JP2008084874A - 絶縁被覆電気導体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】溶接されて回路を形成するコイル中に溶接箇所が設けられているコイルに使用される多層絶縁被覆金属導体において、前記多層絶縁被覆金属導体の多層絶縁被覆層が、少なくとも、ポリアミドイミド樹脂からなる層と、該層より下にポリイミド樹脂、ポリエステルイミド樹脂、およびH種ポリエステル樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種の樹脂からなる層とを有し、前記多層絶縁被覆層が金属導体に設けられ、該金属導体は酸素含有量が30ppm以下の低酸素銅または無酸素銅である被覆金属導体。
【選択図】なし
Description
近年、これらの機器より小型の機器にも導体が丸形状以外の巻線、おおむね平角形状のものが使用されるようになってきた。これらの小型機器でもコイルの形状において高性能化が進められ、コイル作成方法も、従来からの巻線と呼ばれていた電線を円周上に巻回してコイルを作成する方法ではなく、コイルの形状に合致した断面形状を持つ被覆導体をつなぎ合わせてコイルを形成する方法が取られるようになった。この小型機器での丸形状以外の導体の巻線を使用することは、コイルのコアとの空隙がなくなり、磁界ロスが少なくなり結果として性能向上となることと、小型機器に使用されるコイルがさらに小型化できることにより進展しているものである。導体を丸以外の形状とすることは、コイル状の回路形成に際して電線を直接長いまま巻回することが困難となるため、短い導体を該コイルの部分形状に形成した後、導体同士を溶接して全体の回路を形成する手法が行われるようになった。
これらのコイルを形成するためには、導体同士の接続が必要となる。導体を接続するために従来は半田付けが行われていた部分に、ヒュージング(圧力をかけながら電気溶接をする)やTIG溶接などの電気溶接方法がとられるようになってきた。これは、従来使用されてきた半田付けでは、半田に含有する鉛などが製品を廃棄する際に環境に与える影響が大きいことと、半田付け部分が機器の振動に対して信頼性が低いことから、現在使用されている導体(銅など)同等のものを接続材料として使用することが要求されるようになったことに由来している。
この溶接時の熱に耐えうる被膜構成に関して発明者らは、溶接時の熱が瞬間的にかかることに着目し、その被膜の耐熱性(瞬間耐熱性)の検証を実施した。被膜の瞬間耐熱性は、導体の溶接時に導体側から伝導すること、導体側に形成されている被覆材料が最も熱劣化を受けやすいこと、導体側の被覆材料から発生する分解ガスが被覆全体にボイドやブリスター(微細な発泡)を生じさせることを確認した。このため、ボイドなどの発生に対抗するために、被覆が加熱されても軟化しない材料を被覆の一部として使用する事を検討し、被覆の一部に特定の材料(ポリイミドやポリエステルイミド、H種ポリエステル樹脂)を使用することで本発明の目的を達成することを見出し、この知見に基づき本発明をなすに至った。
(1)溶接されて回路を形成するコイル中に溶接箇所が設けられているコイルに使用される多層絶縁被覆金属導体において、前記多層絶縁被覆金属導体の多層絶縁被覆層が、少なくとも、ポリアミドイミド樹脂からなる層と、該層より下にポリイミド樹脂、ポリエステルイミド樹脂、およびH種ポリエステル樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種の樹脂からなる層とを有し、前記多層絶縁被覆層が金属導体に設けられ、該金属導体は酸素含有量が30ppm以下の低酸素銅または無酸素銅であることを特徴とする被覆金属導体、及び
(2)金属導体の横断面が円以外の形状を有する(1)記載の被覆金属導体
を提供するものである。
本発明における作用が奏される理由については明確ではないが、ポリイミド樹脂は高温時でも室温時に比べ弾性率の低下が少なく、ポリエステルイミド樹脂やH種ポリエステル樹脂は、初期弾性率が高く、また高温時でも軟化しないことによるものと考えられる。
また、ポリエステルイミド樹脂は、ポリイミドの主鎖中にエステル結合を導入して得られる周知のものを用いることができる。市販品としては、例えば、Isomid40SH(日触スケネクタディ(株)製 商品名)が挙げられる。
本発明のうち、H種ポリエステル樹脂は、芳香族ポリエステルのうちフェノール樹脂などを添加することによって樹脂を変性させたもので、耐熱クラスがH種であるものを言う。市販のH種ポリエステル樹脂としては、Isonel200(米スケネクタディインターナショナル社製 商品名)等を挙げることができる。
樹脂被覆用ワニスは導体上に塗布焼き付けを行い、該被覆電気導体を得ることができる。
また、導体はその横断面が所望の形状のものを使用できるが、円以外の形状を有するものを使用するのが好ましく、特に平角形状のものが好ましい。
本発明において前記のポリイミド樹脂、ポリエステルイミド樹脂およびH種ポリエステル樹脂の少なくとも1種からなる層の厚さは、特に制限はないが、好ましくは4〜35μm、より好ましくは5〜18μmである。また、ポリアミドイミド樹脂層の厚さは、全体で、好ましくは10〜40μm、より好ましくは10〜35μmである。
被覆する皮膜の全体の厚さは、15〜55μm程度であるが、好ましくは25〜50μmである。
[実施例1]
1.8×2.5mm(厚さ×幅)で四隅の面取り半径r=0.5mmの平角導体(酸素含有量15ppmの銅)に、下層から、ポリアミドイミド樹脂(PAI)(日立化成(株)製 商品名 HI406)、ポリイミド樹脂(PI)(東レデュポン(株)製 商品名 #3000)、ポリアミドイミド樹脂(PAI)(日立化成(株)製 商品名 HI406)の順に皮膜を形成し、その全体の皮膜厚さを45μmとした。それぞれの被膜厚さについては表1に記載のとおりである。皮膜の形成に際しては導体の形状と相似形のダイスを複数個使用して、炉長8mの焼付炉にて450℃でおよそ15秒の焼き付け時間にて複数回焼き付けをおこなった。この樹脂被覆導体について、評価試験を行った結果を表3に示した。
[実施例2、3]
使用樹脂は実施例1と同等にし、また樹脂被覆の焼き付けの条件も同一とした。ただし、それぞれの皮膜厚さについては、表1に記載のとおり変更した。この樹脂被覆導体について、評価試験を行った結果を表3に示した。
[比較例1]
1.8×2.5mmで四隅のr=0.5mmの平角導体(実施例1と同質の銅)に、ポリアミドイミド樹脂(PAI)(日立化成(株)製 商品名 HI406)の皮膜を形成し、その全体の皮膜厚さを45μmとした。皮膜の形成に際しては導体の形状と相似形のダイスを複数個使用して、炉長8mの焼き付け炉にて450℃でおよそ15秒の焼き付け時間にて複数回焼き付けをおこなった。この樹脂被覆導体について、評価試験を行った結果を表3に示した。
2.0×3.0mmで四隅のr=0.8mmの平角導体(酸素含有量20ppmの銅)に、下層から、H種ポリエステル樹脂(HPE)Isonel200(米スケネクタディインターナショナル社製 商品名)、ポリアミドイミド樹脂(PAI)(日立化成(株)製 商品名 HI406)の順に皮膜を形成し、その全体の皮膜厚さを50μmとした。皮膜の形成に際しては導体の形状と相似形のダイスを複数個使用して、炉長8mの焼き付け炉にて450℃でおよそ20秒の焼き付け時間にて複数回焼き付けをおこなった。この樹脂被覆導体について、評価試験を行った結果を表4に示した。
[実施例5]
使用樹脂は実施例4と同等にし、また樹脂被覆の焼き付けの条件も同一とした。ただし、それぞれの被覆厚さについては、表2に記載のとおり変更した。この樹脂被覆導体について、評価試験を行った結果を表4に示した。
[比較例2]
2.0×3.0mmで四隅のr=0.8mmの平角導体(実施例4と同質の銅)に、H種ポリエステル樹脂(HPE)Isonel200(米スケネクタディインターナショナル社製 商品名)の皮膜を形成し、皮膜厚さを50μmとした。皮膜の形成に際しては導体の形状と相似形のダイスを複数個使用して、炉長8mの焼き付け炉にて450℃でおよそ20秒の焼き付け時間にて複数回焼き付けをおこなった。この樹脂被覆導体について、評価試験を行った結果を表4に示した。
1.5×2.4mmで四隅のr=0.6mmの平角導体(酸素含有量15ppmの銅)に、下層から、ポリアミドイミド樹脂(PAI)(日立化成(株)製 商品名 HI406)、ポリエステルイミド樹脂(PEI)Isomid40SH(日触スケネクタディ(株)製 商品名)、ポリアミドイミド樹脂(PAI)(日立化成(株)製 商品名 HI406)の順に皮膜を形成し3層構造とし、その全体の皮膜厚さを35μmとした。皮膜の形成に際しては導体の形状と相似形のダイスを複数個使用して、炉長8mの焼き付け炉にて450℃でおよそ20秒の焼き付け時間にて複数回焼き付けをおこなった。この樹脂被覆導体について、評価試験を行った結果を表5に示した。
[実施例7]
1.5×2.4mmで四隅のr=0.6mmの平角導体(実施例6と同質の銅)に、下層から、ポリエステルイミド樹脂(PEI)Isomid40SH(日触スケネクタディ(株)製 商品名)、ポリアミドイミド樹脂(PAI)(日立化成(株)製 商品名 HI406)の順に皮膜を形成し、その全体の皮膜厚さを35μmとした。皮膜の形成に際しては導体の形状と相似形のダイスを複数個使用して、炉長8mの焼き付け炉にて450℃でおよそ20秒の焼き付け時間にて複数回焼き付けをおこなった。この樹脂被覆導体について、評価試験を行った結果を表5に示した。
[比較例3]
5×2.4mmで四隅のr=0.6mmの平角導体(実施例6と同質の銅)に、ポリエステルイミド樹脂(PEI)Isomid40SH(日触スケネクタディ(株)製 商品名)の皮膜を形成し、その全体の皮膜厚さを35μmとした。皮膜の形成に際しては導体の形状と相似形のダイスを複数個使用して、炉長8mの焼き付け炉にて450℃でおよそ20秒の焼き付け時間にて複数回焼き付けをおこなった。この樹脂被覆導体について、評価試験を行った結果を表5に示した。
曲げ(エッジワイズ曲げ)
被覆導体のエッジ面方向に180°に曲げを行う(エッジワイズ曲げ)。曲げ半径は導体の幅方向の寸法と同等にした(1w曲げ)。この曲げを行ったのち、JIS C3003規定のピンホール試験を実施し、ピンホールの発生を調査した。「良」は曲げを行ったとき皮膜割れが見られず、ピンホールの発生もないことを意味している。
瞬間耐熱性(ヒュージング)
被覆導体のフラット面を直交させ、その交差部分の上下を電極で挟み、表記載の電流条件にて溶接を行った場合の溶接直近の被覆の荒れを調査した。「良」はボイドや焼けがないことを意味している。
瞬間耐熱性(TIG溶接)
被覆導体2本の端末を5mmだけ被覆を剥離し、それぞれを平行に剥離面がエッジ面で接触するように固定したものの突き合わせ面をTIG溶接した。条件は表による。この場合の溶接面部分直近の皮膜の荒れを調査した。「良」は、ボイドや焼けがないことを意味している。
絶縁破壊電圧
JIS C3003記載の金属箔法を用いて実施した。表にはn=5の平均値を示した。また、230℃の恒温槽に5日間静置したサンプルについても実施した。
Claims (2)
- 溶接されて回路を形成するコイル中に溶接箇所が設けられているコイルに使用される多層絶縁被覆金属導体において、前記多層絶縁被覆金属導体の多層絶縁被覆層が、少なくとも、ポリアミドイミド樹脂からなる層と、該層より下にポリイミド樹脂、ポリエステルイミド樹脂、およびH種ポリエステル樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種の樹脂からなる層とを有し、前記多層絶縁被覆層が金属導体に設けられ、該金属導体は酸素含有量が30ppm以下の低酸素銅または無酸素銅であることを特徴とする被覆金属導体。
- 金属導体の横断面が円以外の形状を有する請求項1記載の被覆金属導体。
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