水平部分243がパッケージセンターCより上方に位置している。そして、この配置状態で、発光素子21及び受光素子22を含む両素子搭載部23a,24aの全体が、透光性樹脂26にてモールドされ、さらにこの透光性樹脂26の全体が遮光性樹脂27にてモールドされた構造となっている。
本実施形態2の構造とした場合には、発光素子21と受光素子22を搭載した各リードフレーム23,24の素子搭載部23a,24aの上下逆方向への折り曲げ箇所がそれぞれ1箇所でよいので、各リードフレーム23,24の折りまげを簡易に実施することが可能となる。また、本実施形態2のように、各リードフレーム23,24の水平部分233,243を各々異なる高さとすることにより、リードフレーム23,24の中でも最も面積の大きい素子搭載部23a,23aの先端部23a1,24a1から透光性樹脂26の表面(遮光性樹脂27との境界面)までの厚さを確保し、かつ、発光素子21から受光素子22までの最短距離である内部絶縁距離L21を、図11に示す従来の対向型構造と同等に確保しながら、パッケージの高さ方向を薄くすることが可能となる。
また、本実施形態2の構造では、図11(b)に示す発光素子100Bからの反射光を利用する傾斜型とは異なり、発光素子21に対して受光素子22の受光面22aを対向させているため、フォトカプラの重要な電気的特性項目であるCTR特性のばらつきを抑えることが可能となる。
<実施形態3>
図3は、本発明の光結合型半導体装置の実施形態3を示す断面図である。
本実施形態3の光結合型半導体装置は、発光素子31と受光素子32とが左右方向に対向配置された光結合型半導体装置である。すなわち、発光側リードフレーム33の素子搭載部33a、及び受光側リードフレーム34の素子搭載部34aが、各々上下逆方向に折り曲げられ、かつ、平行状態を保って垂直方向から一方向に若干傾斜(角度θ)させた状態で、発光素子31と受光素子32とが略同一高さとなるように、左右方向に対向配置されている。
すなわち、発光側リードフレーム33は、素子搭載部33aの基端縁332で下方に折り曲げられている。発光素子31は、このように屈曲形成された素子搭載部33aの折り曲げ内面側に搭載されている。
一方、受光側リードフレーム34は、素子搭載部34aの基端縁342で上方に折り曲げられている。受光素子32は、このように屈曲形成された素子搭載部34aの折り曲げ内面側に搭載されている。
このような形状の各リードフレーム33,34において、搭載されている発光素子31と受光素子32を、各素子搭載部33a,34bの折り曲げ方向を上下逆方向とした状態で、パッケージセンターCと略同じ高さに位置させて左右方向に対向配置している。そして、発光側リードフレーム33の水平部分333を受光素子32側に水平に延設して配置し、受光側リードフレーム34の水平部分343を発光素子31側に水平に延設して配置している。その結果、各リードフレーム33,34の各水平部分333,343は、パッケージセンターCに対して各々異なる高さとなっている。具体的には、発光側リードフレーム33の水平部分333がパッケージセンターCより上方に位置し、受光側リードフレーム34の水平部分343がパッケージセンターCより下方に位置している。そして、この配置状態で、発光素子31及び受光素子32を含む両素子搭載部33a,34aの全体が、透光性樹脂36にてモールドされ、さらにこの透光性樹脂36の全体が遮光性樹脂37にてモールドされた構造となっている。
このような構造とすれば、発光素子31からの光が発光側リードフレーム33の水平部分333及び受光側リードフレーム34の水平部分343にて上下方向から閉じ込められる構造となるため、CTR特性のばらつきをさらに抑えることが可能となる。
<実施形態4>
図4は、本発明の光結合型半導体装置の実施形態4を示す断面図である。
本実施形態4の光結合型半導体装置の構造は、上記実施形態2の光結合型半導体装置の構造とほとんど同じである。従って、図4では、上記実施形態2を説明する図2で使用している符号と同じ符号を用いることとし、かつ、上記実施形態2と相違する箇所のみ説明する。
すなわち、本実施形態4の光結合型半導体装置は、各リードフレーム23,24の中でも最も面積の大きい各素子搭載部23a,24aの先端部23a1,24a1が、透光性樹脂26の表面(遮光性樹脂27との境界面)と平行となるようにカットされている。これにより、そのカット分だけ、素子搭載部23a,23aの先端部23a1,24a1から透光性樹脂26の表面(遮光性樹脂27との境界面)までの厚さを余分に確保することができる。もしくは、透光性樹脂26厚みを従来通り確保しながら、パッケージ高さをその分薄くすることが可能となる。
<実施形態5>
図5は、本発明の光結合型半導体装置の実施形態5を示す断面図である。
本実施形態5の光結合型半導体装置の構造は、上記実施形態2の光結合型半導体装置の構造とほとんど同じである。従って、図5では、上記実施形態2を説明する図2で使用している符号と同じ符号を用いることとし、かつ、上記実施形態2と相違する箇所のみ説明する。
すなわち、本実施形態5の光結合型半導体装置は、受光側リードフレーム24の素子搭載部24aの先端部24a1を延設することで、発光素子21からの光を反射して受光素子22に達するように折り曲げた構造としたものである。これにより、発光素子21からの対向光(直接光)だけでなく、反射光も受光素子22の受光面22aに達するので、発光素子21に供給する入力電流を抑えても、受光面22aに達する光を増すことができ、低電流にて同等の光伝達率CTRを確保することが可能となる。
なお、図示は省略しているが、発光側リードフレーム23の素子搭載部23aの先端部23a1も、受光側リードフレーム24の素子搭載部24aの先端部24a1と同様に延設してもよい。
<実施形態6>
図6は、本発明の光結合型半導体装置の実施形態6を示す断面図である。
本実施形態5の光結合型半導体装置の構造は、上記実施形態2の光結合型半導体装置の構造とほとんど同じである。従って、図5では、上記実施形態2を説明する図2で使用している符号と同じ符号を用いることとし、かつ、上記実施形態2と相違する箇所のみ説明する。
すなわち、本実施形態6の光結合型半導体装置は、透光性樹脂26で発光素子21及び受光素子22が一体にモールドされ、その周りが遮光性樹脂27にてモールドされた2重モールド構造であるが、発光側リードフレーム23の折り曲げ部である素子搭載部23aの基端縁232の折り曲げ外面側、及び受光側リードフレーム24の折り曲げ部である素子搭載部24aの基端部242の折り曲げ外面側がそれぞれ遮光性樹脂27にてモールド(被覆)され、発光側リードフレーム23の素子搭載部23aの基端縁232の折り曲げ内面側、及び受光側リードフレーム24の素子搭載部24aの基端部242の折り曲げ内面側がそれぞれ透光性樹脂26にてモールド(被覆)された構造となっている。このように、透光性樹脂26による発光素子21及び受光素子22の被覆範囲(被覆領域)を狭めることにより、発光素子21から受光素子22に達する光の散乱を抑えることが可能となる。
次に、上記構成の光結合型半導体装置の製造方法について説明する。
図7は、上記実施形態6の光結合型半導体装置を製造するための1次トランスファーモールド樹脂成型金型(以下、単に「樹脂成形金型」という。)の構造を示す断面図である。
この樹脂成型金型50は、上金型60と下金型70とからなり、受光側リードフレーム24を保持するための上金型60の合わせ面61は、これに対向する下金型70の合わせ面71より若干内側(キャビティー空間内)に延設されており、この合わせ面61の端部において、キャビティー内壁面62から下方に垂下するようにして折り曲げ用突起63が設けられている。
また、発光側リードフレーム23を保持するための下金型70の合わせ面74は、これに対向する上金型60の合わせ面64より若干内側(キャビティー空間内)に延設されており、この合わせ面74の端部において、キャビティー内壁面72から上方に突出するようにして折り曲げ用突起73が設けられている。
さらに、上金型60と下金型70とで型締めしたとき、図7(b)に示すように、受光側リードフレーム24を保持する上金型60の合わせ面61と下金型70の合わせ面71との接合位置H1が、発光側リードフレーム23を保持する上金型60の合わせ面64と下金型70の合わせ面74との接合位置H2より上方に位置するようになっている。具体的には、接合位置H1がパッケージセンターCよりΔHだけ高く、接合位置H2がパッケージセンターCよりΔHだけ低くなるように形成されている。ここで、このΔHの距離は、各素子搭載部23a,24aを折り曲げたとき、発光素子21と受光素子22とがパッケージセンターCの高さ位置で左右方向にほぼ対向するような距離に設定されている。
そして、このような構造の上金型60と下金型70との間に、発光素子21を搭載した折り曲げ前の発光側リードフレーム23と、受光素子22を搭載した折り曲げ前の受光側リードフレーム24とを左右方向に配置する(図7(a)参照)。このとき、発光側リードフレーム23の素子搭載部23aの基端部232が、上金型60の合わせ面64の端角部65に位置し、受光側リードフレーム24の素子搭載部24aの基端部242が、下金型70の合わせ面71の端角部75に位置するように配置する。
この状態で両リードフレーム23,24を上金型60と下金型70とでクランプ(型締め)すると、図7(b)に示すように、発光側リードフレーム23は、上金型60の合わせ面64の端角部65によって支持された素子搭載部23aの基端部232を支点として、下金型70に設けられた折り曲げ用突起73によって素子搭載部23a部分が上方に押し曲げられ、これにより素子搭載部23aが所定の角度(θ)だけ上方に屈曲形成される。同様に、受光側リードフレーム24は、下金型70の合わせ面71の端角部75によって支持された素子搭載部24aの基端部242を支点として、上金型60に設けられた折り曲げ用突起63によって素子搭載部24a部分が下方に押し曲げられ、これにより素子搭載部24aが所定の角度(θ)だけ下方に屈曲形成される。その結果、発光素子21と受光素子22とが、樹脂成型金型50のキャビティー空間内で左右方向に対向配置された状態に加工されることになる。すなわち、1次トランスファーモールド樹脂成型時の金型型締め時に、各リードフレーム23,24を上下逆方向に屈曲させることができるため、工程の短縮化(リードフレーム単独での折り曲げ加工工程の削減)を図ることが可能となる。
この後、1次トランスファーモールドを実施して、キャビティー空間内に透光性樹脂26を充填し、冷却後に上金型60と下金型70とを開いて、1次トランスファーモールドを終了する。
図8は、図7に示した樹脂成型金型50の他の実施形態を示している。すなわち、図8に示す樹脂成型金型50では、折り曲げ用突起63,73を断面三角形状とし、各リードフレーム23,24が当接する側の面631,731の傾斜角度を、各リードフレーム23,24を折り曲げるための所定の角度(θ)に設定したものである。これにより、各リードフレーム23,24の素子搭載部23a,24aを折り曲げるとき、所定の角度(θ)に精度良く折り曲げることが可能となる。
ところで、このような樹脂成型金型50には、通常、位置決めピン(図示省略)が備え付けられているが、本実施形態の場合、上金型60及び下金型70に折り曲げ用突起63,73を備えているため、従来の位置決めピンでは1次トランスファーモールド時の金型クランプ時にリードフレーム23,24の位置ずれが発生する可能性がある。そこで、本実施形態では、この位置決めピンの形状を三角錐とする。これにより、折り曲げ用突起63,73を備えた樹脂成型金型50でも、位置ずれを起こすことなく金型クランプを実施することが可能となる。
図9は、上記実施形態6の光結合型半導体装置を製造するための1次トランスファーモールド樹脂成型金型のさらに他の実施形態を示している。
図7及び図8に示す樹脂成型金型50では、折り曲げ用突起部63,73が金型と一体に形成されているが、図9に示す実施形態の樹脂成型金型50では、折り曲げピン63A,73Aを各金型60,70に対して上下動可能に設けている。
すなわち、折り曲げ用ピン63Aは、上金型60に形成された摺動穴66内に挿入されており、図示しない油圧シリンダ等によって摺動穴66内を上下に摺動可能となっている。同様に、折り曲げピン73Aは、下金型70に形成された摺動穴76内に挿入されており、図示しない油圧シリンダ等によって摺動穴76内を上下に摺動可能となっている。
そして、このような構造の上金型60と下金型70との間に、発光素子21を搭載した折り曲げ前の発光側リードフレーム23と、受光素子22を搭載した折り曲げ前の受光側リードフレーム24とを左右方向に配置する(図9(a)参照)。このとき、発光側リードフレーム23の素子搭載部23aの基端部232が、上金型60の合わせ面64の端角部65に位置し、受光側リードフレーム24の素子搭載部24aの基端部242が、下金型70の合わせ面71の端角部75に位置するように配置する。また、各折り曲げピン63A,73Aは、上金型60及び下金型70の摺動穴66,76内にそれぞれ収納された状態、すなわち摺動穴66,76から突出していない状態となっている。
この状態で両リードフレーム23,24を上金型60と下金型70とでクランプ(型締め)する。このとき、上記したように各折り曲げピン63A,73Aは摺動穴66,76から突出していない状態となっているので、クランプ時にリードフレーム23,24の位置ずれは発生しない。そして、クランプ後に、上金型60の折り曲げピン66Aを下方に摺動させ、下金型70の折り曲げピン76Aを上方に摺動させることにより、図9(b)に示すように、発光側リードフレーム23は、上金型60の合わせ面64の端角部65によって支持された素子搭載部23aの基端部232を支点として、下金型70から突出した折り曲げピン73Aによって素子搭載部23a部分が上方に押し曲げられ、これにより素子搭載部23aが所定の角度(θ)だけ上方に屈曲形成される。同様に、受光側リードフレーム24は、下金型70の合わせ面71の端角部75によって支持された素子搭載部24aの基端部242を支点として、上金型60から突出した折り曲げピン63Aによって素子搭載部24a部分が下方に押し曲げられ、これにより素子搭載部24aが所定の角度(θ)だけ下方に屈曲形成される。その結果、発光素子21と受光素子22とが、樹脂成型金型50のキャビティー空間内で対向配置された状態に加工されることになる。すなわち、1次トランスファーモールド樹脂成型時の金型型締め時に、各リードフレーム23,24を上下逆方向に屈曲させることができるため、工程の短縮化(リードフレーム単独での折り曲げ加工工程の削減)を図ることが可能となる。
この後、1次トランスファーモールドを実施して、キャビティー空間内に透光性樹脂26を充填し、冷却後に上金型60と下金型70とを開いて、1次トランスファーモールドを終了する。
図10は、図9に示した樹脂成型金型50の他の実施形態を示している。すなわち、図10に示す樹脂成型金型50では、上下動可能な折り曲げピン63A,73Aの先端部を断面三角形状とし、各リードフレーム23,24が当接する側の面63A1,73A1の傾斜角度を、各リードフレーム23,24を折り曲げるための所定の角度(θ)に設定したものである。これにより、各リードフレーム23,24の素子搭載部23a,24aを折り曲げるとき、所定の角度(θ)に精度良く折り曲げることが可能となる。
本発明の光結合型半導体装置の実施形態1を示す断面図であり、(a)は縦断面図、(b)は横断面図である。 本発明の光結合型半導体装置の実施形態2を示す断面図である。 本発明の光結合型半導体装置の実施形態3を示す断面図である。 本発明の光結合型半導体装置の実施形態4を示す断面図である。 本発明の光結合型半導体装置の実施形態5を示す断面図である。 本発明の光結合型半導体装置の実施形態6を示す断面図である。 実施形態6の光結合型半導体装置を製造するための1次トランスファーモールド樹脂成型金型の構造を示す断面図である。 図7に示した樹脂成型金型の他の実施形態を示す断面図である。 実施形態6の光結合型半導体装置を製造するための1次トランスファーモールド樹脂成型金型のさらに他の実施形態を示す断面図である。 図9に示した樹脂成型金型の他の実施形態を示す断面図である。 従来の光結合型半導体装置の構造の一例を示す断面図である。
符号の説明
11,21,31 発光素子
12,22,32 受光素子
13,23,33 発光側リードフレーム
13a,23a,33a 樹脂搭載部
13a1,14a1,23a1,24a1 先端部
132,142,232,242 基端縁
133,143,233,243,333,343 水平部分
14,24,34 受光側リードフレーム
16,26,36 透光性樹脂
17,27,37 遮光性樹脂
50 1次トランスファーモールド樹脂成型金型
60 上金型
61,64 合わせ面
62 キャビティー内壁面
63 折り曲げ用突起
63A 折り曲げピン
65 端角部
66 摺動穴
70 下金型
71,64 合わせ面
72 キャビティー内壁面
73 折り曲げ用突起
73A 折り曲げピン
75 端角部
76 摺動穴

Claims (13)

  1. 発光側リードフレームに搭載されている発光素子と受光側リードフレームに搭載されている受光素子とが左右方向に対向配置された構造の光結合型半導体装置において、
    前記発光側リードフレームの素子搭載部と前記受光側リードフレームの素子搭載部とが、各々上下逆方向に折り曲げられた状態で、前記発光素子と前記受光素子とが略同一高さとなるように対向配置されていることを特徴とする光結合型半導体装置。
  2. 前記発光側リードフレームの水平部と前記受光側リードフレームの水平部とが各々異なる高さに配置されていることを特徴とする請求項1に記載の光結合型半導体装置。
  3. 発光側リードフレームに搭載されている発光素子と受光側リードフレームに搭載されている受光素子とが左右方向に対向配置された構造の光結合型半導体装置において、
    前記発光側リードフレームの素子搭載部と前記受光側リードフレームの素子搭載部とが、各々上下逆方向に折り曲げられ、かつ、前記発光素子と前記受光素子とが略同一高さとなるように対向配置された状態で、前記発光側リードフレームの水平部が前記受光素子側に延設され、前記受光側リードフレームの水平部が前記発光素子側に延設されていることを特徴とする光結合型半導体装置。
  4. 前記各リードフレームの素子搭載部の先端部が、モールド樹脂面と略平行となるようにカットされていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の光結合型半導体装置。
  5. 前記発光側リードフレームの素子搭載部の先端部が、発光素子からの光を受光素子に反射するように折り曲げられていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の光結合型半導体装置。
  6. 透光性樹脂で前記発光素子及び受光素子が一体にモールドされ、その周りが遮光性樹脂にてモールドされた2重モールド構造であって、前記各リードフレームの折り曲げ部の外側が前記遮光性樹脂にて被覆され、前記折り曲げ部の内側が前記透光性樹脂にて被覆されていることを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の光結合型半導体装置。
  7. 発光側リードフレームの素子搭載部と受光側リードフレームの素子搭載部とが、各々上下逆方向に折り曲げられ、かつ、前記各素子搭載部に搭載されている発光素子と受光素子とが略同一高さとなるように対向配置された構造の光結合型半導体装置を製造する方法であって、
    前記各リードフレームの素子搭載部を、1次トランスファーモールド樹脂成型時の金型型締め時に上下逆方向に折り曲げることを特徴とする光結合型半導体装置の製造方法。
  8. 1次トランスファーモールド樹脂成型金型の上金型及び下金型に折り曲げ用突起を設けたことを特徴とする請求項7に記載の光結合型半導体装置の製造方法。
  9. 前記折り曲げ用突起のリードフレームと接触する面の角度を、当該リードフレームの折り曲げ角度と同一角度に設定したことを特徴とする請求項8に記載の光結合型半導体装置の製造方法。
  10. 前記上金型にリードフレーム位置決め用のリードピンを三角錐状に形成することで、前記下金型に設けられた折り曲げ用突起による位置ずれをなくしたことを特徴とする請求項7ないし請求項9のいずれかに記載の光結合型半導体装置の製造方法。
  11. 1次トランスファーモールド樹脂成型金型の上金型及び下金型に上下動可能な折り曲げピンを設け、受光素子を搭載したリードフレーム及び発光素子を搭載したリードフレームを前記上金型と下金型とでクランプする際、リードフレームの位置決め時には前記各折り曲げピンを各金型内に納めて位置決めし、クランプ後に前記各折り曲げピンを可動させて前記各リードフレームを上下逆方向に折り曲げることを特徴とする請求項7に記載の光結合型半導体装置の製造方法。
  12. 前記折り曲げピンのリードフレームと接触する面の角度を、当該リードフレームの折り曲げ角度と同一角度に設定したことを特徴とする請求項11に記載の光結合型半導体装置の製造方法。
  13. 請求項1ないし請求項6のいずれかに記載の光結合型半導体装置を用いた電子機器。
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